JP2002260813A - サージアブソーバ - Google Patents

サージアブソーバ

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JP2002260813A JP2001055549A JP2001055549A JP2002260813A JP 2002260813 A JP2002260813 A JP 2002260813A JP 2001055549 A JP2001055549 A JP 2001055549A JP 2001055549 A JP2001055549 A JP 2001055549A JP 2002260813 A JP2002260813 A JP 2002260813A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 寿命が長く、小型化及び表面実装を図る。 【解決手段】 金属製の蓋体15が一対の放電電極1
2,13及び放電間隙14の上方空間を囲むように、そ
の周縁部15Aを絶縁性基板11に接合する。一対の放
電電極12,13は、それぞれの途中部分から基端部1
2A,13Aに向かうにしたがい絶縁性基板11の下面
に近づくように傾斜している。一対の放電電極12,1
3と蓋体15の周縁部15Aとの間に間隙16,16を
形成する。間隙16,16を絶縁材17,17により閉
塞する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、サージから様々な
機器を保護し、事故を未然に防ぐのに使用するサージア
ブソーバに関する。
【0002】
【従来の技術】電話機、ファクシミリ、モデム等の通信
機器用の電子機器が通信線と接続する部分、あるいはC
RT駆動回路等、雷サージや静電気等の異常電圧(サー
ジ電圧)による電撃を受けやすい部分には、異常電圧に
よって電子機器やこの機器を搭載するプリント基板の熱
的損傷または発火等による破壊を防止するために、サー
ジアブソーバが接続されている。
【0003】このようなサージアブソーバの一例とし
て、図5に示すようなものが知られている。このサージ
アブソーバ1は、図5に示すように、円柱状のセラミッ
クス部材2の周面に放電間隙4(マイクロギャップ)を
有する導電性被膜3を形成したアブソーバ素子の両端に
キャップ電極5,5をかぶせたものを円筒状のガラス管
7内に不活性ガスとともに収容し、円筒状のガラス管7
の両端に一対の封止電極6,6が相対向して高温加熱で
封着されたガラス管封止型とされたものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のサージアブソーバ1は、それぞれ封止電極
6,6に接続された2本のリード線6A,6Aによって
電気的に接続された回路のサージを、放電間隙4におい
て放電することにより吸収するものであるため、繰り返
しサージが印可されたり、大電流のサージが印可された
りすると、放電間隙4を形成する薄肉の導電性皮膜2が
傷んでしまい、その特性が劣化して、寿命が短くなって
いた。しかも、このようなガラス管封止型のサージアブ
ソーバ1では、ガラス管7内にアブソーバ素子と不活性
ガスを封入して製造するため、製品形状は円筒状で、表
面実装には不向きとなる。また、このようにガラス管7
内にアブソーバ素子を封入するものでは、比較的サイズ
が大きくなってしまい、近年高まってきている小型化の
要求に応えることが難しかった。
【0005】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、寿命が長く、かつ表面実装可能で小型化を実現でき
るサージアブソーバを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決して、
このような目的を達成するために、本発明は、絶縁性基
板の上面に、放電間隙を介し互いに相対向して一対の放
電電極が形成されるとともに、これら放電電極の上方空
間を囲うように蓋体の周縁部が前記絶縁性基板の上面に
接合され、該蓋体によって形成される内部空間に不活性
ガスが封入されたサージアブソーバであって、前記蓋体
は、前記放電電極と電気的に絶縁されているとともに、
少なくとも放電電極に対向する部分に金属材料で構成さ
れた領域を有することを特徴とする。このような構成と
すると、一対の放電電極により形成される放電間隙にお
いて放電することによりサージを吸収できるのに加え、
放電電極と蓋体の金属製の領域との間においても放電を
行うことができるので、放電電極に与える熱影響を少な
くすることができる。しかも、絶縁性基板を用いること
で全体がチップ形状となり、小型化及び表面実装を図る
ことができる。
【0007】また、前記蓋体は金属製とされていること
を特徴とする。このような構成とすると、放電空間(蓋
体によって形成される内部空間)を形成する蓋体が金属
製であることにより、蓋体を安価に製造することができ
る。
【0008】また、前記放電電極と前記蓋体の周縁部と
の間に間隙が設けられて、該間隙が絶縁材により閉塞さ
れていることを特徴とする。このような構成とすると、
この間隙を利用して不活性ガスを蓋体の内部空間に導入
することができるので、不活性ガスの封入を確実に行う
ことができる。
【0009】また、前記一対の放電電極は、前記絶縁性
基板の上面に形成された一対の溝部内にそれぞれ設けら
れ、前記蓋体は、その周縁部の一部が前記一対の溝部の
上方に位置し、前記間隙が前記一対の溝部内に形成され
ていることを特徴とする。このような構成とすると、絶
縁性基板の上面に溝部を形成するだけで、容易に蓋体の
周縁部と放電電極との間に間隙を形成できるとともに、
間隙の閉塞作業を、溝部内に絶縁材ペーストを埋め込む
ことで容易に行うことができる。
【0010】また、前記放電電極と、前記蓋体の金属材
料で構成された領域との距離が、0.05〜1.00m
mの範囲に設定されていることを特徴とする。このよう
な構成とすると、放電電極と蓋体の金属製の領域との間
で生じる放電に適した距離を設定することができ、放電
空間の寸法が小さくなりすぎたり、放電が起き難くなっ
てしまうということがない。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付し
た図面を参照しながら説明する。図1は本発明の実施形
態によるサージアブソーバの斜視図、図2は図1におけ
るサージアブソーバの断面図である。
【0012】本実施形態によるサージアブソーバ10
は、図1及び図2に示すように、略長方形のチップ形状
をなし、例えばアルミナ等の絶縁性材料から構成される
絶縁性基板11の上面11Aに、導電性金属から構成さ
れる一対の放電電極12,13が互いに相対向する配置
で形成されており、一方の放電電極12の先端と他方の
放電電極13の先端との間に所定の寸法をもって放電間
隙14(マイクロギャップ)が形成されている。なお、
この放電電極12,13は、Ag/Pd,SnO2,A
l,Ni,Cu,Ti,TiN,Ta,W,SiC,B
aAl,Nb,Si,C,Ag,Ag/Pt,ITO等
で、スパッタ法,蒸着法,イオンプレーティング法,印
刷法,焼付法等により形成されたものである。
【0013】ここで、絶縁性基板11の上面11Aにお
いて、放電電極12,13は、それぞれの基端部12
A,13Aが絶縁性基板11の対向する端面11B,1
1Bのそれぞれまで達するように形成されている。ま
た、この絶縁性基板11の上面11Aには、一対の放電
電極12,13が形成されている部分に一対の溝部11
C,11Cが設けられており、それぞれの放電電極1
2,13において、その途中部分から基端部12A,1
3Aまでが、一対の溝部11C,11Cに沿ってそれぞ
れ基端部12A,13A側に向かうにしたがい絶縁性基
板11の下面に近づく傾斜がつけられている。すなわ
ち、一対の放電電極12,13は、その途中部分から基
端部12A,13Aまでが一対の溝部11C,11C内
に設けられ、その先端部のみが、絶縁性基板11の上面
11A上に位置することになる。
【0014】また、放電電極12,13が形成された絶
縁性基板11の上面11Aには、図1及び図2に示すよ
うに、それら放電電極12,13及び放電間隙14の上
方空間を囲うようにして蓋体15の周縁部15Aが接合
されている。この蓋体15は、径方向に一段拡径したフ
ランジ状の周縁部15Aを有する有底円環状の例えばコ
バール等の金属からなるものである。
【0015】このとき、一対の放電電極12,13は、
その途中部分から基端部12A,13A側に向かうにし
たがい絶縁性基板11の下面に近づくような傾斜がつけ
られているために、溝部11C,11Cの上方に位置す
る蓋体15の周縁部15Aとは接触せずに、所定の間隙
16,16が形成されている。この間隙16,16が存
在することにより、蓋体15と放電電極12,13とが
電気的に絶縁されている。
【0016】この放電電極12,13と金属製の蓋体1
5の周縁部15Aとの間に形成された間隙16,16
は、例えばガラス等の絶縁材17,17によって封止さ
れる。さらに、蓋体15により形成された内部空間に
は、例えば、He,Ar,Ne,Xe,SF6,CO2
38,C26,CF4,H2及びこれらの混合ガス等の
放電に好適な不活性ガスが、間隙16,16を絶縁材1
7,17により閉塞するのと同時に封入されて、この内
部空間が放電空間とされる。
【0017】また、ここで、絶縁性基板11の上面11
Aに形成された放電電極12,13と、その上方に位置
する蓋体15の内部側の上面15Bとの距離tが、0.
05〜1.00mmの範囲に設定されている。
【0018】そして、絶縁性基板11の両端面11B,
11Bまで達するように形成された放電電極12,13
の基端部12A、13Aが、絶縁性基板11の両端面1
1B,11Bに接合された端子電極18,18に接続さ
れてチップ形状をなすサージアブソーバ10が構成され
る。
【0019】以上のような構成とされたサージアブソー
バ10にあっては、互いに相対向する一対の放電電極1
2,13により形成される放電間隙14により、端子電
極18,18に接続された回路等からのサージを吸収で
きるのに加え、例えば一方の放電電極12から蓋体15
を介して他方の放電電極13へ抜けていくような、放電
電極12,13と蓋体15との間での放電を生じさせる
ことができて、放電電極12,13に与える熱影響を少
なくすることができ、サージアブソーバの寿命を延ばす
ことができる。
【0020】また、放電空間を形成する蓋体15が金属
製であることにより、蓋体15を安価に製造することが
でき、サージアブソーバ10の製造コストを下げること
ができる。さらに、絶縁性基板11を用いてサージアブ
ソーバ10を構成することにより、チップ形状のサージ
アブソーバ10を得ることができて、その小型化及び表
面実装が可能となる。また、放電空間の寸法を変更する
場合には、蓋体15のみの大きさを変更するだけでよ
く、容易に放電空間の寸法を変更することが可能とな
る。
【0021】しかも、一対の放電電極12,13が、そ
の途中部分から基端部12A,13Aまでを絶縁性基板
11の上面11Aに形成された溝部11C,11C内に
設けられるとともに、蓋体15の周縁部15Aの一部が
溝部11C,11Cの上方に位置するよう接合されて間
隙16,16が形成されていることから、絶縁性基板1
1の上面11Aに一対の溝部11C,11Cを形成する
だけで、容易に蓋体15の周縁部15Aと放電電極1
2,13との間に間隙16,16を形成でき、さらに、
間隙16,16の閉塞作業を、溝部11C,11C内に
絶縁材17,17を埋め込むことで容易に行うことがで
きる。さらには、間隙16,16を利用して不活性ガス
の封入作業を行うことができるので、不活性ガスの封入
を確実に行うことができる。
【0022】また、放電電極12,13と蓋体15の内
部側の上面15Bとの距離tが、0.05〜1.00m
mの範囲に設定されていることから、放電電極12,1
3と金属製の蓋体15との間で生じる放電に適した距離
を形成することができ、放電空間の寸法が小さくなりす
ぎたり、放電が起き難くなっていしまうという不具合が
起こることがない。
【0023】以下、上記のような構成のサージアブソー
バ10を製造する方法を説明する。まず、図1に示され
るように、絶縁性基板11の上面11Aに、一対の放電
電極12,13をその途中部分から基端部12A,13
A側に向かうにしたがい絶縁性基板11の下面に近づく
ように傾斜させるための一対の溝部11C,11Cを形
成した後に、その上面11Aに、互いに相対向する放電
電極12,13を形成することになる。
【0024】これら放電電極12,13は、例えば、A
g/Pd,SnO2,Al,Ni,Cu,Ti,Ti
N,Ta,W,SiC,BaAl,Nb,Si,C,A
g,Ag/Pt,ITO等の導電性金属を、スパッタ
法,蒸着法,イオンプレーティング法,印刷法,焼付法
等によって、一対の溝部11C,11Cに沿う方向で一
本の帯状薄膜に形成した後、その帯状薄膜の途中位置、
すなわち放電間隙14を形成したい位置にレーザ光を照
射して切断することにより、この切断部が放電間隙14
となって、互いに相対向する放電電極12,13が形成
される。
【0025】次に、絶縁性基板11の上面11Aにおい
て、蓋体15の周縁部15Aが接合されるべき位置に、
例えば、タングステンペーストを焼き付け、その後Ni
めっきを施しておき、一方、金属製の蓋体15の周縁部
15Aに、例えば銀ロウ等の接合材を塗布して、蓋体1
5を絶縁性基板11の上面11Aの所定位置に載置す
る。このとき、一対の放電電極12,13は、その途中
部分から基端部12A,13A側に向けて絶縁性基板1
1の下面に近づくように傾斜していることで、溝部11
C,11Cの上方に位置する蓋体15の周縁部15Aと
は接触せずに間隙16,16が形成される。
【0026】この状態を維持したまま、真空中におい
て、電子ビームを蓋体15の周縁部15A付近に照射す
ることにより、接合材を加熱して溶融させ、蓋体15の
周縁部15Aと絶縁性基板11の上面11Aとを接合す
る。
【0027】次いで、この間隙16,16に、例えばガ
ラスペースト等の絶縁材ペーストを塗布するが、間隙1
6に塗布されているガラスペーストは、加熱されて溶融
する前には、多くの隙間や孔が存在しており、蓋体15
の内部と外部との通気性を有するものである。そして、
例えば、He,Ar,Ne,Xe,SF6,CO2,C 3
8,C26,CF4,H2及びこれらの混合ガス等の放
電に適した不活性ガス中で加熱することにより、この間
隙16に塗布されているガラスペーストを介して不活性
ガスを蓋体15の内部空間に封入して放電空間を形成す
るとともに、ガラスペーストが溶融して通気性を失い、
間隙16が絶縁材17に閉塞された状態となって封止さ
れる。
【0028】最後に、絶縁性基板11の両端面11B,
11Bに、例えばディッピング法により、端子電極1
8,18を絶縁性基板11の両端面11B、11Bに形
成するとともに、絶縁性基板11の両端面11B,11
Bまで延びる放電電極12,13の基端部12A,13
Aを端子電極18,18に接合して、上記のような構成
のサージアブソーバ10が製造される。
【0029】上記のような製造方法では、電子ビームを
用いて蓋体15を絶縁性基板11に接合することから、
高速加工ができて量産性に優れており、かつ高精度の加
工を行うことができるとともに、局所的な加熱で済むの
で、サージアブソーバ10全体への熱的影響を少なくし
て、優れた特性をもつサージアブソーバ10を得ること
ができる。
【0030】なお、本実施形態においては、蓋体15の
周縁部15Aを絶縁性基板11の上面11Aに接合する
のに、電子ビームを用いたが、これに限定されることな
く、接合材をレーザ光によって加熱するようにしてもよ
いし、さらには、蓋体15の周縁部15Aの形状に対応
した環状のヒータによって、接合材を局所的に加熱する
ようにしてもよい。また、蓋体15の接合作業に電子ビ
ームを用いない場合には、蓋体15の周縁部15Aと絶
縁性基板11の上面11Aとの接合に用いられる接合材
と、蓋体15の周縁部15Aと一対の放電電極12,1
3との間に形成された間隙16,16に埋め込まれた絶
縁材ペーストとを同時に、放電に適した不活性ガス雰囲
気中で加熱して溶融させると、蓋体15の接合作業と、
間隙16の閉塞作業を同時に行うことができて、サージ
アブソーバの製造工程を減少させることができる。
【0031】また、本実施形態においては、一対の放電
電極12,13がその途中部分から基端部12A,13
A側に向かうにしたがい絶縁性基板11の下面に近づく
ように傾斜して、放電電極12,13と蓋体15の周縁
部15Aとの間に間隙16,16が形成されているが、
放電電極12,13と蓋体15の周縁部15Aとの間に
間隙が形成されれば他の構成でもよく、例えば、絶縁性
基板11に放電電極12,13の途中部分から基端部1
2A,13Aに至るまで上面11Aより一段低くなるよ
うに段差を形成するようにして間隙16,16を形成し
てもよいし、さらには、蓋体15の周縁部15Aに、切
り欠きを設けて、放電電極12,13との間に間隙1
6,16が形成されるようにしてもよい。
【0032】さらに、本実施形態では、絶縁性基板11
の上面11Aに一対の溝部11C,11Cを形成するこ
とにより、放電電極12,13と金属製の蓋体15の周
縁部15Aとの間に間隙16,16を形成して、蓋体1
5と放電電極12,13とが電気的に絶縁状態となるよ
うにしたが、これに限定されることなく、例えば、図3
に示すように、絶縁性基板11の上面11Aが平坦面と
されていても、金属製の蓋体15の周縁部15Aと絶縁
性基板11の上面11Aとを接合するのに用いられる接
合材を、例えばガラスペースト等の絶縁性を有する接合
材を用いることで、金属製の蓋体15と放電電極12,
13とを電気的に絶縁するようにしてもよい。
【0033】また、さらに、本実施形態では、蓋体15
全体を金属製としたが、これに限定されることなく、例
えば、図4に示すように、蓋体15を絶縁性材料から構
成して放電電極12,13と電気的に絶縁し、その蓋体
15の内部側の上面に金属材料を蒸着して金属膜15C
を形成することにより、蓋体15が少なくとも放電電極
12,13に対向する部分に金属材料で構成された領域
を有するようにしてもよい。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、互いに相対向する一対
の放電電極により形成される放電間隙において放電して
サージを吸収できるのに加え、放電電極と蓋体の金属製
の領域との間においても、放電を行うことができるの
で、放電電極に与える熱影響が少なくなり、サージアブ
ソーバの寿命の延長を図ることができる。しかも、絶縁
性基板を用いることで全体がチップ形状となり、小型化
及び表面実装を図ることができる。
【0035】また、放電空間を形成する蓋体が金属製で
あることにより、蓋体を安価に製造することができ、サ
ージアブソーバの製造コストを下げることができるま
た、放電電極と蓋体の周縁部との間に間隙が設けられ
て、間隙が絶縁材により閉塞されていることから、この
間隙を利用して不活性ガスを蓋体の内部空間に導入する
ことができるので、不活性ガスの封入を確実に行うこと
ができる。
【0036】しかも、一対の放電電極は、絶縁性基板の
上面に形成された一対の溝部内にそれぞれ設けられると
ともに、蓋体の周縁部の一部が一対の溝部の上方に位置
して間隙が形成されていることから、絶縁性基板の上面
に溝部を形成するだけで、容易に蓋体の周縁部と放電電
極との間に間隙を形成でき、さらに、間隙の閉塞作業
を、溝部内に絶縁材を埋め込むことで容易に行うことが
できる。さらに、放電電極と蓋体の金属材料で構成され
た領域との距離が、0.05〜1.00mmの範囲に設
定されていることから、放電電極と金属製の蓋体との間
で生じる放電に適した距離を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態によるサージアブソーバ
の斜視図である。
【図2】 本発明の実施形態によるサージアブソーバ
の断面図である。
【図3】 本発明の実施形態の第一変形例によるサー
ジアブソーバの断面図である。
【図4】 本発明の実施形態の第二変形例によるサー
ジアブソーバの断面図である。
【図5】 従来のサージアブソーバを示す断面図であ
る。
【符号の説明】
10 サージアブソーバ 11 絶縁性基板 11A 上面 12,13 放電電極 12A,13A 基端部 14 放電間隙 15 蓋体 15A 周縁部 15B 上面 16 間隙 17 絶縁材 18 端子電極

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性基板の上面に、放電間隙を介し
    互いに相対向して一対の放電電極が形成されるととも
    に、これら放電電極の上方空間を囲うように蓋体の周縁
    部が前記絶縁性基板の上面に接合され、該蓋体によって
    形成される内部空間に不活性ガスが封入されたサージア
    ブソーバであって、 前記蓋体は、前記放電電極と電気的に絶縁されていると
    ともに、少なくとも放電電極に対向する部分に金属材料
    で構成された領域を有することを特徴とするサージアブ
    ソーバ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のサージアブソーバに
    おいて、 前記蓋体は金属製とされていることを特徴とするサージ
    アブソーバ。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載のサー
    ジアブソーバにおいて、 前記放電電極と前記蓋体の周縁部との間に間隙が設けら
    れて、該間隙が絶縁材により閉塞されていることを特徴
    とするサージアブソーバ。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載のサージアブソーバに
    おいて、 前記一対の放電電極は、前記絶縁性基板の上面に形成さ
    れた一対の溝部内にそれぞれ設けられ、 前記蓋体は、その周縁部の一部が前記一対の溝部の上方
    に位置し、前記間隙が前記一対の溝部内に形成されてい
    ることを特徴とするサージアブソーバ。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記
    載のサージアブソーバにおいて、 前記放電電極と、前記蓋体の金属材料で構成された領域
    との距離が、0.05〜1.00mmの範囲に設定され
    ていることを特徴とするサージアブソーバ。
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