JP2002265454A - Benzimidazole derivative and curable composition - Google Patents

Benzimidazole derivative and curable composition

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JP2002265454A
JP2002265454A JP2001067158A JP2001067158A JP2002265454A JP 2002265454 A JP2002265454 A JP 2002265454A JP 2001067158 A JP2001067158 A JP 2001067158A JP 2001067158 A JP2001067158 A JP 2001067158A JP 2002265454 A JP2002265454 A JP 2002265454A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a one-part type epoxy resin photo-setting resin composition having excellent preservation stability in the dark. SOLUTION: This curable composition is characterized as comprising a benzimidazole derivative represented by the general formula (I) and a polyfunctional epoxy compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なベンゾイミ
ダゾール誘導体および硬化性組成物に関し、さらに詳し
くは、光照射と加熱によって硬化するエポキシ樹脂系硬
化組成物に関する。
The present invention relates to a novel benzimidazole derivative and a curable composition, and more particularly, to an epoxy resin-based cured composition which is cured by light irradiation and heating.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、種々の光硬化性組成物が、コ
ーティング材、塗料、インキ、印刷版、レジスト、接着
剤等の各種用途に使用されており、その多くは、多官能
性(メタ)アクリレートと光ラジカル発生剤からなる組
成物である。この反応系の特徴は、その優れた光硬化性
と使用できる(メタ)アクリレートの組み合せの多様性
にある。しかし、(メタ)アクリレート系の硬化物は光
硬化時の体積収縮が大きく、一般的には接着性や寸法安
定性に問題がある。また、光ラジカル硬化系は酸素の影
響を大きく受け、表面の重合が阻害され硬化性が悪いと
いう問題がある。さらに、用いられる多くの(メタ)ア
クリレートは皮膚に対する刺激が強く、取り扱い性にも
問題がある。
2. Description of the Related Art Hitherto, various photocurable compositions have been used for various uses such as coating materials, paints, inks, printing plates, resists, adhesives and the like. A) A composition comprising an acrylate and a photoradical generator. This reaction system is characterized by its excellent photocurability and the variety of (meth) acrylate combinations that can be used. However, the (meth) acrylate-based cured product has a large volume shrinkage at the time of photocuring, and generally has problems in adhesiveness and dimensional stability. Further, there is a problem that the photo-radical curing system is greatly affected by oxygen, polymerization of the surface is inhibited, and curability is poor. Furthermore, many (meth) acrylates used are highly irritating to the skin and have problems in handling.

【0003】また、ジフェニルヨードニウムヘキサフル
オロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラ
フルオロフォスフェート等の光酸発生剤を利用した、多
官能ビニルエーテルやエポキシ化合物からなる光硬化性
組成物も光カチオン重合系として知られている。この光
硬化性組成物は、相対的に体積収縮率が小さく、酸素に
よる重合阻害を受けず、皮膚刺激性が低い特徴を有して
いる。しかし、上記のような光酸発生剤から発生される
強酸は、エレクトロニクス分野において基板を腐食し、
絶縁性の低下などをもたらす可能性があるため、その用
途は制限されてしまう事となる。さらにこの反応系は、
酸素による阻害は受けないものの、水分や反応系の水酸
基によって大きく阻害される。従って、このような光硬
化系では、不純物の除去や官能基の選択、純度などが非
常に重要となり、工業的には取り扱いが難しいという問
題がある。
A photocurable composition comprising a polyfunctional vinyl ether or an epoxy compound using a photoacid generator such as diphenyliodonium hexafluoroantimonate and triphenylsulfonium tetrafluorophosphate is also known as a cationic photopolymerization system. ing. This photocurable composition has characteristics of relatively small volume shrinkage, no polymerization inhibition by oxygen, and low skin irritation. However, the strong acid generated from the photoacid generator as described above corrodes the substrate in the electronics field,
Since there is a possibility that the insulation property may be reduced, the use thereof is limited. In addition, this reaction system
Although not inhibited by oxygen, it is largely inhibited by moisture and hydroxyl groups of the reaction system. Therefore, in such a photocuring system, removal of impurities, selection of a functional group, purity and the like are very important, and there is a problem that it is difficult to handle industrially.

【0004】上記のような問題点を持たない光硬化性組
成物として、光塩基発生剤を用いたエポキシ樹脂系の組
成物が知られている(特開平9−40750号公報)。
この系は、機械的強度、寸法安定性等に優れたエポキシ
樹脂をアミン触媒で硬化させる際に、光によりイミダゾ
ールを発生させる光塩基発生剤を用い、硬化触媒として
イミダゾール類を用いる際に問題となる保存安定性の改
良を目的としたものである。しかしながら、これらの光
塩基発生剤を添加したエポキシ樹脂の保存安定性もそれ
ほど高いものではなかった。
As a photocurable composition which does not have the above-mentioned problems, an epoxy resin composition using a photobase generator is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-40750).
This system uses a photobase generator that generates imidazole by light when curing an epoxy resin excellent in mechanical strength and dimensional stability with an amine catalyst, and poses a problem when using imidazoles as a curing catalyst. It is intended to improve storage stability. However, the storage stability of the epoxy resin to which these photobase generators are added is not so high.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光照射によ
って有機塩基が遊離して触媒として働き、次に熱硬化反
応を行うことによって、硬化特性の優れた硬化物を得る
事の可能な一液型のエポキシ樹脂系光硬化性組成物を提
供することを目的としており、また、類似タイプである
2−ニトロベンジルオキシカルボニルイミダゾールを使
用した光硬化性樹脂組成物に比べて、暗所における保存
安定性が格段に優れた一液型のエポキシ樹脂系光硬化性
組成物を提供することを目的としている。
The object of the present invention is to provide a cured product having excellent curing properties by releasing an organic base by light irradiation to act as a catalyst and then performing a thermosetting reaction. It is an object of the present invention to provide a liquid epoxy resin-based photocurable composition, and it is more difficult to store in a dark place than a photocurable resin composition using 2-nitrobenzyloxycarbonylimidazole of a similar type. An object of the present invention is to provide a one-pack type epoxy resin-based photocurable composition having extremely excellent stability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、従来より格段
に保存安定性の優れた一液型のエポキシ樹脂系光硬化性
組成物に使用される、新規な下記一般式(I)で表され
るベンゾイミダゾール誘導体であり、
Means for Solving the Problems The present invention provides a novel compound represented by the following general formula (I) which is used for a one-pack type epoxy resin-based photocurable composition having a much better storage stability than before. Benzimidazole derivative,

【0007】[0007]

【化4】 Embedded image

【0008】(式中、R1、R2、は同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブ
チル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ア
ルキル(炭素数7以上)基、アルコキシ基、アルケニル
基、シアノ基、ニトロ基、フェノキシ基、アラルキル基
またはアリール基を表し、R1とR2が結合して環を形成
してもよく、またそれら複数の環が縮合環を形成しても
よい、R3、R4、R5、R6、は同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル
基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキ
ル(炭素数7以上)基、アルコキシ基、アルケニル基、
シアノ基、ニトロ基、フェノキシ基、アラルキル基また
はアリール基を表し、R3、R4、R5、R6のそれぞれが
結合して環を形成してもよく、またそれら複数の環が縮
合環を形成してもよい。)また、(A)一般式(I)で
表され、光照射により遊離のベンゾイミダゾール類を生
成させるベンゾイミダゾール誘導体と、(B)多官能性
のエポキシ化合物を含有することを特徴とする硬化性組
成物である。
(Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert- Represents a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an alkyl group (having 7 or more carbon atoms), an alkoxy group, an alkenyl group, a cyano group, a nitro group, a phenoxy group, an aralkyl group or an aryl group; R3, R4, R5, and R6 may be the same or different and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, alkyl (7 or more carbon atoms) group, alkoxy group, alkenyl group,
Represents a cyano group, a nitro group, a phenoxy group, an aralkyl group or an aryl group, and each of R3, R4, R5, and R6 may combine to form a ring, or a plurality of these rings may form a condensed ring; Is also good. And (B) a curable composition comprising a benzimidazole derivative represented by the general formula (I), which generates free benzimidazoles by light irradiation, and (B) a polyfunctional epoxy compound. A composition.

【0009】さらに本発明は(A)一般式(I)で表さ
れ、光照射により遊離のベンゾイミダゾール類を生成さ
せるベンゾイミダゾール誘導体と、(B)多官能性のエ
ポキシ化合物と、(C)多官能性のフェノール化合物、
多官能性のカルボン酸、酸無水物及びアミン化合物から
なる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含有する
ことを特徴とする硬化性組成物であり、この一般式
(I)で表されるベンゾイミダゾール誘導体を合成する
ための中間体である、一般式(II)で表されるN,N'-カ
ルボニルジベンゾイミダゾール誘導体である。
Further, the present invention provides (A) a benzimidazole derivative represented by the general formula (I) which generates free benzimidazoles by light irradiation, (B) a polyfunctional epoxy compound, and (C) a polyfunctional epoxy compound. Functional phenolic compounds,
A curable composition characterized by containing at least one compound selected from the group consisting of polyfunctional carboxylic acids, acid anhydrides and amine compounds, represented by the general formula (I) An N, N′-carbonyldibenzimidazole derivative represented by the general formula (II), which is an intermediate for synthesizing a benzimidazole derivative.

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】(式中、R3、R4、R5、R6は前記した定
義と同一である。)
(Wherein R 3, R 4, R 5 and R 6 are the same as defined above)

【0012】本発明に係わるエポキシ樹脂系の硬化性組
成物は、上記のように、ベンゾイミダゾール類のアミノ
基がブロックされた構造のベンゾイミダゾール誘導体を
硬化反応の触媒として用いることを特徴としている。イ
ミダゾールのアミノ基をブロックした構造の誘導体の場
合、イミダゾール環3位の窒素原子の塩基性が強く、光
を照射させてイミダゾールを発生させる以前に徐々に反
応が進行し、その組成物はゲル化してしまう。そこで、
本発明の硬化性組成物においては、光を照射しない限り
上記のような反応の触媒として作用せず、安定である
が、光を照射することで初めて光反応によりベンゾイミ
ダゾール類を遊離するベンゾイミダゾール類誘導体を用
い、優れた保存安定性を有するように構成したものであ
る。
The epoxy resin-based curable composition according to the present invention is characterized in that a benzimidazole derivative having a structure in which an amino group of a benzimidazole is blocked is used as a catalyst for a curing reaction as described above. In the case of a derivative having a structure in which the amino group of imidazole is blocked, the nitrogen atom at the 3-position of the imidazole ring has a strong basicity, and the reaction gradually proceeds before irradiation with light to generate imidazole, and the composition gels. Would. Therefore,
In the curable composition of the present invention, it does not act as a catalyst for the above reaction unless irradiated with light, and is stable, but benzimidazole which releases benzimidazoles by a photoreaction only by irradiating light It is constructed so as to have excellent storage stability by using a class derivative.

【0013】以下、本発明において使用される代表的な
ベンゾイミダゾール誘導体としてN−(2−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)ベンゾイミダゾールを例にあげ
て説明すると、この化合物はそのアミノ基がブロックさ
れているため安定であり、しかも、イミダゾール誘導体
と比較してベンゾイミダゾール環3位の窒素原子の塩基
性が弱いので、光照射しない限り前記したような反応の
触媒として作用することはない。従って、このようなベ
ンゾイミダゾール誘導体を含有するエポキシ樹脂系の硬
化組成物は、例えば暗所に保存して光を照射しない限
り、優れた保存安定性を有する。しかし、光照射によ
り、化6の反応式に従って光分解を起こし、ベンゾイミ
ダゾールを生成する。従って、その後、本発明の硬化組
成物を加熱することにより、上記反応によって生成した
ベンゾイミダゾールが優れた触媒作用を発揮し、硬化特
性に優れた硬化物が得られる。
Hereinafter, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole will be described as an example of a typical benzimidazole derivative used in the present invention. This compound has an amino group blocked. Since it is stable and has a weaker basicity of the nitrogen atom at the 3-position of the benzimidazole ring than the imidazole derivative, it does not act as a catalyst for the above-mentioned reaction unless irradiated with light. Therefore, an epoxy resin-based cured composition containing such a benzimidazole derivative has excellent storage stability, for example, unless stored in a dark place and irradiated with light. However, by photoirradiation, photodecomposition occurs according to the reaction formula of Chemical formula 6 to generate benzimidazole. Therefore, by subsequently heating the cured composition of the present invention, the benzimidazole produced by the above reaction exhibits an excellent catalytic action, and a cured product having excellent curing properties can be obtained.

【0014】[0014]

【化6】 Embedded image

【0015】本発明においては、上記N−(2−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)ベンゾイミダゾール以外に
も、前記反応式から明らかなように、ベンゾイミダゾー
ルの第二アミノ基をブロックしているニトロベンジルオ
キシカルボニル残基のニトロベンジル基のメチレン基と
ニトロ基の酸化還元反応及び脱二酸化炭素を生じるよう
な構造のベンゾイミダゾール類誘導体はすべて使用可能
である。例えば、ニトロベンジルオキシ基のニトロ基は
2位、3位、4位のいずれでもよく、またこのニトロ基
以外の位置がハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t
ert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキル(炭
素数7以上)基、アルコキシ基、アルケニル基、シアノ
基、ニトロ基、フェノキシ基、アラルキル基またはアリ
ール基によって置換されていてもよい。この場合のニト
ロベンジルオキシ基のニトロ基置換位置としては2位が
最も好ましい。また、ベンゾイミダゾール誘導体の光分
解反応において使用波長の長波長化の効果をもたらすこ
との予測される、ベンゼン環と結合して環を形成する基
によって置換されていてもよい。同様のことは、ベンゾ
イミダゾール基側のベンゼン環ユニットに対しても述べ
る事ができる。
In the present invention, in addition to the above-mentioned N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole, as is clear from the above-mentioned reaction formula, nitrobenzyloxycarbonyl which blocks the secondary amino group of benzimidazole is used. Any benzimidazole derivative having a structure that causes a redox reaction between the methylene group and the nitro group of the nitrobenzyl group of the residue and decarbonation can be used. For example, the nitro group of the nitrobenzyloxy group
Any of the 2-, 3-, and 4-positions may be used, and positions other than the nitro group may be halogen, methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t
It may be substituted by an ert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an alkyl group (having 7 or more carbon atoms), an alkoxy group, an alkenyl group, a cyano group, a nitro group, a phenoxy group, an aralkyl group or an aryl group. In this case, the nitro group substitution position of the nitrobenzyloxy group is most preferably the 2-position. Further, the benzoimidazole derivative may be substituted with a group which is expected to have an effect of increasing the wavelength used in the photolysis reaction of the benzimidazole derivative and forms a ring by bonding to a benzene ring. The same can be said for the benzene ring unit on the benzimidazole group side.

【0016】本発明において使用されるベンゾイミダゾ
ール誘導体は、次に掲げる代表的な化合物であるN-(2
-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベンゾイミダゾー
ルの合成方法と同様の方法によって合成することができ
る。具体的にはN-(2-ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)ベンゾイミダゾールは三級アミン存在下で、N,
N'-カルボニルジベンゾイミダゾールと2-ニトロベン
ジルアルコールとを反応させることで合成でき、また、
2-ニトロベンジルクロロホーメートとベンゾイミダ
ゾールとを反応させることでも合成できる。
The benzimidazole derivative used in the present invention is the following representative compound, N- (2
-Nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole can be synthesized by the same method as that described above. Specifically, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole is N, in the presence of a tertiary amine,
It can be synthesized by reacting N'-carbonyldibenzimidazole with 2-nitrobenzyl alcohol,
It can also be synthesized by reacting 2-nitrobenzyl chloroformate with benzimidazole.

【0017】ここで、の合成方法との合成方法とを
比較した場合、の中間体カルボニルジベンゾイミダゾ
ールは反応性が極めて高く、しかも反応時に酸を発生し
ないので、の中間体2-ニトロベンジルクロロホーメ
ートが反応時に塩酸を発生するのに比較して極めて有用
である。しかもの中間体を採用する場合、あるR3、
R4、R5、R6置換基を有するN,N'-カルボニルジベン
ゾイミダゾール誘導体を使用することによって、もう一
方の2-ニトロベンジルアルコール側の置換基R1、R
2、を種々選択することにより、多種類のベンゾイミダ
ゾール誘導体を容易に合成することが可能になるので、
一般式(II)で表されるN,N'-カルボニルジベンゾイミ
ダゾール誘導体は極めて有用な中間体である。
Here, when comparing the synthesis method with the synthesis method, the intermediate carbonyldibenzimidazole has extremely high reactivity and does not generate an acid during the reaction. This is extremely useful compared to the fact that the mate generates hydrochloric acid during the reaction. In addition, when the intermediate is used, a certain R3,
By using an N, N'-carbonyldibenzimidazole derivative having R4, R5, R6 substituents, the substituents R1, R2 on the other 2-nitrobenzyl alcohol side can be obtained.
By variously selecting 2, it becomes possible to easily synthesize many kinds of benzimidazole derivatives,
The N, N'-carbonyldibenzimidazole derivative represented by the general formula (II) is a very useful intermediate.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の一般式(I)で表される
ベンゾイミダゾール誘導体の具体例として次の化合物を
挙げることができる。これらの中でもベンゾイミダゾー
ル側の置換基については、一般式(I)におけるR3=
R6、R4=R5のものの方が合成し易い。 (I-1)N-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-2)N-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ベンゾイミダゾール (I-3)N-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)ベンゾイミダゾール (I-4)N-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)ベンゾイミダゾール (I-5)N-(3-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-6)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
メチルベンゾイミダゾール (I-7)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-8)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-9)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-10)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
ニトロベンゾイミダゾール (I-11)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -4-ニトロベンゾイミダゾール (I-12)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-ニトロベンゾイミダゾール (I-13)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-ニトロベンゾイミダゾール (I-14)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-5-
メチルベンゾイミダゾール (I-15)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-16)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-17)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-18)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-5-
ニトロベンゾイミダゾール (I-19)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -5-ニトロベンゾイミダゾール (I-20)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-ニトロメチルベンゾイミダゾール (I-21)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-ニトロベンゾイミダゾール (I-22)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4,
5-ジメチルベンゾイミダゾール (I-23)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -4,5-ジメチルベンゾイミダゾール (I-24)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4,6-ジニトロメチルベンゾイミダゾール (I-25)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4,6-ジニトロベンゾイミダゾール (I-26)N-(4-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-27)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
フェニルベンゾイミダゾール (I-28)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
ブチルベンゾイミダゾール (I-29)1-(5-ブチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-30)1-(5-フェニル-2-ニトロベンジルオキシカル
ボニル)-4-メチルベンゾイミダゾール
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The following compounds can be mentioned as specific examples of the benzimidazole derivative represented by the general formula (I) of the present invention. Among them, the substituent on the benzimidazole side is represented by R3 = in the general formula (I).
R6 and R4 = R5 are easier to synthesize. (I-1) N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-2) N- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-3) N- (5- Methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-4) N- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-5) N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole ( I-6) 1- (2-Nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Methylbenzimidazole (I-7) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-8) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 4-methylbenzimidazole (I-9) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-10) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Nitrobenzimidazole (I-11) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-nitrobenzimidazole (I-12) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 4-nitrobenzimidazole (I-13) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-nitrobenzimidazole (I-14) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-
Methylbenzimidazole (I-15) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-methylbenzimidazole (I-16) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 5-Methylbenzimidazole (I-17) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-methylbenzimidazole (I-18) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-
Nitrobenzimidazole (I-19) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-nitrobenzimidazole (I-20) 1- (5-Methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 5-nitromethylbenzimidazole (I-21) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-nitrobenzimidazole (I-22) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,
5-dimethylbenzimidazole (I-23) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,5-dimethylbenzimidazole (I-24) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyl (Oxycarbonyl) -4,6-dinitromethylbenzimidazole (I-25) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,6-dinitrobenzimidazole (I-26) N- (4-nitro (Benzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-27) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Phenylbenzimidazole (I-28) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Butylbenzimidazole (I-29) 1- (5-butyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-30) 1- (5-phenyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4- Methylbenzimidazole

【0019】本発明の一般式(II)で表されるN,N'-カ
ルボニルジベンゾイミダゾール誘導体の具体例として次
の化合物を挙げることができる。これらの中でも、一般
式(II)における置換基がR3=R6、R4=R5のものの
方が合成し易い。 (II-1)N,N'-カルボニルジベンゾイミダゾール (II-2)カルボニル-1,1'-ビス(4-メチルベンゾイ
ミダゾール) (II-3)カルボニル-1,1'-ビス(5-メチルベンゾイ
ミダゾール) (II-4)カルボニル-1,1'-ビス(4-ブチルベンゾイ
ミダゾール) (II-5)カルボニル-1,1'-ビス(5-ブチルベンゾイ
ミダゾール) (II-6)カルボニル-1,1'-ビス(4-メトキシベンゾ
イミダゾール) (II-7)カルボニル-1,1'-ビス(5-メトキシベンゾ
イミダゾール) (II-8)カルボニル-1,1'-ビス(4-クロロベンゾイ
ミダゾール) (II-9)カルボニル-1,1'-ビス(5-クロロベンゾイ
ミダゾール) (II-10)カルボニル-1,1'-ビス(4-シアノベンゾイ
ミダゾール) (II-11)カルボニル-1,1'-ビス(5-シアノベンゾイ
ミダゾール) (II-12)カルボニル-1,1'-ビス(4-ニトロベンゾイ
ミダゾール) (II-13)カルボニル-1,1'-ビス(5-ニトロベンゾイ
ミダゾール) (II-14)カルボニル-1,1'-ビス(4-フェニルベンゾ
イミダゾール) (II-15)カルボニル-1,1'-ビス(5-フェニルベンゾ
イミダゾール) (II-16)カルボニル-1,1'-ビス(4,5-ジメチルベ
ンゾイミダゾール) (II-17)カルボニル-1,1'-ビス(4,6-ジメチルベ
ンゾイミダゾール) (II-18)カルボニル-1,1'-ビス(4,7-ジメチルベ
ンゾイミダゾール) (II-19)カルボニル-1,1'-ビス(5,6-ジメチルベ
ンゾイミダゾール) (II-20)カルボニル-1,1'-ビス(4,5-ジメトキシ
ベンゾイミダゾール) (II-21)カルボニル-1,1'-ビス(4,7-ジメトキシ
ベンゾイミダゾール) (II-22)カルボニル-1,1'-ビス(4,5-ジクロロベ
ンゾイミダゾール) (II-23)カルボニル-1,1'-ビス(4,7-ジクロロベ
ンゾイミダゾール) (II-24)カルボニル-1,1'-ビス(4,5-ジシアノベ
ンゾイミダゾール) (II-25)カルボニル-1,1'-ビス(4,7-ジシアノベ
ンゾイミダゾール) (II-26)カルボニル-1,1'-ビス(4,5-ジニトロベ
ンゾイミダゾール) (II-27)カルボニル-1,1'-ビス(4,7-ジニトロベ
ンゾイミダゾール) (II-28)カルボニル-1-(4-メチルベンゾイミダゾー
ル)-1'-(7'-メチルベンゾイミダゾール) (II-29)カルボニル-1-(4-ニトロベンゾイミダゾー
ル)-1'-(7'-ニトロベンゾイミダゾール) (II-30)カルボニル-1-(4,5-ジメチルベンゾイミ
ダゾール)-1'- (6',7'-ジメチルベンゾイミダゾー
ル) (II-31)カルボニル-1-(4,5-ジニトロベンゾイミ
ダゾール)-1'- (6',7'-ジニトロベンゾイミダゾー
ル)
Specific examples of the N, N'-carbonyldibenzimidazole derivative represented by the general formula (II) of the present invention include the following compounds. Among them, those in which the substituents in the general formula (II) are R3 = R6 and R4 = R5 are easier to synthesize. (II-1) N, N'-carbonyldibenzimidazole (II-2) carbonyl-1,1'-bis (4-methylbenzimidazole) (II-3) carbonyl-1,1'-bis (5-methyl) Benzimidazole) (II-4) carbonyl-1,1'-bis (4-butylbenzimidazole) (II-5) carbonyl-1,1'-bis (5-butylbenzimidazole) (II-6) carbonyl- 1,1′-bis (4-methoxybenzimidazole) (II-7) carbonyl-1,1′-bis (5-methoxybenzimidazole) (II-8) carbonyl-1,1′-bis (4-chloro) Benzimidazole) (II-9) carbonyl-1,1'-bis (5-chlorobenzimidazole) (II-10) carbonyl-1,1'-bis (4-cyanobenzimidazole) (II-11) carbonyl- 1,1′-bis (5-cyanobenzimidazole) (II-12) carbonyl-1,1′-bis (4- Nitrobenzimidazole) (II-13) carbonyl-1,1'-bis (5-nitrobenzimidazole) (II-14) carbonyl-1,1'-bis (4-phenylbenzimidazole) (II-15) carbonyl -1,1'-bis (5-phenylbenzimidazole) (II-16) carbonyl-1,1'-bis (4,5-dimethylbenzimidazole) (II-17) carbonyl-1,1'-bis ( 4,6-dimethylbenzimidazole) (II-18) carbonyl-1,1′-bis (4,7-dimethylbenzimidazole) (II-19) carbonyl-1,1′-bis (5,6-dimethylbenzo) Imidazole) (II-20) carbonyl-1,1′-bis (4,5-dimethoxybenzimidazole) (II-21) carbonyl-1,1′-bis (4,7-dimethoxybenzimidazole) (II-22) ) Carbonyl-1,1'-bis (4,5-dichlorobenzimidazole) (II-23) Carbonyl-1,1'-bis (4,7-dichlorobenzimidazole) (II-24) carbonyl-1,1'-bis (4,5-dicyanobenzimidazole) (II-25) carbonyl-1,1 ' -Bis (4,7-dicyanobenzimidazole) (II-26) carbonyl-1,1'-bis (4,5-dinitrobenzimidazole) (II-27) carbonyl-1,1'-bis (4,7 -Dinitrobenzimidazole) (II-28) carbonyl-1- (4-methylbenzimidazole) -1 '-(7'-methylbenzimidazole) (II-29) carbonyl-1- (4-nitrobenzimidazole)- 1 '-(7'-nitrobenzimidazole) (II-30) carbonyl-1- (4,5-dimethylbenzimidazole) -1'-(6 ', 7'-dimethylbenzimidazole) (II-31) carbonyl -1- (4,5-dinitrobenzimidazole) -1 '-(6', 7'-dinitrobe Zone imidazole)

【0020】本発明の硬化性樹脂組成物の主成分として
用いられるエポキシ化合物としては、代表的なものを挙
げると、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、例えばビ
スフェノールAとエピクロルヒドリンをアルカリ存在下
で反応させて得られるビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールAとホルマリンを縮合反応した樹脂
のエポキシ化物、ビスフェノールAの代わりにブロム化
ビスフェノールAを用いたものや、ノボラック樹脂にエ
ピクロルヒドリンを反応させて、グリシジルエーテル化
したノボラック型エポキシ樹脂、例えばフェノールノボ
ラック型、オルソクレゾールノボラック型、p−t−ブ
チルフェノールノボラック型等のエポキシ樹脂、また、
ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒド
リンを反応させて得られるビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビシフェノールS型エポキシ樹脂等がある。さら
に、シクロヘキセンオキシド基、トリシクロデセンオキ
シド基、シクロペンテンオキシド基等を有する環式脂肪
族エポキシ樹脂;フタル酸ジグリシジルエステル、テト
ラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロ
フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシ
ジルエステル、ジグリシジル−p−オキシ安息香酸、ダ
イマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル樹
脂;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリ
グリシジル−p−アミノフェノール、ジグリシジルアニ
リン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタ
キシリレンジアミン、ジグリシジルトリブロモアニリ
ン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン
等のグリシジジルアミン系樹脂;ヒダントイン環をグリ
シジル化したヒダントイン型エポキシ樹脂;トリアジン
環を有するトリグリシジルイソシアヌレート;ビキシレ
ノール型又はビフェノール型のエポキシ樹脂;側鎖にグ
リシジル基を有する共重合体等があるが、これらに限定
されるものではない。これらは単独で又は2種以上を組
み合せて用いることもできる。
Typical epoxy compounds used as the main component of the curable resin composition of the present invention include glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A and epichlorohydrin which are reacted in the presence of an alkali. Bisphenol A epoxy resin, epoxidized resin obtained by condensation reaction of bisphenol A and formalin, epoxy resin obtained by using brominated bisphenol A instead of bisphenol A, or novolak resin obtained by reacting novolak resin with epichlorohydrin to form glycidyl ether Epoxy resins, for example, phenol novolak type, ortho-cresol novolak type, epoxy resin such as pt-butylphenol novolak type,
There are bisphenol F type epoxy resin, bisiphenol S type epoxy resin, etc. obtained by reacting epichlorohydrin with bisphenol F or bisphenol S. Further, a cycloaliphatic epoxy resin having a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, a cyclopentene oxide group, etc .; diglycidyl phthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl terephthalate Glycidyl ester resins such as ester, diglycidyl-p-oxybenzoic acid and glycidyl dimer acid; tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, tetraglycidyl metaxylylenediamine, diglycidyl Glycidylamine-based resins such as tribromoaniline and tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane; Bixylenol type or biphenol type epoxy resins; triglycidyl isocyanurate having a triazine ring; Ntoin type epoxy resin is a copolymer having pendant glycidyl groups, but not limited thereto. These can be used alone or in combination of two or more.

【0021】本発明の硬化性組成物は、前述した一般式
(I)で表されるベンゾイミダゾール誘導体と上記エポ
キシ化合物を適量配合することで得られる。具体的に
は、エポキシ化合物中のエポキシ基1モルに対にて、
0.1〜30モル%、好ましくは1〜10モル%、さら
に好ましくは3〜5モル%となる割合で配合される。組
成物の調製は、使用するエポキシ化合物の性状(固液)
に応じて、ベンゾイミダゾール誘導体とエポキシ化合物
を単に混合するだけで行うこともでき、また、必要に応
じて、ジメチルホルムアミド(以下DMFと略称す
る)、テトラヒドロフラン(以下THFと略称する)、
メチルエチルケトン、酢酸エチルなどの適当な溶媒を用
いて混合することもできる。
The curable composition of the present invention can be obtained by mixing an appropriate amount of the above-mentioned epoxy compound with the above-mentioned benzimidazole derivative represented by the general formula (I). Specifically, for each mole of epoxy group in the epoxy compound,
0.1 to 30 mol%, preferably 1 to 10 mol%, and more preferably 3 to 5 mol%. Preparation of the composition depends on the properties of the epoxy compound used (solid-liquid)
Can be carried out simply by mixing a benzimidazole derivative and an epoxy compound, and if necessary, dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF), tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF),
Mixing can also be performed using a suitable solvent such as methyl ethyl ketone and ethyl acetate.

【0022】調製された組成物は、これを基材上に塗布
し、光照射および加熱によって硬化せしめる。ベンゾイ
ミダゾール類誘導体からベンゾイミダゾール類を遊離さ
せるための光照射の光源としては、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプなどの工
業的に利用し得る光源や、レーザー光線、電子線、X線
などの公知の活性光源のいずれも用いる事ができる。ま
た、照射時間は、光源の光の強さ等により変わり、短く
て5分、長くて約3時間であるが、一般には約30〜6
0分である。このような光照射により、前記反応式のよ
うにベンゾイミダゾール類がベンゾイミダゾール誘導体
から遊離し、組成物中に配合されているエポキシ化合物
のエポキシ基の開環重合触媒として働く。光照射後、硬
化性組成物を約80〜200℃、好ましくは約100〜
160℃に加熱することにより、短時間でスムーズに加
熱硬化が行われ、優れた硬化特性を有する配合物が得ら
れる。
The prepared composition is applied on a substrate and cured by light irradiation and heating. Light sources for light irradiation for releasing benzimidazoles from benzimidazole derivatives include industrially usable light sources such as low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, laser beams, electron beams, and X-rays. Any of the known active light sources can be used. The irradiation time varies depending on the light intensity of the light source, and is as short as 5 minutes and as long as about 3 hours, but generally about 30 to 6 hours.
0 minutes. By such light irradiation, the benzimidazoles are liberated from the benzimidazole derivative as in the above reaction formula, and function as a catalyst for ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound incorporated in the composition. After light irradiation, the curable composition is heated to about 80 to 200 ° C., preferably about 100 to 200 ° C.
By heating to 160 ° C., heat curing is performed smoothly in a short time, and a compound having excellent curing characteristics is obtained.

【0023】本発明の別の態様によれば、前記ベンゾイ
ミダゾール誘導体とエポキシ化合物に加え、さらに多官
能性のフェノール化合物、多官能性のカルボン酸、酸無
水物、又はアミン化合物が配合される。このような硬化
組成物においては、ベンゾイミダゾール類誘導体は前記
したように光照射によってベンゾイミダゾール類を遊離
し、これがエポキシ化合物と上記のような化合物の付加
反応等の触媒として働き、そのあとの加熱硬化によって
優れた特性の硬化物が得られる。
According to another aspect of the present invention, a polyfunctional phenol compound, a polyfunctional carboxylic acid, an acid anhydride or an amine compound is further added to the benzimidazole derivative and the epoxy compound. In such a cured composition, the benzimidazole derivative releases the benzimidazole by light irradiation as described above, and this acts as a catalyst for the addition reaction of the epoxy compound with the compound as described above. Curing gives a cured product with excellent properties.

【0024】本発明で用いる多官能性フェノール化合物
としては、4,4’,4”−メチリデントリスフェノー
ル、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノ
ールS、フェノール樹脂、クレゾール樹脂等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。
The polyfunctional phenol compound used in the present invention includes 4,4 ', 4 "-methylidene trisphenol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenol resin, cresol resin and the like. It is not limited.

【0025】多官能性のカルボン酸としては、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セ
バシン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ムコン
酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキ
サヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、
3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒ
ドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテト
ラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、
3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒ
ドロフタル酸、トリメリット酸などが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
Examples of polyfunctional carboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, muconic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid,
3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid,
Examples include, but are not limited to, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4-ethyltetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, and the like.

【0026】酸無水物としては、代表的なものとして無
水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フ
タル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロ
フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水エン
ドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメ
チレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチ
ルテトラヒドロ無水フタル酸などの二塩基酸無水物;無
水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン
酸無水物;その他これに付随する例えば5−(2,5−
ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シク
ロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物のような多価
カルボン酸無水物誘導対等などが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
Typical acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, and endo-anhydride. Dibasic anhydrides such as methylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride; aromatics such as trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic dianhydride Group polycarboxylic acid anhydrides; and other accompanying compounds such as 5- (2,5-
Examples include, but are not limited to, polycarboxylic anhydride-derived derivatives such as dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride.

【0027】また、アミン化合物としては、4,4’,
4”−トリアミノトリフェニルメタン、4,4’,4”
−トリアミノトリフェニルエタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスル
ホン、o−、m−、p−フェニレンジアミン、三フッ化
ホウ素−アミン・コンプレックス(錯体)、ジシアンジ
アミド及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマ
レオニトリル、メラミン及びその誘導体、アミンイミ
ド、ポリアミンの塩等が挙げられるが、これに限定され
るものではない。
As the amine compound, 4,4 ′,
4 "-triaminotriphenylmethane, 4,4 ', 4"
-Triaminotriphenylethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, o-, m-, p-phenylenediamine, boron trifluoride-amine complex (complex), dicyandiamide and the like Derivatives, organic acid hydrazide, diaminomaleonitrile, melamine and its derivatives, amine imides, salts of polyamines, and the like, but are not limited thereto.

【0028】前記した多官能性のフェノール化合物、カ
ルボン酸、酸無水物及びアミン化合物は、単独でも、ま
た2種以上組み合わせて用いることもできる。その配合
量は、同時に配合されているエポキシ化合物のエポキシ
基1モルに対し、理論的にはそれぞれフェノール基、カ
ルボキシル基、またはアミノ基が等モル含まれるように
配合されるが、一般に0.1〜1.3モル、好ましくは
0.3〜1.1モルの範囲が適当である。
The above-mentioned polyfunctional phenol compounds, carboxylic acids, acid anhydrides and amine compounds can be used alone or in combination of two or more. The amount of the phenol group, the carboxyl group, or the amino group is theoretically equal to 1 mol of the epoxy group of the simultaneously compounded epoxy compound. The range is suitably from 1.3 to 1.3 mol, preferably from 0.3 to 1.1 mol.

【0029】イミダゾール誘導体、エポキシ化合物及び
上記多官能性のフェノール化合物、カルボン酸、酸無水
物、又はアミン化合物等からなる硬化性組成物において
も、イミダゾール誘導体の配合量、組成物の調整方法、
光照射の光源並びに時間、さらに加熱温度は、イミダゾ
ール誘導体及びエポキシ化合物からなる前記硬化性組成
物に適用される諸条件と同様であり、それによって硬化
特性に優れた硬化物が得られる。また、本発明の硬化性
組成物には、前記した光反応性や熱硬化反応を損なわな
い範囲で、さらに必要に応じて硫酸バリウム、酸化珪
素、タルク、クレー、炭酸カルシウムなどの公知慣用の
充填剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グ
ルーン、酸化チタン、カーボンブラックなどの公知慣用
の着色用顔料、消泡剤、密着性付与剤、レベリング剤な
どの各種添加剤を加えてもよい。
Even in a curable composition comprising an imidazole derivative, an epoxy compound and the above-mentioned polyfunctional phenol compound, carboxylic acid, acid anhydride, or amine compound, the amount of the imidazole derivative, the method of adjusting the composition,
The light source for light irradiation, the time, and the heating temperature are the same as the conditions applied to the curable composition comprising the imidazole derivative and the epoxy compound, whereby a cured product having excellent curing properties is obtained. In addition, the curable composition of the present invention may further contain, if necessary, barium sulfate, silicon oxide, talc, clay, calcium carbonate, or any other commonly used filler within a range that does not impair the photoreactivity or the thermosetting reaction described above. And various additives such as known and commonly used coloring pigments such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, titanium oxide and carbon black, defoamers, adhesion promoters and leveling agents.

【0030】[0030]

〔合成例1〕[Synthesis Example 1]

N,N'-カルボニルジベンゾイミダゾールの合成 ベンゾイミダゾール(以下BIと略称する)11.81
g(0.100モル)を無水THF380mlに溶解し
た後、攪拌下15〜20℃でホスゲンガス2.47g
(0.025モル)を10分間かけて導入した。30分
間攪拌を続け、検知紙でホスゲン消失を確認した後、反
応により生成したベンゾイミダゾール塩酸塩を濾別によ
り除去した。次に濾液からTHFを減圧留去して、得ら
れた固体に無水トルエン50mlを加え、良く分散した
後ろ過、真空乾燥を行い、5.57gの目的物を得た。
融点は182〜184℃であったので文献記載mp.値1
82−183℃から、(Ann.Chem.,612<1958>187〜19
2)、本化合物がN,N'-カルボニルジベンゾイミダゾー
ルであると同定した。
Synthesis of N, N'-carbonyldibenzimidazole Benzimidazole (hereinafter abbreviated as BI) 11.81
g (0.100 mol) in 380 ml of anhydrous THF, and then 2.47 g of phosgene gas at 15 to 20 ° C. with stirring.
(0.025 mol) was introduced over 10 minutes. After stirring was continued for 30 minutes and disappearance of phosgene was detected on a detection paper, benzimidazole hydrochloride generated by the reaction was removed by filtration. Next, THF was distilled off under reduced pressure from the filtrate, 50 ml of anhydrous toluene was added to the obtained solid, and the mixture was well dispersed, followed by filtration and vacuum drying to obtain 5.57 g of the desired product.
Since the melting point was 182 to 184 ° C., it was described in the literature.
82-183 ° C, (Ann. Chem., 612 <1958> 187-19
2), the compound was identified as N, N'-carbonyldibenzimidazole;

【0031】〔合成例2〕 N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ベンゾイ
ミダゾール(以下、2NBCBIと略称する)の合成 N,N'-カルボニルジベンゾイミダゾール1.836g
(7ミリモル)をDMF30mlに溶解させた後、2−
ニトロベンジルアルコール1.072g(7ミリモル)
をDMF12mlに溶解させ、滴下ロートを用いて滴下
し、触媒としてトリエチルアミン0.071g(0.7
ミリモル)を加え、室温で8時間反応を行った。反応終
了後、反応混合物を酢酸エチルで希釈し、蒸留水で4回
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、酢酸エチル
を減圧留去した。得られた固体を酢酸エチルとn−ヘキ
サンの混合溶媒を用いて、1回再結晶を行い、融点11
5.3〜115.9℃を有する目的物1.575g(収
率76%)を得た。この生成物のIRスペクトル及び
H−NMRスペクトルを以下に示す。 IRスペクトル(KBr、cm−1):1753(C=
O)、1525及び1341(NO)、1171及び
1062(C−O−C) H−NMRスペクトル(200MHZ、溶媒CDCl
、内部標準TMS):δ(ppm)=5.93(s、
2.0H、CH2O)、7.37〜7.43(m、2.
0H、aromatic)、7.50〜7.91(m、
4.0H、aromatic)、8.01〜8.12
(m、1.0H、aromatic)、8.19(d、
1.0H、aromatic)、8.49(s、1.0
H、N−CH=N) 生成物の元素分析: C1511としての計算値:C;60.61
%、H;3.73%、N;14.14% 分析値:C;60.89%、H;3.68%、N;1
4.26% 上記の分析結果は2NBCBIが生成していることを示
している。また、示差熱分析の結果から、2NBCBI
の分解温度は205℃であった。
Synthesis Example 2 Synthesis of N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (hereinafter abbreviated as 2NBCBI) 1.836 g of N, N'-carbonyldibenzimidazole
(7 mmol) was dissolved in 30 ml of DMF.
1.072 g (7 mmol) of nitrobenzyl alcohol
Was dissolved in 12 ml of DMF and added dropwise using a dropping funnel, and 0.071 g (0.7%) of triethylamine was used as a catalyst.
Mmol), and the reaction was carried out at room temperature for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed four times with distilled water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The obtained solid was recrystallized once using a mixed solvent of ethyl acetate and n-hexane to give a melting point of 11
1.575 g (76% yield) of the target product having a temperature of 5.3 to 115.9 ° C was obtained. IR spectrum of this product and 1
The H-NMR spectrum is shown below. IR spectrum (KBr, cm -1 ): 1753 (C =
O), 1525 and 1341 (NO 2 ), 1171 and 1062 (C—O—C) 1 H-NMR spectrum (200 MHZ, solvent CDCl
3 , internal standard TMS): δ (ppm) = 5.93 (s,
2.0H, CH2O), 7.37-7.43 (m, 2.
0H, aromatic), 7.50-7.91 (m,
4.0H, aromatic), 8.01-8.12.
(M, 1.0H, aromatic), 8.19 (d,
1.0H, aromatic), 8.49 (s, 1.0
H, N-CH = N) product elemental analysis: calculated for C 15 H 11 N 3 O 4 : C; 60.61
%, H; 3.73%, N; 14.14% Analytical value: C; 60.89%, H; 3.68%, N; 1
4.26% The above analysis results indicate that 2NBCBI is formed. Also, from the result of the differential thermal analysis, 2NBCBI
Was 205 ° C.

【0032】〔合成例3〕 N−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ベンゾイミダゾール(以下、DMNBCB
Iと略称する)の合成 N,N'-カルボニルジベンゾイミダゾール1.836g
(7ミリモル)をDMF30mlに溶解させた後、4,
5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルアルコール1.4
92g(7ミリモル)をDMF12mlに溶解させ、滴
下ロートを用いて滴下し、触媒としてトリエチルアミン
0.071g(0.7ミリモル)を加え、室温で8時間
反応を行った。反応終了後、反応混合物をクロロホルム
で希釈し、蒸留水で4回洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させ、クロロホルムを減圧留去した。得られた固
体を酢酸エチルを用いて、1回再結晶を行い、融点18
1.1〜181.6℃を有する目的物2.051g(収
率82%)を得た。この生成物のIRスペクトル及び
H−NMRスペクトルを以下に示す。 IRスペクトル(KBr、cm−1):1752(C=
O)、1521及び1328(NO)、1172及び
1068(C−O−C) H−NMRスペクトル(200MHZ、溶媒CDCl
、内部標準TMS):δ(ppm)=3.97(s、
6.0H、CHO)、5.90(s、2.0H、CH
2O)、7.09(s、1.0H、aromati
c)、7.37〜7.44(m、2.0H、aroma
tic)、7.76〜7.82(m、2.0H、aro
matic)、7.98〜8.06(m、1.0H、a
romatic)、8.47(s、1.0H、N−CH
=N) 生成物の元素分析: C1715としての計算値:C;57.14
%、H;4.23%、N;11.76% 分析値:C;57.28%、H;4.32%、N;1
1.44% 上記の分析結果はDMNBCBIが生成していることを
示している。また、示差熱分析の結果から、DMNBC
BIの分解温度は201℃であった。
[Synthesis Example 3] N- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (hereinafter referred to as DMNBCB)
Synthesis of N, N'-carbonyldibenzimidazole 1.836 g
(7 mmol) was dissolved in 30 ml of DMF.
5-dimethoxy-2-nitrobenzyl alcohol 1.4
92 g (7 mmol) was dissolved in DMF (12 ml) and added dropwise using a dropping funnel. 0.071 g (0.7 mmol) of triethylamine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at room temperature for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was diluted with chloroform, washed four times with distilled water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and chloroform was distilled off under reduced pressure. The obtained solid was recrystallized once using ethyl acetate to give a melting point of 18%.
2.051 g (82% yield) of the target product having a temperature of 1.1 to 181.6 ° C. was obtained. IR spectrum of this product and 1
The H-NMR spectrum is shown below. IR spectrum (KBr, cm -1 ): 1752 (C =
O), 1521 and 1328 (NO 2), 1172 and 1068 (C-O-C) 1 H-NMR spectrum (200MHZ, solvent CDCl
3 , internal standard TMS): δ (ppm) = 3.97 (s,
6.0H, CH 3 O), 5.90 (s, 2.0H, CH
2O), 7.09 (s, 1.0H, aromati
c), 7.37 to 7.44 (m, 2.0H, aroma
tic), 7.76 to 7.82 (m, 2.0H, aro)
magnetic), 7.98-8.06 (m, 1.0H, a
romantic), 8.47 (s, 1.0 H, N-CH)
= N) product elemental analysis: calculated for C 17 H 15 N 3 O 4 : C; 57.14
%, H; 4.23%, N; 11.76% Analysis: C; 57.28%, H; 4.32%, N; 1
1.44% The above analysis results indicate that DMNBBCBI is formed. Also, from the results of the differential thermal analysis, it was found that DMNBC
The decomposition temperature of BI was 201 ° C.

【0033】〔実施例1〕合成例2で得られた2NBC
BI0.60g(2ミリモル)をエポキシ樹脂(油化シ
ェルエポキシ社製エピコート828、エポキシ当量18
6)3.72g(エポキシ基として20ミリモル)と混
合して硬化性組成物を調整した。これをKBr板に塗布
し、250W超高圧水銀灯(照度:10.0mW/cm
、254nm)を用いて所定時間光照射を行い、その
後、120℃で加熱を行い、エポキシ基の反応率をIR
スペクトルを測定することによって追跡した。
Example 1 2NBC obtained in Synthesis Example 2
0.60 g (2 mmol) of BI was added to an epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent: 18).
6) The curable composition was prepared by mixing with 3.72 g (20 mmol as epoxy group). This was applied to a KBr plate, and a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (illuminance: 10.0 mW / cm
2 , 254 nm) for a predetermined period of time, followed by heating at 120 ° C. to determine the epoxy group reaction rate by IR.
Tracked by measuring the spectrum.

【0034】〔比較例1〕エポキシ樹脂(エピコ−ト8
28)3.72g(エポキシ基として20ミリモル)に
BI0.24g(2ミリモル)を混合させ、120℃で
加熱し、実施例1と同様にエポキシ基の反応率の測定を
行った。
Comparative Example 1 Epoxy resin (Epicoat 8)
28) 0.24 g (2 mmol) of BI was mixed with 3.72 g (20 mmol as epoxy group), heated at 120 ° C., and the reaction rate of the epoxy group was measured in the same manner as in Example 1.

【0035】上記実施例1及び比較例1において得られ
たIRスペクトル分析によるエポキシ基の反応率の測定
結果を図1に示した。この結果から明らかなように、光
照射により2NBCBIから生成した遊離のベンゾイミ
ダゾールがエポキシ基の開環重合を促進した。比較例1
の直接ベンゾイミダゾールを添加した場合と同等以上の
結果を示した。さらに、加熱120分後のKBr板上の
組成物は、いずれも硬化がよく進行し、不溶性の硬化物
を生成した。
FIG. 1 shows the results of measurement of the reaction rate of the epoxy group by IR spectrum analysis obtained in Example 1 and Comparative Example 1. As is clear from these results, free benzimidazole generated from 2NBCBI by light irradiation promoted ring-opening polymerization of the epoxy group. Comparative Example 1
The results were equal to or higher than those obtained when the direct benzimidazole was added. Further, all the compositions on the KBr plate after heating for 120 minutes were cured well, and insoluble cured products were produced.

【0036】〔実施例2〕合成例3で得られたDMNB
CBI0.60g(2ミリモル)をエポキシ樹脂(エピ
コート828)3.72g(エポキシ基として20ミリ
モル)と混合して硬化性組成物を調整した。これをKB
r板に塗布し、250W超高圧水銀灯(照度:10.0
mW/cm、254nm)を用いて60分光照射を行
い、その後、120℃で120分間加熱を行い、実施例
1と同様にエポキシ基の反応率を追跡した。その結果、
65%のエポキシ基が反応していることが確認された。
さらに、加熱120分後のKBr板上の組成物は、いず
れも硬化がよく進行し、不溶性の硬化物を生成した。
Example 2 DMNB obtained in Synthesis Example 3
A curable composition was prepared by mixing 0.60 g (2 mmol) of CBI with 3.72 g (20 mmol as epoxy group) of an epoxy resin (Epicoat 828). This is KB
r plate, and a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (illuminance: 10.0
(mW / cm 2 , 254 nm), followed by heating at 120 ° C. for 120 minutes, and the reaction rate of the epoxy group was tracked as in Example 1. as a result,
It was confirmed that 65% of the epoxy groups had reacted.
Further, all the compositions on the KBr plate after heating for 120 minutes were cured well, and insoluble cured products were produced.

【0037】〔実施例3〕合成例2で得られた2NBC
BI0.30g(1ミリモル)をフェノールノボラック
型エポキシ樹脂(ダウ・ケミカル社製DEN438、エ
ポキシ当量;181)1.8g(エポキシ基として10
ミリモル)と混合して硬化性組成物を調製した。これを
KBr板に塗布し、250W超高圧水銀灯(照度:1
0.0mW/cm、254nm)を用いて60分光照
射を行い、その後、120℃で120分間加熱を行い、
実施例1と同様にエポキシ基の反応率を追跡した。その
結果、65%のエポキシ基が反応していることが確認さ
れた。さらに、加熱120分後のKBr板上の組成物
は、いずれも硬化がよく進行し、不溶性の硬化物を生成
した。
Example 3 2NBC obtained in Synthesis Example 2
0.30 g (1 mmol) of BI was added to 1.8 g of phenol novolak type epoxy resin (DEN438 manufactured by Dow Chemical Company, epoxy equivalent: 181) (10 as an epoxy group).
Mmol) to prepare a curable composition. This was applied to a KBr plate, and a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (illuminance: 1
0.0 mW / cm 2 , 254 nm), and then subjected to 60 spectral irradiations, followed by heating at 120 ° C. for 120 minutes.
The reaction rate of the epoxy group was tracked in the same manner as in Example 1. As a result, it was confirmed that 65% of the epoxy groups had reacted. Further, all the compositions on the KBr plate after heating for 120 minutes were cured well, and insoluble cured products were produced.

【0038】〔実施例4〕合成例2で得られた2NBC
BI0.60g(2ミリモル)をグリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂(住友化学社製Sumiepoxy、エポキ
シ当量;120)2.4g(エポキシ基として20ミリ
モル)と混合して硬化性組成物を調製した。これをKB
r板に塗布し、250W超高圧水銀灯(照度:10.0
mW/cm 、254nm)を用いて60分光照射を行
い、その後、120℃で120分間加熱を行い、実施例
1と同様にエポキシ基の反応率を追跡した。その結果、
80%のエポキシ基が反応していることが確認された。
さらに、加熱120分後のKBr板上の組成物は、いず
れも硬化がよく進行し、不溶性の硬化物を生成した。
Example 4 2NBC obtained in Synthesis Example 2
0.60 g (2 mmol) of BI was glycidylamine type
Poxy resin (Sumieoxy manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Epoxy
2.4 g (20 equivalents as epoxy group)
Mol) to prepare a curable composition. This is KB
r plate, and a 250 W ultra-high pressure mercury lamp (illuminance: 10.0
mW / cm 2254 nm) for 60 spectral irradiations
Then, heating was performed at 120 ° C. for 120 minutes.
The reaction rate of the epoxy group was tracked in the same manner as in Example 1. as a result,
It was confirmed that 80% of the epoxy groups had reacted.
Further, the composition on the KBr plate after 120 minutes of heating was
In all cases, curing proceeded well, and an insoluble cured product was formed.

【0039】〔実施例5〕合成例2及び3で得られた2
NBCBI、DMNBCBI、及びBI並びに2−ニト
ロベンジルオキシカルボニルイミダゾール(以下NBC
Iと略称する)を、エピコ−ト828のエポキシ基に対
してそれぞれ5モル%混合し、硬化性組成物を調製し
た。硬化性組成物を室温、暗所で保存し、1カ月間IR
スペクトルによりエポキシ基の反応率を追跡した。
Example 5 2 obtained in Synthesis Examples 2 and 3
NBCBI, DMNBBCBI, and BI and 2-nitrobenzyloxycarbonylimidazole (hereinafter NBCBI)
I) was mixed in an amount of 5 mol% with respect to the epoxy group of Epicoat 828 to prepare a curable composition. Store the curable composition in the dark at room temperature,
The reaction rate of the epoxy group was followed by the spectrum.

【0040】室温、暗所保存時の硬化性組成物のエポキ
シ基反応率を図2に示した。図2から明らかなように、
BI、NBCIがエポキシ基の反応にともないゲル化を
起こし、1カ月間保存できないのに対し、2NBCBI
とDMNBCBIの保存安定性は非常に優れていること
がわかる。
FIG. 2 shows the epoxy group reaction rate of the curable composition when stored at room temperature and in a dark place. As is clear from FIG.
BI and NBCI gelated due to the reaction of the epoxy group and could not be stored for one month, whereas 2NBBCBI
And that the storage stability of DMNBBCBI is very excellent.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明の硬化性樹脂組成物は、ベンゾイ
ミダゾール類のアミノ基をブロックした誘導体をエポキ
シ樹脂の硬化触媒として使用することにより、BIその
ものやNBCIに比べて、暗所における保存安定性に格
段に優れた硬化性樹脂組成物を得る事ができる。また光
照射によってベンゾイミダゾール類が遊離して触媒とし
て働き、次に熱硬化反応を行うことによって、硬化特性
の優れた硬化物を得る事ができる。
The curable resin composition of the present invention has a storage stability in a dark place which is lower than that of BI itself or NBCI by using a derivative in which an amino group of a benzimidazole is blocked as a curing catalyst for an epoxy resin. It is possible to obtain a curable resin composition having excellent properties. In addition, benzimidazoles are released by light irradiation to act as a catalyst, and then a thermosetting reaction is performed, whereby a cured product having excellent curing properties can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1及び比較例1で得られた組成物の加熱
時間とエポキシ基の反応率の関係を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the heating time of the compositions obtained in Example 1 and Comparative Example 1 and the conversion of epoxy groups.

【図2】実施例5で得られた組成物の、室温、暗所での
保存中の経過時間とエポキシ基の反応率の関係を示すグ
ラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the elapsed time of the composition obtained in Example 5 during storage at room temperature and in a dark place and the reaction rate of an epoxy group.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 繁 山口県新南陽市福川南町1番1号 保土谷 化学工業株式会社南陽工場内 (72)発明者 西久保 忠臣 神奈川県藤沢市本藤沢3丁目6番8号 (72)発明者 亀山 敦 神奈川県横浜市神奈川区西神奈川1丁目10 番3号−705 Fターム(参考) 4H039 CA65 CD10 CD90 4J036 AD08 AD21 AF06 AF08 AF19 AF23 AG01 AG06 AG07 AH07 AJ02 AJ09 AJ17 AJ18 AK15 DB15 DC02 DC40 FB07 GA26 HA02 JA01 JA06 JA07 JA09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Shigeru Shimada 1-1-1, Fukukawa-Minamicho, Shinnanyo-shi, Yamaguchi Prefecture Inside the Nanyo Plant of Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd. (72) Tadaomi Nishikubo 3-6-1 Motofujisawa, Fujisawa-shi, Kanagawa Prefecture No. 8 (72) Inventor Atsushi Kameyama 1-3-10-705 F-term (Reference) 1-10-3 Nishi-Kanagawa, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 4H039 CA65 CD10 CD90 4J036 AD08 AD21 AF06 AF08 AF19 AF23 AG01 AG06 AG07 AH07 AJ02 AJ09 AJ17 AJ18 AK15 DB15 DC02 DC40 FB07 GA26 HA02 JA01 JA06 JA07 JA09

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるベンゾイミ
ダゾール誘導体。 【化1】 (式中、R1、R2、は同一でも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキル(炭素数
7以上)基、アルコキシ基、アルケニル基、シアノ基、
ニトロ基、フェノキシ基、アラルキル基またはアリール
基を表し、R1とR2が結合して環を形成してもよく、ま
たそれら複数の環が縮合環を形成してもよい、R3、R
4、R5、R6、は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキル(炭素数7以
上)基、アルコキシ基、アルケニル基、シアノ基、ニト
ロ基、フェノキシ基、アラルキル基またはアリール基を
表し、R3、R4、R5、R6のそれぞれが結合して環を形
成してもよく、またそれら複数の環が縮合環を形成して
もよい。)
1. A benzimidazole derivative represented by the following general formula (I). Embedded image (Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-
Butyl, pentyl, hexyl, alkyl (7 or more carbon atoms), alkoxy, alkenyl, cyano,
A nitro group, a phenoxy group, an aralkyl group or an aryl group, R1 and R2 may combine to form a ring, and a plurality of these rings may form a condensed ring;
4, R5 and R6 may be the same or different and include a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, alkyl (7 or more carbon atoms) group, alkoxy group, alkenyl group, cyano group, nitro group, phenoxy group, aralkyl group Or, it represents an aryl group, and each of R3, R4, R5 and R6 may combine to form a ring, or a plurality of these rings may form a condensed ring. )
【請求項2】 (A)下記一般式(I)で表され、光照
射により遊離のベンゾイミダゾール類を生成させるベン
ゾイミダゾール誘導体と、(B)多官能性のエポキシ化
合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。 【化2】 (式中、R1、R2、は同一でも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキル(炭素数
7以上)基、アルコキシ基、アルケニル基、シアノ基、
ニトロ基、フェノキシ基、アラルキル基またはアリール
基を表し、R1とR2が結合して環を形成してもよく、ま
たそれら複数の環が縮合環を形成してもよい、R3、R
4、R5、R6、は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、アルキル(炭素数7以
上)基、アルコキシ基、アルケニル基、シアノ基、ニト
ロ基、フェノキシ基、アラルキル基またはアリール基を
表し、R3、R4、R5、R6のそれぞれが結合して環を形
成してもよく、またそれら複数の環が縮合環を形成して
もよい。)
2. A composition comprising (A) a benzimidazole derivative represented by the following general formula (I), which produces free benzimidazoles by light irradiation, and (B) a polyfunctional epoxy compound. Curable composition. Embedded image (Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-
Butyl group, pentyl group, hexyl group, alkyl (7 or more carbon atoms) group, alkoxy group, alkenyl group, cyano group,
A nitro group, a phenoxy group, an aralkyl group or an aryl group, R1 and R2 may combine to form a ring, and a plurality of these rings may form a condensed ring;
4, R5 and R6 may be the same or different and include a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, alkyl (7 or more carbon atoms) group, alkoxy group, alkenyl group, cyano group, nitro group, phenoxy group, aralkyl group Or, it represents an aryl group, and each of R3, R4, R5, and R6 may combine to form a ring, or a plurality of these rings may form a condensed ring. )
【請求項3】 (A)一般式(I)で表され、光照射に
より遊離のベンゾイミダゾール類を生成させるベンゾイ
ミダゾール誘導体と、(B)多官能性のエポキシ化合物
と、(C)多官能性のフェノール化合物、多官能性のカ
ルボン酸、酸無水物及びアミン化合物からなる群から選
ばれた少なくとも1種の化合物を含有することを特徴と
する硬化性組成物。
3. (A) a benzimidazole derivative represented by the general formula (I), which generates free benzimidazoles by light irradiation, (B) a polyfunctional epoxy compound, and (C) a polyfunctional compound A curable composition comprising at least one compound selected from the group consisting of phenol compounds, polyfunctional carboxylic acids, acid anhydrides and amine compounds.
【請求項4】 前記した一般式(I)で表されるベンゾ
イミダゾール誘導体が、下記(I-1)〜(I-30)の化合
物から選択される1種または2種以上である、請求項2
または請求項3記載の硬化性組成物。 (I-1)N-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-2)N-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ベンゾイミダゾール (I-3)N-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)ベンゾイミダゾール (I-4)N-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)ベンゾイミダゾール (I-5)N-(3-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-6)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
メチルベンゾイミダゾール (I-7)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-8)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-9)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-10)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
ニトロベンゾイミダゾール (I-11)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -4-ニトロベンゾイミダゾール (I-12)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-ニトロベンゾイミダゾール (I-13)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-ニトロベンゾイミダゾール (I-14)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-5-
メチルベンゾイミダゾール (I-15)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-16)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-17)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-メチルベンゾイミダゾール (I-18)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-5-
ニトロベンゾイミダゾール (I-19)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -5-ニトロベンゾイミダゾール (I-20)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-ニトロメチルベンゾイミダゾール (I-21)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-5-ニトロベンゾイミダゾール (I-22)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4,
5-ジメチルベンゾイミダゾール (I-23)1-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ
カルボニル) -4,5-ジメチルベンゾイミダゾール (I-24)1-(5-メチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4,6-ジニトロメチルベンゾイミダゾール (I-25)1-(4-クロロ-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4,6-ジニトロベンゾイミダゾール (I-26)N-(4-ニトロベンジルオキシカルボニル)ベン
ゾイミダゾール (I-27)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
フェニルベンゾイミダゾール (I-28)1-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)-4-
ブチルベンゾイミダゾール (I-29)1-(5-ブチル-2-ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)-4-メチルベンゾイミダゾール (I-30)1-(5-フェニル-2-ニトロベンジルオキシカル
ボニル)-4-メチルベンゾイミダゾール
4. The benzimidazole derivative represented by the general formula (I) is one or more selected from the following compounds (I-1) to (I-30). 2
Or the curable composition according to claim 3. (I-1) N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-2) N- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-3) N- (5- Methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-4) N- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-5) N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) benzimidazole ( I-6) 1- (2-Nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Methylbenzimidazole (I-7) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-8) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 4-methylbenzimidazole (I-9) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-10) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Nitrobenzimidazole (I-11) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-nitrobenzimidazole (I-12) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 4-nitrobenzimidazole (I-13) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-nitrobenzimidazole (I-14) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-
Methylbenzimidazole (I-15) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-methylbenzimidazole (I-16) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 5-Methylbenzimidazole (I-17) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-methylbenzimidazole (I-18) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-
Nitrobenzimidazole (I-19) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-nitrobenzimidazole (I-20) 1- (5-Methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)- 5-nitromethylbenzimidazole (I-21) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -5-nitrobenzimidazole (I-22) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,
5-dimethylbenzimidazole (I-23) 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,5-dimethylbenzimidazole (I-24) 1- (5-methyl-2-nitrobenzyl (Oxycarbonyl) -4,6-dinitromethylbenzimidazole (I-25) 1- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4,6-dinitrobenzimidazole (I-26) N- (4-nitro (Benzyloxycarbonyl) benzimidazole (I-27) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Phenylbenzimidazole (I-28) 1- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-
Butylbenzimidazole (I-29) 1- (5-butyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methylbenzimidazole (I-30) 1- (5-phenyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4- Methylbenzimidazole
【請求項5】 一般式(I)で表されるベンゾイミダゾ
ール誘導体を合成するための中間体である、一般式(I
I)で表されるN,N'-カルボニルジベンゾイミダゾール
誘導体。 【化3】 (式中、R3、R4、R5、R6は前記した定義と同一であ
る。)
5. A compound of the general formula (I) which is an intermediate for synthesizing a benzimidazole derivative represented by the general formula (I)
N, N'-carbonyldibenzimidazole derivatives represented by I). Embedded image (Wherein, R3, R4, R5, and R6 are the same as defined above.)
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