JP2002248638A - Method for manufacturing polyimide film - Google Patents

Method for manufacturing polyimide film

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JP2002248638A
JP2002248638A JP2001052235A JP2001052235A JP2002248638A JP 2002248638 A JP2002248638 A JP 2002248638A JP 2001052235 A JP2001052235 A JP 2001052235A JP 2001052235 A JP2001052235 A JP 2001052235A JP 2002248638 A JP2002248638 A JP 2002248638A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a polyimide film with high productivity without bringing about the lowering of strength. SOLUTION: The polyimide film can be manufactured with high productivity without bringing about the lowering of strength by a process for casting or applying a polyamic acid organic solvent solution on a support to dry the formed layer to manufacture a partially cured and/or partially dried polyamic acid film, a process for immersing the polyamic acid film in a tertiary amine or a tertiary amine solution or coating the same with the tertiary amine or the tertiary amine solution and a process for drying the polyamic acid film while imidating the polyamic acid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、生産性良好で、高
い機械的強度を有するポリイミドフィルムの製造方法を
提供するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention provides a method for producing a polyimide film having good productivity and high mechanical strength.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドフィルムは、耐熱性、絶縁
性、耐溶剤性および耐低温性等を備えており、コンピュ
ータ並びにIC制御の電気・電子機器部品材料として広く
用いられている。
2. Description of the Related Art Polyimide films have heat resistance, insulation, solvent resistance, low temperature resistance and the like, and are widely used as materials for electric and electronic devices for computers and IC control.

【0003】近年、携帯電話などの小型汎用機器にポリ
イミドフィルムが多く使用されるようになり、ポリイミ
ドフィルムに対する需要も益々増大してきており、さら
なる高生産性を有するポリイミドフィルムの製造方法の
開発が急がれている。
In recent years, polyimide films have been widely used for small general-purpose devices such as mobile phones, and the demand for polyimide films has been increasing. As a result, the development of a method for producing polyimide films having even higher productivity has been rapidly developed. Is peeling.

【0004】通常ポリイミドフィルムは、熱キュア法ま
たは化学キュア法のいずれかの方法により製造される。
たとえば熱キュア法の場合、ポリイミド前駆体であるポ
リアミド酸ワニスから溶媒を除去してポリアミド酸フィ
ルムを形成した後、加熱することによりポリイミドフィ
ルムに変換する。この方法において加熱時間を短縮しよ
うとすると十分な物性を発現しない、フィルムが割れて
しまう等の問題が出てくる。また、化学キュア法の場
合、ポリアミド酸ワニスに化学イミド化剤を混合してゲ
ルフィルムを得、これをさらに硬化・乾燥させてポリイ
ミドフィルムを得るが、生産性を向上するために部分的
に硬化及び/または部分的に乾燥されたポリアミド酸フ
ィルム(ゲルフィルム)の作成時間を短くしようとする
と、ゲルフィルムの化学イミド化が不十分となり、結果
として製造されたポリイミドフィルムの引裂伝搬強度、
引張強度および接着強度など基本的な機械的強度の低下
をきたすという問題点があった。
[0004] Usually, a polyimide film is produced by either a heat curing method or a chemical curing method.
For example, in the case of the heat curing method, a solvent is removed from a polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor, to form a polyamic acid film, and then converted to a polyimide film by heating. In this method, if the heating time is reduced, problems such as insufficient physical properties and breakage of the film arise. In addition, in the case of the chemical curing method, a gel film is obtained by mixing a polyamic acid varnish with a chemical imidizing agent, and this is further cured and dried to obtain a polyimide film, but partially cured to improve productivity. Attempting to shorten the time of preparing a partially dried polyamic acid film (gel film) and / or insufficient chemical imidization of the gel film, resulting in a tear propagation strength of the resulting polyimide film,
There is a problem that basic mechanical strength such as tensile strength and adhesive strength is reduced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記状況に鑑み、本発
明者らは鋭意検討を行った結果、高い生産性を有し、か
つ高い機械的強度を有するポリイミドフィルムの製造方
法に関し、本発明に至ったのである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, the present inventors have made intensive studies and as a result, the present invention relates to a method for producing a polyimide film having high productivity and high mechanical strength. It has been reached.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明にかかるポリイミ
ドフィルムの製造方法は、ポリアミド酸有機溶媒溶液を
支持体上に流延しまたは塗布して乾燥し、部分的に硬化
及び/または部分的に乾燥されたポリアミド酸フィルム
を製造する工程、該ポリアミド酸フィルムを第3級アミ
ンまたは第3級アミンの溶液に浸漬し、あるいは、該ポ
リアミド酸フィルムに第3級アミンまたは第3級アミン
の溶液を塗布する工程、その後ポリアミド酸をポリイミ
ドにイミド化しつつ、かつフィルムを乾燥する工程を含
む。
According to the method for producing a polyimide film of the present invention, a polyamic acid organic solvent solution is cast or coated on a support, dried, partially cured and / or partially cured. Step of manufacturing a dried polyamic acid film, immersing the polyamic acid film in a tertiary amine or a solution of a tertiary amine, or applying a tertiary amine or a solution of a tertiary amine to the polyamic acid film. The method includes a step of applying and then a step of drying the film while imidizing the polyamic acid to polyimide.

【0007】また、フィルム表面に残存する余分の液滴
を取り除く工程を含みうる。
[0007] The method may further include a step of removing excess droplets remaining on the film surface.

【0008】さらに、部分的に硬化及び/または部分的
に乾燥されたポリアミド酸フィルムの残揮発分含量が5
〜100wt%以下であり、イミド化率が50%以上で
ありうる。
Furthermore, the partially cured and / or partially dried polyamic acid film has a residual volatile matter content of 5%.
To 100 wt% or less, and the imidization ratio may be 50% or more.

【0009】前記第3級アミンが、キノリン、イソキノ
リン、β―ピコリン、ピリジンからなる群から選択され
うる。
[0009] The tertiary amine may be selected from the group consisting of quinoline, isoquinoline, β-picoline and pyridine.

【0010】本発明のポリイミドフィルムは、上記いず
れかの方法により製造されうる。
[0010] The polyimide film of the present invention can be produced by any of the above methods.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明のポリイミドフィルムの製
造方法は、ポリアミド酸有機溶媒溶液を支持体上に流延
しまたは塗布して乾燥し、部分的に硬化及び/または部
分的に乾燥されたポリアミド酸フィルムを製造する工
程、該ポリアミド酸フィルムを第3級アミンまたは第3
級アミンの溶液にポリアミド酸フィルムを浸漬し、ある
いは、ポリアミド酸フィルムに第3級アミンまたは第3
級アミンの溶液を塗布する工程、その後ポリアミド酸を
ポリイミドにイミド化し、かつこのフィルムを乾燥する
工程を含む。以下、本発明のポリイミドフィルムの製造
方法についてその実施の形態の一例に基づき説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method for producing a polyimide film according to the present invention, a polyamic acid organic solvent solution is cast or coated on a support, dried and partially cured and / or partially dried. A step of producing a polyamic acid film, wherein the polyamic acid film is a tertiary amine or tertiary amine;
A polyamic acid film is immersed in a solution of a tertiary amine, or a tertiary amine or a tertiary amine is immersed in the polyamic acid film.
Applying a solution of a secondary amine, followed by imidizing the polyamic acid into polyimide and drying the film. Hereinafter, a method for producing a polyimide film of the present invention will be described based on an example of the embodiment.

【0012】本発明のポリイミドフィルムの製造方法
は、基本的には、いずれのポリイミドフィルムの製造に
適用可能である。
The method for producing a polyimide film of the present invention is basically applicable to any polyimide film production.

【0013】本発明に用いられるポリアミド酸は、ポリ
イミドの前駆体であり、基本的には、公知のあらゆるポ
リアミド酸を適用することができる。通常、芳香族酸二
無水物の少なくとも1種とジアミンの少なくとも1種を
原料とし、これらを実質的等モル量を有機溶媒中に溶解
させて、得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制御さ
れた温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が
完了するまで攪拌することによって製造される。
The polyamic acid used in the present invention is a precursor of polyimide, and basically any known polyamic acid can be applied. Usually, at least one kind of aromatic dianhydride and at least one kind of diamine are used as raw materials, and substantially equimolar amounts thereof are dissolved in an organic solvent, and the resulting polyamic acid organic solvent solution is controlled. It is manufactured by stirring under the temperature condition described above until the polymerization of the acid dianhydride and the diamine is completed.

【0014】ここで、本発明のポリイミド前駆体である
ポリアミド酸の製造に用いられる材料について説明す
る。
Here, the materials used for producing the polyamic acid which is the polyimide precursor of the present invention will be described.

【0015】ポリアミド酸の製造に用いられうる酸無水
物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、2,
3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,1
0−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水
物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ
タン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、
p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無
水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸
無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノ
エステル酸無水物)及びそれらの類似物を含む。これら
は、単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得
る。
Examples of the acid anhydride which can be used for producing polyamic acid include pyromellitic dianhydride, 2,2
3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,1
O-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4
-Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-
Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl)
Methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride,
Includes p-phenylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and the like. These may be used alone or in a mixture at any ratio.

【0016】これらのうち、本発明のポリイミド前駆体
であるポリアミド酸において最も適当に用いられる酸二
無水物は、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル
酸無水物)であり、これらを単独または、任意の割合の
混合物が好ましく用い得る。
Of these, the acid dianhydride most suitably used in the polyimide precursor polyamic acid of the present invention is pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,
4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), which can be used alone or in a mixture at any ratio.

【0017】本発明にかかるポリイミド前駆体であるポ
リアミド酸の製造において使用し得る適当なジアミン
は、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’
−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−
ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルス
ルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、
4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテ
ル、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェ
ニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホス
フィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メ
チルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェ
ニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレ
ンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジ
アミノベンゼン、及びそれらの類似物を含み、これらを
単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。
Suitable diamines which can be used in the preparation of the polyimide precursor polyamic acid according to the present invention are 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4 '
-Diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3'-
Dichlorobenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone,
4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylether, 3,3′-diaminodiphenylether, 3,4′-diaminodiphenylether, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4′-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4'-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4'-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (P-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, 1,2-diaminobenzene, and the like, and these can be preferably used alone or in a mixture at any ratio.

【0018】これらジアミンにおいて、4,4’−ジア
ミノジフェニルエーテル及びp−フェニレンジアミンが
特に好ましく、また、これらをモル比で100:0から
0:100、好ましくは100:0から10:90の割
合で混合した混合物が好ましく用い得る。
Among these diamines, 4,4'-diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine are particularly preferred, and they are preferably used in a molar ratio of 100: 0 to 0: 100, preferably 100: 0 to 10:90. A mixed mixture can be preferably used.

【0019】ポリアミド酸を合成するために好ましく用
いられ得る溶媒は、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメ
チルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメ
チルフォルムアミドまたはN,N−ジメチルアセトアミ
ドを単独または、任意の割合の混合物を用いるのが好ま
しい。
Solvents that can be preferably used for synthesizing the polyamic acid include amide solvents, ie, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide,
N-methyl-2-pyrrolidone and the like, and it is preferable to use N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide alone or in a mixture at an arbitrary ratio.

【0020】ポリアミド酸溶液は、通常5〜35wt
%,好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。こ
の範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得
ることができる。
The polyamic acid solution is usually 5 to 35 wt.
%, Preferably 10 to 30% by weight. When the concentration is within this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity can be obtained.

【0021】また、ポリイミドは前駆体であるポリアミ
ド酸をイミド化して得られるが、イミド化には、熱キュ
ア法及び化学キュア法のいずれかを用いる。熱キュア法
は、脱水閉環剤等を作用させずに加熱だけでイミド化反
応を進行させる方法である。また、化学キュア法は、ポ
リアミド酸有機溶媒溶液に、無水酢酸等の酸無水物に代
表される化学的転化剤と、イソキノリン、β−ピコリ
ン、ピリジン等の第三級アミン類等に代表される触媒と
を作用させる方法である。化学キュア法に熱キュア法を
併用してもよい。イミド化の反応条件は、ポリアミド酸
の種類、フィルムの厚さ、熱キュア法及び/または化学
キュア法の選択等により、変動し得る。
The polyimide is obtained by imidizing a polyamic acid as a precursor. For the imidation, either a thermal curing method or a chemical curing method is used. The thermal curing method is a method in which an imidization reaction proceeds only by heating without the action of a dehydrating ring-closing agent or the like. In addition, the chemical curing method is represented by a polyamic acid organic solvent solution, a chemical conversion agent represented by an acid anhydride such as acetic anhydride, and a tertiary amine such as isoquinoline, β-picoline, and pyridine. This is a method of reacting with a catalyst. A thermal curing method may be used in combination with the chemical curing method. The reaction conditions for imidization can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, the selection of a thermal curing method and / or a chemical curing method, and the like.

【0022】イミド化を化学キュア法により行なう場
合、本発明にかかるポリイミドフィルムの製造におい
て、ポリアミド酸溶液に添加する化学的転化剤は、例え
ば脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、N,N ' - ジアルキ
ルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン
化低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸無水
物、アリールホスホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロ
ゲン化物またはそれら2種以上の混合物が挙げられる。
それらのうち、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ラク
酸等の脂肪族無水物またはそれらの2種以上の混合物
が、好ましく用い得る。化学的転化剤の量としては、ポ
リアミド酸溶液中のアミド酸のモル数に対して、0.5
〜5倍量、好ましくは1〜4倍量、さらに好ましくは
1.5〜3倍量の割合で用い得る。
When the imidation is carried out by a chemical curing method, in the production of the polyimide film according to the present invention, the chemical conversion agent added to the polyamic acid solution may be, for example, an aliphatic acid anhydride, an aromatic acid anhydride, N, N'-dialkylcarbodiimides, lower aliphatic halides, halogenated lower aliphatic halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides, thionyl halides, or a mixture of two or more thereof.
Among them, aliphatic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and lacnic anhydride or a mixture of two or more thereof can be preferably used. The amount of the chemical conversion agent is 0.5 to the number of moles of amic acid in the polyamic acid solution.
It can be used in a ratio of up to 5 times, preferably 1 to 4 times, more preferably 1.5 to 3 times.

【0023】イミド化を効果的に行うためには、化学的
転化剤に触媒を同時に用いることが好ましい。触媒とし
ては脂肪族第三級アミン、芳香族第三級アミン、複素環
式第三級アミン等が用いられる。それらのうち複素環式
第三級アミンから選択されるものが特に好ましく用い得
る。具体的にはキノリン、イソキノリン、β−ピコリ
ン、ピリジン等が好ましく用いられる。触媒の量として
はポリアミド酸溶液中のアミド酸のモル数に対して、
0.1〜2倍量、好ましくは、0.2〜1倍量の割合で
用い得る。少なすぎるとイミド化率が好適な範囲よりも
小さくなる傾向があり、多すぎると硬化が速くなり、支
持体上に流延するのが困難となる。
For effective imidization, it is preferable to use a catalyst simultaneously with the chemical conversion agent. As the catalyst, an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, a heterocyclic tertiary amine or the like is used. Among them, those selected from heterocyclic tertiary amines can be particularly preferably used. Specifically, quinoline, isoquinoline, β-picoline, pyridine and the like are preferably used. As the amount of the catalyst, with respect to the number of moles of amic acid in the polyamic acid solution,
It can be used in a ratio of 0.1 to 2 times, preferably 0.2 to 1 time. If the amount is too small, the imidization ratio tends to be smaller than a suitable range, and if the amount is too large, the curing speed is increased, and it is difficult to cast on the support.

【0024】本発明のポリイミドフィルムの製造方法に
おいて、部分的に硬化及び/または部分的に乾燥された
ポリアミド酸フィルム(ゲルフィルムという)の製造工
程は、公知の方法で行い得る。即ち、上記調整したポリ
アミド酸有機溶媒溶液をガラス板、エンドレスステンレ
スベルト、ステンレスドラムなどの支持体上に流延また
は塗布し、熱的にイミド化する。あるいは、化学的転化
剤及び触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合し、引き
続いてこのポリアミド酸溶液を支持体上にフィルム状に
キャストし加熱することにより、化学的転化剤及び触媒
を活性化する。これら、熱的または化学的イミド化によ
り、部分的に硬化され、自己支持性を有するポリアミド
酸フィルム(ゲルフィルム)が製造される。
In the method for producing a polyimide film of the present invention, the step of producing a partially cured and / or partially dried polyamic acid film (referred to as a gel film) can be performed by a known method. That is, the prepared polyamic acid organic solvent solution is cast or applied on a support such as a glass plate, an endless stainless belt, or a stainless steel drum, and thermally imidized. Alternatively, the chemical conversion agent and the catalyst are activated by mixing the chemical conversion agent and the catalyst at a low temperature into the polyamic acid solution, and subsequently casting the polyamic acid solution into a film on a support and heating. . By these thermal or chemical imidization, a polyamic acid film (gel film) which is partially cured and has a self-supporting property is produced.

【0025】ゲルフィルムは、ポリアミド酸からポリイ
ミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有する。
ゲルフィルムの状態は、残揮発分含量およびイミド化率
によって、表すことができる。残揮発分含量と、イミド
化率は、以下の式で算出される。
The gel film is at an intermediate stage of curing from polyamic acid to polyimide, and has self-supporting properties.
The state of the gel film can be represented by the residual volatile matter content and the imidization ratio. The residual volatile content and the imidation ratio are calculated by the following equations.

【0026】残揮発分含量は、式1 (A−B)×100/B・・・・式1 式1中A,Bは以下のものを表す。 A:ゲルフィルムの重量 B:ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重
量 から算出される。
The residual volatile matter content is represented by the following formula: (A−B) × 100 / B (1) In Formula 1, A and B represent the following. A: Weight of gel film B: Calculated from weight after heating gel film at 450 ° C. for 20 minutes.

【0027】イミド化率は、赤外線吸光分析法を用いて
式2 (C/D)×100/(E/F)・・・・式2 式2中C、D、E、Fは以下のものを表す。 C:ゲルフィルムの1370cm−1の吸収ピーク高さ D:ゲルフィルムの1500cm−1の吸収ピーク高さ E:ポリイミドフィルムの1370cm−1の吸収ピーク高
さ F:ポリイミドフィルムの1500cm−1の吸収ピーク高
さ から算出される。
The imidation ratio can be calculated by the following formula (C / D) × 100 / (E / F) using the infrared absorption spectrometry. In the formula 2, C, D, E and F are as follows: Represents C: Absorption peak height of gel film at 1370 cm -1 D: Absorption peak height of gel film at 1500 cm -1 E: Absorption peak height of polyimide film at 1370 cm -1 F: Absorption peak of polyimide film at 1500 cm -1 Calculated from height.

【0028】ゲルフィルムの残揮発分含量は5〜500
%の範囲、好ましくは5〜100%、より好ましくは1
0〜80%、最も好ましくは30〜60%の範囲にあ
る。この範囲のフィルムを用いることが好適であり、外
れると所定の効果が発現しにくい。また、ゲルフィルム
の、イミド化率は50%以上の範囲、好ましくは80%
以上、より好ましくは85%以上、最も好ましくは90
%以上の範囲にある。この範囲のフィルムを用いること
が好適であり、この範囲から外れると所定の効果が発現
しにくい。
The gel film has a residual volatile matter content of 5 to 500.
%, Preferably 5-100%, more preferably 1%
It is in the range of 0-80%, most preferably 30-60%. It is preferable to use a film in this range. The imidation ratio of the gel film is in the range of 50% or more, preferably 80%.
Or more, more preferably 85% or more, and most preferably 90% or more.
% Or more. It is preferable to use a film in this range, and if it is out of this range, it is difficult to achieve a predetermined effect.

【0029】本発明のポリイミドフィルムの製造方法に
よれば、上記残揮発分含量、イミド化率の範囲内のゲル
フィルムを得られる範囲内において、ゲルフィルム作成
時間は、従来のゲルフィルムの製造時間より20〜70
%、さらには10〜70%短縮することが可能となる。
According to the method for producing a polyimide film of the present invention, the gel film preparation time is the same as the conventional gel film production time as long as a gel film having the above-mentioned residual volatile content and imidation ratio can be obtained. More than 20-70
%, Or even 10 to 70%.

【0030】次に、前記熱キュア法または化学キュア法
により得られた、部分的に硬化及び/または部分的に乾
燥されたポリアミド酸フィルムは、第3級アミンまたは
第3級アミンの溶液を塗布、または部分的に硬化及び/
または部分的に乾燥されたポリアミド酸フィルムを第3
級アミンまたは第3級アミンの溶液に浸漬する工程に付
される。
Next, the partially cured and / or partially dried polyamic acid film obtained by the heat curing method or the chemical curing method is coated with a tertiary amine or a tertiary amine solution. Or partially cured and / or
Or a partially dried polyamic acid film
It is subjected to a step of dipping in a solution of a tertiary amine or a tertiary amine.

【0031】部分的に硬化及び/または部分的に乾燥さ
れたポリアミド酸フィルム(ゲルフィルム)に塗布、ま
たは浸漬する第3級アミンとしては、脂肪族第三級アミ
ン、芳香族第三級アミン、複素環式第三級アミン等が用
いられる。それらのうち複素環式第三級アミンから選択
されるものが特に好ましく用い得る。具体的にはキノリ
ン、イソキノリン、β−ピコリン、ピリジン等が好まし
く用いられる。これらの第3級アミンは単独または2種
以上の混合物で用いてもよい。またさらに有機溶剤溶液
として用いることもでき、この場合いかなる溶媒で稀釈
してもかまわないが、アミド系溶媒すなわちN,N−ジ
メチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−
ジメチルフォルムアミドまたはN,N−ジメチルアセト
アミドを単独または任意に割合の混合物を用いるのが好
ましい。稀釈して用いる場合、いかなる濃度のものを用
いてもよいが、第3級アミンの濃度が100〜5重量%
となるように調製された溶液を用いるのが好ましい。過
度に希薄な溶液を用いると本発明の目的の一つである強
度低下抑制の効果が小さくなる。
The tertiary amine to be applied or dipped on the partially cured and / or partially dried polyamic acid film (gel film) includes an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, Heterocyclic tertiary amines and the like are used. Among them, those selected from heterocyclic tertiary amines can be particularly preferably used. Specifically, quinoline, isoquinoline, β-picoline, pyridine and the like are preferably used. These tertiary amines may be used alone or in a mixture of two or more. Further, it can be used as an organic solvent solution. In this case, it may be diluted with any solvent, but amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone And N, N-
It is preferred to use dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide alone or in a mixture in any proportion. When used after dilution, any concentration may be used, but the concentration of the tertiary amine is 100 to 5% by weight.
It is preferable to use a solution prepared so that When an excessively dilute solution is used, the effect of suppressing a decrease in strength, which is one of the objects of the present invention, is reduced.

【0032】ゲルフィルムに、第3級アミンまたは第3
級アミン溶液を塗布する方法は、当業者が用い得る公知
の方法を用い得るが、例えば、グラビアコート、スプレ
ーコート、ナイフコーター等を用いた塗布方法が利用可
能であり、塗布量の制御や均一性の観点より、グラビア
コーターが特に好ましく用い得る。塗布量としては,1
g/m以上40g/mが好ましく、5g/m以上
30g/mがさらに好ましい。塗布量がこの範囲より
も少ないと強度低下を抑制することが困難となる。この
範囲より、多くなると、フィルムの外観が悪くなる。
The tertiary amine or tertiary amine is added to the gel film.
As a method of applying the graded amine solution, a known method that can be used by those skilled in the art can be used.For example, a coating method using a gravure coat, a spray coat, a knife coater, or the like can be used, and control of the coating amount and uniformity can be used. From the viewpoint of properties, a gravure coater can be particularly preferably used. The application amount is 1
g / m 2 or more and 40 g / m 2 are preferable, and 5 g / m 2 or more and 30 g / m 2 are more preferable. If the coating amount is less than this range, it is difficult to suppress the strength from decreasing. If the amount is larger than this range, the appearance of the film becomes worse.

【0033】また、第3級アミンまたは第3級アミン溶
液に浸漬する場合は、特に制限はなく、一般的なディッ
プコート法が利用し得る。具体的には、上記溶液を入れ
た槽にゲルフィルムを連続的に、またはバッチで浸すこ
とにより行われる。浸漬時間については1秒以上100
秒、好ましくは1〜20秒が好ましい。この範囲より長
くなると、フィルムの外観が悪くなり、浸漬時間が短す
ぎると強度低下を抑制することが困難となる。
When dipping in a tertiary amine or a tertiary amine solution, there is no particular limitation, and a general dip coating method can be used. Specifically, the gel film is immersed in a bath containing the above solution continuously or in batches. Immersion time is 1 second or more and 100
Seconds, preferably 1 to 20 seconds, are preferred. If the length is longer than this range, the appearance of the film becomes poor, and if the immersion time is too short, it becomes difficult to suppress a decrease in strength.

【0034】第3級アミンまたは第3級アミン溶液を塗
布、又は浸漬されたゲルフィルムは、その後、フィルム
表面の余分な液滴を除去する工程を加えることが、フィ
ルム表面にムラのない外観の優れたポリイミドフィルム
を得ることが出来るので好ましい。液滴の除去は、ニッ
プロールによる液絞り、エアナイフ、ドクターブレー
ド、拭き取り、吸い取りなどの公知の方法が利用可能で
あり、フィルムの外観、液切り性、作業性等の観点よ
り、ニップロールが好ましく用いられ得る。
After the tertiary amine or the tertiary amine solution is applied or immersed in the gel film, a step of removing excess liquid droplets on the film surface may be added. It is preferable because an excellent polyimide film can be obtained. Known methods such as liquid squeezing by a nip roll, an air knife, a doctor blade, wiping, and sucking can be used for removing the droplets, and a nip roll is preferably used from the viewpoint of film appearance, liquid drainage, workability, and the like. obtain.

【0035】上記のようにして、第3級アミンまたは第
3級アミン溶液を塗布または浸漬されたゲルフィルム
は、硬化時の収縮を回避するために端部を固定される。
固定されたゲルフィルムは、乾燥工程に付される。ゲル
フィルム中の、水分、残留溶媒、残存転化剤及び触媒が
除去され、イミド化されていないアミド酸が完全にイミ
ド化されて、ポリイミドフィルムが得られる。この乾燥
工程の温度条件は、最終的に500〜580℃の温度に
昇温し、この温度範囲で1〜400秒加熱するのが好ま
しい。この温度より高い温度、及び/または加熱時間が
長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じる。逆に
この温度より低い温度、及び/または加熱時間が短いと
所定の効果が発現しない。
As described above, the gel film to which the tertiary amine or the tertiary amine solution has been applied or immersed is fixed at the ends in order to avoid shrinkage during curing.
The fixed gel film is subjected to a drying step. The water, the residual solvent, the residual converting agent and the catalyst in the gel film are removed, and the imidized amic acid is completely imidized to obtain a polyimide film. Regarding the temperature condition of this drying step, it is preferable that the temperature is finally raised to a temperature of 500 to 580 ° C., and heating is performed in this temperature range for 1 to 400 seconds. If the temperature is higher than this temperature and / or the heating time is long, thermal degradation of the film occurs, causing a problem. Conversely, if the temperature is lower than this temperature and / or the heating time is short, the predetermined effect is not exhibited.

【0036】上記本発明のポリイミドフィルムの製造方
法により製造された、ポリイミドフィルムは、ゲルフィ
ルム作成時間を短縮しても、所望の機械的強度を保持し
得るポリイミドフィルムを得ることができる。従って、
ゲルフィルム作成時間を短縮化できることにより生産性
が改善され、引裂伝搬強度及び接着強度の低下を防ぎ、
引張強度の向上したポリイミドフィルムが得られる。
With respect to the polyimide film produced by the method for producing a polyimide film of the present invention, a polyimide film capable of maintaining a desired mechanical strength can be obtained even if the time for forming a gel film is shortened. Therefore,
The productivity can be improved by shortening the gel film making time, preventing the tear propagation strength and the adhesive strength from decreasing,
A polyimide film with improved tensile strength is obtained.

【0037】本発明にかかるポリイミドフィルムは、フ
レキシブルプリント基板、一般磁気記録用などの磁気テ
ープ、磁気ディスク、太陽電池などの半導体素子のパッ
シベーション膜などに好ましく用いられる。
The polyimide film according to the present invention is preferably used for a flexible printed circuit board, a magnetic tape for general magnetic recording, a magnetic disk, a passivation film of a semiconductor element such as a solar cell, and the like.

【0038】[0038]

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明の効果を具体
的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定される
ものではなく、当業者は本発明の範囲を逸脱することな
く、種々の変更、修正、及び改変を行い得る。
EXAMPLES The effects of the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples, and those skilled in the art depart from the scope of the present invention. Without departing, various changes, modifications, and alterations may be made.

【0039】ポリイミドフィルムの引裂伝播強度は、A
STM D-1938、引張強度はJIS C−2318
に準拠して測定した。
The tear propagation strength of the polyimide film is A
STM D-1938, tensile strength is JIS C-2318
It measured according to.

【0040】接着強度は、ナイロン・エポキシ系接着剤
を用いて電解銅箔(三井金属鉱業社製、商品名3ECV
LP、厚み35μm)とポリイミドフィルムとを張り合
わせ、3層銅張積層板を作製し、JIS C−6481
に従って銅パターン幅3mmで90度ピールで評価し
た。
The adhesive strength was determined by using a nylon-epoxy adhesive and electrolytic copper foil (trade name: 3ECV, manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.).
LP, thickness 35 μm) and a polyimide film to form a three-layer copper-clad laminate.
Was evaluated at 90 ° peel with a copper pattern width of 3 mm.

【0041】ゲルフィルムの加熱工程の温度条件は、比
較例、実施例ともに、同じ条件で行った。
The temperature conditions in the heating step of the gel film were the same for both the comparative example and the example.

【0042】(比較例1)ピロメリット酸二無水物/
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル/p−フェニレ
ンジアミンをモル比で4/3/1の割合でポリアミド酸
を合成した。このポリアミド酸を18.5wt%含むD
MF溶液100gを調整し、無水酢酸35gとβピコリ
ン5gからなる転化剤を混合、攪拌し、遠心分離による
脱泡の後、アルミ箔上に厚さ400μmで流延塗布し
た。攪拌から脱泡までは0℃に冷却しながら行った。こ
のアルミ箔とポリアミド酸溶液の積層体を、120℃1
50秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムを得
た。このゲルフィルムの残揮発分含量は41wt%であ
り、イミド化率は81%であった。このゲルフィルムを
アルミ箔から剥がし、フレームに固定した。このゲルフ
ィルムを300℃、400℃、500℃で各30秒間加
熱して厚さ25μmのポリイミドフィルムを製造した。
このポリイミドフィルムの基本的な機械特性を表1に示
す。
Comparative Example 1 Pyromellitic dianhydride /
Polyamic acid was synthesized at a molar ratio of 4,4'-diaminodiphenyl ether / p-phenylenediamine of 4/3/1. D containing 18.5 wt% of this polyamic acid
100 g of the MF solution was prepared, 35 g of acetic anhydride and a conversion agent composed of 5 g of β-picoline were mixed, stirred, defoamed by centrifugation, and then cast on an aluminum foil to a thickness of 400 μm. The process from stirring to defoaming was performed while cooling to 0 ° C. The laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 120 ° C.
Heating was performed for 50 seconds to obtain a gel film having self-supporting properties. The residual volatile matter content of this gel film was 41% by weight, and the imidization ratio was 81%. This gel film was peeled off from the aluminum foil and fixed to a frame. The gel film was heated at 300 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds each to produce a polyimide film having a thickness of 25 μm.
Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0043】(比較例2)アルミ箔とポリアミド酸溶液
の積層体を160℃75秒間加熱した以外は、比較例1
と全く同様にして厚さ25μmのポリイミドフィルムを
製造した。中間段階で経由したゲルフィルムの残揮発分
含量は36wt%であり、イミド化率は78%であっ
た。このポリイミドフィルムの基本的な機械特性を表1
に示す。
Comparative Example 2 Comparative Example 1 was conducted except that the laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 160 ° C. for 75 seconds.
A polyimide film having a thickness of 25 μm was produced in exactly the same manner as described above. The gel film that passed through the intermediate stage had a residual volatile content of 36% by weight and an imidization ratio of 78%. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.
Shown in

【0044】(比較例3)ピロメリット酸二無水物/
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルをモル比で1/
1の割合で用いた以外は、比較例1と全く同様にして厚
さ25μmのポリイミドフィルムを製造した。中間段階
で経由したゲルフィルムの残揮発分含量は40wt%で
あり、イミド化率は89%であった。このポリイミドフ
ィルムの引裂伝播強度を表1に示す。
Comparative Example 3 Pyromellitic dianhydride /
4,4'-diaminodiphenyl ether is added at a molar ratio of 1 /
A polyimide film having a thickness of 25 μm was produced in exactly the same manner as in Comparative Example 1 except that the polyimide film was used at a ratio of 1. The gel film passed through the intermediate stage had a residual volatile matter content of 40% by weight and an imidization ratio of 89%. Table 1 shows the tear propagation strength of this polyimide film.

【0045】(比較例4)アルミ箔とポリアミド酸溶液
の積層体を160℃75秒間加熱した以外は、比較例2
と全く同様にして厚さ25μmのポリイミドフィルムを
製造した。中間段階で経由したゲルフィルムの残揮発分
含量は38wt%であり、イミド化率は87%であっ
た。このポリイミドフィルムの基本的な機械特性を表1
に示す。
Comparative Example 4 Comparative Example 2 was conducted except that the laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 160 ° C. for 75 seconds.
A polyimide film having a thickness of 25 μm was produced in exactly the same manner as described above. The gel film passed through the intermediate stage had a residual volatile matter content of 38% by weight and an imidization ratio of 87%. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.
Shown in

【0046】比較例1と2、および比較例3と4を比較
すると、ゲルフィルムの作成時間を短縮すると、引裂伝
播強度、引張強度、接着強度の機械的強度いずれもが、
低下することがわかる。
Comparing Comparative Examples 1 and 2, and Comparative Examples 3 and 4, when the time for forming the gel film was shortened, the mechanical strengths of the tear propagation strength, the tensile strength, and the adhesive strength were all reduced.
It turns out that it falls.

【0047】(実施例1)比較例2と同様にして残揮発
分含量は48wt%、イミド化率が78%であるゲルフ
ィルムを得た。このゲルフィルムをイソキノリンに浸漬
し、ニップロールに通すことにより余分な液滴を除去し
た後、300℃、400℃、500℃で各30秒間加熱
して厚さ25μmのポリイミドフィルムを製造した。こ
のポリイミドフィルムの基本的な機械特性を表1に示
す。
Example 1 A gel film having a residual volatile content of 48 wt% and an imidation ratio of 78% was obtained in the same manner as in Comparative Example 2. The gel film was immersed in isoquinoline and passed through a nip roll to remove excess droplets, and then heated at 300 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds each to produce a polyimide film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0048】(実施例2)比較例2と同様にして残揮発
分含量は53wt%、イミド化率が78%であるゲルフ
ィルムを得た。このゲルフィルムをイソキノリンの35
重量%DMF溶液に浸漬し、圧縮空気を吹き付けて余分な
液滴を除去した後、比較例2と同じ条件で加熱し、厚さ
25μmのポリイミドフィルムを得た。このポリイミド
フィルムの基本的な機械特性を表1に示す。
Example 2 A gel film having a residual volatile matter content of 53% by weight and an imidation ratio of 78% was obtained in the same manner as in Comparative Example 2. This gel film is treated with 35 of isoquinoline.
After immersion in a DMF solution by weight and blowing compressed air to remove excess liquid droplets, the mixture was heated under the same conditions as in Comparative Example 2 to obtain a polyimide film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0049】(実施例3)比較例4と同様にして残揮発
分含量は49wt%、イミド化率が87%であるゲルフ
ィルムを得た。このゲルフィルムをイソキノリンに浸漬
し、圧縮空気を吹き付けて余分な液滴を除去した後、比
較例4と同じ条件で加熱し、厚さ25μmのポリイミド
フィルムを得た。このポリイミドフィルムの基本的な機
械特性を表1に示す。
Example 3 A gel film having a residual volatile matter content of 49% by weight and an imidation ratio of 87% was obtained in the same manner as in Comparative Example 4. The gel film was immersed in isoquinoline and blown with compressed air to remove extra liquid droplets, and then heated under the same conditions as in Comparative Example 4 to obtain a polyimide film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0050】(実施例4)比較例4と同様にして残揮発
分含量は52wt%、イミド化率が87%であるゲルフ
ィルムを得た。このゲルフィルムをイソキノリンの35
重量%DMF溶液に浸漬し、圧縮空気を吹き付けて余分な
液滴を除去した後、比較例2と同じ条件で加熱し、ポリ
イミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの基本
的な機械特性を表1に示す。
Example 4 A gel film having a residual volatile matter content of 52% by weight and an imidation ratio of 87% was obtained in the same manner as in Comparative Example 4. This gel film is treated with 35 of isoquinoline.
After immersing in a DMF solution by weight and blowing compressed air to remove extra droplets, the mixture was heated under the same conditions as in Comparative Example 2 to obtain a polyimide film. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0051】(実施例5)比較例4と同様にして、残揮
発分含量51wt%,イミド化率85%であるゲルフィ
ルムを得た。このゲルフィルムをβピコリンに親戚し、
圧縮空気を吹き付けて余分な液滴を除去した後、比較例
2と同様の条件で、加熱し、ポリイミドフィルムを得
た。このポリイミドフィルムの基本的な機械特性を表1
に示す。
Example 5 In the same manner as in Comparative Example 4, a gel film having a residual volatile matter content of 51% by weight and an imidization ratio of 85% was obtained. This gel film is related to β picoline,
The compressed air was blown to remove excess liquid droplets, and then heated under the same conditions as in Comparative Example 2 to obtain a polyimide film. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.
Shown in

【0052】(実施例6)ピロメリット酸二無水物/
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルをモル比で1/
1の割合で用い、ポリアミド酸を合成した。このポリア
ミド酸を18.5wt%含むDMF溶液100gを調整
し、無水酢酸35gとβピコリン5gからなる転化剤を
混合、攪拌し、遠心分離による脱泡の後、アルミ箔上に
厚さ400μmで流延塗布した。攪拌から脱泡までは0
℃に冷却しながら行った。このアルミ箔とポリアミド酸
溶液の積層体を、140℃110秒間加熱し、自己支持
性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムの残
揮発分含量は46wt%であり、イミド化率は82%で
あった。このゲルフィルムをイソキノリンに浸漬し、ニ
ップロールに通すことにより余分な液滴を除去した後、
300℃、400℃、500℃で各30秒間加熱して厚
さ25μmのポリイミドフィルムを製造した。このポリ
イミドフィルムの基本的な機械特性を表1に示す。
Example 6 Pyromellitic dianhydride /
4,4'-diaminodiphenyl ether is added at a molar ratio of 1 /
The polyamic acid was synthesized at a ratio of 1. 100 g of a DMF solution containing 18.5 wt% of this polyamic acid was prepared, a conversion agent consisting of 35 g of acetic anhydride and 5 g of β-picoline was mixed, stirred, defoamed by centrifugation, and then flown on an aluminum foil at a thickness of 400 μm. It was spread-coated. 0 from stirring to defoaming
Performed while cooling to ° C. The laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 140 ° C. for 110 seconds to obtain a gel film having self-supporting properties. The residual volatile matter content of this gel film was 46% by weight, and the imidization ratio was 82%. After immersing this gel film in isoquinoline and removing excess droplets by passing through a nip roll,
Heating was performed at 300 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds each to produce a polyimide film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0053】(実施例7)ピロメリット酸二無水物/
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルをモル比で1/
1の割合で用い、ポリアミド酸を合成した。このポリア
ミド酸を18.5wt%含むDMF溶液100gを調整
し、無水酢酸35gとβピコリン5gからなる転化剤を
混合、攪拌し、遠心分離による脱泡の後、アルミ箔上に
厚さ400μmで流延塗布した。攪拌から脱泡までは0
℃に冷却しながら行った。このアルミ箔とポリアミド酸
溶液の積層体を、170℃60秒間加熱し、自己支持性
を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムの残揮
発分含量は42wt%であり、イミド化率は88%であ
った。このゲルフィルムをイソキノリンに浸漬し、ニッ
プロールに通すことにより余分な液滴を除去した後、3
00℃、400℃、500℃で各30秒間加熱して厚さ
25μmのポリイミドフィルムを製造した。このポリイ
ミドフィルムの基本的な機械特性を表1に示す。
Example 7 Pyromellitic dianhydride /
4,4'-diaminodiphenyl ether is added at a molar ratio of 1 /
The polyamic acid was synthesized at a ratio of 1. 100 g of a DMF solution containing 18.5 wt% of this polyamic acid was prepared, a conversion agent consisting of 35 g of acetic anhydride and 5 g of β-picoline was mixed, stirred, defoamed by centrifugation, and then flown on an aluminum foil at a thickness of 400 μm. It was spread-coated. 0 from stirring to defoaming
Performed while cooling to ° C. The laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 170 ° C. for 60 seconds to obtain a gel film having self-supporting properties. The residual volatile matter content of this gel film was 42% by weight, and the imidization ratio was 88%. This gel film was immersed in isoquinoline and passed through a nip roll to remove excess droplets.
The polyimide film was heated at 00 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds to produce a polyimide film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the basic mechanical properties of this polyimide film.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】表中、PMDAは、ピロメリット酸二無水
物,4,4’ODAは、4,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル,p−PDAは、p−フェニレンジアミンを示
す。
In the table, PMDA indicates pyromellitic dianhydride, 4,4 'ODA indicates 4,4'-diaminodiphenyl ether, and p-PDA indicates p-phenylenediamine.

【0056】実施例1乃至7は、ゲルフィルム作成時間
を短縮したにもかかわらず、ゲルフィルム作製時間の長
い比較例1および3によるポリイミドフィルムの機械的
強度に匹敵する数値を得た。
In Examples 1 to 7, numerical values comparable to the mechanical strengths of the polyimide films according to Comparative Examples 1 and 3 in which the gel film preparation time was long were obtained although the gel film preparation time was shortened.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明のポリイミドフィルムの製造方法
により、生産性よく高い機械的特性を有するポリイミド
フィルムを製造することができる。
According to the method for producing a polyimide film of the present invention, a polyimide film having high mechanical properties with good productivity can be produced.

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリアミド酸有機溶媒溶液を支持体上に
流延しまたは塗布して乾燥し、部分的に硬化及び/また
は部分的に乾燥されたポリアミド酸フィルムを製造する
工程、該ポリアミド酸フィルムを第3級アミンまたは第
3級アミンの溶液に浸漬し、あるいは、該ポリアミド酸
フィルムに第3級アミンまたは第3級アミンの溶液を塗
布する工程、その後ポリアミド酸をポリイミドにイミド
化しつつ、かつフィルムを乾燥する工程を含む、ポリイ
ミドフィルムの製造方法。
1. A step of casting or coating a polyamic acid organic solvent solution on a support and drying to produce a partially cured and / or partially dried polyamic acid film, said polyamic acid film In a tertiary amine or a tertiary amine solution, or applying a tertiary amine or a tertiary amine solution to the polyamic acid film, and then imidizing the polyamic acid to polyimide, and A method for producing a polyimide film, comprising a step of drying the film.
【請求項2】 さらに、フィルム表面に残存する余分の
液滴を取り除く工程を含む、請求項1記載のポリイミド
フィルムの製造方法。
2. The method for producing a polyimide film according to claim 1, further comprising a step of removing extra droplets remaining on the film surface.
【請求項3】 部分的に硬化及び/または部分的に乾燥
されたポリアミド酸フィルムの残揮発分含量が5〜10
0wt%以下である、請求項1または請求項2に記載の
ポリイミドフィルムの製造方法。
3. The partially cured and / or partially dried polyamic acid film has a residual volatiles content of 5-10.
The method for producing a polyimide film according to claim 1 or 2, wherein the amount is 0 wt% or less.
【請求項4】 部分的に硬化及び/または部分的に乾燥
されたポリアミド酸フィルムのイミド化率が50%以上
である、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のポリ
イミドフィルムの製造方法。
4. The method for producing a polyimide film according to claim 1, wherein the partially cured and / or partially dried polyamic acid film has an imidation ratio of 50% or more. .
【請求項5】 前記第3級アミンが、キノリン、イソキ
ノリン、β―ピコリン、ピリジンからなる群から選択さ
れる、請求項5記載のポリイミドフィルムの製造方法。
5. The method according to claim 5, wherein the tertiary amine is selected from the group consisting of quinoline, isoquinoline, β-picoline, and pyridine.
【請求項6】 請求項1乃請求項6記載のいずれかの方
法により製造されたポリイミドフィルム。
6. A polyimide film produced by the method according to claim 1.
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