JP2002258264A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2002258264A
JP2002258264A JP2001060579A JP2001060579A JP2002258264A JP 2002258264 A JP2002258264 A JP 2002258264A JP 2001060579 A JP2001060579 A JP 2001060579A JP 2001060579 A JP2001060579 A JP 2001060579A JP 2002258264 A JP2002258264 A JP 2002258264A
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JP
Japan
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liquid crystal
colored layer
layer
crystal display
substrate
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Application number
JP2001060579A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Sato
清一 佐藤
Tetsuya Iizuka
哲也 飯塚
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Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent leakage of light from a backlight and to prevent display quality from deteriorating in a transmissive liquid crystal display device. SOLUTION: On a colored layer 25a extending to the outside of a seal 35 on an array side glass substrate 11, a colored layer 33 is formed, of which the color is different from that of the colored layer 25a. A double-coloring-layer area 27 is thereby provided between the seal 35 and the end part of the array side glass substrate 11. The light leaked from the backlight is thus shielded with the double-coloring-layer area 27.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アレイ基板側に着
色層を形成し、このアレイ基板と対向基板の外周部をシ
ール材で接着して両基板の間隙に液晶を充填して画素領
域を形成する液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming a colored layer on an array substrate, bonding the outer periphery of the array substrate and a counter substrate with a sealing material, filling a gap between the two substrates with liquid crystal, and forming a pixel region. The present invention relates to a liquid crystal display device to be formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、配向膜を有する2枚の
電極基板を配向膜が対向するように配置し、2枚の基板
間に液晶層を挟持している。この2枚の電極基板は周辺
領域に配置されたシール材および封止材によって貼り合
わされており、これら2枚の基板間には基板間距離を保
持するために粒状スペーサまたは樹脂からなるスペーサ
柱が配置されている。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, two electrode substrates having an alignment film are arranged so that the alignment films face each other, and a liquid crystal layer is sandwiched between the two substrates. The two electrode substrates are bonded together by a sealing material and a sealing material arranged in a peripheral region, and a spacer pillar made of a granular spacer or a resin is provided between the two substrates to maintain a distance between the substrates. Are located.

【0003】液晶表示装置をカラー表示する場合には、
基板の一方に、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)か
らなる着色層が多くの場合配置されている。通常、表示
画素エリア外にはバックライトからの光漏れを防止する
ために額縁状のブラックマトリクス(以降BMと称する
こともある)が形成される。
When a liquid crystal display device displays a color image,
A colored layer composed of red (R), green (G), and blue (B) is often arranged on one of the substrates. Usually, a frame-shaped black matrix (hereinafter, also referred to as BM) is formed outside the display pixel area to prevent light leakage from the backlight.

【0004】一般に、BM材料としてはCr、MoW等
の金属薄膜や、樹脂が使用される。アレイ基板側に着色
層を形成する場合には、R、G、B各着色層の他に黒の
着色層でスペーサ柱とBMを同時に形成する。この時、
黒着色層をRGB着色層上に形成することにより、所望
のセルギャップを得ることができる。
Generally, a metal thin film such as Cr or MoW or a resin is used as the BM material. When a colored layer is formed on the array substrate side, the spacer pillar and the BM are simultaneously formed with a black colored layer in addition to the R, G, and B colored layers. At this time,
By forming the black coloring layer on the RGB coloring layer, a desired cell gap can be obtained.

【0005】近年、高密度且つ大容量でありながら、高
機能、高精細な表示が得られる液晶表示装置の実用化が
進められている。この液晶表示装置には各種方式があ
り、中でも隣接画素間のクロストークが小さく、高コン
トラストの表示が得られ、その上、透過型表示が可能且
つ大面積化も容易などの理由からアクティブマトリクス
型液晶表示装置が多く用いられている。このアクティブ
マトリクス型液晶表示装置は、互いに交差する方向に設
けられた複数本の走査線と複数本の信号線により区画さ
れた複数個の領域に、TFTをスイッチング素子とした
画素電極がマトリクス状に配置されたアレイ基板を備え
ている。
[0005] In recent years, liquid crystal display devices capable of obtaining high-performance and high-definition displays with high density and large capacity have been put into practical use. There are various types of liquid crystal display devices. Among them, an active matrix type liquid crystal display device has a small crosstalk between adjacent pixels, a high contrast display can be obtained, and a transmission type display is possible and a large area is easy. Liquid crystal display devices are widely used. In this active matrix type liquid crystal display device, pixel electrodes using TFTs as switching elements are arranged in a matrix in a plurality of regions defined by a plurality of scanning lines and a plurality of signal lines provided in directions intersecting each other. An array substrate is provided.

【0006】アクティブマトリクス型液晶表示装置で
は、走査線が選択された期間に画像データが書き込まれ
た画素電極の電位が、非選択期間に寄生容量やTFTの
オフリーク電流による隣接信号線の電位変動の影響を受
けて、クロストークの発生やコントラスト比の低下を引
き起こす。こうした画質の劣化を抑制するため、この種
の液晶表示装置では、画素電極と電気的に並列に補助容
量を形成する構成が一般的であり、また、画素間の光漏
れを防ぐ目的でBMが設けられている。
In an active matrix type liquid crystal display device, the potential of a pixel electrode to which image data is written during a period in which a scanning line is selected depends on the potential change of an adjacent signal line due to a parasitic capacitance or an off-leak current of a TFT in a non-selection period. Under the influence, crosstalk is generated and the contrast ratio is reduced. In order to suppress such deterioration in image quality, a liquid crystal display device of this type generally has a configuration in which an auxiliary capacitor is formed electrically in parallel with a pixel electrode. In addition, a BM is used to prevent light leakage between pixels. Is provided.

【0007】従来から、上記BMはカラーフィルタ用の
着色層と共に、アレイ基板と液晶層を介して対向して配
置される対向基板側に配置されるのが一般的である。し
かしながら、このような構造においては、アレイ基板と
対向基板との合わせずれを考慮する必要があり、光を透
過する開口部分の割合(開口率)の低下を引き起こして
しまう。
Conventionally, the BM is generally disposed together with a color layer for a color filter on a counter substrate which is disposed to face an array substrate via a liquid crystal layer. However, in such a structure, it is necessary to consider the misalignment between the array substrate and the counter substrate, which causes a reduction in the ratio of the light-transmitting apertures (aperture ratio).

【0008】このため、近年においては、アレイ基板の
配線上に透明な有機絶縁膜を設け、最上層に画素電極を
設け、且つその画素電極の端部を、マトリクス状に設け
られた配線に重ねることにより、配線をBMとして用い
る配線BM構造が用いられてきている。更に、有機絶縁
膜の代わりに、対向基板に形成されているカフーフィル
タの着色層を用いた構造が用いられる場合もある。これ
らの構造において、着色層を形成する場合、R、G、B
各着色層の他に黒の着色層でスペーサ柱と表示エリア外
の額緑状のBMを同時に形成することが行われている。
For this reason, in recent years, a transparent organic insulating film is provided on the wiring of the array substrate, a pixel electrode is provided on the uppermost layer, and an end of the pixel electrode is overlapped with the wiring provided in a matrix. Accordingly, a wiring BM structure using a wiring as a BM has been used. Further, in some cases, a structure using a colored layer of a cuff filter formed on a counter substrate instead of the organic insulating film may be used. In these structures, when forming a colored layer, R, G, B
In addition to the colored layers, a spacer pillar and a greenish BM outside the display area are simultaneously formed using a black colored layer.

【0009】ところで、近年の液晶表示装置が組み込ま
れたノートブック型のパーソナルコンピュータなどのシ
ステムは、額縁の縮小化が進み、狭額緑なものが増えて
きている。このため、液晶表示装置とシステムとの組立
公差が厳しく、表示領域周縁からバックライトの光漏れ
が発生し、表示品位を損ねてしまうことがある。
Incidentally, in recent years, systems such as notebook type personal computers incorporating a liquid crystal display device have been reduced in frame size, and the number of narrow green frames has been increasing. For this reason, the assembly tolerance between the liquid crystal display device and the system is strict, and light leakage of the backlight may occur from the periphery of the display area, thereby deteriorating the display quality.

【0010】図2は、従来の液晶表示装置の構成例を示
した部分断面図である。アレイ側ガラス基板11と対向
側ガラス基板21とが所定の間隙をおいて対向配置され
ている。対向側ガラス基板21の内側には対向電極22
が形成され、この対向電極22の表面にはさらに配向膜
13が形成されている。一方、アレイ側ガラス基板11
の内側には層間絶縁膜23が形成され、更にその上には
信号線14やソース電極15及び液晶駆動回路用配線1
6が形成されている。層間絶縁膜23はこれら信号線1
4やソース電極15や液晶駆動回路用配線16を含めて
保護絶縁膜24により覆われている。尚、液晶駆動回路
用配線16の一部は層間絶縁膜23内に食い込んでアレ
イ側ガラス基板11に接触している。尚、アレイ側ガラ
ス基板11と着色層25はカラーフィルタ付きアレイ基
板110を構成し、対向側ガラス基板21と対向電極2
2は対向基板120を構成している。
FIG. 2 is a partial sectional view showing a configuration example of a conventional liquid crystal display device. The array-side glass substrate 11 and the opposing-side glass substrate 21 are opposed to each other with a predetermined gap. An opposing electrode 22 is provided inside the opposing glass substrate 21.
Is formed, and an alignment film 13 is further formed on the surface of the counter electrode 22. On the other hand, the array-side glass substrate 11
An interlayer insulating film 23 is formed on the inside of the substrate, and the signal line 14, the source electrode 15, and the liquid crystal driving circuit wiring 1 are further formed thereon.
6 are formed. The interlayer insulating film 23 is provided for these signal lines 1
4 and the source electrode 15 and the liquid crystal drive circuit wiring 16 are covered with a protective insulating film 24. Note that a part of the liquid crystal drive circuit wiring 16 bites into the interlayer insulating film 23 and is in contact with the array-side glass substrate 11. The array-side glass substrate 11 and the coloring layer 25 constitute an array substrate 110 with a color filter, and the opposite-side glass substrate 21 and the opposite electrode 2
Reference numeral 2 denotes a counter substrate 120.

【0011】保護絶縁膜24の上部には着色層25が形
成され、この着色層25の上部表面には画素電極30が
形成されている。画素電極30は、着色層25及び保護
絶縁膜24に形成されているスルーホール26を介して
ソース電極15に接続している。着色層25の上部表面
は画素電極30も含めて、配向膜13で覆われている。
A colored layer 25 is formed on the protective insulating film 24, and a pixel electrode 30 is formed on an upper surface of the colored layer 25. The pixel electrode 30 is connected to the source electrode 15 via a through hole 26 formed in the coloring layer 25 and the protective insulating film 24. The upper surface of the coloring layer 25 including the pixel electrode 30 is covered with the alignment film 13.

【0012】アレイ側ガラス基板11側の配向膜13と
対向側ガラス基板21の配向膜13の間にはスペーサ柱
31が複数本立っていて、両ガラス基板11、21間の
間隙(ギャップ)を確保し、その間隙に液晶が充填され
て液晶層70が形成されている。アレイ側ガラス基板1
1と対向側ガラス基板21の端部周辺には、シール35
が配設されて両基板を接着し、液晶を内部に封入してい
る。シール35のすぐ内側には額縁BM32が着色層2
5を分断する形でアレイ側ガラス基板11側に形成され
ている。
A plurality of spacer columns 31 are provided between the alignment film 13 on the array side glass substrate 11 and the alignment film 13 on the opposite side glass substrate 21, and a gap between the two glass substrates 11, 21 is formed. The gap is filled with liquid crystal to form a liquid crystal layer 70. Array side glass substrate 1
Around the end of the glass substrate 21 on the opposite side to the seal 1, a seal 35 is provided.
Is provided, and the two substrates are adhered to each other, and the liquid crystal is sealed inside. Immediately inside the seal 35, the frame BM32 is a colored layer 2.
5 is formed on the array-side glass substrate 11 side in such a manner as to divide the substrate 5.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の液
晶表示装置では、シール35の外側に間隙を均一に保つ
ためにスペーサ柱31を設ける必要がある。このような
構成でアレイ側ガラス基板11の外側(下方)からバッ
クライトで照明すると、前記スペーサ柱31の土台とな
るシール35の外側の着色層25の色の光が、表示領域
周縁から外部に漏れて視認されてしまう。即ち、外側の
着色層25の色が赤色(R)ならば赤色の光が、着色層
25が青色(B)ならば青色の光が、着色層25が緑色
(G)ならば緑色の光が、図の符号Pで示した如く漏れ
て、ユーザに光漏れとして視認されてしまい、表示品位
を損ねてしまうという問題点があった。
In the conventional liquid crystal display device as described above, it is necessary to provide a spacer column 31 outside the seal 35 in order to keep a uniform gap. When the backlight is illuminated from the outside (below) of the array side glass substrate 11 in such a configuration, the light of the color of the colored layer 25 outside the seal 35 serving as the base of the spacer pillar 31 is emitted from the periphery of the display area to the outside. It leaks and is visually recognized. That is, when the color of the outer colored layer 25 is red (R), red light is emitted, when the colored layer 25 is blue (B), blue light is emitted, and when the colored layer 25 is green (G), green light is emitted. However, there is a problem in that the light leaks as shown by the symbol P in the drawing and is visually recognized as light leak by the user, thereby deteriorating the display quality.

【0014】本発明の目的は、バックライトからの光漏
れを防止して、表示品位の低下を防止した高品位の液晶
表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a high-quality liquid crystal display device in which light leakage from a backlight is prevented to prevent a deterioration in display quality.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、対向基板と、カラーフィルタと
しての着色層を有するアレイ基板とを、これら両基板の
外周を囲むように形成されたシールにより接着し、前記
両基板間の隙間に液晶層を挟持して表示領域を形成し、
前記アレイ基板の外側からバックライトを照射する液晶
表示装置において、前記アレイ基板上の前記シールの外
側に延びた着色層の上部に、前記着色層とは別の色の着
色層を形成することによって、前記シールとアレイ基板
の端部との間に着色層の2層領域を具備することを特徴
とする。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a counter substrate and an array substrate having a color layer as a color filter are arranged so as to surround the outer periphery of both substrates. Adhering by the formed seal, forming a display area by sandwiching a liquid crystal layer in the gap between the two substrates,
In a liquid crystal display device that irradiates a backlight from the outside of the array substrate, by forming a colored layer of a different color from the colored layer on the colored layer extending outside the seal on the array substrate. A two-layer region of a coloring layer between the seal and the end of the array substrate.

【0016】請求項2の発明は、請求項1において、前
記別の色の着色層は、この着色層と同じ色の着色層を前
記アレイ基板上に形成する際のプロセスにおいて、前記
シールの外側に延びた着色層の上部に同時に形成された
ものであることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the colored layer of another color is formed on the outside of the seal in a process of forming a colored layer of the same color as the colored layer on the array substrate. Characterized in that they are simultaneously formed on the upper part of the colored layer that extends.

【0017】請求項3の発明は、請求項1又は2におい
て、前記2層の着色層は、赤の着色層と青の着色層であ
ることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the two colored layers are a red colored layer and a blue colored layer.

【0018】請求項4の発明は、請求項1乃至3におい
て、前記対向基板とアレイ基板との間に、両基板の間を
所定の間隙に保持するための複数のスペーサ柱を立設す
ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first to third aspects, a plurality of spacer columns are provided between the counter substrate and the array substrate to hold a predetermined gap between the two substrates. It is characterized by.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1(a)は、本発明の液晶表示装
置の実施形態に係わる構成を示した正面図であり、同
(b)は、この正面図のA−B断面図である。但し、図
2の従来例と同等の部分には同一符号を用い、且つ適宜
にその説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a front view illustrating a configuration according to an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AB of the front view. However, the same parts as those in the conventional example of FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be appropriately omitted.

【0020】図1(b)に示すように、液晶表示装置1
0は、対向基板(対向側ガラス基板21、対向電極22
とで構成)120とカラーフィルタ付きアレイ基板(ア
レイ側ガラス基板11と着色層25とで構成)110と
の間に液晶層70を挟持しており、これらの2枚の基板
間距離は樹脂からなるスペーサ柱31によって保持され
ている。そして、対向基板120とカラーフィルタ付き
アレイ基板110は、液晶注入口(図示せず)を除く基
板外周を囲むように配置されるシール35によって接着
され、前記液晶注入口には図示しない封止材が塗布され
ている。対向ガラス基板21上にはITOからなる透明
電極22、配向膜13が順次形成されている。
As shown in FIG. 1B, the liquid crystal display 1
0 denotes a counter substrate (a counter glass substrate 21, a counter electrode 22).
The liquid crystal layer 70 is sandwiched between an array substrate 120 having a color filter (composed of the array-side glass substrate 11 and the colored layer 25) 110, and the distance between these two substrates is set from the resin. Are held by the spacer pillars 31. The opposing substrate 120 and the array substrate 110 with a color filter are adhered by a seal 35 disposed so as to surround the outer periphery of the substrate except for a liquid crystal injection port (not shown). Is applied. On the opposing glass substrate 21, a transparent electrode 22 made of ITO and an alignment film 13 are sequentially formed.

【0021】カラーフィルタ付きアレイ基板110は、
アレイ側ガラス基板11上に図示しない走査電極、これ
と平行に設けられた補助容量電極及び絶縁膜22を介し
てこれらと直交する信号線14が形成され、走査線と信
号線の交点近傍にはスイッチング素子として図示しない
Nch型LDD構造のTFT素子と、このスイッチング
素子と電気的に接続されたソース電極15と、このソー
ス電極15に接続する画素電極30が形成されている。
The array substrate 110 with a color filter is
A scanning electrode (not shown), an auxiliary capacitance electrode provided in parallel with the scanning electrode, and a signal line 14 orthogonal to the scanning electrode and an insulating film 22 are formed on the array side glass substrate 11, and near the intersection of the scanning line and the signal line. As the switching element, a TFT element having an Nch LDD structure (not shown), a source electrode 15 electrically connected to the switching element, and a pixel electrode 30 connected to the source electrode 15 are formed.

【0022】また、液晶表示装置10は、スイッチング
素子と同時に、図示しない液晶駆動回路を表示領域周辺
に形成しており、表示領域近傍には液晶駆動回路を動作
させるために必要な配線16が複数本設けられている。
そして、スイッチング素子および液晶駆動回路を覆うよ
うに保護絶縁膜24が設けられ、更にその上部に緑色の
着色層(G)25、青色の着色層(B)25、赤色の着
色層(R)25がストライプ状に配置されている。
In the liquid crystal display device 10, a liquid crystal drive circuit (not shown) is formed around the display area at the same time as the switching element, and a plurality of wirings 16 necessary for operating the liquid crystal drive circuit are provided near the display area. Book is provided.
Then, a protective insulating film 24 is provided so as to cover the switching element and the liquid crystal drive circuit, and further thereon a green coloring layer (G) 25, a blue coloring layer (B) 25, and a red coloring layer (R) 25. Are arranged in a stripe pattern.

【0023】画素電極30は、これら着色層25上に形
成されており、着色層25及び保護絶縁膜24に形成さ
れているスルーホール26を介してソース電極15と接
続している。更に、画素電極30及び着色層25を覆う
ように基板全面には配向膜13が形成されている。
The pixel electrode 30 is formed on the colored layer 25 and is connected to the source electrode 15 via a through hole 26 formed in the colored layer 25 and the protective insulating film 24. Further, an alignment film 13 is formed on the entire surface of the substrate so as to cover the pixel electrode 30 and the coloring layer 25.

【0024】本例も、シール35の直ぐ内側には額縁B
M32が着色層25を分断する形でアレイ側ガラス基板
11側に配置されている。シール35の外側と表示領域
端部との間で、シール35の土台となる着色層25aの
上には、着色層25aとは異なる色の着色層33が形成
されている。この着色層25aと着色層33としては、
赤色の着色層と青色の着色層との組み合わせとすること
により、最も高い遮光作用を得ることができる。
Also in this example, a frame B is provided immediately inside the seal 35.
M32 is arranged on the array side glass substrate 11 side so as to divide the colored layer 25. Between the outside of the seal 35 and the end of the display area, a colored layer 33 of a different color from the colored layer 25a is formed on the colored layer 25a serving as a base of the seal 35. As the coloring layer 25a and the coloring layer 33,
By using a combination of a red coloring layer and a blue coloring layer, the highest light blocking effect can be obtained.

【0025】次に、上記のように構成されたアクティブ
マトリクス型の液晶表示装置の製造方法について説明す
る。
Next, a method of manufacturing the active matrix type liquid crystal display device configured as described above will be described.

【0026】まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの
透光性絶縁性基板(アレイ側ガラス基板11)上にCV
D法などによりa−Si膜を被着する。炉アニールを行
った後、XeClエキシマレーザを照射し、a−Siを
多結晶化する。その後に、多結晶Siをフォトエッチン
グ法によりパターンニングして、図示しない表示領域内
画素部のTFTのチャネル層及び図示しない液晶駆動回
路領域のTFT(回路TFT)のチャネル層となり、更
には補助容量素子の下部電極となる図示しないポリシリ
コン膜を形成する。
First, a CV is placed on a light-transmitting insulating substrate (array-side glass substrate 11) such as a high-strain-point glass substrate or a quartz substrate.
An a-Si film is deposited by the D method or the like. After performing furnace annealing, XeCl excimer laser is irradiated to polycrystallize a-Si. Thereafter, the polycrystalline Si is patterned by a photoetching method to become a channel layer of a TFT in a pixel portion in a display region (not shown) and a channel layer of a TFT (circuit TFT) in a liquid crystal drive circuit region (not shown). A polysilicon film (not shown) serving as a lower electrode of the device is formed.

【0027】次に、CVD法により絶縁基板の全面に図
示しないゲート絶縁膜となるSiOx膜を100nm程
度被着する。続いて、SiOx膜上全面にTa、Cr、
A1、Mo、W、Cuなどの単体又はその積層膜あるい
は合金膜を被着し、フォトエッチング法により所定の形
状にパタ−ニングし、いずれも図示しない走査線と走査
線を延在して成る画素TFTのゲート電極、補助容量
線、回路TFTのゲート電極及び駆動回路領域内の各種
配線を形成する。この時、液晶駆動回路を駆動させるた
めに必要となる配線16も同時に形成する。
Next, an SiOx film serving as a gate insulating film (not shown) is deposited on the entire surface of the insulating substrate to a thickness of about 100 nm by the CVD method. Subsequently, Ta, Cr,
A single element such as A1, Mo, W, Cu, or a laminated film or an alloy film thereof is deposited and patterned into a predetermined shape by a photoetching method. The gate electrode of the pixel TFT, the auxiliary capacitance line, the gate electrode of the circuit TFT, and various wirings in the drive circuit area are formed. At this time, the wiring 16 necessary for driving the liquid crystal driving circuit is formed at the same time.

【0028】その後、これらのゲート電極をマスクとし
てイオン注入やイオンドーピング法により不純物の注入
を行い、画素TFTのソース電極15、図示しないドレ
イン電極、及び図示しないNch型の回路TFTのソ一
ス電極とドレイン電極を形成する。
Then, impurities are implanted by ion implantation or ion doping using these gate electrodes as a mask, thereby forming a source electrode 15 of a pixel TFT, a drain electrode (not shown), and a source electrode of an Nch type circuit TFT (not shown). And a drain electrode are formed.

【0029】次に、図示しない画素TFT及び駆動回路
領域のNch型の回路TFTには不純物が注入されない
ようにレジストで被覆した後、図示しないPch型の回
路TFTのゲート電極をそれぞれマスクとして、ボロン
を高濃度注入して、Pch型の回路TFTのソース電極
とドレイン電極を形成する。
Next, the pixel TFT (not shown) and the Nch-type circuit TFT in the drive circuit region are covered with a resist so as not to be doped with impurities, and then boron is formed using the gate electrodes of the Pch-type circuit TFT (not shown) as masks. To form a source electrode and a drain electrode of a Pch type circuit TFT.

【0030】その後、更に図示しないNch型LDD
(Lightly Doped Drain)を形成するための不純物注入
を行い、基板をアニールすることにより不純物を活性化
する。
Thereafter, an Nch type LDD (not shown)
(Lightly Doped Drain) is implanted, and impurities are activated by annealing the substrate.

【0031】更に、例えばPECVD法を用いて絶縁基
板の全面に層間絶縁膜SiO2を被着する。
Further, an interlayer insulating film SiO2 is deposited on the entire surface of the insulating substrate by using, for example, the PECVD method.

【0032】続いて、フォトエッチング法により、画素
TFTのソース電極15に至るコンタクトホール26と
図示しないドレイン電極に至るコンタクトホールと、図
示しない回路TFTのソース電極とドレイン電極に至る
コンタクトホールを形成する。
Subsequently, a contact hole 26 reaching the source electrode 15 of the pixel TFT, a contact hole reaching the drain electrode (not shown), and a contact hole reaching the source electrode and drain electrode of the circuit TFT (not shown) are formed by photoetching. .

【0033】次に、Ta、Cr、Al、Mo、W、Cu
などの単体又はその積層膜あるいは合金膜を被着し、フ
ォトエッチング法により所定の形状にパタ−ニングし、
信号線14、図示しない画素TFTのドレイン電極と信
号線14の接続及びソース電極15及び図示しない液晶
駆動回路領域内の回路TFTの各種配線等を行う。
Next, Ta, Cr, Al, Mo, W, Cu
Such as a simple substance or a laminated film or an alloy film thereof, and patterned in a predetermined shape by a photo etching method,
The connection between the signal line 14, the drain electrode of the pixel TFT (not shown) and the signal line 14, the source electrode 15, and various wirings of the circuit TFT in the liquid crystal drive circuit region (not shown) are performed.

【0034】更に、PECVD法により絶縁基板の全面
にSiNxからなる保護絶縁膜24を成膜し、フォトエ
ッチング法により表示画素電極30に至るコンタクトホ
ール26を形成する。
Further, a protective insulating film 24 made of SiNx is formed on the entire surface of the insulating substrate by the PECVD method, and a contact hole 26 reaching the display pixel electrode 30 is formed by a photo etching method.

【0035】次に、紫外線硬化型アクリル系緑色レジス
ト液を、電極が形成された基板上にスピンナ塗布により
塗布する。続いて、プリベークし、所定のマスク・パタ
ーンを用いて露光する。ここで用いるフォトマスク・パ
ターンは、緑色着色層に対応するストライプ形状パター
ンと、画素電極30とソース電極15との接続のために
スルーホール26を有している。
Next, an ultraviolet curable acrylic green resist solution is applied to the substrate on which the electrodes are formed by spinner coating. Subsequently, the substrate is pre-baked and exposed using a predetermined mask pattern. The photomask pattern used here has a stripe-shaped pattern corresponding to the green coloring layer and a through hole 26 for connecting the pixel electrode 30 and the source electrode 15.

【0036】続いて、現像水洗い後、ポストベークをす
ることによって、スルーホール26を有する緑色の着色
層(G)25を形成する。続いて、青色の着色層(B)
25、赤色の着色層(R)25も同様の工程にて形成す
る。この際、Gのパターンの端がB層やR層で覆われて
いる構成とする。これは、上記のように、各着色層を加
工する際に用いる露光マスクを適合するように作製する
ことで達成される。さらに、シール35外側のスペーサ
柱31が配置される領域を除いて、R、G、B3色ある
着色層のうち、色の異なる2色の着色層を形成する。本
実施形態では赤色の着色層25aと青色の着色層33を
形成した。
Subsequently, after washing with developing water, post-baking is performed to form a green colored layer (G) 25 having through holes 26. Subsequently, a blue colored layer (B)
25, a red colored layer (R) 25 is also formed in the same step. In this case, the end of the G pattern is covered with the B layer or the R layer. This is achieved by making the exposure mask used when processing each colored layer suitable as described above. Further, except for a region where the spacer pillar 31 outside the seal 35 is arranged, two colored layers having different colors among the three colored layers of R, G, and B are formed. In this embodiment, the red coloring layer 25a and the blue coloring layer 33 are formed.

【0037】次に、着色層25上にスパッタリング法に
よりインジウム・すず酸化物(ITO)を堆積し、これ
をパタ−ニングすることにより、画素電極30を形成す
る。その後、黒色の着色層25によりスペーサ柱31お
よび額緑BM32を形成する。額縁BM32は、図1
(a)の黒額縁領域28となる。その後、ポリイミドか
らなる配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を施して
配向膜を形成し、カラーフィルタ付きアレイ基板110
を得る。
Next, indium tin oxide (ITO) is deposited on the coloring layer 25 by a sputtering method, and is patterned to form a pixel electrode 30. After that, the spacer pillar 31 and the foreground BM 32 are formed by the black colored layer 25. The frame BM32 is shown in FIG.
The black frame area 28 shown in FIG. Thereafter, an alignment film material made of polyimide is applied to the entire surface of the substrate, and an alignment process is performed to form an alignment film.
Get.

【0038】次に、透明基板21上にスパッタ法により
ITOを堆積して対向電極22を形成し、続いてボリイ
ミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を
施して配向膜を形成して、対向基板120を得る。対向
基板120の外側周辺部に図示しないシール材を、液晶
注入用の注入口を除いて塗布する。この対向基板120
とカラーフィルタ付き基板110をシール材35により
貼り合わせて、空状熊のセルが完成する。次に、カイラ
ル材が添加されたネマティック液晶材料を、注入口から
セル内に真空注入し、注入後、注入口を封止材としての
紫外線硬化樹脂を用いて封止したあと、セルの両側にそ
れぞれ偏光板を配置することにより液晶表示装置が完成
する。
Next, an ITO is deposited on the transparent substrate 21 by a sputtering method to form a counter electrode 22. Subsequently, an alignment film material made of polyimide is applied to the entire surface of the substrate and subjected to an alignment treatment to form an alignment film. Thus, a counter substrate 120 is obtained. A sealing material (not shown) is applied to the outer peripheral portion of the counter substrate 120 except for an injection port for injecting liquid crystal. This counter substrate 120
And the substrate 110 with a color filter are bonded together with the sealing material 35 to complete the empty bear cell. Next, the nematic liquid crystal material to which the chiral material was added was vacuum-injected into the cell from the injection port, and after injection, the injection port was sealed using an ultraviolet curable resin as a sealing material. The liquid crystal display device is completed by disposing the polarizing plates.

【0039】本実施形態によれば、シール35の外側の
着色層25aの上部に、この着色層25aとは異なる色
の着色層33を形成して、着色層2層領域27としてい
る。この着色層2層領域27は、図1(a)に示すよう
に表示画素領域40の外側でって、黒額縁領域28と基
板外端29との間にあるため、カラーフィルター付きア
レイ基板110の外側(下方)からバックライトで照明
した場合、着色層2層領域27はBMと同等の遮光作用
をもたらすことになり、この部分を通して光が外側に漏
れないようにすることができる。これにより、バックラ
イトからの光漏れを防止でき、表示品位の低下を防止す
ることができる。
According to the present embodiment, a colored layer 33 having a color different from that of the colored layer 25a is formed on the colored layer 25a outside the seal 35 to form a colored layer two-layer region 27. Since the colored layer two-layer region 27 is located outside the display pixel region 40 and between the black frame region 28 and the substrate outer end 29 as shown in FIG. When the backlight is illuminated from outside (below), the colored layer two-layer region 27 has a light-shielding effect equivalent to that of the BM, and light can be prevented from leaking outside through this portion. Thus, light leakage from the backlight can be prevented, and deterioration of display quality can be prevented.

【0040】尚、本実施形態では、色の異なる2色の着
色層として、最も遮光作用の高い赤色の着色層25aと
青色の着色層33を形成した例について示したが、色の
組み合わせは適宜に選択可能である。
In the present embodiment, an example is shown in which a red colored layer 25a and a blue colored layer 33 having the highest light-shielding effect are formed as two colored layers having different colors. Can be selected.

【0041】尚、上記実施形態では、スペーサー柱31
が着色層33側にあるため、スペーサー柱31のところ
は着色層33が除かれた構成になっているが、スペーサ
ー柱31は着色層33の部分に必ずしも必要なわけでは
なく、その場合は、均一の厚みの着色層33が形成され
ることになる。
In the above embodiment, the spacer pillar 31
Is located on the colored layer 33 side, so that the spacer layer 31 has a configuration in which the colored layer 33 is removed. However, the spacer pillar 31 is not necessarily required in the colored layer 33 portion. The colored layer 33 having a uniform thickness is formed.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
シール外側部分に色の異なる2層の着色層を形成するこ
とにより、バックライトからの光漏れを防ぐことができ
るため、表示品位の低下を防止して高品位な液晶表示装
置を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
By forming two colored layers having different colors on the outer portion of the seal, light leakage from the backlight can be prevented. Therefore, a reduction in display quality can be prevented and a high-quality liquid crystal display device can be provided. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明の液晶表示装置の一実施形態に
係わる構成を示した正面図、(b)はそのA−B断面
図。
FIG. 1A is a front view illustrating a configuration according to an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along a line AB.

【図2】従来の液晶表示装置の構成例を示した断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…液晶表示装置 11…アレイ側ガラス基板 13…配向膜 14…信号線 15…ソース電極 16…液晶駆動回路用配線 21…対向側ガラス基板 22…対向電極 23…層間絶縁膜 24…保護絶縁膜 25、25a、33…着色層 26…スルーホール 27…着色層2層領域 30…画素電極 31…スペーサ柱 32…額縁BM 35…シール 40…表示画素領域 70…液晶層 110…カラーフィルタ付きアレイ基板 120…対向基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid crystal display device 11 ... Array side glass substrate 13 ... Alignment film 14 ... Signal line 15 ... Source electrode 16 ... Liquid crystal drive circuit wiring 21 ... Opposite side glass substrate 22 ... Opposite electrode 23 ... Interlayer insulating film 24 ... Protective insulating film 25, 25a, 33 ... Colored layer 26 ... Through hole 27 ... Colored layer 2 layer region 30 ... Pixel electrode 31 ... Spacer pillar 32 ... Frame BM 35 ... Seal 40 ... Display pixel region 70 ... Liquid crystal layer 110 ... Array substrate with color filter 120: Counter substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 320 G09F 9/30 320 349 349C (72)発明者 飯塚 哲也 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA11 BA45 BB02 BB03 BB08 BB44 2H089 LA09 LA41 MA03X QA05 TA01 TA09 TA12 TA18 2H091 FA02Y FA41Z GA01 GA13 LA03 5C094 AA02 AA16 BA13 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 EC04 ED03 ED15 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 320 G09F 9/30 320 349 349C (72) Inventor Tetsuya Iizuka Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 8 Toshiba Electronic Engineering Co., Ltd. F-term (reference) 2H048 BA11 BA45 BB02 BB03 BB08 BB44 2H089 LA09 LA41 MA03X QA05 TA01 TA09 TA12 TA18 2H091 FA02Y FA41Z GA01 GA13 LA03 5C094 AA02 AA16 BA13 BA43 CA03 EA04 EA03 EA04 ED15

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向基板と、カラーフィルタとしての着
色層を有するアレイ基板とを、これら両基板の外周を囲
むように形成されたシールにより接着し、前記両基板間
の隙間に液晶層を挟持して表示領域を形成し、前記アレ
イ基板の外側からバックライトを照射する液晶表示装置
において、 前記アレイ基板上の前記シールの外側に延びた着色層の
上部に、前記着色層とは別の色の着色層を形成すること
によって、前記シールとアレイ基板の端部との間に着色
層の2層領域を具備することを特徴とする液晶表示装
置。
1. An opposing substrate and an array substrate having a color layer as a color filter are adhered to each other by a seal formed so as to surround an outer periphery of the two substrates, and a liquid crystal layer is sandwiched in a gap between the two substrates. A liquid crystal display device that forms a display area and irradiates a backlight from outside the array substrate, wherein a color different from the color layer is provided on a color layer extending outside the seal on the array substrate. A liquid crystal display device comprising a two-layer region of a colored layer between the seal and the end of the array substrate by forming the colored layer of (1).
【請求項2】 前記別の色の着色層は、この着色層と同
じ色の着色層を前記アレイ基板上に形成する際のプロセ
スにおいて、前記シールの外側に延びた着色層の上部に
同時に形成されたものであることを特徴とする請求項1
に記載の液晶表示装置。
2. The colored layer of another color is simultaneously formed on the colored layer extending outside the seal in a process of forming a colored layer of the same color as the colored layer on the array substrate. 2. The method according to claim 1, wherein
3. The liquid crystal display device according to 1.
【請求項3】 前記2層の着色層は、赤の着色層と青の
着色層であることを特徴とする請求項1又は2に記載の
液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the two colored layers are a red colored layer and a blue colored layer.
【請求項4】 前記対向基板とアレイ基板との間に、両
基板の間を所定の間隙に保持するための複数のスペーサ
柱を立設することを特徴とする請求項1乃至3に記載の
液晶表示装置。
4. The method according to claim 1, wherein a plurality of spacer posts are provided between the opposing substrate and the array substrate to hold a predetermined gap between the two substrates. Liquid crystal display.
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