JP2002289673A - Carrying in/out apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カセット内に収容
された半導体ウェーハ等の板状物の搬出及び板状物のカ
セット内への搬入を行う搬出入装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carry-in / out device for carrying out a plate-like object such as a semiconductor wafer contained in a cassette and carrying the plate-like object into the cassette.
【0002】[0002]
【従来の技術】IC、LSI等の回路が表面に複数形成
された半導体ウェーハの裏面は、例えば図9に示す研削
装置40を用いて研削され所定の厚さとなる。2. Description of the Related Art A back surface of a semiconductor wafer having a plurality of circuits such as ICs and LSIs formed on a front surface is ground to a predetermined thickness by using, for example, a grinding device 40 shown in FIG.
【0003】この研削装置40は、研削前の半導体ウェ
ーハを収容するカセット70及び研削後の半導体ウェー
ハを収容するカセット71が載置されるカセット載置台
73、74と、カセット70からの半導体ウェーハの搬
出またはカセット71への半導体ウェーハの搬入を行う
搬出入装置41と、半導体ウェーハを一定の位置に位置
合わせする中心合わせテーブル42と、半導体ウェーハ
Wを搬送する第一の搬送手段43及び第二の搬送手段4
4と、上部に半導体ウェーハを吸引保持する4つのチャ
ックテーブル45、46、47、48を備えたターンテ
ーブル49と、各チャックテーブルに保持された半導体
ウェーハWを研削する研削手段50、60と、研削後の
半導体ウェーハを洗浄する洗浄装置62とを備えてい
る。[0003] The grinding apparatus 40 includes cassette mounting tables 73 and 74 on which a cassette 70 for accommodating a semiconductor wafer before grinding and a cassette 71 for accommodating a semiconductor wafer after grinding are mounted. A loading / unloading device 41 for loading / unloading the semiconductor wafer into / from the cassette 71, a centering table 42 for positioning the semiconductor wafer at a predetermined position, a first transport unit 43 for transporting the semiconductor wafer W, and a second Conveying means 4
4, a turntable 49 provided with four chuck tables 45, 46, 47, and 48 for sucking and holding the semiconductor wafer on the upper part; grinding means 50 and 60 for grinding the semiconductor wafer W held on each chuck table; A cleaning device 62 for cleaning the semiconductor wafer after the grinding.
【0004】カセット70には、図10に示すように研
削前の半導体ウェーハW1、W2、・・・が複数収容さ
れており、搬出入装置41によって1枚ずつピックアッ
プされて中心合わせテーブル42に載置される。そして
中心合わせテーブル42において半導体ウェーハWの位
置合わせが行われた後、第一の搬送手段43に吸着され
ると共に第一の搬送手段43が旋回動することによって
チャックテーブル45の位置にあったチャックテーブル
46に半導体ウェーハWが載置される。As shown in FIG. 10, a plurality of semiconductor wafers W1, W2,... Before grinding are accommodated in a cassette 70, which are picked up one by one by a loading / unloading device 41 and placed on a centering table 42. Is placed. Then, after the alignment of the semiconductor wafer W is performed on the centering table 42, the semiconductor wafer W is sucked by the first transporting means 43 and the first transporting means 43 pivots to move the chuck at the position of the chuck table 45. The semiconductor wafer W is placed on the table 46.
【0005】次に、ターンテーブル49が所要角度回転
してチャックテーブル46に保持された半導体ウェーハ
Wが図示のように研削手段50の直下に位置付けられ
る。Next, the turntable 49 is rotated by a required angle and the semiconductor wafer W held on the chuck table 46 is positioned immediately below the grinding means 50 as shown in the figure.
【0006】研削手段50はスライド部51と連結され
ており、垂直方向に配設されたガイドレール52にガイ
ドされてスライド部51がパルスモータ53に駆動され
上下動するのに伴って研削手段50も上下動する構成と
なっている。The grinding means 50 is connected to a slide part 51, and is guided by a guide rail 52 provided in a vertical direction. The slide part 51 is driven by a pulse motor 53 and moves up and down. Also move up and down.
【0007】また、研削手段50においては、駆動源5
4と連結され垂直方向に配設されたスピンドル55の先
端にマウンタ56を介して研削ホイール57が装着され
ており、研削ホイール57の下部には粗研削用の研削砥
石58が固着されている。そして、駆動源54に駆動さ
れてスピンドル55が回転することにより研削砥石58
が回転しながら研削手段50が下降し、回転する研削砥
石58が半導体ウェーハWの裏面に接触して当該裏面が
研削される。In the grinding means 50, the driving source 5
A grinding wheel 57 is mounted via a mounter 56 on the tip of a spindle 55 connected to the spindle 4 and disposed vertically, and a grinding wheel 58 for rough grinding is fixed to a lower portion of the grinding wheel 57. The grinding wheel 58 is driven by the drive source 54 and the spindle 55 rotates.
The grinding means 50 descends while rotating, and the rotating grinding wheel 58 contacts the back surface of the semiconductor wafer W to grind the back surface.
【0008】チャックテーブル46に保持された半導体
ウェーハWは、粗研削の後はターンテーブル49が所要
角度回転することにより研削手段60の直下に位置付け
られ、研削手段60の研削ホイール59に固着された仕
上げ研削用の研削砥石61の作用を受けて裏面が仕上げ
研削される。一方、チャックテーブル45に保持された
半導体ウェーハは研削手段50の直下に位置付けられ、
ここで研削手段50の作用を受けて粗研削が行われる。After the rough grinding, the semiconductor wafer W held on the chuck table 46 is positioned immediately below the grinding means 60 by rotating the turntable 49 by a required angle, and is fixed to the grinding wheel 59 of the grinding means 60. The back surface is finish-ground by the action of the grinding wheel 61 for finish grinding. On the other hand, the semiconductor wafer held on the chuck table 45 is positioned immediately below the grinding means 50,
Here, rough grinding is performed under the action of the grinding means 50.
【0009】なおこのとき、ターンテーブル49の回転
前にチャックテーブル46が位置していた位置にはチャ
ックテーブル45が自動的に位置付けられる。そして、
カセット70から次に研削する半導体ウェーハが搬出さ
れて中心合わせテーブル42に載置され、位置合わせが
なされた後、第一の搬送手段43によってチャックテー
ブル45に搬送されて載置される。At this time, the chuck table 45 is automatically positioned at the position where the chuck table 46 was located before the rotation of the turntable 49. And
The semiconductor wafer to be ground next is unloaded from the cassette 70 and placed on the centering table 42, and after being aligned, is transported to the chuck table 45 by the first transporting means 43 and placed thereon.
【0010】このように、カセット70から順次半導体
ウェーハが取り出され、各チャックテーブルに半導体ウ
ェーハが吸引保持されると共にターンテーブル49が回
転しながら研削手段50、60の作用を受けることによ
り次々と半導体ウェーハの裏面が研削されていく。As described above, the semiconductor wafers are sequentially taken out from the cassette 70, and the semiconductor wafers are sucked and held by the respective chuck tables, and the semiconductor wafers are successively received by the action of the grinding means 50, 60 while the turntable 49 rotates. The back surface of the wafer is being ground.
【0011】そして、仕上げ研削が終わった半導体ウェ
ーハは、第二の搬送手段44によって洗浄装置62に搬
送され、洗浄が行われた後、搬出入装置41によってカ
セット71に収容される。こうして研削後の半導体ウェ
ーハWはすべてカセット71に収容される。Then, the semiconductor wafer after the finish grinding is transferred to the cleaning device 62 by the second transfer means 44, and after being cleaned, is stored in the cassette 71 by the transfer device 41. Thus, all the semiconductor wafers W after the grinding are accommodated in the cassette 71.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】搬出入装置41におい
ては、図9及び図11(A)に示すように、保持部77
の表面に吸着部75、76が設けられている。そして、
図11(B)のように保持部77がカセット70内に進
入して搬出しようとする半導体ウェーハW1の下方に位
置付けられた後、図11(C)のように保持部11が若
干上昇してその半導体ウェーハを吸着部75、76によ
って吸着し、図11(D)のように保持部77が後退す
ることにより当該半導体ウェーハW1が搬出される構成
となっている。従って、板状物の搬出及び搬入を確実か
つ円滑に行うためには、搬出入装置41の保持部77と
板状物とが平行となっていることが必要となる。In the carrying-in / out device 41, as shown in FIG. 9 and FIG.
Are provided with suction portions 75 and 76 on the surface thereof. And
After the holding portion 77 is positioned below the semiconductor wafer W1 to be inserted into the cassette 70 and unloaded as shown in FIG. 11B, the holding portion 11 is slightly raised as shown in FIG. The semiconductor wafer is sucked by the suction portions 75 and 76, and the semiconductor wafer W1 is carried out by the retreat of the holding portion 77 as shown in FIG. 11D. Therefore, in order to carry out and carry in the plate-like object reliably and smoothly, it is necessary that the holding portion 77 of the carry-in / out device 41 and the plate-like object are parallel.
【0013】しかしながら、搬出入装置41を研削装置
40に組み込む際には組み込み誤差が生じる場合があ
り、また、カセット載置台73、74に傾きがある場合
もあり、これらに起因して搬出入装置41の保持部77
とカセット70内に収容された板状物とが平行にならな
い場合がある。このように保持部77と板状物とが平行
になっていない場合は板状物の搬入及び搬出を確実かつ
円滑に行うことに支障が生じるため、保持部77と板状
物とが平行となるようにカセット載置台73、74また
は搬出入装置41の設置状態を調整する等の煩雑な作業
が必要となる。However, when the loading / unloading device 41 is incorporated into the grinding device 40, an assembling error may occur, and the cassette mounting tables 73 and 74 may be inclined. 41 holding part 77
And the plate-like object accommodated in the cassette 70 may not be parallel. If the holding portion 77 and the plate-shaped object are not parallel to each other, it will be difficult to carry out and carry out the plate-shaped object reliably and smoothly. A complicated operation such as adjusting the installation state of the cassette mounting tables 73 and 74 or the carry-in / out device 41 is required.
【0014】また、洗浄装置62において洗浄された板
状物をピックアップして搬出入装置41によってカセッ
ト71に収容する場合には、洗浄装置62において載置
された板状物と保持部77とが平行となっていることが
必要とされるが、平行となっていない場合には洗浄装置
62の傾きを調整する必要があり、更に搬出入装置41
との相対的な位置関係の調整も必要となる。Further, when the plate-like material washed in the cleaning device 62 is picked up and stored in the cassette 71 by the carry-in / out device 41, the plate-like material placed in the cleaning device 62 and the holding portion 77 are separated. It is necessary that they are parallel, but if they are not parallel, it is necessary to adjust the inclination of the cleaning device 62, and furthermore, the carry-in / out device 41
It is also necessary to adjust the relative positional relationship with.
【0015】このように、搬出入装置を用いて板状物を
搬出または搬入する場合においては、板状物が収容され
る装置や搬出入装置の調整等の煩雑な作業をすることな
く確実かつ円滑に板状物を搬出入することに課題を有し
ている。As described above, when the plate-like object is carried out or carried in by using the carry-in / out device, the work can be reliably and securely carried out without performing complicated operations such as adjusting the device for accommodating the plate-like material and the carry-in / out device. There is a problem in smoothly carrying in and out a plate-like object.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、カセット内に収容された
板状物を搬出し、または板状物をカセット内に搬入する
搬出入装置であって、板状物を吸引保持する保持部と、
保持部をカセット内に進入させまたはカセット内から退
避させる屈曲アームとを少なくとも備え、保持部は、駆
動部により屈曲アームの進退方向を回転中心として所要
角度回転可能に構成されると共に、俯方向及び仰方向に
俯仰動可能に構成される搬出入装置を提供する。As a specific means for solving the above-mentioned problems, the present invention provides a carrying-in / out device for carrying out a plate-like material contained in a cassette or carrying a plate-like material into a cassette. And a holding unit that sucks and holds the plate-like object,
A bending arm that allows the holding portion to enter the cassette or retract from the cassette; the holding portion is configured to be rotatable by a required angle around the advancing and retreating direction of the bending arm by the driving portion, and is configured to have a downward Provided is a carry-in / out device configured to be able to move up and down in a supine direction.
【0017】そしてこの搬出入装置は、保持部が、少な
くとも板状物を支持する第一の支持部と第二の支持部と
を有し、第一の支持部及び第二の支持部には、板状物を
検出する第一の板状物検出センサー及び第二の板状物検
出センサーがそれぞれ配設され、第一の板状物検出セン
サー及び第二の板状物検出センサーによって板状物の存
在を検出しながら保持部の進退方向を中心とした回転角
度及び俯仰角度が調整されること、保持部は、第一の支
持部及び第二の支持部に共通の基部を有し、基部には板
状物を検出する第三の板状物検出センサーが配設され、
第一の板状物検出センサー、第二の板状物検出センサー
及び第三の板状物検出センサーによって板状物の存在を
検出しながら保持部の進退方向を中心とした回転角度ま
たは俯仰角度が調整されること、第一の板状物検出セン
サー、第二の板状物検出センサー及び第三の板状物検出
センサーは、静電容量の変化によって板状物の存在を検
出する静電検出センサーであること、搬出入装置は制御
装置によってコントロールされており、調整された回転
角度及び俯仰角度が調整データとして制御装置に備えた
記憶手段に記憶され、該憶された内容に基づき保持部の
回転角度及び俯仰角度が調整されることを付加的な要件
とする。In this carrying-in / out device, the holding portion has at least a first support portion and a second support portion for supporting the plate-like object, and the first support portion and the second support portion have A first plate-like object detection sensor and a second plate-like object detection sensor for detecting a plate-like object are respectively provided, and the first plate-like object detection sensor and the second plate-like object detection sensor are used to detect a plate-like object. The rotation angle and the elevation angle centered on the advancing and retreating direction of the holding unit are detected while detecting the presence of an object, and the holding unit has a common base for the first support and the second support, A third plate-shaped object detection sensor for detecting a plate-shaped object is provided at the base,
While detecting the presence of the plate-like object by the first plate-like object detection sensor, the second plate-like object detection sensor, and the third plate-like object detection sensor, the rotation angle or the elevation angle of the holding unit about the advance / retreat direction. Is adjusted, the first plate-shaped object detection sensor, the second plate-shaped object detection sensor, and the third plate-shaped object detection sensor are configured to detect the presence of a plate-shaped object by a change in capacitance. The detection sensor, the loading / unloading device is controlled by the control device, and the adjusted rotation angle and elevation angle are stored as adjustment data in storage means provided in the control device, and the storage unit is stored based on the stored content. It is an additional requirement that the rotation angle and the elevation angle of are adjusted.
【0018】このように構成される搬出入装置では、板
状物を吸着する保持部を屈曲アームの進退方向を回転中
心として所要角度回転可能に構成すると共に俯方向及び
仰方向に俯仰動可能に構成したため、搬出しようとする
板状物と保持部とが平行でない場合には保持部を回転及
び/または俯仰動させることにより板状物と平行な状態
になるように調整することができる。In the loading / unloading device configured as described above, the holding portion for sucking the plate-like object is configured to be rotatable at a required angle around the advancing and retreating direction of the bending arm and to be able to move up and down in the down and up directions. With this configuration, when the plate-like object to be carried out and the holding unit are not parallel, the holding unit can be adjusted so as to be parallel to the plate-like object by rotating and / or elevating the holding unit.
【0019】また、少なくとも2つの板状物検出センサ
ーを保持部に設けたことにより、一方向における板状物
と保持部との傾きを検出することができ、更に基部にも
う一つの板状物検出センサーを設けることにより、二方
向における板状物と保持部との傾きを検出することがで
きる。Also, by providing at least two plate-like object detection sensors in the holder, the inclination between the plate-like object and the holder in one direction can be detected, and another plate-like object is provided on the base. By providing the detection sensor, it is possible to detect the inclination between the plate-like object and the holding unit in two directions.
【0020】更に、各板状物検出センサーを静電容量セ
ンサーとすることにより、誤認識がなくなり、板状物の
検出を確実に行うことができる。Further, since each plate-like object detection sensor is a capacitance sensor, erroneous recognition is eliminated and plate-like objects can be reliably detected.
【0021】また、保持部が調整された際の回転角度及
び俯仰角度を調整データとして制御装置に備えた記憶手
段に記憶させておけば、制御装置によって保持部をコン
トロールすることができるため、複数の板状物の搬出
入、複数のカセットとのあいだでの板状物の搬出入の際
にその都度カセットや搬出入装置を動かして機械的に調
整する必要がない。If the rotation angle and the elevation angle when the holding unit is adjusted are stored as adjustment data in a storage unit provided in the control device, the holding unit can be controlled by the control device. It is not necessary to move the cassette or the carry-in / out device each time to carry out the carry-in / out of the plate-like material and the carry-in / out of the plate-like material between a plurality of cassettes.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態として、図1
に示す搬出入装置10を例に挙げて説明する。なお、従
来例と同様に構成される部位については同一の符号を付
して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As an embodiment of the present invention, FIG.
The following describes the carry-in / out device 10 shown in FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated about the site | part comprised similarly to a prior art example.
【0023】この搬出入装置10は、板状物を保持する
保持部11と、保持部11を駆動する駆動部12と、第
一アーム13及び第二アーム14とこれらを連結すると
共に第一アーム13を旋回動させる第一アーム旋回動手
段15とからなる屈曲アーム16と、第二アーム14を
旋回動させる第二アーム旋回動手段17と、屈曲アーム
16を上下方向に駆動する上下動手段18とから構成さ
れる。The loading / unloading device 10 includes a holding section 11 for holding a plate-like object, a driving section 12 for driving the holding section 11, a first arm 13 and a second arm 14, and a first arm 13 and a second arm 14. A bending arm 16 comprising a first arm rotating means 15 for rotating the arm 13, a second arm rotating means 17 for rotating the second arm 14, and a vertical moving means 18 for driving the bending arm 16 in the vertical direction. It is composed of
【0024】保持部11は平面状に形成され、基部19
から第一の支持部20と第二の支持部21とが同方向に
突出した構成となっており、図2にも示すように、第一
の支持部20及び第二の支持部21の表面には、板状物
を吸引保持する第一の吸引部22及び第二の吸引部23
を備えると共に、第一の板状物検出センサー24及び第
二の板状物検出センサー25を備えている。また、基部
19には第三の板状物検出センサー26を備えている。The holding portion 11 is formed in a flat shape, and has a base portion 19.
, The first support portion 20 and the second support portion 21 project in the same direction, and as shown in FIG. 2, the surfaces of the first support portion 20 and the second support portion 21 A first suction unit 22 and a second suction unit 23 for sucking and holding a plate-like object.
And a first plate-shaped object detection sensor 24 and a second plate-shaped object detection sensor 25. Further, the base 19 is provided with a third plate-like object detection sensor 26.
【0025】ここで、第一の板状物検出センサー24、
第二の板状物検出センサー25及び第三の板状物検出セ
ンサー26としては、例えば板状物の接近によって静電
容量が変化し、その変化に基づいて板状物の存在を検出
する静電検出センサーを用いることができる。また、フ
ォトカプラ等の発光素子と受光素子との組からなるフォ
トセンサーを用いることもできるが、この場合は板状物
の表面輝度または散乱光によって誤認識が生じることが
あるため、このような問題がなく確実に板状物の存在を
検出することができる静電検出センサーを用いるのが望
ましい。Here, the first plate-like object detection sensor 24,
For example, the second plate-like object detection sensor 25 and the third plate-like object detection sensor 26 have a capacitance that changes when the plate-like object approaches, and detects the presence of the plate-like object based on the change. An electrical detection sensor can be used. In addition, a photosensor including a pair of a light emitting element and a light receiving element such as a photocoupler can be used, but in this case, erroneous recognition may occur due to surface luminance or scattered light of the plate-like object. It is desirable to use an electrostatic detection sensor that can reliably detect the presence of a plate-like object without any problem.
【0026】保持部11及び駆動部12は、第一アーム
旋回動手段15に駆動されて第一アーム13が旋回動す
ると共に第二アーム旋回動手段17に駆動されて第二ア
ーム14が旋回動し、更に上下動手段18による屈曲ア
ーム16の上下動により所望の位置、高さに位置付ける
ことができる。The holding section 11 and the driving section 12 are driven by the first arm turning means 15 to turn the first arm 13 and driven by the second arm turning means 17 to turn the second arm 14. Further, the bending arm 16 can be positioned at a desired position and height by the vertical movement of the bending arm 16 by the vertical movement means 18.
【0027】また、保持部11は駆動部12に駆動さ
れ、図3に示す仰方向A及び俯方向Bに俯仰動可能であ
ると共に、図4に示す回転方向である正回転方向P及び
逆回転方向Qの方向に回転可能となっている。The holding unit 11 is driven by a driving unit 12 so as to be able to move up and down in an elevation direction A and a depression direction B shown in FIG. 3, and to rotate in a forward rotation direction P and a reverse rotation direction shown in FIG. It is rotatable in the direction Q.
【0028】ここで、駆動部12の内部には、図5に示
すように、保持部11を図4に示した正回転方向P及び
逆回転方向Qの方向に回転させる駆動源である第一のモ
ータ27と、保持部11を図3に示した俯方向A及び仰
方向Bの方向に俯仰動させる駆動源である第二のモータ
28とが配設されている。Here, as shown in FIG. 5, a first drive source for rotating the holding unit 11 in the forward rotation direction P and the reverse rotation direction Q shown in FIG. And a second motor 28, which is a drive source for raising and lowering the holding unit 11 in the lowering direction A and the raising direction B shown in FIG.
【0029】第一のモータ27の回転軸29は回転部3
0と連結されており、回転軸29が第一のモータ27に
駆動されて回転するのに伴い回転部30が回転する構成
となっている。また、回転部30には第二のモータ28
が固定され、第二のモータ28の回転軸にはボールネジ
31が連結されており、このボールネジ31の先端部3
1aは丸みを帯びて形成されている。The rotating shaft 29 of the first motor 27 is
0, and the rotating unit 30 rotates as the rotating shaft 29 is driven and rotated by the first motor 27. The rotating unit 30 includes a second motor 28.
Is fixed, and a ball screw 31 is connected to the rotating shaft of the second motor 28.
1a is formed rounded.
【0030】回転部30は保持部11と一体に形成され
たヒンジ32と係合部33において回動可能に係合し、
更に回転部30とヒンジ32とはバネ34によって連結
されており、バネ34はヒンジ32を押す方向に付勢さ
れている。The rotating portion 30 is rotatably engaged with a hinge 32 formed integrally with the holding portion 11 at an engaging portion 33.
Further, the rotating portion 30 and the hinge 32 are connected by a spring 34, and the spring 34 is urged in a direction to push the hinge 32.
【0031】第二のモータ28が駆動されない状態で
は、図5に示すように、先端部31aが当接部32aに
当接すると共にバネ34による付勢によりバランスが保
たれ、保持部11が水平な状態となる。In the state where the second motor 28 is not driven, as shown in FIG. 5, the tip portion 31a contacts the contact portion 32a, and the balance is maintained by the bias of the spring 34, so that the holding portion 11 is level. State.
【0032】一方、図6に示すように、第二のモータ2
8の駆動によりボールネジ31が引かれる方向に移動す
ると、バネ34の力によってヒンジ32の下部が押し出
され、それに伴い保持部11が仰方向Aの方向に仰動
し、逆に、ボールネジ31が押し出される方向に移動す
ると、先端部31aが当接部32aに当接しながら押し
ていくことによりヒンジ32の上部が押し出され、それ
に伴い保持部11が俯方向Aの方向に俯動する。このよ
うに、ヒンジ32が係合部33を中心としていずれかの
方向に回動し、それに伴い保持部11が俯仰動する構成
となっている。On the other hand, as shown in FIG.
8, when the ball screw 31 is moved in the direction in which the ball screw 31 is pulled, the lower portion of the hinge 32 is pushed out by the force of the spring 34, whereby the holding portion 11 is moved up and down in the direction of the up-and-down direction A, and conversely, the ball screw 31 is pushed out. When the distal end portion 31a contacts the contact portion 32a and pushes the upper portion of the hinge 32, the upper portion of the hinge 32 is pushed out, and the holding portion 11 descends in the downward direction A. As described above, the hinge 32 rotates in any direction about the engagement portion 33, and the holding portion 11 is moved up and down accordingly.
【0033】ヒンジ32及び保持部11の内部には第一
の吸引部22及び第二の吸引部23に連通する吸引路3
5が形成されており、吸引路35は回転部30において
ロータリージョイント36を介して吸引源に連通してい
る。A suction passage 3 communicating with the first suction unit 22 and the second suction unit 23 is provided inside the hinge 32 and the holding unit 11.
5 is formed, and the suction path 35 communicates with the suction source via the rotary joint 36 in the rotating unit 30.
【0034】図1に示したカセット70に収容された半
導体ウェーハを搬出する際は、通常は、最下位にある半
導体ウェーハから順次搬出していき最後に最上位にある
半導体ウェーハW1を搬出するが、カセット70内の所
望の半導体ウェーハを搬出する場合もあるので、ここで
は半導体ウェーハW1を搬出する場合について説明す
る。When the semiconductor wafers stored in the cassette 70 shown in FIG. 1 are carried out, usually, the semiconductor wafers at the lowermost position are successively carried out, and finally the semiconductor wafer W1 at the uppermost position is carried out. In some cases, a desired semiconductor wafer in the cassette 70 may be unloaded, so the case of unloading the semiconductor wafer W1 will be described here.
【0035】まず、図1に基づいて説明すると、カセッ
ト70から半導体ウェーハW1を搬出しようとする場合
は、保持部11を半導体ウェーハW1の下方に進入させ
る。そして、第一の板状物検出センサー24と第二の板
状物検出センサー25とが同時に半導体ウェーハW1の
存在を検出したときは、半導体ウェーハW1と保持部1
1とが平行になっており、保持部11を調整する必要が
ない。First, referring to FIG. 1, when the semiconductor wafer W1 is to be unloaded from the cassette 70, the holding section 11 is moved under the semiconductor wafer W1. When the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 simultaneously detect the presence of the semiconductor wafer W1, the semiconductor wafer W1 and the holding unit 1
1 is parallel, and there is no need to adjust the holding portion 11.
【0036】しかし、カセット載置台73に傾きがあっ
たり搬出入装置10が傾いて設置されていたりすること
により、例えば図8(A)に示すように、カセット70
に収容された半導体ウェーハと保持部11とがX軸方向
において平行になっていない場合がある。図示の例では
理解を容易とするために傾斜を誇張して示しているが、
半導体ウェーハW1の+X方向の端部が−X方向の端部
より若干上がって傾いた状態となっている。However, since the cassette mounting table 73 is inclined or the carrying-in / out device 10 is installed inclined, for example, as shown in FIG.
May not be parallel in the X-axis direction. In the illustrated example, the inclination is exaggerated for easy understanding,
The end of the semiconductor wafer W1 in the + X direction is slightly higher than the end in the -X direction and is inclined.
【0037】この場合は、図8(B)に示すように、保
持部11を半導体ウェーハW1の下方に進入させても、
第三の板状物検出センサー26によっては半導体ウェー
ハW1を検出できても第一の板状物検出センサー24及
び第二の板状物検出センサー25によっては半導体ウェ
ーハW1を検出できないため、図6に示した駆動部12
を構成する第二のモータ28の駆動により、保持部11
と半導体ウェーハW1とが平行になるまで、即ち第三の
板状物検出センサー26だけでなく第一の板状物検出セ
ンサー24及び第二の板状物検出センサー25によって
も半導体ウェーハW1を検出するまで保持部11の先端
部を仰方向Aの方向に仰動させ、図8(C)に示すよう
に、保持部11を上昇させて第一の吸引部22及び第二
の吸引部23によって半導体ウェーハW1を吸着し、図
8(D)に示すように搬出する。In this case, as shown in FIG. 8B, even if the holding portion 11 is made to enter under the semiconductor wafer W1,
Although the semiconductor wafer W1 can be detected by the third plate-like object detection sensor 26 but the semiconductor wafer W1 cannot be detected by the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25, FIG. Drive unit 12 shown in FIG.
The driving of the second motor 28 constituting the
Until the semiconductor wafer W1 becomes parallel to the semiconductor wafer W1, that is, the semiconductor wafer W1 is detected not only by the third plate-like object detection sensor 26 but also by the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25. 8A, the distal end of the holding unit 11 is moved up and down in the direction of the elevation direction A, and as shown in FIG. 8C, the holding unit 11 is lifted up by the first suction unit 22 and the second suction unit 23. The semiconductor wafer W1 is sucked and carried out as shown in FIG.
【0038】一方、図8(A)〜(D)の例とは逆に、
半導体ウェーハW1の+X方向の端部が−X方向の端部
より下がって傾いている場合(図示せず)は、保持部1
1を俯方向Bの方向に俯動させることにより保持部11
と半導体ウェーハW1とを平行な状態としてから吸着し
て搬出する。On the other hand, contrary to the examples of FIGS.
When the end in the + X direction of the semiconductor wafer W1 is inclined downward from the end in the -X direction (not shown), the holding unit 1
1 is lowered in the direction of the lowering direction B to hold the holding portion 11
And the semiconductor wafer W1 are brought into a parallel state and then sucked and carried out.
【0039】また、カセット70に収容された半導体ウ
ェーハと保持部11とがY軸方向において平行になって
いない場合もある。この場合は、図5に示した第一のモ
ータ27の駆動により、図4に示した正回転方向Pまた
は逆回転方向Qの方向に保持部11を回転させることに
より半導体ウェーハと保持部11とを平行にしてから吸
着して搬出する。In some cases, the semiconductor wafer accommodated in the cassette 70 and the holder 11 are not parallel in the Y-axis direction. In this case, by driving the first motor 27 shown in FIG. 5, the holding unit 11 is rotated in the forward rotation direction P or the reverse rotation direction Q shown in FIG. Are made parallel and then sucked and carried out.
【0040】更に、半導体ウェーハと保持部11とが、
X軸方向及びY軸方向の双方において平行でない場合も
ある。この場合は、適宜保持部11を図4に示した正回
転方向Pまたは逆回転方向Qの方向に回転させると共
に、図3に示した仰方向Aまたは俯方向Bの方向に俯仰
動させることにより、半導体ウェーハW1と保持部11
とを平行にすることができる。Further, the semiconductor wafer and the holding part 11 are
There is a case where it is not parallel in both the X-axis direction and the Y-axis direction. In this case, the holding unit 11 is appropriately rotated in the forward rotation direction P or the reverse rotation direction Q shown in FIG. 4 and is moved upward and downward in the elevation direction A or the downward direction B shown in FIG. , Semiconductor wafer W1 and holding unit 11
And can be parallel.
【0041】図1に示したように、搬出入装置10には
制御装置37が接続されており、この制御装置37によ
って保持部11の回転や俯仰動、上下動、進退を一括し
てコントロールすることができると共に、制御装置37
にはメモリ等の記憶手段38を備えているため、保持部
11の回転及び/または俯仰動させた角度を調整データ
として記憶させることができる。従って、半導体ウェー
ハW2、W3、・・・についてはその記憶させた角度だ
け保持部11を回転及び/または俯仰動させながら搬出
を行うことにより、生産性を向上させることができる。As shown in FIG. 1, a control device 37 is connected to the carry-in / out device 10, and the control device 37 controls the rotation, the elevation movement, the vertical movement, and the advance / retreat of the holding unit 11 collectively. Control device 37
Is provided with storage means 38 such as a memory, so that the angle of rotation and / or elevation of the holding unit 11 can be stored as adjustment data. Therefore, the productivity can be improved by unloading the semiconductor wafers W2, W3,... While rotating and / or raising and lowering the holding unit 11 by the stored angle.
【0042】また、例えば従来例において示した図9の
研削装置40においては、搬出のみでなく、研削、洗浄
後の半導体ウェーハをカセット71に搬入するという作
業も必要となるが、このカセット71の傾きも上記カセ
ット70と同様に、カセット71に収容された半導体ウ
ェーハと保持部11とが平行になるように保持部11を
回転及び/または俯仰動させてその情報を制御装置37
の記憶手段38に記憶させておけば、その記憶内容に基
づき保持部11を俯仰動及び/または回転させながら搬
入作業を行うことにより、カセット71の傾きを調整す
る等の煩雑な作業を行うことなく搬入作業を効率的に行
うことができる。For example, in the grinding apparatus 40 shown in FIG. 9 shown in the conventional example, not only the unloading but also the work of loading the semiconductor wafer after grinding and cleaning into the cassette 71 is required. Similarly to the cassette 70, the inclination is rotated and / or lowered so that the semiconductor wafer accommodated in the cassette 71 and the holder 11 are parallel to each other, and the information is transmitted to the controller 37.
If the storage unit 38 is stored, the loading operation is performed while the holding unit 11 is raised and / or rotated based on the stored contents, thereby performing a complicated operation such as adjusting the inclination of the cassette 71. And the loading operation can be performed efficiently.
【0043】なお、第一の板状物検出センサー24、第
二の板状物検出センサー25及び第三の板状物検出セン
サー26による半導体ウェーハWの存在の有無の判断の
結果については、モニター39に表示させることができ
る。例えば、第一の板状物検出センサー24と第二の板
状物検出センサー25と第三の板状物検出センサー26
との判断結果が同じ場合は「OK」と表示し、判断結果
が異なる場合は「NG」と表示すれば、半導体ウェーハ
と保持部11とが水平かどうかをオペレータが容易に知
ることができる。「NG」の場合には警告音を発したり
するようにしてオペレータに確実に知らせるようにする
ことが望ましい。It should be noted that the results of the determination of the presence / absence of the semiconductor wafer W by the first plate-shaped object detection sensor 24, the second plate-shaped object detection sensor 25, and the third plate-shaped object detection sensor 26 are monitored. 39 can be displayed. For example, a first plate-shaped object detection sensor 24, a second plate-shaped object detection sensor 25, and a third plate-shaped object detection sensor 26
If the determination result is the same, "OK" is displayed, and if the determination result is different, "NG" is displayed, so that the operator can easily know whether the semiconductor wafer and the holding unit 11 are horizontal. In the case of "NG", it is desirable to emit a warning sound so as to surely notify the operator.
【0044】本実施の形態においては、半導体ウェーハ
を搬出入する場合を例に挙げて説明したが、半導体ウェ
ーハ以外の板状物についても本発明を適用できる。ま
た、カセットからの搬出及びカセットへの搬入のみなら
ず、図9に示した洗浄装置62において半導体ウェーハ
を保持するスピンナーテーブルが傾いており、半導体ウ
ェーハと保持部11とが平行でない場合にも本発明を適
用することができる。In this embodiment, the case where a semiconductor wafer is carried in and out has been described as an example. However, the present invention can be applied to a plate-like object other than a semiconductor wafer. Further, the spinner table for holding the semiconductor wafer in the cleaning device 62 shown in FIG. 9 is inclined not only when the semiconductor wafer and the holding unit 11 are not parallel, but also when the semiconductor device and the holding unit 11 are not parallel. The invention can be applied.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る搬出
入装置は、板状物を吸着する保持部を屈曲アームの進退
方向を回転中心として所要角度回転可能に構成すると共
に俯方向及び仰方向に俯仰動可能に構成したため、搬出
しようとする板状物と保持部とが平行でない場合には保
持部を回転及び/または俯仰動させることにより板状物
と平行な状態になるように調整することができる。従っ
て、板状物や、板状物が収容されるカセット等の設置状
態を調整する等の煩わしい作業が不要となり、生産性も
向上する。As described above, in the carrying-in / out device according to the present invention, the holding portion for sucking the plate-like object is configured to be rotatable by a required angle around the advancing / retreating direction of the bending arm as the center of rotation, and the lifting / lowering direction and the elevation direction. When the plate to be unloaded is not parallel to the holding part, the holding part is rotated and / or raised and lowered so that it is parallel to the plate. can do. Therefore, troublesome work such as adjusting the installation state of the plate-like object and the cassette or the like accommodating the plate-like object becomes unnecessary, and productivity is improved.
【0046】また、少なくとも2つの板状物検出センサ
ーを保持部に設けたことにより、一方向における板状物
と保持部との傾きを検出することができ、更に基部にも
う一つの板状物検出センサーを設けることにより、二方
向における板状物と保持部との傾きを検出することがで
きる。従って、検出結果に基づき自動的に保持部と板状
物とが平行になるように調整することができる。Further, by providing at least two plate-like object detection sensors in the holder, the inclination between the plate-like object and the holder in one direction can be detected, and another plate-like object is provided on the base. By providing the detection sensor, it is possible to detect the inclination between the plate-like object and the holding unit in two directions. Therefore, it is possible to automatically adjust the holding portion and the plate-shaped object to be parallel based on the detection result.
【0047】更に、各板状物検出センサーを静電容量セ
ンサーとすることにより、誤認識がなくなり、板状物の
検出を確実に行うことができるため、信頼性が高くな
る。Further, since each plate-like object detection sensor is a capacitance sensor, erroneous recognition is eliminated and plate-like objects can be reliably detected, thereby increasing reliability.
【0048】また、保持部が調整された際の回転角度及
び俯仰角度を調整データとして制御装置に備えた記憶手
段に記憶させておけば、制御装置によって調整データに
基づいて対応するカセットごとに保持部をコントロール
することができるため、複数の板状物の搬出入、複数の
カセットとのあいだでの板状物の搬出入が円滑に行わ
れ、予めカセットや搬出入装置を動かして機械的に調整
する必要がなく、生産性が向上する。If the rotation angle and the elevation angle when the holding section is adjusted are stored as adjustment data in the storage means provided in the control device, the control device holds the rotation angle and the elevation angle for each corresponding cassette based on the adjustment data. Parts can be controlled, so that loading and unloading of multiple plate-like objects and loading and unloading of plate-like objects between multiple cassettes are performed smoothly. No adjustment is required, and productivity is improved.
【図1】本発明に係る搬出入装置の実施の形態の一例を
示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a carry-in / out device according to the present invention.
【図2】同搬出入装置を構成する保持部及び駆動部を示
す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a holding unit and a driving unit constituting the carrying-in / out device.
【図3】同搬出入装置を構成する保持部の俯仰動を示す
側面図である。FIG. 3 is a side view showing a raising and lowering movement of a holding unit constituting the carrying-in / out device.
【図4】同搬出入装置を構成する保持部の回転を示す正
面図である。FIG. 4 is a front view showing rotation of a holding unit constituting the carrying-in / out device.
【図5】同搬出入装置を構成する保持部及び駆動部の内
部構造を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an internal structure of a holding unit and a driving unit constituting the carrying-in / out device.
【図6】同搬出入装置を構成する保持部が仰方向に仰動
した状態を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a state in which a holding unit constituting the carrying-in / out device is moved up and down.
【図7】同搬出入装置を構成する保持部が俯方向に俯動
した状態を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a state in which a holding unit constituting the carrying-in / out device is moved down in a down direction.
【図8】X軸方向に水平でない状態のカセットに収容さ
れた半導体ウェーハを搬出する手順を示す説明図であ
る。FIG. 8 is an explanatory view showing a procedure for unloading a semiconductor wafer stored in a cassette that is not horizontal in the X-axis direction.
【図9】研削装置を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a grinding device.
【図10】半導体ウェーハを収容したカセットを示す斜
視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a cassette containing semiconductor wafers.
【図11】従来の搬出入装置を用いてカセットに収容さ
れた半導体ウェーハを搬出する手順を示す説明図であ
る。FIG. 11 is an explanatory diagram showing a procedure for unloading a semiconductor wafer stored in a cassette using a conventional unloading device.
10…搬出入装置 11…保持部 12…駆動部 13…第一アーム 14…第二アーム 15…第一アーム旋回動手段 16…屈曲アーム 17…第二アーム旋回動手段 18…上下動手段 19…基部 20…第一の支持部 21…第二の支持部 22…第一の吸引部 23…第二の吸引部 24…第一の板状物検出センサー 25…第二の板状物検出センサー 26…第三の板状物検出センサー 27…第一のモータ 28…第二のモータ 29…回転軸 30…回転部 31…ボールネジ 32…ヒンジ 33…係合部 34…バネ 35…吸引路 36…ロータリージョイント 37…制御装置 38…記憶手段 39…モニター 40…研削装置 41…搬出入装置 42…中心合わせテーブル 43…第一の搬送手段 44…第二の搬送手段 45、46、47、48…チャックテーブル 49…ターンテーブル 50、60…研削手段 51…スライド部 52…ガイドレール 53…パルスモータ 54…駆動源 55…スピンドル 56…マウンタ 57、59…研削ホイール 58、61…研削砥石 62…洗浄装置 70、71…カセット 73、74…カセット載置台 75、76…吸着部 77…保持部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Loading / unloading device 11 ... Holding part 12 ... Drive part 13 ... First arm 14 ... Second arm 15 ... First arm turning movement means 16 ... Bending arm 17 ... Second arm turning movement means 18 ... Vertical movement means 19 ... Base 20: first support 21: second support 22: first suction unit 23: second suction unit 24: first plate-like object detection sensor 25: second plate-like object detection sensor 26 ... third plate detection sensor 27 ... first motor 28 ... second motor 29 ... rotating shaft 30 ... rotating part 31 ... ball screw 32 ... hinge 33 ... engaging part 34 ... spring 35 ... suction path 36 ... rotary Joint 37: Control device 38: Storage means 39: Monitor 40: Grinding device 41: Carry-in / out device 42: Centering table 43: First conveying means 44: Second conveying means 45, 46, 47, 48: Chat Table 49 Turntable 50, 60 Grinding means 51 Slide part 52 Guide rail 53 Pulse motor 54 Drive source 55 Spindle 56 Mounters 57, 59 Grinding wheels 58, 61 Grinding grindstone 62 Cleaning device 70 , 71: Cassette 73, 74: Cassette mounting table 75, 76: Suction unit 77: Holding unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B65G 1/00 547 B65G 1/00 547B 49/07 49/07 D Fターム(参考) 3C007 AS03 BS15 BT01 CV07 CW07 CY02 CY03 CY39 DS03 ES02 ET02 EV02 EV13 EV17 EV19 EW14 FS01 FT11 HS04 HS27 HT20 HT36 KS20 KS29 KS31 KV04 KX08 LV05 MS14 MS28 NS09 NS13 3F022 AA08 CC02 EE05 KK10 KK18 MM70 NN01 NN13 QQ05 5F031 CA02 DA01 GA08 GA36 GA43 GA46 GA47 GA49 JA02 JA06 JA09 JA13 JA17 JA25 JA32 JA51 KA10 LA12 MA13 PA02──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) B65G 1/00 547 B65G 1/00 547B 49/07 49/07 DF term (reference) 3C007 AS03 BS15 BT01 CV07 CW07 CY02 CY03 CY39 DS03 ES02 ET02 EV02 EV13 EV17 EV19 EW14 FS01 FT11 HS04 HS27 HT20 HT36 KS20 KS29 KS31 KV04 KX08 LV05 MS14 MS28 NS09 NS13 3F022 AA08 CC02 EE05 KK10 KK18 MM70 GA02 GA03 GA03 JA13 JA17 JA25 JA32 JA51 KA10 LA12 MA13 PA02
Claims (5)
し、または板状物をカセット内に搬入する搬出入装置で
あって、 板状物を吸引保持する保持部と、該保持部をカセット内
に進入させまたはカセット内から退避させる屈曲アーム
とを少なくとも備え、 該保持部は、駆動部により該屈曲アームの進退方向を回
転中心として所要角度回転可能に構成されると共に、俯
方向及び仰方向に俯仰動可能に構成される搬出入装置。1. A loading / unloading device for unloading a plate-like object stored in a cassette or loading a plate-like object into a cassette, comprising: a holding unit that sucks and holds the plate-like object; At least a bending arm which is inserted into or retracted from the cassette, wherein the holding portion is configured to be rotatable by a required angle about a direction of rotation of the bending arm by a driving portion as a center of rotation, and to be lowered and raised. A loading / unloading device that can be raised and lowered in the direction.
第一の支持部と第二の支持部とを有し、 該第一の支持部及び該第二の支持部には、板状物を検出
する第一の板状物検出センサー及び第二の板状物検出セ
ンサーがそれぞれ配設され、該第一の板状物検出センサ
ー及び該第二の板状物検出センサーによって板状物の存
在を検出しながら該保持部の進退方向を中心とした回転
角度及び俯仰角度が調整される請求項1に記載の搬出入
装置。2. The holding portion has at least a first support portion and a second support portion for supporting a plate-like object, and the first support portion and the second support portion have a plate-like shape. A first plate-like object detection sensor and a second plate-like object detection sensor for detecting an object are respectively provided, and a plate-like object is detected by the first plate-like object detection sensor and the second plate-like object detection sensor. The carry-in / out device according to claim 1, wherein the rotation angle and the elevation angle of the holding unit around the forward / backward direction are adjusted while detecting the presence of the vehicle.
部に共通の基部を有し、該基部には板状物を検出する第
三の板状物検出センサーが配設され、該第一の板状物検
出センサー、該第二の板状物検出センサー及び該第三の
板状物検出センサーによって板状物の存在を検出しなが
ら該保持部の進退方向を中心とした回転角度または俯仰
角度が調整される請求項2に記載の搬出入装置。3. The holding section has a common base for the first support section and the second support section, and a third plate detection sensor for detecting a plate is disposed on the base. While the first plate-like object detection sensor, the second plate-like object detection sensor, and the third plate-like object detection sensor detect the presence of a plate-like object, centering on the advance / retreat direction of the holding unit The carry-in / out device according to claim 2, wherein the rotation angle or the elevation angle is adjusted.
物検出センサー及び第三の板状物検出センサーは、静電
容量の変化によって板状物の存在を検出する静電検出セ
ンサーである請求項2または3に記載の搬出入装置。4. The first plate-shaped object detection sensor, the second plate-shaped object detection sensor, and the third plate-shaped object detection sensor detect electrostatic presence by detecting a change in capacitance. The carry-in / out device according to claim 2 or 3, which is a sensor.
ールされており、調整された回転角度及び俯仰角度が調
整データとして該制御装置に備えた記憶手段に記憶さ
れ、該記憶された内容に基づき保持部の回転角度及び俯
仰角度が調整される請求項1乃至4に記載の搬出入装
置。5. The carrying-in / out device is controlled by a control device, and the adjusted rotation angle and elevation angle are stored as adjustment data in storage means provided in the control device, and a holding unit is provided based on the stored contents. 5. The carry-in / out device according to claim 1, wherein the rotation angle and the elevation angle are adjusted.
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