JP2002275186A - 有機スズ化合物の製造方法 - Google Patents
有機スズ化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不飽和結合を有する有機スズ化合物を安全か
つ経済的に有利に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 遷移金属元素（周期表４族元素〜周期表
１１族元素）で構成された触媒存在下、不飽和炭化水素
類（オレフィン系又はアセチレン系不飽和化合物）と、
アルキニルスズ化合物とを反応させ、不飽和結合を有す
る有機スズ化合物を製造する。この方法において、反応
は、周期表１５族元素又は周期表１６族元素を含む化合
物（例えば、トリアルキルホスフィン）の共存下で行っ
てもよい。
つ経済的に有利に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 遷移金属元素（周期表４族元素〜周期表
１１族元素）で構成された触媒存在下、不飽和炭化水素
類（オレフィン系又はアセチレン系不飽和化合物）と、
アルキニルスズ化合物とを反応させ、不飽和結合を有す
る有機スズ化合物を製造する。この方法において、反応
は、周期表１５族元素又は周期表１６族元素を含む化合
物（例えば、トリアルキルホスフィン）の共存下で行っ
てもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、遷移金属触媒を用
いて、アルキニルスズ化合物とオレフィン系又はアセチ
レン系化合物との反応により有機スズ化合物を製造する
方法に関する。
いて、アルキニルスズ化合物とオレフィン系又はアセチ
レン系化合物との反応により有機スズ化合物を製造する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機スズ化合物は、多くの医薬品・機能
性物質などの鍵中間体として有機合成分野で利用するこ
とが提案されている。この有機スズ化合物は、有機合成
において、類似の反応に用いられるアルカリ金属やアル
カリ土類金属を含む有機金属化合物と比べて水や空気に
対して安定であるという利点を有する。このような背景
から、有機スズ化合物又はその誘導体を安全かつ経済的
に有利に製造する方法が期待されている。
性物質などの鍵中間体として有機合成分野で利用するこ
とが提案されている。この有機スズ化合物は、有機合成
において、類似の反応に用いられるアルカリ金属やアル
カリ土類金属を含む有機金属化合物と比べて水や空気に
対して安定であるという利点を有する。このような背景
から、有機スズ化合物又はその誘導体を安全かつ経済的
に有利に製造する方法が期待されている。
【０００３】例えば、Tetrahedron Letters, 1999, 40,
7367、及びTetrahedron, 1999, 55, 2205,では、パラ
ジウム触媒による有機スズ化合物とハロゲン化物とのカ
ップリング反応を鍵反応とする立体選択的なオレフィン
類の合成法として報告されている。しかし、この方法で
は、環境に対する負荷が高い有機ハロゲン化合物を用い
る必要がある。また、J. Amer. Chem. Soc., 1998，12
0，2975.及び、Organometallics, 2000， 19， 5671.で
は、パラジウム触媒を用いるアルキンと有機スズ試薬と
の反応が報告され、さらに、J. Amer. Chem. Soc., 199
9, 121， 10221.では、ニッケル触媒を用いる同様の反
応がビニルスタナンの合成法として報告されている。し
かし、これらの方法では、得られるビニルスタナンの一
方の立体異性体しか得られない。
7367、及びTetrahedron, 1999, 55, 2205,では、パラ
ジウム触媒による有機スズ化合物とハロゲン化物とのカ
ップリング反応を鍵反応とする立体選択的なオレフィン
類の合成法として報告されている。しかし、この方法で
は、環境に対する負荷が高い有機ハロゲン化合物を用い
る必要がある。また、J. Amer. Chem. Soc., 1998，12
0，2975.及び、Organometallics, 2000， 19， 5671.で
は、パラジウム触媒を用いるアルキンと有機スズ試薬と
の反応が報告され、さらに、J. Amer. Chem. Soc., 199
9, 121， 10221.では、ニッケル触媒を用いる同様の反
応がビニルスタナンの合成法として報告されている。し
かし、これらの方法では、得られるビニルスタナンの一
方の立体異性体しか得られない。
【０００４】なお、１つの有機スズ化合物を用い、複数
の不飽和結合を形成できれば、多様な産業に必要な高分
子素材、例えば、複数の不飽和結合を有する化合物〔複
数の炭素−炭素二重結合を有するジエン類や炭素−炭素
三重結合と炭素−炭素二重結合とを有するエンイン類
や、特に、最近改めて導電性材料などとして注目を集め
ているポリアセチレンなど〕の製造方法などに利用する
ことが期待できる。しかし、通常の反応では、１つの不
飽和結合に付加するスズ化合物は、それほど多くなく、
高分子化合物の製造には適用できない。
の不飽和結合を形成できれば、多様な産業に必要な高分
子素材、例えば、複数の不飽和結合を有する化合物〔複
数の炭素−炭素二重結合を有するジエン類や炭素−炭素
三重結合と炭素−炭素二重結合とを有するエンイン類
や、特に、最近改めて導電性材料などとして注目を集め
ているポリアセチレンなど〕の製造方法などに利用する
ことが期待できる。しかし、通常の反応では、１つの不
飽和結合に付加するスズ化合物は、それほど多くなく、
高分子化合物の製造には適用できない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、有機スズ化合物を安全かつ経済的に有利に製造でき
る方法を提供することにある。
は、有機スズ化合物を安全かつ経済的に有利に製造でき
る方法を提供することにある。
【０００６】本発明の他の目的は、複数の不飽和結合を
有する有機スズ化合物を簡便かつ効率よく製造できる方
法を提供することにある。
有する有機スズ化合物を簡便かつ効率よく製造できる方
法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は前記課題を解
決するため鋭意検討した結果、遷移金属触媒の存在下、
不飽和炭化水素類（オレフィン系又はアセチレン系不飽
和化合物）とアルキニルスズ化合物とを反応させると、
スタニル基の転位を伴って不飽和化合物の不飽和結合の
Ｃ−Ｈがアルキニルスズへ効率よく付加することを見い
だし、本発明を完成した。
決するため鋭意検討した結果、遷移金属触媒の存在下、
不飽和炭化水素類（オレフィン系又はアセチレン系不飽
和化合物）とアルキニルスズ化合物とを反応させると、
スタニル基の転位を伴って不飽和化合物の不飽和結合の
Ｃ−Ｈがアルキニルスズへ効率よく付加することを見い
だし、本発明を完成した。
【０００８】すなわち、本発明の方法では、遷移金属元
素で構成された触媒の存在下、不飽和炭化水素類（オレ
フィン系又はアセチレン系不飽和化合物）と、アルキニ
ルスズ化合物とを反応させ、有機スズ化合物を製造す
る。この方法において、遷移金属元素は、周期表４族元
素〜周期表１１族元素などから選択できる。反応は、周
期表１５族元素又は周期表１６族元素を含む化合物（例
えば、トリアルキルホスフィン）の共存下で行ってもよ
い。
素で構成された触媒の存在下、不飽和炭化水素類（オレ
フィン系又はアセチレン系不飽和化合物）と、アルキニ
ルスズ化合物とを反応させ、有機スズ化合物を製造す
る。この方法において、遷移金属元素は、周期表４族元
素〜周期表１１族元素などから選択できる。反応は、周
期表１５族元素又は周期表１６族元素を含む化合物（例
えば、トリアルキルホスフィン）の共存下で行ってもよ
い。
【０００９】前記反応は、例えば、下記反応式で表すこ
とができる。
とができる。
【００１０】
【化４】
【００１１】（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は、同一又は
異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を示
し、これらの基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は置換基を有してい
てもよい。Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8は、同一又は異なって、
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は
アラルキル基を示し、これらの基は置換基を有していて
もよく、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合していてもよい）
異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を示
し、これらの基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は置換基を有してい
てもよい。Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8は、同一又は異なって、
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は
アラルキル基を示し、これらの基は置換基を有していて
もよく、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合していてもよい）
【００１２】
【発明の実施の形態】［遷移金属触媒］遷移金属触媒を
構成する遷移金属は、周期表３族元素（Sc、Y及び希土
類元素）、周期表４族元素、周期表５族元素、周期表６
族元素、周期表７族元素、周期表８族元素、周期表９族
元素、周期表１０族元素、周期表１１族元素に分類され
る。これらの遷移金属で構成された触媒は、単独で又は
二種以上組み合わせて使用できる。前記元素の酸化数
は、特に制限されず、元素の種類に応じて、例えば、
０、＋１〜＋８などであってもよい。
構成する遷移金属は、周期表３族元素（Sc、Y及び希土
類元素）、周期表４族元素、周期表５族元素、周期表６
族元素、周期表７族元素、周期表８族元素、周期表９族
元素、周期表１０族元素、周期表１１族元素に分類され
る。これらの遷移金属で構成された触媒は、単独で又は
二種以上組み合わせて使用できる。前記元素の酸化数
は、特に制限されず、元素の種類に応じて、例えば、
０、＋１〜＋８などであってもよい。
【００１３】好ましい遷移金属元素には、例えば、周期
表４族元素（チタンＴｉ、ジルコニウムＺｒ、ハフニウ
ムＨｆ）、周期表５族元素（バナジウムＶ、ニオブＮ
ｂ、タンタルＴａ）、周期表６族元素（クロムＣｒ、モ
リブデンＭｏ、タングステンＷ）、周期表７族元素（マ
ンガンＭｎ、テクネチウムＴｃ、レニウムＲｅ）、周期
表８族元素（鉄Ｆｅ、ルテニウムＲｕ、オスミウムＯ
ｓ）、周期表９族元素（コバルトＣｏ、ロジウムＲｈ、
イリジウムＩｒ）、周期表１０族元素（ニッケルＮｉ、
パラジウムＰｄ、白金Ｐｔ）、周期表１１族元素（銅Ｃ
ｕ、銀Ａｇ、金Ａｕ）などが含まれる。さらに好ましい
遷移金属は、周期表６族元素（Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ）、周期
表８族元素（Ｒｕなど）、周期表９族元素（Ｃｏ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ）であり、特に、周期表６族元素（Ｃｒ，
Ｗ）、周期表８族元素（Ｒｕなど）、周期表９族元素
（Ｒｈなど）である。
表４族元素（チタンＴｉ、ジルコニウムＺｒ、ハフニウ
ムＨｆ）、周期表５族元素（バナジウムＶ、ニオブＮ
ｂ、タンタルＴａ）、周期表６族元素（クロムＣｒ、モ
リブデンＭｏ、タングステンＷ）、周期表７族元素（マ
ンガンＭｎ、テクネチウムＴｃ、レニウムＲｅ）、周期
表８族元素（鉄Ｆｅ、ルテニウムＲｕ、オスミウムＯ
ｓ）、周期表９族元素（コバルトＣｏ、ロジウムＲｈ、
イリジウムＩｒ）、周期表１０族元素（ニッケルＮｉ、
パラジウムＰｄ、白金Ｐｔ）、周期表１１族元素（銅Ｃ
ｕ、銀Ａｇ、金Ａｕ）などが含まれる。さらに好ましい
遷移金属は、周期表６族元素（Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ）、周期
表８族元素（Ｒｕなど）、周期表９族元素（Ｃｏ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ）であり、特に、周期表６族元素（Ｃｒ，
Ｗ）、周期表８族元素（Ｒｕなど）、周期表９族元素
（Ｒｈなど）である。
【００１４】前記遷移金属源は、金属単体であってもよ
いが、好ましくは遷移金属元素を含む化合物である。遷
移金属元素の化合物には、例えば、金属酸化物（酸化ク
ロム、酸化タングステン、酸化ルテニウムなど）、無機
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、過ハロゲン酸塩、塩化
水素酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素酸塩など）、
有機酸塩（例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など
のスルホン酸塩、ホスホン酸塩、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸などのＣ1-12カルボン酸塩など）、ハロゲン化物
（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物など）、錯体（又
は錯塩）などが含まれる。また、遷移金属触媒として
は、これら金属化合物が担体（活性炭、シリカ、アルミ
ナ、チタニアなど）に担持された固体触媒であってもよ
い。
いが、好ましくは遷移金属元素を含む化合物である。遷
移金属元素の化合物には、例えば、金属酸化物（酸化ク
ロム、酸化タングステン、酸化ルテニウムなど）、無機
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、過ハロゲン酸塩、塩化
水素酸、臭化水素酸などのハロゲン化水素酸塩など）、
有機酸塩（例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など
のスルホン酸塩、ホスホン酸塩、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸などのＣ1-12カルボン酸塩など）、ハロゲン化物
（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物など）、錯体（又
は錯塩）などが含まれる。また、遷移金属触媒として
は、これら金属化合物が担体（活性炭、シリカ、アルミ
ナ、チタニアなど）に担持された固体触媒であってもよ
い。
【００１５】錯体を構成する配位子は、例えば、ＯＨ
（ヒドロキソ）、Ｃ1-4アルコキシ基、Ｃ1-4アシル基、
Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル基、アセチルアセトナ
ト、シクロペンタジエニル基、シクロオクタジエニル
基、ベンジリデン基、ビニリデン基、ベンジリデンアセ
トン、ベンジリデンアセチルアセトナト、ベンジリデン
アセトフェノン、シクロアルカジエン（シクロペンタジ
エン、シクロオクタジエンなど）、芳香族炭化水素類
（ベンゼン、トルエン、シメン、クメン、キシレン、ナ
フタレンなど）、ハロゲン原子、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（例えば、トリフェニ
ルホスフィンなどのトリアリールホスフィン）、ホスフ
ァイト（例えば、トリフェニルホスファイトなどのトリ
アリールホスファイト）、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、
ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリ
ン、ビピリジル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ｔ
−オクチルイソシアニドなどの窒素含有化合物などが挙
げられる。錯体又は錯塩において、同種又は異種の配位
子が一種又は二種以上配位してもよい。また、ドデカカ
ルボニル三ルテニウムなどのクラスター化合物のよう
に、１分子の錯体又は錯塩の中に複数の遷移金属原子を
含んでいてもよい。
（ヒドロキソ）、Ｃ1-4アルコキシ基、Ｃ1-4アシル基、
Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル基、アセチルアセトナ
ト、シクロペンタジエニル基、シクロオクタジエニル
基、ベンジリデン基、ビニリデン基、ベンジリデンアセ
トン、ベンジリデンアセチルアセトナト、ベンジリデン
アセトフェノン、シクロアルカジエン（シクロペンタジ
エン、シクロオクタジエンなど）、芳香族炭化水素類
（ベンゼン、トルエン、シメン、クメン、キシレン、ナ
フタレンなど）、ハロゲン原子、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（例えば、トリフェニ
ルホスフィンなどのトリアリールホスフィン）、ホスフ
ァイト（例えば、トリフェニルホスファイトなどのトリ
アリールホスファイト）、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、
ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリ
ン、ビピリジル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ｔ
−オクチルイソシアニドなどの窒素含有化合物などが挙
げられる。錯体又は錯塩において、同種又は異種の配位
子が一種又は二種以上配位してもよい。また、ドデカカ
ルボニル三ルテニウムなどのクラスター化合物のよう
に、１分子の錯体又は錯塩の中に複数の遷移金属原子を
含んでいてもよい。
【００１６】代表的な錯体又は錯塩としては、例えば、
カルボニル基、ＮＯ、ホスフィン、シクロアルカジエ
ン、ベンジリデン、芳香族炭化水素類、ハロゲン原子な
どを配位子として含む錯体、具体的には、例えば、ジカ
ルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウ
ム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニ
ウム、ルテノセンなど〕、テトラクロロビス（η−ｐ−
シメン）二ルテニウム、ビス（トリシクロヘキシルホス
フィン）ベンジリデンルテニウムクロライドなどのルテ
ニウム錯体又は錯塩、およびこれらに対応する前記遷移
金属などが例示できる。また、錯体又は錯塩は、例え
ば、テトラクロロビス（η−ベンゼン）二ルテニウムに
対してｐ−シメンを添加する方法などにより、反応系中
で生成させて用いてもよい。
カルボニル基、ＮＯ、ホスフィン、シクロアルカジエ
ン、ベンジリデン、芳香族炭化水素類、ハロゲン原子な
どを配位子として含む錯体、具体的には、例えば、ジカ
ルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウ
ム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニ
ウム、ルテノセンなど〕、テトラクロロビス（η−ｐ−
シメン）二ルテニウム、ビス（トリシクロヘキシルホス
フィン）ベンジリデンルテニウムクロライドなどのルテ
ニウム錯体又は錯塩、およびこれらに対応する前記遷移
金属などが例示できる。また、錯体又は錯塩は、例え
ば、テトラクロロビス（η−ベンゼン）二ルテニウムに
対してｐ−シメンを添加する方法などにより、反応系中
で生成させて用いてもよい。
【００１７】［有機スズ化合物］有機スズ化合物は、分
子内に少なくとも１つのアルキニルスズ結合を含む化合
物（エチニルスズ結合などを含むアルキニルスズ化合
物）である限り特に制限されない。代表的な有機スズ化
合物は、例えば、下記式（１）で表すことができる。
子内に少なくとも１つのアルキニルスズ結合を含む化合
物（エチニルスズ結合などを含むアルキニルスズ化合
物）である限り特に制限されない。代表的な有機スズ化
合物は、例えば、下記式（１）で表すことができる。
【００１８】
【化５】
【００１９】（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は、同一又は
異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を示
し、これらの基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は置換基を有してい
てもよい） Ｒ1〜Ｒ4で表されるハロゲン原子には、フッ素、塩素、
臭素およびヨウ素原子が含まれる。アルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘ
キシル、オクチル基などのＣ1-20アルキル基（好ましく
はＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル基）が例示で
きる。アルケニル基には、ビニル、プロペニル、イソプ
ロペニル、アリル、ブテニル基などのＣ2-20アルケニル
基（好ましくはＣ2-10アルケニル基、特にＣ2-6アルキ
レン基）が例示できる。
異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を示
し、これらの基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は置換基を有してい
てもよい） Ｒ1〜Ｒ4で表されるハロゲン原子には、フッ素、塩素、
臭素およびヨウ素原子が含まれる。アルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘ
キシル、オクチル基などのＣ1-20アルキル基（好ましく
はＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル基）が例示で
きる。アルケニル基には、ビニル、プロペニル、イソプ
ロペニル、アリル、ブテニル基などのＣ2-20アルケニル
基（好ましくはＣ2-10アルケニル基、特にＣ2-6アルキ
レン基）が例示できる。
【００２０】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どのＣ6-14アリール基が含まれ、アラルキル基には、ベ
ンジル、フェネチル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4ア
ルキル基が含まれる。
どのＣ6-14アリール基が含まれ、アラルキル基には、ベ
ンジル、フェネチル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4ア
ルキル基が含まれる。
【００２１】複素環基には、窒素、酸素及び硫黄原子か
ら選択された少なくとも１つのヘテロ原子を環の構成原
子として含む５又は６員複素環基、複素環と炭化水素環
とが縮合した縮合複素環基が例示でき、複素環基は芳香
族性又は非芳香族性複素環基であってもよい。このよう
な複素環基に対応する複素環化合物としては、例えば、
チオフェンなどの硫黄含有複素環化合物、フラン、クロ
メン、クロマンなどの酸素含有複素環化合物、ピロー
ル、イミダゾール、ピリジン、インドール、キノリン、
カルバゾール、アクリジン、フェナジン、ピペリジン、
ピペラジン、モルホリンなどの窒素含有複素環化合物な
どが例示できる。
ら選択された少なくとも１つのヘテロ原子を環の構成原
子として含む５又は６員複素環基、複素環と炭化水素環
とが縮合した縮合複素環基が例示でき、複素環基は芳香
族性又は非芳香族性複素環基であってもよい。このよう
な複素環基に対応する複素環化合物としては、例えば、
チオフェンなどの硫黄含有複素環化合物、フラン、クロ
メン、クロマンなどの酸素含有複素環化合物、ピロー
ル、イミダゾール、ピリジン、インドール、キノリン、
カルバゾール、アクリジン、フェナジン、ピペリジン、
ピペラジン、モルホリンなどの窒素含有複素環化合物な
どが例示できる。
【００２２】基Ｒ1〜Ｒ4はその種類に応じて置換基を有
していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素原子）、アルキル基（メチル、
エチル、プロピル、ブチル基などの前記例示のＣ1-20ア
ルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6ア
ルキル基）、アルケニル基（ビニル、プロペニル、イソ
プロペニル、ブテニル基などの前記例示のＣ2-10アルケ
ニル基、好ましくはＣ 2-6アルケニル基）、アリール基
（フェニル基などの前記例示のＣ6-14アリール基）、ア
ラルキル基（ベンジル、フェネチル基などのＣ6-10アリ
ール−Ｃ1-4アルキル基）、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基（メトキシ、エトキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基
などのＣ1-6アルコキシ基）、上記アルコキシ基に対応
するＣ1-6チオアルコキシ基、アリールオキシ基（フェ
ノキシ基など）、カルボニル基（又はケト基）、アシル
基（アセチル、プロピオニル基などの脂肪族Ｃ1-6アシ
ル基、ベンゾイル基などの芳香族アシル基など）、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル基など
のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基）、アリールオキシ
カルボニル基（フェノキシカルボニル基など）、アミノ
基、Ｎ−置換アミノ基（メチルアミノ、ブチルアミノ基
などのＮ−モノＣ1-4アルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ基などのＮ，Ｎ−
ジＣ1-4アルキルアミノ基、アセチルアミノ基などのア
シルアミノ基など）、ニトロ基，シアノ基などが例示で
きる。なお、基Ｒ1〜Ｒ4の置換基は、通常、基Ｒ1〜Ｒ4
とは異種の置換基である場合が多く、例えば、Ｒ1〜Ｒ4
が芳香族環を有する場合、この芳香環には、ハロゲン原
子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、脂肪族基（アル
キル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基など）が置換している場合が多い。
していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素原子）、アルキル基（メチル、
エチル、プロピル、ブチル基などの前記例示のＣ1-20ア
ルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6ア
ルキル基）、アルケニル基（ビニル、プロペニル、イソ
プロペニル、ブテニル基などの前記例示のＣ2-10アルケ
ニル基、好ましくはＣ 2-6アルケニル基）、アリール基
（フェニル基などの前記例示のＣ6-14アリール基）、ア
ラルキル基（ベンジル、フェネチル基などのＣ6-10アリ
ール−Ｃ1-4アルキル基）、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基（メトキシ、エトキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基
などのＣ1-6アルコキシ基）、上記アルコキシ基に対応
するＣ1-6チオアルコキシ基、アリールオキシ基（フェ
ノキシ基など）、カルボニル基（又はケト基）、アシル
基（アセチル、プロピオニル基などの脂肪族Ｃ1-6アシ
ル基、ベンゾイル基などの芳香族アシル基など）、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル基など
のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基）、アリールオキシ
カルボニル基（フェノキシカルボニル基など）、アミノ
基、Ｎ−置換アミノ基（メチルアミノ、ブチルアミノ基
などのＮ−モノＣ1-4アルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ基などのＮ，Ｎ−
ジＣ1-4アルキルアミノ基、アセチルアミノ基などのア
シルアミノ基など）、ニトロ基，シアノ基などが例示で
きる。なお、基Ｒ1〜Ｒ4の置換基は、通常、基Ｒ1〜Ｒ4
とは異種の置換基である場合が多く、例えば、Ｒ1〜Ｒ4
が芳香族環を有する場合、この芳香環には、ハロゲン原
子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、脂肪族基（アル
キル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基など）が置換している場合が多い。
【００２３】有機スズ化合物としては、例えば、トリア
ルキル（アルキニル）スズ［例えば、トリメチル（エチ
ニル）スズ、トリメチル（プロピニル）スズ、トリメチ
ル（オクチニル）スズ、トリブチル（エチニル）スズ、
トリブチル（プロピニル）スズ、トリブチル（オクチニ
ル）スズなどのトリＣ1-10アルキル（Ｃ2-16アルキニ
ル）スズ、好ましくはトリＣ1-6アルキル（Ｃ2-10アル
キニル）スズ、さらに好ましくはトリＣ1-4アルキル
（Ｃ2-10アルキニル）スズ］、トリアルキル（アリール
アルキニル）スズ［例えば、トリメチル（フェニルエチ
ニル）スズ、トリブチル（フェニルエチニル）スズなど
のトリＣ1-10アルキル（Ｃ6-10アリール−Ｃ 2-16アルキ
ニル）スズ、好ましくはトリＣ1-6アルキル（フェニル
−Ｃ2-10アルキニル）スズ、さらに好ましくはトリＣ
1-4アルキル（フェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、
ジアルキルジ（アルキニル）スズ［例えば、ジブチルジ
（エチニル）スズ、ジブチルジ（プロピニル）スズ、ジ
ブチルジ（オクチニル）スズなどのジＣ1-10アルキルジ
（Ｃ2-16アルキニル）スズ、好ましくはジＣ1-6アルキ
ルジ（Ｃ2-10アルキニル）スズ］、ジアルキルジ（アリ
ールアルキニル）スズ［例えば、ジブチルジ（フェニル
エチニル）スズなどのジＣ1-10アルキルジ（Ｃ6-14アリ
ール−Ｃ2-16アルキニル）スズ、好ましくはジＣ1-6ア
ルキルジ（フェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、アル
キルトリ（アルキニル）スズ［ブチルトリ（エチニル）
スズ、ブチルトリ（プロピニル）スズ、ブチルトリ（オ
クチニル）スズなどのＣ1-10アルキルトリ（Ｃ2-16アル
キニル）スズ、好ましくはＣ1-6アルキルトリ（Ｃ2-10
アルキニル）スズ〕、アルキルトリ（アリールアルキニ
ル）スズ［例えば、ブチルトリ（フェニルエチニル）ス
ズなどのＣ1-10アルキルトリ（Ｃ6-14アリール−Ｃ2-16
アルキニル）スズ、好ましくはＣ1-6アルキルトリ（フ
ェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、テトラアルキニル
スズ［テトラエチニルスズ、テトラプロピニルスズ、テ
トラオクチニルスズなどのテトラＣＣ2-16アルキニルス
ズ、好ましくはテトラＣ2-10アルキニルスズ〕、テトラ
（アリールアルキニル）スズ［例えば、テトラフェニル
エチニルスズなどのテトラ（Ｃ6-14アリール−Ｃ2-16ア
ルキニル）スズ、好ましくはテトラ（フェニル−Ｃ2-10
アルキニル）スズ）］などが例示できる。なお、これら
のアリール基には前記置換基（ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基など）が置換していてもよい。
ルキル（アルキニル）スズ［例えば、トリメチル（エチ
ニル）スズ、トリメチル（プロピニル）スズ、トリメチ
ル（オクチニル）スズ、トリブチル（エチニル）スズ、
トリブチル（プロピニル）スズ、トリブチル（オクチニ
ル）スズなどのトリＣ1-10アルキル（Ｃ2-16アルキニ
ル）スズ、好ましくはトリＣ1-6アルキル（Ｃ2-10アル
キニル）スズ、さらに好ましくはトリＣ1-4アルキル
（Ｃ2-10アルキニル）スズ］、トリアルキル（アリール
アルキニル）スズ［例えば、トリメチル（フェニルエチ
ニル）スズ、トリブチル（フェニルエチニル）スズなど
のトリＣ1-10アルキル（Ｃ6-10アリール−Ｃ 2-16アルキ
ニル）スズ、好ましくはトリＣ1-6アルキル（フェニル
−Ｃ2-10アルキニル）スズ、さらに好ましくはトリＣ
1-4アルキル（フェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、
ジアルキルジ（アルキニル）スズ［例えば、ジブチルジ
（エチニル）スズ、ジブチルジ（プロピニル）スズ、ジ
ブチルジ（オクチニル）スズなどのジＣ1-10アルキルジ
（Ｃ2-16アルキニル）スズ、好ましくはジＣ1-6アルキ
ルジ（Ｃ2-10アルキニル）スズ］、ジアルキルジ（アリ
ールアルキニル）スズ［例えば、ジブチルジ（フェニル
エチニル）スズなどのジＣ1-10アルキルジ（Ｃ6-14アリ
ール−Ｃ2-16アルキニル）スズ、好ましくはジＣ1-6ア
ルキルジ（フェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、アル
キルトリ（アルキニル）スズ［ブチルトリ（エチニル）
スズ、ブチルトリ（プロピニル）スズ、ブチルトリ（オ
クチニル）スズなどのＣ1-10アルキルトリ（Ｃ2-16アル
キニル）スズ、好ましくはＣ1-6アルキルトリ（Ｃ2-10
アルキニル）スズ〕、アルキルトリ（アリールアルキニ
ル）スズ［例えば、ブチルトリ（フェニルエチニル）ス
ズなどのＣ1-10アルキルトリ（Ｃ6-14アリール−Ｃ2-16
アルキニル）スズ、好ましくはＣ1-6アルキルトリ（フ
ェニル−Ｃ2-10アルキニル）スズ］、テトラアルキニル
スズ［テトラエチニルスズ、テトラプロピニルスズ、テ
トラオクチニルスズなどのテトラＣＣ2-16アルキニルス
ズ、好ましくはテトラＣ2-10アルキニルスズ〕、テトラ
（アリールアルキニル）スズ［例えば、テトラフェニル
エチニルスズなどのテトラ（Ｃ6-14アリール−Ｃ2-16ア
ルキニル）スズ、好ましくはテトラ（フェニル−Ｃ2-10
アルキニル）スズ）］などが例示できる。なお、これら
のアリール基には前記置換基（ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基など）が置換していてもよい。
【００２４】さらに、有機スズ化合物には、スズ原子に
水素原子を有する化合物（例えば、ジブチル（エチニ
ル）チンハイドライドなどのジＣ1-10アルキル（Ｃ2-10
アルキニル）チンハイドライドなど）、スズ原子にハロ
ゲン原子を有する化合物（例えば、ジブチル（エチニ
ル）チンクロライドなどのジＣ1-10アルキル（Ｃ2-10ア
ルキニル）チンハライド）なども含まれる。さらに、有
機スズ化合物には、後述するアセチレン系化合物のうち
α−アセチレン類や官能基を有するアセチレン類の水素
原子がスズ原子で置換した化合物も含む。
水素原子を有する化合物（例えば、ジブチル（エチニ
ル）チンハイドライドなどのジＣ1-10アルキル（Ｃ2-10
アルキニル）チンハイドライドなど）、スズ原子にハロ
ゲン原子を有する化合物（例えば、ジブチル（エチニ
ル）チンクロライドなどのジＣ1-10アルキル（Ｃ2-10ア
ルキニル）チンハライド）なども含まれる。さらに、有
機スズ化合物には、後述するアセチレン系化合物のうち
α−アセチレン類や官能基を有するアセチレン類の水素
原子がスズ原子で置換した化合物も含む。
【００２５】なお、ヒドロスタニル化やジスタニル化反
応、ハロゲン化スズとアセチレン系化合物との反応など
を利用して反応系中で発生させたアルキニルスズ化合物
をそのまま用いることもできる。
応、ハロゲン化スズとアセチレン系化合物との反応など
を利用して反応系中で発生させたアルキニルスズ化合物
をそのまま用いることもできる。
【００２６】［不飽和炭化水素類］不飽和炭化水素類
は、分子中に少なくとも１つの炭素−炭素不飽和結合
（炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合）を有する
限り、種々のオレフィン系化合物（アルケン類又はその
誘導体）及びアセチレン系化合物（アルキン類又はその
誘導体）が使用できる。代表的な不飽和炭化水素類は、
例えば、下記式（２）で表すことができる。
は、分子中に少なくとも１つの炭素−炭素不飽和結合
（炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合）を有する
限り、種々のオレフィン系化合物（アルケン類又はその
誘導体）及びアセチレン系化合物（アルキン類又はその
誘導体）が使用できる。代表的な不飽和炭化水素類は、
例えば、下記式（２）で表すことができる。
【００２７】
【化６】
【００２８】（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8は、同一又は
異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基又はアラルキル基を示し、これらの基は置換基を
有していてもよく、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合して炭
素−炭素三重結合を形成していてもよい） Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8で表されるアルキル基、アルケニル
基、、アリール基、アラルキル基としては、前記Ｒ1〜
Ｒ4と同様のアルキル基（Ｃ1-20アルキル基、好ましく
はＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル基）、アルケ
ニル基（Ｃ2-10アルケニル基、好ましくはＣ2-6アルケ
ニル基）、アリール基（フェニル基などのＣ6-14アリー
ル基）、アラルキル基（ベンジル基などのＣ6-10アリー
ル−Ｃ1-4アルキル基）が例示できる。また、Ｒ5〜Ｒ8
の置換基としても、前記Ｒ1〜Ｒ4と同様の置換基が例示
できる。置換基Ｒ5〜Ｒ8は、通常、水素原子、アルキル
基（例えば、Ｃ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル
基）、アルケニル基（例えば、Ｃ2-6アルケニル基、特
にＣ2-4アルケニル基）である。前記式（２）におい
て、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合して炭素−炭素三重結
合を形成し、アルキン類又はその誘導体を形成してもよ
い。
異なって、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基又はアラルキル基を示し、これらの基は置換基を
有していてもよく、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合して炭
素−炭素三重結合を形成していてもよい） Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8で表されるアルキル基、アルケニル
基、、アリール基、アラルキル基としては、前記Ｒ1〜
Ｒ4と同様のアルキル基（Ｃ1-20アルキル基、好ましく
はＣ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル基）、アルケ
ニル基（Ｃ2-10アルケニル基、好ましくはＣ2-6アルケ
ニル基）、アリール基（フェニル基などのＣ6-14アリー
ル基）、アラルキル基（ベンジル基などのＣ6-10アリー
ル−Ｃ1-4アルキル基）が例示できる。また、Ｒ5〜Ｒ8
の置換基としても、前記Ｒ1〜Ｒ4と同様の置換基が例示
できる。置換基Ｒ5〜Ｒ8は、通常、水素原子、アルキル
基（例えば、Ｃ1-10アルキル基、特にＣ1-6アルキル
基）、アルケニル基（例えば、Ｃ2-6アルケニル基、特
にＣ2-4アルケニル基）である。前記式（２）におい
て、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合して炭素−炭素三重結
合を形成し、アルキン類又はその誘導体を形成してもよ
い。
【００２９】（ｉ）オレフィン系化合物 不飽和炭化水素類のうちオレフィン系化合物は、分子中
に少なくとも１つの炭素−炭素二重結合を有する化合物
であればよく、例えば、α−オレフィン類（エチレン、
プロピレン、１−ブテンのα−Ｃ2-10オレフィン、スチ
レンなど）、内部に炭素−炭素二重結合を有する化合物
（２−ブテン、３−ヘキセン、４−オクテンなどのＣ
4-10オレフィン、スチルベンなど）、分子内に２以上の
二重結合を有するＣ5-20アルカジエン類（１，４−デカ
ジエン、ジヒドロミルセンなど）、二重結合を共役位置
に有するＣ5-20アルカジエン類（１，３−ブタジエン、
４，６−デカジエンなど）、環状化合物（シクロペンテ
ン、ノルボルネン、シクロペンタジエン、ジシクロペン
タジエン、シクロヘキセン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，８−シクロペンタデカジエンなど）などが例示
できる。
に少なくとも１つの炭素−炭素二重結合を有する化合物
であればよく、例えば、α−オレフィン類（エチレン、
プロピレン、１−ブテンのα−Ｃ2-10オレフィン、スチ
レンなど）、内部に炭素−炭素二重結合を有する化合物
（２−ブテン、３−ヘキセン、４−オクテンなどのＣ
4-10オレフィン、スチルベンなど）、分子内に２以上の
二重結合を有するＣ5-20アルカジエン類（１，４−デカ
ジエン、ジヒドロミルセンなど）、二重結合を共役位置
に有するＣ5-20アルカジエン類（１，３−ブタジエン、
４，６−デカジエンなど）、環状化合物（シクロペンテ
ン、ノルボルネン、シクロペンタジエン、ジシクロペン
タジエン、シクロヘキセン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，８−シクロペンタデカジエンなど）などが例示
できる。
【００３０】オレフィン系化合物には、分子中に炭素−
炭素二重結合と炭素−炭素三重結合とを含むエンイン化
合物（２−メチル−１−ヘキセン−３−イン、２−メチ
ル−１−オクテン−３−インなど）も含まれ、炭素−炭
素三重結合は、炭素−炭素二重結合に対して共役位置に
位置していてもよい。さらに、オレフィン系化合物に
は、酸素含有官能基を有する化合物〔ヒドロキシル基を
有する化合物（アリルアルコールなど）、カルボキシル
基を有する化合物又はその誘導体（アクリル酸、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
アクロレイン、フマル酸、マレイン酸、マレイン酸ジエ
ステルなど）、アルコキシ基を有する化合物（エトキシ
エチレンなど）、カルボニル基を有する化合物（３−ブ
テン−２−オン、シクロペンテノン、シクロヘキセノ
ン、イソホロン、ジケテン、ケテン、フラン、ベンゾフ
ラン、ヌートカトン、ベンゾキノンなど）など〕、窒素
含有官能基を有する化合物［アミノ基を有する化合物
（アリルアミンなど）、アクリロニトリル、ピロールな
ど］、ハロゲン含有化合物（アリルクロライド、３，
３，３−トリフルオロ−１−プロピレンなど）、リン、
スズ、ホウ素、ケイ素などのヘテロ原子を含む化合物
（アリルトリホスフォニウムブロマイドなどのホスホニ
ウム塩、アリルスズなどのスズ化合物、アリルボランな
どのホウ素化合物、（トリメチルシリル）エチレンなど
のケイ素化合物など）なども含まれる。さらには、アレ
ン系化合物（１，２−プロパジエンなど）も含まれる。
炭素二重結合と炭素−炭素三重結合とを含むエンイン化
合物（２−メチル−１−ヘキセン−３−イン、２−メチ
ル−１−オクテン−３−インなど）も含まれ、炭素−炭
素三重結合は、炭素−炭素二重結合に対して共役位置に
位置していてもよい。さらに、オレフィン系化合物に
は、酸素含有官能基を有する化合物〔ヒドロキシル基を
有する化合物（アリルアルコールなど）、カルボキシル
基を有する化合物又はその誘導体（アクリル酸、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
アクロレイン、フマル酸、マレイン酸、マレイン酸ジエ
ステルなど）、アルコキシ基を有する化合物（エトキシ
エチレンなど）、カルボニル基を有する化合物（３−ブ
テン−２−オン、シクロペンテノン、シクロヘキセノ
ン、イソホロン、ジケテン、ケテン、フラン、ベンゾフ
ラン、ヌートカトン、ベンゾキノンなど）など〕、窒素
含有官能基を有する化合物［アミノ基を有する化合物
（アリルアミンなど）、アクリロニトリル、ピロールな
ど］、ハロゲン含有化合物（アリルクロライド、３，
３，３−トリフルオロ−１−プロピレンなど）、リン、
スズ、ホウ素、ケイ素などのヘテロ原子を含む化合物
（アリルトリホスフォニウムブロマイドなどのホスホニ
ウム塩、アリルスズなどのスズ化合物、アリルボランな
どのホウ素化合物、（トリメチルシリル）エチレンなど
のケイ素化合物など）なども含まれる。さらには、アレ
ン系化合物（１，２−プロパジエンなど）も含まれる。
【００３１】（ｉｉ）アセチレン系化合物 不飽和炭化水素類のうちアセチレン系化合物は、分子内
に少なくとも１つの炭素−炭素三重結合を含む化合物で
あれば特に制限されない。アセチレン系化合物（アセチ
レン類）としては、例えば、α−Ｃ2-20アセチレン類
（アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチンなどのＣ
2-16アセチレン、特にＣ2-10アセチレン）、内部に炭素
−炭素三重結合を有するＣ2-20アセチレン類（２−ブテ
ン、３−ヘキシン、４−オクチン、トランなどのＣ2-16
アセチレン、特にＣ2-10アセチレン）、分子内に２以上
の三重結合を有するＣ5-20アルカジイン類（１，４−デ
カジインなどのＣ5-16アルカジイン、特にＣ5-10アルカ
ジイン）、三重結合を共役位置に有するＣ5-20アルカジ
イン類（４，６−デカジインなどのＣ5-16アルカジイ
ン、特にＣ5-10アルカジイン）、環状化合物（１，８−
シクロペンタデカジインなどのＣ4-16シクロアルキン又
はシクロアルカジイン、特にＣ5-10シクロアルキン又は
シクロアルカジイン）などが例示できる。
に少なくとも１つの炭素−炭素三重結合を含む化合物で
あれば特に制限されない。アセチレン系化合物（アセチ
レン類）としては、例えば、α−Ｃ2-20アセチレン類
（アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチンなどのＣ
2-16アセチレン、特にＣ2-10アセチレン）、内部に炭素
−炭素三重結合を有するＣ2-20アセチレン類（２−ブテ
ン、３−ヘキシン、４−オクチン、トランなどのＣ2-16
アセチレン、特にＣ2-10アセチレン）、分子内に２以上
の三重結合を有するＣ5-20アルカジイン類（１，４−デ
カジインなどのＣ5-16アルカジイン、特にＣ5-10アルカ
ジイン）、三重結合を共役位置に有するＣ5-20アルカジ
イン類（４，６−デカジインなどのＣ5-16アルカジイ
ン、特にＣ5-10アルカジイン）、環状化合物（１，８−
シクロペンタデカジインなどのＣ4-16シクロアルキン又
はシクロアルカジイン、特にＣ5-10シクロアルキン又は
シクロアルカジイン）などが例示できる。
【００３２】アセチレン系化合物は、分子中に炭素−炭
素三重結合と炭素−炭素二重結合とを含むエンイン化合
物（例えば、２−メチル−１−ヘキセン−３−イン、２
−メチル−１−オクテン−３−インなどのＣ5-16アルカ
エンイン類、特にＣ5-10アルカエンイン類）も含まれ、
炭素−炭素二重結合は、炭素−炭素三重結合に対して共
役位置に位置していてもよい。さらに、アセチレン系化
合物には、酸素含有官能基を有する化合物〔例えば、ヒ
ドロキシル基を有する化合物（プロパギルアルコールな
ど）、カルボニル基を有する化合物（３−ブチン−２−
オンなど）、カルボキシル基を有する化合物又はその誘
導体（アセチレンジカルボン酸、アセチレンジカルボン
酸ジエステルなど）、アルコキシ基を有する化合物（エ
トキシアセチレンなど）など〕、ハロゲン含有化合物
〔プロパギルクロライド、３，３，３−トリフルオロ−
１−プロピンなど〕、リン、スズ、ホウ素、ケイ素など
のヘテロ原子を含む化合物〔プロパギルトリフェニルホ
スフォニウムブロマイドなどのホスホニウム塩、アルキ
ニルスズなどのスズ化合物、アルキニルボランなどのホ
ウ素化合物、（トリメチルシリル）アセチレンなどのケ
イ素化合物など〕なども含まれる。
素三重結合と炭素−炭素二重結合とを含むエンイン化合
物（例えば、２−メチル−１−ヘキセン−３−イン、２
−メチル−１−オクテン−３−インなどのＣ5-16アルカ
エンイン類、特にＣ5-10アルカエンイン類）も含まれ、
炭素−炭素二重結合は、炭素−炭素三重結合に対して共
役位置に位置していてもよい。さらに、アセチレン系化
合物には、酸素含有官能基を有する化合物〔例えば、ヒ
ドロキシル基を有する化合物（プロパギルアルコールな
ど）、カルボニル基を有する化合物（３−ブチン−２−
オンなど）、カルボキシル基を有する化合物又はその誘
導体（アセチレンジカルボン酸、アセチレンジカルボン
酸ジエステルなど）、アルコキシ基を有する化合物（エ
トキシアセチレンなど）など〕、ハロゲン含有化合物
〔プロパギルクロライド、３，３，３−トリフルオロ−
１−プロピンなど〕、リン、スズ、ホウ素、ケイ素など
のヘテロ原子を含む化合物〔プロパギルトリフェニルホ
スフォニウムブロマイドなどのホスホニウム塩、アルキ
ニルスズなどのスズ化合物、アルキニルボランなどのホ
ウ素化合物、（トリメチルシリル）アセチレンなどのケ
イ素化合物など〕なども含まれる。
【００３３】なお、１，２−プロパジエンなどのアレン
系化合物を反応系中でアセチレン系化合物に異性化させ
て反応に用いることもできる。また、ベンザイン類を系
中で発生させても用いることができる。
系化合物を反応系中でアセチレン系化合物に異性化させ
て反応に用いることもできる。また、ベンザイン類を系
中で発生させても用いることができる。
【００３４】［反応］本発明の代表的な方法では、前記
遷移金属触媒の存在下、式（１）で表される有機スズ化
合物（アルキニルスズ化合物）と式（２）で表される不
飽和炭化水素類とを反応させ、下記式（３ａ）又は（３
ｂ）で表される化合物（オレフィン系又はアセチレン系
有機スズ化合物）を生成させる。
遷移金属触媒の存在下、式（１）で表される有機スズ化
合物（アルキニルスズ化合物）と式（２）で表される不
飽和炭化水素類とを反応させ、下記式（３ａ）又は（３
ｂ）で表される化合物（オレフィン系又はアセチレン系
有機スズ化合物）を生成させる。
【００３５】
【化７】
【００３６】（式中、Ｒ1〜Ｒ8は前記に同じ） すなわち、本発明の方法では、不飽和炭化水素基を有す
る有機スズ化合物（スタニルエンイン化合物）を生成さ
せることができ、有機スズ化合物を立体異性体として生
成させることもできる。
る有機スズ化合物（スタニルエンイン化合物）を生成さ
せることができ、有機スズ化合物を立体異性体として生
成させることもできる。
【００３７】［配位子又は反応促進剤］反応系に特定の
配位子又は反応促進剤を共存させると、反応を有効に促
進できる。この配位子又は反応促進剤は、通常、前記錯
体を構成する配位子のうち、周期表１５族元素又は周期
表１６族元素を含む化合物である。周期表１５族元素に
は、Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉなどが含まれ、周期表１
６族元素には、Ｏ，Ｓなどが含まれる。好ましい配位子
又は反応促進剤は、周期表１５族元素のうちＮ又はＰ、
周期表１６族元素のうちＯを含んでいる。
配位子又は反応促進剤を共存させると、反応を有効に促
進できる。この配位子又は反応促進剤は、通常、前記錯
体を構成する配位子のうち、周期表１５族元素又は周期
表１６族元素を含む化合物である。周期表１５族元素に
は、Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉなどが含まれ、周期表１
６族元素には、Ｏ，Ｓなどが含まれる。好ましい配位子
又は反応促進剤は、周期表１５族元素のうちＮ又はＰ、
周期表１６族元素のうちＯを含んでいる。
【００３８】このような化合物としては、例えば、リン
含有化合物［ホスフィン（例えば、トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィン、トリメチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィ
ン、トリイソプロピルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリイソブチルホスフィンなどのトリアルキルホス
フィン）、ホスファイト（例えば、トリフェニルホスフ
ァイトなどのトリアリールホスファイト）など］、窒素
含有化合物〔ＣＮ、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ
2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリン、
ピピリジル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ｔ−オ
クチルイソシアニドなど〕などが挙げられる。反応系に
おいて、同種又は異種の配位子は一種又は二種以上用い
てもよい。好ましい配位子又は反応促進剤には、ホスフ
ィン類（特に、トリアルキルホスフィン）、例えば、ト
リブチルホスフィンなどのトリＣ1-6アルキルホスフィ
ンなどが含まれる。なお、配位子又は反応促進剤は、前
記式（１）で表される有機スズ化合物のＲ2，Ｒ3，Ｒ4
に対応するアルキルホスフィン類であってもよい。
含有化合物［ホスフィン（例えば、トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィン、トリメチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィ
ン、トリイソプロピルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリイソブチルホスフィンなどのトリアルキルホス
フィン）、ホスファイト（例えば、トリフェニルホスフ
ァイトなどのトリアリールホスファイト）など］、窒素
含有化合物〔ＣＮ、ＮＨ3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ
2（ニトロ）、ＮＯ3（ニトラト）、エチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリン、
ピピリジル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ｔ−オ
クチルイソシアニドなど〕などが挙げられる。反応系に
おいて、同種又は異種の配位子は一種又は二種以上用い
てもよい。好ましい配位子又は反応促進剤には、ホスフ
ィン類（特に、トリアルキルホスフィン）、例えば、ト
リブチルホスフィンなどのトリＣ1-6アルキルホスフィ
ンなどが含まれる。なお、配位子又は反応促進剤は、前
記式（１）で表される有機スズ化合物のＲ2，Ｒ3，Ｒ4
に対応するアルキルホスフィン類であってもよい。
【００３９】［反応溶媒］反応は溶媒の存在下又は非存
在下で行うことができ、例えば、溶媒を用いる溶媒系、
溶媒を用いない無溶媒系、気相流通反応などを利用でき
る。好ましい方法では、反応温度の制御などが容易な溶
媒系が利用される。反応溶媒は、触媒、有機ホウ素化合
物、およびアセチレン系化合物の３成分を接触可能であ
れば特に制限はなく、例えば、エーテル類（ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラハイドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンなど）、脂肪族炭化水素類
（ノルマルヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキ
サン、シクロペンタン、シクロヘキセン、シクロペンテ
ンなど）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キ
シレンなど）、アルコール類（エタノール、イソプロパ
ノールなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチルな
ど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトンな
ど）、含硫黄化合物（ジメチルスルホキサイド、スルフ
ォランなど）などが挙げられる。溶媒としては含窒素溶
媒、例えば、アンモニア類（液体アンモニア、アンモニ
ア水など）、アミン類（メチルアミン、エチルアミン、
ブチルアミンなどのＮ−Ｃ1-6アルキルアミン、ジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ
ブチルアミンなどのＮ，Ｎ−ジＣ1-6アルキルアミン、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ンなどのＮ，Ｎ，Ｎ−トリＣ1- 6アルキルアミン、アニ
リン、Ｎ−アルキルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニ
リン、アミノピリジンなどの芳香族アミンなど）、複素
環式アミン類や含窒素複素環化合物（ピロリジン、ピペ
リジン、モルホリン、ピリジン、α−ピコリン、イミダ
ゾール、ピロールなど）、アルカノールアミン類（エタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルアミノエ
タノールなど）、アルキレンジアミンやポリアルキレン
ポリアミン（エチレンジアミン、プロピレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンな
ど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノンな
ど）、尿素誘導体（Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレア
など）、リン酸アミド類（ヘキサメチルホスホラミドな
ど）、ニトリル類（アセトニトリル、ベンゾニトリルな
ど）などを用いてもよい。溶媒はこれらの混合溶媒とし
て用いてもよい。
在下で行うことができ、例えば、溶媒を用いる溶媒系、
溶媒を用いない無溶媒系、気相流通反応などを利用でき
る。好ましい方法では、反応温度の制御などが容易な溶
媒系が利用される。反応溶媒は、触媒、有機ホウ素化合
物、およびアセチレン系化合物の３成分を接触可能であ
れば特に制限はなく、例えば、エーテル類（ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラハイドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンなど）、脂肪族炭化水素類
（ノルマルヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキ
サン、シクロペンタン、シクロヘキセン、シクロペンテ
ンなど）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キ
シレンなど）、アルコール類（エタノール、イソプロパ
ノールなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチルな
ど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトンな
ど）、含硫黄化合物（ジメチルスルホキサイド、スルフ
ォランなど）などが挙げられる。溶媒としては含窒素溶
媒、例えば、アンモニア類（液体アンモニア、アンモニ
ア水など）、アミン類（メチルアミン、エチルアミン、
ブチルアミンなどのＮ−Ｃ1-6アルキルアミン、ジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ
ブチルアミンなどのＮ，Ｎ−ジＣ1-6アルキルアミン、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ンなどのＮ，Ｎ，Ｎ−トリＣ1- 6アルキルアミン、アニ
リン、Ｎ−アルキルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニ
リン、アミノピリジンなどの芳香族アミンなど）、複素
環式アミン類や含窒素複素環化合物（ピロリジン、ピペ
リジン、モルホリン、ピリジン、α−ピコリン、イミダ
ゾール、ピロールなど）、アルカノールアミン類（エタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルアミノエ
タノールなど）、アルキレンジアミンやポリアルキレン
ポリアミン（エチレンジアミン、プロピレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンな
ど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノンな
ど）、尿素誘導体（Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレア
など）、リン酸アミド類（ヘキサメチルホスホラミドな
ど）、ニトリル類（アセトニトリル、ベンゾニトリルな
ど）などを用いてもよい。溶媒はこれらの混合溶媒とし
て用いてもよい。
【００４０】さらに、常温・常圧では液体でないものの
流体の状態で利用可能な溶媒、例えば、超臨界流体（二
酸化炭素、エタン、フルオロカーボンなど）なども利用
できる。
流体の状態で利用可能な溶媒、例えば、超臨界流体（二
酸化炭素、エタン、フルオロカーボンなど）なども利用
できる。
【００４１】好ましい溶媒には、極性の高い溶媒、例え
ば、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、ア
ミド類（ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなど）、尿素誘導体
（テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレ
アなど）、カーボネート類（エチレンカーボネート、プ
ロピレンカーボネートなど）、ニトリル類（アセトニト
リル、プロピオニトリルなど）、リン酸アミド類（ヘキ
サメチルホスホラミドなど）が含まれる。
ば、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、ア
ミド類（ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなど）、尿素誘導体
（テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレ
アなど）、カーボネート類（エチレンカーボネート、プ
ロピレンカーボネートなど）、ニトリル類（アセトニト
リル、プロピオニトリルなど）、リン酸アミド類（ヘキ
サメチルホスホラミドなど）が含まれる。
【００４２】［反応条件］各成分の割合は、触媒成分の
種類などに応じて、触媒活性が損なわれず、安定性を維
持できる範囲から適当に選択できる。
種類などに応じて、触媒活性が損なわれず、安定性を維
持できる範囲から適当に選択できる。
【００４３】前記遷移金属触媒の割合は、例えば、アル
キニルスズ化合物１モルに対して０．０００００１〜１
モル、好ましくは０．０００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０００５〜０．２モル程度であり、０．０
０１〜０．１モル倍程度である場合が多い。
キニルスズ化合物１モルに対して０．０００００１〜１
モル、好ましくは０．０００１〜０．５モル、さらに好
ましくは０．０００５〜０．２モル程度であり、０．０
０１〜０．１モル倍程度である場合が多い。
【００４４】不飽和炭化水素類（オレフィン系化合物又
はアセチレン系化合物）の割合は、例えば、アルキニル
スズ化合物１モルに対して０．０００１〜１０００モ
ル、好ましくは０．００１〜１００モル、さらに好まし
くは０．００５〜１０モル程度であり、０．２〜５モル
倍程度である場合が多い。
はアセチレン系化合物）の割合は、例えば、アルキニル
スズ化合物１モルに対して０．０００１〜１０００モ
ル、好ましくは０．００１〜１００モル、さらに好まし
くは０．００５〜１０モル程度であり、０．２〜５モル
倍程度である場合が多い。
【００４５】配位子又は反応促進剤の割合は、例えば、
遷移金属触媒１モルに対して０．００１〜１０００モ
ル、好ましくは０．１〜１００モル、さらに好ましくは
１〜５０モル程度であり、２〜２０モル倍程度である場
合が多い。
遷移金属触媒１モルに対して０．００１〜１０００モ
ル、好ましくは０．１〜１００モル、さらに好ましくは
１〜５０モル程度であり、２〜２０モル倍程度である場
合が多い。
【００４６】反応溶媒の量は、アルキニルスズ化合物１
重量部に対して、例えば、０〜１００００重量部、好ま
しくは０〜１００重量部、さらに好ましくは０〜５０重
量部である。
重量部に対して、例えば、０〜１００００重量部、好ま
しくは０〜１００重量部、さらに好ましくは０〜５０重
量部である。
【００４７】反応温度は、例えば、−１００℃〜３００
℃、好ましくは−５０℃〜２００℃、さらに好ましくは
０〜１５０℃であり、２０〜１００℃（特に３０〜７０
℃）程度の温和な条件でも反応を円滑に進行できる。反
応時間は、反応温度や経済性などを考慮して適当に選択
できる。
℃、好ましくは−５０℃〜２００℃、さらに好ましくは
０〜１５０℃であり、２０〜１００℃（特に３０〜７０
℃）程度の温和な条件でも反応を円滑に進行できる。反
応時間は、反応温度や経済性などを考慮して適当に選択
できる。
【００４８】反応は、酸素などの支燃性の気体を雰囲気
ガスとして用いる場合、安全性を損なわない濃度範囲内
で行う以外に特に制限はなく、種々の雰囲気、例えば、
炭化水素類（メタン、エタン、エチレン、ブタジエンな
ど）、窒素化合物（アンモニア、二酸化窒素、一酸化窒
素、シアン化水素など）、硫黄化合物（硫化水素、二硫
化炭素、二硫化硫黄など）、一酸化炭素や二酸化炭素、
空気などの雰囲気で行うことができる。好ましい方法で
は、不活性ガス（ヘリウム、アルゴンなど希ガスや窒素
など）の雰囲気で反応が行われる。
ガスとして用いる場合、安全性を損なわない濃度範囲内
で行う以外に特に制限はなく、種々の雰囲気、例えば、
炭化水素類（メタン、エタン、エチレン、ブタジエンな
ど）、窒素化合物（アンモニア、二酸化窒素、一酸化窒
素、シアン化水素など）、硫黄化合物（硫化水素、二硫
化炭素、二硫化硫黄など）、一酸化炭素や二酸化炭素、
空気などの雰囲気で行うことができる。好ましい方法で
は、不活性ガス（ヘリウム、アルゴンなど希ガスや窒素
など）の雰囲気で反応が行われる。
【００４９】反応は、常圧又は加圧下で行う場合が多
く、反応器内の合計圧力は、例えば、０．０００１〜１
００ＭＰａ、好ましくは０．００１〜１０ＭＰａ、さら
に好ましくは０．０１〜１ＭＰａ程度である。
く、反応器内の合計圧力は、例えば、０．０００１〜１
００ＭＰａ、好ましくは０．００１〜１０ＭＰａ、さら
に好ましくは０．０１〜１ＭＰａ程度である。
【００５０】反応生成物は、慣用の分離精製方法、例え
ば、濃縮、晶析、再結晶、抽出、蒸留、クロマトグラフ
ィなどを利用して分離精製できる。
ば、濃縮、晶析、再結晶、抽出、蒸留、クロマトグラフ
ィなどを利用して分離精製できる。
【００５１】本発明は、アルキニルスズを不飽和化合物
（オレフィン類やアセチレン類）に付加でき、試薬、医
薬又は農薬・機能性化合物などの中間体、オレフィン類
やアセチレン類などの重合性化合物を得るのに有用であ
る。
（オレフィン類やアセチレン類）に付加でき、試薬、医
薬又は農薬・機能性化合物などの中間体、オレフィン類
やアセチレン類などの重合性化合物を得るのに有用であ
る。
【００５２】
【発明の効果】本発明では、遷移金属触媒の存在下、ア
ルキニルスズ化合物と不飽和炭化水素類（オレフィン系
化合物又はアセチレン系化合物）とを反応させるので、
不飽和結合を有する有機スズ化合物を安全かつ経済的に
有利に製造できる。また、複数の不飽和結合を有する有
機スズ化合物も簡便かつ効率よく製造できる。
ルキニルスズ化合物と不飽和炭化水素類（オレフィン系
化合物又はアセチレン系化合物）とを反応させるので、
不飽和結合を有する有機スズ化合物を安全かつ経済的に
有利に製造できる。また、複数の不飽和結合を有する有
機スズ化合物も簡便かつ効率よく製造できる。
【００５３】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
【００５４】実施例１ ２０ｍＬのガラス製反応容器に溶媒としてジメチルスル
フォキサイド（ＤＭＳＯ）（０．３ｍＬ）、［ＲｕＣｌ
2（η−ｐ−シメン）］2（０．０１ｍｍｏｌ）、トリブ
チルホスフィン（０．１２ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し
た。さらに、トリブチル（オクチニル）スズ（０．４ｍ
ｍｏｌ）及びフェニルアセチレン（０．８ｍｍｏｌ）を
加えて、十分に窒素ガスで置換した。５０℃で５時間攪
拌し、ガスクロマトグラフィーによりトリブチル（オク
チニル）スズの消費を確認して反応を終了した後、反応
液を重クロロホルム（約０．４ｍＬ）で希釈し、テトラ
メチルシランを内部標準として用い、119Ｓｎ−ＮＭＲ
を測定することにより、アルキニルスズ基準の収率（モ
ル％）を求めたところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−ト
リブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率３０
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率６０％で得られた。合わせ
た生成物の収率は９０％であった。
フォキサイド（ＤＭＳＯ）（０．３ｍＬ）、［ＲｕＣｌ
2（η−ｐ−シメン）］2（０．０１ｍｍｏｌ）、トリブ
チルホスフィン（０．１２ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し
た。さらに、トリブチル（オクチニル）スズ（０．４ｍ
ｍｏｌ）及びフェニルアセチレン（０．８ｍｍｏｌ）を
加えて、十分に窒素ガスで置換した。５０℃で５時間攪
拌し、ガスクロマトグラフィーによりトリブチル（オク
チニル）スズの消費を確認して反応を終了した後、反応
液を重クロロホルム（約０．４ｍＬ）で希釈し、テトラ
メチルシランを内部標準として用い、119Ｓｎ−ＮＭＲ
を測定することにより、アルキニルスズ基準の収率（モ
ル％）を求めたところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−ト
リブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率３０
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率６０％で得られた。合わせ
た生成物の収率は９０％であった。
【００５５】比較例１ ［ＲｕＣｌ2（η−ｐ−シメン）］2を添加することなく
実施例１と同様の反応を行ったところ、全く生成物は得
られなかった。
実施例１と同様の反応を行ったところ、全く生成物は得
られなかった。
【００５６】実施例２ アセチレン系化合物として３，３−ジメチル−１−ブチ
ンを用い、反応時間を２３時間にする以外、実施例１と
同様の反応を行ったところ、（Ｚ）−２，２−ジメチル
−６−トリブチルスタニル−５−ドデセン−３−インが
収率１％、（Ｅ）−２，２−ジメチル−６−トリブチル
スタニル−５−ドデセン−３−インが収率３８％で得ら
れた。合わせた生成物の収率は３９％であった。
ンを用い、反応時間を２３時間にする以外、実施例１と
同様の反応を行ったところ、（Ｚ）−２，２−ジメチル
−６−トリブチルスタニル−５−ドデセン−３−インが
収率１％、（Ｅ）−２，２−ジメチル−６−トリブチル
スタニル−５−ドデセン−３−インが収率３８％で得ら
れた。合わせた生成物の収率は３９％であった。
【００５７】実施例３ アルキニルスズとしてトリブチル（フェニルエチニル）
スズ、アセチレン系化合物として１−オクチンを用いる
とともに、反応時間を１６時間にする以外、実施例１と
同様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−１
−トリブチルスタニル−１−デセン−３−インが収率５
２％で得られ、（Ｅ）−１−フェニル−１−トリブチル
スタニル−１−デセン−３−インは全く得られなかっ
た。
スズ、アセチレン系化合物として１−オクチンを用いる
とともに、反応時間を１６時間にする以外、実施例１と
同様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−１
−トリブチルスタニル−１−デセン−３−インが収率５
２％で得られ、（Ｅ）−１−フェニル−１−トリブチル
スタニル−１−デセン−３−インは全く得られなかっ
た。
【００５８】実施例４ ［ＲｕＣｌ2（η−ｐ−シメン）］2に代えて三塩化ルテ
ニウムＲｕＣｌ3・ｎＨ2Ｏを用いる以外、実施例１と同
様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−
トリブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率２５
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率５２％で得られた。合わせ
た生成物の収率は７７％であった。
ニウムＲｕＣｌ3・ｎＨ2Ｏを用いる以外、実施例１と同
様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−
トリブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率２５
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率５２％で得られた。合わせ
た生成物の収率は７７％であった。
【００５９】実施例５ ジメチルスルフォキサイド（ＤＭＳＯ）に代えてジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）を用いる以外、実施例１と同
様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−
トリブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率２４
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率５２％で得られた。合わせ
た生成物の収率は７６％であった。
ルホルムアミド（ＤＭＦ）を用いる以外、実施例１と同
様の反応を行ったところ、（Ｚ）−１−フェニル−４−
トリブチルスタニル−３−デセン−１−インが収率２４
％、（Ｅ）−１−フェニル−４−トリブチルスタニル−
３−デセン−１−インが収率５２％で得られた。合わせ
た生成物の収率は７６％であった。
Claims (5)
- 【請求項１】 遷移金属元素で構成された触媒の存在
下、不飽和炭化水素類と、アルキニルスズ化合物とを反
応させ、有機スズ化合物を製造する方法。 - 【請求項２】 遷移金属元素が、周期表４族〜１１族元
素から選択された少なくとも１つの元素である請求項１
記載の製造方法。 - 【請求項３】 周期表１５族元素又は周期表１６族元素
を含む化合物の共存下で反応する請求項１記載の製造方
法。 - 【請求項４】 トリアルキルホスフィンの共存下で反応
させる請求項１記載の製造方法。 - 【請求項５】 遷移金属触媒の存在下、式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は、同一又は異なって、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、アラルキル基又は複素環基を示し、これらの
基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は置換基を有していてもよい）で
表される有機スズ化合物と下記式（２） 【化２】 （式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8は、同一又は異なって、水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はア
ラルキル基を示し、これらの基は置換基を有していても
よく、Ｒ7とＲ8とは互いに直接結合していてもよい）で
表される化合物とを反応させ、下記式（３ａ）又は（３
ｂ） 【化３】 （式中、Ｒ1〜Ｒ8は前記に同じ）で表される化合物を生
成させる請求項１〜４のいずれかの項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001072981A JP2002275186A (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | 有機スズ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001072981A JP2002275186A (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | 有機スズ化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002275186A true JP2002275186A (ja) | 2002-09-25 |
Family
ID=18930485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001072981A Pending JP2002275186A (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | 有機スズ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002275186A (ja) |
-
2001
- 2001-03-14 JP JP2001072981A patent/JP2002275186A/ja active Pending
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