JP2002282700A - Photocatalyst composition - Google Patents

Photocatalyst composition

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JP2002282700A
JP2002282700A JP2002002309A JP2002002309A JP2002282700A JP 2002282700 A JP2002282700 A JP 2002282700A JP 2002002309 A JP2002002309 A JP 2002002309A JP 2002002309 A JP2002002309 A JP 2002002309A JP 2002282700 A JP2002282700 A JP 2002282700A
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亮 中林
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一也 太田
Masahisa Yokota
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocatalyst composition which can obtain a functional composite or molding which is excellent in flexural resistance and impact resistance and the surface of which develops a function for controlling wettability (hydrophilicity and hydrophobicity) and/or photocatalytic activity. SOLUTION: The photocatalyst composition comprises a photocatalyst (A) and a silicone compound expressed by formula (1) R<1> p R<2> q Xr SiO(4-p-q-r) /2 of an average composition (R<1> is a phenyl group; R<2> is at least one hydrocarbon group selected from the group consisting of alkyl, cycloalkyl, alkyl, alkoxy groups, and an allyl group substituted by a halogen atom; X is at least one reactive group selected from the group consisting of a hydrogen atom, hydroxy, alkoxy, acyloxy, aminoxy, oxime groups, and a halogen atom). Oxides such as TiO2 , ZrO, and SrTiO3 can be used as the photocatalyst (A).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光エネルギーによ
って物質の分解作用や表面の親水化作用を示すことか
ら、環境浄化や防汚、防曇等の分野へ応用が知られてい
る酸化チタンに代表される光触媒の部材表面への固定化
技術に関する。具体的には、光触媒の部材表面への固定
化が容易に行える光触媒組成物に関し、さらにその光触
媒等を固定化した光触媒活性及び/又は水の濡れ性(親
水性、疎水性)の制御能を有する機能性複合体に関す
る。
The present invention relates to a titanium oxide known to be applied to fields such as environmental purification, antifouling, antifogging, etc., since it exhibits a decomposing action of substances and a hydrophilizing action of a surface by light energy. The present invention relates to a technique for fixing a typical photocatalyst to a member surface. Specifically, the present invention relates to a photocatalyst composition which can easily fix a photocatalyst to a member surface, and further has a photocatalytic activity in which the photocatalyst is immobilized and / or a controllability of water wettability (hydrophilicity, hydrophobicity). A functional complex having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】酸化チタンに代表される光触媒は光エネ
ルギーによって物質の分解作用や表面の親水化作用を示
すことが知られている。この光触媒を環境浄化や防汚、
防曇等の分野へ応用させる場合、光触媒の固定化技術が
非常に重要な役割を担う。光触媒の固定化技術の有用な
手段として、基材への光触媒のコーティングが注目され
ている。ここで、コーティングによる光触媒の固定化技
術に求められる最低限の条件として以下の項目が挙げら
れる。 1)光触媒活性を損なわずに強固に固定化。 2)光触媒作用で基材及びコーティング自体が劣化しな
い安定性。 さらに、固定化する基材の適応範囲を広げるための好ま
しい条件として以下の項目が挙げられる。 3)固定化条件が穏和である(室温〜150℃程度)。 4)コーティング膜は透明性に優れ、耐久性、耐汚染
性、硬度等に優れた皮膜を形成。
2. Description of the Related Art It is known that a photocatalyst represented by titanium oxide exhibits a decomposing action of a substance and a hydrophilizing action of a surface by light energy. This photocatalyst is used for environmental purification and antifouling,
When applied to fields such as anti-fog, the photocatalyst fixing technology plays a very important role. Coating of a substrate with a photocatalyst has attracted attention as a useful means of the photocatalyst immobilization technique. Here, the following items are listed as the minimum conditions required for the technology for fixing the photocatalyst by coating. 1) Strongly immobilized without impairing photocatalytic activity. 2) Stability such that the base material and the coating itself are not deteriorated by photocatalysis. Further, preferable conditions for expanding the applicable range of the substrate to be immobilized include the following items. 3) The conditions for immobilization are mild (from room temperature to about 150 ° C.). 4) The coating film has excellent transparency, and has excellent durability, stain resistance, and hardness.

【0003】ところで、酸化チタンに代表される光触媒
のコーティングによる固定化技術については種々の提案
がなされている。例えば、光触媒をスパッタリング法や
ゾル・ゲル法で基材にコーティングする方法として特開
昭60−044053号公報ではスパッタリング法によ
り薄膜状の光触媒を基材に担持する方法、特開昭60−
118236号公報では有機チタネートを塗布した後、
焼成する方法が提案されている。しかし、これらの方法
は、基材上での光触媒粒子の生成、結晶化のために高温
度での焼成が必要であり、大面積の固定化ができにくい
という欠点がある。
[0003] By the way, various proposals have been made on an immobilization technique by coating a photocatalyst represented by titanium oxide. For example, as a method of coating a photocatalyst on a substrate by a sputtering method or a sol-gel method, JP-A-60-044053 discloses a method in which a thin-film photocatalyst is supported on a substrate by a sputtering method.
JP 118236 discloses that after applying an organic titanate,
A firing method has been proposed. However, these methods have a disadvantage that firing at a high temperature is required for generation and crystallization of photocatalyst particles on a substrate, and it is difficult to fix a large area.

【0004】また、光触媒粒子の生成、結晶化の過程を
必要としない光触媒ゾルを使用する方法として、例えば
特開平6−278241号公報では水中に解膠させた酸
化チタンゾルを基材にコーティングする方法が提案され
ている。この方法においても酸化チタンゾルに穏和な条
件下での成膜性がないため高温度の焼成が必要であり、
生成する被膜は脆く、容易に破壊されて触媒効果を失う
欠点があった。
As a method of using a photocatalyst sol which does not require the process of producing and crystallizing photocatalyst particles, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-278241 discloses a method of coating a substrate with a titanium oxide sol peptized in water. Has been proposed. Also in this method, high temperature firing is necessary because the titanium oxide sol does not have a film forming property under mild conditions,
The resulting coating was brittle and had the disadvantage of easily breaking and losing its catalytic effect.

【0005】さらに、樹脂塗料中に光触媒を混合し、こ
の樹脂塗料を基材にコーティングする方法も提案されて
いる。例えば、特開平7−171408号公報、特開平
9−100437号公報、特開平9−227831号公
報、特開平9−59041号公報、特開平9−1888
50号公報、特開平9−227829号公報ではフッ素
樹脂やシリコーン樹脂等の難分解性物質を光触媒と混合
する樹脂塗料として使用する方法が提案されている。し
かし、これらの方法では、十分な光触媒活性や親水化能
力を発現させるためには樹脂塗料の使用量を少なくする
必要があり、この場合には耐候性、硬度、密着性、耐屈
曲性、耐衝撃性、耐摩耗性等において良好な塗膜物性を
有する被膜を得る事ができない。(逆に、良好な塗膜物
性を発現するために樹脂塗料の使用量を多くすると、光
触媒が樹脂塗料中に埋没し十分な光触媒活性や親水化能
力を示さない。)すなわち、光触媒のコーティングによ
る固定化技術において上記1)〜4)の固定化技術に求
められる条件を全て満足する技術は未だ開発されていな
い。
Further, a method has been proposed in which a photocatalyst is mixed into a resin paint and the resin paint is coated on a substrate. For example, JP-A-7-171408, JP-A-9-100377, JP-A-9-227831, JP-A-9-59041, JP-A-9-1888
No. 50 and JP-A-9-227829 propose a method of using a hardly decomposable substance such as a fluororesin or a silicone resin as a resin coating to be mixed with a photocatalyst. However, in these methods, it is necessary to reduce the amount of the resin coating used in order to express sufficient photocatalytic activity and hydrophilicity, and in this case, weather resistance, hardness, adhesion, bending resistance, and It is not possible to obtain a coating having good coating properties in terms of impact resistance, abrasion resistance and the like. (Conversely, if the amount of the resin coating used is increased in order to exhibit good coating film properties, the photocatalyst is buried in the resin coating and does not exhibit sufficient photocatalytic activity or hydrophilicity.) In the immobilization technology, a technology that satisfies all the conditions required for the above-described immobilization technologies 1) to 4) has not yet been developed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、透明
性や硬度等に優れるだけでなく、柔軟性(耐屈曲性、耐
衝撃性)に優れ、光照射により長期にわたり、その表面
が水の濡れ性(親水性、疎水性)の制御能及び/又は光
触媒活性を発現する機能性複合体や成形体を得ることが
できる光触媒組成物を提供することである。
An object of the present invention is to provide not only excellent transparency and hardness, but also excellent flexibility (bending resistance and impact resistance), and the surface of water is exposed to water for a long time. An object of the present invention is to provide a photocatalyst composition capable of obtaining a functional composite or a molded article exhibiting a controllability of wettability (hydrophilicity, hydrophobicity) and / or photocatalytic activity of the polymer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】発明者らは上記課題を解
決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち、
本発明の第1は、光触媒(A)と下記平均組成式(1)
で表されるシリコーン化合物(B)とからなる光触媒組
成物である。 R1 p2 qrSiO(4-p-q-r)/2 (1) (式中、R1はフェニル基を表し、R2は直鎖状または分
岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20
のシクロアルキル基、及び炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子
で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる
群より選ばれる少なくとも1つの炭化水素基を表す。X
は、水素原子、水酸基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、エノキシ基、炭素数1〜20のアシロキシ基、アミ
ノキシ基、炭素数1〜20のオキシム基、ハロゲン原子
からなる群より選ばれる少なくとも1つの反応性基を表
し、0<p<4、0≦q<4、0<r<4、及び0<
(p+q+r)<4であり、さらに0.1≦p/(p+
q)≦1の関係を満足する。)
Means for Solving the Problems The inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have reached the present invention. That is,
The first aspect of the present invention is that the photocatalyst (A) and the following average composition formula (1)
And a silicone compound (B). During R 1 p R 2 q X r SiO (4-pqr) / 2 (1) ( wherein, R 1 represents a phenyl group, R 2 is a linear or branched C 1-30 alkyl group , 5-20 carbon atoms
And at least one carbon atom selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom. Represents a hydrogen group. X
Is at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an enoxy group, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. 0 <p <4, 0 ≦ q <4, 0 <r <4, and 0 <
(P + q + r) <4, and 0.1 ≦ p / (p +
q) The relationship of ≤1 is satisfied. )

【0008】発明の第2は、平均組成式(1)で表され
るシリコーン化合物(B)が下記平均組成式(2)で表
されるフェニルシリコーン化合物(B1)を含むことを
特徴とする発明の第1の光触媒組成物である。 R1 stSiO(4-s-t)/2 (2) (式中、R1はフェニル基を表し、Xは式(1)で定義
した通りである。0<s<4、0<t<4、及び0<
(s+t)<4である。)
A second aspect of the invention is characterized in that the silicone compound (B) represented by the average composition formula (1) contains a phenyl silicone compound (B1) represented by the following average composition formula (2). Is a first photocatalyst composition. R 1 s X t SiO (4-st) / 2 (2) (wherein, R 1 represents a phenyl group, and X is as defined in formula (1). 0 <s <4, 0 <t <4 and 0 <
(S + t) <4. )

【0009】発明の第3はシリコーン化合物(B)が、
一般式(3)で表されるフェニルラダー構造を含むこと
を特徴とする発明の第1、第2のいずれかの光触媒組成
物である。
A third aspect of the invention is that the silicone compound (B) is
The photocatalyst composition according to any one of the first and second aspects of the invention, comprising a phenyl ladder structure represented by the general formula (3).

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】(R1はフェニル基を表す。)(R 1 represents a phenyl group.)

【0012】発明の第4は、平均組成式(1)で表され
るシリコーン化合物(B)が平均組成式(2)で表され
るフェニルシリコーン化合物(B1)と平均組成式
(4)で表されるアルキルシリコーン化合物(B2)の
混合物として含むことを特徴とする発明の第1、第2、
第3のいずれかの光触媒組成物である。 R3 uvSiO(4-u-v)/2 (4) (式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素数1〜30の
アルキル基を表し、Xは、式(1)で定義した通りであ
る。0<u<4、0<v<4、及び0<(u+v)<4
である。)
A fourth aspect of the invention is that the silicone compound (B) represented by the average composition formula (1) is represented by the phenyl silicone compound (B1) represented by the average composition formula (2) and the phenyl silicone compound (B1) represented by the average composition formula (4). The first, second, and third aspects of the invention, characterized in that they include a mixture of the alkyl silicone compound (B2)
Any of the third photocatalyst compositions. R 3 u X v SiO (4 -uv) / 2 (4) ( wherein, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, X is defined by equation (1) 0 <u <4, 0 <v <4, and 0 <(u + v) <4
It is. )

【0013】発明の第5は、平均組成式(4)で表され
るアルキルシリコーン化合物(B2)が、式(5)で表
されるモノオキシジオルガノシラン単位(T)と式
(6)で表されるジオキシオルガノシラン単位(D)の
両方を有する構造であることを特徴とする発明の第4の
光触媒組成物である。 −(R33SiO)− (5)
A fifth aspect of the present invention is that an alkyl silicone compound (B2) represented by the average composition formula (4) is composed of a monooxydiorganosilane unit (T) represented by the formula (5) and a compound represented by the formula (6). A fourth photocatalyst composition according to the invention, which has a structure having both of the dioxyorganosilane units (D) represented. — (R 3 R 3 SiO) — (5)

【0014】[0014]

【化5】 Embedded image

【0015】(式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素
数1〜30のアルキル基を表す。)
(Wherein, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms)

【0016】発明の第6は、光触媒(A)が、光触媒粒
子を、式(7)で表されるモノオキシジオルガノシラン
単位、式(8)で表されるジオキシオルガノシラン単
位、及び式(9)で表されるジフルオロメチレン単位よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有す
る化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変
性剤化合物(C)を用いて変性処理することによって得
られた変性光触媒(A1)であることを特徴とする発明
の第1〜6のいずれかの光触媒組成物である。 −(R44SiO)− (7)
According to a sixth aspect of the present invention, the photocatalyst (A) converts the photocatalyst particles to a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (7), a dioxyorganosilane unit represented by the formula (8), and By modifying with at least one modifier compound (C) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of difluoromethylene units represented by (9) The photocatalyst composition according to any one of the first to sixth aspects of the invention, which is the modified photocatalyst (A1) obtained. — (R 4 R 4 SiO) — (7)

【0017】[0017]

【化6】 Embedded image

【0018】(式中、R4は各々独立して直鎖状または
分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜
20のシクロアルキル基、又は置換されていないか又は
炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、炭素数1〜
20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されてい
る炭素数6〜20のアリール基を表す) −(CF2)− (9)
(Wherein, R 4 is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
20 cycloalkyl groups, or unsubstituted or C1-C20 alkyl groups, phenyl groups, C1-C1
Represents a C20 alkoxy group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms with a halogen atom is substituted) - (CF 2) - ( 9)

【0019】発明の第7は、該変性剤化合物(C)が、
式(10)で表される平均組成を有するケイ素化合物で
あることを特徴とする発明の第6の光触媒組成物であ
る。 R4 xyzSiO(4-x-y-z)/2 (10) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Xは、
式(1)で定義した通りである。式中、R4は式(7)
で定義した通りである。
A seventh aspect of the present invention is that the modifying compound (C) is
A sixth photocatalyst composition according to the invention, which is a silicon compound having an average composition represented by the formula (10). R 4 x Q y X z SiO (4-xyz) / 2 (10) (where R 4 is as defined in the formula (7), and X is
As defined in equation (1). In the formula, R 4 is the formula (7)
As defined in.

【0020】また、式中Qは、又は下記(あ)〜(え)
からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能性付与基
を含有する基である。 (あ)直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアル
キル基、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のア
ルケニル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もし
くは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキ
ル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン
原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、及
び炭素数1〜30のフルオロアルキル基からなる群より
選ばれる少なくとも1つの疎水性基。 (い)カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるい
はその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシア
ルキレン基からなる群から選ばれた少なくとも1つの親
水性基。 (う)エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル
基、(環状)酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒ
ドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート
基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、チオール
基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つ
の反応性基。 (え)少なくとも1つの分光増感基。また、0<x<
4、0<y<4、0≦z<4、及び(x+yz)<4で
ある。)
In the formula, Q represents or (A) to (E)
And a group containing at least one functionality-imparting group selected from the group consisting of (A) a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or An unsubstituted or C1-C20 alkyl group or C1-C20 alkoxy group, or a C6-C20 aryl group substituted with a halogen atom, and a C1-C30 fluoroalkyl At least one hydrophobic group selected from the group consisting of groups; (I) at least one hydrophilic group selected from the group consisting of a carboxyl group or a salt thereof, a phosphate group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, and a polyoxyalkylene group; (C) epoxy group, acryloyl group, methacryloyl group, (cyclic) acid anhydride group, keto group, carboxyl group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group, hydroxyl group, amino group, cyclic carbonate group, thiol group, At least one reactive group selected from the group consisting of ester groups. (E) at least one spectral sensitizing group. Also, 0 <x <
4, 0 <y <4, 0 ≦ z <4, and (x + yz) <4. )

【0021】発明の第8は、該変性剤化合物(C)が、
式(11)で表される化合物であることを特徴とする発
明の第6の光触媒組成物である。 (R4HSiO)a(R4 2SiO)b(R4QSiO)c(R4 3SiO1/2d ・・・(11) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Qは式
(10)で定義した通りであり、aは1以上の整数であ
り、b、cは0又は1以上の整数であり、(a+b+
c)≦10000であり、そしてdは0又は2である。
但し、(a+b+c)が2以上の整数であり且つd=0
の場合、該化合物は環状シリコーン化合物であり、d=
2の場合、該化合物は鎖状シリコーン化合物である。)
An eighth aspect of the present invention is that the modifier compound (C) is
A sixth photocatalyst composition according to the invention, which is a compound represented by the formula (11). As (R 4 HSiO) a (R 4 2 SiO) b (R 4 QSiO) c (R 4 3 SiO 1/2) d ··· (11) ( wherein, R 4 is defined in formula (7) And Q is as defined in the formula (10), a is an integer of 1 or more, b and c are 0 or an integer of 1 or more, and (a + b +
c) ≦ 10000 and d is 0 or 2.
Here, (a + b + c) is an integer of 2 or more and d = 0.
In the case, the compound is a cyclic silicone compound, and d =
In case 2, the compound is a chain silicone compound. )

【0022】発明の第9は、光触媒(A)が、数平均粒
子径200nm以下の光触媒ゾルであることを特徴とす
る発明の第1〜8のいずれかの光触媒組成物である。発
明の第10は、発明の第1〜9のいずれかの光触媒組成
物であって、自己傾斜性を有することを特徴とする光触
媒組成物である。発明の第11は、発明の第1〜10の
いずれかの光触媒組成物であって、該光触媒組成物が基
材上に塗布成膜されると、光触媒(A)が外気と接する
皮膜表面側に向かって多くなるような膜厚方向に濃度勾
配を有した傾斜組成皮膜を自律的に形成することを特徴
とする光触媒組成物である。発明の第12は、発明の第
1〜10のいずれかの光触媒組成物であって、該光触媒
組成物から成形体を形成する際、その形成過程において
光触媒(A)が成形体の内部から表面側に向かって多く
なるような濃度勾配を有する構造を自律的に形成するこ
とを特徴とする光触媒組成物である。
A ninth aspect of the present invention is the photocatalyst composition according to any one of the first to eighth aspects, wherein the photocatalyst (A) is a photocatalytic sol having a number average particle diameter of 200 nm or less. A tenth aspect of the present invention is the photocatalyst composition according to any one of the first to ninth aspects of the invention, which has a self-grading property. An eleventh aspect of the present invention is the photocatalyst composition according to any one of the first to tenth aspects, wherein when the photocatalyst composition is applied and formed on a substrate, the photocatalyst (A) is in contact with the outside air. A photocatalyst composition characterized by autonomously forming a gradient composition film having a concentration gradient in the film thickness direction increasing toward the surface. A twelfth aspect of the present invention is the photocatalyst composition according to any one of the first to tenth aspects of the invention, wherein, when a molded article is formed from the photocatalyst composition, the photocatalyst (A) is formed from the inside of the molded article to the surface during the formation process. A photocatalyst composition characterized by autonomously forming a structure having a concentration gradient that increases toward the side.

【0023】発明の第13は、発明の第1〜11のいず
れかの光触媒組成物を含む皮膜を基材上に形成して得ら
れる機能性複合体である。発明の第14は、発明の第1
1の光触媒組成物を含む皮膜を基材上に形成して得られ
る機能性複合体であって、該皮膜が光触媒(A)の膜厚
方向の分布について異方性を有することを特徴とする機
能性複合体である。発明の第15は、発明の第1〜1
0、12のいずれかの光触媒組成物から形成された成形
体である。発明の第16は、発明の12の光触媒組成物
から形成された成形体であって、光触媒(A)の内部か
ら表面への分布について異方性を有することを特徴とす
る成形体である。
A thirteenth aspect of the present invention is a functional composite obtained by forming a film containing the photocatalyst composition according to any one of the first to eleventh aspects on a substrate. The fourteenth aspect of the invention is the first aspect of the invention.
A functional composite obtained by forming a film containing the photocatalyst composition on a substrate, wherein the film has anisotropy in the thickness direction distribution of the photocatalyst (A). It is a functional complex. The fifteenth aspect of the invention is the first to first aspects of the invention.
A molded article formed from the photocatalyst composition of any one of Examples 0 and 12. A sixteenth aspect of the present invention is a molded article formed from the photocatalyst composition according to the twelfth aspect of the present invention, wherein the molded article has anisotropy in distribution from the inside to the surface of the photocatalyst (A).

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において使用できる光触媒(A)とは、その結晶
の伝導帯と価電子帯との間のエネルギーギャップよりも
大きなエネルギー(すなわち短い波長)の光(励起光)
を照射したときに、価電子帯中の電子の励起(光励起)
が生じて、伝導電子と正孔を生成しうる物質をいい、例
えばTiO2、ZnO、SrTiO3、CdS、GaP、
InP、GaAs、BaTiO3、BaTiO4、BaT
49、K2NbO3、Nb25、Fe23、Ta25
3Ta3Si23、WO3、SnO2、Bi23、BiV
4、NiO、Cu2O、SiC、MoS2、InPb、
RuO2、CeO2等、さらにはTi、Nb、Ta、Vか
ら選ばれた少なくとも1種の元素を有する層状酸化物
(特開昭62−74452号公報、特開平2−1725
35号公報、特開平7−24329号公報、特開平8−
89799号公報、特開平8−89800号公報、特開
平8−89804号公報、特開平8−198061号公
報、特開平9−248465号公報、特開平10−99
694号公報、特開平10−244165号公報等)を
挙げることができる。また、これらの光触媒にPt、R
h、Ru、Nb、Cu、Sn、Ni、Feなどの金属及
び/又は金属の酸化物を添加あるいは固定化したもの
や、多孔質リン酸カルシウム等で被覆された光触媒(特
開平11−267519号公報)等も使用することもで
きる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photocatalyst (A) that can be used in the present invention is light (excitation light) having an energy (that is, a short wavelength) larger than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
Of electrons in the valence band when irradiated with light (photoexcitation)
Is a substance that can generate conduction electrons and holes by generating TiO 2 , ZnO, SrTiO 3 , CdS, GaP,
InP, GaAs, BaTiO 3 , BaTiO 4 , BaT
i 4 O 9 , K 2 NbO 3 , Nb 2 O 5 , Fe 2 O 3 , Ta 2 O 5 ,
K 3 Ta 3 Si 2 O 3 , WO 3 , SnO 2 , Bi 2 O 3 , BiV
O 4 , NiO, Cu 2 O, SiC, MoS 2 , InPb,
A layered oxide containing at least one element selected from RuO 2 , CeO 2, and the like, and Ti, Nb, Ta, and V (JP-A-62-74452, JP-A-2-1725)
No. 35, JP-A-7-24329, JP-A-8-
89799, JP-A-8-89800, JP-A-8-89804, JP-A-8-198061, JP-A-9-248465, JP-A-10-99
694, JP-A-10-244165, etc.). In addition, Pt, R
h, Ru, Nb, Cu, Sn, Ni, Fe or other metal and / or metal oxide added or fixed, or a photocatalyst coated with porous calcium phosphate or the like (JP-A-11-267519) Etc. can also be used.

【0025】上記光触媒(A)の結晶粒子径(1次粒子
径)は1〜200nm、好ましくは1〜50nmの光触
媒が好適に選択される。これらの光触媒(A)の中でT
iO 2(酸化チタン)は無害であり、化学的安定性にも
優れるため好ましい。酸化チタンとしては、アナター
ゼ、ルチル、ブルッカイトのいずれも使用できる。ま
た、窒素ドープ酸化チタンや酸素欠陥型の酸化チタンの
如き、可視光応答型酸化チタン光触媒も好適に使用する
ことができる。
The crystal particle diameter of the photocatalyst (A) (primary particle
Diameter) is 1 to 200 nm, preferably 1 to 50 nm.
The medium is suitably selected. Among these photocatalysts (A), T
iO Two(Titanium oxide) is harmless and has chemical stability
It is preferable because it is excellent. As titanium oxide,
Any of ze, rutile and brookite can be used. Ma
Of nitrogen-doped titanium oxide and oxygen-deficient titanium oxide
Also, a visible light responsive titanium oxide photocatalyst is preferably used.
be able to.

【0026】また、光触媒(A)の存在形態としては、
粉体、光触媒ゾルを挙げることができる。本発明に使用
される光触媒(A)としては、一次粒子と二次粒子との
混合物の数平均分散粒子径が200nm以下の光触媒が
表面特性を有効に利用できるために好ましい。特に数平
均分散粒子径が100nm以下の光触媒を使用した場
合、本発明の光触媒組成物からは透明性に優れた皮膜を
得ることができるため非常に好ましい。より好ましくは
80nm以下3nm以上、さらに好ましくは50nm以
下3nm以上の光触媒が好適に選択される。これらの光
触媒(A)は、光触媒ゾルであることが好ましい。
The photocatalyst (A) may be in any of the following forms:
Powders and photocatalytic sols can be mentioned. As the photocatalyst (A) used in the present invention, a photocatalyst in which the number average dispersed particle diameter of a mixture of primary particles and secondary particles is 200 nm or less is preferable because surface characteristics can be effectively used. In particular, when a photocatalyst having a number average dispersed particle diameter of 100 nm or less is used, a film having excellent transparency can be obtained from the photocatalyst composition of the present invention, which is very preferable. More preferably, a photocatalyst of 80 nm or less and 3 nm or more, further preferably 50 nm or less and 3 nm or more is suitably selected. These photocatalysts (A) are preferably photocatalytic sols.

【0027】一般に微細な粒子からなる粉体は、複数の
粒子が強力に凝集した二次粒子を形成するため、無駄に
する表面特性が多い上、一つ一つの一次粒子にまで分散
させるのは非常に困難である。これに対して、光触媒ゾ
ルの場合、光触媒粒子は溶解せずに一次粒子に近い形で
存在しているため表面特性を有効に利用でき光触媒活性
が向上すると共に、後述するシリコーン化合物とからな
る光触媒組成物から生成する皮膜の外観は非常に優れた
ものとなる。ここで、光触媒ゾルとは、光触媒粒子が水
及び/又は有機溶媒中に固形分0.01〜70質量%、
好ましくは0.1〜50質量%で分散されたものであ
る。
In general, a powder composed of fine particles forms secondary particles in which a plurality of particles are strongly aggregated, so that there are many wasteful surface characteristics, and it is not possible to disperse even individual primary particles. Very difficult. In contrast, in the case of a photocatalyst sol, the photocatalyst particles are present in a form close to the primary particles without being dissolved, so that the surface characteristics can be effectively used, the photocatalytic activity is improved, and a photocatalyst comprising a silicone compound described later is used. The appearance of the film formed from the composition is very good. Here, the photocatalyst sol means that the photocatalyst particles have a solid content of 0.01 to 70% by mass in water and / or an organic solvent,
Preferably, it is dispersed at 0.1 to 50% by mass.

【0028】該光触媒ゾルとして酸化チタンのゾルを例
にとると、例えば実質的に水を分散媒とし、その中に酸
化チタン粒子が解膠された酸化チタンヒドロゾル等を挙
げることができる。(ここで、実質的に水を分散媒とす
るとは、分散媒中に水が80%程度以上含有されている
ことを意味する。)かかるゾルの調整は公知であり、容
易に製造できる(特開昭63−17221号公報、特開
平7−819号公報、特開平9−165218号公報、
特開平11−43327号公報等)。例えば、硫酸チタ
ンや四塩化チタンの水溶液を加熱加水分解して生成した
メタチタン酸をアンモニア水で中和し、析出した含水酸
化チタンを濾別、洗浄、脱水させると酸化チタン粒子の
凝集物が得られる。この凝集物を、硝酸、塩酸、又はア
ンモニア等の作用の下に解膠させ水熱処理等を行うこと
により酸化チタンヒドロゾルが得られる。また、酸化チ
タンヒドロゾルとしては、酸化チタン粒子を酸やアルカ
リの作用の下で解膠させたものや、酸やアルカリを使用
せず必要に応じ分散安定剤を使用し、強力なせんだん力
の下で水中に分散させたゾルも用い得る。さらに、pH
が中性付近の水溶液中においても分散安定性に優れる、
粒子表面がペルオキソ基で修飾されたアナターゼ型酸化
チタンゾルも特開平10−67516号公報で提案され
た方法によって容易に得ることができる。上述した酸化
チタンヒドロゾルはチタニアゾルとして市販されてい
る。(例えば、商品名「STS−02」/石原産業
(株)/日本、商品名「TO−240」/田中転写
(株)/日本等)
Taking titanium oxide sol as an example of the photocatalytic sol, there may be mentioned, for example, a titanium oxide hydrosol in which water is substantially used as a dispersion medium and titanium oxide particles are peptized therein. (Here, “substantially using water as a dispersion medium” means that about 80% or more of water is contained in the dispersion medium.) The preparation of such a sol is known, and can be easily manufactured. JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218,
JP-A-11-43327, etc.). For example, metatitanic acid generated by heating and hydrolyzing an aqueous solution of titanium sulfate or titanium tetrachloride is neutralized with aqueous ammonia, and the precipitated hydrous titanium oxide is filtered, washed, and dehydrated to obtain an aggregate of titanium oxide particles. Can be This aggregate is peptized under the action of nitric acid, hydrochloric acid, ammonia, or the like, and is subjected to hydrothermal treatment or the like, whereby a titanium oxide hydrosol is obtained. The titanium oxide hydrosol is prepared by pulverizing titanium oxide particles under the action of an acid or alkali, or using a dispersion stabilizer as necessary without using an acid or alkali, and using a strong A sol dispersed in water under water may also be used. In addition, pH
Has excellent dispersion stability even in an aqueous solution near neutrality,
Anatase-type titanium oxide sol having a particle surface modified with a peroxo group can also be easily obtained by the method proposed in JP-A-10-67516. The above-mentioned titanium oxide hydrosol is commercially available as titania sol. (For example, trade name "STS-02" / Ishihara Sangyo Co., Ltd./Japan, trade name "TO-240" / Tanaka Transcription Co., Ltd./Japan, etc.)

【0029】上記酸化チタンヒドロゾル中の固形分は5
0質量%以下、好ましくは30質量%以下である。さら
に好ましくは30質量%以下0.1質量%以上である。
このようなヒドロゾルの粘度(20℃)は比較的低く、
例えば、2000cps〜0.5cps程度の範囲にあ
ればよい。好ましくは1000cps〜1cps、さら
に好ましくは500cps〜1cpsである。
The solid content in the titanium oxide hydrosol is 5
0 mass% or less, preferably 30 mass% or less. More preferably, it is 30% by mass or less and 0.1% by mass or more.
The viscosity (20 ° C.) of such hydrosols is relatively low,
For example, it may be in the range of about 2000 cps to about 0.5 cps. Preferably it is 1000 cps-1 cps, more preferably 500 cps-1 cps.

【0030】また、例えば酸化セリウムゾル(特開平8
−59235号公報)やTi、Nb、Ta、Vから選ば
れた少なくとも1種の元素を有する層状酸化物のゾル
(特開平9−25123号公報、特開平9−67124
号公報、特開平9−227122号公報、特開平9−2
27123号公報、特開平10−259023号公報
等)等、様々な光触媒ゾルの製造方法についても酸化チ
タンゾルと同様に開示されている。
Further, for example, a cerium oxide sol (Japanese Unexamined Patent Publication No.
-59235) and a layered oxide sol containing at least one element selected from Ti, Nb, Ta, and V (JP-A-9-25123, JP-A-9-67124).
JP-A-9-227122, JP-A-9-227122
No. 27123, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-259023, etc.), various methods for producing a photocatalytic sol are also disclosed in the same manner as the titanium oxide sol.

【0031】また、実質的に有機溶媒を分散媒とし、そ
の中に光触媒粒子が分散された光触媒オルガノゾルは、
例えば上記光触媒ヒドロゾルをポリエチレングリコール
類の如き相関移動活性を有する化合物(異なる第1の相
と第2相との界面に第3の相を形成し、第1の相、第2
の相、第3の相を相互に溶解及び/又は可溶化する化合
物)で処理し有機溶媒で希釈したり(特開平10−16
7727号公報)、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等の陰イオン界面活性剤で水に不溶性の有機溶剤中
に分散移行させてゾルを調整する方法(特開昭58−2
9863号公報)やブチルセロソルブ等の水より高沸点
のアルコール類を上記光触媒ヒドロゾルに添加した後、
水を(減圧)蒸留等によって除去する方法等により得る
ことができる。また、実質的に有機溶媒を分散媒とし、
その中に酸化チタン粒子が分散された酸化チタンオルガ
ノゾルは市販されている(例えば商品名「TKS−25
1」/テイカ(株))。ここで、実質的に有機溶媒を分
散媒とするとは、分散媒中に有機溶媒が80%程度以上
含有されていることを意味する。
A photocatalyst organosol in which an organic solvent is substantially used as a dispersion medium and photocatalyst particles are dispersed therein is as follows:
For example, the photocatalyst hydrosol is converted into a compound having a phase transfer activity such as polyethylene glycol (a third phase is formed at the interface between different first and second phases, and the first and second phases are formed).
And the third phase are treated with a compound which dissolves and / or solubilizes each other) and diluted with an organic solvent (Japanese Patent Laid-Open No. 10-16 / 1998).
No. 7727), a method of preparing a sol by dispersing and transferring in an organic solvent insoluble in water with an anionic surfactant such as sodium dodecylbenzenesulfonate (Japanese Patent Laid-Open No. 58-2).
No. 9863) and alcohols having a higher boiling point than water, such as butyl cellosolve, are added to the photocatalyst hydrosol.
It can be obtained by a method of removing water by (reduced pressure) distillation or the like. Further, substantially using an organic solvent as a dispersion medium,
Titanium oxide organosols in which titanium oxide particles are dispersed are commercially available (for example, trade name "TKS-25").
1 "/ Taika Co., Ltd.). Here, “substantially using an organic solvent as a dispersion medium” means that the dispersion medium contains about 80% or more of an organic solvent.

【0032】本発明の光触媒組成物に用いる光触媒
(A)として、光触媒粒子を、式(7)で表されるモノ
オキシジオルガノシラン単位、式(8)で表されるジオ
キシオルガノシラン単位、及び式(9)で表されるジフ
ルオロメチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも
1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれ
る少なくとも1種の変性剤化合物(C)を用いて変性処
理することによって得られた変性光触媒(A1)を用い
ると、本発明の光触媒組成物は貯蔵安定性に優れるとと
もに、該光触媒組成物から形成される皮膜は、光照射に
よる水の濡れ性(親水性、疎水性)の制御能や光触媒活
性が非常に大きくなる為、非常に好ましい。 −(R44SiO)− (7)
As the photocatalyst (A) used in the photocatalyst composition of the present invention, a photocatalyst particle is composed of a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (7), a dioxyorganosilane unit represented by the formula (8), And a modification treatment using at least one modifier compound (C) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of difluoromethylene units represented by the formula (9). By using the modified photocatalyst (A1) obtained as described above, the photocatalyst composition of the present invention is excellent in storage stability, and the film formed from the photocatalyst composition has water wettability (hydrophilicity, It is very preferable because the controllability of (hydrophobicity) and the photocatalytic activity become very large. — (R 4 R 4 SiO) — (7)

【0033】[0033]

【化7】 Embedded image

【0034】(式中、R4は各々独立して水素原子、直
鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、
炭素数5〜20のシクロアルキル基、又は置換されてい
ないか又は炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、
炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置
換されている炭素数6〜20のアリール基を表す) −(CF2)− (9)
Wherein R 4 is independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms,
A cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group,
An alkoxy group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom having 1 to 20 carbon atoms) - (CF 2) - ( 9)

【0035】本発明において変性とは、後述する少なく
とも1種の変性剤化合物(C)を、光触媒粒子の表面に
固定化することを意味する。上記の変性剤化合物(C)
の光触媒粒子表面への固定化はファン・デル・ワールス
力(物理吸着)やクーロン力または化学結合によるもの
と考えられる。特に、化学結合を利用した変性は、変性
剤化合物(C)と光触媒(A)との相互作用が強く、変
性剤化合物(C)が光触媒粒子の表面に強固に固定化さ
れるので好ましい。
In the present invention, the term "modification" means that at least one type of modifier compound (C) described below is immobilized on the surface of the photocatalyst particles. Modifier compound (C) above
It is thought that the immobilization of the particles on the surface of the photocatalyst particles is due to van der Waals force (physical adsorption), Coulomb force or chemical bonding. In particular, modification using a chemical bond is preferable because the interaction between the modifier compound (C) and the photocatalyst (A) is strong and the modifier compound (C) is firmly fixed to the surface of the photocatalyst particles.

【0036】本発明の変性光触媒(A1)を得るのに使
用される上式(7)及び/又は上式(8)で表される構
造単位を有する変性剤化合物(C)としては、例えばS
i−H基、加水分解性シリル基(アルコキシシリル基、
ヒドロキシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシ
シリル基、アミノキシシリル基等)、エポキシ基、アセ
トアセチル基、チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子
と化学結合の生成が期待できる反応性基を有するケイ素
化合物やポリオキシアルキレン基等の光触媒粒子との親
和性が期待できる親水性基を有するケイ素化合物等を挙
げることができる。これらの例としては、例えば平均組
成式(10)で表されるケイ素化合物を挙げることがで
きる。 R4 xyzSiO(4-x-y-z)/2 (10) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Xは、
式(1)で定義した通りである。)
The modifier compound (C) having a structural unit represented by the above formula (7) and / or the above formula (8) used for obtaining the modified photocatalyst (A1) of the present invention includes, for example, S
i-H group, hydrolyzable silyl group (alkoxysilyl group,
Reactive groups that can be expected to form a chemical bond with photocatalyst particles such as hydroxysilyl group, halogenated silyl group, acetoxysilyl group, aminoxysilyl group), epoxy group, acetoacetyl group, thiol group, and acid anhydride group. And a silicon compound having a hydrophilic group which can be expected to have an affinity for photocatalyst particles such as a silicon compound having a polyoxyalkylene group. Examples of these include a silicon compound represented by the average composition formula (10). R 4 x Q y X z SiO (4-xyz) / 2 (10) (where R 4 is as defined in the formula (7), and X is
As defined in equation (1). )

【0037】また、式中Qは、又は下記(あ)〜(え)
からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能性付与基
を含有する基である。 (あ)直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアル
キル基、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のア
ルケニル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もし
くは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキ
ル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン
原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、及
び炭素数1〜30のフルオロアルキル基からなる群より
選ばれる少なくとも1つの疎水性基。 (い)カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるい
はその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシア
ルキレン基からなる群から選ばれた少なくとも1つの親
水性基。 (う)エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル
基、(環状)酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒ
ドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート
基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、チオール
基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つ
の反応性基。 (え)少なくとも1つの分光増感基。また、0<x<
4、0<y<4、0≦z<4、及び(x+y+z)<4
である。)
In the formula, Q represents or the following (A) to (E)
And a group containing at least one functionality-imparting group selected from the group consisting of (A) a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or An unsubstituted or C1-C20 alkyl group or C1-C20 alkoxy group, or a C6-C20 aryl group substituted with a halogen atom, and a C1-C30 fluoroalkyl At least one hydrophobic group selected from the group consisting of groups; (I) at least one hydrophilic group selected from the group consisting of a carboxyl group or a salt thereof, a phosphate group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, and a polyoxyalkylene group; (C) epoxy group, acryloyl group, methacryloyl group, (cyclic) acid anhydride group, keto group, carboxyl group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group, hydroxyl group, amino group, cyclic carbonate group, thiol group, At least one reactive group selected from the group consisting of ester groups. (E) at least one spectral sensitizing group. Also, 0 <x <
4, 0 <y <4, 0 ≦ z <4, and (x + y + z) <4
It is. )

【0038】上述した平均組成式(10)で表されるケ
イ素化合物として、Si−H基を有する化合物(式(1
0)中のXの少なくとも1つが水素原子)を選択する
と、後述する光触媒(A)の変性操作により混合液から
は水素ガスが発生すると共に、光触媒(A)として光触
媒ゾルを用いた場合、その平均分散粒子径の増加が観察
される。また、例えば光触媒(A)として酸化チタンを
用いた場合、上記変性の操作により、Ti−OH基の減
少がIRスペクトルにおける3630〜3640cm-1
の吸収の減少として観測される。
As the silicon compound represented by the above average composition formula (10), a compound having a Si—H group (formula (1)
When at least one of X in 0) is selected to be a hydrogen atom), a hydrogen gas is generated from the mixed solution by a modification operation of the photocatalyst (A) described later, and when a photocatalyst sol is used as the photocatalyst (A), An increase in the average dispersed particle size is observed. Further, for example, when titanium oxide is used as the photocatalyst (A), a decrease in the Ti—OH group is caused by the above-mentioned modification operation from 3630 to 3640 cm −1 in the IR spectrum.
Is observed as a decrease in absorption.

【0039】これらのことより、変性剤化合物(C)と
してSi−H基含有ケイ素化合物を選択した場合は、本
発明の変性光触媒(A1)は、光触媒とSi−H基含有
ケイ素化合物の単なる混合物ではなく、化学結合等の何
らかの相互作用をもったものであることが予測できるた
め非常に好ましい。実際、この様にして得られた変性光
触媒ゾルは、分散安定性や化学的安定性、耐久性等が非
常に優れた物となる。これに対し、平均組成式(10)
で表されるケイ素化合物として、Xが加水分解性基(炭
素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアシロ
キシ基、アミノキシ基、炭素数1〜20のオキシム基、
ハロゲン原子)や水酸基を含有するものは、SiH基含
有ケイ素化合物と同様に光触媒の変性に利用することも
できるが、副反応が多く、貯蔵安定性を悪くするため、
その含有量は少ない方が好ましい。上記平均組成式(1
0)のより好ましい形態は、上記加水分解性基や水酸基
を実質的に含まない系である。
From these facts, when the Si—H group-containing silicon compound is selected as the modifier compound (C), the modified photocatalyst (A1) of the present invention is a simple mixture of the photocatalyst and the Si—H group-containing silicon compound. Rather, it is very preferable because it can be predicted to have some interaction such as a chemical bond. In fact, the modified photocatalyst sol obtained in this way has very excellent dispersion stability, chemical stability, durability and the like. In contrast, the average composition formula (10)
X is a hydrolyzable group (alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, aminoxy group, oxime group having 1 to 20 carbon atoms,
A compound containing a halogen atom) or a hydroxyl group can be used for modifying a photocatalyst similarly to a silicon compound containing a SiH group, but it has many side reactions and deteriorates storage stability.
It is preferable that the content is small. The average composition formula (1)
A more preferred embodiment of 0) is a system substantially free of the above-mentioned hydrolyzable groups and hydroxyl groups.

【0040】上記平均組成式(10)で表されるSi−
H基含有ケイ素化合物の例としては、例えば下記式(1
1)で表される化合物等を挙げることができる。 (R4HSiO)a(R4 2SiO)b(R4QSiO)c(R4 3SiO1/2d ・・・(11) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Qは式
(10)で定義した通りであり、aは1以上の整数であ
り、b、cは0又は1以上の整数であり、(a+b+
c)≦10000であり、そしてdは0又は2である。
但し、(a+b+c)が2以上の整数であり且つd=0
の場合、該化合物は環状シリコーン化合物であり、d=
2の場合、該化合物は鎖状シリコーン化合物である。)
The Si— represented by the above average composition formula (10)
Examples of the H group-containing silicon compound include, for example, the following formula (1)
The compound represented by 1) can be mentioned. As (R 4 HSiO) a (R 4 2 SiO) b (R 4 QSiO) c (R 4 3 SiO 1/2) d ··· (11) ( wherein, R 4 is defined in formula (7) And Q is as defined in the formula (10), a is an integer of 1 or more, b and c are 0 or an integer of 1 or more, and (a + b +
c) ≦ 10000 and d is 0 or 2.
Here, (a + b + c) is an integer of 2 or more and d = 0.
In the case, the compound is a cyclic silicone compound, and d =
In case 2, the compound is a chain silicone compound. )

【0041】また、上記平均組成式(10)で表される
ケイ素化合物として、機能性付与基含有基(Q)を有す
るものを選択すると、本発明で得られる変性光触媒(A
1)に種々の機能を付与できるため好ましい。機能性付
与基含有基(Q)は下記式で表される基であることが好
ましい。ここで機能性付与基含有基(Q)は下式(1
2)で表される基であることが好ましい。 −Z−(W)h ・・・(12) (式中、Zは分子量14〜50,000のh価の有機基
を表し、Wは上記機能性付与基(あ)〜(え)からなる
群から選ばれる少なくとも1つであり、hは1〜20の
整数である。)
When a silicon compound having a functional group-containing group (Q) is selected as the silicon compound represented by the above average composition formula (10), the modified photocatalyst (A
This is preferable because various functions can be added to 1). The functional group-containing group (Q) is preferably a group represented by the following formula. Here, the functional group imparting group-containing group (Q) is represented by the following formula (1)
It is preferably a group represented by 2). -Z- (W) h (12) (wherein, Z represents a h-valent organic group having a molecular weight of 14 to 50,000, and W comprises the above functional group (a) to (e)) At least one member selected from the group, and h is an integer of 1 to 20.)

【0042】例えば機能性付与基含有基(Q)として、
カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、リン酸
基あるいはその塩を含む1価の基、スルホン酸基あるい
はその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から
なる群から選ばれた少なくとも1つの親水性基[式(1
0)中の(い)]を有するものを選択すると、得られる
変性光触媒(A1)の水に対する分散安定性が非常に良
好なものとなる。
For example, as the functional group imparting group-containing group (Q),
At least one selected from the group consisting of a monovalent group containing a carboxyl group or a salt thereof, a monovalent group containing a phosphate group or a salt thereof, a monovalent group containing a sulfonic acid group or a salt thereof, and a polyoxyalkylene group. One hydrophilic group [formula (1
0) in (0)], the resulting modified photocatalyst (A1) has very good dispersion stability in water.

【0043】また、例えば機能性付与基含有基(Q)と
して、疎水性基である炭素数1〜30のフルオロアルキ
ル基を含む1価の疎水性基[式(10)中の(あ)]を
有するものを選択すると、得られる変性光触媒(A1)
は表面エネルギーの非常に小さいものとなり、本発明の
変性光触媒(A1)は後述する自己傾斜性が大きくなる
ばかりか、非常に疎水性の高い被膜を得ることも可能と
なる。また、例えば機能性付与基含有基(Q)として、
エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、
(環状)酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラ
ジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、
水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、チオール基、
エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つの反
応性基[式(10)中の(う)]を含有する基を選択す
ると本発明の変性光触媒(A1)は架橋性を有し、耐久
性等に優れた被膜を形成することができるので好まし
い。また、例えば機能性付与基含有基(Q)として、分
光増感基を有するものを選択すると、本発明の変性光触
媒(A1)は、紫外線領域だけでなく、可視光領域及び
/又は赤外光領域の光の照射によっても触媒活性や光電
変換機能を発現することができる。
For example, as the functional group-providing group-containing group (Q), a monovalent hydrophobic group containing a fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, which is a hydrophobic group [(a) in the formula (10)] Is selected, the resulting modified photocatalyst (A1)
Has a very small surface energy, so that the modified photocatalyst (A1) of the present invention not only has a large self-grading property as described later, but also can obtain a coating having a very high hydrophobicity. Further, for example, as a functional group imparting group-containing group (Q),
Epoxy group, acryloyl group, methacryloyl group,
(Cyclic) acid anhydride group, keto group, carboxyl group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group,
Hydroxyl group, amino group, cyclic carbonate group, thiol group,
When a group containing at least one reactive group [(U) in the formula (10)] selected from the group consisting of ester groups is selected, the modified photocatalyst (A1) of the present invention has crosslinking properties and durability. It is preferable because a film excellent in the above properties can be formed. Further, for example, when a group having a spectral sensitizing group is selected as the functional group-containing group (Q), the modified photocatalyst (A1) of the present invention can be used not only in the ultraviolet region but also in the visible light region and / or the infrared light region. The catalytic activity and the photoelectric conversion function can also be exhibited by irradiating the region with light.

【0044】ここで、分光増感基とは、可視光領域及び
/又は赤外光領域に吸収を持つ種々の金属錯体や有機色
素(即ち、増感色素)に由来する基を意味する。増感色
素としては、例えばキサンテン系色素、オキソノール系
色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、ローダシ
アニン系色素、スチリル系色素、ヘミシアニン系色素、
メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素(金属錯体
を含む)、ポルフィリン系色素(金属錯体を含む)、ト
リフェニルメタン系色素、ペリレン系色素、コロネン系
色素、アゾ系色素、ニトロフェノール系色素、さらには
日本国特開平1−220380号公報や日本国特許出願
公表平5−504023号公報に記載のルテニウム、オ
スミウム、鉄、亜鉛の錯体や、他にルテニウムレッド等
の金属錯体を挙げることができる。
Here, the spectral sensitizing group means a group derived from various metal complexes or organic dyes (ie, sensitizing dyes) having absorption in a visible light region and / or an infrared light region. Examples of sensitizing dyes include xanthene dyes, oxonol dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, rhodocyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes,
Merocyanine dyes, phthalocyanine dyes (including metal complexes), porphyrin dyes (including metal complexes), triphenylmethane dyes, perylene dyes, coronene dyes, azo dyes, nitrophenol dyes, and even Japan Examples of the complex include ruthenium, osmium, iron, and zinc complexes described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1-220380 and Japanese Patent Application Publication No. 5-504024, and other metal complexes such as ruthenium red.

【0045】これらの増感色素の中で、400nm以上
の波長領域で吸収を持ち、かつ最低空軌道のエネルギー
準位(励起状態の酸化還元電位)が光触媒の伝導帯のエ
ネルギー準位より高いという特徴を有するものが好まし
い。このような増感色素の特徴は、赤外・可視・紫外領
域における光の吸収スペクトルの測定、電気化学的方法
による酸化還元電位の測定(T.Tani, Photogr. Sci. En
g., 14, 72 (1970); R.W.Berriman et al., ibid., 17.
235 (1973); P.B.Gilman Jr., ibid., 18, 475(1974)
等)、分子軌道法を用いたエネルギー準位の算定(T.Tani
et al., Photogr. Sci. Eng., 11, 129 (1967); D.M.S
turmer et al., ibid., 17. 146 (1973);ibid., 18, 49
(1974); R.G.Selby et al., J. Opt. Soc. Am., 33, 1
(1970)等)、更には光触媒と分光増感色素によって作成
したGratzel型湿式太陽電池の光照射による起電力の有
無や効率等によって確認することができる。
Among these sensitizing dyes, it has absorption in the wavelength region of 400 nm or more, and the energy level of the lowest unoccupied orbital (redox potential in the excited state) is higher than the energy level of the conduction band of the photocatalyst. Those having features are preferred. Such sensitizing dyes are characterized by measuring light absorption spectra in the infrared, visible, and ultraviolet regions, and measuring oxidation-reduction potential by electrochemical methods (T. Tani, Photogr. Sci. En.
g., 14, 72 (1970); RWBerriman et al., ibid., 17.
235 (1973); PBGilman Jr., ibid., 18, 475 (1974)
), Calculation of energy level using molecular orbital method (T.Tani
et al., Photogr. Sci. Eng., 11, 129 (1967); DMS
turmer et al., ibid., 17.146 (1973); ibid., 18, 49
(1974); RGSelby et al., J. Opt. Soc. Am., 33, 1
(1970)), and further, it can be confirmed by the presence or absence of an electromotive force by light irradiation of a Gratzel-type wet solar cell prepared with a photocatalyst and a spectral sensitizing dye, efficiency, and the like.

【0046】上記の特徴を有する増感色素の例として
は、9−フェニルキサンテン骨格を有する化合物、2,
2−ビピリジン誘導体を配位子として含むルテニウム錯
体、ペリレン骨格を有する化合物、フタロシアニン系金
属錯体、ポルフィリン系金属錯体等を挙げることができ
る。上記の増感色素に由来する分光増感基を有するケイ
素化合物を得る方法には特に限定はないが、例えば、上
記の反応性基を有するケイ素化合物と、この反応性基と
反応性を有する増感色素を反応させることによって得る
ことができる。
Examples of sensitizing dyes having the above characteristics include compounds having a 9-phenylxanthene skeleton,
Examples thereof include a ruthenium complex containing a 2-bipyridine derivative as a ligand, a compound having a perylene skeleton, a phthalocyanine-based metal complex, and a porphyrin-based metal complex. The method for obtaining the silicon compound having a spectral sensitizing group derived from the sensitizing dye is not particularly limited. For example, a silicon compound having the reactive group described above and a sensitizer having a reactivity with the reactive group may be used. It can be obtained by reacting a dye.

【0047】また、本発明の変性光触媒(A1)を得る
のに使用される上式(9)で表される構造単位を有する
変性剤化合物(C)としては、例えばSi−H基、加水
分解性シリル基(アルコキシシリル基、ヒドロキシシリ
ル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル基、アミ
ノキシシリル基等)、エポキシ基、アセトアセチル基、
チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子と化学結合の生
成が期待できる反応性基やポリオキシアルキレン基等の
光触媒粒子との親和性が期待できる親水性基を有する、
炭素数1〜30のフルオロアルキル化合物や数平均分子
量100〜1,000,000のフルオロアルキレン化
合物を挙げることができる。
The modifier compound (C) having the structural unit represented by the above formula (9) used for obtaining the modified photocatalyst (A1) of the present invention includes, for example, a Si—H group, Functional silyl group (alkoxysilyl group, hydroxysilyl group, halogenated silyl group, acetoxysilyl group, aminoxysilyl group, etc.), epoxy group, acetoacetyl group,
Having a hydrophilic group that can be expected to have an affinity for photocatalyst particles such as a thiol group, a photocatalyst particle such as an acid anhydride group and a reactive group or a polyoxyalkylene group that can be expected to form a chemical bond,
Examples thereof include a fluoroalkyl compound having 1 to 30 carbon atoms and a fluoroalkylene compound having a number average molecular weight of 100 to 1,000,000.

【0048】具体的には、式(13)で表されるフルオ
ロアルキル化合物、及び式(14)で表されるフルオロ
オレフィン重合体が挙げられる。 CF3(CF2g−Y−(V)w (13) (式中、gは0〜29の整数を表す。Yは分子量14〜
50000のw価の有機基を表す。wは1〜20の整数
である。Vは、加水分解性シリル基、エポキシ基、水酸
基、アセトアセチル基、チオール基、環状酸無水物基、
カルボキシル基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン
基からなる群から選ばれた少なくとも1つの官能基を表
す。)
Specific examples include a fluoroalkyl compound represented by the formula (13) and a fluoroolefin polymer represented by the formula (14). CF 3 (CF 2) g -Y- (V) w (13) ( wherein, g is .Y represents an integer of 0 to 29 the molecular weight 14
Represents a w-valent organic group of 50,000. w is an integer of 1 to 20. V is a hydrolyzable silyl group, epoxy group, hydroxyl group, acetoacetyl group, thiol group, cyclic acid anhydride group,
It represents at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a polyoxyalkylene group. )

【0049】[0049]

【化8】 Embedded image

【0050】(式中、A1〜A5は同一でも異なっていて
も良く、それぞれフッ素原子、水素原子、塩素原子、炭
素数1〜6のアルキル基、及び炭素数1〜6のハロ置換
アルキル基から選ばれる1種を示す。mは10以上10
00000以下の整数であり、nは0以上100000
以下の整数を表す。Yは分子量14〜50000のw価
の有機基を表す。wは1〜20の整数である。Vは、式
(13)で定義した通り。)
Wherein A 1 to A 5 may be the same or different and each represents a fluorine atom, a hydrogen atom, a chlorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a halo-substituted alkyl having 1 to 6 carbon atoms. And m represents 10 or more and 10
Is an integer of 00000 or less, and n is 0 or more and 100000
Represents the following integers. Y represents a w-valent organic group having a molecular weight of 14 to 50,000. w is an integer of 1 to 20. V is as defined in equation (13). )

【0051】これらの具体的な例としては、例えば2−
パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン等のフ
ルオロアルキルシラン類、ナフィオン樹脂、クロロトリ
フルオロエチレンやテトラフルオロエチレン等のフルオ
ロオレフィン類とエポキシ基、水酸基、カルボキシル
基、アセトアセチル基、チオール基、環状酸無水物基、
スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基等を有するモノ
マー類(ビニルエーテル、ビニルエステル、アリル化合
物等)との共重合体等を挙げることができる。
As specific examples of these, for example, 2-
Fluoroalkylsilanes such as perfluorooctylethyltrimethoxysilane, Nafion resin, fluoroolefins such as chlorotrifluoroethylene and tetrafluoroethylene and epoxy groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, acetoacetyl groups, thiol groups, and cyclic acid anhydrides Group,
Copolymers with monomers having sulfonic acid groups, polyoxyalkylene groups and the like (vinyl ethers, vinyl esters, allyl compounds, etc.) can be mentioned.

【0052】さらに、本発明の変性光触媒(A1)を得
るのに使用される上式(7)及び/又は上式(8)と上
式(9)で表される構造単位を有する変性剤化合物
(C)としては、例えばフルオロアルキル基とSi−H
基、加水分解性シリル基(アルコキシシリル基、ヒドロ
キシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル
基、アミノキシシリル基等)、エポキシ基、アセトアセ
チル基、チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子と化学
結合の生成が期待できる反応性基を有するケイ素化合物
等を挙げることができる。
Further, a modifier compound having a structural unit represented by the above formula (7) and / or (8) and the above formula (9) used for obtaining the modified photocatalyst (A1) of the present invention. (C) includes, for example, a fluoroalkyl group and Si—H
Particles, hydrolyzable silyl groups (alkoxysilyl groups, hydroxysilyl groups, halogenated silyl groups, acetoxysilyl groups, aminoxysilyl groups, etc.), epoxy groups, acetoacetyl groups, thiol groups, acid anhydride groups, etc. And a silicon compound having a reactive group that can be expected to form a chemical bond.

【0053】本発明の変性光触媒(A1)は、水及び/
又は有機溶媒の存在下、あるいは非存在下において、前
述した光触媒(A)と、同じく前述した変性剤化合物
(C)とを、質量比(A)/(C)=1/99〜99.
9/0.1、好ましくは(A)/(C)=10/90〜
99/1の割合で0〜150℃にて混合したり、(減
圧)蒸留等により該混合物の溶媒組成を変化させる等の
操作をすることにより得ることができる。
The modified photocatalyst (A1) of the present invention comprises water and / or
Alternatively, in the presence or absence of an organic solvent, the above-mentioned photocatalyst (A) and the above-mentioned modifier compound (C) are mixed at a mass ratio of (A) / (C) = 1/99 to 99.
9 / 0.1, preferably (A) / (C) = 10 / 90-
It can be obtained by mixing at a ratio of 99/1 at 0 to 150 ° C., or changing the solvent composition of the mixture by (reduced pressure) distillation or the like.

【0054】ここで上記変性処理を行う場合、使用でき
る有機溶媒としては、例えばトルエンやキシレン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン
等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等
のエステル類、エチレングリコール、ブチルセロソル
ブ、イソプロパノール、n−ブタノール、エタノール、
メタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、クロ
ロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化合
物類、ジメチルスルホキシド、ニトロベンゼン等やこれ
らの2種以上の混合物が挙げられる。
Here, in the case of performing the above-mentioned modification treatment, usable organic solvents include, for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, ethyl acetate and n-acetic acid. Esters such as butyl, ethylene glycol, butyl cellosolve, isopropanol, n-butanol, ethanol,
Alcohols such as methanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide, and halogen compounds such as chloroform, methylene chloride and carbon tetrachloride, Examples include dimethyl sulfoxide, nitrobenzene and the like, and a mixture of two or more of these.

【0055】本発明における光触媒組成物は、上述した
光触媒(A)(変性光触媒(A1)を含む)と下記平均
組成式(1)で表されるシリコーン化合物(B)とから
なる。 R1 p2 qrSiO(4-p-q-r)/2 (1) (式中、R1はフェニル基を表し、R2は直鎖状または分
岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20
のシクロアルキル基、及び炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子
で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる
群より選ばれる少なくとも1つの炭化水素基を表す。X
は、水素原子、水酸基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、炭素数1〜20のアシロキシ基、アミノキシ基、炭
素数1〜20のオキシム基、ハロゲン原子からなる群よ
り選ばれる少なくとも1つの反応性基を表し、0<p<
4、0≦q<4、0<r<4、及び0<(p+q+r)
<4であり、さらに0.1≦p/(p+q)≦1の関係
を満足する。)
The photocatalyst composition of the present invention comprises the photocatalyst (A) (including the modified photocatalyst (A1)) and a silicone compound (B) represented by the following average composition formula (1). During R 1 p R 2 q X r SiO (4-pqr) / 2 (1) ( wherein, R 1 represents a phenyl group, R 2 is a linear or branched C 1-30 alkyl group , 5-20 carbon atoms
And at least one carbon atom selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom. Represents a hydrogen group. X
Is at least one reactivity selected from the group consisting of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. Represents a group, and 0 <p <
4, 0 ≦ q <4, 0 <r <4, and 0 <(p + q + r)
<4, and further satisfies the relationship of 0.1 ≦ p / (p + q) ≦ 1. )

【0056】上記平均組成式(1)で示されるシリコー
ン化合物(B)は、Ph−Si結合(Ph:フェニル
基)をR−Si結合(R:水素原子または炭素数1〜2
0の一価の有機基)全体に対し10モル%以上有する構
造である。我々は、この様な構造を有するシリコーン化
合物(B)と光触媒(A)からなる光触媒組成物から形
成される皮膜は、光照射による親水化能力が非常に大き
くなることを見いだした。また、該親水化能力は、上記
R−Si結合全体に対するPh−Si結合(Ph:フェ
ニル基)の割合が増えるに従い増大する。よって、本発
明の光触媒組成物に使用するシリコーン化合物(B)と
してより好ましい構造は、R−Si結合(R:水素原子
または炭素数1〜20の一価の有機基)全体に対するP
h−Si結合(Ph:フェニル基)の割合が20モル%
以上、さらに好ましくは50モル%以上、さらに好まし
くは100モル%(フェニルシリコーン化合物(B
1):下記平均組成式(2))である。 R1 stSiO(4-s-t)/2 (2) (式中、R1はフェニル基を表し、Xは、水素原子、水
酸基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20
のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数1〜20のオキ
シム基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくと
も1つの反応性基を表し、0<s<4、0<t<4、及
び0<(s+t)<4である。)
In the silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1), a Ph—Si bond (Ph: phenyl group) is converted to an R—Si bond (R: hydrogen atom or carbon number of 1 to 2).
0 monovalent organic group) in a total amount of 10 mol% or more. We have found that a film formed from a photocatalyst composition comprising a silicone compound (B) having such a structure and a photocatalyst (A) has a very high ability to hydrophilize by light irradiation. Further, the hydrophilizing ability increases as the ratio of Ph-Si bond (Ph: phenyl group) to the entire R-Si bond increases. Therefore, a more preferable structure as the silicone compound (B) used in the photocatalyst composition of the present invention is a structure in which the R-Si bond (R: a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms) is based on P
20 mol% of h-Si bond (Ph: phenyl group)
Or more, more preferably 50 mol% or more, further preferably 100 mol% (phenylsilicone compound (B
1): The following average composition formula (2)). R 1 s X t SiO (4-st) / 2 (2) (wherein, R 1 represents a phenyl group, and X represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a C 1 to 20 carbon atom.
Represents at least one reactive group selected from the group consisting of an acyloxy group, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom, and 0 <s <4, 0 <t <4, and 0 <(s + t ) <4. )

【0057】本発明の光触媒組成物において、光触媒
(A)と上記シリコーン化合物(B)の質量比は、
(A)/(B)=1/99〜90/10で使用すること
ができるが、(A)/(B)=1/99〜40/60、
さらには(A)/(B)=1/99〜30/70という
光触媒の含有量が非常に少ない範囲においてさえ、形成
される皮膜は光照射による十分な親水化能力(超親水化
能力:20℃における水の接触角が10゜以下)を有す
る。また、この様に光触媒含有量が少ない皮膜はバイン
ダーとしてのシリコーン化合物本来の膜物性を発現する
ため、特に柔軟性(耐屈曲性、耐衝撃性)に優れたもの
となる。
In the photocatalyst composition of the present invention, the mass ratio of the photocatalyst (A) to the silicone compound (B) is
(A) / (B) = 1 / 99-90 / 10, but (A) / (B) = 1 / 99-40 / 60,
Furthermore, even in the range of (A) / (B) = 1/99 to 30/70 where the content of the photocatalyst is very small, the formed film has a sufficient hydrophilicity by light irradiation (superhydrophilicity: 20 Water contact angle at 10 ° C or less). In addition, since a film having a small content of the photocatalyst exhibits the intrinsic film properties of the silicone compound as a binder, the film has particularly excellent flexibility (bending resistance and impact resistance).

【0058】本発明における上記平均組成式(1)で示
されるシリコーン化合物(B)としては、例えば一般式
(15)、(16)、(17)及び(18)で表される
結合の少なくとも1種の構造を含むシリコーン化合物や
それらの混合物を挙げることができる。
The silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1) in the present invention includes, for example, at least one of the bonds represented by the general formulas (15), (16), (17) and (18). Mention may be made of silicone compounds containing different structures and mixtures thereof.

【0059】[0059]

【化9】 Embedded image

【0060】−(RRSiO)− ・・・(1
6)
-(RRSiO)-... (1
6)

【0061】[0061]

【化10】 Embedded image

【0062】[0062]

【化11】 Embedded image

【0063】(式中、Rはそれぞれ独立に炭素数1〜3
0の一価の有機基を表す。)
(Wherein R independently represents 1 to 3 carbon atoms)
0 represents a monovalent organic group. )

【0064】上述した構造を含むシリコーン化合物
(B)は、例えば一般式RSiX3(式中、Rは炭素数
1〜30の一価の有機基を表す。Xは、水素原子、水酸
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20の
アシロキシ基、アミノキシ基、炭素数1〜20のオキシ
ム基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも
一つの反応性基を表す。以下同様。)で表される3官能
シラン誘導体及び/又は一般式R2SiX2で表される2
官能シラン誘導体及び/又は一般式SiX4で表される
4官能シラン誘導体を部分的に加水分解・縮重合させ、
必要により一般式R 3SiXで表される1官能シラン誘
導体及び/又はアルコール類によって末端停止させるこ
とにより調製できる。(ここで本発明の光触媒組成物に
用いるシリコーン化合物(B)の場合、上記一般式中の
Rは、その総量の10モル%以上がフェニル基であ
る。)この様にして得られるシラン誘導体モノマーの部
分縮合物のポリスチレン換算質量平均分子量は、好まし
くは200〜100,000、さらに好ましくは400
〜50,000である。
Silicone compound having the above structure
(B) is, for example, the general formula RSixThree(Where R is the number of carbon atoms
Represents a monovalent organic group of 1 to 30; X is a hydrogen atom, hydroxyl
Group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms
Acyloxy group, aminoxy group, oxy having 1 to 20 carbon atoms
At least selected from the group consisting of
Represents one reactive group. The same applies hereinafter. ) Trifunctional
Silane derivatives and / or general formula RTwoSixTwo2 represented by
Functional silane derivative and / or general formula SixFourRepresented by
The tetrafunctional silane derivative is partially hydrolyzed and polycondensed,
General formula R if necessary ThreeInduction of monofunctional silane represented by SiX
Terminate with conductors and / or alcohols.
And can be prepared by (Here, the photocatalyst composition of the present invention
In the case of the silicone compound (B) to be used,
R is a phenyl group in an amount of 10% by mole or more of the total amount.
You. ) Part of the silane derivative monomer thus obtained
The polystyrene equivalent mass average molecular weight of the polycondensate is preferably
200 to 100,000, more preferably 400
~ 50,000.

【0065】本発明において、上記平均組成式(1)で
示されるシリコーン化合物(B)として、上記一般式
(15)で表されるラダー構造を10モル%以上、好ま
しくは40モル%以上含むものを選択すると、本発明の
光触媒組成物から形成される皮膜は、硬度、耐熱性、耐
候性、耐汚染性、耐薬品性等の点で優れたものとなるた
め好ましい。特に、上記ラダー構造として下記一般式
(3)で表されるフェニルラダー構造を有するものは上
述した皮膜物性が非常に向上するため好ましい。この様
なラダー構造は、例えば赤外線吸収スペクトルにおける
1040cm-1と1160cm-1付近の2本のシロキサ
ン結合に由来する吸収の存在により同定する事ができ
る。 (J.F.Brown.Jr.,etal.:J.Am.Chem.Soc.,82,6194(1960)
参照。)
In the present invention, the silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1) contains the ladder structure represented by the above general formula (15) in an amount of 10 mol% or more, preferably 40 mol% or more. Is preferred, the film formed from the photocatalyst composition of the present invention is excellent in hardness, heat resistance, weather resistance, stain resistance, chemical resistance, and the like, which is preferable. In particular, those having a phenyl ladder structure represented by the following general formula (3) as the ladder structure are preferable because the above-mentioned properties of the film are greatly improved. Such ladder structure, for example can be identified by the presence of absorption derived from two siloxane bonds near 1040 cm -1 and 1160 cm -1 in the infrared absorption spectrum. (JFBrown.Jr., Etal.: J.Am.Chem.Soc., 82,6194 (1960)
reference. )

【0066】[0066]

【化12】 Embedded image

【0067】(R1はフェニル基を表す。)(R 1 represents a phenyl group.)

【0068】また、上記平均組成式(1)で示されるシ
リコーン化合物(B)として、上記式(4)で表される
ラダー構造に加え、式(5)で表される鎖状構造を50
質量%以下、好ましくは30質量%以下の割合でさらに
有するものを選択すると、本発明の光触媒組成物から形
成される塗膜は、硬度、耐熱性、耐候性、耐汚染性、耐
薬品性等に優れるばかりか、成膜性、基材密着性、柔軟
性等の点で非常に優れたものとなるため好ましい。
Further, as the silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1), in addition to the ladder structure represented by the above formula (4), a chain structure represented by the formula (5) may be used.
If a film having a content of not more than 30% by mass, preferably not more than 30% by mass is selected, the coating film formed from the photocatalyst composition of the present invention has hardness, heat resistance, weather resistance, stain resistance, chemical resistance and the like. This is not only excellent, but also extremely excellent in film formability, substrate adhesion, flexibility and the like.

【0069】また、上記平均組成式(1)で示されるシ
リコーン化合物(B)として、上述したフェニルシリコ
ーン化合物(B1)と平均組成式(4)で表されるアル
キルシリコーン化合物(B2)とを、質量比(B1)/
(B2)=5/95〜95/5、好ましくは(B1)/
(B2)=30/70〜90/10で混合したものを用
いると、本発明の光触媒組成物から形成される塗膜は、
成膜性、硬度、耐熱性、耐汚染性、耐薬品性等の点で優
れたものとなるため好ましい。 R3 uvSiO(4-u-v)/2 (4) (式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素数1〜30の
アルキル基を表し、Xは、式(1)で定義した通りであ
る。0<u<4、0<v<4、及び0<(u+v)<4
である。)
As the silicone compound (B) represented by the average composition formula (1), the phenyl silicone compound (B1) described above and the alkyl silicone compound (B2) represented by the average composition formula (4) are Mass ratio (B1) /
(B2) = 5/95 to 95/5, preferably (B1) /
When a mixture of (B2) = 30/70 to 90/10 is used, the coating film formed from the photocatalyst composition of the present invention is:
It is preferable because it is excellent in film forming property, hardness, heat resistance, stain resistance, chemical resistance and the like. R 3 u X v SiO (4 -uv) / 2 (4) ( wherein, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, X is defined by equation (1) 0 <u <4, 0 <v <4, and 0 <(u + v) <4
It is. )

【0070】さらに、上述したフェニルシリコーン化合
物(B1)に混合するアルキルシリコーン化合物(B
2)として、式(5)で表されるモノオキシジオルガノ
シラン単位(T)と式(6)で表されるジオキシオルガ
ノシラン単位(D)をモル比(T)/(D)=80/2
0〜5/95の割合で有する構造のものを用いると、本
発明の光触媒組成物から形成される塗膜は、耐候性が非
常に優れたものとなるため非常に好ましい。 −(R33SiO)− (5)
Further, the alkyl silicone compound (B) mixed with the above-mentioned phenyl silicone compound (B1)
As 2), the molar ratio of the monooxydiorganosilane unit (T) represented by the formula (5) to the dioxyorganosilane unit (D) represented by the formula (6) is (T) / (D) = 80. / 2
It is very preferable to use a film having a structure having a ratio of 0 to 5/95, since a coating film formed from the photocatalyst composition of the present invention has extremely excellent weather resistance. — (R 3 R 3 SiO) — (5)

【0071】[0071]

【化13】 Embedded image

【0072】(式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素
数1〜30のアルキル基を表す。)
(Wherein, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms)

【0073】本発明の光触媒組成物に使用できる前述し
たシリコーン化合物(B)は、溶剤に溶けたタイプ、分
散タイプ、液体タイプ、粉体タイプのいずれであっても
良い。本発明の光触媒組成物において上記平均組成式
(1)で示されるシリコーン化合物(B)が水酸基及び
/又は加水分解性基を有する場合、従来公知の加水分解
触媒や硬化触媒を添加することが好ましい。該加水分解
触媒としては、酸性のハロゲン化水素、カルボン酸、ス
ルホン酸、酸性あるいは弱酸性の無機塩、イオン交換樹
脂などの固体酸などが好ましい。また、加水分解触媒の
量は、ケイ素原子上の加水分解性基1モルに対して0.
001〜5モルの範囲内であることが好ましい。
The silicone compound (B) which can be used in the photocatalyst composition of the present invention may be any of a solvent-soluble type, a dispersion type, a liquid type and a powder type. When the silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1) has a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group in the photocatalyst composition of the present invention, it is preferable to add a conventionally known hydrolysis catalyst or curing catalyst. . Preferred examples of the hydrolysis catalyst include acidic hydrogen halides, carboxylic acids, sulfonic acids, acidic or weakly acidic inorganic salts, and solid acids such as ion exchange resins. The amount of the hydrolysis catalyst is 0.1 to 1 mol of the hydrolyzable group on the silicon atom.
It is preferably in the range of 001 to 5 mol.

【0074】また上記硬化触媒としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラート、
酢酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドのごとき塩
基性化合物類;トリブチルアミン、ジアザビシクロウン
デセン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、エ
タノールアミン類、γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−(2−アミノエチル)−アミノプロピルトリ
メトキシシランのごときアミン化合物;テトライソプロ
ピルチタネート、テトラブチルチタネートのようなチタ
ン化合物;アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミ
ニウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、
塩化アルミニウムのようなアルミニウム化合物;錫アセ
チルアセトナート、ジブチル錫オクチレート、ジブチル
錫ジラウレートのような錫化合物;コバルトオクチレー
ト、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセト
ナートのごとき含金属化合物類;リン酸、硝酸、フタル
酸、p−トルエンスルホン酸、トリクロル酢酸のごとき
酸性化合物類などが挙げられる。
Examples of the curing catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methylate,
Basic compounds such as sodium acetate, tetramethylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide; tributylamine, diazabicycloundecene, ethylenediamine, diethylenetriamine, ethanolamines, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2- Amine compounds such as aminoethyl) -aminopropyltrimethoxysilane; titanium compounds such as tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate; aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, aluminum perchlorate;
Aluminum compounds such as aluminum chloride; tin compounds such as tin acetylacetonate, dibutyltin octylate, dibutyltin dilaurate; metal-containing compounds such as cobalt octylate, cobalt acetylacetonate, iron acetylacetonate; phosphoric acid, nitric acid And acidic compounds such as phthalic acid, p-toluenesulfonic acid and trichloroacetic acid.

【0075】本発明の光触媒組成物において上記平均組
成式(1)で示されるシリコーン化合物(B)がSi−
H基を有する場合、多官能ビニル化合物のごとき架橋剤
を添加することが好ましい。該多官能ビニル化合物とし
ては、ビニル基を有しSi−H基と反応して硬化を促進
するものであれば何でもよいが、ビニル基、ヘキセニル
基などの炭素数2〜8の1価不飽和炭化水素基を有する
ビニルシリコーンが一般に用いられている。
In the photocatalyst composition of the present invention, the silicone compound (B) represented by the above average composition formula (1) contains Si-
When it has an H group, it is preferable to add a crosslinking agent such as a polyfunctional vinyl compound. The polyfunctional vinyl compound is not particularly limited as long as it has a vinyl group and reacts with the Si—H group to accelerate the curing, but is preferably a monovalent unsaturated unsaturated compound having 2 to 8 carbon atoms such as a vinyl group and a hexenyl group. Vinyl silicone having a hydrocarbon group is generally used.

【0076】また、Si−H基とビニルシリコーンの反
応を促進する目的で、触媒を添加しても良い。該触媒と
しては白金族触媒、すなわちルテニウム、ロジウム、パ
ラジウム、オスミウム、イリジウム、白金の化合物が適
しているが、特に白金の化合物とパラジウムの化合物が
好適である。白金の化合物としては、例えば塩化白金
(II)、テトラクロロ白金酸(II)、塩化白金(I
V)、ヘキサクロロ白金酸(IV)、ヘキサクロロ白金
(IV)アンモニウム、ヘキサクロロ白金(IV)カリ
ウム、水酸化白金(II)、二酸化白金(IV)、ジク
ロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)、白金−
ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−
オレフィン錯体や白金の単体、アルミナやシリカや活性
炭に固体白金を担持させたものが挙げられる。パラジウ
ムの化合物としては、例えば塩化パラジウム(II)、
塩化テトラアンミンパラジウム(II)酸アンモニウ
ム、酸化パラジウム(II)等が挙げられる。該白金族
触媒はSi−H基含有シリコーンとビニルシリコーンの
合計量に対し白金族金属の量で通常5〜1000ppm
の範囲内で使用されるが、これは反応性、経済性及び所
望の硬化速度等に応じて増減させることができる。ま
た、必要に応じて白金族触媒の活性を抑制し、ポットラ
イフを延長させる目的で、各種の有機窒素化合物、有機
リン化合物、アセチレン系化合物などの活性抑制剤を添
加してもよい。
A catalyst may be added for the purpose of accelerating the reaction between the Si—H group and the vinyl silicone. As the catalyst, a platinum group catalyst, that is, a compound of ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, and platinum is suitable, and a compound of platinum and a compound of palladium are particularly preferable. Platinum compounds include, for example, platinum (II) chloride, tetrachloroplatinic acid (II), platinum chloride (I
V), hexachloroplatinic acid (IV), ammonium hexachloroplatinum (IV), potassium hexachloroplatinum (IV), platinum (II) hydroxide, platinum (IV) dioxide, dichloro-dicyclopentadienyl-platinum (II), Platinum-
Vinylsiloxane complex, platinum-phosphine complex, platinum-
An olefin complex, a simple substance of platinum, alumina, silica, or activated carbon carrying solid platinum may be used. Examples of palladium compounds include palladium (II) chloride,
Ammonium tetraammonium palladium (II) chloride, palladium (II) oxide and the like can be mentioned. The platinum group catalyst is usually 5 to 1000 ppm in terms of platinum group metal based on the total amount of the Si-H group-containing silicone and vinyl silicone.
Which can be increased or decreased depending on the reactivity, economy, desired curing rate and the like. If necessary, an activity inhibitor such as various organic nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, and acetylene compounds may be added for the purpose of suppressing the activity of the platinum group catalyst and extending the pot life.

【0077】また、本発明の光触媒組成物には必要に応
じて樹脂を添加して使用することもできる。本発明の光
触媒組成物に使用できる樹脂としては、全ての合成樹脂
及び天然樹脂が使用可能であるが、水酸基及び/又は炭
素数1〜20のアルコキシ基、エノキシ基、炭素数1〜
20のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数1〜20の
オキシム基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる少な
くとも1つの加水分解性基と結合したケイ素原子を有す
るシリル基を重合体分子鎖の末端及び/又は側鎖に有す
る重合体が好ましく選択される。
Further, the photocatalyst composition of the present invention can be used by adding a resin, if necessary. As the resin that can be used in the photocatalyst composition of the present invention, all synthetic resins and natural resins can be used, and a hydroxyl group and / or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an enoxy group, and a 1 to 1 carbon atom are usable.
A silyl group having a silicon atom bonded to at least one hydrolyzable group selected from the group consisting of 20 acyloxy groups, aminoxy groups, oxime groups having 1 to 20 carbon atoms, and halogen atoms; Alternatively, a polymer having a side chain is preferably selected.

【0078】また、本発明の光触媒組成物には皮膜の硬
度や耐擦傷性、親水性を向上させる目的でシリカ、アル
ミナ、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、希土類酸化
物等の金属酸化物微粒子を粉末あるいはゾルの状態で添
加しても良い。ただしこれら金属酸化物微粒子は、本発
明におけるシリコーン化合物の様なバインダーとしての
能力はなく、光触媒と同様に皮膜の柔軟性(耐屈曲性、
耐衝撃性)を低下させる。よって、該金属酸化物の添加
量は、光触媒組成物から生成する皮膜中において光触媒
(A)と金属酸化物の総質量が50質量%以下とするこ
とが好ましい。
The photocatalyst composition of the present invention may contain powder of metal oxide such as silica, alumina, zirconium oxide, antimony oxide, rare earth oxide or the like for improving the hardness, scratch resistance and hydrophilicity of the film. It may be added in a sol state. However, these metal oxide fine particles do not have the ability as a binder like the silicone compound in the present invention, and the flexibility (flex resistance,
Impact resistance). Therefore, the addition amount of the metal oxide is preferably such that the total mass of the photocatalyst (A) and the metal oxide in the film formed from the photocatalyst composition is 50% by mass or less.

【0079】さらに、本発明の光触媒組成物には、必要
により通常塗料等に添加配合される成分、例えば顔料、
充填剤、分散剤、光安定剤、湿潤剤、増粘剤、レオロジ
ーコントロール剤、消泡剤、可塑剤、成膜助剤、防錆
剤、染料、防腐剤等がそれぞれの目的に応じて選択、組
み合わせて配合することができる。本発明の光触媒組成
物であって、光触媒(A)として表面エネルギーの非常
に小さい構造を有する変性剤化合物(C)で変性処理さ
れた変性光触媒(A1)を使用した光触媒組成物は、光
触媒の分布について自己傾斜性を有し易くなるため非常
に好ましい。ここで自己傾斜性とは、光触媒組成物から
皮膜や成形体を形成する際、その形成過程において光触
媒が皮膜や成形体が接する界面の性状(特に親水/疎水
性)に対応して、光触媒の濃度勾配を有する構造を自律
的に形成することを意味する。
The photocatalyst composition of the present invention may further contain, if necessary, components usually added to paints and the like, for example, pigments,
Fillers, dispersants, light stabilizers, wetting agents, thickeners, rheology control agents, defoamers, plasticizers, film-forming aids, rust inhibitors, dyes, preservatives, etc. are selected according to the respective purpose. , Can be combined and combined. The photocatalyst composition of the present invention, wherein the photocatalyst composition using the modified photocatalyst (A1) which has been modified with a modifier compound (C) having a structure with a very small surface energy as the photocatalyst (A), comprises: This is very preferable because the distribution tends to have a self-gradient. Here, the self-gradient means that when a film or a molded article is formed from the photocatalyst composition, the photocatalyst corresponds to the property (particularly hydrophilic / hydrophobic) of the interface where the film or the molded article comes into contact during the formation process, This means that a structure having a concentration gradient is formed autonomously.

【0080】この場合、接した面に性状(親水/疎水
性)の差があれば、その差に対応して濃度勾配が生じ、
また、当該皮膜や成形体の内部と該界面の間で濃度勾配
が生じる。例えば、上記自己傾斜性の光触媒組成物を基
材上に塗布成膜した場合、光触媒が基材でない他の界面
(例えば外気)と接する皮膜表面側に向かって多くなる
ような膜厚方向に濃度勾配を有した傾斜組成皮膜を得る
ことが可能となる。この際、全皮膜中の光触媒(A)含
有量(濃度)100に対し、他の界面と接する表面側近
傍の相対濃度が120以上で光触媒能力や親水化能力の
向上効果が認められる。該表面側近傍の相対濃度は好ま
しくは150以上、より好ましくは200以上であるこ
とがよい。また、基材側界面近傍の相対濃度が80以下
であると界面劣化防止効果が認められる。該基材側界面
近傍の相対濃度は好ましくは50以下、より好ましくは
10以下であると良い。
In this case, if there is a difference in properties (hydrophilic / hydrophobic) on the contact surfaces, a concentration gradient is generated corresponding to the difference,
Further, a concentration gradient is generated between the inside of the film or the molded body and the interface. For example, when the self-grading photocatalyst composition is applied on a substrate and formed into a film, the concentration of the photocatalyst increases in the thickness direction such that the amount of the photocatalyst increases toward the surface of the film in contact with an interface other than the substrate (eg, outside air). It becomes possible to obtain a gradient composition film having a gradient. At this time, when the relative concentration of the photocatalyst (A) content (concentration) of 100 in the entire film is 120 or more in the vicinity of the surface in contact with another interface, the effect of improving the photocatalytic ability and the hydrophilizing ability is recognized. The relative concentration near the surface side is preferably 150 or more, more preferably 200 or more. When the relative concentration in the vicinity of the interface on the base material side is 80 or less, the effect of preventing interface deterioration is recognized. The relative concentration in the vicinity of the substrate-side interface is preferably 50 or less, more preferably 10 or less.

【0081】本発明の光触媒組成物が自己傾斜性である
場合、該光触媒組成物において光触媒(A)とシリコー
ン化合物(B)の固形分質量比は、(A)/(B)=
0.1/99.9〜30/70、さらには(A)/
(B)=0.1/99.9〜20/80、さらには
(A)/(B)=0.1/99.9〜10/90、とい
う光触媒(A)の含有量が非常に少ない範囲においてさ
え、形成される皮膜又は成形体は、光照射による十分な
親水化能力(超親水化能力:20℃における水の接触角
が10゜以下)や光触媒活性を有する。また、この様に
光触媒(A)含有量が少ない皮膜や成形体はバインダー
としてのシリコーン化合物本来の物性を発現するため、
強度や柔軟性(耐屈曲性、耐衝撃性)等に優れたものと
なる。
When the photocatalyst composition of the present invention is self-gradient, the solid content ratio of the photocatalyst (A) to the silicone compound (B) in the photocatalyst composition is (A) / (B) =
0.1 / 99.9-30 / 70, and further (A) /
(B) = 0.1 / 99.9 to 20/80, and further, (A) / (B) = 0.1 / 99.9 to 10/90, and the content of the photocatalyst (A) is very small. Even in the range, the formed film or molded body has a sufficient hydrophilicity by light irradiation (superhydrophilicity: contact angle of water at 20 ° C. of 10 ° or less) and photocatalytic activity. In addition, since a film or a molded product having a small content of the photocatalyst (A) expresses the original physical properties of the silicone compound as a binder,
It is excellent in strength, flexibility (bending resistance, impact resistance), and the like.

【0082】本発明の光触媒組成物から形成される成形
体や、上記光触媒組成物から形成される皮膜を基材上に
形成して得られる機能性複合体は、光照射により疎水性
あるいは親水性及び/又は光触媒活性、さらには光電変
換機能を発現することが可能である。即ち、本発明の別
の態様においては、上記光触媒組成物から形成される成
形体や、上記光触媒組成物から形成される皮膜を基材上
に形成して得られる機能性複合体が提供される。
A molded article formed from the photocatalyst composition of the present invention and a functional complex obtained by forming a film formed from the above photocatalyst composition on a substrate are hydrophobic or hydrophilic by irradiation with light. And / or a photocatalytic activity, and a photoelectric conversion function can be exhibited. That is, in another aspect of the present invention, a molded article formed from the photocatalyst composition and a functional composite obtained by forming a film formed from the photocatalyst composition on a substrate are provided. .

【0083】本発明において上記光触媒組成物から機能
性複合体や成形体を得る方法としては、例えばそれらの
形態が塗料の場合は、基材に塗布し、乾燥した後、必要
に応じ熱処理等をする事により本発明の機能性複合体を
得ることができる。塗布方法としては、例えばスプレー
吹き付け法、フローコーティング法、ロールコート法、
刷毛塗り法、ディップコーティング法、スピンコーティ
ング法、スクリーン印刷法、キャスティング法、グラビ
ア印刷法、フレキソ印刷法等が挙げられる。また、例え
ば上記光触媒組成物の形態がペレットの場合は、押出し
成形、射出成形、プレス成形等によって本発明の成形体
を得ることができる。
In the present invention, as a method for obtaining a functional composite or a molded article from the photocatalyst composition, for example, when the form is a paint, it is applied to a substrate, dried, and then subjected to a heat treatment or the like as necessary. By doing so, the functional complex of the present invention can be obtained. As an application method, for example, a spraying method, a flow coating method, a roll coating method,
Examples include a brush coating method, a dip coating method, a spin coating method, a screen printing method, a casting method, a gravure printing method, and a flexographic printing method. Further, for example, when the form of the photocatalyst composition is a pellet, the molded article of the present invention can be obtained by extrusion molding, injection molding, press molding, or the like.

【0084】本発明の光触媒組成物から形成される上記
の機能性複合体や成形体は、それに含まれる光触媒
(A)のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギ
ーの光(該光触媒(A)が分光増感色素を有する変性光
触媒(A1)の場合は、該分光増感色素の吸収光を含む
光)を照射することにより疎水性あるいは親水性及び/
又は光触媒活性、さらには光電変換機能を示す。本発明
において、光触媒(A)のバンドギャップエネルギーよ
りも高いエネルギーの光(該光触媒(A)が分光増感色
素を有する変性光触媒(A1)の場合は、該分光増感色
素の吸収光を含む光)の光源としては、太陽光や室内照
明灯等の一般住宅環境下で得られる光の他、ブラックラ
イト、キセノンランプ、水銀灯等の光が利用できる。
The above-mentioned functional composite or molded article formed from the photocatalyst composition of the present invention is characterized by a light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (A) contained therein (the photocatalyst (A) is spectrally enhanced). In the case of the modified photocatalyst (A1) having a sensitizing dye, light or light containing absorption light of the spectral sensitizing dye) is irradiated to irradiate the compound with a hydrophobic or hydrophilic property.
Alternatively, it exhibits photocatalytic activity, and further has a photoelectric conversion function. In the present invention, light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst (A) (in the case where the photocatalyst (A) is a modified photocatalyst (A1) having a spectral sensitizing dye, contains light absorbed by the spectral sensitizing dye) As a light source for light, in addition to light obtained in a general residential environment such as sunlight and indoor lighting, light such as a black light, a xenon lamp, and a mercury lamp can be used.

【0085】本発明によって提供される上記成形体又は
機能性複合体であって、光照射により20℃における水
との接触角が60゜以下(好ましくは10゜以下)とな
った親水性のもの(親水性の成形体や親水性膜、及び該
親水性膜で被覆された基材等)は、鏡やガラスの曇りを
防止する防曇技術、さらには建築外装等に対する防汚技
術や帯電防止技術等への応用が可能であり、窓ガラス、
鏡、レンズ、ゴーグル、カバー、碍子、建材、建物外
装、建物内装、構造部材、乗物の外装及び塗装、機械装
置や物品の外装、各種表示装置、照明装置、住宅設備、
食器、台所用品、家庭用電気製品、磁気光記録メディア
や光記録メディア等の用途に使用することができる。
The above-mentioned molded article or functional composite provided by the present invention, which is hydrophilic and has a contact angle with water at 20 ° C. of 60 ° or less (preferably 10 ° or less) by light irradiation. (Hydrophilic molded articles and films, and substrates coated with the hydrophilic film, etc.) are antifogging technologies for preventing fogging of mirrors and glass, and antifouling technologies for building exteriors and antistatic. It can be applied to technology, etc.
Mirrors, lenses, goggles, covers, insulators, building materials, building exteriors, building interiors, structural members, vehicle exteriors and paints, machinery and articles exteriors, various display devices, lighting devices, housing equipment,
It can be used for applications such as tableware, kitchenware, household electrical appliances, magneto-optical recording media and optical recording media.

【0086】本発明によって提供される上記成形体又は
機能性複合体であって、光照射により20℃における水
との接触角が70゜以上(好ましくは90゜以上)とな
った疎水性のもの(疎水性の成形体や疎水性膜、及び該
疎水性膜で被覆された基材等)は、防滴性や水切れ性の
付与、水系汚れの付着防止や流水洗浄性を利用した防汚
技術、さらには着氷雪防止技術等への応用が可能であ
り、窓ガラス、風防ガラス、鏡、レンズ、ゴーグル、カ
バー、碍子、建材、建物外装、建物内装、構造部材、乗
物の外装及び塗装、機械装置や物品の外装、各種表示装
置、照明装置、住宅設備、食器、台所用品、家庭用電気
製品、屋根材、アンテナ、送電線、氷雪滑走具等の用途
に使用することができる。
The above-mentioned molded article or functional composite provided by the present invention, which is a hydrophobic substance whose contact angle with water at 20 ° C. becomes 70 ° or more (preferably 90 ° or more) by light irradiation. (A hydrophobic molded body or a hydrophobic film, and a substrate coated with the hydrophobic film, etc.) are provided with drip-proof property, water-repellent property, prevention of adhesion of water-based dirt, and antifouling technology utilizing running water washing property. In addition, it can be applied to icing and snow prevention technology, etc., window glass, windshield, mirror, lens, goggle, cover, insulator, building material, building exterior, building interior, structural member, vehicle exterior and painting, machinery It can be used for exteriors of devices and articles, various display devices, lighting devices, household equipment, tableware, kitchenware, household electrical appliances, roofing materials, antennas, power lines, snow and snow gliders, and the like.

【0087】本発明によって提供される上記成形体又は
機能性複合体であって光電変換機能を有するものは、太
陽エネルギーの電力変換等の機能を発現することが可能
であり、(湿式)太陽電池等に用いる光半導体電極等の
用途に使用することができる。また、本発明によって提
供される、光照射によって水との濡れ性が変化(疎水性
から親水性への変化、あるいは親水性から疎水性への変
化)する部材は、オフセット印刷用原版等への応用に対
し非常に有用である。
The above-mentioned molded article or functional composite provided by the present invention and having a photoelectric conversion function can exhibit functions such as power conversion of solar energy, and can be used as a (wet) solar cell. It can be used for applications such as an optical semiconductor electrode used for the purpose. Further, the member provided by the present invention, whose wettability with water changes (changes from hydrophobic to hydrophilic, or changes from hydrophilic to hydrophobic) by light irradiation, can be applied to an original plate for offset printing or the like. Very useful for applications.

【0088】本発明を実施例に基づいて説明する。尚、
以下の実施例、参考例及び比較例中に用いられる各種物
性の測定方法は、下記の通りである。 [1]粒径分布及び数平均粒子径 粒径分布及び数平均粒子径は、試料中の固形分の含有量
が1〜20質量%となるよう適宜溶媒を加えて希釈し、
湿式粒度分析計(日機装(株)製 マイクロトラック
UPA−9230)を使用して測定した。
The present invention will be described based on examples. still,
The methods for measuring various physical properties used in the following Examples, Reference Examples and Comparative Examples are as follows. [1] Particle size distribution and number average particle size The particle size distribution and number average particle size are diluted by appropriately adding a solvent so that the solid content in the sample is 1 to 20% by mass,
Wet particle size analyzer (Micro Truck manufactured by Nikkiso Co., Ltd.)
UPA-9230).

【0089】[2]質量平均分子量 ゲルパーミィテーションクロマトグラフィーを用いて、
ポリスチレン標品検量線より求めた。 (使用機器) ・装置:東ソー(株)HLC−8020 LC−3A ・カラム:東ソー(株) TSKgel G−1000 HXL TSKgel G−2000 HXL TSKgel G−4000 HXL ・データ処理:島津製作所(株)CR−4A ・キャリヤー フェニル基含有シリコーン化合物の測定:テトラヒドロ
フラン フェニル基を含有しないシリコーン化合物の測定:トル
エン
[2] Mass average molecular weight Using gel permeation chromatography,
It was determined from a standard polystyrene calibration curve. (Equipment used) ・ Apparatus: Tosoh Corporation HLC-8020 LC-3A ・ Column: Tosoh Corporation TSKgel G-1000 HXL TSKgel G-2000 HXL TSKgel G-4000 HXL ・ Data processing: Shimadzu Corporation CR- 4A Carrier Measurement of phenyl group-containing silicone compound: Measurement of tetrahydrofuran phenyl group-free silicone compound: toluene

【0090】[3]赤外線吸収スペクトル 赤外線吸収スペクトルは、JASCO FT/IR−4
10で測定した。 [4]29Si核磁気共鳴の測定29 Si核磁気共鳴は、JNM−LA400(日本電子
(株)製)で測定した。 [5]塗膜硬度 塗膜の硬度は、JIS−K5400に準じ、鉛筆硬度
(塗膜のすり傷)として求めた。 [6]耐屈曲性 塗膜の耐屈曲性は、JIS−K5400に準じ評価し
た。 [7]耐衝撃性 塗膜の耐屈曲性は、JIS−K5400に準じ、デュポ
ン式(500g×50cm)で評価した。
[3] Infrared absorption spectrum The infrared absorption spectrum was measured by JASCO FT / IR-4.
Measured at 10. [4] 29 Si measuring 29 Si nuclear magnetic resonance of nuclear magnetic resonance was measured with JNM-LA400 (manufactured by JEOL Ltd.). [5] Coating film hardness The hardness of the coating film was determined as pencil hardness (scratch of the coating film) according to JIS-K5400. [6] Flex resistance The flex resistance of the coating film was evaluated according to JIS-K5400. [7] Impact resistance The flex resistance of the coating film was evaluated by the Dupont method (500 g × 50 cm) according to JIS-K5400.

【0091】[8]塗膜表面に対する水の接触角 塗膜の表面に脱イオン水の滴を乗せ、20℃で1分間放
置した後、接触角計(協和界面科学(株)製 CA−X
150)を用いて接触角を測定した。塗膜に対する水の
接触角が小さいほど、塗膜表面は親水性が高い。 [9]紫外線照射 塗膜の表面に、ブラックライト(東芝ライテック(株)
製 FL20S BLB)の光を照射した。なおこのと
き、光の強度は紫外線強度計(トプコン(株)製 UV
R−2(UD−36型受光部:波長310〜400nm
の光に対応))を用いて測定した紫外線強度が1mW/
cm2となるよう調整した。 [10]紫外線をほとんど含まない光の照射 塗膜の表面に、蛍光ランプ(東芝ライテック(株)製
FL20S・N−SDL NU型)からの、紫外線をほ
とんど含まない光を照射した。なおこのとき、紫外線を
ほとんど含まない光の強度を、上記UVR−2型紫外線
強度計を用いて測定した可視光強度(受光部として、上
記UD−40型受光部を使用)が0.3mW/cm2
なるよう調整した。
[8] Contact Angle of Water on Coating Surface A drop of deionized water was placed on the surface of the coating film and allowed to stand at 20 ° C. for 1 minute.
150) was used to measure the contact angle. The smaller the contact angle of water with the coating film, the higher the hydrophilicity of the coating film surface. [9] UV irradiation A black light (Toshiba Lighting & Technology Corp.)
FL20S BLB). At this time, the light intensity was measured with an ultraviolet intensity meter (UV, manufactured by Topcon Corporation).
R-2 (UD-36 type light receiving unit: wavelength 310 to 400 nm)
Ultraviolet light intensity measured using
cm 2 . [10] Irradiation with light containing almost no ultraviolet light A fluorescent lamp (manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp.)
FL20S-N-SDL NU type). At this time, the visible light intensity (using the UD-40 type light receiving unit as the light receiving unit) measured with the UVR-2 type ultraviolet intensity meter was 0.3 mW / cm 2 .

【0092】[11]塗膜の光触媒活性 塗膜表面にメチレンブルーの5質量%エタノール溶液を
塗布した後、上記ブラックライトの光を3日間照射し
た。なおこのとき、上記UVR−2型紫外線強度計(受
光部として、上記UD−36型受光部を使用)を用いて
測定した紫外線強度が1mW/cm2となるよう調整し
た。その後、光触媒の作用によるメチレンブルーの分解
の程度(塗膜表面の退色の程度に基づき、目視で評価)
に基づき、光触媒の活性を以下の3段階で評価した。 ◎:メチレンブルーが完全に分解。 △:メチレンブルーの青色がわずかに残る。 ×:メチレンブルーの分解はほとんど観測されず。
[11] Photocatalytic activity of the coating film The coating film surface was coated with a 5% by mass ethanol solution of methylene blue, and then irradiated with the above-mentioned black light for 3 days. At this time, the UV intensity was adjusted to be 1 mW / cm 2 using the UVR-2 type UV intensity meter (using the UD-36 type light receiving unit as the light receiving unit). After that, the degree of decomposition of methylene blue by the action of the photocatalyst (evaluated visually based on the degree of fading of the coating film surface)
The activity of the photocatalyst was evaluated on the basis of the following three grades. A: Methylene blue was completely decomposed. Δ: Methylene blue blue slightly remained. X: Almost no decomposition of methylene blue was observed.

【0093】[12]塗膜の耐候性(光沢保持率) 塗膜の耐候性はデューパネル光コントロールウェザーメ
ーター(スガ試験器(株)製、DPWL−5R)を使用
して曝露試験(照射:60℃4時間、暗黒・湿潤:40
℃4時間)を行った。曝露1000時間後の60°−6
0°鏡面反射率を最終的な光沢値として測定し、これを
初期光沢値で割り、この値を光沢保持率として算出し
た。 [13]光触媒の傾斜構造の評価 部材における光触媒の傾斜構造の評価は、部材の断面の
超薄切片を作成し、TEM観察(日立(株)製、HF2
000)により実施した。
[12] Weather Resistance (Gloss Retention) of Coating Film The weather resistance of the coating film was measured using an exposure test (irradiation: DPWL-5R, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). 4 hours at 60 ° C, dark / wet: 40
C. for 4 hours). 60 ° -6 hours after 1000 hours of exposure
The 0 ° specular reflectance was measured as the final gloss value, divided by the initial gloss value, and this value was calculated as the gloss retention. [13] Evaluation of inclined structure of photocatalyst To evaluate the inclined structure of photocatalyst in a member, an ultra-thin section of a member was prepared, and TEM observation (HF2, manufactured by Hitachi, Ltd.)
000).

【0094】[0094]

【参考例1】シリコーン化合物(イ)の合成。 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にい
れたジオキサン78gにフェニルトリクロロシラン2
6.0gを添加した後、室温にて約10分間撹拌した。
これに水3.2gとジオキサン12.9gからなる混合
液を、反応液を10〜15℃に保ちながら約30分かけ
て滴下した後、さらに10〜15℃で約30分撹拌し、
続いて反応液を60℃に昇温させ3時間撹拌した。得ら
れた反応液を25〜30℃に降温させ、392gのトル
エンを約30分かけて滴下した後、再度反応液を60℃
に昇温させ2時間撹拌した。
Reference Example 1 Synthesis of silicone compound (a). In a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, 78 g of dioxane was added to phenyltrichlorosilane 2.
After adding 6.0 g, the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes.
To this, a mixed solution composed of 3.2 g of water and 12.9 g of dioxane was added dropwise over about 30 minutes while maintaining the reaction solution at 10 to 15 ° C., and further stirred at 10 to 15 ° C. for about 30 minutes,
Subsequently, the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 3 hours. The temperature of the obtained reaction solution was lowered to 25 to 30 ° C, and 392 g of toluene was added dropwise over about 30 minutes.
And stirred for 2 hours.

【0095】得られた反応液を10〜15℃に降温さ
せ、メタノール19.2gを約30分かけて添加した。
その後さらに25〜30℃にて約2時間撹拌を続行し、
続いて反応液を60℃に昇温させ2時間撹拌した。得ら
れた反応液から60℃で減圧下に溶媒を溜去することに
より質量平均分子量3600のラダ−骨格を有するシリ
コーン化合物(イ)を得た。(得られたシリコーン化合
物(イ)には、IRスペクトルにおけるラダ−骨格の伸
縮振動に由来する吸収(1130cm-1及び1037c
-1)が観測された。)
The resulting reaction solution was cooled to 10 to 15 ° C., and 19.2 g of methanol was added over about 30 minutes.
Thereafter, stirring was continued at 25 to 30 ° C. for about 2 hours,
Subsequently, the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 2 hours. The solvent was distilled off from the resulting reaction solution at 60 ° C. under reduced pressure to obtain a silicone compound (a) having a ladder skeleton having a mass average molecular weight of 3,600. (The obtained silicone compound (a) has absorptions (1130 cm -1 and 1037 c) derived from the stretching vibration of the ladder skeleton in the IR spectrum.
m -1 ) was observed. )

【0096】[0096]

【参考例2】シリコーン化合物(ロ)の合成。 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にい
れたジオキサン235gにメチルトリクロロシラン2
5.6g、フェニルトリクロロシラン15.5gを添加
した後、室温にて約10分間撹拌した。これに水6.6
gとジオキサン26.4gからなる混合液を、反応液を
10〜15℃に保ちながら約30分かけて滴下した後、
さらに10〜15℃で約30分撹拌し、続いて反応液を
60℃に昇温させ3時間撹拌した。得られた反応液を2
5〜30℃に降温させ、235gのトルエンを約30分
かけて滴下した後、再度反応液を60℃に昇温させ2時
間撹拌した。
Reference Example 2 Synthesis of silicone compound (b). Methyltrichlorosilane 2 was added to 235 g of dioxane in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer.
After adding 5.6 g and 15.5 g of phenyltrichlorosilane, the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes. Add water 6.6
g and 26.4 g of dioxane were added dropwise over about 30 minutes while maintaining the reaction solution at 10 to 15 ° C.
The mixture was further stirred at 10 to 15 ° C. for about 30 minutes, and then heated to 60 ° C. and stirred for 3 hours. The obtained reaction solution was
After the temperature was lowered to 5 to 30 ° C and 235 g of toluene was added dropwise over about 30 minutes, the reaction solution was heated to 60 ° C again and stirred for 2 hours.

【0097】得られた反応液を10〜15℃に降温させ
メタノール42.8gを約30分かけて添加した。その
後さらに25〜30℃にて約2時間撹拌を続行し、続い
て反応液を60℃に昇温させ2時間撹拌した。得られた
反応液から60℃で減圧下に溶媒を溜去することにより
質量平均分子量が3100で、ラダ−骨格を有するシリ
コーン化合物(ロ)を得た。(得られたシリコーン化合
物(ロ)には、IRスペクトルにおけるラダ−骨格の伸
縮振動に由来する吸収(1134cm-1及び1044c
-1)が観測された。) 得られたシリコーン化合物(ロ)の構造を29Si核磁気
共鳴によって測定したところ、フェニル基と結合したシ
ラン(Ph−Si)とメチル基と結合したシラン(Me
−Si)を示すシグナルが確認され、その比率はPh−
Si:Me−Si=31:69であった。
The resulting reaction solution was cooled to 10 to 15 ° C., and 42.8 g of methanol was added over about 30 minutes. Thereafter, stirring was further continued at 25 to 30 ° C. for about 2 hours, and then the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 2 hours. The solvent was distilled off from the resulting reaction solution at 60 ° C. under reduced pressure to obtain a silicone compound (b) having a mass average molecular weight of 3100 and having a ladder skeleton. (The obtained silicone compound (b) has absorptions (1134 cm -1 and 1044 c) derived from the stretching vibration of the ladder skeleton in the IR spectrum.
m -1 ) was observed. When the structure of the obtained silicone compound (b) was measured by 29 Si nuclear magnetic resonance, silane (Ph-Si) bonded to a phenyl group and silane (Me
-Si), and the ratio was Ph-
Si: Me-Si = 31: 69.

【0098】[0098]

【参考例3】シリコーン化合物(ハ)の合成。 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にい
れたジオキサン118.0gにフェニルトリクロロシラ
ン26.0gを添加した後、室温にて約10分間撹拌し
た。これに水3.2gとジオキサン12.9gからなる
混合液を、反応液を10〜15℃に保ちながら約30分
かけて滴下した後、さらに10〜15℃で約30分撹拌
し、続いて反応液を60℃に昇温させ3時間撹拌した。
得られた反応液を25〜30℃に降温させ、353gの
トルエンを約30分かけて滴下した後、再度反応液を6
0℃に昇温させ2時間撹拌した。
Reference Example 3 Synthesis of silicone compound (c). After adding 26.0 g of phenyltrichlorosilane to 118.0 g of dioxane in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes. A mixture of 3.2 g of water and 12.9 g of dioxane was added dropwise thereto over about 30 minutes while maintaining the reaction solution at 10 to 15 ° C., and the mixture was further stirred at 10 to 15 ° C. for about 30 minutes. The reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 3 hours.
The obtained reaction solution was cooled to 25 to 30 ° C., and 353 g of toluene was added dropwise over about 30 minutes.
The temperature was raised to 0 ° C. and the mixture was stirred for 2 hours.

【0099】得られた反応液を10〜15℃に降温させ
ジメチルクロロシラン25.1gを添加した後、さらに
温度を10〜15℃に保ちながら水1.1gとジオキサ
ン4.3gからなる混合液を約30分かけて添加した。
続いて25〜30℃にて約2時間撹拌を続行し、その後
さらに反応液の温度を60℃に昇温させ3時間撹拌し
た。得られた反応液から約60℃で減圧下に溶媒を溜去
することにより質量平均分子量1200のSi−H基を
有するシリコーン化合物(ハ)を得た。(Si−H基に
由来する吸収(2140cm-1)が観測された。)
After the temperature of the obtained reaction solution was lowered to 10 to 15 ° C. and 25.1 g of dimethylchlorosilane was added, a mixed solution of 1.1 g of water and 4.3 g of dioxane was further added while maintaining the temperature at 10 to 15 ° C. The addition took about 30 minutes.
Subsequently, stirring was continued at 25 to 30 ° C. for about 2 hours, and then the temperature of the reaction solution was further increased to 60 ° C. and stirred for 3 hours. The solvent was distilled off from the obtained reaction solution at about 60 ° C. under reduced pressure to obtain a silicone compound having a Si—H group having a mass average molecular weight of 1200 (C). (Absorption (2140 cm -1 ) derived from the Si-H group was observed.)

【0100】[0100]

【参考例4】フェニル基を有さないシリコーン化合物
(ニ)の合成。 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にい
れたジオキサン470gにメチルトリクロロシラン2
5.8gを添加した後、室温にて約10分間撹拌した。
これに水4.7gとジオキサン18.7gからなる混合
液を、反応液を10〜15℃に保ちながら約30分かけ
て滴下した後、さらに10〜15℃で約30分撹拌し、
続いて反応液の温度を60℃に昇温させ3時間撹拌し
た。
Reference Example 4 Synthesis of a silicone compound (d) having no phenyl group. Methyltrichlorosilane 2 was added to 470 g of dioxane in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer.
After adding 5.8 g, the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes.
A mixture of 4.7 g of water and 18.7 g of dioxane was added dropwise thereto over about 30 minutes while maintaining the reaction solution at 10 to 15 ° C., and the mixture was further stirred at 10 to 15 ° C. for about 30 minutes.
Subsequently, the temperature of the reaction solution was raised to 60 ° C. and stirred for 3 hours.

【0101】得られた反応液を10〜15℃に降温させ
メタノール30.2gを約30分かけて添加した。続い
て25〜30℃にて約2時間撹拌を続行し、その後さら
に反応液の温度を60℃に昇温させ3時間撹拌した。得
られた反応液から約60℃で減圧下に溶媒を溜去するこ
とにより質量平均分子量2800のフェニル基を有さな
いシリコーン化合物(ニ)を得た。
The temperature of the obtained reaction solution was lowered to 10 to 15 ° C., and 30.2 g of methanol was added over about 30 minutes. Subsequently, stirring was continued at 25 to 30 ° C. for about 2 hours, and then the temperature of the reaction solution was further increased to 60 ° C. and stirred for 3 hours. The solvent was distilled off from the obtained reaction solution at about 60 ° C. under reduced pressure to obtain a silicone compound (d) having a weight average molecular weight of 2,800 and having no phenyl group.

【0102】[0102]

【参考例5】フェニル基を有さないシリコーン化合物
(ホ)の合成。 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器に入
れたメタノール300gにメチルトリメトキシシラン1
36g(1モル)、及びジメチルジメトキシシラン12
0g(1モル)を添加した後、室温にて約10分間撹拌
した。これに氷冷下で、0.05Nの塩酸水溶液12.
6g(0.7モル)とメタノール63gからなる混合液
を、約40分かけて滴下し、加水分解を行った。滴下終
了後、さらに10℃以下で約20分、室温で6時間それ
ぞれ撹拌した。
Reference Example 5 Synthesis of a silicone compound (e) having no phenyl group. Methyltrimethoxysilane 1 was added to 300 g of methanol in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer.
36 g (1 mol) and dimethyldimethoxysilane 12
After adding 0 g (1 mol), the mixture was stirred at room temperature for about 10 minutes. 11. A 0.05N aqueous hydrochloric acid solution was added thereto under ice cooling.
A mixed solution consisting of 6 g (0.7 mol) and 63 g of methanol was added dropwise over about 40 minutes to carry out hydrolysis. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred for about 20 minutes at 10 ° C. or lower and for 6 hours at room temperature.

【0103】その後、得られた反応液から60℃で減圧
下に溶媒を溜去することにより質量平均分子量3600
のフェニル基を有さないシリコーン化合物(ホ)を得
た。得られたシリコーン化合物(ホ)の構造を29Si核
磁気共鳴によって測定したところ、T構造とD構造を示
すシグナルが確認され、その比率はT構造:D構造=
1:1であった。
Thereafter, the solvent was distilled off from the obtained reaction solution at 60 ° C. under reduced pressure to give a mass average molecular weight of 3600.
A silicone compound (e) having no phenyl group was obtained. When the structure of the obtained silicone compound (e) was measured by 29 Si nuclear magnetic resonance, signals indicating a T structure and a D structure were confirmed, and the ratio was T structure: D structure =
1: 1.

【0104】[0104]

【参考例6】変性光触媒(変性酸化チタンオルガノゾル
(ヘ))の合成 還流冷却器、温度計および撹拌装置を有する反応器にい
れた酸化チタンオルガノゾル(商品名:TKS−25
1、テイカ(株)製、分散媒:トルエンとイソプロパノ
ールの混合溶媒、TiO2濃度20質量%、平均結晶子
径6nm(カタログ値)のもの)40gにKF9901
(メチルハイドロジェンシロキサン−ジメチルシロキサ
ンコポリマーの商品名、Si−H基含量7.14mmo
l/g、質量平均分子量3900、信越化学工業(株)
製、)8gを40℃にて約5分かけて添加し、さらに4
0℃で48時間撹拌を続けることにより、非常に分散性
の良好な変性酸化チタンオルガノゾル(ヘ)を得た。こ
の時、KF9901の反応に伴い生成した水素ガス量は
23℃において980mlであった。
Reference Example 6 Synthesis of Modified Photocatalyst (Modified Titanium Oxide Organosol (F)) Titanium oxide organosol (trade name: TKS-25) placed in a reactor having a reflux condenser, a thermometer and a stirrer
1, manufactured by Teica Co., Ltd., dispersion medium: mixed solvent of toluene and isopropanol, TiO2 concentration of 20% by mass, average crystallite diameter of 6 nm (catalog value) 40 g of KF9901
(Methyl hydrogen siloxane-dimethyl siloxane copolymer trade name, Si-H group content 7.14 mmol
1 / g, mass average molecular weight 3900, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
8 g at about 40 ° C. over about 5 minutes.
By continuing stirring at 0 ° C. for 48 hours, a modified titanium oxide organosol (F) having very good dispersibility was obtained. At this time, the amount of hydrogen gas generated by the reaction of KF9901 was 980 ml at 23 ° C.

【0105】また、得られた変性酸化チタンオルガノゾ
ル(ヘ)をKBr板上にコーティングしIRスペクトル
を測定したところ、Ti−OH基の吸収(3630〜3
640cm-1)の消失が観測された。また、得られた変
性酸化チタンオルガノゾル(ヘ)の粒径分布は単一分散
(数平均粒子径は21nm)であり、さらに変性処理前
の酸化チタンオルガノゾルの単一分散(数平均粒子径は
12nm)の粒径分布が完全に消失していた。
Further, the obtained modified titanium oxide organosol (f) was coated on a KBr plate, and the IR spectrum was measured. As a result, the absorption of Ti—OH group (3630 to 3630) was measured.
640 cm -1 ) was observed. The particle size distribution of the resulting modified titanium oxide organosol (f) is monodisperse (number-average particle size is 21 nm), and the monodispersion (number-average particle size) of the titanium oxide organosol before the modification treatment is Is 12 nm), and the particle size distribution has completely disappeared.

【0106】[0106]

【参考例7】変性光触媒(変性酸化チタンオルガノゾル
(ト))の合成 還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器
に、4−アミノフルオレセイン1gとジオキサン140
gを入れ、これにアリルイソシアネート0.24gをジ
オキサン2.3gに溶解した溶液を、撹拌下30℃にて
約30分かけて添加し、さらに30℃で5時間撹拌し
た。得られた反応混合物に、KF9901(参考例6で
使用したものと同じ)50gを添加し、撹拌下80℃に
昇温した。これにユニオックスMUS−8(ポリオキシ
エチレンアリルメチルエーテルの商品名、質量平均分子
量800(カタログ記載値)、日本油脂(株)製)13
7gと塩化白金(IV)酸六水和物の5質量%イソプロ
パノール溶液0.5gをジオキサン137gに溶解した
溶液を80℃にて約1時間かけて添加し、さらに80℃
にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却した。
Reference Example 7 Synthesis of Modified Photocatalyst (Modified Titanium Oxide Organosol (G)) In a reactor equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, 1 g of 4-aminofluorescein and 140 g of dioxane were added.
Then, a solution prepared by dissolving 0.24 g of allyl isocyanate in 2.3 g of dioxane was added thereto over 30 minutes at 30 ° C. with stirring, and further stirred at 30 ° C. for 5 hours. 50 g of KF9901 (same as that used in Reference Example 6) was added to the obtained reaction mixture, and the temperature was raised to 80 ° C. with stirring. To this, UNIOX MUS-8 (trade name of polyoxyethylene allyl methyl ether, mass average molecular weight 800 (listed value in catalog), manufactured by NOF Corporation) 13
A solution prepared by dissolving 7 g and 0.5 g of a 5% by mass isopropanol solution of chloroplatinic acid (IV) hexahydrate in 137 g of dioxane was added at 80 ° C. over about 1 hour.
After stirring for 2 hours, the mixture was cooled to room temperature.

【0107】還流冷却器、温度計および撹拌装置を取り
つけた反応器に、TKS251(参考例6で使用したも
のと同じ)60gを入れ、これに上記反応溶液12.5
gを50℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに5
0℃にて12時間撹拌を続けることにより、非常に分散
性の良好な、蛍光色を有する変性酸化チタンオルガノゾ
ル(ト)を得た。この時、反応に伴い水素ガスが発生
し、その体積は23℃において120mlであった。
In a reactor equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, 60 g of TKS251 (same as that used in Reference Example 6) was placed, and 12.5 g of the above reaction solution was added thereto.
g at 50 ° C. with stirring over about 30 minutes.
By continuing stirring at 0 ° C. for 12 hours, a modified titanium oxide organosol (G) having a very good dispersibility and having a fluorescent color was obtained. At this time, hydrogen gas was generated with the reaction, and the volume was 120 ml at 23 ° C.

【0108】[0108]

【参考例8】変性光触媒(変性酸化チタンオルガノゾル
(チ))の合成 還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器
に、TKS251(参考例6で使用したものと同じ)5
0gを入れ、これにAciplex−SS950(スル
ホン酸基を有するフッ素樹脂の5質量%エタノール−水
(質量比1:1)溶液の商品名、旭化成(株)製)5g
を30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30
℃にて8時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の
良好な、変性酸化チタンオルガノゾル(チ)を得た。
Reference Example 8 Synthesis of Modified Photocatalyst (Modified Titanium Oxide Organosol (H)) TKS251 (same as that used in Reference Example 6) was placed in a reactor equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer.
5 g of Aciplex-SS950 (trade name of a 5% by mass solution of a fluororesin having a sulfonic acid group in ethanol-water (mass ratio 1: 1), manufactured by Asahi Kasei Corporation)
At 30 ° C. with stirring over about 30 minutes.
By continuing stirring at 8 ° C. for 8 hours, a modified titanium oxide organosol (h) having very good dispersibility was obtained.

【0109】得られた変性酸化チタンオルガノゾル
(チ)の粒径分布は単一分散(数平均粒子径は54n
m)であり、さらに変性処理前の酸化チタンオルガノゾ
ルの単一分散(数平均粒子径は12nm)の粒径分布が
完全に消失していた。
The particle size distribution of the resulting modified titanium oxide organosol (h) is monodisperse (number average particle size is 54 n
m), and the particle size distribution of the monodispersed titanium oxide organosol before modification (number average particle diameter: 12 nm) was completely disappeared.

【0110】[0110]

【実施例1】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)の20質量%トルエン溶液10gにTKS251
(参考例6で使用したものと同じ)2.5gを室温で撹
拌下において添加した後、ブチルセロソルブを撹拌下に
4g添加し、さらに硬化触媒(DX175/信越化学
(株)製)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組成物
(リ)を得た。
Example 1 TKS251 was added to 10 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (a) synthesized in Reference Example 1.
2.5 g (same as that used in Reference Example 6) was added under stirring at room temperature, 4 g of butyl cellosolve was added under stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (DX175 / Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was further added. It was added under stirring to obtain a photocatalyst composition (R).

【0111】得られた光触媒組成物(リ)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
週間乾燥し、透明で平滑な塗膜を有する鋼板を得た。得
られた塗膜を有する鋼板の鉛筆硬度は2Hであり、水と
の接触角は90゜であった。また、耐屈曲性試験、耐衝
撃性試験は共に合格した。得られた塗膜を有する鋼板に
紫外線(ブラックライト)を3日間照射した後の水の接
触角は54゜であったが、1週間照射した後の水の接触
角は0゜となった。光触媒活性評価の結果は良好(△)
であった。
The obtained photocatalyst composition (i) was spray-coated on a steel plate so as to have a thickness of 2 μm.
After drying for a week, a steel sheet having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the steel sheet having the obtained coating film was 2H, and the contact angle with water was 90 °. Further, both the bending resistance test and the impact resistance test passed. The contact angle of water after irradiating the obtained steel sheet with the coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 54 °, but the contact angle of water after 1 week of irradiation was 0 °. Good photocatalytic activity evaluation (良好)
Met.

【0112】[0112]

【実施例2】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)の20質量%トルエン溶液10gにTKS251
(参考例6で使用したものと同じ)2.5gを室温で撹
拌下において添加した後、ブチルセロソルブを撹拌下に
4g添加し、さらに硬化触媒(ジラウリル酸ジブチル
錫)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組成物(ヌ)を
得た。
Example 2 TKS251 was added to 10 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (a) synthesized in Reference Example 1.
2.5 g (same as used in Reference Example 6) was added at room temperature with stirring, 4 g of butyl cellosolve was added with stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was added with stirring. Thus, a photocatalyst composition (nu) was obtained.

【0113】得られた光触媒組成物(ヌ)をガラス板上
に膜厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温
で1時間乾燥し、150℃で30分加熱する事により、
透明で平滑な塗膜を有するガラス板を得た。得られた塗
膜を有するガラス板の鉛筆硬度は4Hであり、水との接
触角は92゜であった。得られた塗膜を有するガラス板
に紫外線(ブラックライト)を3日間照射した後の水の
接触角は38゜であったが、1週間照射した後の水の接
触角は0゜となった。光触媒活性評価の結果は良好
(△)であった。
The obtained photocatalyst composition (N) was spray-coated on a glass plate so as to have a thickness of 2 μm, dried at room temperature for 1 hour and heated at 150 ° C. for 30 minutes.
A glass plate having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the glass plate having the obtained coating film was 4H, and the contact angle with water was 92 °. The contact angle of water after irradiating the glass plate with the obtained coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 38 °, but the contact angle of water after 1 week of irradiation was 0 °. . The result of evaluation of the photocatalytic activity was good (△).

【0114】[0114]

【実施例3】参考例2で合成したシリコーン化合物
(ロ)の20質量%トルエン溶液8.75gにTKS2
51(参考例6で使用したものと同じ)3.75gを室
温で撹拌下において添加した後、ブチルセロソルブを撹
拌下に4g添加し、さらに硬化触媒(DX175/信越
化学(株)製)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組成
物(ル)を得た。
Example 3 TKS2 was added to 8.75 g of a 20 mass% toluene solution of the silicone compound (b) synthesized in Reference Example 2.
After adding 3.75 g of 51 (the same as that used in Reference Example 6) at room temperature with stirring, 4 g of butyl cellosolve was added with stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (DX175 / Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Was added with stirring to obtain a photocatalyst composition (R).

【0115】得られた光触媒組成物(ル)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
週間乾燥し、透明で平滑な塗膜を有する鋼板を得た。得
られた塗膜を有する鋼板の鉛筆硬度は3Hであり、水と
の接触角は87゜であった。また、耐屈曲性試験、耐衝
撃性試験は共に合格した。得られた塗膜を有する鋼板に
紫外線(ブラックライト)を3日間照射した後の水の接
触角は62゜であったが、1週間照射した後の水の接触
角は10゜となった。光触媒活性評価の結果は良好
(△)であった。
The obtained photocatalyst composition (ル) was spray-coated on a steel sheet so as to have a film thickness of 2 μm, and then was applied at room temperature.
After drying for a week, a steel sheet having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the steel sheet having the obtained coating film was 3H, and the contact angle with water was 87 °. Further, both the bending resistance test and the impact resistance test passed. The contact angle of water after irradiating the obtained steel sheet having the coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 62 °, but the contact angle of water after 1 week of irradiation was 10 °. The result of evaluation of the photocatalytic activity was good (△).

【0116】[0116]

【実施例4】参考例3で合成したシリコーン化合物
(ハ)の20質量%トルエン溶液8.75gにTKS2
51(参考例6で使用したものと同じ)3.75gを室
温で撹拌下において添加した後、架橋剤として末端ビニ
ルポリジメチルシロキサン(商品名:DMS−V00、
チッソ(株)製)0.2gとジクロロ−ジシクロペンタ
ジエニル−白金(II)の0.25%ジオキサン溶液
0.4gを室温で撹拌下において添加し、さらにブチル
セロソルブを撹拌下に4g添加して光触媒組成物(オ)
を得た。
Example 4 TKS2 was added to 8.75 g of a 20 mass% toluene solution of the silicone compound (c) synthesized in Reference Example 3.
After adding 3.75 g of 51 (same as that used in Reference Example 6) at room temperature under stirring, vinyl-terminated polydimethylsiloxane (trade name: DMS-V00,
0.2 g of Chisso Corporation and 0.4 g of a 0.25% dioxane solution of dichloro-dicyclopentadienyl-platinum (II) were added at room temperature with stirring, and 4 g of butyl cellosolve was added with stirring. Photocatalyst composition (e)
I got

【0117】得られた光触媒組成物(オ)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
時間乾燥し、140℃で30分加熱する事により、透明
で平滑な塗膜を有する鋼板を得た。得られた塗膜を有す
る鋼板の鉛筆硬度は2Hであり、水との接触角は94゜
であった。また、耐屈曲性試験、耐衝撃性試験は共に合
格した。得られた塗膜を有する鋼板に紫外線(ブラック
ライト)を3日間照射した後の水の接触角は20゜であ
ったが、1週間照射した後の水の接触角は6゜となっ
た。光触媒活性評価の結果は非常に良好(◎)であっ
た。
The obtained photocatalyst composition (e) was spray-coated on a steel sheet so as to have a film thickness of 2 μm, and then was applied at room temperature.
After drying for an hour and heating at 140 ° C. for 30 minutes, a steel sheet having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the steel sheet having the obtained coating film was 2H, and the contact angle with water was 94 °. Further, both the bending resistance test and the impact resistance test passed. The contact angle of water after irradiating the obtained steel sheet with the coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 20 °, but the contact angle of water after 1 week of irradiation was 6 °. The result of the evaluation of the photocatalytic activity was very good (◎).

【0118】[0118]

【実施例5】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)の20質量%トルエン溶液11.25gに参考例
6で合成した変性酸化チタンオルガノゾル(ヘ)0.7
5gを室温で撹拌下において添加した後、ブチルセロソ
ルブを撹拌下に4g添加し、さらに硬化触媒(ジラウリ
ル酸ジブチル錫)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組
成物(ワ)を得た。
Example 5 The modified titanium oxide organosol (f) 0.7 synthesized in Reference Example 6 was mixed with 11.25 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (A) synthesized in Reference Example 1.
After adding 5 g under stirring at room temperature, 4 g of butyl cellosolve was added under stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further added under stirring to obtain a photocatalyst composition (wa).

【0119】得られた光触媒組成物(ワ)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
週間乾燥し、150℃で30分加熱する事により、透明
で平滑な塗膜を有する鋼板を得た。得られた塗膜を有す
る鋼板の鉛筆硬度はHであり、水との接触角は97゜で
あった。また、耐屈曲性試験、耐衝撃性試験は共に合格
した。得られた塗膜を有する鋼板に紫外線(ブラックラ
イト)を3日間照射した後の水の接触角は0゜であっ
た。また、光触媒活性評価の結果は非常に良好(◎)で
あった。
The obtained photocatalyst composition (wa) was spray-coated on a steel sheet so as to have a film thickness of 2 μm, and then the mixture was heated at room temperature for 1 hour.
After drying for a week and heating at 150 ° C. for 30 minutes, a steel sheet having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the steel sheet having the obtained coating film was H, and the contact angle with water was 97 °. Further, both the bending resistance test and the impact resistance test passed. The contact angle of water after irradiating the obtained steel sheet having the coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 0 °. The result of the evaluation of the photocatalytic activity was very good (非常).

【0120】[0120]

【実施例6】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)6gと参考例5で合成したシリコ−ン化合物
(ホ)3gを混合したものに、トルエン17.9g、イ
ソプロパノール32.3g、ブチルセロソルブ14.5
gを添加し、室温で撹拌する事によりシリコ−ン化合物
(イ)とシリコーン化合物(ホ)の混合物溶液を得た。
得られたシリコ−ン化合物の混合物溶液に参考例6で調
整した変性酸化チタンオルガノゾル(ヘ)11.5gを
室温にて撹拌下において添加し、さらに硬化触媒(ジラ
ウリル酸ジブチル錫)0.4gを攪拌下に添加して光触
媒組成物(カ)を得た。50mm×60mmに裁断した
厚さ1mmのアルミ板(JIS,H,4000(A10
50P))にアクリルウレタン樹脂塗料(日本ペイント
社製、マイティラック白、2液混合型)をスプレー塗布
し、室温にて3日間乾燥した。得られたアクリルウレタ
ン塗装を行ったアルミ板に上記光触媒組成物(カ)を膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
時間乾燥し、150℃で30分加熱する事により、光触
媒塗膜を有する試験板を得た。
Example 6 17.9 g of toluene, 32.3 g of isopropanol and 14 g of butyl cellosolve 14 were mixed with 6 g of the silicone compound (a) synthesized in Reference Example 1 and 3 g of the silicone compound (E) synthesized in Reference Example 5. .5
g, and the mixture was stirred at room temperature to obtain a mixture solution of the silicone compound (a) and the silicone compound (e).
11.5 g of the modified titanium oxide organosol (f) prepared in Reference Example 6 was added to the obtained mixture solution of the silicone compound under stirring at room temperature, and 0.4 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further added. Was added with stirring to obtain a photocatalyst composition (f). 1 mm thick aluminum plate cut into 50 mm x 60 mm (JIS, H, 4000 (A10
Acrylic urethane resin paint (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd., Mighty Lac White, two-pack mixed type) was spray-coated on 50P)) and dried at room temperature for 3 days. The photocatalyst composition (f) was spray-coated on the obtained acrylic urethane-coated aluminum plate so as to have a film thickness of 2 μm, and then was applied at room temperature.
After drying for an hour and heating at 150 ° C. for 30 minutes, a test plate having a photocatalytic coating film was obtained.

【0121】得られた塗膜を有する試験板の鉛筆硬度は
HBであり、水との接触角は95゜であった。得られた
塗膜を有する試験板に紫外線(ブラックライト)を3日
間照射した後の水の接触角は0゜であった。また、光触
媒活性評価の結果は非常に良好(◎)であった。さら
に、デューパネル光コントロールウェザーメーターによ
る曝露試験(1000時間後)による光沢保持率は93
%であり、非常に良好な耐候性を示した。
The pencil hardness of the test plate having the obtained coating film was HB, and the contact angle with water was 95 °. The contact angle of water after irradiating the test plate having the obtained coating film with ultraviolet rays (black light) for 3 days was 0 °. The result of the evaluation of the photocatalytic activity was very good (非常). Further, the gloss retention by an exposure test (after 1000 hours) using a Dew panel light control weather meter was 93.
%, Indicating very good weather resistance.

【0122】[0122]

【実施例7】実施例6で得られた光触媒組成物(カ)を
OHPフィルム上に膜厚が2μmとなるようにスプレー
塗布した後、室温で2日間乾燥し、続いて50℃にて3
日間加熱することにより平滑な塗膜を有するOHPフィ
ルムを得た。得られた光触媒塗膜を有するOHPフィル
ム断面における酸化チタンの分布をTEM観察により実
施したところ、基材のOHPフィルムと光触媒塗膜との
界面には酸化チタンはほとんど存在せず、光触媒塗膜表
面は全て酸化チタンで覆われていることが観察された。
Example 7 The photocatalyst composition (f) obtained in Example 6 was spray-coated on an OHP film so as to have a film thickness of 2 μm, dried at room temperature for 2 days, and then dried at 50 ° C. for 3 days.
By heating for one day, an OHP film having a smooth coating film was obtained. When the distribution of titanium oxide in the cross section of the obtained OHP film having the photocatalytic coating film was observed by TEM observation, almost no titanium oxide was present at the interface between the OHP film as the base material and the photocatalytic coating film. Were all covered with titanium oxide.

【0123】[0123]

【実施例8】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)の20質量%トルエン溶液8.75gに参考例7
で合成した変性酸化チタンオルガノゾル(ト)4.5g
を室温で撹拌下において添加した後、ブチルセロソルブ
を撹拌下に4g添加し、さらに硬化触媒(ジラウリル酸
ジブチル錫)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組成物
(ヨ)を得た。
Example 8 Reference Example 7 was added to 8.75 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (a) synthesized in Reference Example 1.
4.5 g of modified titanium oxide organosol (g) synthesized in
Was added under stirring at room temperature, 4 g of butyl cellosolve was added under stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further added under stirring to obtain a photocatalyst composition (Y).

【0124】得られた光触媒組成物(ヨ)をガラス板上
に膜厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温
で1時間乾燥し、150℃で30分加熱する事により、
透明で平滑な塗膜を有するガラス板を得た。得られた塗
膜を有するガラス板の水との接触角は34゜であり、こ
れに紫外線をほとんど含まない光(蛍光ランプ)を1日
間照射すると、該塗膜の水の接触角は104゜に増加し
た。すなわち、光触媒組成物(ヨ)から得られた塗膜は
可視光に応答して疎水性となった。また、該疎水性とな
った塗膜に紫外線(ブラックライト)を1日間照射する
と、水の接触角は0゜となり親水性の塗膜に変化した。
The obtained photocatalyst composition (Y) was spray-coated on a glass plate so as to have a thickness of 2 μm, dried at room temperature for 1 hour, and heated at 150 ° C. for 30 minutes.
A glass plate having a transparent and smooth coating film was obtained. The glass plate having the obtained coating film has a contact angle with water of 34 °, and when irradiated with light (fluorescent lamp) containing almost no ultraviolet rays for one day, the water has a contact angle of 104 ° with the coating film. Increased. That is, the coating film obtained from the photocatalyst composition (Y) became hydrophobic in response to visible light. When the hydrophobic coating film was irradiated with ultraviolet light (black light) for one day, the contact angle of water became 0 ° and the coating film changed to a hydrophilic coating film.

【0125】[0125]

【実施例9】参考例1で合成したシリコーン化合物
(イ)の20質量%トルエン溶液8.75gに参考例8
で合成した変性酸化チタンオルガノゾル(チ)4.1g
を室温で撹拌下において添加した後、ブチルセロソルブ
を撹拌下に4g添加し、さらに硬化触媒(ジラウリル酸
ジブチル錫)0.1gを攪拌下に添加して光触媒組成物
(タ)を得た。
Example 9 Reference Example 8 was added to 8.75 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (a) synthesized in Reference Example 1.
4.1g of modified titanium oxide organosol (h) synthesized in
Was added under stirring at room temperature, 4 g of butyl cellosolve was added under stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further added under stirring to obtain a photocatalyst composition (TA).

【0126】得られた光触媒組成物(タ)をガラス板上
に膜厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温
で1時間乾燥し、150℃で30分加熱する事により、
平滑な塗膜を有するガラス板を得た。得られた塗膜を有
するガラス板の水との接触角は60゜であり、これに紫
外線(ブラックライト)を7日間照射しても水の接触角
はほとんど変化しなかったが、光触媒活性評価の結果は
非常に良好(◎)であった。
The resulting photocatalyst composition (t) was spray-coated on a glass plate so as to have a thickness of 2 μm, dried at room temperature for 1 hour, and heated at 150 ° C. for 30 minutes.
A glass plate having a smooth coating film was obtained. The contact angle with water of the glass plate having the obtained coating film was 60 °. Irradiation with ultraviolet rays (black light) for 7 days did not substantially change the contact angle of water. Was very good (◎).

【0127】[0127]

【比較例1】参考例4で合成したフェニル基を有さない
シリコーン化合物(ニ)の20質量%トルエン溶液8.
75gにTKS251(参考例6で使用したものと同
じ)3.75gを室温で撹拌下において添加した後、ブ
チルセロソルブを撹拌下に4g添加し、さらに硬化触媒
(ジラウリル酸ジブチル錫)0.1gを攪拌下に添加し
て光触媒組成物(レ)を得た。
Comparative Example 1 A 20% by mass toluene solution of a silicone compound having no phenyl group (d) synthesized in Reference Example 8.
To 75 g, 3.75 g of TKS251 (same as that used in Reference Example 6) was added at room temperature with stirring, then 4 g of butyl cellosolve was added with stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further stirred. It was added below to obtain a photocatalyst composition (d).

【0128】得られた光触媒組成物(レ)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
時間乾燥し、140℃で30分加熱する事により、透明
で平滑な塗膜を有する鋼板を得た。得られた塗膜を有す
る鋼板の鉛筆硬度は2Hであり、水との接触角は92゜
であった。また、耐屈曲性試験、耐衝撃性試験は共に合
格した。得られたコーティング膜を有する鋼板に紫外線
(ブラックライト)を1週間照射した後の水の接触角は
94゜であり、光触媒活性評価は悪い結果(×)であっ
た。また、得られたコーティング膜を有する鋼板に紫外
線(ブラックライト)を1ヶ月照射した後も皮膜は親水
化せず、水の接触角は88゜であった。
The obtained photocatalyst composition (d) was spray-coated on a steel sheet so as to have a film thickness of 2 μm, and then was applied at room temperature.
After drying for an hour and heating at 140 ° C. for 30 minutes, a steel sheet having a transparent and smooth coating film was obtained. The pencil hardness of the steel sheet having the obtained coating film was 2H, and the contact angle with water was 92 °. Further, both the bending resistance test and the impact resistance test passed. After irradiating the obtained steel sheet having the coating film with ultraviolet rays (black light) for one week, the contact angle of water was 94 °, and the evaluation of photocatalytic activity was poor (×). Further, even after irradiating the obtained steel sheet having the coating film with ultraviolet rays (black light) for one month, the coating did not become hydrophilic and the contact angle of water was 88 °.

【0129】[0129]

【比較例2】参考例4で合成したフェニル基を有さない
シリコーン化合物(ニ)の20質量%トルエン溶液6g
にTKS251(参考例6で使用したものと同じ)6.
25gを室温で撹拌下において添加した後、ブチルセロ
ソルブを撹拌下に4g添加し、さらに硬化触媒(ジラウ
リル酸ジブチル錫)0.1gを攪拌下に添加して光触媒
組成物(ソ)を得た。
Comparative Example 2 6 g of a 20% by mass toluene solution of the silicone compound (d) having no phenyl group synthesized in Reference Example 4
5. TKS251 (same as that used in Reference Example 6)
After 25 g was added at room temperature with stirring, 4 g of butyl cellosolve was added with stirring, and 0.1 g of a curing catalyst (dibutyltin dilaurate) was further added with stirring to obtain a photocatalyst composition (SO).

【0130】得られた光触媒組成物(ソ)を鋼板上に膜
厚が2μmとなるようにスプレー塗布した後、室温で1
時間乾燥し、140℃で30分加熱する事により、微白
濁した塗膜を有する鋼板を得た。得られた塗膜を有する
鋼板は親水化能力を有する(紫外線(ブラックライト)
1週間照射での水の接触角は12゜となった)が、コー
ティング膜は非常に脆く、耐屈曲性試験、耐衝撃性試験
は共に不合格であった。
The obtained photocatalyst composition (SO) was spray-coated on a steel sheet so as to have a film thickness of 2 μm, and then was applied at room temperature.
After drying for an hour and heating at 140 ° C. for 30 minutes, a steel sheet having a slightly turbid coating film was obtained. The steel sheet having the obtained coating has hydrophilicity (ultraviolet (black light)
Although the contact angle of water after irradiation for one week was 12 °), the coating film was very brittle, and both the bending resistance test and the impact resistance test failed.

【0131】[0131]

【発明の効果】本発明の光触媒組成物からは透明性や硬
度等に優れるだけでなく、柔軟性(耐屈曲性、耐衝撃
性)と光触媒活性を両立でき、さらに光照射による水の
濡れ性(親水性、疎水性)の制御能を有する塗膜を穏和
な条件で形成することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION The photocatalyst composition of the present invention not only has excellent transparency and hardness, etc., but also has both flexibility (bending resistance and impact resistance) and photocatalytic activity, and furthermore has good water wettability by light irradiation. (Hydrophilic, hydrophobic) controllable coating film can be formed under mild conditions.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA67 AA81 AB18 AB23 AF13 AF23 AF57 AH19 4G069 AA02 BA04A BA04B BA17 BA21A BA21B BA22A BA48A BB02A BB04A BB06A BB09A BB13A BB15A BC03A BC12A BC13A BC17A BC18A BC21A BC22A BC25A BC27A BC31A BC35A BC36A BC43A BC50A BC54A BC55A BC56A BC59A BC60A BC66A BC68A BC70A BC71A BC72A BC74A BC75A BD05A BE32A BE32B BE37A BE37B CA01 CA10 CA11 CD10 EA11 EB19 EC29 ED01 ED02 ED03 4J002 CP031 CP032 CP082 DA116 DE096 DE106 DE116 DE136 DE186 DG026 FD206 GT00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 4F071 AA67 AA81 AB18 AB23 AF13 AF23 AF57 AH19 4G069 AA02 BA04A BA04B BA17 BA21A BA21B BA22A BA48A BB02A BB04A BB06A BB09A BB13A BB15A BC03A BC13A BC31A BCBC BC BC BC BC BC BC54A BC55A BC56A BC59A BC60A BC66A BC68A BC70A BC71A BC72A BC74A BC75A BD05A BE32A BE32B BE37A BE37B CA01 CA10 CA11 CD10 EA11 EB19 EC29 ED01 ED02 ED03 4J002 CP031 CP032 CP082 DA116 DE096 DE106 GE116

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光触媒(A)と下記平均組成式(1)で
表されるシリコーン化合物(B)とからなる光触媒組成
物。 R1 p2 qrSiO(4-p-q-r)/2 (1) (式中、R1はフェニル基を表し、R2は直鎖状または分
岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20
のシクロアルキル基、及び炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子
で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる
群より選ばれる少なくとも1つの炭化水素基を表す。X
は、水素原子、水酸基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、炭素数1〜20のアシロキシ基、アミノキシ基、炭
素数1〜20のオキシム基、ハロゲン原子からなる群よ
り選ばれる少なくとも1つの反応性基を表し、0<p<
4、0≦q<4、0<r<4、及び0<(p+q+r)
<4であり、さらに0.1≦p/(p+q)≦1の関係
を満足する。)
1. A photocatalyst composition comprising a photocatalyst (A) and a silicone compound (B) represented by the following average composition formula (1). During R 1 p R 2 q X r SiO (4-pqr) / 2 (1) ( wherein, R 1 represents a phenyl group, R 2 is a linear or branched C 1-30 alkyl group , 5-20 carbon atoms
And at least one carbon atom selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom. Represents a hydrogen group. X
Is at least one reactivity selected from the group consisting of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoxy group, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogen atom. Represents a group, and 0 <p <
4, 0 ≦ q <4, 0 <r <4, and 0 <(p + q + r)
<4, and further satisfies the relationship of 0.1 ≦ p / (p + q) ≦ 1. )
【請求項2】 平均組成式(1)で表されるシリコーン
化合物(B)が下記平均組成式(2)で表されるフェニ
ルシリコーン化合物(B1)を含むことを特徴とする請
求項1記載の光触媒組成物。 R1 stSiO(4-s-t)/2 (2) (式中、R1はフェニル基を表し、Xは式(1)で定義
した通りである。0<s<4、0<t<4、及び0<
(s+t)<4である。)
2. The method according to claim 1, wherein the silicone compound (B) represented by the average composition formula (1) contains a phenyl silicone compound (B1) represented by the following average composition formula (2). Photocatalyst composition. R 1 s X t SiO (4-st) / 2 (2) (wherein, R 1 represents a phenyl group, and X is as defined in formula (1). 0 <s <4, 0 <t <4 and 0 <
(S + t) <4. )
【請求項3】 シリコーン化合物(B)が、一般式
(3)で表されるフェニルラダー構造を含むことを特徴
とする請求項1、2のいずれかに記載の光触媒組成物。 【化1】 (R1はフェニル基を表す。)
3. The photocatalyst composition according to claim 1, wherein the silicone compound (B) has a phenyl ladder structure represented by the general formula (3). Embedded image (R 1 represents a phenyl group.)
【請求項4】 平均組成式(1)で表されるシリコーン
化合物(B)が平均組成式(2)で表されるフェニルシ
リコーン化合物(B1)と平均組成式(4)で表される
アルキルシリコーン化合物(B2)の混合物として含む
ことを特徴とする請求項1、2、3いずれか一項記載の
光触媒組成物。 R3 uvSiO(4-u-v)/2 (4) (式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素数1〜30の
アルキル基を表し、Xは、式(1)で定義した通りであ
る。0<u<4、0<v<4、及び0<(u+v)<4
である。)
4. A phenyl silicone compound (B1) represented by an average composition formula (2) and an alkyl silicone represented by an average composition formula (4) wherein the silicone compound (B) represented by the average composition formula (1) is The photocatalyst composition according to any one of claims 1, 2, and 3, wherein the photocatalyst composition is contained as a mixture of the compound (B2). R 3 u X v SiO (4 -uv) / 2 (4) ( wherein, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, X is defined by equation (1) 0 <u <4, 0 <v <4, and 0 <(u + v) <4
It is. )
【請求項5】 平均組成式(4)で表されるアルキルシ
リコーン化合物(B2)が、式(5)で表されるモノオ
キシジオルガノシラン単位(T)と式(6)で表される
ジオキシオルガノシラン単位(D)の両方を有する構造
であることを特徴とする請求項4記載の光触媒組成物。 −(R33SiO)− (5) 【化2】 (式中、R3は直鎖状または分岐状の炭素数1〜30の
アルキル基を表す。)
5. The alkyl silicone compound (B2) represented by the average composition formula (4) is composed of a monooxydiorganosilane unit (T) represented by the formula (5) and a dioxysilane compound represented by the formula (6). The photocatalyst composition according to claim 4, having a structure having both oxyorganosilane units (D). — (R 3 R 3 SiO) — (5) (In the formula, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.)
【請求項6】 光触媒(A)が、光触媒粒子を、式
(7)で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、式
(8)で表されるジオキシオルガノシラン単位、及び式
(9)で表されるジフルオロメチレン単位よりなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類
よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物
(C)を用いて変性処理することによって得られた変性
光触媒(A1)であることを特徴とする請求項1〜6の
いずれか一項記載の光触媒組成物。 −(R44SiO)− (7) 【化3】 (式中、R4は各々独立して直鎖状または分岐状の炭素
数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロ
アルキル基、又は置換されていないか又は炭素数1〜2
0のアルキル基、フェニル基、炭素数1〜20のアルコ
キシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜
20のアリール基を表す) −(CF2)− (9)
6. The photocatalyst (A) converts the photocatalyst particles into a monooxydiorganosilane unit represented by the formula (7), a dioxyorganosilane unit represented by the formula (8), and a compound represented by the formula (9). Modification obtained by performing a modification treatment using at least one modifier compound (C) selected from the group consisting of compounds having at least one structural unit selected from the group consisting of difluoromethylene units represented. The photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 6, which is a photocatalyst (A1). — (R 4 R 4 SiO) — (7) (Wherein, R 4 is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or unsubstituted or 1 to 3 carbon atoms. 2
0 alkyl group, phenyl group, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms substituted with a halogen atom.
Represents 20 aryl groups)-(CF 2 )-(9)
【請求項7】 該変性剤化合物(C)が、式(10)で
表される平均組成を有するケイ素化合物であることを特
徴とする請求項6に記載の光触媒組成物。 R4 xyzSiO(4-x-y-z)/2 (10) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Xは、
式(1)で定義した通りである。また、式中Qは、又は
下記(あ)〜(え)からなる群より選ばれる少なくとも
1つの機能性付与基を含有する基である。 (あ)直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアル
キル基、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のア
ルケニル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もし
くは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキ
ル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン
原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、及
び炭素数1〜30のフルオロアルキル基からなる群より
選ばれる少なくとも1つの疎水性基。 (い)カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるい
はその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシア
ルキレン基からなる群から選ばれた少なくとも1つの親
水性基。 (う)エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル
基、(環状)酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒ
ドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート
基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、チオール
基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つ
の反応性基。 (え)少なくとも1つの分光増感基。 また、0<x<4、0<y<4、0≦z<4、及びx+
y+z)<4である。)
7. The photocatalyst composition according to claim 6, wherein the modifier compound (C) is a silicon compound having an average composition represented by the formula (10). R 4 x Q y X z SiO (4-xyz) / 2 (10) (where R 4 is as defined in the formula (7), and X is
As defined in equation (1). Further, in the formula, Q is a group containing at least one functional group that is selected from the group consisting of the following (A) to (E). (A) a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or An unsubstituted or C1-C20 alkyl group or C1-C20 alkoxy group, or a C6-C20 aryl group substituted with a halogen atom, and a C1-C30 fluoroalkyl At least one hydrophobic group selected from the group consisting of groups; (I) at least one hydrophilic group selected from the group consisting of a carboxyl group or a salt thereof, a phosphate group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, and a polyoxyalkylene group; (C) epoxy group, acryloyl group, methacryloyl group, (cyclic) acid anhydride group, keto group, carboxyl group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group, hydroxyl group, amino group, cyclic carbonate group, thiol group, At least one reactive group selected from the group consisting of ester groups. (E) at least one spectral sensitizing group. Also, 0 <x <4, 0 <y <4, 0 ≦ z <4, and x +
y + z) <4. )
【請求項8】 該変性剤化合物(C)が、式(11)で
表される化合物であることを特徴とする請求項6に記載
の光触媒組成物。 (R4HSiO)a(R4 2SiO)b(R4QSiO)c(R4 3SiO1/2d ・・・(11) (式中、R4は式(7)で定義した通りであり、Qは式
(10)で定義した通りであり、aは1以上の整数であ
り、b、cは0又は1以上の整数であり、(a+b+
c)≦10000であり、そしてdは0又は2である。
但し、(a+b+c)が2以上の整数であり且つd=0
の場合、該化合物は環状シリコーン化合物であり、d=
2の場合、該化合物は鎖状シリコーン化合物である。)
8. The photocatalyst composition according to claim 6, wherein the modifier compound (C) is a compound represented by the formula (11). As (R 4 HSiO) a (R 4 2 SiO) b (R 4 QSiO) c (R 4 3 SiO 1/2) d ··· (11) ( wherein, R 4 is defined in formula (7) And Q is as defined in the formula (10), a is an integer of 1 or more, b and c are 0 or an integer of 1 or more, and (a + b +
c) ≦ 10000 and d is 0 or 2.
Here, (a + b + c) is an integer of 2 or more and d = 0.
In the case, the compound is a cyclic silicone compound, and d =
In case 2, the compound is a chain silicone compound. )
【請求項9】 光触媒(A)が、数平均粒子径200n
m以下の光触媒ゾルであることを特徴とする請求項1〜
8のいずれか一項記載の光触媒組成物。
9. The photocatalyst (A) has a number average particle diameter of 200 n.
m or less of a photocatalytic sol.
The photocatalyst composition according to any one of claims 8 to 13.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれか一項に記載の
光触媒組成物であって、自己傾斜性を有することを特徴
とする光触媒組成物。
10. The photocatalyst composition according to claim 1, wherein the photocatalyst composition has a self-grading property.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか一項に記載
の光触媒組成物であって、該光触媒組成物が基材上に塗
布成膜されると、光触媒(A)が外気と接する皮膜表面
側に向かって多くなるような膜厚方向に濃度勾配を有し
た傾斜組成皮膜を自律的に形成することを特徴とする光
触媒組成物。
11. The photocatalyst composition according to claim 1, wherein the photocatalyst (A) is in contact with outside air when the photocatalyst composition is applied and formed on a substrate. A photocatalyst composition characterized by autonomously forming a gradient composition film having a concentration gradient in a film thickness direction that increases toward a surface side.
【請求項12】 請求項1〜10のいずれか一項に記載
の光触媒組成物であって、該光触媒組成物から成形体を
形成する際、その形成過程において光触媒(A)が成形
体の内部から表面側に向かって多くなるような濃度勾配
を有する構造を自律的に形成することを特徴とする光触
媒組成物。
12. The photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 10, wherein when the molded article is formed from the photocatalyst composition, the photocatalyst (A) is formed inside the molded article during the formation process. A photocatalyst composition which autonomously forms a structure having a concentration gradient that increases from the surface toward the surface.
【請求項13】 請求項1〜11のいずれか一項に記載
の光触媒組成物を含む皮膜を基材上に形成して得られる
機能性複合体。
13. A functional composite obtained by forming a film containing the photocatalyst composition according to claim 1 on a base material.
【請求項14】 請求項11の光触媒組成物を含む皮膜
を基材上に形成して得られる機能性複合体であって、該
皮膜が光触媒(A)の膜厚方向の分布について異方性を
有することを特徴とする機能性複合体。
14. A functional composite obtained by forming a film containing the photocatalyst composition according to claim 11 on a substrate, wherein the film is anisotropic in the thickness direction of the photocatalyst (A). A functional complex comprising:
【請求項15】 請求項1〜10、12のいずれか一項
に記載の光触媒組成物から形成された成形体。
A molded article formed from the photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 10.
【請求項16】 請求項12に記載の光触媒組成物から
形成された成形体であって、光触媒(A)の内部から表
面への分布について異方性を有することを特徴とする成
形体。
16. A molded article formed from the photocatalyst composition according to claim 12, wherein the molded article has anisotropy in distribution from the inside to the surface of the photocatalyst (A).
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