JP2002274891A - 高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法 - Google Patents
高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法Info
- Publication number
- JP2002274891A JP2002274891A JP2001069300A JP2001069300A JP2002274891A JP 2002274891 A JP2002274891 A JP 2002274891A JP 2001069300 A JP2001069300 A JP 2001069300A JP 2001069300 A JP2001069300 A JP 2001069300A JP 2002274891 A JP2002274891 A JP 2002274891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- heat ray
- titanium nitride
- ray reflective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 歪みが少なく、導電性に優れ、且つ優れた耐
久性と高い熱線反射性能を有するとともに高可視光線透
過率を有する高性能熱線反射膜を得ること。 【解決手段】 透明基板表面に、窒化チタン（ＴiＮ）
膜、酸化物膜が順次積層された多層膜において、該窒化
チタン膜は、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜
２．４６４Åである面心立方構造を有することを特徴と
する高性能熱線反射膜付き基板。
久性と高い熱線反射性能を有するとともに高可視光線透
過率を有する高性能熱線反射膜を得ること。 【解決手段】 透明基板表面に、窒化チタン（ＴiＮ）
膜、酸化物膜が順次積層された多層膜において、該窒化
チタン膜は、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜
２．４６４Åである面心立方構造を有することを特徴と
する高性能熱線反射膜付き基板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主として建築物の
外装用窓ガラス表面に被覆され、太陽輻射エネルギーを
遮蔽する高断熱性、高耐久性の高性能熱線反射膜付き基
板およびその成膜方法に関する。
外装用窓ガラス表面に被覆され、太陽輻射エネルギーを
遮蔽する高断熱性、高耐久性の高性能熱線反射膜付き基
板およびその成膜方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高層ビルの外層用窓ガラスなどに用いら
れている熱線反射ガラスは、ガラス基板表面に金属、窒
化物などの導電性の有色膜や、錫をドープした酸化イン
ジウム膜などの透明導電性膜を被覆することにより、太
陽エネルギーを室外へ反射させ、室内への入射エネルギ
ー量を抑制している。
れている熱線反射ガラスは、ガラス基板表面に金属、窒
化物などの導電性の有色膜や、錫をドープした酸化イン
ジウム膜などの透明導電性膜を被覆することにより、太
陽エネルギーを室外へ反射させ、室内への入射エネルギ
ー量を抑制している。
【０００３】現在用いられている熱線反射ガラスとして
は、スパッタリング法により金属、炭化物、窒化物など
の導電性の有色膜をガラス基板表面に被覆したものが主
流であり、該膜の材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、ステンレ
ス、ＮｉＣｒ、Ｔａ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＮｉＣ
ｒＮなどを用いることが出来、その内特に、窒化チタン
（以下、場合によっては「ＴｉＮ」と略す）は、ＤＣ反
応性スパッタリング法により比較的容易に成膜可能であ
る上に、耐久性とともに導電性が高く熱線反射膜として
早くから量産化技術が進んでいる材料である。また、こ
のＴｉＮ膜は、金属チタン(ｆｃｃ)の格子中に窒素原子
が侵入して岩塩型構造をとる侵入型化合物であり、Ｔi
Ｎxの組成領域は０．８＜ｘ＜１．１６と広く選択する
ことが可能であり、さらに可視光域での光学定数が小さ
く、金属膜と比較して透視性に優れた熱線反射膜を成膜
できる利点も有している。
は、スパッタリング法により金属、炭化物、窒化物など
の導電性の有色膜をガラス基板表面に被覆したものが主
流であり、該膜の材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、ステンレ
ス、ＮｉＣｒ、Ｔａ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＮｉＣ
ｒＮなどを用いることが出来、その内特に、窒化チタン
（以下、場合によっては「ＴｉＮ」と略す）は、ＤＣ反
応性スパッタリング法により比較的容易に成膜可能であ
る上に、耐久性とともに導電性が高く熱線反射膜として
早くから量産化技術が進んでいる材料である。また、こ
のＴｉＮ膜は、金属チタン(ｆｃｃ)の格子中に窒素原子
が侵入して岩塩型構造をとる侵入型化合物であり、Ｔi
Ｎxの組成領域は０．８＜ｘ＜１．１６と広く選択する
ことが可能であり、さらに可視光域での光学定数が小さ
く、金属膜と比較して透視性に優れた熱線反射膜を成膜
できる利点も有している。
【０００４】また、（１１１）面の面間隔が２．４６０
Å以下を有する高度に配向された多結晶窒化チタン被膜
組成物および被覆方法が特開平８−１７０１６８号公報
に開示されている。
Å以下を有する高度に配向された多結晶窒化チタン被膜
組成物および被覆方法が特開平８−１７０１６８号公報
に開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
窒化チタン（ＴｉＮ）膜を反応性スパッタリング法によ
り安定して成膜を行なう生産性の点から、スパッタリン
グ室に導入されるスパッタガスとしては、アルゴン／窒
素の混合ガス（混合ガス中の窒素流量比(Ｎ2／Ａｒ＋Ｎ
2)≧約０．２以上）が用いられ、この方法により成膜さ
れたＴiＮ膜はほとんどが非晶質から構成され、比較的
容易に熱線反射膜が得られるものの、建築物等の外装用
窓ガラスなどに用いる場合には断熱性が不十分であっ
た。
窒化チタン（ＴｉＮ）膜を反応性スパッタリング法によ
り安定して成膜を行なう生産性の点から、スパッタリン
グ室に導入されるスパッタガスとしては、アルゴン／窒
素の混合ガス（混合ガス中の窒素流量比(Ｎ2／Ａｒ＋Ｎ
2)≧約０．２以上）が用いられ、この方法により成膜さ
れたＴiＮ膜はほとんどが非晶質から構成され、比較的
容易に熱線反射膜が得られるものの、建築物等の外装用
窓ガラスなどに用いる場合には断熱性が不十分であっ
た。
【０００６】また、特開平８−１７０１６８号公報記載
の窒化チタン組成物および被覆方法は、本発明のＴｉＮ
膜の上層に酸化物膜を被覆すること及び低抵抗を有する
熱線反射膜およびスパッタガス導入量を分圧で制御し
て、Ｔｉターゲット表面が金属／窒化物遷移領域の状態
で成膜することについて何ら記載されていない。
の窒化チタン組成物および被覆方法は、本発明のＴｉＮ
膜の上層に酸化物膜を被覆すること及び低抵抗を有する
熱線反射膜およびスパッタガス導入量を分圧で制御し
て、Ｔｉターゲット表面が金属／窒化物遷移領域の状態
で成膜することについて何ら記載されていない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の従来の
課題に鑑みてなされたものであって、窒化チタン（Ｔｉ
Ｎ）膜を特定の結晶構造を有する膜構造とし、その上層
に酸化物膜を被覆することにより、また、スパッタリン
グの成膜条件を特定な条件でスパッタリングすることに
より、得られる熱線反射膜は、高い可視光線透過率、優
れた熱線反射性能および高耐久性を有することを見出し
た。
課題に鑑みてなされたものであって、窒化チタン（Ｔｉ
Ｎ）膜を特定の結晶構造を有する膜構造とし、その上層
に酸化物膜を被覆することにより、また、スパッタリン
グの成膜条件を特定な条件でスパッタリングすることに
より、得られる熱線反射膜は、高い可視光線透過率、優
れた熱線反射性能および高耐久性を有することを見出し
た。
【０００８】すなわち、本発明の高性能熱線反射膜付き
基板は、透明基板表面に、窒化チタン（ＴiＮ）膜、酸
化物膜が順次積層された多層膜において、該窒化チタン
膜は、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６
４Åである面心立方構造を有することを特徴とする。
基板は、透明基板表面に、窒化チタン（ＴiＮ）膜、酸
化物膜が順次積層された多層膜において、該窒化チタン
膜は、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６
４Åである面心立方構造を有することを特徴とする。
【０００９】また、本発明の高性能熱線反射膜付き基板
は、前記酸化物膜は、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎま
たはＡｌの内の少なくとも１種の酸化物であることを特
徴とする。
は、前記酸化物膜は、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎま
たはＡｌの内の少なくとも１種の酸化物であることを特
徴とする。
【００１０】さらに、本発明の高性能熱線反射膜付き基
板は、前記窒化チタン膜の膜厚は１０〜３０ｎｍ、前記
酸化物膜の膜厚は１０〜８０ｎｍであることを特徴とす
る。
板は、前記窒化チタン膜の膜厚は１０〜３０ｎｍ、前記
酸化物膜の膜厚は１０〜８０ｎｍであることを特徴とす
る。
【００１１】さらに、本発明の高性能熱線反射膜付き基
板は、可視光線透過率が５０％以上、遮蔽係数（Ｓ．
Ｃ．値）が０．６５以下であることを特徴とする。
板は、可視光線透過率が５０％以上、遮蔽係数（Ｓ．
Ｃ．値）が０．６５以下であることを特徴とする。
【００１２】さらにまた、本発明の高性能熱線反射膜付
き基板は、前記窒化チタン膜の比抵抗が２．３×１０-4
Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする。
き基板は、前記窒化チタン膜の比抵抗が２．３×１０-4
Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする。
【００１３】また、本発明の高性能熱線反射膜付き基板
の成膜方法は、透明基板表面に、スパッタリング法によ
り窒化チタン（ＴiＮ）膜、酸化物膜よりなる多層膜を
積層する方法において、窒化チタン膜を成膜する際のス
パッタガス導入量を分圧で制御し、Ｔｉターゲット表面
を金属／窒化物遷移領域の状態で成膜することにより、
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åで
ある面心立方構造の窒化チタン膜を形成することを特徴
とする。
の成膜方法は、透明基板表面に、スパッタリング法によ
り窒化チタン（ＴiＮ）膜、酸化物膜よりなる多層膜を
積層する方法において、窒化チタン膜を成膜する際のス
パッタガス導入量を分圧で制御し、Ｔｉターゲット表面
を金属／窒化物遷移領域の状態で成膜することにより、
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åで
ある面心立方構造の窒化チタン膜を形成することを特徴
とする。
【００１４】さらに、本発明の高性能熱線反射膜付き基
板の成膜方法は、前記窒化チタン膜をスパッタリング成
膜する際の窒素ガス分圧が、４．０×１０-4Ｐａ〜１．
２×１０-2Ｐａであることを特徴とし、さらに、前記窒
化チタン膜をスパッタリング成膜する際の総ガス圧力
が、４．０×１０-2Ｐａ〜１．３×１０-1Ｐａであるこ
とを特徴とする。
板の成膜方法は、前記窒化チタン膜をスパッタリング成
膜する際の窒素ガス分圧が、４．０×１０-4Ｐａ〜１．
２×１０-2Ｐａであることを特徴とし、さらに、前記窒
化チタン膜をスパッタリング成膜する際の総ガス圧力
が、４．０×１０-2Ｐａ〜１．３×１０-1Ｐａであるこ
とを特徴とする。
【００１５】さらにまた、本発明の高性能熱線反射膜付
き基板の成膜方法は、前記窒化チタン膜をスパッタリン
グ成膜する際の電力密度（単位スパッタリング面積当た
りの投入電力）が、３．０Ｗ／ｃｍ2以上であることを
特徴とする。
き基板の成膜方法は、前記窒化チタン膜をスパッタリン
グ成膜する際の電力密度（単位スパッタリング面積当た
りの投入電力）が、３．０Ｗ／ｃｍ2以上であることを
特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明は、透明基板表面に、窒化
チタン（ＴiＮ）膜、酸化物膜が順次積層された多層膜
において、該窒化チタン膜は、（１１１）面の面間隔が
２．４３９Å〜２．４６４Åである面心立方構造を有す
ることを特徴とするものである。
チタン（ＴiＮ）膜、酸化物膜が順次積層された多層膜
において、該窒化チタン膜は、（１１１）面の面間隔が
２．４３９Å〜２．４６４Åである面心立方構造を有す
ることを特徴とするものである。
【００１７】前記窒化チタン膜は、ＴｉＮ（１１１）面
の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの範囲にある面
心立方構造を有するので、歪みが少なく導電性に優れる
とともに、機械的・化学的耐久性にも優れ、さらに熱線
を効率よく反射させ、冷房負荷を軽減する熱線反射機能
を有するものとなる。また、窒化チタン膜の比抵抗は、
２．３×１０-4Ω・ｃｍ以下であると高断熱性（高熱線
反射性）となるのでより好ましい。なお、ＴｉＮ（１１
１）面の面間隔が２．４３９Åより小さい場合には、窒
素分圧が低くなりすぎるため、膜構造がＴｉＮからＴｉ
に変化し始め、この時に膜はアモルファスになり、比抵
抗は増加すると同時に膜強度は低下してしまう。一方、
該面間隔が２．４３９Åを越える場合には。格子間の歪
みが増大するため、比抵抗は増加してしまい好ましくな
い。
の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの範囲にある面
心立方構造を有するので、歪みが少なく導電性に優れる
とともに、機械的・化学的耐久性にも優れ、さらに熱線
を効率よく反射させ、冷房負荷を軽減する熱線反射機能
を有するものとなる。また、窒化チタン膜の比抵抗は、
２．３×１０-4Ω・ｃｍ以下であると高断熱性（高熱線
反射性）となるのでより好ましい。なお、ＴｉＮ（１１
１）面の面間隔が２．４３９Åより小さい場合には、窒
素分圧が低くなりすぎるため、膜構造がＴｉＮからＴｉ
に変化し始め、この時に膜はアモルファスになり、比抵
抗は増加すると同時に膜強度は低下してしまう。一方、
該面間隔が２．４３９Åを越える場合には。格子間の歪
みが増大するため、比抵抗は増加してしまい好ましくな
い。
【００１８】また、本発明の窒化チタン膜は、窒化チタ
ン膜をＴｉＮxとして表した時に、ｘ＝１に限定される
ものではなく、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜
２．４６４Åの範囲にある面心立方構造を有する窒化チ
タンは全て含むものである。さらに、該窒化チタン膜
は、結晶方位を（２００）面ではなく（１１１）面をよ
り選択的に配向させることにより、稠密構造となり、電
子の移動度が増し導電性が増大する。この様に優れた導
電性を有する構造とすることにより、優れた熱線反射性
能をも有するようにしたものであり、（１１１）面の面
間隔が２.４３９Å〜２.４６４Åの範囲にある面心立方
構造を有する結晶質の窒化チタンから大部分は構成され
るが、該膜中に非晶質の窒化チタン或いはその他の不純
物等が一部含まれることは差し支えない。
ン膜をＴｉＮxとして表した時に、ｘ＝１に限定される
ものではなく、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜
２．４６４Åの範囲にある面心立方構造を有する窒化チ
タンは全て含むものである。さらに、該窒化チタン膜
は、結晶方位を（２００）面ではなく（１１１）面をよ
り選択的に配向させることにより、稠密構造となり、電
子の移動度が増し導電性が増大する。この様に優れた導
電性を有する構造とすることにより、優れた熱線反射性
能をも有するようにしたものであり、（１１１）面の面
間隔が２.４３９Å〜２.４６４Åの範囲にある面心立方
構造を有する結晶質の窒化チタンから大部分は構成され
るが、該膜中に非晶質の窒化チタン或いはその他の不純
物等が一部含まれることは差し支えない。
【００１９】窒化チタン膜の上層に被覆される酸化物膜
としては、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＺｎまたはＡｌの
内の少なくとも１種の酸化物を用いることができる。こ
れらの酸化物を窒化チタン膜の上層に被覆させることに
より、それらの干渉作用により可視光線透過率をより高
透過率に、また、反射率をより低反射率とすることが可
能となり、可視光線透過率としては５０％以上が好まし
く、膜面の可視光線反射率は１５％以下とすることが好
ましい。なお、酸化ケイ素、酸化アルミについては色調
の面よりやや好ましくなく、酸化亜鉛については耐化学
性の面よりやや好ましくない。
としては、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＺｎまたはＡｌの
内の少なくとも１種の酸化物を用いることができる。こ
れらの酸化物を窒化チタン膜の上層に被覆させることに
より、それらの干渉作用により可視光線透過率をより高
透過率に、また、反射率をより低反射率とすることが可
能となり、可視光線透過率としては５０％以上が好まし
く、膜面の可視光線反射率は１５％以下とすることが好
ましい。なお、酸化ケイ素、酸化アルミについては色調
の面よりやや好ましくなく、酸化亜鉛については耐化学
性の面よりやや好ましくない。
【００２０】膜厚については、窒化チタン膜は約１０〜
３０ｎｍ程度の膜厚のものを用いることができるが、１
５〜２５ｎｍの膜厚とすることがより好ましい。また、
酸化物の膜厚については、約１０〜８０ｎｍ程度の膜厚
のものを用いることができるが、１５〜６０ｎｍの膜厚
とすることがより好ましい。なお、第１層目の膜厚が１
０ｎｍ未満で、第２層目の膜厚が１０ｎｍ未満であれ
ば、６０％以上の高い可視光透過性を有するものの熱的
性能である日射透過率が４５％を超えてしまい、断熱性
が乏しくなり、めざす高性能熱線反射膜付き基板が得ら
れない。また、第１層目の膜厚が３０ｎｍを超え、第２
層目の膜厚が８０ｎｍを越えるものであると、日射透過
率は２０％未満となり、断熱性は優れるものの、可視光
透過率が３０％未満と低くなるという問題がある。
３０ｎｍ程度の膜厚のものを用いることができるが、１
５〜２５ｎｍの膜厚とすることがより好ましい。また、
酸化物の膜厚については、約１０〜８０ｎｍ程度の膜厚
のものを用いることができるが、１５〜６０ｎｍの膜厚
とすることがより好ましい。なお、第１層目の膜厚が１
０ｎｍ未満で、第２層目の膜厚が１０ｎｍ未満であれ
ば、６０％以上の高い可視光透過性を有するものの熱的
性能である日射透過率が４５％を超えてしまい、断熱性
が乏しくなり、めざす高性能熱線反射膜付き基板が得ら
れない。また、第１層目の膜厚が３０ｎｍを超え、第２
層目の膜厚が８０ｎｍを越えるものであると、日射透過
率は２０％未満となり、断熱性は優れるものの、可視光
透過率が３０％未満と低くなるという問題がある。
【００２１】また、本発明の高性能熱線反射膜付き基板
は、例えば、可視光線透過率が５０％以上、日射透過率
が４５％以下、遮蔽係数（Ｓ．Ｃ．値）が０．６５以下
の光学特性を有するので、高い可視光透過性と優れた断
熱性（熱線反射性）を有する。なお、前記の遮蔽係数
は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に基づいて日射熱取得率を求
め、３ｍｍの厚さのフロート板ガラス（透明）の日射熱
取得率（＝０.８８）を１とした場合の日射熱取得率の
相対値を求め、遮蔽係数（Shading Coefficient：Ｓ．
Ｃ．値)として示される値である。
は、例えば、可視光線透過率が５０％以上、日射透過率
が４５％以下、遮蔽係数（Ｓ．Ｃ．値）が０．６５以下
の光学特性を有するので、高い可視光透過性と優れた断
熱性（熱線反射性）を有する。なお、前記の遮蔽係数
は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に基づいて日射熱取得率を求
め、３ｍｍの厚さのフロート板ガラス（透明）の日射熱
取得率（＝０.８８）を１とした場合の日射熱取得率の
相対値を求め、遮蔽係数（Shading Coefficient：Ｓ．
Ｃ．値)として示される値である。
【００２２】本発明の高性能熱線反射膜付き基板の主な
膜構成部分である窒化チタン膜は、次の方法により成膜
することができる。すなわち、スパッタリング法により
窒化チタン膜を成膜する際のスパッタガス導入量を分圧
で制御し、Ｔｉターゲット表面を金属／窒化物遷移領域
の状態で成膜することにより、（１１１）面の面間隔が
２．４３９Å〜２．４６４Åである面心立方構造の窒化
チタン膜を形成することが可能となる。この分圧の制御
は、スパッタリング室内に導入するスパッタガス中の窒
素ガス量を特定の分圧で制御することが重要であり、該
窒素ガス分圧を４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2Ｐ
ａの範囲で制御することが好ましい。窒素ガス分圧を
４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2Ｐａの範囲で制御
するとしたのは、窒素ガス分圧が４．０×１０-4Ｐａ未
満では、ＴｉＮが生成せず、窒素ガス分圧が１．２×１
０-2Ｐａをこえる場合には、ＴｉＮは生成するものの、
ＴｉＮ（１１１）面の配向が弱くなる。よって、窒素ガ
ス分圧の範囲は、４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2
Ｐａが好ましい。なお、４．０×１０-4Ｐａ〜５．３×
１０-3Ｐａの範囲であればより好ましい。
膜構成部分である窒化チタン膜は、次の方法により成膜
することができる。すなわち、スパッタリング法により
窒化チタン膜を成膜する際のスパッタガス導入量を分圧
で制御し、Ｔｉターゲット表面を金属／窒化物遷移領域
の状態で成膜することにより、（１１１）面の面間隔が
２．４３９Å〜２．４６４Åである面心立方構造の窒化
チタン膜を形成することが可能となる。この分圧の制御
は、スパッタリング室内に導入するスパッタガス中の窒
素ガス量を特定の分圧で制御することが重要であり、該
窒素ガス分圧を４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2Ｐ
ａの範囲で制御することが好ましい。窒素ガス分圧を
４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2Ｐａの範囲で制御
するとしたのは、窒素ガス分圧が４．０×１０-4Ｐａ未
満では、ＴｉＮが生成せず、窒素ガス分圧が１．２×１
０-2Ｐａをこえる場合には、ＴｉＮは生成するものの、
ＴｉＮ（１１１）面の配向が弱くなる。よって、窒素ガ
ス分圧の範囲は、４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×１０-2
Ｐａが好ましい。なお、４．０×１０-4Ｐａ〜５．３×
１０-3Ｐａの範囲であればより好ましい。
【００２３】この分圧範囲でスパッタリングを行う場
合、Ｔｉターゲット表面は遷移モードにあり成膜が不安
定になるが、一定分圧になるように窒素ガス導入量を制
御してやることで、流量制御では不可能であった遷移モ
ードでも安定した成膜が可能となる。また、スパッタリ
ングを行う時の総ガス圧力を４．０×１０-2Ｐａ〜１．
３×１０-1Ｐａに制御して成膜することが好ましく、総
ガス圧力が４．０×１０ -2Ｐａ未満では、放電が持続せ
ず、総ガス圧力が１．３×１０-1Ｐａを越える場合に
は、スパッタ粒子同士の粒子間衝突が増大し、結晶方位
の配向性が弱まり好ましくない。なお、４．０×１０-2
Ｐａ〜８．０×１０-2Ｐａの範囲であればより好まし
い。
合、Ｔｉターゲット表面は遷移モードにあり成膜が不安
定になるが、一定分圧になるように窒素ガス導入量を制
御してやることで、流量制御では不可能であった遷移モ
ードでも安定した成膜が可能となる。また、スパッタリ
ングを行う時の総ガス圧力を４．０×１０-2Ｐａ〜１．
３×１０-1Ｐａに制御して成膜することが好ましく、総
ガス圧力が４．０×１０ -2Ｐａ未満では、放電が持続せ
ず、総ガス圧力が１．３×１０-1Ｐａを越える場合に
は、スパッタ粒子同士の粒子間衝突が増大し、結晶方位
の配向性が弱まり好ましくない。なお、４．０×１０-2
Ｐａ〜８．０×１０-2Ｐａの範囲であればより好まし
い。
【００２４】さらに、スパッタリングを行う時の単位ス
パッタリング面積当たりの投入電力である電力密度を
３．０Ｗ／ｃｍ2以上に制御して成膜することが好まし
く、電力密度が３．０Ｗ／ｃｍ2未満では、スパッタ粒
子のエネルギーが低下し、結晶方位の配向性が弱まるた
めである。なお、３．０Ｗ／ｃｍ2〜５．０Ｗ／ｃｍ2の
範囲であればより好ましい。
パッタリング面積当たりの投入電力である電力密度を
３．０Ｗ／ｃｍ2以上に制御して成膜することが好まし
く、電力密度が３．０Ｗ／ｃｍ2未満では、スパッタ粒
子のエネルギーが低下し、結晶方位の配向性が弱まるた
めである。なお、３．０Ｗ／ｃｍ2〜５．０Ｗ／ｃｍ2の
範囲であればより好ましい。
【００２５】以上のように、窒化チタン成膜時のスパッ
タガス導入量を分圧で制御することにより、Ｔｉターゲ
ット表面が金属／窒化物遷移領域の状態で成膜されるた
め、窒化チタンの堆積速度が速く、生産性に優れる。ま
た、特に、成膜時の窒素分圧、総ガス圧力、電力密度を
制御することにより、得られた窒化チタン膜は、ＴｉＮ
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの
範囲にある面心立方構造を有し、歪みが少なく導電性に
優れるとともに、機械的・化学的耐久性にも優れ、さら
に熱線を効率よく反射させ、冷房負荷を軽減する熱線反
射機能を有するものとなる。得られた窒化チタン膜の比
抵抗は、２．３×１０-4Ω・ｃｍ以下であると高断熱性
となるのでより好ましい。
タガス導入量を分圧で制御することにより、Ｔｉターゲ
ット表面が金属／窒化物遷移領域の状態で成膜されるた
め、窒化チタンの堆積速度が速く、生産性に優れる。ま
た、特に、成膜時の窒素分圧、総ガス圧力、電力密度を
制御することにより、得られた窒化チタン膜は、ＴｉＮ
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの
範囲にある面心立方構造を有し、歪みが少なく導電性に
優れるとともに、機械的・化学的耐久性にも優れ、さら
に熱線を効率よく反射させ、冷房負荷を軽減する熱線反
射機能を有するものとなる。得られた窒化チタン膜の比
抵抗は、２．３×１０-4Ω・ｃｍ以下であると高断熱性
となるのでより好ましい。
【００２６】本発明に用いられる透明基板としては、無
機質はもちろん有機質でも差し支えなく、透明基板であ
ればよく、無色あるいは着色ガラス等でもよい。また単
板で使用できることはもとより、例えば、ガラス基板の
場合には、複層ガラスあるいは合せガラス、強化ガラス
等各種板ガラス製品として使用できることは言うまでも
ない。
機質はもちろん有機質でも差し支えなく、透明基板であ
ればよく、無色あるいは着色ガラス等でもよい。また単
板で使用できることはもとより、例えば、ガラス基板の
場合には、複層ガラスあるいは合せガラス、強化ガラス
等各種板ガラス製品として使用できることは言うまでも
ない。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
【００２８】実施例１ 大きさ約３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ約６ｍｍのソー
ダライムガラスを中性洗剤、水すすぎ、純水、で順次洗
浄し、乾燥した後、ＤＣマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽内にセットしてあるＴｉとＳｎターゲットに
対向して上方を往復できるようセットし、つぎに前記槽
内を真空ポンプで約２．７×１０-4Ｐａ以下までに脱気
した後、該真空槽内にインフィコン社（旧ライボルト・
インフィコン社）製の分圧コントローラＯＧＣ−１によ
り、Ａrガスを４．０×１０-2Ｐａ、Ｎ2ガスを２．７×
１０-3Ｐａ導入して、前記Ｔｉタ−ゲットに約４．３Ｗ
／ｃｍ2の電力を印加し、ＤＣマグネトロン反応スパッ
タの中を、前記Ｔiタ−ゲット上方において前記板ガラ
スをスピード約１８２８ｍｍ／ｍｉｎで搬送することに
よって１６ｎｍ厚さのＴｉＮx 薄膜を成膜した。なお、
成膜が完了した後、Ｔｉタ−ゲットへの印加を停止し
た。
ダライムガラスを中性洗剤、水すすぎ、純水、で順次洗
浄し、乾燥した後、ＤＣマグネトロンスパッタリング装
置の真空槽内にセットしてあるＴｉとＳｎターゲットに
対向して上方を往復できるようセットし、つぎに前記槽
内を真空ポンプで約２．７×１０-4Ｐａ以下までに脱気
した後、該真空槽内にインフィコン社（旧ライボルト・
インフィコン社）製の分圧コントローラＯＧＣ−１によ
り、Ａrガスを４．０×１０-2Ｐａ、Ｎ2ガスを２．７×
１０-3Ｐａ導入して、前記Ｔｉタ−ゲットに約４．３Ｗ
／ｃｍ2の電力を印加し、ＤＣマグネトロン反応スパッ
タの中を、前記Ｔiタ−ゲット上方において前記板ガラ
スをスピード約１８２８ｍｍ／ｍｉｎで搬送することに
よって１６ｎｍ厚さのＴｉＮx 薄膜を成膜した。なお、
成膜が完了した後、Ｔｉタ−ゲットへの印加を停止し
た。
【００２９】次いで、前記ガラスを前記真空槽中におい
たまま、前記槽内を真空ポンプで約２．７×１０-4Ｐａ
以下までに脱気した後、該真空槽内にＯ2ガスを導入し
て真空度を２．７×１０-1Ｐａに保持し、前記Ｓｎター
ゲットに１．０ｋＷ （電力密度 約１．４Ｗ／ｃ
ｍ2）の電力を印加し、ＤＣマグネトロン反応性スパッ
タの中を、前記Ｓｎターゲット上方においてスピード約
１９４ｍｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによ
って前記ＴｉＮｘ膜表面上に約４０ｎｍ厚さのＳｎＯｘ
（１＜ｘ≦２）薄膜を第２層として積層し高性能熱線反
射膜付きガラス基板を得た。なお、成膜が完了した後、
Ｓｎタ−ゲットへの印加を停止した。
たまま、前記槽内を真空ポンプで約２．７×１０-4Ｐａ
以下までに脱気した後、該真空槽内にＯ2ガスを導入し
て真空度を２．７×１０-1Ｐａに保持し、前記Ｓｎター
ゲットに１．０ｋＷ （電力密度 約１．４Ｗ／ｃ
ｍ2）の電力を印加し、ＤＣマグネトロン反応性スパッ
タの中を、前記Ｓｎターゲット上方においてスピード約
１９４ｍｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによ
って前記ＴｉＮｘ膜表面上に約４０ｎｍ厚さのＳｎＯｘ
（１＜ｘ≦２）薄膜を第２層として積層し高性能熱線反
射膜付きガラス基板を得た。なお、成膜が完了した後、
Ｓｎタ−ゲットへの印加を停止した。
【００３０】得られたガラス／ＴｉＮx（１６ｎｍ）／
ＳｎＯx（４０ｎｍ）の膜構成でなる膜付ガラス基板の
膜構成、代表的光学特性を表１に示す。この表１に示さ
れるように、可視光線透過率は５５．４％、日射透過率
が３９．６％、遮蔽係数が０．５９であり、高可視光線
透過率、高断熱性を有する優れた熱線反射ガラスが得ら
れた。
ＳｎＯx（４０ｎｍ）の膜構成でなる膜付ガラス基板の
膜構成、代表的光学特性を表１に示す。この表１に示さ
れるように、可視光線透過率は５５．４％、日射透過率
が３９．６％、遮蔽係数が０．５９であり、高可視光線
透過率、高断熱性を有する優れた熱線反射ガラスが得ら
れた。
【００３１】なお、表１に示す評価は下記の方法により
評価した。 膜厚：ｓｌｏａｎ社製の段差測定器ｄｅｋｔａｋ３に
よって測定 可視光線透過率（Ｔｖ）、可視光線反射率（Ｒｖ）、
日射透過率（Ｔｓ）、日射反射率（Ｒｓ）：ＪＩＳ Ｒ
３１０６に規定する透過率測定方法に基づき、分光光
度計（Ｕ４０００型、日立製作所製スペクトロフォトメ
ーター）で波長３００〜２１００ｎｍの間の日射透過
率、日射反射率（ガラス面、膜面）、及び３８０〜７８
０ｎｍの間の可視光線透過率、可視光線反射率（ガラス
面、膜面）を測定した。 遮蔽係数（Ｓ．Ｃ．値）：ＪＩＳ Ｒ ３１０６に基
づいて日射熱取得率を求め、３ｍｍの厚さのフロート板
ガラス（透明）の日射熱取得率（＝０.８８）を１とし
た場合の日射熱取得率の相対値を求め、遮蔽係数（Shad
ing Coefficient：Ｓ．Ｃ．値)として示した。
評価した。 膜厚：ｓｌｏａｎ社製の段差測定器ｄｅｋｔａｋ３に
よって測定 可視光線透過率（Ｔｖ）、可視光線反射率（Ｒｖ）、
日射透過率（Ｔｓ）、日射反射率（Ｒｓ）：ＪＩＳ Ｒ
３１０６に規定する透過率測定方法に基づき、分光光
度計（Ｕ４０００型、日立製作所製スペクトロフォトメ
ーター）で波長３００〜２１００ｎｍの間の日射透過
率、日射反射率（ガラス面、膜面）、及び３８０〜７８
０ｎｍの間の可視光線透過率、可視光線反射率（ガラス
面、膜面）を測定した。 遮蔽係数（Ｓ．Ｃ．値）：ＪＩＳ Ｒ ３１０６に基
づいて日射熱取得率を求め、３ｍｍの厚さのフロート板
ガラス（透明）の日射熱取得率（＝０.８８）を１とし
た場合の日射熱取得率の相対値を求め、遮蔽係数（Shad
ing Coefficient：Ｓ．Ｃ．値)として示した。
【００３２】
【表１】
【００３３】実施例２ 実施例１と比較して、ＳｎＯxを成膜する時に搬送速度
を約１７２ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚４５ｎｍのＳｎＯx
膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得られ
た膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に示
すように可視光線透過率は５５．０％、日射透過率が３
９．８％、遮蔽係数が０．５９であり実施例１と同様に
高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが
得られた。
を約１７２ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚４５ｎｍのＳｎＯx
膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得られ
た膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に示
すように可視光線透過率は５５．０％、日射透過率が３
９．８％、遮蔽係数が０．５９であり実施例１と同様に
高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが
得られた。
【００３４】実施例３ 実施例１と比較して、ＳｎＯxを成膜する時に搬送速度
を約１５５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚５０ｎｍのＳｎＯx
膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得られ
た膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に示
すように可視光線透過率は５４．６％、日射透過率が４
２．１％、遮蔽係数が０．６０であり実施例１と同様に
高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが
得られた。
を約１５５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚５０ｎｍのＳｎＯx
膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得られ
た膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に示
すように可視光線透過率は５４．６％、日射透過率が４
２．１％、遮蔽係数が０．６０であり実施例１と同様に
高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが
得られた。
【００３５】実施例４ 実施例１と比較して、ＴｉＮxを成膜する時に搬送速度
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５３．３％、日射透過率が
３７．１％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５３．３％、日射透過率が
３７．１％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
【００３６】実施例５ 実施例２と比較して、ＴｉＮxを成膜する時に搬送速度
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例２と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５２．８％、日射透過率が
３７．２％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例２と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５２．８％、日射透過率が
３７．２％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
【００３７】実施例６ 実施例３と比較して、ＴｉＮxを成膜する時に搬送速度
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例２と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５３．０％、日射透過率が
３８．０％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
を約１６２５ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚１８ｎｍのＴｉＮ
x膜を成膜した以外は、実施例２と同様に行った。得ら
れた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表１に
示すように可視光線透過率は５３．０％、日射透過率が
３８．０％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様
に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラス
が得られた。
【００３８】実施例７ 実施例４と比較して、酸化物成膜用のターゲットをＴａ
とし、ガラスの搬送速度を約６９ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔａ
ターゲットに２．０ｋＷ（電力密度 約２．９Ｗ／ｃｍ
2）の電力を印加し、膜厚３５ｎｍのＴａＯx（１＜x≦
５／２）膜を成膜した以外は、実施例４と同様に行っ
た。得られた膜付きガラスについて性能を評価した結
果、表１に示すように可視光線透過率は５５．２％、日
射透過率が３９．２％、遮蔽係数が０．５９であり実施
例１と同様に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線
反射ガラスが得られた。
とし、ガラスの搬送速度を約６９ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔａ
ターゲットに２．０ｋＷ（電力密度 約２．９Ｗ／ｃｍ
2）の電力を印加し、膜厚３５ｎｍのＴａＯx（１＜x≦
５／２）膜を成膜した以外は、実施例４と同様に行っ
た。得られた膜付きガラスについて性能を評価した結
果、表１に示すように可視光線透過率は５５．２％、日
射透過率が３９．２％、遮蔽係数が０．５９であり実施
例１と同様に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線
反射ガラスが得られた。
【００３９】実施例８ 実施例７と比較して、ガラスの搬送速度を約６０ｍｍ／
ｍｉｎとし、膜厚４０ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５５．１％、日射透過率が４０．１％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
ｍｉｎとし、膜厚４０ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５５．１％、日射透過率が４０．１％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４０】実施例９ 実施例７と比較して、ガラスの搬送速度を約５４ｍｍ／
ｍｉｎとし、膜厚４５ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５５．３％、日射透過率が４０．７％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
ｍｉｎとし、膜厚４５ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５５．３％、日射透過率が４０．７％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４１】実施例１０ 実施例７と比較して、ガラスの搬送速度を約４８ｍｍ／
ｍｉｎとし、膜厚５０ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５４．２％、日射透過率が４０．５％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
ｍｉｎとし、膜厚５０ｎｍのＴａＯx膜を成膜した以外
は、実施例７と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５４．２％、日射透過率が４０．５％、遮蔽係
数が０．５９であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４２】実施例１１ 実施例１０と比較して、ガラスの搬送速度を約１４６３
ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚２０ｎｍのＴｉＮx膜を成膜し
た以外は、実施例１０と同様に行った。得られた膜付き
ガラスについて性能を評価した結果、表１に示すように
可視光線透過率は５２．５％、日射透過率が３８．７
％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様に高い可
視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られ
た。
ｍｍ／ｍｉｎとし、膜厚２０ｎｍのＴｉＮx膜を成膜し
た以外は、実施例１０と同様に行った。得られた膜付き
ガラスについて性能を評価した結果、表１に示すように
可視光線透過率は５２．５％、日射透過率が３８．７
％、遮蔽係数が０．５６であり実施例１と同様に高い可
視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られ
た。
【００４３】実施例１２ 実施例１と比較して、酸化物成膜用のターゲットをＴｉ
とし、ガラスの搬送速度を約１１４ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔ
ｉターゲットに３．０ｋＷ（電力密度 約４．３Ｗ／ｃ
ｍ2）の電力を印加し、膜厚２０ｎｍのＴｉＯx（１＜x
≦２）膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。
得られた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表
１に示すように可視光線透過率は５４．７％、日射透過
率が３９．５％、遮蔽係数が０．６０であり実施例１と
同様に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガ
ラスが得られた。
とし、ガラスの搬送速度を約１１４ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔ
ｉターゲットに３．０ｋＷ（電力密度 約４．３Ｗ／ｃ
ｍ2）の電力を印加し、膜厚２０ｎｍのＴｉＯx（１＜x
≦２）膜を成膜した以外は、実施例１と同様に行った。
得られた膜付きガラスについて性能を評価した結果、表
１に示すように可視光線透過率は５４．７％、日射透過
率が３９．５％、遮蔽係数が０．６０であり実施例１と
同様に高い可視光透過性、高断熱性の優れた熱線反射ガ
ラスが得られた。
【００４４】実施例１３ 実施例１２と比較して、ガラスの搬送速度を約７６ｍｍ
／ｍｉｎとし、膜厚３０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以
外は、実施例１２と同様に行った。得られた膜付きガラ
スについて性能を評価した結果、表１に示すように可視
光線透過率は５３．１％、日射透過率が３９．７％、遮
蔽係数が０．５８であり実施例１と同様に高い可視光透
過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
／ｍｉｎとし、膜厚３０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以
外は、実施例１２と同様に行った。得られた膜付きガラ
スについて性能を評価した結果、表１に示すように可視
光線透過率は５３．１％、日射透過率が３９．７％、遮
蔽係数が０．５８であり実施例１と同様に高い可視光透
過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４５】実施例１４ 実施例１２と比較して、ガラスの搬送速度を約５７ｍｍ
／ｍｉｎとし、膜厚４０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以
外は、実施例１２と同様に行った。得られた膜付きガラ
スについて性能を評価した結果、表１に示すように可視
光線透過率は５０．５％、日射透過率が４０．５％、遮
蔽係数が０．５８であり実施例１と同様に高い可視光透
過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
／ｍｉｎとし、膜厚４０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以
外は、実施例１２と同様に行った。得られた膜付きガラ
スについて性能を評価した結果、表１に示すように可視
光線透過率は５０．５％、日射透過率が４０．５％、遮
蔽係数が０．５８であり実施例１と同様に高い可視光透
過性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４６】実施例１５ 実施例４と比較して、酸化物成膜用のターゲットをＴｉ
とし、ガラスの搬送速度を約７６ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔｉ
ターゲットに３．０ｋＷ（約４．３Ｗ／ｃｍ2）の電力
を印加し、膜厚３０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以外
は、実施例４と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５１．７％、日射透過率が３７．８％、遮蔽係
数が０．５６であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
とし、ガラスの搬送速度を約７６ｍｍ／ｍｉｎ、該Ｔｉ
ターゲットに３．０ｋＷ（約４．３Ｗ／ｃｍ2）の電力
を印加し、膜厚３０ｎｍのＴｉＯx膜を成膜した以外
は、実施例４と同様に行った。得られた膜付きガラスに
ついて性能を評価した結果、表１に示すように可視光線
透過率は５１．７％、日射透過率が３７．８％、遮蔽係
数が０．５６であり実施例１と同様に高い可視光透過
性、高断熱性の優れた熱線反射ガラスが得られた。
【００４７】比較例１ 実施例１と同様の板ガラスを用い、実施例１と同様にし
てＴｉターゲットのみセットし、スピード約１９５０ｍ
ｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによって約１
５ｎｍ 厚さのＴｉＮx薄膜を成膜した。成膜が完了し
た後、Ｔｉターゲットへの印加を停止した。その他は実
施例１と同様に行った。得られた膜付き基板は、表２に
示すように、日射透過率は３４．７％、遮蔽係数は０．
５６と低い値を示し高断熱性を示しているが、可視光線
透過率が４８．９％と低かった。
てＴｉターゲットのみセットし、スピード約１９５０ｍ
ｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによって約１
５ｎｍ 厚さのＴｉＮx薄膜を成膜した。成膜が完了し
た後、Ｔｉターゲットへの印加を停止した。その他は実
施例１と同様に行った。得られた膜付き基板は、表２に
示すように、日射透過率は３４．７％、遮蔽係数は０．
５６と低い値を示し高断熱性を示しているが、可視光線
透過率が４８．９％と低かった。
【００４８】
【表２】
【００４９】比較例２ 実施例１と同様の板ガラスを用い、実施例１と同様にし
てＴｉターゲットのみセットし、スピード約１４６３ｍ
ｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによって約２
０ｎｍ 厚さのＴｉＮx薄膜を成膜した。成膜が完了し
た後、Ｔｉターゲットへの印加を停止した得られた膜付
き基板は、日射透過率は２８．１％、遮蔽係数は０．４
９と低い値を示し高断熱性を示しているが、可視光線透
過率が４１．５％と低かった。（なお、各表において、
化学量論的には例えばＳｎＯxはＳｎＯ2を、ＴａＯxは
Ｔａ2Ｏ5を、ＴｉＯxはＴｉＯ2をそれぞれ示すが、スパ
ッタリングにおいては必ずしも上記のような厳密な結合
形態をとらないので、表示のごとくした）
てＴｉターゲットのみセットし、スピード約１４６３ｍ
ｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送することによって約２
０ｎｍ 厚さのＴｉＮx薄膜を成膜した。成膜が完了し
た後、Ｔｉターゲットへの印加を停止した得られた膜付
き基板は、日射透過率は２８．１％、遮蔽係数は０．４
９と低い値を示し高断熱性を示しているが、可視光線透
過率が４１．５％と低かった。（なお、各表において、
化学量論的には例えばＳｎＯxはＳｎＯ2を、ＴａＯxは
Ｔａ2Ｏ5を、ＴｉＯxはＴｉＯ2をそれぞれ示すが、スパ
ッタリングにおいては必ずしも上記のような厳密な結合
形態をとらないので、表示のごとくした）
【００５０】
【発明の効果】本発明の高性能熱線反射膜付き基板は、
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの
範囲にある面心立方構造の窒化チタン膜の上層に酸化物
膜が積層されているので、歪みの少なく、導電性に優
れ、且つ優れた耐久性と高い熱線反射性能を有するとと
もに高可視光線透過率を有するものであり、特に建築物
の外層用窓ガラスに好適である。
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åの
範囲にある面心立方構造の窒化チタン膜の上層に酸化物
膜が積層されているので、歪みの少なく、導電性に優
れ、且つ優れた耐久性と高い熱線反射性能を有するとと
もに高可視光線透過率を有するものであり、特に建築物
の外層用窓ガラスに好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AC06 EA01 EA02 EA04 EA05 EA12 EB04 GA01 GA04 GA12 4K029 AA09 BA43 BA44 BA46 BA47 BA48 BA49 BA60 BB02 BB07 BC05 BC08 CA06 EA01 EA03 EA09
Claims (9)
- 【請求項１】透明基板表面に、窒化チタン（ＴiＮ）
膜、酸化物膜が順次積層された多層膜において、該窒化
チタン膜は、（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜
２．４６４Åである面心立方構造を有することを特徴と
する高性能熱線反射膜付き基板。 - 【請求項２】前記酸化物膜は、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓ
ｉ、ＺｎまたはＡｌの内の少なくとも１種の酸化物であ
ることを特徴とする請求項１記載の高性能熱線反射膜付
き基板。 - 【請求項３】前記窒化チタン膜の膜厚は１０〜３０ｎ
ｍ、前記酸化物膜の膜厚は１０〜８０ｎｍであることを
特徴とする請求項１または２記載の高性能熱線反射膜付
き基板。 - 【請求項４】可視光線透過率が５０％以上、遮蔽係数
（Ｓ．Ｃ．値）が０．６５以下であることを特徴とする
請求項１乃至３のいずれかに記載の高性能熱線反射膜付
き基板。 - 【請求項５】前記窒化チタン膜の比抵抗が２．３×１０
-4Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４
のいずれかに記載の高性能熱線反射膜付き基板。 - 【請求項６】透明基板表面に、スパッタリング法により
窒化チタン（ＴiＮ）膜、酸化物膜よりなる多層膜を積
層する方法において、窒化チタン膜を成膜する際のスパ
ッタガス導入量を分圧で制御し、Ｔｉターゲット表面を
金属／窒化物遷移領域の状態で成膜することにより、
（１１１）面の面間隔が２．４３９Å〜２．４６４Åで
ある面心立方構造の窒化チタン膜を形成することを特徴
とする高性能熱線反射膜付き基板の成膜方法。 - 【請求項７】前記窒化チタン膜をスパッタリング成膜す
る際の窒素ガス分圧が、４．０×１０-4Ｐａ〜１．２×
１０-2Ｐａであることを特徴とする請求項６記載の高性
能熱線反射膜付き基板の成膜方法。 - 【請求項８】前記窒化チタン膜をスパッタリング成膜す
る際の総ガス圧力が、４．０×１０ -2Ｐａ〜１．３×１
０-1Ｐａであることを特徴とする請求項６または７記載
の熱線反射膜付き基板の成膜方法。 - 【請求項９】前記窒化チタン膜をスパッタリング成膜す
る際の電力密度（単位スパッタリング面積当たりの投入
電力）が、３．０Ｗ／ｃｍ2以上であることを特徴とす
る請求項６乃至８のいずれかに記載の高性能熱線反射膜
付き基板の成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001069300A JP2002274891A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001069300A JP2002274891A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002274891A true JP2002274891A (ja) | 2002-09-25 |
Family
ID=18927354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001069300A Pending JP2002274891A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002274891A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007319731A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Ｙｋｋ Ａｐ株式会社 | 光触媒活性被膜物 |
-
2001
- 2001-03-12 JP JP2001069300A patent/JP2002274891A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007319731A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Ｙｋｋ Ａｐ株式会社 | 光触媒活性被膜物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1335887C (en) | Neutral sputtered films of metal alloy oxides | |
| EP1851354B1 (en) | Method of making low-e coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same | |
| US4902580A (en) | Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides | |
| PL187951B1 (pl) | Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową | |
| EP1430332B1 (en) | Optical coatings and associated methods | |
| EP3004015A2 (en) | Low-emissivity glazing | |
| WO1991002102A1 (en) | Film based on silicon dioxide and production thereof | |
| KR102565397B1 (ko) | 저방사율 코팅, 그를 포함하는 유리 표면, 및 그를 제조하는 방법 | |
| US9296651B2 (en) | Heat stable SnAl and SnMg based dielectrics | |
| EP4139259A1 (en) | Low-emissivity glazing and method of its production | |
| EP4139258A1 (en) | Solar control glazing and method of its production | |
| JPH07249316A (ja) | 透明導電膜および該透明導電膜を用いた透明基体 | |
| JPH07178866A (ja) | 熱線遮断膜とその製造方法 | |
| KR20110018069A (ko) | 반사방지용 다층코팅을 갖는 투명 기판 및 그 제조방법 | |
| JP2002274891A (ja) | 高性能熱線反射膜付き基板およびその成膜方法 | |
| JP6459374B2 (ja) | 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板 | |
| EP4139261A1 (en) | Low-emissivity glazing and method of its production | |
| JP2906524B2 (ja) | 赤外反射物品 | |
| JP2001081547A (ja) | 熱線反射膜およびその成膜方法 | |
| JP2008222507A (ja) | 複層ガラス | |
| JP6419164B2 (ja) | 低放射率および抗日射グレイジング | |
| JP3028576B2 (ja) | 熱線遮蔽ガラス | |
| JPH0511053B2 (ja) | ||
| WO2010103914A1 (ja) | 酸化タンタル薄膜及び薄膜積層体 | |
| JP4226892B2 (ja) | 低抵抗膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050112 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060421 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20061219 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070710 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |