JP2002258296A - Liquid crystal injection system, liquid crystal injection method and method of manufacturing liquid crystal display - Google Patents
Liquid crystal injection system, liquid crystal injection method and method of manufacturing liquid crystal displayInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、画像表示装置、コ
ンピュータ端末、光学シャッタ等に利用される液晶表示
パネル（液晶装置）の製造方法、液晶表示パネル内に液
晶を注入するための液晶注入システムおよび方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display panel (liquid crystal device) used for an image display device, a computer terminal, an optical shutter and the like, and a liquid crystal injection system for injecting liquid crystal into the liquid crystal display panel. And methods.
【０００２】[0002]
【従来の技術】時計や電卓等の表示用として登場した液
晶表示素子は、画質の向上と大型化に伴い、コンピュー
タ端末や光シャッタ等の表示以外の用途も含めた広い分
野で使用されるようになってきている。液晶表示素子
は、原理的には、電極が形成された基板間に挟持された
液晶に電圧を印加することによって素子を通過する光を
制御する電気光学素子である。2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices that have appeared for displays such as watches and calculators are expected to be used in a wide range of fields including uses other than displays such as computer terminals and optical shutters with the improvement of image quality and size. It is becoming. A liquid crystal display element is, in principle, an electro-optical element that controls light passing through the element by applying a voltage to liquid crystal sandwiched between substrates on which electrodes are formed.
【０００３】このような液晶光学素子を製造する場合に
は、まず、ガラス基板上に形成されたＩＴＯ膜をパター
ンニングして駆動用電極を形成し、電極が形成された面
に液晶配向用の有機膜を印刷焼成により形成するととも
に、有機膜の表面を配向処理する。続いて、配向処理さ
れた２枚のガラス基板同士を一定の間隔（セル厚）をも
って対向させ、シール材（接着剤）で貼り合わせる。そ
の後、貼り合わされたガラス基板を所定のパネル形状に
切断して分離する。そして、最後に、パネル内に液晶を
注入して、パネルを駆動用の回路に接続すれば、液晶光
学素子が完成する。When manufacturing such a liquid crystal optical element, first, a driving electrode is formed by patterning an ITO film formed on a glass substrate, and a liquid crystal alignment film is formed on the surface on which the electrode is formed. An organic film is formed by printing and firing, and the surface of the organic film is subjected to an orientation treatment. Subsequently, the two glass substrates that have been subjected to the alignment treatment are opposed to each other at a certain interval (cell thickness), and are bonded together with a sealing material (adhesive). Thereafter, the bonded glass substrate is cut into a predetermined panel shape and separated. Finally, liquid crystal is injected into the panel, and the panel is connected to a driving circuit, whereby a liquid crystal optical element is completed.
【０００４】ところで、パネル内に液晶を注入する工程
では、一度に複数枚のパネルが真空チャンバ内にセット
され、気圧差によってパネル内に液晶が注入される。パ
ネル内に液晶を注入するシステムの従来例が図５に示さ
れている。図示のように、この液晶注入システム１００
は、所定の真空雰囲気（例えば１０−２〜１０−３Ｔｏ
ｒｒ）に設定される処理室を形成する真空チャンバ１０
２と、チャンバ１０２内に配置され且つ液晶で満たされ
た液晶槽１０４と、液晶槽１０４の上側で複数のパネル
Ｐ（ここでは液晶パネルを複数個取ることができる短冊
パネル）を把持する把持機構１０６と、把持機構１０６
を昇降させる昇降機構１０８とを備えている。チャンバ
１０２には、真空ポンプ１１２と大気とに通じる排気管
１１４が接続されている。また、排気管１１４の途中に
は、排気管１１４の接続状態を真空ポンプ１１２と大気
との間で切り換えるためのバルブ１１６が介挿されてい
る。また、各短冊パネルＰには、２枚の基板が液晶注入
用の注入口１０９を有する複数の開曲線状のシール材１
０３によって貼り合わされることにより、複数のセル構
造（空セル１０７）が形成されている。In the process of injecting liquid crystal into a panel, a plurality of panels are set in a vacuum chamber at a time, and the liquid crystal is injected into the panel due to a pressure difference. FIG. 5 shows a conventional example of a system for injecting liquid crystal into a panel. As shown, this liquid crystal injection system 100
Is a predetermined vacuum atmosphere (for example, 10 −2 to 10 −3 To
vacuum chamber 10 forming a processing chamber set to rr)
2, a liquid crystal tank 104 disposed in the chamber 102 and filled with liquid crystal, and a gripping mechanism for gripping a plurality of panels P (here, strip panels capable of taking a plurality of liquid crystal panels) above the liquid crystal tank 104. 106 and the gripping mechanism 106
And an elevating mechanism 108 for elevating and lowering. An exhaust pipe 114 communicating with the vacuum pump 112 and the atmosphere is connected to the chamber 102. In the middle of the exhaust pipe 114, a valve 116 for switching the connection state of the exhaust pipe 114 between the vacuum pump 112 and the atmosphere is inserted. Also, each strip panel P has a plurality of open-curve sealing materials 1 each having two substrates having an inlet 109 for injecting liquid crystal.
A plurality of cell structures (empty cells 107) are formed by bonding with each other.
【０００５】このような構成の液晶注入システム１００
を使用して、パネルＰ内に液晶を注入する場合には、ま
ず、注入口１０９が液晶槽１０４と対向するように複数
の短冊パネルＰを把持機構１０６にセットする。この
時、パネルＰは、液晶槽１０４内の液晶と接触しないよ
うに、液晶槽１０４の上側で保持される。続いて、真空
ポンプ１１２によってチャンバ１０２内を真空引きし
て、チャンバ１０２内を所定の真空度（例えば１０−２
〜１０−３Ｔｏｒｒ）まで減圧する。チャンバ１０２内
が所定の真空度に達したら、その後、セル１０７内がチ
ャンバ１０２内と略同じ真空度に達するまで、チャンバ
１０２内の真空雰囲気を所定時間維持する。[0005] The liquid crystal injection system 100 having the above-described configuration.
When the liquid crystal is injected into the panel P by using the above, first, the plurality of strip panels P are set on the gripping mechanism 106 such that the injection port 109 faces the liquid crystal tank 104. At this time, the panel P is held above the liquid crystal tank 104 so as not to contact the liquid crystal in the liquid crystal tank 104. Subsequently, the inside of the chamber 102 is evacuated by the vacuum pump 112, so that the inside of the chamber 102 has a predetermined degree of vacuum (for example, 10 −2).
The pressure is reduced to -10 -3 Torr). When the inside of the chamber 102 reaches a predetermined degree of vacuum, the vacuum atmosphere in the chamber 102 is maintained for a predetermined time until the inside of the cell 107 reaches the same degree of vacuum as the inside of the chamber 102.
【０００６】セル１０７内が所定の真空度に達したら、
昇降機構１０８を駆動させて把持機構１０６を下降さ
せ、パネルＰの注入口１０９を液晶槽１０４内の液晶に
接触させる。この状態で、バルブ１１６を切り換えて、
チャンバ１０２内を大気に開放すると、チャンバ１０２
内の大気圧とセル１０７内の真空圧との圧力差によっ
て、液晶が各注入口１０９を通じて各セル１０７内に注
入される。セル１０７内が完全に液晶で満たされたら、
再び昇降機構１０８を駆動させて把持機構１０６を上昇
させるとともに、パネルＰをチャンバ１０２内から取り
出して、注入口１０９を封止材によって封止する。When the inside of the cell 107 reaches a predetermined degree of vacuum,
The lifting mechanism 108 is driven to lower the gripping mechanism 106, and the injection port 109 of the panel P is brought into contact with the liquid crystal in the liquid crystal tank 104. In this state, the valve 116 is switched,
When the inside of the chamber 102 is opened to the atmosphere, the chamber 102
The liquid crystal is injected into each cell 107 through each injection port 109 by a pressure difference between the atmospheric pressure in the inside and the vacuum pressure in the cell 107. When the inside of the cell 107 is completely filled with the liquid crystal,
The lifting mechanism 108 is driven again to raise the gripping mechanism 106, the panel P is taken out of the chamber 102, and the injection port 109 is sealed with a sealing material.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の液
晶注入工程は、チャンバ１０２内を真空引きした後、セ
ル１０７内が真空引きされるまで待機し、その後、セル
１０７の注入口１０９を液晶に接触させてチャンバ１０
２内を大気に開放して、セル１０７内に液晶が充填され
るのを待つといったように、複数のステップを順次に行
なうことによって構成されている。すなわち、これらの
各ステップの所要時間の合計が、液晶注入工程の全所要
時間となっている。As described above, in the conventional liquid crystal injection step, after the inside of the chamber 102 is evacuated, the process waits until the inside of the cell 107 is evacuated, and then the injection port 109 of the cell 107 is closed. The chamber 10 is brought into contact with the liquid crystal.
2 is opened to the atmosphere, and a plurality of steps are sequentially performed such as waiting for the liquid crystal to fill the inside of the cell 107. That is, the total required time of each of these steps is the total required time of the liquid crystal injection step.
【０００８】ところで、液晶注入工程の前記各ステップ
の中で最も時間がかかるステップは、セル１０７内を真
空引きするステップである。チャンバ１０２内を真空引
きするステップは、設定圧が１０−２〜１０−３Ｔｏｒ
ｒの場合、３０秒〜２分程度の所要時間で済むが、１０
μｍ以下のセル厚を有するセル１０７内をこの設定圧付
近まで真空引きするためには、設定圧に維持されたチャ
ンバ内に５〜１０分程度放置する必要がある。そのた
め、サイクルタイムが長く、従来にあっては、前述した
ように複数のパネルＰを一括して処理するバッチ処理に
よって、作業の効率化を図らなければならなかった。す
なわち、注入工程をライン工程に組み込む（枚葉処理化
する）ことができなかった。The most time-consuming step among the above steps of the liquid crystal injection step is a step of evacuating the inside of the cell 107. The step of evacuating the chamber 102 is performed when the set pressure is 10 −2 to 10 −3 Torr.
In the case of r, the required time is about 30 seconds to 2 minutes, but 10
In order to evacuate the inside of the cell 107 having a cell thickness of μm or less to near this set pressure, it is necessary to leave the cell 107 in the chamber maintained at the set pressure for about 5 to 10 minutes. Therefore, the cycle time is long, and conventionally, the work efficiency has to be improved by batch processing for processing a plurality of panels P at once as described above. That is, it was not possible to incorporate the injection step into the line step (to perform single-wafer processing).
【０００９】また、このようにバッチ処理は、大型の真
空チャンバを必要とするため、作業効率を考えると、多
種少量生産には不向きである。圧力差を利用して液晶を
注入するためには、本来は、パネルの内部だけを減圧し
液晶と接触させれば十分であり、チャンバ内まで減圧す
る必要はない。しかし、現状の方式では、パネルの内部
だけを真空引きすることは困難であるため、チャンバ内
の空気まで排気せざるを得ない。そのため、所定の真空
度に達するまでに余計な時間がかかってしまっている。[0009] Further, since batch processing requires a large-sized vacuum chamber as described above, it is unsuitable for production of many kinds and in small quantities in view of work efficiency. In order to inject the liquid crystal using the pressure difference, it is originally sufficient to reduce the pressure only inside the panel and bring it into contact with the liquid crystal, and it is not necessary to reduce the pressure to the inside of the chamber. However, in the current method, it is difficult to evacuate only the inside of the panel, so that the air in the chamber must be exhausted. Therefore, it takes extra time to reach a predetermined degree of vacuum.
【００１０】本発明は前記事情に着目してなされたもの
であり、その目的とするところは、大型のチャンバを必
要とすることなく枚葉処理が可能で、サイクルタイムが
短く作業効率が良好な液晶注入システム、液晶注入方法
および液晶装置の製造方法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to enable single-wafer processing without requiring a large-sized chamber, to have a short cycle time and to improve the working efficiency. An object of the present invention is to provide a liquid crystal injection system, a liquid crystal injection method, and a method of manufacturing a liquid crystal device.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は、２つの基板を貼り合わせることによって
形成されるパネルのセル内に液晶を注入するための液晶
注入システムにおいて、パネルが装填された真空カート
リッジを搬送する搬送系と、搬送系によって搬送される
真空カートリッジ内のパネルに液晶を注入する注入処理
を行なう処理系とを備え、前記搬送系は、パネルを１枚
ずつ真空カートリッジ内にセットするパネル装填ステー
ションと、パネルがセットされた真空カートリッジ内を
真空引きして所定の真空状態に設定する真空引きステー
ションと、真空カートリッジ内にセットされたパネルの
セル内が所定の真空度に達するまで、真空引きされた真
空カートリッジを待機させる待機ステーションとを備
え、前記処理系は、所定の真空雰囲気下で真空カートリ
ッジ内からパネルが取り出されるとともに、パネルのセ
ル内に液晶を注入するために、大気圧もしくは所定の加
圧雰囲気下に晒される、液晶槽を備えたチャンバを備え
ていることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a liquid crystal injection system for injecting liquid crystal into a cell of a panel formed by bonding two substrates. A transport system for transporting the loaded vacuum cartridge; and a processing system for performing an injection process for injecting liquid crystal into panels in the vacuum cartridge transported by the transport system, wherein the transport system includes a vacuum cartridge for each panel. A panel loading station to be set in the vacuum cartridge, a vacuuming station to evacuate the inside of the vacuum cartridge in which the panel is set to set a predetermined vacuum state, and a predetermined degree of vacuum in the cell of the panel set in the vacuum cartridge. A standby station for holding the evacuated vacuum cartridge until the pressure reaches A panel provided with a liquid crystal tank, which is exposed to the atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere in order to take out the panel from the vacuum cartridge under a constant vacuum atmosphere and to inject the liquid crystal into the cell of the panel, is provided. It is characterized by being.
【００１２】上記構成によれば、１つのチャンバ内で複
数のステップを順次に行なうのではなく、真空カートリ
ッジを用いることによりシステムが搬送系と処理系とに
分けられているため、処理系で液晶注入作業を行なって
いる間に、最も時間がかかるセル内の真空引きを真空カ
ートリッジ内で平行して行なうことができる。したがっ
て、短いサイクルタイムで枚葉処理を行なうことができ
るとともに、液晶注入工程をライン工程に組み込むこと
ができる。また、枚葉処理化可能であるため、バッチ処
理用の大型の真空チャンバが不要となる。According to the above configuration, the system is divided into a transport system and a processing system by using a vacuum cartridge instead of sequentially performing a plurality of steps in one chamber. The most time-consuming evacuation in the cell can be performed in parallel in the vacuum cartridge during the injection operation. Therefore, the single-wafer processing can be performed in a short cycle time, and the liquid crystal injection step can be incorporated in the line step. Further, since single-wafer processing can be performed, a large vacuum chamber for batch processing is not required.
【００１３】また、本発明の液晶注入システムは、上記
構成において、搬送系と処理系とで処理が平行して連続
的に行なわれるように、真空カートリッジを各系に搬送
する搬送制御手段を備えていることを特徴とする。この
構成によれば、最も時間がかかるセル内の真空引きを行
なっている間に、パネルを真空雰囲気下に晒す工程およ
びセル内へ液晶を注入する工程が平行して行なわれるた
め、短いサイクルタイムでバッチ処理を行なうことがで
きるとともに、液晶注入工程をライン工程に組み込むこ
とができる。Further, the liquid crystal injection system of the present invention, in the above-described configuration, includes a transfer control means for transferring the vacuum cartridge to each system so that the processing is performed continuously and in parallel in the transfer system and the processing system. It is characterized by having. According to this structure, the step of exposing the panel to a vacuum atmosphere and the step of injecting liquid crystal into the cell are performed in parallel during the evacuation of the cell, which takes the longest time. And a liquid crystal injection step can be incorporated in a line step.
【００１４】また、本発明の液晶注入システムは、上記
構成において、前記待機ステーションには、真空カート
リッジを待機させるための複数のステージが移動可能に
設けられていることを特徴とする。この構成によれば、
順次個別に真空引きされた複数の真空カートリッジを一
括して待機させ、待機されている複数の真空カートリッ
ジを順次個別にチャンバ内に搬入して液晶の注入作業を
行なうことができるため、請求項１に記載されたシステ
ム構成を有効に活用して、サイクルタイムを効率良く短
くすることができる。Further, in the liquid crystal injection system according to the present invention, in the above-mentioned configuration, the standby station is provided with a plurality of movable stages for holding the vacuum cartridges. According to this configuration,
A plurality of vacuum cartridges that have been sequentially evacuated are collectively made to stand by, and the plurality of waiting vacuum cartridges can be sequentially and individually brought into the chamber to perform a liquid crystal injection operation. The cycle time can be efficiently shortened by effectively utilizing the system configuration described in (1).
【００１５】また、本発明の液晶注入システムは、上記
構成において、前記処理系は、所定の真空雰囲気下で真
空カートリッジ内からパネルが取り出される真空チャン
バと、所定の真空雰囲気下で真空チャンバからパネルを
受け入れるとともに、パネルのセル内に液晶を注入する
ために、大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒され
る、液晶槽を備えた注入チャンバとから成ることを特徴
とする。一般に、液晶槽を真空雰囲気下に晒すと、液晶
の中に空気が入って泡が飛ぶため、脱泡されるまで注入
作業を待つ必要があるが、この構成のように、処理系を
真空チャンバと注入チャンバとに分けると、泡飛びを低
減できるとともに、真空チャンバでパネルを抜き取って
このパネルを注入チャンバに受け渡すまでの時間で脱泡
されるため、液晶注入作業を効率的且つ円滑に行なうこ
とが可能になる。Further, in the liquid crystal injection system according to the present invention, in the above-described configuration, the processing system includes a vacuum chamber in which a panel is taken out of a vacuum cartridge under a predetermined vacuum atmosphere, and a panel from the vacuum chamber under a predetermined vacuum atmosphere. And an injection chamber provided with a liquid crystal tank, which is exposed to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere in order to inject liquid crystal into the cells of the panel. In general, when a liquid crystal tank is exposed to a vacuum atmosphere, air enters the liquid crystal and bubbles are blown out, so it is necessary to wait for injection work until the bubbles are removed.However, as in this configuration, the processing system is a vacuum chamber. And the injection chamber can reduce foaming, and can be defoamed in the time required for extracting the panel in the vacuum chamber and transferring the panel to the injection chamber, so that the liquid crystal injection operation can be performed efficiently and smoothly. It becomes possible.
【００１６】また、本発明は、２つの基板を貼り合わせ
ることによって形成されるパネルのセル内に液晶を注入
するための液晶注入方法において、パネルが装填される
内部空間を有する真空カートリッジを順次搬送し、搬送
される各真空カートリッジ内にパネルを１枚ずつセット
し、パネルがセットされた真空カートリッジ内を真空引
きして所定の真空状態に設定し、真空カートリッジ内に
セットされたパネルのセル内が所定の真空度に達するま
で、真空引きされた真空カートリッジを待機させ、パネ
ルのセル内が所定の真空度に達した真空カートリッジを
チャンバ内に搬入し、真空カートリッジが搬入され前記
チャンバを所定の真空状態に設定し、所定の真空状態に
設定された前記チャンバ内で、真空カートリッジ内から
パネルを取り出し、所定の真空状態に設定されたチャン
バ内で、パネルのセルに通じる注入口を、チャンバ内に
設けられた液晶槽の液晶に接触させ、前記注入口を液晶
槽の液晶に接触させた状態で、チャンバを大気圧もしく
は所定の加圧雰囲気下に晒して、パネルのセル内に圧力
差により液晶を注入することを特徴とする。According to the present invention, in a liquid crystal injection method for injecting liquid crystal into a cell of a panel formed by bonding two substrates, a vacuum cartridge having an internal space in which the panel is loaded is sequentially transported. Then, a panel is set one by one in each vacuum cartridge to be conveyed, the inside of the vacuum cartridge in which the panel is set is evacuated to a predetermined vacuum state, and the inside of the cell of the panel set in the vacuum cartridge is set. Until the vacuum reaches a predetermined degree of vacuum, waits for the evacuated vacuum cartridge, loads the vacuum cartridge in which the cells in the panel have reached the predetermined degree of vacuum into the chamber, and loads the vacuum cartridge into the chamber to move the chamber into a predetermined degree. Remove the panel from the vacuum cartridge in the chamber set to the vacuum state and the predetermined vacuum state In a chamber set to a predetermined vacuum state, an inlet communicating with a cell of the panel is brought into contact with liquid crystal in a liquid crystal tank provided in the chamber, and in a state where the inlet is in contact with liquid crystal in the liquid crystal tank, The method is characterized in that the chamber is exposed to the atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, and the liquid crystal is injected into the cell of the panel by a pressure difference.
【００１７】上記構成によれば、１つのチャンバ内で複
数のステップを順次に行なうのではなく、真空カートリ
ッジを用いることによりシステムが搬送系と処理系（チ
ャンバ）とに分けられているため、チャンバで液晶注入
作業を行なっている間に、最も時間がかかるセル内の真
空引きを真空カートリッジ内で平行して行なうことがで
きる。したがって、短いサイクルタイムで枚葉処理を行
なうことができるとともに、液晶注入工程をライン工程
に組み込むことができる。また、枚葉処理化可能である
ため、バッチ処理用の大型の真空チャンバが不要とな
る。According to the above configuration, the system is divided into a transport system and a processing system (chamber) by using a vacuum cartridge instead of sequentially performing a plurality of steps in one chamber. During the liquid crystal injection operation, the evacuation in the cell, which takes the longest time, can be performed in parallel in the vacuum cartridge. Therefore, the single-wafer processing can be performed in a short cycle time, and the liquid crystal injection step can be incorporated in the line step. Further, since single-wafer processing can be performed, a large vacuum chamber for batch processing is not required.
【００１８】また、本発明の液晶注入方法は、上記構成
において、チャンバ内へ１つの真空カートリッジが搬入
される度に、真空引きされた他の真空カートリッジが新
たに待機されることを特徴とする。この構成によれば、
最も時間がかかるセル内の真空引きを行なっている間
に、パネルを真空雰囲気下に晒す工程およびセル内へ液
晶を注入する工程が平行して行なわれるため、短いサイ
クルタイムでバッチ処理を行なうことができるととも
に、液晶注入工程をライン工程に組み込むことができ
る。Further, in the liquid crystal injection method of the present invention, in the above configuration, every time one vacuum cartridge is carried into the chamber, another vacuum cartridge evacuated is newly put on standby. . According to this configuration,
During the evacuation of the cell, which takes the longest time, the process of exposing the panel to a vacuum atmosphere and the process of injecting liquid crystal into the cell are performed in parallel. And the liquid crystal injection step can be incorporated in the line step.
【００１９】また、本発明の液晶注入方法は、上記構成
において、順次個別に真空引きされた複数の真空カート
リッジを一括して待機させ、待機されている複数の真空
カートリッジを順次個別にチャンバ内に搬入して液晶の
注入作業を行なうことを特徴とする。この構成によれ
ば、サイクルタイムを効率良く短くすることができる。Further, in the liquid crystal injection method of the present invention, in the above configuration, a plurality of vacuum cartridges that are individually evacuated are collectively made to stand by, and the plurality of waiting vacuum cartridges are put into the chamber sequentially and individually. It is characterized in that the work is carried in and liquid crystal is injected. According to this configuration, the cycle time can be shortened efficiently.
【００２０】また、本発明の液晶注入方法は、上記構成
において、前記チャンバは、所定の真空状態に設定され
る真空室と、所定の真空雰囲気下で真空室からパネルを
受け入れる液晶槽を備えた注入室とから成り、前記パネ
ルは、所定の真空状態に設定された前記真空室内で、真
空カートリッジ内から取り出された後、所定の真空状態
に設定された注入チャンバ内で、セルに通じる注入口が
液晶槽の液晶に接触され、その接触状態で、注入チャン
バが大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒されること
によってセル内に圧力差により液晶が注入されることを
特徴とする。この構成によれば、泡飛びを低減できると
ともに、真空チャンバでパネルを抜き取ってこのパネル
を注入チャンバに受け渡すまでの時間で脱泡されるた
め、液晶注入作業を効率的且つ円滑に行なうことが可能
になる。Further, in the liquid crystal injection method of the present invention, in the above configuration, the chamber includes a vacuum chamber set to a predetermined vacuum state, and a liquid crystal tank for receiving a panel from the vacuum chamber under a predetermined vacuum atmosphere. An injection chamber, wherein the panel is taken out of a vacuum cartridge in the vacuum chamber set to a predetermined vacuum state, and then to an injection port communicating with a cell in an injection chamber set to a predetermined vacuum state. Is brought into contact with the liquid crystal in the liquid crystal tank, and in this state, the injection chamber is exposed to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, whereby the liquid crystal is injected into the cell due to a pressure difference. According to this configuration, the bubbles can be reduced, and since the bubbles are removed in the time until the panel is extracted in the vacuum chamber and the panel is transferred to the injection chamber, the liquid crystal injection operation can be performed efficiently and smoothly. Will be possible.
【００２１】[0021]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の一実施形態について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２２】一般に、比較的小型の液晶パネルを有する
液晶装置の製造工程においては、図６および図７に示す
多数個取りの製造方法を用いる場合が多い。この製造方
法においては、まず、２枚の母基板１１，１２を図示し
ないシール材によって貼り合わせて図６の（ａ）に示す
大判パネル１１０を形成する。次に、この大判パネル１
１０の母基板１１，１２のそれぞれの表面上に図示Ｘ方
向に延びるスクライブ溝６０ｘ（母基板１１に同様に形
成されたスクライブ溝は図示せず）を形成し（１次スク
ライブ）、これらのスクライブ溝６０ｘに沿って折割力
を加えることによって母基板１１，１２をそれぞれ破断
させ（１次ブレイク）、図６の（ｂ）に示す短冊パネル
Ｐを形成する。Generally, in a manufacturing process of a liquid crystal device having a relatively small liquid crystal panel, a multi-cavity manufacturing method shown in FIGS. 6 and 7 is often used. In this manufacturing method, first, two mother substrates 11 and 12 are bonded together with a sealing material (not shown) to form a large-sized panel 110 shown in FIG. Next, this large format panel 1
A scribe groove 60x (a scribe groove similarly formed on the mother substrate 11 is not shown) extending in the illustrated X direction is formed on each surface of the ten mother substrates 11 and 12 (primary scribe), and these scribes are formed. By applying a breaking force along the groove 60x, the mother substrates 11 and 12 are respectively broken (primary breaks), thereby forming a strip panel P shown in FIG. 6B.
【００２３】この短冊パネルＰを形成すると、母基板１
１，１２を破断させた部分にシール材の開口部が露出す
るので、この開口部から液晶を注入し、その後、開口部
を封止材等によって閉鎖する。When the strip panel P is formed, the mother substrate 1
Since the opening of the sealing material is exposed at the portion where 1 and 12 are broken, liquid crystal is injected through this opening, and then the opening is closed with a sealing material or the like.
【００２４】次に、図６の（ｃ）に示すように、短冊パ
ネルＰを構成する２枚の短冊基板のそれぞれにスクライ
ブ溝６０ｙ（片方の短冊基板に形成されたスクライブ溝
は図示せず）を形成し（２次スクライブ）、これらのス
クライブ溝６０ｙに沿って折割力を加えることによって
２枚の短冊基板を共に破断させ（２次ブレイク）、図６
の（ｄ）に示す液晶パネルを形成する。Next, as shown in FIG. 6C, scribe grooves 60y are formed on each of the two strip substrates constituting the strip panel P (the scribe grooves formed on one of the strip substrates are not shown). (Secondary scribe), and by applying a splitting force along these scribe grooves 60y, the two strip substrates are broken together (secondary break), and FIG.
The liquid crystal panel shown in FIG.
【００２５】図８および図９は、前述のように形成され
た液晶パネルの概略構造を示すものである。液晶パネル
は、基板１４１と基板１４２とがシール材１４３によっ
て貼り合わせられ、シール材１４３の内側であって基板
１４１，１４２の間に液晶１４４が封入されている。こ
こで、液晶注入口１４３ａは封止材１４５によって封鎖
されている。FIGS. 8 and 9 show a schematic structure of the liquid crystal panel formed as described above. In the liquid crystal panel, a substrate 141 and a substrate 142 are attached to each other with a sealant 143, and a liquid crystal 144 is sealed between the substrates 141 and 142 inside the sealant 143. Here, the liquid crystal injection port 143a is closed by a sealing material 145.
【００２６】基板１４１の内面上には透明電極１４６お
よび配向膜１４７が形成され、透明電極１４６はシール
材１４３の外側へ出て基板張出部１４１ａ上に引き出さ
れた配線となっている。また、基板１４２の内面上には
透明電極１４８および配向膜１４９が形成され、透明電
極１４８は図示しない上下導通部（例えば異方性導電体
として形成されたシール材１４３の一部によって構成さ
れる。）を介して基板張出部１４１ａ上の配線に接続さ
れている。A transparent electrode 146 and an alignment film 147 are formed on the inner surface of the substrate 141, and the transparent electrode 146 is a wiring extending outside the sealing material 143 and extending to the substrate overhang 141a. In addition, a transparent electrode 148 and an alignment film 149 are formed on the inner surface of the substrate 142, and the transparent electrode 148 is constituted by a vertically conductive portion (not shown) (for example, a part of a sealing material 143 formed as an anisotropic conductor). .) Is connected to the wiring on the substrate overhang portion 141a.
【００２７】基板張出部１４１ａの表面上には、液晶駆
動回路を構成した半導体チップ１５０が実装される。半
導体チップ１５０は、透明電極１４６，１４８に導通し
た基板張出部１４１ａ上の配線と、基板張出部１４１ａ
の端部に形成された入力端子１５１とに共に導通接続さ
れた状態となっている。ここで、液晶装置の構造に応じ
て、フレキシブルは配線基板を入力端子１５１に導通接
続したり、基板張出部１４１ａの表面をシリコーン樹脂
等の封止材によって封止したりするなどの処理が行なわ
れる。A semiconductor chip 150 constituting a liquid crystal driving circuit is mounted on the surface of the substrate overhang portion 141a. The semiconductor chip 150 includes a wiring on the substrate overhang 141a that is electrically connected to the transparent electrodes 146 and 148, and a wiring on the substrate overhang 141a.
Are electrically connected to an input terminal 151 formed at the end of the 共 に. Here, depending on the structure of the liquid crystal device, flexible processing such as conductive connection of the wiring board to the input terminal 151 and sealing of the surface of the board overhang 141a with a sealing material such as silicone resin are performed. Done.
【００２８】図１は、前述した液晶装置の製造工程のう
ち、短冊パネルｐの基板間に液晶を注入する工程で使用
される本実施形態に係る液晶注入システム１を示してい
る。図示のように、システム１は、短冊パネルＰが装填
された真空カートリッジＣを搬送する搬送系２と、搬送
系２によって搬送されたカートリッジＣ内のパネルＰに
液晶を注入する注入処理を行なう処理系４とを有してい
る。FIG. 1 shows a liquid crystal injection system 1 according to the present embodiment, which is used in a step of injecting liquid crystal between substrates of a strip panel p in a manufacturing process of the above-described liquid crystal device. As illustrated, the system 1 includes a transport system 2 that transports a vacuum cartridge C loaded with strip panels P, and a process of injecting liquid crystal into a panel P in the cartridge C transported by the transport system 2. System 4.
【００２９】パネルＰは、図４に示されるように、２枚
の基板が液晶注入用の注入口ａを有する複数の開曲線状
のシール材ｂによって貼り合わされることにより、複数
のセル構造（空セルｃ）を形成している（したがって、
液晶パネルを複数個取ることができる）。また、カート
リッジＣは、開閉可能に例えば蝶着された断面が凹状の
２つの筐体１２，１４によって箱型に形成されている。
カートリッジＣは、１枚の短冊パネルＰを収容可能な最
小限の内容積を有しており、カートリッジＣ内部の雰囲
気を外部に対して遮断してカートリッジＣ内を所定の真
空度に維持可能なバルブとしての真空カプラ１０を備え
ている。As shown in FIG. 4, the panel P has a plurality of cell structures (a plurality of cell structures (FIG. 4) formed by laminating two substrates with a plurality of open-curve sealing members b having an injection port a for injecting liquid crystal. Empty cell c) (therefore,
You can take multiple liquid crystal panels). The cartridge C is formed in a box shape by two housings 12 and 14 which are openably and closably hinged, for example, and have a concave cross section.
The cartridge C has a minimum internal volume capable of accommodating one strip panel P, and can shut off the atmosphere inside the cartridge C from the outside to maintain the inside of the cartridge C at a predetermined degree of vacuum. A vacuum coupler 10 as a valve is provided.
【００３０】搬送系２は、パネル装填ステーション６
と、真空引きステーション７と、待機ステーション８と
から成る。また、搬送ベルト９がパネル装填ステーショ
ン６と真空引きステーション７とにわたって延びてい
る。この搬送ベルト９は、その動作が制御部１１によっ
て制御され、図示しないカートリッジステージから供給
されるカートリッジＣを支持して各ステーション６，７
へと搬送する。The transport system 2 includes a panel loading station 6
And a vacuuming station 7 and a standby station 8. Further, a transport belt 9 extends over the panel loading station 6 and the evacuation station 7. The operation of the transport belt 9 is controlled by the control unit 11, and the transport belt 9 supports the cartridge C supplied from a cartridge stage (not shown) and
Conveyed to.
【００３１】パネル装填ステーション６には、搬送アー
ム１６が設けられている。この搬送アーム１６は、図示
しない第１のパネルステージから１枚ずつパネルＰを受
け取って、このパネルＰを、搬送ベルト９上に支持され
た開状態の真空カートリッジＣ内にセットする。なお、
搬送アーム１６の動作は制御部１１によって制御され
る。The panel loading station 6 is provided with a transfer arm 16. The transfer arm 16 receives the panels P one by one from a first panel stage (not shown) and sets the panels P in the open vacuum cartridge C supported on the transfer belt 9. In addition,
The operation of the transfer arm 16 is controlled by the control unit 11.
【００３２】真空引きステーション７には、図示しない
真空ポンプに接続された真空引き装置１８が設けられて
いる。この真空引き装置１８は、例えば昇降することに
よって搬送ベルト９上のカートリッジＣの真空カプラ１
０と着脱自在に接続する吸引コネクタ１８ａを有してい
る。なお、真空引き装置１８の動作は制御部１１によっ
て制御される。The vacuuming station 7 is provided with a vacuuming device 18 connected to a vacuum pump (not shown). The evacuation device 18 is, for example, moved up and down by the vacuum coupler 1 of the cartridge C on the conveyor belt 9.
It has a suction connector 18a which is detachably connected to the suction connector 18a. The operation of the evacuation device 18 is controlled by the control unit 11.
【００３３】待機ステーション８は、例えばループを成
して昇降するエレベータとして構成されている。待機ス
テーション８はカートリッジＣを支持する所定数のステ
ージ１９を有しており、これらのステージ１９は、搬送
ベルト９からカートリッジＣを受け取る例えば下側のカ
ートリッジ搬入位置と、処理系４の後述する第１の作業
アーム２５にカートリッジＣを受け渡す例えば上側の搬
出位置との間で、図示しない昇降機構によりループ状に
昇降動作される。なお、昇降機構によるステージ１９の
昇降動作は制御部１１によって制御される。The waiting station 8 is configured as an elevator that moves up and down in a loop, for example. The standby station 8 has a predetermined number of stages 19 for supporting the cartridges C. These stages 19 are, for example, a lower cartridge loading position for receiving the cartridges C from the transport belt 9 and a later-described third position of the processing system 4. The cartridge C is transferred to, for example, the upper unloading position where the cartridge C is transferred to one work arm 25, and is moved up and down in a loop by a lifting mechanism (not shown). The raising and lowering operation of the stage 19 by the raising and lowering mechanism is controlled by the control unit 11.
【００３４】処理系４は、内部を所定の真空度に設定可
能なハウジング２０を有している。ハウジン２０内は、
開閉可能な第２のゲートＧ２によって、真空チャンバ２
２と注入チャンバ２４とに区画されている。また、ハウ
ジング２０は、真空チャンバ２２に対してカートリッジ
Ｃが搬出入される開閉可能な第１の開閉ゲートＧ１と、
注入チャンバ２４からパネルＰが搬出される開閉可能な
第３のゲートＧ３とを有している。更に、ハウジング２
０には、真空ポンプ２１に通じる排気管２９が接続され
ている。The processing system 4 has a housing 20 whose inside can be set to a predetermined degree of vacuum. Inside the house 20
The second chamber G2 that can be opened and closed allows the vacuum chamber 2
2 and an injection chamber 24. Further, the housing 20 includes a first openable / closable gate G1 for opening / closing the cartridge C to / from the vacuum chamber 22,
And a third gate G3, which can be opened and closed, through which the panel P is carried out from the injection chamber 24. Further, the housing 2
To 0, an exhaust pipe 29 leading to the vacuum pump 21 is connected.
【００３５】真空チャンバ２２はカートリッジＣを支持
する支持台３０を有している。また、真空チャンバ２２
は、例えばその天井部に形成された第１の搬送レール２
３に沿って移動可能な第１の作業アーム２５を有してい
る。第１の搬送レール２３は、例えば、真空チャンバ２
２から待機ステーション８に向けて延びている。また、
第１の搬送レール２３上を移動する第１の作業アーム２
５は、真空チャンバ２２内でカートリッジＣからパネル
Ｐを取り出すとともに、待機ステーション８のステージ
１９と真空チャンバ２２との間でカートリッジＣを搬送
する。The vacuum chamber 22 has a support 30 for supporting the cartridge C. Also, the vacuum chamber 22
Is, for example, a first transfer rail 2 formed on a ceiling portion thereof.
3 has a first working arm 25 movable along. The first transfer rail 23 is, for example, a vacuum chamber 2
2 to a standby station 8. Also,
First work arm 2 moving on first transfer rail 23
5 removes the panel P from the cartridge C in the vacuum chamber 22 and transports the cartridge C between the stage 19 of the standby station 8 and the vacuum chamber 22.
【００３６】また、注入チャンバ２４内には、液晶で満
たされた液晶槽２６が設けられている。また、注入チャ
ンバ２４は、例えばその天井部に形成された第２の搬送
レール２８に沿って移動可能で且つ昇降可能な第２の作
業アーム２７を有している。第２の搬送レール２８は、
例えば、注入チャンバ２２から第３のゲートＧ３を超え
て延びている。また、第２の搬送レール２８上を移動し
て昇降する第２の作業アーム２７は、第１の作業アーム
２５からパネルＰを受け取ってパネルＰの注入口ａを液
晶槽２６内の液晶に接触させるとともに、液晶が注入さ
れたパネルＰを注入チャンバから外側の大気雰囲気へと
搬出して図示しない次のライン工程の第２のパネルステ
ージに受け渡す。A liquid crystal tank 26 filled with liquid crystal is provided in the injection chamber 24. Further, the injection chamber 24 has a second work arm 27 which is movable along a second transfer rail 28 formed on the ceiling thereof and which can be moved up and down, for example. The second transport rail 28
For example, it extends from the injection chamber 22 beyond the third gate G3. Further, the second work arm 27 that moves on the second transport rail 28 and moves up and down receives the panel P from the first work arm 25 and makes the inlet a of the panel P contact the liquid crystal in the liquid crystal tank 26. At the same time, the panel P into which the liquid crystal has been injected is carried out from the injection chamber to the outside air atmosphere and delivered to the second panel stage in the next line process (not shown).
【００３７】なお、作業アーム２５，２７の動作、ゲー
トＧ１，Ｇ２，Ｇ３の開閉動作、真空ポンプ２１の動作
は、制御部１１によって制御される。The operation of the working arms 25 and 27, the opening and closing operations of the gates G1, G2 and G3, and the operation of the vacuum pump 21 are controlled by the control unit 11.
【００３８】次に、図２および図３のフローチャートを
参照しながら、上記構成の液晶注入システム１の動作の
一例について説明する。なお、以下の一連の動作は全て
制御部１１によって自動制御される。Next, an example of the operation of the liquid crystal injection system 1 having the above configuration will be described with reference to the flowcharts of FIGS. The following series of operations are all automatically controlled by the control unit 11.
【００３９】まず、搬送系２の動作について図２を参照
しながら説明する。First, the operation of the transport system 2 will be described with reference to FIG.
【００４０】例えばシステム１のスタートスイッチが押
されると、図示しないカートリッジステージから搬送ベ
ルト９上に真空カートリッジＣが開かれた状態で供給さ
れる（ステップＳ１）。続いて、搬送ベルト９は、供給
されたカートリッジＣを支持しながらパネル装填ステー
ション６へと搬送する（ステップＳ２）。カートリッジ
Ｃがパネル装填ステーション６に搬送されると、搬送ア
ーム１６は、図示しない第１のパネルステージから１枚
ずつパネルＰを受け取って、このパネルＰを、搬送ベル
ト９上に支持された開状態の真空カートリッジＣ内にセ
ットする（ステップＳ３）とともに、真空カートリッジ
Ｃの２つの筐体１２，１４を閉じてカートリッジＣを密
封する。For example, when the start switch of the system 1 is pressed, the vacuum cartridge C is supplied from the cartridge stage (not shown) onto the conveyor belt 9 in an opened state (step S1). Subsequently, the transport belt 9 transports the supplied cartridge C to the panel loading station 6 while supporting the cartridge C (Step S2). When the cartridge C is transported to the panel loading station 6, the transport arm 16 receives the panels P one by one from a first panel stage (not shown), and places the panels P in the open state supported on the transport belt 9. (Step S3), and the two casings 12, 14 of the vacuum cartridge C are closed to seal the cartridge C.
【００４１】パネルＰがセットされた密閉状態の真空カ
ートリッジＣは、その後、搬送ベルト９によって再び搬
送されて、真空引きステーション７へと送られる（ステ
ップＳ４）。真空引きステーション７の所定の位置にカ
ートリッジＣが位置されると、真空引き装置１８が作動
して、吸引コネクタ１８ａがカートリッジＣの真空カプ
ラ１０に接続される。この状態で、図示しない真空ポン
プにより、カートリッジＣ内が例えば１分間真空引きさ
れる（ステップＳ５）。このような真空引き動作によっ
て、カートリッジＣ内が所定の真空度（例えば１０−２
〜１０−３Ｔｏｒｒ）に達したら、吸引コネクタ１８ａ
がカートリッジＣの真空カプラ１０から取り外される。
この時、真空カプラ１０の弁作用により、カートリッジ
Ｃ内の真空度は維持される。The sealed vacuum cartridge C on which the panel P is set is then transported again by the transport belt 9 and sent to the evacuation station 7 (step S4). When the cartridge C is located at a predetermined position of the evacuation station 7, the evacuation device 18 is operated, and the suction connector 18a is connected to the vacuum coupler 10 of the cartridge C. In this state, the inside of the cartridge C is evacuated, for example, for one minute by a vacuum pump (not shown) (step S5). By such a vacuuming operation, the inside of the cartridge C has a predetermined degree of vacuum (for example, 10 −2).
Upon reaching to 10 -3 Torr), the suction connector 18a
Is removed from the vacuum coupler 10 of the cartridge C.
At this time, the degree of vacuum in the cartridge C is maintained by the valve action of the vacuum coupler 10.
【００４２】真空引きが完了したカートリッジＣは、再
び、搬送ベルト９により搬送されて、待機ステーション
８へと送られる。この時、例えば処理系４の真空チャン
バ２２内にカートリッジＣが搬入されたか否かが検知さ
れ、あるいは、待機ステーション８のステージ１９に空
きがあるか否かが検知され（ステップＳ６）、その結果
が肯定的である場合には、空きステージ１９に真空引き
が完了したカートリッジＣが装填される（ステップＳ
７）。また、否定的である場合には、処理系４の真空チ
ャンバ２２内にカートリッジＣが搬入されるまで（待機
ステーション８のステージ１９に空きができるまで）待
機する。なお、ステージ１９へのカートリッジＣの装填
は、搬送ベルト９の駆動もしくは図示しない装填装置に
よって行われる。The cartridge C for which the evacuation has been completed is again conveyed by the conveyor belt 9 and sent to the standby station 8. At this time, for example, it is detected whether or not the cartridge C has been loaded into the vacuum chamber 22 of the processing system 4, or it is detected whether or not the stage 19 of the standby station 8 has an empty space (step S6). Is affirmative, the empty stage 19 is loaded with the cartridge C whose evacuation has been completed (step S).
7). If the result is negative, the process stands by until the cartridge C is loaded into the vacuum chamber 22 of the processing system 4 (until the stage 19 of the standby station 8 becomes empty). The loading of the cartridge C onto the stage 19 is performed by driving the transport belt 9 or a loading device (not shown).
【００４３】待機ステーション８では、処理系４の真空
チャンバ２２内にカートリッジＣが搬入される毎に、カ
ートリッジＣが装填されたステージ１９が処理系４に向
けて上昇される。この動作により、空きステージ１９が
搬送ベルト９と対向する下側のカートリッジ搬入位置に
位置されるとともに、次に注入処理されるべきパネルＰ
を有するカートリッジＣ（真空チャンバ２２内に搬入さ
れる段階では、既にパネルＰのセルｃ内が所定の真空度
（例えば１０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ）に達しているカ
ートリッジＣ）が真空チャンバ２２の第１のゲートＧ１
と対向する上側のカートリッジ搬出位置に位置される。In the standby station 8, every time the cartridge C is carried into the vacuum chamber 22 of the processing system 4, the stage 19 loaded with the cartridge C is raised toward the processing system 4. With this operation, the empty stage 19 is positioned at the lower cartridge carry-in position facing the conveyor belt 9, and the panel P to be subjected to the next injection process is set.
(At the stage of being carried into the vacuum chamber 22), the cartridge C in which the inside of the cell c of the panel P has already reached a predetermined degree of vacuum (for example, 10 −2 to 10 −3 Torr) is applied to the vacuum chamber 22. First gate G1
Is located at the upper cartridge unloading position opposite to.
【００４４】本実施形態では、カートリッジＣが待機ス
テーション８に待機されている間（カートリッジＣが真
空引きされてから処理系４に搬入されるまでの間）に、
セルｃ内が所定の真空度に達するように待機時間および
処理間隔（待機ステーション８のカートリッジＣを真空
チャンバ２２内に搬入する時間間隔…サイクルタイム）
が設定されている。すなわち、例えばセルｃ内が５分の
待機状態で所定の真空度に達し且つ真空チャンバ２２内
が１分で所定の真空度に達する場合には、１分のサイク
ルタイムを実現するために、５つのカートリッジＣを常
に待機ステーション８に待機させるようにしている（セ
ルｃ内が１０分の待機状態で所定の真空度に達する場合
には、１分のサイクルタイムを実現するために、１０個
のカートリッジＣを常に待機ステーション８に待機させ
ておけば良い）。In this embodiment, while the cartridge C is waiting at the standby station 8 (between the time when the cartridge C is evacuated and the time when the cartridge C is carried into the processing system 4),
Standby time and processing interval so that the inside of the cell c reaches a predetermined degree of vacuum (time interval for loading the cartridge C of the standby station 8 into the vacuum chamber 22: cycle time)
Is set. That is, for example, when the inside of the cell c reaches a predetermined degree of vacuum in a standby state of 5 minutes and the inside of the vacuum chamber 22 reaches a predetermined degree of vacuum in one minute, a cycle time of 5 minutes is realized in order to realize a cycle time of 1 minute. (When the inside of the cell c reaches a predetermined degree of vacuum in a standby state of 10 minutes, 10 cartridges C are realized in order to realize a cycle time of 1 minute.) The cartridge C may be always kept in the waiting station 8).
【００４５】次に、処理系４の動作について図３を参照
しながら説明する。Next, the operation of the processing system 4 will be described with reference to FIG.
【００４６】例えばシステム１のスタートスイッチが押
されると、セルｃ内が所定の真空度に達したパネルＰを
有するカートリッジＣが、待機ステーション８のカート
リッジ搬出位置に位置されているか否かが検知される
（ステップＳ１）。その結果が否定的である場合には待
機状態に設定されるとともに、肯定的である場合には、
第１の搬送レール２３に沿って移動する第１の作業アー
ム２５によって、カートリッジ搬出位置に位置するカー
トリッジＣが、ステージ１９上から、開放された第１の
ゲートＧ１を通じて、真空チャンバ２２内に搬入される
（ステップＳ２）。For example, when the start switch of the system 1 is pressed, it is detected whether or not the cartridge C having the panel P in which the inside of the cell c has reached a predetermined vacuum degree is located at the cartridge discharge position of the standby station 8. (Step S1). If the result is negative, the standby state is set, and if the result is positive, the standby state is set.
The cartridge C located at the cartridge unloading position is loaded into the vacuum chamber 22 from the stage 19 through the opened first gate G1 by the first work arm 25 moving along the first transport rail 23. Is performed (step S2).
【００４７】カートリッジＣが真空チャンバ２２内に搬
入されると、第１のゲートＧ１が閉じられ（ステップＳ
３）、第１の作業アーム２５によってカートリッジＣが
支持台３０上に支持される。その状態で、今度は、真空
ポンプ２１が作動して、真空チャンバ２２内が例えば１
分間真空引きされる（ステップＳ４）。この時、開放さ
れた第２のゲートＧ２を通じて、注入チャンバ２４内も
真空引きされる（無論、この真空引き段階では、第３の
ゲートＧ３は閉じられている）。When the cartridge C is loaded into the vacuum chamber 22, the first gate G1 is closed.
3) The cartridge C is supported on the support 30 by the first working arm 25. In this state, the vacuum pump 21 is operated, and the inside of the vacuum
It is evacuated for a minute (step S4). At this time, the interior of the injection chamber 24 is also evacuated through the opened second gate G2 (of course, the third gate G3 is closed at this evacuation stage).
【００４８】このような真空引き動作によって、真空チ
ャンバ２２および注入チャンバ２４内が所定の真空度
（例えば１０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ）に達したら（ス
テップＳ５）、第１の作業アーム２５によってカートリ
ッジＣ内からパネルＰが取り出される（ステップＳ
６）。その後、第１の作業アーム２５は、第２の搬送レ
ール２８に沿って移動する第２の作業アーム２７にパネ
ルＰを受け渡す（ステップＳ７）。When the insides of the vacuum chamber 22 and the injection chamber 24 reach a predetermined degree of vacuum (for example, 10 −2 to 10 −3 Torr) by such a vacuuming operation (step S 5), the first work arm 25 uses the vacuum. The panel P is taken out of the cartridge C (Step S)
6). Then, the first work arm 25 transfers the panel P to the second work arm 27 that moves along the second transport rail 28 (Step S7).
【００４９】パネルＰが第２の作業アーム２７に受け渡
されて注入チャンバ２４内に搬入されたら、第２のゲー
トＧ２が閉じられる（ステップＳ８）。第２のゲートＧ
２が閉じられると、第２の作業アーム２７が下降して、
第２の作業アーム２７によって保持されたパネルＰの注
入口ａが真空下で液晶槽２６内の液晶に接触される（ス
テップＳ９）。When the panel P is delivered to the second working arm 27 and carried into the injection chamber 24, the second gate G2 is closed (step S8). Second gate G
2 is closed, the second working arm 27 is lowered,
The injection port a of the panel P held by the second working arm 27 is brought into contact with the liquid crystal in the liquid crystal tank 26 under vacuum (step S9).
【００５０】注入口ａが液晶に接触されると、第３のゲ
ートＧ３が開放され（ステップＳ１０）、注入チャンバ
２４内が大気に開放される。これにより、注入チャンバ
２４内の大気圧とセルｃ内の真空圧との圧力差によっ
て、液晶が各注入口ａを通じて各セルｃ内に注入されて
いく。そして、この状態のまま待機し（ステップ１
１）、セルｃ内が完全に液晶で満たされたら（ステップ
Ｓ１２）、第２の作業アーム２７が上昇され、液晶で満
たされたパネルＰは、第２の作業アーム２７により、開
放された第３のゲートＧ３を通じて注入チャンバ２４か
ら搬出され、図示しない次のライン工程の第２のパネル
ステージに引き渡される（ステップＳ１３）。その後、
第３のゲートＧ３が閉じられ、第２のゲートＧ２が開放
されて、次のパネルＰの処理に備える（ステップＳ１
４）。なお、真空チャンバ２２内に残された空のカート
リッジＣは、パネルＰが注入チャンバ２４内に搬入され
て第２のゲートＧ２が閉じられた段階で、開放される第
１のゲートＧ１を通じて、第１の作業アーム２５等によ
り図示しないカートリッジステージへと引き渡される。When the injection port a comes into contact with the liquid crystal, the third gate G3 is opened (step S10), and the interior of the injection chamber 24 is opened to the atmosphere. Thereby, the liquid crystal is injected into each cell c through each injection port a due to the pressure difference between the atmospheric pressure in the injection chamber 24 and the vacuum pressure in the cell c. Then, it waits in this state (step 1).
1) When the inside of the cell c is completely filled with the liquid crystal (step S12), the second working arm 27 is raised, and the panel P filled with the liquid crystal is opened by the second working arm 27. Then, the wafer is unloaded from the injection chamber 24 through the third gate G3 and delivered to the second panel stage in the next line process (not shown) (step S13). afterwards,
The third gate G3 is closed and the second gate G2 is opened to prepare for the processing of the next panel P (step S1).
4). The empty cartridge C left in the vacuum chamber 22 passes through the first gate G1 which is opened when the panel P is carried into the injection chamber 24 and the second gate G2 is closed. It is delivered to a cartridge stage (not shown) by one work arm 25 or the like.
【００５１】以上説明したように、本実施形態の液晶注
入システム１は、パネルＰを１枚ずつ真空カートリッジ
Ｃ内にセットするパネル装填ステーション６と、パネル
Ｐがセットされた真空カートリッジＣ内を真空引きして
所定の真空状態に設定する真空引きステーション７と、
真空カートリッジＣ内にセットされたパネルＰのセル内
が所定の真空度に達するまで、真空引きされた真空カー
トリッジＣを待機させる待機ステーション８とを有する
搬送系２を備えるとともに、所定の真空雰囲気下で真空
カートリッジＣ内からパネルを取り出して液晶注入処理
を行なう処理系４を備えている。しかも、搬送系２と処
理系４とで処理が平行して連続的に行なわれるように、
真空カートリッジＣが各系２，４に搬送される。すなわ
ち、１つのチャンバ内で複数のステップを順次に行なう
のではなく、カートリッジＣを用いることによりシステ
ム１を搬送系２と処理系４とに分け、処理系４で液晶注
入作業を行なっている間に、最も時間がかかるセルｃ内
の真空引きをカートリッジＣ内で平行して行なうように
している。したがって、短いサイクルタイムで枚葉処理
を行なうことができるとともに、液晶注入工程をライン
工程に組み込むことができる。また、枚葉処理化可能で
あるため、バッチ処理用の大型の真空チャンバが不要と
なる。As described above, in the liquid crystal injection system 1 of the present embodiment, the panel loading station 6 in which the panels P are set one by one in the vacuum cartridge C, and the vacuum in the vacuum cartridge C in which the panels P are set are evacuated. Evacuation station 7 for evacuation and setting to a predetermined vacuum state;
A transfer system 2 having a standby station 8 for holding the evacuated vacuum cartridge C until the inside of the cell of the panel P set in the vacuum cartridge C reaches a predetermined degree of vacuum; And a processing system 4 for taking out the panel from the vacuum cartridge C and performing a liquid crystal injection process. In addition, the processing is performed in parallel in the transport system 2 and the processing system 4 so as to be continuously performed.
The vacuum cartridge C is transported to each of the systems 2 and 4. That is, the system 1 is divided into the transport system 2 and the processing system 4 by using the cartridge C instead of sequentially performing a plurality of steps in one chamber. Then, the evacuation in the cell c, which takes the longest time, is performed in parallel in the cartridge C. Therefore, the single-wafer processing can be performed in a short cycle time, and the liquid crystal injection step can be incorporated in the line step. Further, since single-wafer processing can be performed, a large vacuum chamber for batch processing is not required.
【００５２】また、一般に、液晶槽２６を真空雰囲気下
に晒すと、液晶の中に空気が入って泡が飛ぶため、脱泡
されるまで注入作業を待つ必要があるが、本実施形態の
ように、真空ポンプ２１の吸引力が直接に作用する真空
チャンバ２２から注入チャンバ２４を分けると、泡飛び
を低減できるとともに、真空チャンバ２２でパネルＰを
抜き取ってこのパネルＰを第１の作業アーム２５から第
２の作業アーム２７に受け渡すまでの時間で脱泡される
ため、液晶注入作業を効率的且つ円滑に行なうことが可
能になる。しかしながら、真空チャンバ２２と注入チャ
ンバ２４とに分けることなく、カートリッジＣからのパ
ネルＰの取り出しおよび液晶注入作業を１つのチャンバ
内で行なっても良い。なお、本実施形態において、液晶
注入を真空中で所定の高温下で行なうと、液晶が効率良
く注入される。また、本実施形態では、注入チャンバ２
４が大気に開放される（晒される）が、 所定の加圧雰
囲気に晒されるようになっていても良い。In general, when the liquid crystal tank 26 is exposed to a vacuum atmosphere, air enters into the liquid crystal and bubbles are blown out. Therefore, it is necessary to wait for the filling operation until the bubbles are removed. In addition, when the injection chamber 24 is separated from the vacuum chamber 22 where the suction force of the vacuum pump 21 directly acts, the bubble flying can be reduced, and the panel P is extracted from the vacuum chamber 22 and the panel P is connected to the first working arm 25. Since the air bubbles are removed in the time from transfer to the second work arm 27, the liquid crystal injection work can be performed efficiently and smoothly. However, the operation of taking out the panel P from the cartridge C and injecting the liquid crystal may be performed in one chamber without dividing into the vacuum chamber 22 and the injection chamber 24. In this embodiment, when the liquid crystal is injected at a predetermined high temperature in a vacuum, the liquid crystal is injected efficiently. In the present embodiment, the injection chamber 2
4 is opened (exposed) to the atmosphere, but may be exposed to a predetermined pressurized atmosphere.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶注入
システムおよび液晶注入方法は、大型のチャンバを必要
とすることなく枚葉処理が可能で、サイクルタイムが短
く作業効率が良好である。As described above, the liquid crystal injection system and the liquid crystal injection method of the present invention can perform single-wafer processing without requiring a large-sized chamber, and have a short cycle time and good work efficiency.
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶注入システムの
概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal injection system according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１のシステムの搬送系の動作を示すフローチ
ャートである。FIG. 2 is a flowchart showing an operation of a transport system of the system of FIG.
【図３】図１のシステムの処理系の動作を示すフローチ
ャートである。FIG. 3 is a flowchart showing an operation of a processing system of the system of FIG. 1;
【図４】パネルの平面図である。FIG. 4 is a plan view of the panel.
【図５】従来の液晶注入システムの概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional liquid crystal injection system.
【図６】液晶装置の製造方法の主要工程におけるパネル
外観を示す概略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing a panel appearance in main steps of a method for manufacturing a liquid crystal device.
【図７】液晶装置の製造方法の主要工程を示す概略工程
図である。FIG. 7 is a schematic process diagram illustrating main steps of a method for manufacturing a liquid crystal device.
【図８】液晶パネルの構造を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the structure of the liquid crystal panel.
【図９】液晶パネルの構造を示す概略断面図である。FIG. 9 is a schematic sectional view showing the structure of a liquid crystal panel.
１…液晶注入システム ２…搬送系 ４…処理系 ６…パネル装填ステーション ７…真空引きステーション ８…待機ステーション ２２…真空チャンバ ２４…注入チャンバ ２６…液晶槽 Ｃ…真空カートリッジ Ｐ…パネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal injection system 2 ... Transport system 4 ... Processing system 6 ... Panel loading station 7 ... Vacuuming station 8 ... Stand-by station 22 ... Vacuum chamber 24 ... Injection chamber 26 ... Liquid crystal tank C ... Vacuum cartridge P ... Panel
Claims (13)
形成されるパネルのセル内に液晶を注入するための液晶
注入システムにおいて、 前記パネルが装填された真空カートリッジを搬送する搬
送系と、この搬送系によって搬送される前記真空カート
リッジ内の前記パネルに液晶を注入する注入処理を行な
う処理系とを備え、 前記搬送系は、前記パネルを１枚ずつ前記真空カートリ
ッジ内にセットするパネル装填ステーションと、前記パ
ネルがセットされた前記真空カートリッジ内を真空引き
して所定の真空状態に設定する真空引きステーション
と、前記真空カートリッジ内にセットされた前記パネル
のセル内が前記所定の真空度に達するまで、真空引きさ
れた前記真空カートリッジを待機させる待機ステーショ
ンとを備え、 前記処理系は、前記所定の真空雰囲気下で前記真空カー
トリッジ内から前記パネルが取り出されるとともに、前
記パネルのセル内に液晶を注入するために、大気圧もし
くは所定の加圧雰囲気下に晒される、液晶槽を備えたチ
ャンバを備えていることを特徴とする液晶注入システ
ム。1. A liquid crystal injection system for injecting liquid crystal into a cell of a panel formed by bonding two substrates, a transport system for transporting a vacuum cartridge loaded with the panel, and the transport system. A processing system that performs an injection process of injecting liquid crystal into the panel in the vacuum cartridge conveyed by the panel, the conveyance system includes a panel loading station that sets the panels one by one in the vacuum cartridge, A vacuuming station for evacuating the inside of the vacuum cartridge in which the panel is set to set a predetermined vacuum state, and a vacuum until the inside of the cell of the panel set in the vacuum cartridge reaches the predetermined degree of vacuum. A standby station for holding the pulled vacuum cartridge, wherein the processing system A liquid crystal tank which is exposed to the atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere in order to take out the panel from the inside of the vacuum cartridge under the predetermined vacuum atmosphere and to inject liquid crystal into a cell of the panel; A liquid crystal injection system comprising a chamber.
して連続的に行なわれるように、前記真空カートリッジ
を前記各系に搬送する搬送制御手段を備えていることを
特徴とする請求項１に記載の液晶注入システム。2. A transport control means for transporting the vacuum cartridge to each of the systems so that processing is continuously and continuously performed in the transport system and the processing system. Item 4. A liquid crystal injection system according to item 1.
ートリッジを待機させるための複数のステージが移動可
能に設けられていることを特徴とする請求項１または請
求項２に記載の液晶注入システム。3. The liquid crystal injecting system according to claim 1, wherein a plurality of stages for holding the vacuum cartridge are movably provided in the standby station.
で前記真空カートリッジ内から前記パネルが取り出され
る真空チャンバと、前記所定の真空雰囲気下で前記真空
チャンバから前記パネルを受け入れるとともに、前記パ
ネルのセル内に液晶を注入するために、大気圧もしくは
所定の加圧雰囲気下に晒される、液晶槽を備えた注入チ
ャンバとから成ることを特徴とする請求項１ないし請求
項３のいずれか１項に記載の液晶注入システム。4. The processing system includes: a vacuum chamber in which the panel is taken out of the vacuum cartridge under the predetermined vacuum atmosphere; a processing chamber receiving the panel from the vacuum chamber under the predetermined vacuum atmosphere; 4. An injection chamber provided with a liquid crystal tank, which is exposed to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere in order to inject liquid crystal into said cell. The liquid crystal injection system according to the paragraph.
形成されるパネルのセル内に液晶を注入するための液晶
注入方法において、 前記パネルが装填される内部空間を有する真空カートリ
ッジを順次搬送し、 搬送される前記各真空カートリッジ内に前記パネルを１
枚ずつセットし、 前記パネルがセットされた前記真空カートリッジ内を真
空引きして所定の真空状態に設定し、 前記真空カートリッジ内にセットされた前記パネルのセ
ル内が前記所定の真空度に達するまで、真空引きされた
前記真空カートリッジを待機させ、 前記パネルのセル内が前記所定の真空度に達した前記真
空カートリッジをチャンバ内に搬入し、 前記真空カートリッジが搬入され前記チャンバを所定の
真空状態に設定し、 所定の真空状態に設定された前記チャンバ内で、前記真
空カートリッジ内から前記パネルを取り出し、 前記所定の真空状態に設定された前記チャンバ内で、前
記パネルのセルに通じる注入口を、前記チャンバ内に設
けられた液晶槽の液晶に接触させ、 前記注入口を前記液晶槽の液晶に接触させた状態で、前
記チャンバを大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒し
て、前記パネルのセル内に圧力差により液晶を注入する
ことを特徴とする液晶注入方法。5. A liquid crystal injection method for injecting liquid crystal into a cell of a panel formed by bonding two substrates, wherein the vacuum cartridge having an internal space in which the panel is loaded is sequentially transferred, and the transfer is performed. Place the panel in each of the vacuum cartridges
The vacuum cartridge in which the panel is set is evacuated and set to a predetermined vacuum state, and the inside of the cell of the panel set in the vacuum cartridge reaches the predetermined degree of vacuum. Holding the evacuated vacuum cartridge, loading the vacuum cartridge in which the inside of the cell of the panel has reached the predetermined degree of vacuum into the chamber, and loading the vacuum cartridge to bring the chamber into a predetermined vacuum state. Setting, in the chamber set in a predetermined vacuum state, take out the panel from inside the vacuum cartridge, and in the chamber set in the predetermined vacuum state, an injection port communicating with a cell of the panel, The liquid crystal of the liquid crystal tank provided in the chamber was brought into contact with the liquid crystal, and the injection port was brought into contact with the liquid crystal of the liquid crystal tank, A liquid crystal injection method, comprising exposing a chamber to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, and injecting liquid crystal into a cell of the panel by a pressure difference.
リッジが搬入される度に、真空引きされた他の真空カー
トリッジが新たに待機されることを特徴とする請求項５
に記載の液晶注入方法。6. The apparatus according to claim 5, wherein each time one of said vacuum cartridges is carried into said chamber, another vacuum cartridge that has been evacuated is newly put on standby.
3. The liquid crystal injection method according to 1.
ートリッジを一括して待機させ、待機されている複数の
真空カートリッジを順次個別に前記チャンバ内に搬入し
て液晶の注入作業を行なうことを特徴とする請求項５ま
たは請求項６に記載の液晶注入方法。7. A plurality of vacuum cartridges that are sequentially evacuated are collectively put on standby, and a plurality of vacuum cartridges on standby are sequentially loaded individually into the chamber to perform a liquid crystal injection operation. 7. The liquid crystal injection method according to claim 5, wherein the liquid crystal is injected.
される真空室と、所定の真空雰囲気下で真空室からパネ
ルを受け入れる液晶槽を備えた注入室とから成り、 前記パネルは、前記所定の真空状態に設定された前記真
空室内で、前記真空カートリッジ内から取り出された
後、前記所定の真空状態に設定された前記注入室内で、
セルに通じる前記注入口が前記液晶槽の液晶に接触さ
れ、その接触状態で、前記注入室が大気圧もしくは所定
の加圧雰囲気下に晒されることによってセル内に圧力差
により液晶が注入されることを特徴とする請求項５ない
し請求項７のいずれか１項に記載の液晶注入方法。8. The chamber comprises: a vacuum chamber set to a predetermined vacuum state; and an injection chamber including a liquid crystal tank that receives a panel from the vacuum chamber under a predetermined vacuum atmosphere. In the vacuum chamber set to a vacuum state, after being taken out of the vacuum cartridge, in the injection chamber set to the predetermined vacuum state,
The injection port communicating with the cell is brought into contact with the liquid crystal in the liquid crystal tank, and in this state, the injection chamber is exposed to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, whereby the liquid crystal is injected into the cell due to a pressure difference. The liquid crystal injection method according to any one of claims 5 to 7, wherein:
形成されるパネルのセル内に液晶を注入するための液晶
装置の製造方法において、 内部空間を有する真空カートリッジ内に前記パネルをセ
ットする工程と、 前記パネルがセットされた前記真空カートリッジ内を真
空引きして所定の真空状態に設定する工程と、 前記パネルの前記セル内が前記所定の真空度に達するま
で、前記真空カートリッジ内に前記パネルを保持する工
程と、 前記真空カートリッジをチャンバ内に搬入する工程と、 前記チャンバを前記所定の真空状態に設定する工程と、 前記チャンバ内で、前記真空カートリッジ内からパネル
を取り出す工程と、 前記パネルの前記セルに通じる注入口を液晶に接触させ
た状態で、前記チャンバを大気圧もしくは所定の加圧雰
囲気下に晒す工程と、 を具備し、 前記真空カートリッジ内に前記パネルを保持する工程に
おいて、前記真空カートリッジを搬送することを特徴と
する液晶装置の製造方法。9. A method of manufacturing a liquid crystal device for injecting liquid crystal into a cell of a panel formed by bonding two substrates, comprising: setting the panel in a vacuum cartridge having an internal space; Evacuation of the inside of the vacuum cartridge in which the panel is set to set a predetermined vacuum state, and holding the panel in the vacuum cartridge until the inside of the cell of the panel reaches the predetermined degree of vacuum Carrying out the step of loading the vacuum cartridge into a chamber; setting the chamber to the predetermined vacuum state; removing a panel from the vacuum cartridge in the chamber; With the injection port leading to the cell in contact with the liquid crystal, the chamber is placed under atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere. In step comprises the step of, retaining the panel in said vacuum cartridge exposing method for manufacturing a liquid crystal device characterized by transporting the vacuum cartridge.
液晶を封入して液晶装置を製造する方法において、 ２つの母基板をシール材によって貼り合わせて大判パネ
ルを形成する工程と、 前記大判パネルを割断して、短冊状のパネルを形成する
１次ブレーク工程と、 前記シール材に設けられた液晶注入口を通じて、前記短
冊状パネルのセル内に液晶を注入した後、前記液晶注入
口を封止する工程と、 液晶が注入された前記短冊状パネルを割断して、所望の
大きさのパネルを形成する２次ブレーク工程と、 を具備し、 前記シール材に設けられた液晶注入口を通じて、前記短
冊状パネルのセル内に液晶を注入する前記工程は、 前記パネルが装填される内部空間を有する真空カートリ
ッジを順次搬送し、 搬送される前記各真空カートリッジ内に前記パネルを１
枚ずつセットし、 前記パネルがセットされた前記真空カートリッジ内を真
空引きして所定の真空状態に設定し、 前記真空カートリッジ内にセットされた前記パネルのセ
ル内が前記所定の真空度に達するまで、真空引きされた
前記真空カートリッジを待機させ、 前記パネルのセル内が前記所定の真空度に達した前記真
空カートリッジをチャンバ内に搬入し、 前記真空カートリッジが搬入され前記チャンバを所定の
真空状態に設定し、 所定の真空状態に設定された前記チャンバ内で、前記真
空カートリッジ内から前記パネルを取り出し、 前記所定の真空状態に設定された前記チャンバ内で、前
記パネルのセルに通じる注入口を、前記チャンバ内に設
けられた液晶槽の液晶に接触させ、 前記注入口を前記液晶槽の液晶に接触させた状態で、前
記チャンバを大気圧もしくは所定の加圧雰囲気下に晒し
て、前記パネルのセル内に圧力差により液晶を注入する
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。10. A method for manufacturing a liquid crystal device by sealing a liquid crystal between two substrates to be bonded to each other, wherein a step of bonding two mother substrates with a sealing material to form a large-format panel. A primary break step of forming a strip-shaped panel, and injecting liquid crystal into the cells of the strip-shaped panel through a liquid crystal injection port provided in the sealing material, and then sealing the liquid crystal injection port. Stopping, and a secondary break step of cutting the strip-shaped panel into which liquid crystal has been injected to form a panel of a desired size, and through a liquid crystal injection port provided in the sealing material, The step of injecting liquid crystal into the cells of the strip-shaped panel includes sequentially transporting a vacuum cartridge having an internal space into which the panel is loaded, and previously moving the vacuum cartridge into each of the transported vacuum cartridges. Panel 1
The vacuum cartridge in which the panel is set is evacuated and set to a predetermined vacuum state, and the inside of the cell of the panel set in the vacuum cartridge reaches the predetermined degree of vacuum. Holding the evacuated vacuum cartridge, loading the vacuum cartridge in which the inside of the cell of the panel has reached the predetermined degree of vacuum into the chamber, and loading the vacuum cartridge to bring the chamber into a predetermined vacuum state. Setting, in the chamber set in a predetermined vacuum state, take out the panel from inside the vacuum cartridge, and in the chamber set in the predetermined vacuum state, an injection port communicating with a cell of the panel, The liquid crystal of the liquid crystal tank provided in the chamber was brought into contact with the liquid crystal, and the injection port was brought into contact with the liquid crystal of the liquid crystal tank, A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising exposing a chamber to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, and injecting liquid crystal into a cell of the panel by a pressure difference.
トリッジが搬入される度に、真空引きされた他の真空カ
ートリッジが新たに待機されることを特徴とする請求項
１０に記載の液晶装置の製造方法。11. The liquid crystal device according to claim 10, wherein each time one of the vacuum cartridges is loaded into the chamber, another vacuum cartridge that has been evacuated is newly put on standby. Method.
カートリッジを一括して待機させ、待機されている複数
の真空カートリッジを順次個別に前記チャンバ内に搬入
して液晶の注入作業を行なうことを特徴とする請求項１
０または請求項１１に記載の液晶装置の製造方法。12. A method in which a plurality of vacuum cartridges that are sequentially evacuated are collectively put on standby, and the plurality of standby vacuum cartridges are sequentially individually loaded into the chamber to perform a liquid crystal injection operation. Claim 1.
A method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 11.
定される真空室と、所定の真空雰囲気下で真空室からパ
ネルを受け入れる液晶槽を備えた注入室とから成り、 前記パネルは、前記所定の真空状態に設定された前記真
空室内で、前記真空カートリッジ内から取り出された
後、前記所定の真空状態に設定された前記注入室内で、
セルに通じる前記注入口が前記液晶槽の液晶に接触さ
れ、その接触状態で、前記注入室が大気圧もしくは所定
の加圧雰囲気下に晒されることによってセル内に圧力差
により液晶が注入されることを特徴とする請求項５ない
し請求項７のいずれか１０項に記載の液晶装置の製造方
法。13. The chamber comprises: a vacuum chamber set to a predetermined vacuum state; and an injection chamber provided with a liquid crystal tank for receiving a panel from the vacuum chamber under a predetermined vacuum atmosphere. In the vacuum chamber set to a vacuum state, after being taken out of the vacuum cartridge, in the injection chamber set to the predetermined vacuum state,
The injection port communicating with the cell is brought into contact with the liquid crystal in the liquid crystal tank, and in this state, the injection chamber is exposed to atmospheric pressure or a predetermined pressurized atmosphere, whereby the liquid crystal is injected into the cell due to a pressure difference. The method for manufacturing a liquid crystal device according to any one of claims 5 to 7, wherein:
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