JP2002273158A - ガス吸着濃縮装置 - Google Patents
ガス吸着濃縮装置Info
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- JP2002273158A JP2002273158A JP2001084447A JP2001084447A JP2002273158A JP 2002273158 A JP2002273158 A JP 2002273158A JP 2001084447 A JP2001084447 A JP 2001084447A JP 2001084447 A JP2001084447 A JP 2001084447A JP 2002273158 A JP2002273158 A JP 2002273158A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】沸点の高いガスであっても処理可能なガス吸着
濃縮装置を提供しようとするもので、高温の脱着空気を
流すことができるようにするものである。 【解決手段】ガス吸着ローター１を吸着ゾーン４と脱着
ゾーン６とに分割するとともに、脱着ゾーン６の内側に
高耐熱材料で作られた耐熱シール８を設け、耐熱シール
８の外側に弾性の高い気密シール７を設けた。
濃縮装置を提供しようとするもので、高温の脱着空気を
流すことができるようにするものである。 【解決手段】ガス吸着ローター１を吸着ゾーン４と脱着
ゾーン６とに分割するとともに、脱着ゾーン６の内側に
高耐熱材料で作られた耐熱シール８を設け、耐熱シール
８の外側に弾性の高い気密シール７を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば有機溶剤
蒸気などの除去に用いられるガス吸着濃縮装置に関する
ものである。
蒸気などの除去に用いられるガス吸着濃縮装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、多くの工場から有機溶剤蒸気が発
生している。例えば、塗装工場からはトルエンやキシレ
ンなどが発生し、その多くが大気中に放出されている。
また半導体工場からはジメチルスルフォキサイド（ＤＭ
ＳＯ）などが発生している。
生している。例えば、塗装工場からはトルエンやキシレ
ンなどが発生し、その多くが大気中に放出されている。
また半導体工場からはジメチルスルフォキサイド（ＤＭ
ＳＯ）などが発生している。
【０００３】このような有機溶剤蒸気は大気中に放出す
ると害を及ぼすため、種々の除去手段が提案されてい
る。その除去手段の１つに吸着剤を担持したハニカム・
ロータを用いるものがある。つまりセラミックシートな
どコルゲート加工してハニカム体を構成し、これに疎水
性ゼオライトなどの吸着剤を担持した吸着ローターを用
いるものがある。
ると害を及ぼすため、種々の除去手段が提案されてい
る。その除去手段の１つに吸着剤を担持したハニカム・
ロータを用いるものがある。つまりセラミックシートな
どコルゲート加工してハニカム体を構成し、これに疎水
性ゼオライトなどの吸着剤を担持した吸着ローターを用
いるものがある。
【０００４】上記の蒸気の内でトルエンやキシレンなど
は沸点が低いため吸着ローターに吸着されたこれらの物
質を、吸着ローターに１４０〜１８０℃程度の脱着空気
を通すことによって簡単に脱着することができる。この
ようにして脱着された有機溶剤蒸気は触媒や燃焼装置を
通すことによって無害化し、大気に放出することができ
る。
は沸点が低いため吸着ローターに吸着されたこれらの物
質を、吸着ローターに１４０〜１８０℃程度の脱着空気
を通すことによって簡単に脱着することができる。この
ようにして脱着された有機溶剤蒸気は触媒や燃焼装置を
通すことによって無害化し、大気に放出することができ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしＤＭＳＯなどの
沸点の高い有機溶剤は脱着空気の温度を２００℃以上に
上げないと完全な脱着は困難であった。しかし脱着空気
の温度を高くすると吸着ゾーンと脱着ゾーンとの間の気
密を保持するシール材が温度の高い有機溶剤によって損
傷を受けるという問題がある。
沸点の高い有機溶剤は脱着空気の温度を２００℃以上に
上げないと完全な脱着は困難であった。しかし脱着空気
の温度を高くすると吸着ゾーンと脱着ゾーンとの間の気
密を保持するシール材が温度の高い有機溶剤によって損
傷を受けるという問題がある。
【０００６】つまりシール材としては気密を維持すると
いう観点からは吸着ローターに密着する必要があり、ま
た有機溶剤蒸気に侵されない材料である必要があるため
フッ素ゴムなどの化学的に比較的安定な弾性体が使用さ
れてきた。しかしフッ素ゴムは２００℃の温度の有機溶
剤蒸気には耐えることができない。
いう観点からは吸着ローターに密着する必要があり、ま
た有機溶剤蒸気に侵されない材料である必要があるため
フッ素ゴムなどの化学的に比較的安定な弾性体が使用さ
れてきた。しかしフッ素ゴムは２００℃の温度の有機溶
剤蒸気には耐えることができない。
【０００７】一方フッ素樹脂は２００℃以上の温度の有
機溶剤蒸気に耐えることができるが、弾性が低く気密を
維持するという観点から好ましくない。本発明はこのよ
うな問題点を解消し、沸点の高い有機溶剤の蒸気であっ
ても処理可能なガス吸着濃縮装置を提供しようとするも
のである。
機溶剤蒸気に耐えることができるが、弾性が低く気密を
維持するという観点から好ましくない。本発明はこのよ
うな問題点を解消し、沸点の高い有機溶剤の蒸気であっ
ても処理可能なガス吸着濃縮装置を提供しようとするも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本件発明は以上のような
課題を解決するため、ガス吸着ローターを吸着ゾーンと
脱着ゾーンとに分割する分割手段を設け、分割手段の脱
着ゾーンの側に高耐熱材料で作られた耐熱シールを設
け、耐熱シールの外側に弾性の高い気密シールを設けた
ものである。
課題を解決するため、ガス吸着ローターを吸着ゾーンと
脱着ゾーンとに分割する分割手段を設け、分割手段の脱
着ゾーンの側に高耐熱材料で作られた耐熱シールを設
け、耐熱シールの外側に弾性の高い気密シールを設けた
ものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、ハニカム状のガス吸着ローターと、ガス吸着ロータ
ーを吸着ゾーンと脱着ゾーンとに分割する分割手段を有
し、分割手段の脱着ゾーンの側に高耐熱材料で作られた
耐熱シールを設け、耐熱シールの外側に弾性の高い気密
シールを設けたものであり、耐熱シールで気密シールへ
の温度の高いの有機溶剤蒸気の伝達を防止するという作
用を有する。
は、ハニカム状のガス吸着ローターと、ガス吸着ロータ
ーを吸着ゾーンと脱着ゾーンとに分割する分割手段を有
し、分割手段の脱着ゾーンの側に高耐熱材料で作られた
耐熱シールを設け、耐熱シールの外側に弾性の高い気密
シールを設けたものであり、耐熱シールで気密シールへ
の温度の高いの有機溶剤蒸気の伝達を防止するという作
用を有する。
【００１０】
【実施例】以下本発明のガス吸着濃縮装置の実施例につ
いて図に沿って詳細に説明する。図２において１はガス
吸着ローターであり、このガス吸着ローター１はケーシ
ング２の中に回転自在に収納されている。またガス吸着
ローター１はケーシング２内に設けられたギヤドモータ
ー（図示せず）によって図２の矢印方向に回転駆動され
る。
いて図に沿って詳細に説明する。図２において１はガス
吸着ローターであり、このガス吸着ローター１はケーシ
ング２の中に回転自在に収納されている。またガス吸着
ローター１はケーシング２内に設けられたギヤドモータ
ー（図示せず）によって図２の矢印方向に回転駆動され
る。
【００１１】３はゾーン構成枠であり、ガス吸着ロータ
ー１を吸着ゾーン４、パージゾーン５、脱着ゾーン６に
分割するものである。このゾーン構成枠３のガス吸着ロ
ーター１対向側には各ゾーン間でガス漏れを防止するシ
ール手段が設けられている。このシール手段について以
下説明をする。
ー１を吸着ゾーン４、パージゾーン５、脱着ゾーン６に
分割するものである。このゾーン構成枠３のガス吸着ロ
ーター１対向側には各ゾーン間でガス漏れを防止するシ
ール手段が設けられている。このシール手段について以
下説明をする。
【００１２】図１は図２のＡ−Ａ断面拡大図である。７
は気密シールであり、断面形状が半円である。この気密
シール７は弾性を有し、気密性の高いフッ素ゴムより作
られている。また気密シール７の頂部はガス吸着ロータ
ー１の面を多少弾圧する状態で接している。
は気密シールであり、断面形状が半円である。この気密
シール７は弾性を有し、気密性の高いフッ素ゴムより作
られている。また気密シール７の頂部はガス吸着ロータ
ー１の面を多少弾圧する状態で接している。
【００１３】８は耐熱シールであり、テフロン（米国デ
ュポン社の商品名）等のフッ素樹脂より作られ、高温の
有機溶剤蒸気に対する対抗性が高い。また耐熱シール８
はガス吸着ローター１の面に対して垂直な板を３枚有す
る形状である。この耐熱シール８も先端がガス吸着ロー
ター１の面と接している。
ュポン社の商品名）等のフッ素樹脂より作られ、高温の
有機溶剤蒸気に対する対抗性が高い。また耐熱シール８
はガス吸着ローター１の面に対して垂直な板を３枚有す
る形状である。この耐熱シール８も先端がガス吸着ロー
ター１の面と接している。
【００１４】また耐熱シール８は脱着ゾーン６側に位置
するように配置されている。つまり気密シール７と耐熱
シール８とは互いに並べた状態でゾーン構成枠３に取り
付けられており、脱着ゾーン６を囲む部分の内側に耐熱
シール８が位置し、その外側に気密シール７が位置して
いる。
するように配置されている。つまり気密シール７と耐熱
シール８とは互いに並べた状態でゾーン構成枠３に取り
付けられており、脱着ゾーン６を囲む部分の内側に耐熱
シール８が位置し、その外側に気密シール７が位置して
いる。
【００１５】図４にガス吸着濃縮装置全体の構成を示
す。９は処理ファンであり有機溶剤蒸気を含む被処理空
気を吸着ゾーン４へ送るものである。１０は脱着ファン
であり、脱着ゾーン６から濃縮された有機溶剤蒸気を含
む空気を吸い込むものである。１１はヒーターであり、
パージゾーン５を通過した空気がヒーター１１を介して
脱着ゾーン６へ送られるように送気管路が構成されてい
る。
す。９は処理ファンであり有機溶剤蒸気を含む被処理空
気を吸着ゾーン４へ送るものである。１０は脱着ファン
であり、脱着ゾーン６から濃縮された有機溶剤蒸気を含
む空気を吸い込むものである。１１はヒーターであり、
パージゾーン５を通過した空気がヒーター１１を介して
脱着ゾーン６へ送られるように送気管路が構成されてい
る。
【００１６】本発明のガス吸着濃縮装置は上記の如く構
成され以下その動作について説明する。先ず処理ファン
９及び脱着ファン１０を起動し、次にガス吸着ローター
１を図２の矢印方向に回転させる。そしてヒーター１１
を動作させる。
成され以下その動作について説明する。先ず処理ファン
９及び脱着ファン１０を起動し、次にガス吸着ローター
１を図２の矢印方向に回転させる。そしてヒーター１１
を動作させる。
【００１７】すると例えば１００ｐｐｍの濃度の有機溶
剤蒸気を含む被処理空気は吸着ゾーン４へ送られ、ここ
で空気中の有機溶剤蒸気がガス吸着ローター１に吸着さ
れ、有機溶剤蒸気濃度２ｐｐｍ程度の清浄空気となって
大気に放出される。
剤蒸気を含む被処理空気は吸着ゾーン４へ送られ、ここ
で空気中の有機溶剤蒸気がガス吸着ローター１に吸着さ
れ、有機溶剤蒸気濃度２ｐｐｍ程度の清浄空気となって
大気に放出される。
【００１８】吸着ゾーン４で有機溶剤蒸気を吸着したガ
ス吸着ローター１の部分は、その回転に伴って脱着ゾー
ン６へ移動する。すると脱着ゾーン６にはヒーター１１
によって２５０〜２８０℃に加熱された空気が送られる
ため、吸着された有機溶剤蒸気がガス吸着ローター１か
ら脱着され、脱着ファン１０によって脱着ゾーン６から
吸い出されて、燃焼装置（図示せず）などの無害化手段
へ送られる。この脱着された有機溶剤蒸気は１０倍濃縮
であると１０００ｐｐｍの濃度になる。
ス吸着ローター１の部分は、その回転に伴って脱着ゾー
ン６へ移動する。すると脱着ゾーン６にはヒーター１１
によって２５０〜２８０℃に加熱された空気が送られる
ため、吸着された有機溶剤蒸気がガス吸着ローター１か
ら脱着され、脱着ファン１０によって脱着ゾーン６から
吸い出されて、燃焼装置（図示せず）などの無害化手段
へ送られる。この脱着された有機溶剤蒸気は１０倍濃縮
であると１０００ｐｐｍの濃度になる。
【００１９】脱着ゾーン６を通過したガス吸着ローター
１の部分は、その回転に伴ってパージゾーン５へ移動す
る。ガス吸着ローター１は脱着ゾーン６で加熱されてお
り、温度の高い状態でパージゾーン５へ入る。ガス吸着
ローター１はパージゾーン５で冷却され、反対にパージ
ゾーン５を通過する空気は加熱される。
１の部分は、その回転に伴ってパージゾーン５へ移動す
る。ガス吸着ローター１は脱着ゾーン６で加熱されてお
り、温度の高い状態でパージゾーン５へ入る。ガス吸着
ローター１はパージゾーン５で冷却され、反対にパージ
ゾーン５を通過する空気は加熱される。
【００２０】以上が一連の有機溶剤蒸気の濃縮過程であ
るが、さらにその詳細について説明する。先ず脱着ファ
ン１０は脱着ゾーン６の空気を吸い込むように構成され
ているため、脱着ゾーン６は負圧である。すると気密シ
ール７に空気漏れが発生した場合、気密シール７及び耐
熱シール８を通過した漏れ空気は図３のようにパージゾ
ーン５あるいは吸着ゾーン４から脱着ゾーン６に侵入す
る。つまり脱着ゾーン６を通過する空気は外部に漏れな
いため、濃縮された有機溶剤蒸気が外部に漏れることは
ない。
るが、さらにその詳細について説明する。先ず脱着ファ
ン１０は脱着ゾーン６の空気を吸い込むように構成され
ているため、脱着ゾーン６は負圧である。すると気密シ
ール７に空気漏れが発生した場合、気密シール７及び耐
熱シール８を通過した漏れ空気は図３のようにパージゾ
ーン５あるいは吸着ゾーン４から脱着ゾーン６に侵入す
る。つまり脱着ゾーン６を通過する空気は外部に漏れな
いため、濃縮された有機溶剤蒸気が外部に漏れることは
ない。
【００２１】脱着ゾーン６入り口にはヒーター１１を通
過した空気が流れるため、ここの温度が最も高い。具体
的には脱着ゾーン６へ流れる空気の温度は上記のとおり
２５０〜２８０℃程度である。一方、パージゾーン５出
口の空気の温度はせいぜい１５０〜１８０℃程度であ
る。従って漏れ空気は温度の低いゾーンつまり吸着ゾー
ン４やパージゾーン５から温度の高い脱着ゾーン６へと
流れることになる。
過した空気が流れるため、ここの温度が最も高い。具体
的には脱着ゾーン６へ流れる空気の温度は上記のとおり
２５０〜２８０℃程度である。一方、パージゾーン５出
口の空気の温度はせいぜい１５０〜１８０℃程度であ
る。従って漏れ空気は温度の低いゾーンつまり吸着ゾー
ン４やパージゾーン５から温度の高い脱着ゾーン６へと
流れることになる。
【００２２】従って漏れ空気が発生した場合には気密シ
ール７とガス吸着ローター１の間には温度の低い空気が
流れ、気密シール７には温度の低い空気が接触すること
になる。
ール７とガス吸着ローター１の間には温度の低い空気が
流れ、気密シール７には温度の低い空気が接触すること
になる。
【００２３】漏れ空気が発生しない場合は、気密シール
７の一面は温度の低いパージゾーン５あるいは吸着ゾー
ン４の空気と触れ、気密シール７の他面は耐熱シール８
との間の空気と触れる。耐熱シール８と気密シール７と
の間の空気は当然脱着空気の温度より低く気密シール７
は常に温度の低い空気と接することになる。一方耐熱シ
ール８は高温の脱着空気と触れるが、耐熱シール８はフ
ッ素樹脂などの耐熱性および耐溶剤性の高い材料で構成
され、温度の高い有機溶剤蒸気による損傷を受けること
がない。
７の一面は温度の低いパージゾーン５あるいは吸着ゾー
ン４の空気と触れ、気密シール７の他面は耐熱シール８
との間の空気と触れる。耐熱シール８と気密シール７と
の間の空気は当然脱着空気の温度より低く気密シール７
は常に温度の低い空気と接することになる。一方耐熱シ
ール８は高温の脱着空気と触れるが、耐熱シール８はフ
ッ素樹脂などの耐熱性および耐溶剤性の高い材料で構成
され、温度の高い有機溶剤蒸気による損傷を受けること
がない。
【００２４】このように気密シール７として弾性の高い
材料を使い、耐熱シール８として温度の高い有機溶剤蒸
気に耐える材料を使うことによって、気密性を維持しな
がら耐熱性の高いシールとすることができ、再生空気の
温度を高くすることができる。
材料を使い、耐熱シール８として温度の高い有機溶剤蒸
気に耐える材料を使うことによって、気密性を維持しな
がら耐熱性の高いシールとすることができ、再生空気の
温度を高くすることができる。
【００２５】つまり脱着ゾーン６の入り口は有機溶剤蒸
気の濃度は低いもののヒーター１１を通過した直後の２
５０〜２８０℃に加熱された空気が触れ、シール手段と
しては極めて過酷な条件であり、一方脱着ゾーン６の出
口は温度が下がっているものの有機溶剤蒸気の濃度が濃
縮倍率の分だけ上がるため、ここもシール手段としては
極めて過酷な条件であるが、上述のとおり気密シール７
は直接脱着ゾーン６入り口の高温空気や脱着ゾーン６出
口空気に触れないため有機溶剤蒸気による損傷を受ける
ことがない。
気の濃度は低いもののヒーター１１を通過した直後の２
５０〜２８０℃に加熱された空気が触れ、シール手段と
しては極めて過酷な条件であり、一方脱着ゾーン６の出
口は温度が下がっているものの有機溶剤蒸気の濃度が濃
縮倍率の分だけ上がるため、ここもシール手段としては
極めて過酷な条件であるが、上述のとおり気密シール７
は直接脱着ゾーン６入り口の高温空気や脱着ゾーン６出
口空気に触れないため有機溶剤蒸気による損傷を受ける
ことがない。
【００２６】また漏れ空気が発生した場合に、図３に示
すようにガス吸着ローター１の面と３つの耐熱シール８
の間の隙間に空気が流れるため、この部分で渦が発生
し、この渦の作用によって空気抵抗が増大するため、漏
れ空気が少なくなる。
すようにガス吸着ローター１の面と３つの耐熱シール８
の間の隙間に空気が流れるため、この部分で渦が発生
し、この渦の作用によって空気抵抗が増大するため、漏
れ空気が少なくなる。
【００２７】以上の実施例ではパージゾーン５を設ける
例を示したが、場合によってはパージゾーン５を設ける
ことなく、脱着ゾーン６と吸着ゾーン４のみでもよい。
さらに耐熱シールとして３つの板状体をガス吸着ロータ
ーの面に垂直に当てる構成にしたが、空気の漏れが少な
い場合は耐熱シールを１枚あるいは２枚の板状体で構成
してもよい。２枚の場合には空気の漏れに伴って２枚の
板の間及び耐熱シールと気密シールとの間に渦が発生す
る。１枚の場合には空気の漏れに伴って耐熱シールと気
密シールとの間に渦が発生する。また板状体を３枚以上
にしてもよい。
例を示したが、場合によってはパージゾーン５を設ける
ことなく、脱着ゾーン６と吸着ゾーン４のみでもよい。
さらに耐熱シールとして３つの板状体をガス吸着ロータ
ーの面に垂直に当てる構成にしたが、空気の漏れが少な
い場合は耐熱シールを１枚あるいは２枚の板状体で構成
してもよい。２枚の場合には空気の漏れに伴って２枚の
板の間及び耐熱シールと気密シールとの間に渦が発生す
る。１枚の場合には空気の漏れに伴って耐熱シールと気
密シールとの間に渦が発生する。また板状体を３枚以上
にしてもよい。
【００２８】
【発明の効果】本発明のガス吸着濃縮装置は上記の如く
気密シールと耐熱シールとを組み合わせて構成したの
で、気密シールが直接高温の有機溶剤蒸気を含む脱着空
気に晒されないため、脱着ゾーンに高温の脱着空気を流
すことができ沸点の高い有機溶剤の蒸気であっても濃縮
処理を行うことができるものである。
気密シールと耐熱シールとを組み合わせて構成したの
で、気密シールが直接高温の有機溶剤蒸気を含む脱着空
気に晒されないため、脱着ゾーンに高温の脱着空気を流
すことができ沸点の高い有機溶剤の蒸気であっても濃縮
処理を行うことができるものである。
【００２９】また気密シールを弾性の高い材料とし耐熱
シールを耐熱性の高い材料としたので両者の特徴の相乗
効果を得ることができ、気密性を維持しつつ耐熱性を高
めることができる。
シールを耐熱性の高い材料としたので両者の特徴の相乗
効果を得ることができ、気密性を維持しつつ耐熱性を高
めることができる。
【００３０】さらに本発明のガス吸着濃縮装置はゾーン
を分割する分割手段の脱着ゾーン側に耐熱シールを配置
し、反脱着ゾーン側に気密シールを配置するとともに脱
着ゾーンを負圧にしたため空気の漏れが発生しても気密
シールには高温の空気が触れることがなく、気密シール
の熱による損傷を防ぐことができる。
を分割する分割手段の脱着ゾーン側に耐熱シールを配置
し、反脱着ゾーン側に気密シールを配置するとともに脱
着ゾーンを負圧にしたため空気の漏れが発生しても気密
シールには高温の空気が触れることがなく、気密シール
の熱による損傷を防ぐことができる。
【図１】本発明のガス吸着濃縮装置の実施例１を示す部
分拡大断面図である。
分拡大断面図である。
【図２】本発明に用いられるガス吸着濃縮装置の一例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】図１のさらに拡大断面図である。
【図４】本発明に用いられるガス吸着濃縮装置の一例を
示すフロー図である。
示すフロー図である。
１ ガス吸着ローター ２ ケーシング ３ ゾーン構成枠 ４ 吸着ゾーン ５ パージゾーン ６ 脱着ゾーン ７ 気密シール ８ 耐熱シール ９ 処理ファン １０ 脱着ファン １１ ヒーター
Claims (4)
- 【請求項１】ハニカム状のガス吸着ローターと、前記ガ
ス吸着ローターを吸着ゾーンと脱着ゾーンとに分割する
分割手段を有するとともに、前記分割手段の脱着ゾーン
側に高耐熱材料で作られた耐熱シールを設け、前記耐熱
シールの外側に弾性の高い気密シールを設けたガス吸着
濃縮装置。 - 【請求項２】耐熱シールとしてフッ素樹脂を用いた請求
項１記載のガス吸着濃縮装置。 - 【請求項３】気密シールとしてフッ素ゴムを用いた請求
項１記載のガス吸着濃縮装置。 - 【請求項４】脱着ゾーンを負圧にした請求項１記載のガ
ス吸着濃縮装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084447A JP4772197B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | ガス吸着濃縮装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084447A JP4772197B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | ガス吸着濃縮装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002273158A true JP2002273158A (ja) | 2002-09-24 |
| JP4772197B2 JP4772197B2 (ja) | 2011-09-14 |
Family
ID=18940117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001084447A Expired - Fee Related JP4772197B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | ガス吸着濃縮装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4772197B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4772197B2 (ja) | 2011-09-14 |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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