JP2002260899A - プラズマ処理装置用電源システム - Google Patents
プラズマ処理装置用電源システムInfo
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- JP2002260899A JP2002260899A JP2001057989A JP2001057989A JP2002260899A JP 2002260899 A JP2002260899 A JP 2002260899A JP 2001057989 A JP2001057989 A JP 2001057989A JP 2001057989 A JP2001057989 A JP 2001057989A JP 2002260899 A JP2002260899 A JP 2002260899A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 整合をとる煩雑な手間を要せず、取り扱い
が容易で整合時間が短縮され、かつプラズマが均一にな
り、生成する膜厚の均一性及び再現性の向上を図ること
ができるプラズマ処理装置用電源システムを提供する。 【解決手段】 一端が給電端であり他端が接地電位であ
るＵ字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
ＶＨＦ帯域のプラズマ発生用電源の出力を、１つの電源
から分配器を用いて複数のＵ字型電極の給電端に分配し
て供給する。分配された出力をアイソレーターを介して
供給すれば、整合器等で負荷プラズマとのインピーダン
ス整合を省略することができ、また、移相器等により位
相を制御することもできる。
が容易で整合時間が短縮され、かつプラズマが均一にな
り、生成する膜厚の均一性及び再現性の向上を図ること
ができるプラズマ処理装置用電源システムを提供する。 【解決手段】 一端が給電端であり他端が接地電位であ
るＵ字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
ＶＨＦ帯域のプラズマ発生用電源の出力を、１つの電源
から分配器を用いて複数のＵ字型電極の給電端に分配し
て供給する。分配された出力をアイソレーターを介して
供給すれば、整合器等で負荷プラズマとのインピーダン
ス整合を省略することができ、また、移相器等により位
相を制御することもできる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体デバイス製造工程の中
では、プラズマＣＶＤ法等のプラズマ処理プロセスが広
く応用されている。本発明はこのようなプラズマ処理プ
ロセスに適したプラズマ処理装置用電源システムに関す
る。
では、プラズマＣＶＤ法等のプラズマ処理プロセスが広
く応用されている。本発明はこのようなプラズマ処理プ
ロセスに適したプラズマ処理装置用電源システムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年半導体デバイス製造の分野では、デ
バイスの大面積化、かつ高集積化の傾向にあり、それに
用いられるプラズマ源として、低圧力下で高密度・大□
径のプラズマ発生技術が要求されている。
バイスの大面積化、かつ高集積化の傾向にあり、それに
用いられるプラズマ源として、低圧力下で高密度・大□
径のプラズマ発生技術が要求されている。
【０００３】例えば、太陽電池や薄膜トランジスタなど
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマＣＶＤ装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、本発明者らは先に真空容器内に複数のＵ字型電
極を設ける方式を提案した（特願２０００一０５６５８
４）。このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器内に配置さ
れた誘導結合型の電極を備える内部電極方式のプラズマ
処理装置であって、電極は線状導体をその中央部で折り
返して形成されたＵ字型の形態を有し、その電極の折り
返して形成された部分に半波長の定在波が立つようにこ
の電極の端部に高周波を供給して電極の周囲に放電を作
り、プラズマを生成するように構成されている。
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマＣＶＤ装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、本発明者らは先に真空容器内に複数のＵ字型電
極を設ける方式を提案した（特願２０００一０５６５８
４）。このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器内に配置さ
れた誘導結合型の電極を備える内部電極方式のプラズマ
処理装置であって、電極は線状導体をその中央部で折り
返して形成されたＵ字型の形態を有し、その電極の折り
返して形成された部分に半波長の定在波が立つようにこ
の電極の端部に高周波を供給して電極の周囲に放電を作
り、プラズマを生成するように構成されている。
【０００４】この場合、電極に供給される高周波の周波
数は、当該Ｕ字型電極の長さとの関係で決められてを
り、均一なプラズマを生成するために、従来から利用さ
れていた通常の高周波（例えば１３．５６ＭＨｚ）より
も高い６０ＭＨｚ以上のＶＨＦ帯の高周波が採用されて
いる。
数は、当該Ｕ字型電極の長さとの関係で決められてを
り、均一なプラズマを生成するために、従来から利用さ
れていた通常の高周波（例えば１３．５６ＭＨｚ）より
も高い６０ＭＨｚ以上のＶＨＦ帯の高周波が採用されて
いる。
【０００５】このプラズマＣＶＤ装置における電源供給
システムとしては、図５に示すように、プラズマ生成室
７に備えた複数のＵ字型電極の給電端６のそれぞれに高
周波電源１の出力を供給するために、通常は電極の個数
と同数の、高周波電源１及び整合器３の組み合わせを配
置している。
システムとしては、図５に示すように、プラズマ生成室
７に備えた複数のＵ字型電極の給電端６のそれぞれに高
周波電源１の出力を供給するために、通常は電極の個数
と同数の、高周波電源１及び整合器３の組み合わせを配
置している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
電源供給システムでは、高周波電源及び整合器のセット
が、使用する電極の数だけ必要となるため、コスト的
に非常に高価である。沢山の高周波電源と整合器のセ
ットを配置するため広いスペースが必要である。特に整
合器については、通常給電端の出来るだけ近くに配置す
るのが望ましいので，プラズマ生成室の周囲の構成が複
雑になる。装置の運転上、制御が複雑になる。装置
のメインテナンスが大変である、等の問題がある。
電源供給システムでは、高周波電源及び整合器のセット
が、使用する電極の数だけ必要となるため、コスト的
に非常に高価である。沢山の高周波電源と整合器のセ
ットを配置するため広いスペースが必要である。特に整
合器については、通常給電端の出来るだけ近くに配置す
るのが望ましいので，プラズマ生成室の周囲の構成が複
雑になる。装置の運転上、制御が複雑になる。装置
のメインテナンスが大変である、等の問題がある。
【０００７】また高周波電源の数が多くなるため、給電
端の近傍に配置できないので、各高周波電源から給電端
までの距離が独立した構成となり、各Ｕ字型電極に印加
される高周波の電圧位相がバラバラとなるため、プラ
ズマの安定性、均一性が悪くなる。形成された薄膜の
膜厚の分布が悪くなる、などの問題も生ずる。
端の近傍に配置できないので、各高周波電源から給電端
までの距離が独立した構成となり、各Ｕ字型電極に印加
される高周波の電圧位相がバラバラとなるため、プラ
ズマの安定性、均一性が悪くなる。形成された薄膜の
膜厚の分布が悪くなる、などの問題も生ずる。
【０００８】本発明は上記の問題点を解決し、整合をと
る煩雑な手間を要せず、取り扱いが容易で整合時間が短
縮され、かつプラズマが均一になり、生成する膜厚の均
一性及び再現性の向上を図ることができるプラズマ処理
装置用の電源システムを提供することを目的とする。
る煩雑な手間を要せず、取り扱いが容易で整合時間が短
縮され、かつプラズマが均一になり、生成する膜厚の均
一性及び再現性の向上を図ることができるプラズマ処理
装置用の電源システムを提供することを目的とする。
【０００９】本発明は特に前記本発明者らの先に提案し
た複数のＵ字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に
好適な電源システムを提供することを目的とする。
た複数のＵ字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に
好適な電源システムを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明は、一端が給電端であり他端が接地電位であ
るＵ字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
ＶＨＦ帯域のプラズマ発生用電源の出力を、１つの電源
から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して
供給することを特徴とするプラズマ処理装置用の電源シ
ステムである。
めの本発明は、一端が給電端であり他端が接地電位であ
るＵ字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
ＶＨＦ帯域のプラズマ発生用電源の出力を、１つの電源
から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して
供給することを特徴とするプラズマ処理装置用の電源シ
ステムである。
【００１１】上記本発明によるプラズマ処理装置用の電
源システムにおいては、ＶＨＦ帯高周波電源の出力を分
配器で複数に分配した後、整合器等で負荷プラズマとの
インピーダンス整合を行なう代わりに、アイソレーター
を介して直接プラズマ生成室の複数の電極の給電端に結
合することができる。
源システムにおいては、ＶＨＦ帯高周波電源の出力を分
配器で複数に分配した後、整合器等で負荷プラズマとの
インピーダンス整合を行なう代わりに、アイソレーター
を介して直接プラズマ生成室の複数の電極の給電端に結
合することができる。
【００１２】また本発明においては、前記分配されたプ
ラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供給され
る出力の位相を基準として、他の電極に供給される出力
の位相をそれぞれ調整可能にすることができる。すなわ
ち、プラズマ生成室内の電極にかかる電圧の位相を、プ
ラズマ発生の状況あるいは形成された膜厚分布等を監視
しながら、最適の状態になるように、任意に可変設定す
ることができる。
ラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供給され
る出力の位相を基準として、他の電極に供給される出力
の位相をそれぞれ調整可能にすることができる。すなわ
ち、プラズマ生成室内の電極にかかる電圧の位相を、プ
ラズマ発生の状況あるいは形成された膜厚分布等を監視
しながら、最適の状態になるように、任意に可変設定す
ることができる。
【００１３】本発明によれば、上記を総合し、一端が給
電端であり他端が接地電位であるＵ字型電極を複数備え
たプラズマ処理装置において、ＶＨＦ帯域のプラズマ発
生用電源の出力を、１つの電源から分配器を用いて前記
複数の電極に分配して供給し、その分配されたプラズマ
発生用電源の出力を、それぞれアイソレーターを介して
前記複数の電極の給電端に直結し、さらに、例えば分配
器と各アイソレーターとの間に移相器を挿入し、分配さ
れたプラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供
給される出力の位相を基準として、他の電極に供給され
る出力の位相をそれぞれ調整可能にしたことを特徴とす
るプラズマ処理装置用の電源システムを提供する。
電端であり他端が接地電位であるＵ字型電極を複数備え
たプラズマ処理装置において、ＶＨＦ帯域のプラズマ発
生用電源の出力を、１つの電源から分配器を用いて前記
複数の電極に分配して供給し、その分配されたプラズマ
発生用電源の出力を、それぞれアイソレーターを介して
前記複数の電極の給電端に直結し、さらに、例えば分配
器と各アイソレーターとの間に移相器を挿入し、分配さ
れたプラズマ発生用電源の出力のうち、一つの電極に供
給される出力の位相を基準として、他の電極に供給され
る出力の位相をそれぞれ調整可能にしたことを特徴とす
るプラズマ処理装置用の電源システムを提供する。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明によるプラズマ処
理装置用の電源システムの実施の形態について図面を用
いて説明する。図１は、１つの高周波電源の出力を、分
配器を用いて５つのＵ字型電極に分配した本発明による
電源システムの系統図の１例である。図１において、１
は高周波電源である。本図示例では電極の形状により最
適な周波数を見つけるため、周波数は可変方式とし８５
ＭＨｚ±１０ＭＨｚとした。出力は３ＫＷである。
理装置用の電源システムの実施の形態について図面を用
いて説明する。図１は、１つの高周波電源の出力を、分
配器を用いて５つのＵ字型電極に分配した本発明による
電源システムの系統図の１例である。図１において、１
は高周波電源である。本図示例では電極の形状により最
適な周波数を見つけるため、周波数は可変方式とし８５
ＭＨｚ±１０ＭＨｚとした。出力は３ＫＷである。
【００１５】２は分配器で、プラズマ発生用電源１で発
生した高周波出力をプラズマ生成室７内の複数の電極
（出力端子）６に均等に分配するシステムである。図示
例は５個の電極に分配する例を示したが、さらに多く、
例えば１６個の電極に分配する実施例などもある。本発
明では、コスト的な事を考慮し、同軸管の１／４波長整
合法による分配器を採用した。３は整合器で、図５に示
した方式の複数の電源を備えた電源システムで用いる場
合の整合器と同じものである。
生した高周波出力をプラズマ生成室７内の複数の電極
（出力端子）６に均等に分配するシステムである。図示
例は５個の電極に分配する例を示したが、さらに多く、
例えば１６個の電極に分配する実施例などもある。本発
明では、コスト的な事を考慮し、同軸管の１／４波長整
合法による分配器を採用した。３は整合器で、図５に示
した方式の複数の電源を備えた電源システムで用いる場
合の整合器と同じものである。
【００１６】高周波回路に用いる分配器として要求され
る機能としては、分配比率の偏差が少ないこと、挿
入損失が少ないこと、出力間の干渉が少ない（出力端
子間のアイソレーションが大きい）こと、入力端子の
ＶＳＷＲ特性が良いこと、および形状が小さいこと、
などである。
る機能としては、分配比率の偏差が少ないこと、挿
入損失が少ないこと、出力間の干渉が少ない（出力端
子間のアイソレーションが大きい）こと、入力端子の
ＶＳＷＲ特性が良いこと、および形状が小さいこと、
などである。
【００１７】分配器の方式としては、抵抗分配器、Ｔ分
岐、ハイブリッド分配器、ならびにＷｉｌｋｉｎｓｏｎ
型分配器などがある。最も簡単な方法としては抵抗器だ
けを用いた分配器がある。これは設計が容易で広帯域化
でき、大きさも抵抗体の大きさ程度でまとまるという利
点はあるが、上記のおよびの特性を満足しないとい
う欠点がある。すなわち、挿入損失が大きく、また出力
端子間のアイソレーションがとれない、さらに抵抗器の
周波数特性がＶＨＦ帯では良好でないなどの問題点があ
るために実際のＶＨＦ帯の高周波回路ではあまり使用さ
れない。
岐、ハイブリッド分配器、ならびにＷｉｌｋｉｎｓｏｎ
型分配器などがある。最も簡単な方法としては抵抗器だ
けを用いた分配器がある。これは設計が容易で広帯域化
でき、大きさも抵抗体の大きさ程度でまとまるという利
点はあるが、上記のおよびの特性を満足しないとい
う欠点がある。すなわち、挿入損失が大きく、また出力
端子間のアイソレーションがとれない、さらに抵抗器の
周波数特性がＶＨＦ帯では良好でないなどの問題点があ
るために実際のＶＨＦ帯の高周波回路ではあまり使用さ
れない。
【００１８】２分配器としてはハイブリッド回路（分配
器）がよく用いられる。これは出力端子間のアイソレー
ションがとれることが特長である。ハイブリッド回路に
は出力の位相差が９０°の方向性結合器や出力が同相の
ラットレースなどがある。これらを構成する構造として
ＵＨＦ帯では分布定数線路（１／４波長などの）が、ま
たＶＨＦ帯ではフェライトのトロイダルコアなどが使用
されている。分配器の方式として２分配器を多段接続す
る方法もあるが、形状が大きくなるのが難点である。
器）がよく用いられる。これは出力端子間のアイソレー
ションがとれることが特長である。ハイブリッド回路に
は出力の位相差が９０°の方向性結合器や出力が同相の
ラットレースなどがある。これらを構成する構造として
ＵＨＦ帯では分布定数線路（１／４波長などの）が、ま
たＶＨＦ帯ではフェライトのトロイダルコアなどが使用
されている。分配器の方式として２分配器を多段接続す
る方法もあるが、形状が大きくなるのが難点である。
【００１９】Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ型分配器は分配数の多
い場合に適した分配方式であるが、出力端子間のアイソ
レーションをとるために分岐線路間にアイソレーション
用抵抗が必要になる。本発明で使用する方式はＷｉｌｋ
ｉｎｓｏｎ型ではなくＴ分岐方式である。Ｔ分岐方式は
出力端子をいきなり等分配するので構造が簡単である
が、出力端子間のアイソレーションはとれない。しか
し、負荷側にアイソレータやサーキュレータがある場合
は出力端子間のアイソレーションがとれるのでＴ分岐を
使用するには都合が良いからである。
い場合に適した分配方式であるが、出力端子間のアイソ
レーションをとるために分岐線路間にアイソレーション
用抵抗が必要になる。本発明で使用する方式はＷｉｌｋ
ｉｎｓｏｎ型ではなくＴ分岐方式である。Ｔ分岐方式は
出力端子をいきなり等分配するので構造が簡単である
が、出力端子間のアイソレーションはとれない。しか
し、負荷側にアイソレータやサーキュレータがある場合
は出力端子間のアイソレーションがとれるのでＴ分岐を
使用するには都合が良いからである。
【００２０】この分配器の概念図を図２に示す。図２は
１／４波長線路を用いた分配器の例を示したもので、８
は分配器の入力端子、９が１／４波長線路、１０は分配
器の出力端子である（出力端子が５つの場合を例示）。
負荷インピーダンスをＲ１とし、１／４波長線路９の特
性インピーダンスをＷとすれば、その入力インピーダン
スはＲ１／Ｗ２ で表される。つまり１／４波長線路は
インピーダンス反転作用がある。
１／４波長線路を用いた分配器の例を示したもので、８
は分配器の入力端子、９が１／４波長線路、１０は分配
器の出力端子である（出力端子が５つの場合を例示）。
負荷インピーダンスをＲ１とし、１／４波長線路９の特
性インピーダンスをＷとすれば、その入力インピーダン
スはＲ１／Ｗ２ で表される。つまり１／４波長線路は
インピーダンス反転作用がある。
【００２１】したがって出力端子数をＮとし、電源イン
ピーダンスをＲｇ、負荷インピーダンスをＲ１とすれ
ば、１／４波長線路の特性インピーダンスＷは√（Ｒｇ
・Ｒ１／Ｎ）と選べばよい。実際には多段の場合はこの
１／４波長線路の特性インピーダンスＷの実現し易さの
関係でその入力側にさらに１／４波長線路を設けること
もある。
ピーダンスをＲｇ、負荷インピーダンスをＲ１とすれ
ば、１／４波長線路の特性インピーダンスＷは√（Ｒｇ
・Ｒ１／Ｎ）と選べばよい。実際には多段の場合はこの
１／４波長線路の特性インピーダンスＷの実現し易さの
関係でその入力側にさらに１／４波長線路を設けること
もある。
【００２２】１／４波長線路として同軸線路を用いた場
合は、その特性インピーダンスＷはその同軸管の内導体
の外径と外導体の内径との比率で決まる、いわば機械的
寸法で決まるので、整合をとるための調整等は不要にな
り非常に簡単である。通常の場合のように使用周波数が
１周波数でよいならこの伝送線路の１／４波長の段数は
１段でよいが、周波数が８５±１０ＭＨｚと帯域が広い
場合は、周波数特性を改善するために１／４波長線路を
２段にして整合をとっている。
合は、その特性インピーダンスＷはその同軸管の内導体
の外径と外導体の内径との比率で決まる、いわば機械的
寸法で決まるので、整合をとるための調整等は不要にな
り非常に簡単である。通常の場合のように使用周波数が
１周波数でよいならこの伝送線路の１／４波長の段数は
１段でよいが、周波数が８５±１０ＭＨｚと帯域が広い
場合は、周波数特性を改善するために１／４波長線路を
２段にして整合をとっている。
【００２３】図３は、本発明による電源システムの１例
として、図１の分配器によって５つに分配された高周波
電源の出力を、それぞれアイソレーター４を介して直接
プラズマ生成室の電極の給電端へ供給した場合の系統図
である。アイソレーター４を図１の整合器３の代わりに
使用すれば、負荷プラズマの変動により高周波電源の出
力が影響を受けてプラズマ処理の動作が不安定になると
いう問題を防止することができるので、整合器を省略し
て整合をとる手間が省かれ、時間短縮が図られる。ま
た、整合器内における電力損失がないから、電源出力が
効率的に電極に供給されることになる。
として、図１の分配器によって５つに分配された高周波
電源の出力を、それぞれアイソレーター４を介して直接
プラズマ生成室の電極の給電端へ供給した場合の系統図
である。アイソレーター４を図１の整合器３の代わりに
使用すれば、負荷プラズマの変動により高周波電源の出
力が影響を受けてプラズマ処理の動作が不安定になると
いう問題を防止することができるので、整合器を省略し
て整合をとる手間が省かれ、時間短縮が図られる。ま
た、整合器内における電力損失がないから、電源出力が
効率的に電極に供給されることになる。
【００２４】図４は、さらに本発明による電源システム
の１例として、図３に示した電源システムにおいて、分
配器２とアイソレーター４の間にさらに移相器５を追加
挿入した電源システム系統図である。図４の電源システ
ムでは、分配されたプラズマ発生用電源の出力の中、一
つの電極に供給される出力の位相を基準として、他の電
極に供給される出力の位相を移相器５を用いてそれぞれ
調整することができ、プラズマの発生が均一になるの
で、処理される膜厚の均一性及び再現性を向上させるこ
とができる。
の１例として、図３に示した電源システムにおいて、分
配器２とアイソレーター４の間にさらに移相器５を追加
挿入した電源システム系統図である。図４の電源システ
ムでは、分配されたプラズマ発生用電源の出力の中、一
つの電極に供給される出力の位相を基準として、他の電
極に供給される出力の位相を移相器５を用いてそれぞれ
調整することができ、プラズマの発生が均一になるの
で、処理される膜厚の均一性及び再現性を向上させるこ
とができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プラズマ処理装置用の電源システムにおいて、ＶＨＦ帯
高周波電源の出力を一つの電源から分配器を用いて複数
に分配することにより、沢山の電源を配置した従来の方
式に比べて必要コストが少なくなると共に、取り扱いが
容易になった。
プラズマ処理装置用の電源システムにおいて、ＶＨＦ帯
高周波電源の出力を一つの電源から分配器を用いて複数
に分配することにより、沢山の電源を配置した従来の方
式に比べて必要コストが少なくなると共に、取り扱いが
容易になった。
【００２６】また整合装置を省略し、アイソレーターを
介して直接電極に高周波電源の出力を供給する電源シス
テムを採れば、整合をとる煩雑な手間がなくなり、整合
がとれるまでに要した時間に関係なくプラズマ処理がで
きるので、時間が短縮され、さらに整合器内での電力損
失分がないので、高周波電源の出力が効率良くプラズマ
内に供給されるようになる。
介して直接電極に高周波電源の出力を供給する電源シス
テムを採れば、整合をとる煩雑な手間がなくなり、整合
がとれるまでに要した時間に関係なくプラズマ処理がで
きるので、時間が短縮され、さらに整合器内での電力損
失分がないので、高周波電源の出力が効率良くプラズマ
内に供給されるようになる。
【００２７】さらに分配器とアイソレーターの間に移相
器等を挿入する電源システムを採れば、各電極に供給さ
れる高周波の位相を制御できるようにしたことにより、
プラズマの発生が均一になり、プラズマ処理される膜厚
の均一性及び再現性を向上させることが可能となる。
器等を挿入する電源システムを採れば、各電極に供給さ
れる高周波の位相を制御できるようにしたことにより、
プラズマの発生が均一になり、プラズマ処理される膜厚
の均一性及び再現性を向上させることが可能となる。
【００２８】本発明は特に、本発明者らが先に発明した
複数のＵ字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に適
用することにより極めて顕著な効果を奏するものであ
る。
複数のＵ字型電極を設ける方式のプラズマ処理装置に適
用することにより極めて顕著な効果を奏するものであ
る。
【図１】本発明によるプラズマ処理装置用電源システム
の１例を示す系統図
の１例を示す系統図
【図２】１／４波長線路を用いた分配器の概念図
【図３】図１において、アイソレーターを介して直接給
電した場合の例
電した場合の例
【図４】図２において、移相器を連結した場合の例
【図５】従来方式のプラズマ処理装置用電源システムの
系統図
系統図
１ 高周波電源 ２ 分配器 ３ 整合器 ４ アイソレーター ５ 移相器 ６ 給電端 ７ プラズマ生成室 ８ 分配器の入力端子 ９ １／４波長線路 １０ 分配器の出力端子
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１３年１０月１６日（２００１．１０．
１６）
１６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】例えば、太陽電池や薄膜トランジスタなど
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマＣＶＤ装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、真空容器内に複数のＵ字型電極を設ける方式が
提案されている。このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器
内に配置された誘導結合型の電極を備える内部電極方式
のプラズマ処理装置であって、電極は線状導体をその中
央部で折り返して形成されたＵ字型の形態を有し、その
電極の折り返して形成された部分に半波長の定在波が立
つようにこの電極の端部に高周波を供給して電極の周囲
に放電を作り、プラズマを生成するように構成されてい
る。
に利用されるアモルファスシリコン薄膜を形成するプラ
ズマＣＶＤ装置では、大面積のプラズマ放電を実現する
ために、真空容器内に複数のＵ字型電極を設ける方式が
提案されている。このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器
内に配置された誘導結合型の電極を備える内部電極方式
のプラズマ処理装置であって、電極は線状導体をその中
央部で折り返して形成されたＵ字型の形態を有し、その
電極の折り返して形成された部分に半波長の定在波が立
つようにこの電極の端部に高周波を供給して電極の周囲
に放電を作り、プラズマを生成するように構成されてい
る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】本発明は、複数のＵ字型電極を設ける方式
のプラズマ処理装置に好適な電源システムを提供するこ
とを目的とする。
のプラズマ処理装置に好適な電源システムを提供するこ
とを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】本発明は、複数のＵ字型電極を設ける方式
のプラズマ処理装置に適用することにより極めて顕著な
効果を奏するものである。
のプラズマ処理装置に適用することにより極めて顕著な
効果を奏するものである。
Claims (3)
- 【請求項１】 一端が給電端であり他端が接地電位であ
るＵ字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、
ＶＨＦ帯域のプラズマ発生用電源の出力を、１つの電源
から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して
供給することを特徴とするプラズマ処理装置用電源シス
テム。 - 【請求項２】 分配されたプラズマ発生用電源の出力
を、それぞれアイソレーターを介して前記複数の電極の
給電端に直結したことを特徴とする請求項１記載のプラ
ズマ処理装置用電源システム。 - 【請求項３】 分配されたプラズマ発生用電源の出力の
うち、一つの電極に供給される出力の位相を基準とし
て、他の電極に供給される出力の位相をそれぞれ調整可
能にしたことを特徴とする請求項２記載のプラズマ処理
装置用電源システム。
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