JP2002256245A - Composition for connecting circuit and heat seal connector - Google Patents
Composition for connecting circuit and heat seal connectorInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
パネルやプラズマディスプレイ等の表示体と、これらの
駆動システム回路を実装した回路基板との間の電気的接
続等に利用される回路接続用組成物およびヒートシール
コネクターに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit connecting composition used for electrical connection between a display such as a liquid crystal display panel or a plasma display and a circuit board on which these drive system circuits are mounted. And heat seal connectors.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子部品の小形薄形化に伴ない、これら
に用いる回路は高密度、高精細化している。これら微細
回路同士の接続は、従来の半田やゴムコネクター等では
対応が困難であることから、最近では異方導電性接着剤
や異方導電性フィルム、ヒートシールコネクター等の接
続部材が多用されるようになってきた。これら接続部材
の使用方法は、相対峙する回路間に接続部材を設け、加
圧もしくは加熱加圧手段を講じることによって、上下回
路間の電気的接続と同時に隣接回路間には絶縁性を付与
し、相対峙する回路を接着固定するものである。これら
接続部材の接着剤成分として、異方導電性接着剤および
異方導電性フィルムには、信頼性向上の点から熱硬化性
樹脂が使用されてきた(特許No.2586154号参照)。2. Description of the Related Art As electronic components have become smaller and thinner, circuits used in them have become higher in density and higher in definition. Since connection between these fine circuits is difficult to handle with conventional solder or rubber connectors, recently, connection members such as anisotropic conductive adhesives, anisotropic conductive films, and heat seal connectors are frequently used. It has become. The method of using these connecting members is to provide a connecting member between circuits facing each other and to apply a pressurizing or heating pressurizing means to provide electrical connection between upper and lower circuits and simultaneously provide insulation between adjacent circuits. , And the circuits facing each other are bonded and fixed. As an adhesive component of these connection members, a thermosetting resin has been used for anisotropic conductive adhesives and anisotropic conductive films from the viewpoint of improving reliability (see Patent No. 2586154).
【0003】ところが、接続部材の適用範囲が拡大し、
回路の微細化への対応、硬化反応速度の向上およびリペ
ア性能の向上が要望されるようになってきた。また、ヒ
ートシールコネクターには、熱可塑性樹脂、あるいは熱
可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物からなる接着剤が端
子部上部の異方導電性接着剤として使用されてきたが、
信頼性において熱硬化性接着剤に劣り、信頼性向上が要
望されるようになってきた。[0003] However, the application range of the connecting member has been expanded,
It has been required to respond to miniaturization of circuits, improve the curing reaction rate, and improve repair performance. In addition, for the heat seal connector, an adhesive made of a thermoplastic resin or a mixture of a thermoplastic resin and a thermosetting resin has been used as an anisotropic conductive adhesive on the upper part of the terminal portion,
It is inferior to thermosetting adhesives in reliability, and there has been a demand for improved reliability.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】回路の微細化に対応す
るためには、導電粒子の数を増やして接続安定性を向上
させなければならないが、導電粒子の数を増やすことに
よって、リーク発生確率が増える等の不具合も発生して
いる。また、回路の接続工程において、熱硬化性接着剤
の硬化反応速度を速くするには接続の温度を上げるとよ
いが、接着剤の流動性低下、接着剤内部の気泡の発生に
より、接続品は上下回路間の接続抵抗のバラツキが大き
く、信頼性が低下することが懸念されていた。In order to cope with miniaturization of a circuit, it is necessary to improve the connection stability by increasing the number of conductive particles. There are also problems such as an increase in number. In the circuit connecting step, the connection temperature may be increased to increase the curing reaction rate of the thermosetting adhesive.However, due to a decrease in the fluidity of the adhesive and the generation of bubbles inside the adhesive, the connection product is There has been a concern that the connection resistance between the upper and lower circuits varies greatly, and the reliability is reduced.
【0005】さらに、熱硬化性接着剤の問題点として、
接続不良部の再生が困難、すなわち、リペア性能が低い
点も挙げられる。これは、接続部が強固に接着すること
に加えて接着剤が網状化(架橋)していることから、加熱
によっても接着力の低下が少なく溶剤類にも溶け難く、
不良部を剥離することが極めて困難であることによる。
そのため、接続不良部を再生するには、接続不良部を溶
剤類や酸、アルカリ等の薬液に浸漬、膨潤させて剥離す
るとか、ナイフ等で削りとるといった強制的な剥離手段
を採用せざるを得ない状況であった。しかしながら、こ
れらの強制的な剥離手段を使用した場合には、接続不良
部周辺の正常な接続部や配線等も損傷を受けたり、除去
面に接着剤の一部がどうしても残留してしまうこと等に
より、信頼性の高い再接続が得られず、再生使用が極め
て困難な状況にあった。また、ヒートシールコネクター
には熱可塑性樹脂を主体に用いているため、耐熱用途に
は長期信頼性の点で適さず、熱硬化性樹脂を使用した接
着剤に劣る。そのため、ヒートシールコネクターは、耐
熱性をそれほど必要としていないコスト的にも安い用途
にしか使用されていなかった。[0005] Further, as a problem of the thermosetting adhesive,
It is also difficult to regenerate the defective connection part, that is, the repair performance is low. This is because the adhesive is reticulated (cross-linked) in addition to the strong adhesion of the connection part, so that even if heated, the adhesive strength is less reduced and hardly soluble in solvents,
This is because it is extremely difficult to remove the defective part.
Therefore, in order to regenerate the defective connection part, it is necessary to adopt a forced peeling means such as immersing the defective connection part in a chemical solution such as a solvent, an acid, or an alkali, and swelling and peeling, or shaving off with a knife or the like. I couldn't get it. However, when these forcible peeling means are used, normal connection portions and wirings around the defective connection portion may be damaged, or some adhesive may remain on the removed surface. As a result, a highly reliable reconnection was not obtained, and reproduction and use were extremely difficult. Further, since a heat-sealing connector mainly uses a thermoplastic resin, it is not suitable for long-term reliability for heat-resistant applications, and is inferior to an adhesive using a thermosetting resin. For this reason, heat seal connectors have been used only for low-cost applications that do not require much heat resistance.
【0006】本発明は、接続抵抗の安定した信頼性の高
い回路の接続を可能とし、回路の微細化に対応すること
ができ、接続部の再生も容易に行うことができる回路接
続用組成物、およびヒートシールコネクターを提供する
ものである。The present invention provides a circuit connection composition which enables connection of a highly reliable circuit with stable connection resistance, can respond to miniaturization of the circuit, and can easily regenerate the connection portion. , And a heat seal connector.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記(1)〜(4)を必須成分とし、加圧変形性導電粒子の含量
が成分(1)+(2)+(4)に対し0.1〜15体積%である回路接続
用組成物および該組成物を用いたヒートシールコネクタ
ーに関するものである。 (1)エポキシ系の反応性接着剤 (2)前記反応性接着剤の硬化剤を核とし、その表面が皮
膜により実質的に覆われてなる被覆粒子 (3)前記被覆粒子より小さい平均粒径を有する高分子核
材の表面を金属薄層で被覆してなる加圧変形性導電粒子 (4)熱可塑性樹脂That is, the present invention comprises the following (1) to (4) as essential components, and the content of the pressure-deformable conductive particles is reduced to the components (1) + (2) + (4). The present invention relates to a composition for circuit connection, which is 0.1 to 15% by volume, and a heat seal connector using the composition. (1) an epoxy-based reactive adhesive (2) a coating particle whose core is a curing agent of the reactive adhesive and whose surface is substantially covered with a film (3) an average particle size smaller than the coating particle Deformable conductive particles obtained by coating the surface of a high molecular core material with a thin metal layer (4) Thermoplastic resin
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しつつ詳細に説明する。図1は本発明の回路接続用組成
物を用いた回路接続部の状況を示す断面模式図、(a)〜
(c)は接着時の工程を示す記号である。図1において、
(a)は上部回路4と下部回路5の間に、反応性接着剤1、被
覆粒子2および被覆粒子2より小さな粒径を有する加圧変
形性導電粒子3よりなる回路接続用組成物7を載置した状
態を示す。(b)は接続時の加熱加圧により反応性接着剤1
が温度上昇して低粘度化し、加圧変形性導電粒子3が上
部回路4と下部回路5の間で変形していない状態を示す。
この時、被覆粒子2は、加圧変形性導電粒子3に比べて粒
径が大きいことから、加熱加圧により破壊し、接着剤中
に分散され、その結果、硬化反応が速く進むことにな
る。(c)は更に時間の経過した接続時の加熱加圧状態を
示す。接着剤の粘度は上昇して高粘度化し、やがて硬化
接着剤6となる。この時、上部回路4と下部回路5の間は
加圧変形性導電粒子3が変形して両回路と十分に接触
し、硬化接着剤6により固定することができる。図2
は、本発明のヒートシールコネクター8を用いた状態を
示す断面模式図で、(a)は加熱加圧前、(b)は硬化後の状
態を示す。図2中、9はフレキシブルプリント基板、10
は端子部、11は電極、12は基板を示す。加圧変形性導電
粒子3は、加熱加圧により変形して、端子部10と電極11
に十分に接触する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the state of a circuit connecting portion using the circuit connecting composition of the present invention, (a) to
(c) is a symbol indicating a process at the time of bonding. In FIG.
(a) between the upper circuit 4 and the lower circuit 5, a reactive adhesive 1, a coated particle 2 and a circuit connecting composition 7 composed of pressurized deformable conductive particles 3 having a smaller particle size than the coated particles 2. This shows the mounted state. (b) shows the reactive adhesive 1
Shows a state where the temperature rises to lower the viscosity, and the deformable conductive particles 3 are not deformed between the upper circuit 4 and the lower circuit 5.
At this time, the coating particles 2 have a larger particle size than the pressure-deformable conductive particles 3, so that they are broken by heating and pressure and dispersed in the adhesive, and as a result, the curing reaction proceeds rapidly. . (c) shows the heating and pressurizing state at the time of connection after a further lapse of time. The viscosity of the adhesive increases to increase the viscosity, and eventually the cured adhesive 6 is obtained. At this time, the press-deformable conductive particles 3 are deformed between the upper circuit 4 and the lower circuit 5 so as to make sufficient contact with both circuits, and can be fixed by the hardening adhesive 6. FIG.
3A and 3B are schematic cross-sectional views showing a state where the heat seal connector 8 of the present invention is used, wherein FIG. 3A shows a state before heating and pressurizing, and FIG. In FIG. 2, 9 is a flexible printed board, 10
Denotes a terminal portion, 11 denotes an electrode, and 12 denotes a substrate. The pressure-deformable conductive particles 3 are deformed by heating and pressing, and the terminal portion 10 and the electrode 11 are deformed.
Contact enough.
【0009】反応性接着剤1としては、エポキシ、尿
素、メラミン、グアナミン、フェノール、フラン、ジア
リルフタレート、ビスマレイミド、トリアジン、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリア
ミド、ポリイミド、およびシアノアクリレート等の各種
合成樹脂類や、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ビニ
ル基、アミノ基、およびエポキシ基等の官能基含有型の
ゴムやエラストマ類があり、これらは単独もしくは2種
以上の混合物としても適用できる。Examples of the reactive adhesive 1 include various synthetic resins such as epoxy, urea, melamine, guanamine, phenol, furan, diallyl phthalate, bismaleimide, triazine, polyester, polyurethane, polyvinyl butyral, polyamide, polyimide, and cyanoacrylate. And rubbers and elastomers containing a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, a vinyl group, an amino group, and an epoxy group, and these can be applied alone or as a mixture of two or more.
【0010】これらの反応性接着剤の中では、エポキシ
樹脂単独もしくは成分中に少なくともエポキシ樹脂を含
有する、いわゆるエポキシ系の反応性接着剤が、速硬化
性でかつ各種特性のバランスのとれた硬化物を得られる
ことから好適である。これらのエポキシ樹脂としては、
例えば、エピクロルヒドリンとビスフェノールAやビス
フェノールF等から誘導されるビスフェノール型エポキ
シ樹脂、エピクロルヒドリンとフェノールノボラックや
クレゾールノボラックから誘導されるエポキシノボラッ
ク樹脂が代表的であり、その他グリシジルアミン、グリ
シジルエステル、脂環式、複素環式等の1分子内に2個以
上のオキシラン基を有する各種のエポキシ化合物が適用
できる。これらは単独もしくは2種以上混合して用いる
ことが可能である。Among these reactive adhesives, epoxy-based reactive adhesives containing an epoxy resin alone or containing at least an epoxy resin in a component are known as quick-curing curable resins having various properties balanced. This is preferable because a product can be obtained. As these epoxy resins,
For example, a bisphenol-type epoxy resin derived from epichlorohydrin and bisphenol A or bisphenol F, and an epoxy novolak resin derived from epichlorohydrin and phenol novolak or cresol novolak are typical, and other glycidylamine, glycidyl ester, alicyclic, Various epoxy compounds having two or more oxirane groups in one molecule such as heterocyclic compounds can be applied. These can be used alone or in combination of two or more.
【0011】これらエポキシ樹脂は、不純物イオン(N
a+、K+、Cl-、S04 2-等)や加水分解性塩素等が各々300pp
m以下に低減されたいわゆる高純度品、特には100ppm以
下のいわゆる超高純度品を使用することが、接続回路の
腐食を防止する点で好ましい。また、上記不純物イオン
はエポキシ樹脂の硬化反応を阻害することがあるが、高
純度品を使用すると速硬化性が得られ、接続作業上も好
ましい。反応性接着剤1には硬化促進剤や硬化触媒を添
加してもよく、保存性に悪影響を及ぼさない範囲であれ
ば硬化剤や架橋剤類を添加してもよい。また、溶剤類や
分散媒、粘着性調整剤、充填剤、紫外線収縮剤、老化防
止剤、重合禁止剤、およびカップリング剤等の一般的な
添加剤類も含有できる。These epoxy resins have impurity ions (N
a +, K +, Cl - , S0 4 2- , etc.) and hydrolyzable chlorine and the like each 300pp
It is preferable to use a so-called high-purity product reduced to m or less, in particular, a so-called ultra-high-purity product of 100 ppm or less in terms of preventing corrosion of the connection circuit. In addition, although the impurity ions may inhibit the curing reaction of the epoxy resin, use of a high-purity product provides quick curing properties, which is preferable in connection work. A curing accelerator or a curing catalyst may be added to the reactive adhesive 1, and a curing agent or a cross-linking agent may be added as long as the storage stability is not adversely affected. Further, general additives such as a solvent, a dispersion medium, a tackifier, a filler, an ultraviolet shrinking agent, an antioxidant, a polymerization inhibitor, and a coupling agent can be contained.
【0012】熱可塑性樹脂を併用すると、反応性接着剤
にフィルム形成性、可撓性やリペア性を付与することが
できるので好ましい。これらの熱可塑性樹脂としては、
ポリエステル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、
ポリアリレート、アクリルゴム、フェノキシ樹脂、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリアセター
ル、ABS、NBR、SBR、ポリイミドやシリコーン変性樹脂
(アクリルシリコーン、エポキシシリコーン、ポリイミ
ドシリコーン)等が例示される。フィルム形成性、リペ
ア性、接着強度を満足させるには1種類の熱可塑性樹脂
を配合してもよいが、好ましくはフィルム形成性を目的
とする熱可塑性樹脂とリペア性を目的とする熱可塑性樹
脂の少なくとも2種類以上の熱可塑性樹脂を併用するの
がよい。なお、フィルム形成性を目的とする熱可塑性樹
脂としては、好ましくはフェノキシ樹脂等が、リペア性
を目的とする熱可塑性樹脂としては、好ましくは、汎用
溶剤に溶け易いフェノキシ樹脂、ポリエステル、シリコ
ーン変性樹脂等が挙げられる。It is preferable to use a thermoplastic resin in combination, because it can impart film-forming properties, flexibility and repairability to the reactive adhesive. As these thermoplastic resins,
Polyester, polyurethane, polyvinyl butyral,
Polyarylate, acrylic rubber, phenoxy resin, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyacetal, ABS, NBR, SBR, polyimide and silicone modified resin
(Acrylic silicone, epoxy silicone, polyimide silicone) and the like. One type of thermoplastic resin may be blended to satisfy film forming properties, repairability, and adhesive strength, but preferably a thermoplastic resin for film forming purposes and a thermoplastic resin for repairability purposes It is preferable to use at least two kinds of thermoplastic resins in combination. In addition, as the thermoplastic resin for the purpose of forming a film, a phenoxy resin or the like is preferable, and as the thermoplastic resin for the purpose of repairability, a phenoxy resin, polyester, or a silicone-modified resin that is easily soluble in a general-purpose solvent is preferable. And the like.
【0013】被覆粒子2は、硬化剤13を核とし、ポリウ
レタン、ポリスチレン、ゼラチンおよびポリイソシアネ
ート等の高分子物質や、ケイ酸カルシウム等の無機物、
およびニッケルや銅等の金属薄膜等の皮膜14により実質
的に覆われている。図3は被覆粒子2の断面模式図の一
例を示す。被覆粒子2の平均粒径は、加圧変形性導電粒
子3の変形前の平均粒径より大きいことが必要である。
回路接続部において、加熱加圧を行う時、加熱加圧を加
圧変形性導電粒子3より優先的に受け、被覆粒子2の皮膜
が変形破壊して、硬化反応が促進されるという理由から
である。ただし、被覆粒子2の平均粒径は、回路接続用
組成物7の厚みよりも小さくして、保存時の皮膜破壊を
防止する必要がある。粒子の形は特に制限は無いが、ア
スペクト比の小さい方が均一反応性を得る点から好まし
い。The coating particles 2 are composed of a hardener 13 as a core, a high molecular substance such as polyurethane, polystyrene, gelatin and polyisocyanate, an inorganic substance such as calcium silicate,
And a film 14 of a thin metal film such as nickel or copper. FIG. 3 shows an example of a schematic cross-sectional view of the coated particles 2. It is necessary that the average particle size of the coated particles 2 is larger than the average particle size of the pressure-deformable conductive particles 3 before deformation.
At the circuit connection part, when performing heating and pressing, the heating and pressing are given priority over the pressurized deformable conductive particles 3, and the coating of the coated particles 2 is deformed and destroyed, and the curing reaction is accelerated. is there. However, the average particle size of the coated particles 2 needs to be smaller than the thickness of the circuit connection composition 7 to prevent film destruction during storage. The shape of the particles is not particularly limited, but a smaller aspect ratio is preferable from the viewpoint of obtaining uniform reactivity.
【0014】被覆粒子2の核材である硬化剤13として
は、反応性接着剤1に対して公知の各種物質を適量用い
ることができる。例えば、エポキシ樹脂の場合の硬化剤
について例示すると、脂肪族アミン、芳香族アミン、カ
ルボン酸無機物、チオール、アルコール、フェノール、
イソシアネート、第三級アミン、ホウ素錯塩、無機酸、
ヒドラジド、およびイミダゾール等の各系およびこれら
の変性物が採用できる。これらの中では、速硬化性で接
続作業性に優れ、また、イオン重合型で触媒的に作用し
化学当量的な考慮が少なくてよい第三級アミン、ホウ素
錯塩、ヒドラジド、およびイミダゾール系が好ましく、
これらは単独もしくは2種以上の混合体として適用でき
る。被覆粒子2を用いた硬化反応は、回路の接続時に完
了していることが好ましいが、回路間で変形性導電粒子
の変形を保持する状態まで反応が進行していればよく、
この状態で更に後硬化することもできる。As the curing agent 13 which is a core material of the coated particles 2, an appropriate amount of various known substances for the reactive adhesive 1 can be used. For example, when a curing agent in the case of an epoxy resin is exemplified, an aliphatic amine, an aromatic amine, a carboxylic acid inorganic substance, a thiol, an alcohol, a phenol,
Isocyanates, tertiary amines, boron complex salts, inorganic acids,
Various systems such as hydrazide and imidazole and modified products thereof can be employed. Of these, tertiary amines, boron complex salts, hydrazides, and imidazoles, which are fast-curing and excellent in connection workability, and which may act as a catalyst in ionic polymerization and have little consideration of chemical equivalents, are preferred. ,
These can be applied alone or as a mixture of two or more. The curing reaction using the coated particles 2 is preferably completed at the time of connection of the circuit, but it is sufficient that the reaction has progressed to a state where the deformation of the deformable conductive particles is maintained between the circuits,
In this state, post-curing can be further performed.
【0015】被覆粒子2は、熱活性型、すなわち一定の
温度下で皮膜の破壊を生じる方式のものが、圧力活性型
のものより均一反応系が得られることから微小接続部の
信頼性が向上するので好ましい。本発明の回路接続用組
成物7の好ましい熱活性温度は40〜250℃、より好ましく
は100〜170℃である。熱活性温度が40℃以下では保存時
に活性化し易いことから冷蔵保存が必要となり、250℃
以上では接続時に高温とする必要があることから、接続
部の周辺材料への熱損傷を与え易くなる。本発明に用い
る熱活性温度は、示差走査型熱量計(Differential Sca
nning Calorimetry,DSC)を用い、回路接続用組成物7を
10℃/分で常温から昇温させた時の発熱量のピーク温度
を示すものとする。The coated particles 2 are of the heat activated type, that is, of the type in which the film is destroyed at a certain temperature, a more uniform reaction system can be obtained than that of the pressure activated type, so that the reliability of the minute connection is improved. Is preferred. The preferred thermal activation temperature of the circuit connecting composition 7 of the present invention is 40 to 250 ° C, more preferably 100 to 170 ° C. If the heat activation temperature is 40 ° C or lower, refrigerated storage is necessary because it is easily activated during storage, and 250 ° C
In the above, since it is necessary to make the temperature high at the time of connection, it is easy to cause thermal damage to the peripheral material of the connection portion. The thermal activation temperature used in the present invention is a differential scanning calorimeter (Differential Sca
nning Calorimetry, DSC) to obtain the composition 7 for circuit connection.
The peak temperature of the calorific value when the temperature is raised from room temperature at 10 ° C./min is shown.
【0016】加圧変形性導電粒子3は、例えば、ポリス
チレンやアクリル樹脂等の高分子核材15の表面を、ニッ
ケルや金、銀、銅および半田等からなり、その厚みが1
μm以下の導電性の金属薄層16で被覆した粒子である。
図4は、加圧変形性導電粒子3の断面模式図の一例を示
す。加圧変形性導電粒子3は、前述したように、前記被
覆粒子2より平均粒径が小さいことが必要である。これ
らの加圧変形性導電粒子3は、回路接続時の加熱加圧下
で変形することが必要であり、その時の条件としては、
温度250℃以下、圧力100kg/cm2以下が一般的に用いら
れる。The pressure-deformable conductive particles 3 are made of, for example, nickel, gold, silver, copper, solder, or the like on the surface of a polymer core material 15 such as polystyrene or acrylic resin.
The particles are covered with a conductive thin metal layer 16 having a size of not more than μm.
FIG. 4 shows an example of a schematic cross-sectional view of the pressure-deformable conductive particles 3. As described above, the pressure-deformable conductive particles 3 need to have a smaller average particle size than the coating particles 2. These pressure-deformable conductive particles 3 need to be deformed under heating and pressure at the time of circuit connection.
A temperature of 250 ° C. or less and a pressure of 100 kg / cm 2 or less are generally used.
【0017】高分子核材15としては、ポリスチレン、エ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等の各種プ
ラスチック類、スチレンブタジエンゴムやシリコーンゴ
ム等の各種ゴム類、セルロース、デンプン、スクアレン
等の天然高分子類等があり、これらを主成分として、架
橋剤、硬化剤、老化防止剤等の各種添加剤を用いること
もできる。Examples of the polymer core material 15 include various plastics such as polystyrene, epoxy resin, acrylic resin and silicone resin, various rubbers such as styrene butadiene rubber and silicone rubber, and natural polymers such as cellulose, starch and squalene. Various additives such as a cross-linking agent, a curing agent, and an anti-aging agent can be used as the main components.
【0018】金属薄層16は、導電性を有する各種の金
属、金属酸化物、合金等が用いられる。金属薄層16は、
単層もしくは二層以上の複層とすることができる。金属
薄層16の金属の例としては、Zn、Al、Sb、Au、Ag、Sn、
Fe、Cu、Pb、Ni、Pb、Pt等があり、これらを単独もしく
は複合(半田等)して用いることが可能である。さらに、
特殊な目的、例えば硬度や表面張力の調整および密着性
の改良等のために、Mo、Mn、Cd、Si、Ta、およびCr等の
他の金属や、それらの化合物等を添加することができ
る。これらの金属のうち、導電性と耐腐食性の点からN
i、Ag、Au、Sn、Cu、Pbが好ましく用いられる。The thin metal layer 16 is made of various conductive metals, metal oxides, alloys and the like. The thin metal layer 16
It can be a single layer or a multilayer of two or more layers. Examples of the metal of the thin metal layer 16 include Zn, Al, Sb, Au, Ag, Sn,
There are Fe, Cu, Pb, Ni, Pb, Pt and the like, and these can be used alone or in combination (such as solder). further,
Other metals such as Mo, Mn, Cd, Si, Ta, and Cr, and compounds thereof can be added for special purposes, such as adjusting hardness and surface tension and improving adhesion. . Of these metals, from the viewpoint of conductivity and corrosion resistance, N
i, Ag, Au, Sn, Cu, Pb are preferably used.
【0019】高分子核材15上に金属薄層16を形成する方
法としては、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法、溶射法等の乾式法、流動層法、無電解めっ
き法等が適用できる。これらの方法の中では、湿式の分
散系によることから、均一な厚みの被覆層を得ることの
できる無電解めっき法が好ましい。金属薄層16の厚み
は、通常0.01〜5μm、好ましくは0.05〜1.0μmである。
金属薄層16の厚みは、金属下地層のある場合には、その
層も含むものとする。金属薄層16の厚みが上記範囲にあ
ると導電性と回路接続時における高分子核材の変形の点
から接続信頼性が優れている。As a method of forming the thin metal layer 16 on the polymer core material 15, a dry method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a thermal spraying method, a fluidized bed method, and an electroless plating method are applied. it can. Among these methods, an electroless plating method capable of obtaining a coating layer having a uniform thickness is preferable because of a wet dispersion system. The thickness of the thin metal layer 16 is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 1.0 μm.
The thickness of the thin metal layer 16 includes the metal base layer, if there is one. When the thickness of the thin metal layer 16 is in the above range, connection reliability is excellent in terms of conductivity and deformation of the polymer core material during circuit connection.
【0020】加圧変形性導電粒子3を回路接続に用いた
場合、回路接続時の加圧あるいは加熱加圧により高分子
核材が変形し、回路面あるいは加圧変形性導電粒子の相
互間で押しつけるように適度に変形して十分な接触面積
が得られることや、高分子核材の剛性や熱膨張係数が接
着剤の性質に極めて近いことと、金属薄層の厚みが、例
えば1μm以下と薄いため変形性を有すること等により、
上部回路4と下部回路5の間の膨張収縮に対し追随性を有
するので、温度変化を含む長期の接続信頼性が著しく向
上する。When the pressure-deformable conductive particles 3 are used for circuit connection, the polymer nucleus material is deformed by pressurization or heating and pressurization at the time of circuit connection, and the circuit surface or between the pressure-deformable conductive particles is interposed. Sufficient contact area can be obtained by appropriately deforming as if pressing, the rigidity and thermal expansion coefficient of the polymer core material are very close to the properties of the adhesive, and the thickness of the thin metal layer is, for example, 1 μm or less. Because it is thin and has deformability,
Since it has the followability to the expansion and contraction between the upper circuit 4 and the lower circuit 5, long-term connection reliability including temperature change is significantly improved.
【0021】本発明に用いる加圧変形性導電粒子3の粒
径は、変形前の状態で平均粒径0.01〜100μm、好ましく
は1〜50μmである。上記範囲にあると、加圧変形性導電
粒子の表面積や、面方向の絶縁性の点で優れている。平
均粒径が上記範囲内であれば、加圧変形性導電粒子3の
形状は特に規定しないが、良好な異方導電性を得るには
アスペクト比のなるべく小さなもの、例えば球状、円錐
状等のものが好ましい。なお、これらの加圧変形性導電
粒子は、1種単独で用いても2種以上併用して用いてもよ
い。The particle diameter of the pressure-deformable conductive particles 3 used in the present invention is 0.01 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm, before deformation. When it is in the above range, it is excellent in the surface area of the pressure-deformable conductive particles and the insulating property in the plane direction. If the average particle size is within the above range, the shape of the pressure-deformable conductive particles 3 is not particularly limited, but in order to obtain good anisotropic conductivity, one having an aspect ratio as small as possible, for example, spherical, conical, etc. Are preferred. These pressure-deformable conductive particles may be used alone or in combination of two or more.
【0022】前記加圧変形性導電粒子3の含量は、前記
接着剤成分、すなわち、前記した反応性接着剤+被覆粒
子+熱可塑性樹脂に対し0.1〜15体積%使用する。この値
が0.1〜15体積%の範囲では、良好な異方導電性を示す
が、0.1体積%未満では、微細回路の接続において厚み方
向の導電性が得にくく、15体積%を超えると隣接回路間
の絶縁性が得られなくなる。このような理由から、信頼
性の高い異方導電性を得るためには、加圧変形性導電粒
子の含量の値を1〜10体積%の範囲内に設定することがよ
り好ましい。The content of the pressure-deformable conductive particles 3 is 0.1 to 15% by volume based on the adhesive component, that is, the reactive adhesive + the coating particles + the thermoplastic resin. When this value is in the range of 0.1 to 15% by volume, good anisotropic conductivity is exhibited.However, if it is less than 0.1% by volume, it is difficult to obtain conductivity in the thickness direction in connection of a fine circuit, and if it exceeds 15% by volume, an adjacent circuit is not obtained. The insulation between them cannot be obtained. For these reasons, in order to obtain highly reliable anisotropic conductivity, it is more preferable to set the value of the content of the pressure-deformable conductive particles in the range of 1 to 10% by volume.
【0023】本発明のヒートシールコネクター8に使用
するフレキシブルプリント基板9の基材フィルムとして
は、ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレンサルファ
イド、ポリアリレート、液晶ポリマー等の耐熱性のある
フィルムが使用される。回路部分(端子部10)には、カ
ーボン、銀、銅等の導電性材料を使用した導電性ペース
トにより印刷したもの、基材フィルムに接着剤を介し銅
箔をラミネートしエッチングにて回路を作製したもの、
基材フィルムに銅のスパッタリングを行った後、銅メッ
キを行いエッチングにて回路を作製したもの、基材フィ
ルムに銅箔をフィルム化可能なワニスで接着したものを
エッチングにて回路を作製したもの、基材フィルムに銅
のスパッタリングあるいは無電解メッキにて薄膜を作製
後、回路化し回路上に銅メッキを施したものに腐食防止
のためNi、Au、Sn等の金属を1種類以上メッキしたもの
を用いる。回路の微細化に対応するため、回路の厚みは
薄い方がよく、0.2〜40μm、特に2〜20μmがよい。As the base film of the flexible printed circuit board 9 used for the heat seal connector 8 of the present invention, a heat-resistant film such as polyester, polyimide, polyethylene sulfide, polyarylate, liquid crystal polymer or the like is used. The circuit part (terminal part 10) is printed with a conductive paste using a conductive material such as carbon, silver, copper, etc. A copper foil is laminated on a base film via an adhesive and a circuit is created by etching What did
After sputtering copper on the base film, the circuit was prepared by etching with copper plating, and on the base film, the circuit was prepared by etching a copper foil bonded to a film-forming varnish. After forming a thin film on the base film by sputtering or electroless plating of copper, forming a circuit and forming a copper plating on the circuit, one or more metals such as Ni, Au, Sn, etc. are plated to prevent corrosion Is used. In order to cope with miniaturization of the circuit, it is better that the thickness of the circuit is thin, and it is preferably 0.2 to 40 μm, particularly 2 to 20 μm.
【0024】フレキシブルプリント基板9上に前記回路
接続用組成物7を設けるには、スクリーン印刷方法が有
効である。スクリーン印刷方法は、例えば、密閉式印刷
ヘッド(クロスフロー社製、商品名)に回路接続用組成物
を注入し、フレキシブルプリント基板の端子部上にメタ
ルマスクを設置し、メタルマスク上に配置された密閉式
印刷ヘッドにて回路接続用組成物を押出しながら印刷す
る。この方法により、回路接続用組成物が端子部上にの
み設けられる。その後、低温で乾燥することによって、
フレキシブルプリント基板の端子部上に回路接続用組成
物を設けた本発明のヒートシールコネクターが得られ
る。In order to provide the composition 7 for circuit connection on the flexible printed circuit board 9, a screen printing method is effective. The screen printing method, for example, inject the composition for circuit connection into a closed print head (manufactured by Crossflow, trade name), install a metal mask on the terminal part of the flexible printed board, and arrange on the metal mask Printing is performed while extruding the composition for circuit connection using a sealed print head. By this method, the composition for circuit connection is provided only on the terminal portion. Then, by drying at low temperature,
The heat seal connector of the present invention in which the circuit connection composition is provided on the terminal portion of the flexible printed board is obtained.
【0025】[0025]
【実施例】本発明を以下の実施例により、更に詳細に説
明する。 (実施例1) (1)反応性接着剤 エピコートYL-983U(ビスフェノール型エポキシ樹脂、油
化シェルエポキシ社製、商品名)を使用した。 (2)被覆粒子 ノバキュアHX-3941HP(イミダゾール変性体を核とし、そ
の表面を架橋ポリウレタンで被覆した平均粒径5μmのマ
イクロカプセル化した粒子を、液状エポキシ樹脂中に分
散したもの、旭化成工業社製、商品名) を使用した。 (3)加圧変形性導電粒子 ジビニルベンゼンを主成分とする架橋共重合体の表面
が、ニッケル層と金層で覆われてなる平均粒径3μmの
粒子であるAU-203(積水ファインケミカル社製、商品名)
を使用した。 (4)熱可塑性樹脂 YP50(フェノキシ樹脂、東都化成社製、商品名) およびU
E3300(ポリエステル樹脂、ユニチカ社製、商品名) を使
用した。 (5)シランカップリング剤 KBM403(信越化学工業社製、商品名) を使用した。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. (Example 1) (1) Reactive adhesive Epicoat YL-983U (bisphenol-type epoxy resin, trade name, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used. (2) Coated particles Novacure HX-3941HP (dispersed in liquid epoxy resin, microencapsulated particles having an average particle size of 5 μm, whose core is a modified imidazole and whose surface is coated with cross-linked polyurethane, manufactured by Asahi Kasei Corporation) , Product name). (3) Pressure-deformable conductive particles AU-203 (manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.), which is a particle having an average particle size of 3 μm in which the surface of a crosslinked copolymer containing divinylbenzene as a main component is covered with a nickel layer and a gold layer. ,Product name)
It was used. (4) Thermoplastic resin YP50 (phenoxy resin, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name) and U
E3300 (polyester resin, manufactured by Unitika, trade name) was used. (5) Silane coupling agent KBM403 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used.
【0026】上記(1)〜(5)を表1に示すような比率とな
るように、トルエン/MEK=50/50の溶剤にて溶かし、固
形分が35%になるように配合した。そして、得られた溶
液を離型処理PET(ポリエチレンテレフタレート)フィ
ルム50μm上に塗布し、60℃、15分間の乾燥を行い、17
μmの厚みを有するフィルム状の接続部材を得た。得ら
れた接続部材は室温での長期保管後の特性を考慮して、
全て40℃−24時間のエージング後に評価を行った。The above (1) to (5) were dissolved in a solvent of toluene / MEK = 50/50 so as to have a ratio as shown in Table 1, and were blended so that the solid content became 35%. Then, the obtained solution is applied on a release-treated PET (polyethylene terephthalate) film 50 μm, dried at 60 ° C. for 15 minutes, and
A film-like connecting member having a thickness of μm was obtained. Considering the characteristics after long-term storage at room temperature,
All were evaluated after aging at 40 ° C. for 24 hours.
【0027】(評価)上記接続部剤を用いて、ライン巾
25μm、ピッチ50μm、厚み8μmの銅回路を300本有する
フレキシブルプリント基板と、全面に酸化インジウム
(ITO)の薄層を有する(表面抵抗30Ω/口)、厚み1.1mm
のガラス板とを190℃−20kg/cm2−207秒の加熱加圧に
より接続幅2mmで接続した。この時、まず、ガラス板上
の酸化インジウムに接続部材の接着面を貼付けた後、70
℃−5kg/cm−3秒の仮接続を行い、その後セパレータの
離型処理PETフィルムを剥離してフレキシブルプリント
基板との接続を行った。上記により得た回路接続品の評
価結果を表1に示した。なお、表1に示した各評価項目の
内容は、以下の通りである。 (活性温度)接続部材を30℃から10℃/分の速度で昇温
したときのDSCのピーク温度を測定した。 (接続抵抗)接続部を含むフレキシブルプリント基板の
隣接回路の抵抗(Ω)をマルチメータで測定し、平均値
と最大値(MAX)で表示した。 (接着強度)テンシロン万能試験機(エー・アンド・デ
ィ社製、商品名)にて、ガラス基板との接着面を測定し
た(速度:50mm/min、ワークの幅:10 mm、90°剥
離)。 (リペア性)硬化後アセトンにてリペアし、下記の評価
基準にて評価した。 ○…剥がれる、△…時間が掛かって剥がれる、×…一部
残る(Evaluation) Line width using the above connecting agent
Flexible printed circuit board with 300 copper circuits of 25μm, pitch 50μm, thickness 8μm, and a thin layer of indium oxide (ITO) on the whole surface (surface resistance 30Ω / port), thickness 1.1mm
Was connected at a connection width of 2 mm by heating and pressing at 190 ° C.-20 kg / cm 2 -207 seconds. At this time, first, after bonding the bonding surface of the connecting member to indium oxide on the glass plate,
Temporary connection was performed at -5 kg / cm-3 seconds, and then the PET film of the separator was peeled off to connect to the flexible printed circuit board. Table 1 shows the evaluation results of the circuit connection products obtained as described above. The contents of each evaluation item shown in Table 1 are as follows. (Activation temperature) The peak temperature of DSC was measured when the temperature of the connection member was raised from 30 ° C. at a rate of 10 ° C./min. (Connection resistance) The resistance (Ω) of the adjacent circuit of the flexible printed circuit board including the connection part was measured with a multimeter and displayed as an average value and a maximum value (MAX). (Adhesive strength) The adhesive surface with the glass substrate was measured with a Tensilon universal testing machine (trade name, manufactured by A & D Company) (speed: 50 mm / min, work width: 10 mm, 90 ° peeling) . (Repairability) After curing, it was repaired with acetone and evaluated according to the following evaluation criteria. ○… Peel off, △… Peel off over time, ×… Partially remain
【0028】実施例1の接続体の断面を走査型電子顕微
鏡で観察したところ、導電粒子は、前述した図1(c)の
ように、いずれも加圧方向に大きく変形しており、回路
面に対し面状に接触していた。また、長期保管を考慮し
た40℃−24時間のエージングによっても、良好な特性が
得られ、リペア性に関してはアセトンに対して良好な結
果が得られた。When the cross section of the connector of Example 1 was observed with a scanning electron microscope, the conductive particles were all greatly deformed in the pressing direction as shown in FIG. To the surface. In addition, good characteristics were obtained by aging at 40 ° C. for 24 hours in consideration of long-term storage, and good results were obtained with respect to acetone in terms of repairability.
【0029】(実施例2)実施例2は、実施例1で使用し
たUE3300の代わりに、熱可塑性ポリイミドシリコーン樹
脂(X-22-8951、信越化学工業社製、商品名)を使用し
た。実施例1と同様に評価を行った結果、表1に示すよ
うに、良好な接続特性が得られた。Example 2 In Example 2, a thermoplastic polyimide silicone resin (X-22-8951, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) was used in place of UE3300 used in Example 1. As a result of evaluation in the same manner as in Example 1, as shown in Table 1, good connection characteristics were obtained.
【0030】(実施例3〜5)実施例3〜5は、実施例2に
おいて、反応性接着剤、被覆粒子および熱可塑性樹脂の
配合量を変更したものであるが、いずれも表1に示すよ
うに良好な接続特性が得られた。(Examples 3 to 5) In Examples 3 to 5, the amounts of the reactive adhesive, the coated particles and the thermoplastic resin were changed from those in Example 2, and all of them are shown in Table 1. Thus, good connection characteristics were obtained.
【0031】(比較例1)比較例1は、実施例2で使用し
たAU-203の代わりに、被覆粒子より大きい平均粒径を有
する加圧変形性導電粒子(ジビニルベンゼンを主成分と
する架橋共重合体の表面が、ニッケル層と金層で覆われ
てなる平均粒径8μmの粒子であるAU-208(積水ファイン
ケミカル社製、商品名) )を使用した。両者の性能はほ
ぼ同等だが、接着強度は実施例2と比較してやや低かっ
た。同じ配合であるにもかかわらず、接着強度が異なる
のは、比較例1は硬化がまだ完全に進んでいないと考え
られ、被覆粒子より小さい平均粒径を有する加圧変形性
導電粒子を使用した方が、硬化速度が速くなることがわ
かる。(Comparative Example 1) In Comparative Example 1, in place of AU-203 used in Example 2, a pressure-deformable conductive particle having a larger average particle diameter than a coated particle (crosslinked mainly containing divinylbenzene) AU-208 (trade name, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.), which is a particle having an average particle size of 8 μm and whose surface is covered with a nickel layer and a gold layer, was used. Although the performance of both was almost the same, the adhesive strength was slightly lower than that of Example 2. Despite having the same composition, the difference in adhesive strength is that Comparative Example 1 was considered to have not yet completely cured, and used pressure-deformable conductive particles having an average particle size smaller than the coated particles. It can be seen that the curing speed is faster.
【0032】(比較例2)比較例2は、実施例3で使用し
たX-22-8951を除いたものである。その結果、接着強度
は向上したが、リペア性能は他の配合に比べて劣ってい
た。Comparative Example 2 In Comparative Example 2, X-22-8951 used in Example 3 was omitted. As a result, the adhesive strength was improved, but the repair performance was inferior to other formulations.
【0033】(実施例6)実施例1の配合からなる組成物
を密閉式印刷ヘッド(クロスフロー社製、商品名)に注入
し、ライン巾25μm、ピッチ50μm、厚み8μmの銅回路を
300本有するフレキシブルプリント基板上に厚み50μmの
メタルマスクを設置し、メタルマスク上の密閉式印刷ヘ
ッドにて回路接続用組成物を押出しながら印刷した。そ
の後、50℃の熱風乾燥機に10分間投入し、端子部の接着
剤厚さ17μmのヒートシールコネクターを得た。これを
実施例1と同様、ガラス基板の酸化インジウム上に190℃
−20kg/cm2−20秒の加熱加圧により接続した。その結
果、接続抵抗は2〜3Ωで接続抵抗のバラツキもなく、微
細回路にも接続することができ、また、この基板に対し
てプレッシャークッカーテスト(PCT、121℃、100時間)
を行い抵抗値を測定したところ接続抵抗は変わらず、信
頼性の高いヒートシールコネクターが得られた。Example 6 A composition having the composition of Example 1 was injected into a closed print head (trade name, manufactured by Crossflow), and a copper circuit having a line width of 25 μm, a pitch of 50 μm, and a thickness of 8 μm was prepared.
A metal mask having a thickness of 50 μm was placed on a 300 flexible printed circuit board, and printing was performed while extruding a composition for circuit connection with a closed print head on the metal mask. Thereafter, the resultant was put into a hot-air dryer at 50 ° C. for 10 minutes to obtain a heat-seal connector having a terminal portion having an adhesive thickness of 17 μm. This was placed at 190 ° C. on indium oxide on a glass substrate in the same manner as in Example 1.
The connection was established by heating and pressing for -20 kg / cm 2 -20 seconds. As a result, the connection resistance is 2-3Ω and there is no variation in connection resistance, and it can be connected to fine circuits.In addition, the pressure cooker test (PCT, 121 ° C, 100 hours) for this substrate
When the resistance value was measured, the connection resistance did not change, and a highly reliable heat seal connector was obtained.
【0034】(比較例3)ヒートシールコネクターとし
て、熱可塑性樹脂タイプのJC-DP(信越ポリマー社製、商
品名)を用いて、実施例6と同様、ガラス基板の酸化イン
ジウム上に150℃−30kg/cm2−10秒の条件にて接続し、
プレッシャークッカーテスト(PCT、121℃、2時間)を行
い抵抗値を測定したところ、オープンが発生し、測定不
可となった。この結果から、実施例6は比較例3に比べて
信頼性の向上が得られたことがわかる。(Comparative Example 3) As a heat seal connector, a thermoplastic resin type JC-DP (trade name, manufactured by Shin-Etsu Polymer Co., Ltd.) was used. Connect under the condition of 30 kg / cm 2 -10 seconds,
When the resistance value was measured by performing a pressure cooker test (PCT, 121 ° C., 2 hours), an open occurred and the measurement became impossible. From this result, it can be seen that the reliability of Example 6 was improved compared to Comparative Example 3.
【0035】[0035]
【表1】 [Table 1]
【0036】[0036]
【発明の効果】本発明によれば、接続部材中の被覆粒子
の平均粒径よりも、加圧変形性導電粒子の平均粒径が小
さいため、回路接続部の加熱加圧により被覆粒子が加圧
変形性導電粒子に比べて熱、圧力を優先的に受け、被覆
粒子の皮膜が変形破壊して硬化反応が速く進行する。ま
た、被覆粒子より遅れて変形する加圧変形性導電粒子
は、反応性接着剤が昇温により低粘度化しているので、
該粒子表面から接着剤が排除され易くなっているため、
回路に接した状態で自由に変形することができ、かつ、
高温下であることから硬化反応が速やかに進行する。し
たがって、加圧変形性粒子が回路間で変形した状態で硬
化接着剤により固定することができるので、回路との接
触が十分となり、加圧変形することで接続抵抗のバラツ
キが無く、微小面積の接続に適応可能な安定した接続が
得られる。また、接続不良部の再生に関しても、リペア
性能のある熱可塑性樹脂を配合することにより、硬化後
の接着剤は汎用溶剤にて熱可塑性樹脂が溶けるため、リ
ペアすることができるので、接続部の再生も可能とな
る。さらに、熱硬化性樹脂を使用した本発明のヒートシ
ールコネクターは、耐熱性も上がり信頼性が向上する。
そのため、本発明は、回路の微細化の進む配線板や半導
体等の電子部品の接続に極めて有利である。According to the present invention, since the average particle size of the pressure-deformable conductive particles is smaller than the average particle size of the coating particles in the connecting member, the coating particles are added by heating and pressing the circuit connecting portion. Heat and pressure are preferentially received compared to the pressure-deformable conductive particles, and the coating of the coated particles deforms and breaks, and the curing reaction proceeds faster. In addition, the pressure-deformable conductive particles that deform later than the coated particles have a low viscosity due to the temperature rise of the reactive adhesive,
Because the adhesive is easily removed from the particle surface,
It can be deformed freely while in contact with the circuit, and
Due to the high temperature, the curing reaction proceeds rapidly. Therefore, the pressure-deformable particles can be fixed with the cured adhesive in a state where they are deformed between the circuits, so that contact with the circuits is sufficient, and there is no variation in connection resistance due to the pressure deformation, and a small area is obtained. A stable connection adaptable to the connection is obtained. Also, regarding the regeneration of the defective connection part, by blending a thermoplastic resin having repair performance, the adhesive after curing can be repaired because the thermoplastic resin is dissolved in a general-purpose solvent. Playback is also possible. Furthermore, the heat seal connector of the present invention using a thermosetting resin has improved heat resistance and improved reliability.
Therefore, the present invention is extremely advantageous for connection of electronic components such as wiring boards and semiconductors in which circuit miniaturization progresses.
【図1】本発明の回路接続用組成物を用いた回路接続部
の状況を示す断面模式図、(a)〜(c)は接着時の工程を示
す記号である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state of a circuit connecting portion using the circuit connecting composition of the present invention, and (a) to (c) are symbols showing steps at the time of bonding.
【図2】ヒートシールコネクターを用いた状態を示す断
面模式図、(a)は加熱加圧前、(b)は硬化後を示す。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a heat seal connector is used. FIG. 2 (a) shows a state before heating and pressurizing, and FIG.
【図3】被覆粒子の一例を示す断面模式図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of a coated particle.
【図4】加圧変形性導電粒子の一例を示す断面模式図で
ある。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a pressure-deformable conductive particle.
1…反応性接着剤 9…フレキシブルプ
リント基板 2…被覆粒子 10…端子部 3…加圧変形性導電粒子 11…電極 4…上部回路 12…基板 5…下部回路 13…硬化剤 6…硬化接着剤 14…皮膜 7…回路接続用組成物 15…高分子核材 8…ヒートシールコネクター 16…金属薄層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reactive adhesive 9 ... Flexible printed circuit board 2 ... Coating particles 10 ... Terminal part 3 ... Pressure deformable conductive particles 11 ... Electrode 4 ... Upper circuit 12 ... Substrate 5 ... Lower circuit 13 ... Curing agent 6 ... Curing adhesive 14 ... Coating 7 ... Circuit connection composition 15 ... Polymer core material 8 ... Heat seal connector 16 ... Metal thin layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/60 311 H01L 21/60 311R H01R 11/01 501 H01R 11/01 501E // H01B 5/16 H01B 5/16 Fターム(参考) 4J040 BA012 BA102 CA062 DB022 DD072 DF002 DF052 DL042 EA012 EC061 EC071 EC091 EC121 EC281 ED002 EE062 EF002 EH032 EK032 HA066 HA076 HA136 HA316 JB02 KA03 KA16 KA32 LA03 LA09 NA19 NA20 5F044 NN19 5G301 DA03 DA05 DA06 DA10 DA42 DD03 5G307 AA02 AA07 HA02 HB03 HC01──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/60 311 H01L 21/60 311R H01R 11/01 501 H01R 11/01 501E // H01B 5/16 H01B 5/16 F-term (reference) 4J040 BA012 BA102 CA062 DB022 DD072 DF002 DF052 DL042 EA012 EC061 EC071 EC091 EC121 EC281 ED002 EE062 EF002 EH032 EK032 HA066 HA076 HA136 HA316 JB02 KA03 KA16 KA32 LA03 DA04 DA03 5 AA02 AA07 HA02 HB03 HC01
Claims (3)
性導電粒子の含量が成分(1)+(2)+(4)に対し0.1〜15体積
%である回路接続用組成物。 (1)エポキシ系の反応性接着剤 (2)前記反応性接着剤の硬化剤を核とし、その表面が皮
膜により実質的に覆われてなる被覆粒子 (3)前記被覆粒子より小さい平均粒径を有する高分子核
材の表面を金属薄層で被覆してなる加圧変形性導電粒子 (4)熱可塑性樹脂(1) The following (1) to (4) are essential components, and the content of the pressure-deformable conductive particles is 0.1 to 15 volumes per component (1) + (2) + (4).
% For the circuit connection composition. (1) an epoxy-based reactive adhesive (2) a coating particle whose core is a curing agent of the reactive adhesive and whose surface is substantially covered with a film (3) an average particle size smaller than the coating particle Deformable conductive particles obtained by coating the surface of a high molecular core material with a thin metal layer (4) Thermoplastic resin
性温度(昇温速度10℃/分の時のDSCピーク温度)が70〜2
00℃である回路接続用組成物。2. The composition according to claim 1, which has a thermal activation temperature (DSC peak temperature at a rate of temperature increase of 10 ° C./min) of 70-2.
A composition for circuit connection having a temperature of 00 ° C.
ルプリント基板の端子部上に設けた構造を有するヒート
シールコネクター。3. A heat seal connector having a structure in which the composition according to claim 1 is provided on a terminal portion of a flexible printed board.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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-
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- 2001-02-28 JP JP2001053479A patent/JP2002256245A/en active Pending
Cited By (2)
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GB2466324A (en) * | 2008-12-18 | 2010-06-23 | Bostik Ltd | Sealant tape comprising offsetting particles |
GB2466324B (en) * | 2008-12-18 | 2011-04-20 | Bostik Ltd | Sealant tape comprising offsetting particles |
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