JP2002280252A - Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag - Google Patents

Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag

Info

Publication number
JP2002280252A
JP2002280252A JP2001074213A JP2001074213A JP2002280252A JP 2002280252 A JP2002280252 A JP 2002280252A JP 2001074213 A JP2001074213 A JP 2001074213A JP 2001074213 A JP2001074213 A JP 2001074213A JP 2002280252 A JP2002280252 A JP 2002280252A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capacitor
tag
insulating substrate
connection terminal
capacitor electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001074213A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taiga Matsushita
大雅 松下
Yuichi Iwakata
裕一 岩方
Yasukazu Nakada
安一 中田
Katsuhisa Taguchi
克久 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2001074213A priority Critical patent/JP2002280252A/en
Publication of JP2002280252A publication Critical patent/JP2002280252A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitor which has advantages such as that the its own formation being easy, that desired capacity properties can be obtained, that it can suppress waste of materials, that it can prevent the adverse effects to other circuit elements of itself, and others, and an ID tag. SOLUTION: This capacitor has a first capacitor electrode provided on an insulating substrate, a connector terminal provided on the same plane as the insulating substrate, a metal tape having an insulating adhesive layer at its one side and having a metal layer to serve as a second capacitor electrode this insulating adhesive layer and being joined covering the first capacitor electrode and the connector terminal, and an electrical continuity means for electrically connecting the connector terminal with the metal layer part which is to serve as the second capacitor electrode above it. This ID tag is one with this capacitor applied.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ、コン
デンサの製造方法及びIDタグに関するものである。
The present invention relates to a capacitor, a method for manufacturing a capacitor, and an ID tag.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、個人認証や商品管理や物流処理な
どの各種の処理に、IDタグ(ICカードなどとも呼ば
れている)が利用されるようになってきている。特に、
非接触型のIDタグの利用が多くなってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, an ID tag (also called an IC card) has been used for various processes such as personal authentication, product management, and physical distribution. In particular,
The use of non-contact type ID tags is increasing.

【0003】非接触型のIDタグとしては、動作電源を
内蔵電池から得るものもあれば、IDタグへの質問器か
らの質問用の電波や磁束などのエネルギーから得るもの
もあり、後者の場合は、必要なエネルギーを、LC共振
回路を利用して取り出している。
[0003] Some non-contact type ID tags obtain the operating power supply from a built-in battery, while others obtain the operation power from energy such as radio waves or magnetic flux for interrogation from an interrogator to the ID tag. Extracts necessary energy using an LC resonance circuit.

【0004】図4は、LC共振回路を有する従来の非接
触型IDタグ30における導電パターンの一例の説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an example of a conductive pattern in a conventional non-contact type ID tag 30 having an LC resonance circuit.

【0005】図4(A)に示す平面図において、多重ル
ープコイル1(L成分)とコンデンサ22(C成分)と
が接続端子3U、3Lを介して並列に接続されており、
LC並列共振回路を構成している。なお、図4(A)で
は省略しているが、両接続端子3U及び3L間に接続す
るように、所定の処理を行うICチップが設けられる。
In the plan view shown in FIG. 4A, a multiple loop coil 1 (L component) and a capacitor 22 (C component) are connected in parallel via connection terminals 3U and 3L.
An LC parallel resonance circuit is configured. Although not shown in FIG. 4A, an IC chip for performing predetermined processing is provided so as to be connected between the connection terminals 3U and 3L.

【0006】多重ループコイル1やコンデンサ22など
は、導電パターンとして絶縁性基板25(図4(B)参
照)に設けられている。導電パターンの形成方法は、任
意であるが、以下では、厚さ35μmの銅箔を、接着剤
を用いて接着層が20μmの厚さになるように絶縁性基
板25に形成するとする。また、絶縁性基板25は、例
えば、厚さが50μmのポリエチレンテレフタレート
(PET)とする。
The multi-loop coil 1 and the capacitor 22 are provided on an insulating substrate 25 (see FIG. 4B) as a conductive pattern. The conductive pattern may be formed by any method. In the following, it is assumed that a copper foil having a thickness of 35 μm is formed on the insulating substrate 25 using an adhesive so that the adhesive layer has a thickness of 20 μm. The insulating substrate 25 is, for example, polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 50 μm.

【0007】多重ループコイル1は、絶縁性基板25
(図4(B)参照)の一面(以下、上面と呼ぶ)に接着
層を介して設けられている。なお、多重ループコイル1
のパターン部分4は、絶縁レジスト層の上に銀ペースト
などを設けた跨線橋部分を示しており、コイル1の各タ
ーンを短絡することなく、コイル1の一方の端部を接続
端子3Lに接続するためのものである。
[0007] The multiple loop coil 1 includes an insulating substrate 25.
It is provided on one surface (hereinafter, referred to as an upper surface) of the substrate (see FIG. 4B) with an adhesive layer interposed therebetween. The multiple loop coil 1
The pattern portion 4 indicates an overpass where silver paste or the like is provided on the insulating resist layer, and one end of the coil 1 is connected to the connection terminal 3L without shorting each turn of the coil 1. It is for.

【0008】一方、コンデンサ22の2個の電極(電極
パターン)2U、2Lはそれぞれ、図4(B)に示すよ
うに、絶縁性基板25を挟んで、絶縁性基板25の上面
及び下面に接着層6U、6Lを介して設けられている。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, two electrodes (electrode patterns) 2U and 2L of the capacitor 22 are bonded to the upper and lower surfaces of the insulating substrate 25 with the insulating substrate 25 interposed therebetween. It is provided via layers 6U and 6L.

【0009】一方の接続端子3Lは、図4では明確に示
していないが、絶縁性基板25の上面及び下面を連絡す
るスルーホールを有し、下面を伸びる導電パターン7を
介して、コンデンサ22の下側電極2Lに接続されてい
る。
Although not clearly shown in FIG. 4, one connection terminal 3L has a through hole connecting the upper and lower surfaces of the insulating substrate 25, and is connected to the capacitor 22 via the conductive pattern 7 extending on the lower surface. It is connected to the lower electrode 2L.

【0010】図5は、回路の大きさを小さくした従来の
非接触型IDタグ30における導電パターンの他の一例
の説明図であり、図4との同一、対応部分には同一符号
を付して示している。図4に示したものとの最も大きな
相違は、絶縁性基板25が、例えば、厚さが25μmの
ポリイミド(PI)で形成されている点である。
FIG. 5 is an explanatory view of another example of the conductive pattern in the conventional non-contact ID tag 30 in which the size of the circuit is reduced, and the same reference numerals are given to the same and corresponding parts as in FIG. Is shown. The biggest difference from the one shown in FIG. 4 is that the insulating substrate 25 is formed of, for example, polyimide (PI) having a thickness of 25 μm.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
非接触型IDタグやコンデンサは、以下のような課題を
有するものであった。
However, conventional non-contact type ID tags and capacitors have the following problems.

【0012】図4、図5に示すように、コンデンサ22
の2個の電極(電極パターン)2U、2Lが絶縁性基板
25を挟んで設けられているため、絶縁性基板25の厚
みが厚くなると、所定容量を得るために、電極2U、2
Lの面積がかなり大きいものとなっていた。
As shown in FIG. 4 and FIG.
Since the two electrodes (electrode patterns) 2U and 2L are provided with the insulating substrate 25 interposed therebetween, when the thickness of the insulating substrate 25 is increased, the electrodes 2U and
The area of L was considerably large.

【0013】IDタグという小型化が求められている製
品で、このような大面積のコンデンサ22を実現する場
合には、図4、図5(A)に示すように、多重ループコ
イル1の中央部分Sにコンデンサ22を設ける他なく、
中央部分Sに設けられたコンデンサ22が、多重ループ
コイル1が本来捕捉すべき磁束の一部を捕捉するため、
多重ループコイル1の機能を損なっていた。その結果、
IDタグ30の交信可能距離を短いものとしていた。
In order to realize such a large-area capacitor 22 in a product called an ID tag, which is required to be miniaturized, as shown in FIG. 4 and FIG. Without providing the capacitor 22 in the part S,
Since the capacitor 22 provided in the central portion S captures a part of the magnetic flux that the multiple loop coil 1 should originally capture,
The function of the multiple loop coil 1 was impaired. as a result,
The communicable distance of the ID tag 30 is shortened.

【0014】また、電極2U、2Lの面積を抑えて所定
容量を得ようとすると、絶縁性基板25の厚みを薄くす
ることを要し、絶縁性基板25の材質が、薄くても、導
電パターンの形成処理などの各種処理での取扱い(例え
ば、搬送や位置決め)に耐えられるものに限定されてし
まう。例えば、図5に示すIDタグ30のように、絶縁
性基板25の厚さを25μmにしようとすると、ポリイ
ミド(PI)を適用することになるが、PIはPETよ
り高価であり、IDタグのコストをも引き上げてしま
う。
In order to obtain a predetermined capacity by suppressing the area of the electrodes 2U and 2L, it is necessary to reduce the thickness of the insulating substrate 25, and even if the material of the insulating substrate 25 is thin, the conductive pattern Are limited to those that can withstand handling (for example, transportation and positioning) in various processes such as a forming process. For example, when the thickness of the insulating substrate 25 is set to 25 μm as in the case of the ID tag 30 shown in FIG. 5, polyimide (PI) is applied. However, PI is more expensive than PET, and It also raises costs.

【0015】さらに、従来においては、コンデンサ22
だけのために、絶縁性基板25の両面に対して導電パタ
ーンの形成処理を実行しなければならない。そのため、
製造工数や時間がかなり多いものとなっていた。また、
導電パターンをエッチングで形成しようとする場合にお
いては、コンデンサ22の電極2Lのみが形成される、
絶縁性基板25の下面については、エッチングで除去さ
れる導電性材料が多く、材料の無駄が多くなってしま
う。
Further, conventionally, the capacitor 22
For this purpose, the conductive pattern forming process must be performed on both surfaces of the insulating substrate 25. for that reason,
Manufacturing man-hours and time were considerably large. Also,
When the conductive pattern is to be formed by etching, only the electrode 2L of the capacitor 22 is formed.
With respect to the lower surface of the insulating substrate 25, a large amount of conductive material is removed by etching, and the waste of material is increased.

【0016】さらにまた、コンデンサ22の各電極2
U、2Lを絶縁性基板25の両面に設けているため、I
Dタグ30の厚みtを増大させる原因にもなり得る。
Furthermore, each electrode 2 of the capacitor 22
Since U and 2L are provided on both sides of the insulating substrate 25,
This may cause the thickness t of the D tag 30 to increase.

【0017】また、コンデンサ22の各電極2U、2L
は別工程で形成されるため、両電極2U、2Lの位置関
係が所望する関係からずれ、容量が所望容量から僅かに
異なるようになる恐れもある。このような容量ずれに対
して、補償しようとすると、手作業などで導電性材料を
絶縁性基板25に微妙に追加しなければならず、煩雑で
ある。
The electrodes 2U, 2L of the capacitor 22
Is formed in a separate process, the positional relationship between the two electrodes 2U and 2L may deviate from a desired relationship, and the capacitance may slightly differ from the desired capacitance. To compensate for such a capacitance shift, a conductive material must be delicately added to the insulating substrate 25 by manual work or the like, which is complicated.

【0018】本発明は、コンデンサの形成が容易であ
り、コンデンサの特性として所望する特性が得られる、
材料の無駄を最小限に抑えられる、コンデンサが他の回
路要素へ影響を与えることを防止し得るなどの各種の利
点が得られるコンデンサ、コンデンサの製造方法及びI
Dタグを提供しようとするものである。
According to the present invention, a capacitor can be easily formed, and desired characteristics can be obtained as characteristics of the capacitor.
A capacitor, a method of manufacturing a capacitor, and a capacitor that provide various advantages such as minimizing material waste and preventing the capacitor from affecting other circuit elements.
It is intended to provide a D tag.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに、本発明のコンデンサは、(1)絶縁性基板に設け
られた導電層からなる第1のコンデンサ電極と、(2)
この第1のコンデンサ電極が設けられた上記絶縁性基板
の面に設けられた導電層からなる接続端子と、(3)一
面に絶縁性接着層を有し、この絶縁性接着層より上層に
第2のコンデンサ電極となる金属層を有するものであっ
て、上記第1のコンデンサ電極及び上記接続端子に亘っ
て接合された金属テープと、(4)上記接続端子と、そ
の上方の、上記第2のコンデンサ電極となる金属層部分
とを電気的に接続させる導通手段とを有することを特徴
とする。
In order to solve the above problems, a capacitor according to the present invention comprises: (1) a first capacitor electrode comprising a conductive layer provided on an insulating substrate;
(3) a connection terminal made of a conductive layer provided on the surface of the insulating substrate on which the first capacitor electrode is provided; and (3) an insulating adhesive layer on one surface, and a second terminal provided above the insulating adhesive layer. A metal tape joined over the first capacitor electrode and the connection terminal, (4) the connection terminal, and the second And a conducting means for electrically connecting the metal layer portion serving as the capacitor electrode of (1).

【0020】また、本発明のコンデンサの製造方法は、
(1)絶縁性基板に導電層からなる第1のコンデンサ電
極を設ける工程と、(2)上記第1のコンデンサ電極が
設けられた上記絶縁性基板の面に導電層からなる接続端
子を設ける工程と、(3)一面に絶縁性接着層を有し、
この絶縁性接着層より上層に第2のコンデンサ電極とな
る金属層を有する金属テープを、上記第1のコンデンサ
電極及び上記接続端子に亘って接合する工程と、(4)
上記接続端子と、その上方の、上記第2のコンデンサ電
極となる金属層部分とを電気的に接続させる工程とを含
むことを特徴とする。
Further, a method of manufacturing a capacitor according to the present invention comprises:
(1) a step of providing a first capacitor electrode made of a conductive layer on an insulating substrate; and (2) a step of providing a connection terminal made of a conductive layer on the surface of the insulating substrate provided with the first capacitor electrode. And (3) having an insulating adhesive layer on one surface,
Joining a metal tape having a metal layer serving as a second capacitor electrode above the insulating adhesive layer over the first capacitor electrode and the connection terminal; (4)
Electrically connecting the connection terminal and a metal layer portion above the connection terminal, which is to be the second capacitor electrode.

【0021】さらに、本発明のIDタグは、コンデンサ
を回路要素としているものであって、上記コンデンサと
して、本発明のコンデンサを適用したことを特徴とす
る。
Further, the ID tag of the present invention has a capacitor as a circuit element, and is characterized in that the capacitor of the present invention is applied as the capacitor.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】(A)実施形態 以下、本発明によるコンデンサ、コンデンサの製造方法
及びIDタグの一実施形態を図面を参照しながら説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (A) Embodiment An embodiment of a capacitor, a method for manufacturing the capacitor and an ID tag according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】(A−1)実施形態の構成 図1は、LC共振回路を有する、この実施形態の非接触
型IDタグの説明図であり、IDタグの表面側の被覆を
除去し、内部の電気的な配線パターンなどを露出させた
状態での平面図である。また、図2は、図1におけるII
−II矢視断面図である。
(A-1) Configuration of the Embodiment FIG. 1 is an explanatory view of a non-contact type ID tag having an LC resonance circuit according to this embodiment. FIG. 4 is a plan view in a state where an electrical wiring pattern and the like are exposed. FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along arrow II.

【0024】図1において、この実施形態のIDタグ1
0は、多重ループコイル11(L成分)とコンデンサ1
2(C成分)とが接続端子14U、14Lを介して並列
に接続されてなるLC並列共振回路を有している。ま
た、両接続端子14U及び14L間には、所定の送受信
処理を行うICチップ15が設けられている。
In FIG. 1, the ID tag 1 of this embodiment
0 is a multiple loop coil 11 (L component) and a capacitor 1
2 (C component) is connected in parallel via the connection terminals 14U and 14L. An IC chip 15 for performing a predetermined transmission / reception process is provided between the connection terminals 14U and 14L.

【0025】多重ループコイル11は、導電パターンと
して絶縁性基板17(図2参照)の一面(以下、「上
面」と呼ぶ)に設けられている。多重ループコイル11
の一端は、接続端子14Uに接続され、他端は、跨線橋
部分16を介して、接続端子14Lに接続されている。
跨線橋部分16は、例えば、絶縁レジスト層と、その上
に設けられた銀ペーストとでなり、多重ループコイル1
1の各ターンを短絡することなく、コイル11の一方の
端部を接続端子14Lに接続する。
The multi-loop coil 11 is provided as a conductive pattern on one surface (hereinafter referred to as “upper surface”) of the insulating substrate 17 (see FIG. 2). Multiple loop coil 11
Is connected to the connection terminal 14U, and the other end is connected to the connection terminal 14L via the overpass portion 16.
The overpass portion 16 is made of, for example, an insulating resist layer and a silver paste provided thereon, and
One end of the coil 11 is connected to the connection terminal 14L without shorting each turn of No. 1.

【0026】この実施形態の多重ループコイル11は、
その中央部分Sに何らの電気的要素も設けられておら
ず、図示しない質問器からの質問用の磁束を効率的に捕
捉し得るものである。
The multi-loop coil 11 of this embodiment comprises:
No electrical element is provided in the central portion S, and the magnetic flux for interrogation from an interrogator (not shown) can be efficiently captured.

【0027】また、コンデンサ12の一方の電極(下側
電極)12Lは、多重ループコイル11が設けられてい
る絶縁性基板17の面と同一の面(すなわち、上面)に
設けられている。なお、下側電極12Lは、多重ループ
コイル11の導電パターンと同一の導電性材料によって
形成されている。下側電極12Lは、例えば、正方形形
状を有し、その1個の隅部(図示のものは左下隅部)が
接続端子14Lに接続されている。
The one electrode (lower electrode) 12L of the capacitor 12 is provided on the same surface (ie, the upper surface) as the surface of the insulating substrate 17 on which the multiple loop coil 11 is provided. The lower electrode 12L is formed of the same conductive material as the conductive pattern of the multiple loop coil 11. The lower electrode 12L has, for example, a square shape, and one corner (the lower left corner in the figure) is connected to the connection terminal 14L.

【0028】なお、下側電極12Lは、その全領域がコ
ンデンサ12としての電荷蓄積機能を発揮するものでは
なく、後述するように、金属テープ13の領域と重なっ
ている領域が、電荷蓄積機能を発揮している。
The entire area of the lower electrode 12L does not exhibit the charge accumulation function as the capacitor 12, and the area overlapping the area of the metal tape 13 has the charge accumulation function as described later. Is showing.

【0029】この実施形態の場合、一方の接続端子14
Uは、かなりの面積を有する矩形領域として、多重ルー
プコイル11や下側電極12Lが設けられている絶縁性
基板17の面と同一の面(すなわち、上面)に設けられ
ている。この接続端子14Uの矩形領域の一方の辺の長
さは、図1において、下側電極12Lの一辺の長さと等
しくなされているが特に拘わるものではない。
In the case of this embodiment, one connection terminal 14
U is provided as a rectangular area having a considerable area on the same surface (that is, the upper surface) as the surface of the insulating substrate 17 on which the multiple loop coil 11 and the lower electrode 12L are provided. The length of one side of the rectangular area of the connection terminal 14U is equal to the length of one side of the lower electrode 12L in FIG. 1, but is not particularly limited.

【0030】金属テープ13は、図2に示すように、コ
ンデンサの電極間の誘電体として機能し得る接着層18
と、コンデンサの上側電極として機能し得る金属層12
Uとの積層構造でなるものであり、下側電極12Lから
接続端子14Uに亘って接合(貼着)されているもので
ある。この金属テープ13の金属層12Uは、下側電極
12Lと重なっている領域が、コンデンサ12の上側電
極として機能している。
As shown in FIG. 2, the metal tape 13 has an adhesive layer 18 which can function as a dielectric between the electrodes of the capacitor.
And a metal layer 12 that can function as an upper electrode of the capacitor.
U, and is bonded (sticked) from the lower electrode 12L to the connection terminal 14U. The region of the metal layer 12U of the metal tape 13 overlapping with the lower electrode 12L functions as the upper electrode of the capacitor 12.

【0031】金属テープ13に設けられている1又は複
数の凹部20は、後述するように、押圧凸部材などによ
る押圧により凹んだものであり、図2に示すように、押
圧力により接着層18の接着剤が押しのけられ、接続端
子14Uと金属テープ13の金属層12Uとを電気的に
接続させている。
The one or a plurality of recesses 20 provided in the metal tape 13 are recessed by pressing with a pressing convex member or the like, as described later, and as shown in FIG. Is pushed away, and the connection terminal 14U is electrically connected to the metal layer 12U of the metal tape 13.

【0032】(A−2)実施形態の製造方法 次に、以上のような回路要素でなる実施形態のIDタグ
10の製造方法(コンデンサの製造方法にもなってい
る)を説明する。
(A-2) Manufacturing Method of Embodiment Next, a method of manufacturing the ID tag 10 (also serving as a method of manufacturing a capacitor) of the embodiment including the above circuit elements will be described.

【0033】まず、絶縁性基板17上に、多重ループコ
イル11、コンデンサ12の下側電極12L及び接続端
子14Uとなる導電パターンを形成させる。例えば、絶
縁性基板17としては、例えば、PETを適用できる。
導電パターンの形成方法としては、例えば、銅やアルミ
ニウムのエッチングや、銀ペーストの印刷などを適用で
きる。また、例えば、接着剤を用いて銅箔を接着する方
法も適用できる。なお、図2は、接着剤19を用いて銅
箔を接着する方法を適用した場合を示している。
First, on the insulating substrate 17, a conductive pattern to be the multi-loop coil 11, the lower electrode 12L of the capacitor 12, and the connection terminal 14U is formed. For example, as the insulating substrate 17, for example, PET can be applied.
As a method of forming the conductive pattern, for example, etching of copper or aluminum, printing of a silver paste, or the like can be applied. Further, for example, a method of bonding a copper foil using an adhesive can also be applied. FIG. 2 shows a case where a method of bonding a copper foil using an adhesive 19 is applied.

【0034】次に、多重ループコイル11の跨線橋部分
16を形成する。例えば、絶縁レジスト層を設けた後、
銀ペーストを塗布することで形成する。跨線橋部分16
をエッチング処理により設けるようにしても良い。
Next, the overpass portion 16 of the multiple loop coil 11 is formed. For example, after providing an insulating resist layer,
It is formed by applying a silver paste. Overpass section 16
May be provided by an etching process.

【0035】図3は、このような処理を得た後での絶縁
性基板17上での導電パターンなどを示している。
FIG. 3 shows a conductive pattern and the like on the insulating substrate 17 after such processing is obtained.

【0036】その後、ICチップ15を所定位置に実装
すると共に、金属テープ13を所定位置に接合する。そ
して、金型などでなっている押圧凸部材によって、所定
位置を押圧し、接続端子14Uと金属テープ13の上側
電極として機能する金属層12Uとを電気的に接続させ
る凹部20を形成させる。
Thereafter, the IC chip 15 is mounted at a predetermined position, and the metal tape 13 is joined at the predetermined position. Then, a predetermined position is pressed by a pressing convex member formed of a mold or the like to form a concave portion 20 for electrically connecting the connection terminal 14U to the metal layer 12U functioning as an upper electrode of the metal tape 13.

【0037】以上のような処理により、図1に示す状態
のIDタグ10が形成され、それに適宜表皮被覆を施し
て、IDタグ10を完成させる。
By the above processing, the ID tag 10 in the state shown in FIG. 1 is formed, and the skin is appropriately coated to complete the ID tag 10.

【0038】(A−3)実施形態の効果 この実施形態のコンデンサ、コンデンサの製造方法及び
IDタグ10によれば、以下の効果を奏することができ
る。
(A-3) Effects of the Embodiment According to the capacitor, the method of manufacturing the capacitor, and the ID tag 10 of this embodiment, the following effects can be obtained.

【0039】(1)コンデンサ12の2個の上側電極
(金属層12U)、下側電極12Lが、金属テープ13
の絶縁性を有する接着層18を挟んで設けられていてそ
の距離を非常に短くできるので(従来は絶縁性基板の厚
さ)、所定容量を得るための上側電極(金属層12
U)、下側電極12Lの積層厚さtを抑えることがで
き、コンデンサ12として機能する部分の面積を抑える
ことができる。そのため、図1に示すように、コンデン
サ12を多重ループコイル11の外側に設けることがで
き、多重ループコイル11の磁束捕捉機能が有効に発揮
され、従来のIDタグより、交信可能距離を長くするこ
とができ、又は、従来のIDタグより、小型化すること
ができる。
(1) The two upper electrodes (metal layer 12U) and the lower electrode 12L of the capacitor 12
Is provided with the insulating layer 18 having an insulating property therebetween, and the distance can be extremely short (conventionally, the thickness of the insulating substrate).
U), the laminated thickness t of the lower electrode 12L can be reduced, and the area of the portion functioning as the capacitor 12 can be reduced. Therefore, as shown in FIG. 1, the capacitor 12 can be provided outside the multi-loop coil 11, the magnetic flux capturing function of the multi-loop coil 11 is effectively exhibited, and the communicable distance is longer than that of the conventional ID tag. Or smaller than conventional ID tags.

【0040】以下、このような効果を、実施例、比較例
1、比較例2との対比において説明する。
Hereinafter, such effects will be described in comparison with Examples, Comparative Examples 1 and 2.

【0041】(実施例)図3に示した寸法に従い、図1
に示す構成を有する実施例のIDタグ10を、以下の材
料により形成した。
(Embodiment) According to the dimensions shown in FIG.
The ID tag 10 of the example having the configuration shown in FIG.

【0042】 絶縁性基板(17) PET50μm 導電パターン(11他) 銅箔35μmを接着剤20μmで貼り合わせ 金属テープ(13) アルミ40μm +熱溶融接着剤(ポリオレフィン)10μm 跨線橋部分(16) 絶縁レジスト層+銀ペースト そして、ICチップ15として、フィリップス社製のR
FID用ICチップI・CODEを適用し、質問器とし
て日本マランツ社製のICODEリーダICW90Fを
適用した交信では、その可能距離は4cmであった。
Insulating substrate (17) PET 50 μm Conductive pattern (11 etc.) Copper foil 35 μm bonded with adhesive 20 μm Metal tape (13) Aluminum 40 μm + hot melt adhesive (polyolefin) 10 μm Overpass bridge part (16) Insulating resist layer + Silver paste And, as IC chip 15, R manufactured by Philips
In the communication using the FID IC chip I · CODE and the ICODE reader ICW90F manufactured by Marantz Japan as an interrogator, the possible distance was 4 cm.

【0043】(比較例1)従来の技術の項で説明した図
4(A)、(B)に示す構成及び寸法を有する比較例1
のIDタグ30を、以下の材料により形成した。
Comparative Example 1 Comparative Example 1 having the configuration and dimensions shown in FIGS. 4A and 4B described in the section of the prior art.
Was formed from the following materials.

【0044】 絶縁性基板(25) PET50μm 導電パターン(1他) 銅箔35μmを接着剤20μmで貼り合わせ そして、ICチップとして、フィリップス社製のRFI
D用ICチップI・CODEを適用し、質問器として日
本マランツ社製のICODEリーダICW90Fを適用
した交信では、その可能距離は4cmであった。
Insulative substrate (25) PET 50 μm Conductive pattern (1 etc.) Copper foil 35 μm is adhered with adhesive 20 μm And, as an IC chip, Philips RFI
In the communication using the IC chip I · CODE for D and the ICODE reader ICW90F manufactured by Marantz Japan as an interrogator, the possible distance was 4 cm.

【0045】比較例1(図4)は、絶縁性基板25や導
電パターンの材質を実施例と同じにし、交信可能距離を
同じにすることを意図したものである。図3及び図4の
比較から、絶縁性基板や導電パターンの材質を同じにし
た場合、実施例のIDタグ10の中央部分Sと積層厚さ
tがかなり小さくなることが分かる。
Comparative Example 1 (FIG. 4) is intended to make the materials of the insulating substrate 25 and the conductive pattern the same as those of the embodiment, and to make the communicable distance the same. 3 and FIG. 4, it can be seen that when the same material is used for the insulating substrate and the conductive pattern, the central portion S and the lamination thickness t of the ID tag 10 of the embodiment are considerably small.

【0046】(比較例2)従来の技術の項で説明した図
5(A)、(B)に示す構成及び寸法を有する比較例2
のIDタグ30を、以下の材料により形成した。
Comparative Example 2 Comparative Example 2 having the configuration and dimensions shown in FIGS. 5A and 5B described in the section of the prior art.
Was formed from the following materials.

【0047】 絶縁性基板(25) PI25μm 導電パターン(1他) 銅箔35μmを接着剤20μmで貼り合わせ そして、ICチップとして、フィリップス社製のRFI
D用ICチップI・CODEを適用し、質問器として日
本マランツ社製のICODEリーダICW90Fを適用
した交信では、その可能距離は2cmであった。
Insulative substrate (25) PI 25 μm Conductive pattern (1 etc.) Copper foil 35 μm is adhered with adhesive 20 μm, and RFI manufactured by Philips is used as an IC chip.
In the communication using the IC chip I · CODE for D and the ICODE reader ICW90F manufactured by Marantz Japan as an interrogator, the possible distance was 2 cm.

【0048】比較例2は、実施例のIDタグ10と同程
度の寸法にしたものである。しかも、コンデンサ容量を
確保するため、絶縁性基板として加工性は悪いが薄く形
成できるポリイミド(PI)を適用している。しかし、
比較例2では、コンデンサの面積が多重ループコイルの
中央部分Sの大半をしめるものとなり、磁束を受ける部
分が金属で広く覆われているので、交信可能距離は実施
例の半分程度となっている。
Comparative Example 2 has the same size as the ID tag 10 of the embodiment. In addition, in order to secure a capacitor capacity, polyimide (PI) is used as an insulating substrate, which is poor in workability but can be formed thin. But,
In Comparative Example 2, the area of the capacitor makes up most of the central portion S of the multi-loop coil, and since the portion receiving the magnetic flux is widely covered with metal, the communicable distance is about half that of the embodiment. .

【0049】以上のように、実施例、比較例1、比較例
2の対比により、実施形態のIDタグ10は、従来のI
Dタグより、交信可能距離を長くすることができ、又
は、従来のIDタグより、小型化することができること
が分かる。
As described above, according to the comparison between the example, the comparative example 1 and the comparative example 2, the ID tag 10 according to the embodiment is the conventional I tag.
It can be seen that the communicable distance can be made longer than the D tag, or the size can be made smaller than the conventional ID tag.

【0050】(2)この実施形態によれば、コンデンサ
12の容量は、絶縁性基板17の厚みに無関係であるの
で、この面で、絶縁性基板17の材質が問われることは
ない。すなわち、加工性に優れている安価な基板材料
(例えばPET)を適用することができる。
(2) According to this embodiment, since the capacitance of the capacitor 12 is independent of the thickness of the insulating substrate 17, the material of the insulating substrate 17 does not matter in this aspect. That is, an inexpensive substrate material (eg, PET) having excellent workability can be used.

【0051】(3)実施形態によれば、全ての回路要素
(コンデンサ12を含む)を、絶縁性基板17の片面に
設けることができる。その結果、導電パターンの形成処
理も片面だけに実行すれば良いので、製造工数や時間を
短いものにできる。また、導電パターンをエッチングで
形成しようとする場合でも、エッチング処理は一面で良
いので、除去される導電性材料を少なくでき、材料の無
駄を抑制することができる。
(3) According to the embodiment, all the circuit elements (including the capacitor 12) can be provided on one surface of the insulating substrate 17. As a result, the formation process of the conductive pattern may be performed only on one side, so that the number of manufacturing steps and time can be reduced. Further, even when a conductive pattern is to be formed by etching, the etching process can be performed on one side, so that the amount of the conductive material to be removed can be reduced, and waste of the material can be suppressed.

【0052】(4)実施形態によれば、全ての回路要素
(コンデンサ12を含む)を、絶縁性基板17の片面に
設けているため、IDタグ10の厚みを薄くすることが
期待できる。
(4) According to the embodiment, since all the circuit elements (including the capacitor 12) are provided on one surface of the insulating substrate 17, the thickness of the ID tag 10 can be expected to be reduced.

【0053】(5)実施形態によれば、金属テープ13
の幅やその接着層18の厚みや金属種類がコンデンサ容
量を規定するものになっているので、テープ幅や接着層
18の厚みや金属種類の選定により、コンデンサ容量の
設計変更やコンデンサ容量の調整を容易に行うことがで
きる。また、一旦、貼着された金属テープ13を剥がし
て幅や接着層18の厚みや金属種類などが異なる他の金
属テープ13を接合し、コンデンサ容量を変更するよう
なこともできる。また、接合された金属テープ13にパ
ンチ穴をあけてコンデンサ容量を調整することもでき
る。
(5) According to the embodiment, the metal tape 13
The width of the tape, the thickness of the adhesive layer 18 and the type of metal determine the capacitor capacity. Therefore, by selecting the tape width, the thickness of the adhesive layer 18 and the type of metal, the design of the capacitor can be changed or the capacitor can be adjusted. Can be easily performed. Alternatively, the capacitor tape can be changed by peeling off the pasted metal tape 13 and joining another metal tape 13 having a different width, a different thickness of the adhesive layer 18 and a different metal type. In addition, it is also possible to adjust the capacitor capacity by punching a hole in the bonded metal tape 13.

【0054】(6)実施形態によれば、コンデンサ12
に金属テープ13を利用しているので、絶縁性基板17
や金属テープ13の双方をロール状に用意しておき、そ
れらロールから引き出された部分に対して、ヒートロー
ルによる熱圧着や箔押し機などを適用し、連続的に処理
を施した連続生産も可能であり、生産効率の高い製造工
程が期待できる。
(6) According to the embodiment, the capacitor 12
Since the metal tape 13 is used for the insulating substrate 17
And metal tape 13 are prepared in the form of a roll, and the parts drawn from these rolls can be subjected to continuous processing by applying thermocompression bonding with a heat roll or a foil stamping machine. Therefore, a production process with high production efficiency can be expected.

【0055】(B)他の実施形態 上記実施形態においては、金属テープ13がコンデンサ
の上側電極となり得る金属層12Uと接着層18とでな
るものを示したが、3層以上の層構造を有するものであ
っても良い。例えば、被覆層を有していても良い。ま
た、誘電層として機能する部分を、上記実施形態の接着
層に代え、接着層、誘電層となる金属層、電極の金属層
との接着のための接着層の3層構造に置き換えても良
い。
(B) Other Embodiments In the above embodiment, the metal tape 13 is composed of the metal layer 12U which can be the upper electrode of the capacitor and the adhesive layer 18, but has a layer structure of three or more layers. It may be something. For example, it may have a coating layer. Further, the portion functioning as a dielectric layer may be replaced with a three-layer structure of an adhesive layer, a metal layer serving as a dielectric layer, and an adhesive layer for bonding an electrode to a metal layer, instead of the adhesive layer of the above embodiment. .

【0056】コンデンサの上側電極となり得る金属層1
2Uの金属種類は任意であり、アルミニューム、銅など
任意に選定すれば良い。接着層18の材質も、熱溶融型
接着剤、熱硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、感圧型接
着剤などのいずれを適用しても良い。
Metal layer 1 that can be an upper electrode of a capacitor
The metal type of 2U is arbitrary, and may be arbitrarily selected, such as aluminum or copper. The material of the adhesive layer 18 may be any of a hot-melt adhesive, a thermosetting adhesive, a moisture-curable adhesive, a pressure-sensitive adhesive, and the like.

【0057】また、絶縁性基板17の材質や、導電パタ
ーンの材質や、導電パターンの形成方法などは問われ
ず、任意のものを適用すれば良い。
The material of the insulating substrate 17, the material of the conductive pattern, and the method of forming the conductive pattern are not limited, and any material may be used.

【0058】金属テープ13の金属層12Uと接続端子
14Uとの電気的接続方法は、上記実施形態のような押
圧方法に限定されない。例えば、金属テープ13の接着
層18の一部を剥がしておき(設けないでおき)、そこ
の部分で接続端子14Uと接続されても良い。また例え
ば、金属針を刺すことを通じて、金属層12Uと接続端
子14Uとを電気的に接続させても良い。
The method for electrically connecting the metal layer 12U of the metal tape 13 and the connection terminals 14U is not limited to the pressing method as in the above embodiment. For example, a part of the adhesive layer 18 of the metal tape 13 may be peeled off (not provided), and the part may be connected to the connection terminal 14U. Further, for example, the metal layer 12U and the connection terminal 14U may be electrically connected to each other by piercing a metal needle.

【0059】上記実施形態では、本発明のコンデンサを
IDタグに適用したものを示したが、本発明のコンデン
サの用途は、コンデンサを要素に含む平面電子回路に広
く適用することができる。用途によっては、本発明のコ
ンデンサを複数含んでいても良く、複数のコンデンサで
金属テープを共用していても良い。
In the above embodiment, the capacitor of the present invention is applied to an ID tag. However, the use of the capacitor of the present invention can be widely applied to a planar electronic circuit including a capacitor as an element. Depending on the application, a plurality of capacitors of the present invention may be included, and a plurality of capacitors may share a metal tape.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上のように、本発明のコンデンサ、コ
ンデンサの製造方法によれば、一面に絶縁性接着層を有
し、この絶縁性接着層より上層に一方のコンデンサ電極
となる金属層を有する金属テープを、絶縁性基板に設け
られた他方のコンデンサ電極の上に接合させてコンデン
サを形成させているので、コンデンサの形成が容易であ
り、コンデンサの特性として所望する特性が得られる、
材料の無駄を最小限に抑えられる、コンデンサが他の回
路要素へ影響を与えることを防止し得るなどの各種の利
点が得られる。
As described above, according to the capacitor and the method of manufacturing the capacitor of the present invention, an insulating adhesive layer is provided on one side, and a metal layer serving as one capacitor electrode is provided above the insulating adhesive layer. Since the metal tape having is bonded to the other capacitor electrode provided on the insulating substrate to form the capacitor, it is easy to form the capacitor, and the desired characteristics can be obtained as the characteristics of the capacitor.
Various advantages are obtained, such as minimizing material waste and preventing the capacitor from affecting other circuit elements.

【0061】また、本発明のIDタグによれば、コンデ
ンサとして、本発明のコンデンサを適用しているので、
IDタグの特性を向上でき、また、IDタグを小形、薄
いものにすることができる。
According to the ID tag of the present invention, since the capacitor of the present invention is applied as a capacitor,
The characteristics of the ID tag can be improved, and the ID tag can be small and thin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態のIDタグの回路要素などを示す平面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing circuit elements and the like of an ID tag according to an embodiment.

【図2】図1のII−II矢視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG.

【図3】実施形態のIDタグの導電パターンなどを示す
平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a conductive pattern and the like of the ID tag of the embodiment.

【図4】従来(比較例1)のIDタグの導電パターンな
どを示す平面図及びそのIVB−IVB矢視断面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a conductive pattern and the like of a conventional (Comparative Example 1) ID tag and a cross-sectional view taken along line IVB-IVB thereof.

【図5】従来(比較例2)のIDタグの導電パターンな
どを示す平面図及びそのVB−VB矢視断面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a conductive pattern and the like of a conventional (Comparative Example 2) ID tag and a cross-sectional view taken along line VB-VB thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…IDタグ、 11…多重ループコイル、 12…コンデンサ、 12L…コンデンサの下側電極(第1のコンデンサ電
極)、 12U…金属層(コンデンサの上側電極;第2のコンデ
ンサ電極)、 13…金属テープ、 14L、14U…接続端子、 15…ICチップ、 17…絶縁性基板、 18…接着層(コンデンサの電極間の誘電体)、 20…凹部(金属層12Uと接続端子14Uとの電気的
接続部分)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... ID tag, 11 ... Multi-loop coil, 12 ... Capacitor, 12L ... Lower electrode of capacitor (1st capacitor electrode), 12U ... Metal layer (upper electrode of capacitor; 2nd capacitor electrode), 13 ... Metal Tape, 14L, 14U connection terminal, 15 IC chip, 17 insulating substrate, 18 adhesive layer (dielectric between electrodes of capacitor), 20 recess (electric connection between metal layer 12U and connection terminal 14U) part)

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年3月16日(2001.3.1
6)
[Submission date] March 16, 2001 (2001.3.1.
6)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All figures

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図1】 FIG.

【図2】 FIG. 2

【図3】 FIG. 3

【図4】 FIG. 4

【図5】 FIG. 5

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中田 安一 東京都板橋区本町23−23 リンテック株式 会社内 (72)発明者 田口 克久 東京都板橋区本町23−23 リンテック株式 会社内 Fターム(参考) 2C005 MB01 NA06 NA16 NA36 NA47 PA18 PA28 PA29 RA06 RA26 5B035 BA03 BB09 CA01 CA23 5E082 AB01 DD11 EE03 EE23 FF05 FG06  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Yasukazu Nakada 23-23 Honcho, Itabashi-ku, Tokyo Lintec Co., Ltd. (72) Inventor Katsuhisa 23-23 Honcho, Itabashi-ku, Tokyo F-term in Lintec Co., Ltd. 2C005 MB01 NA06 NA16 NA36 NA47 PA18 PA28 PA29 RA06 RA26 5B035 BA03 BB09 CA01 CA23 5E082 AB01 DD11 EE03 EE23 FF05 FG06

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性基板に設けられた導電層からなる
第1のコンデンサ電極と、 この第1のコンデンサ電極が設けられた上記絶縁性基板
の面に設けられた導電層からなる接続端子と、 一面に絶縁性接着層を有し、この絶縁性接着層より上層
に第2のコンデンサ電極となる金属層を有するものであ
って、上記第1のコンデンサ電極及び上記接続端子に亘
って接合された金属テープと、 上記接続端子と、その上方の、上記第2のコンデンサ電
極となる金属層部分とを電気的に接続させる導通手段と
を有することを特徴とするコンデンサ。
A first capacitor electrode comprising a conductive layer provided on an insulating substrate; and a connection terminal comprising a conductive layer provided on a surface of the insulating substrate provided with the first capacitor electrode. Having an insulating adhesive layer on one surface, and a metal layer serving as a second capacitor electrode above the insulating adhesive layer, which is joined over the first capacitor electrode and the connection terminal. And a conductive means for electrically connecting the connection terminal and the metal layer portion above the connection terminal and serving as the second capacitor electrode.
【請求項2】 絶縁性基板に導電層からなる第1のコン
デンサ電極を設ける工程と、 上記第1のコンデンサ電極が設けられた上記絶縁性基板
の面に導電層からなる接続端子を設ける工程と、 一面に絶縁性接着層を有し、この絶縁性接着層より上層
に第2のコンデンサ電極となる金属層を有する金属テー
プを、上記第1のコンデンサ電極及び上記接続端子に亘
って接合する工程と、 上記接続端子と、その上方の、上記第2のコンデンサ電
極となる金属層部分とを電気的に接続させる工程とを含
むことを特徴とするコンデンサの製造方法。
2. A step of providing a first capacitor electrode made of a conductive layer on an insulating substrate; and a step of providing a connection terminal made of a conductive layer on a surface of the insulating substrate provided with the first capacitor electrode. Joining a metal tape having an insulating adhesive layer on one surface and a metal layer serving as a second capacitor electrode above the insulating adhesive layer over the first capacitor electrode and the connection terminal; And a step of electrically connecting the connection terminal and a metal layer portion above the connection terminal and serving as the second capacitor electrode.
【請求項3】 コンデンサを回路要素としているIDタ
グにおいて、 上記コンデンサとして、請求項1に記載のコンデンサを
適用したことを特徴とするIDタグ。
3. An ID tag comprising a capacitor as a circuit element, wherein the capacitor according to claim 1 is applied as the capacitor.
JP2001074213A 2001-03-15 2001-03-15 Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag Pending JP2002280252A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001074213A JP2002280252A (en) 2001-03-15 2001-03-15 Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001074213A JP2002280252A (en) 2001-03-15 2001-03-15 Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002280252A true JP2002280252A (en) 2002-09-27

Family

ID=18931521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001074213A Pending JP2002280252A (en) 2001-03-15 2001-03-15 Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002280252A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103155064A (en) * 2010-07-28 2013-06-12 诺基亚公司 Telecommunication apparatus and associated methods
JP2014153808A (en) * 2013-02-06 2014-08-25 Hitachi Chemical Co Ltd Circuit board for non-contact type ic card or non-contact type ic tag, and the non-contact type ic card or the non-contact type ic tag

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0383923U (en) * 1989-12-14 1991-08-26

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0383923U (en) * 1989-12-14 1991-08-26

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103155064A (en) * 2010-07-28 2013-06-12 诺基亚公司 Telecommunication apparatus and associated methods
JP2014153808A (en) * 2013-02-06 2014-08-25 Hitachi Chemical Co Ltd Circuit board for non-contact type ic card or non-contact type ic tag, and the non-contact type ic card or the non-contact type ic tag

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW502220B (en) IC card
US7871008B2 (en) Wireless IC device and manufacturing method thereof
US8348170B2 (en) Method for producing an antenna on a substrate
US7069652B2 (en) Method for producing laminated smart cards
JP2005129019A (en) Ic card
JP2002366917A (en) Ic card incorporating antenna
US20050212131A1 (en) Electric wave readable data carrier manufacturing method, substrate, and electronic component module
JP2001024145A (en) Semiconductor device and its manufacture
US6404644B1 (en) Non-contact IC card
JP2001043336A (en) Ic card
JP5155616B2 (en) RFID tag, RFID system, and RFID tag manufacturing method
US7154758B2 (en) Method and semi-product for producing a chip card with a coil
JP7474251B2 (en) Electronic modules for chip cards
JP3529657B2 (en) Method of attaching semiconductor element to thermoplastic resin substrate, method of manufacturing non-contact IC card, and thermoplastic resin substrate having semiconductor element attached
KR101607835B1 (en) Antenna and method for manufacturing thereof
KR20090043077A (en) Antenna for radio frequency identification and method of manufacturing the same
KR101469764B1 (en) Antenna and method for manufacturing thereof
JP2002280252A (en) Capacitor, and manufacturing method of capacitor, and id tag
JP2012094948A (en) Inlet for non-contact communication recording medium, method of manufacturing the same, and non-contact communication recording medium
JP4413305B2 (en) IC card
KR20100055735A (en) Method for manufacturing antenna for radio frequency identification
JP2002207982A (en) Ic module for both contact and non-contact and ic card
JP2000057287A (en) Noncontact type data carrier
JP2000163551A (en) Substrate for card and its production
KR200246501Y1 (en) contactless IC card with an integrated chip

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071120

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100202

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100706