JP2002239922A - Abrasive film - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバコネク
タの端面研磨等に好適に使用される研磨フィルムに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing film suitably used for polishing an end face of an optical fiber connector.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光ファイバコネクタの端面研磨に使用さ
れる研磨フィルムとしては、基材フィルムと、その基材
フィルム上に少なくとも研磨材粒子およびバインダー樹
脂から形成されてなる研磨層とを有した研磨フィルムが
広く知られ、使用されている。2. Description of the Related Art As a polishing film used for polishing an end face of an optical fiber connector, a polishing film having a base film and a polishing layer formed of at least abrasive particles and a binder resin on the base film is used. Films are widely known and used.
【０００３】こうした研磨フィルムによって光ファイバ
コネクタの端面を研磨する場合においては、研磨の進行
にともなって、研磨層中に含有されている研磨材粒子又
はその凝集物等が研磨層から削り落とされたり脱落して
浮遊することがある。特に、研磨層の表層部に存在する
研磨材粒子は、研磨層表面からの突出部分を有するの
で、バインダー樹脂によって十分に固着されているとは
いえず、比較的容易に研磨層から脱離したり、研磨の進
行にともなって削り落とされたりしている。[0003] When the end face of an optical fiber connector is polished with such a polishing film, as the polishing proceeds, abrasive particles or agglomerates thereof contained in the polishing layer may be scraped off from the polishing layer. May fall off and float. In particular, since the abrasive particles present in the surface layer of the polishing layer have a protruding portion from the surface of the polishing layer, it cannot be said that the abrasive particles are sufficiently fixed by the binder resin, and are relatively easily detached from the polishing layer. , And have been scraped off with the progress of polishing.
【０００４】そうして浮遊した研磨材粒子又はその凝集
物等のうち、研磨フィルムと被研磨面との間に存在する
と被研磨面に傷がついてしまう程度の大きさ又は材質か
らなるもの（以下、こうしたものを「研磨材粒子の凝集
物等」ということとする。）が、実際の研磨中に研磨フ
ィルムと被研磨面との間に存在した場合、研磨された被
研磨面には、その研磨材粒子の凝集物等に基づいた顕著
な傷が生じてしまうことがあった。そのため、そうした
研磨材粒子の凝集物等の存在は、光ファイバコネクタの
品質を低下させる要因の一つとなっていた。[0004] Among the suspended abrasive particles or aggregates thereof, those having a size or material of such a size that the surface to be polished will be damaged if present between the polishing film and the surface to be polished (hereinafter referred to as "the particle"). Such a material is referred to as “agglomerate of abrasive particles, etc.”) between the polishing film and the surface to be polished during actual polishing. In some cases, remarkable flaws based on agglomerates of abrasive particles or the like were generated. Therefore, the presence of such agglomerates of abrasive particles has been one of the factors that degrade the quality of the optical fiber connector.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来、上述した問題に
対しては、水を流しながら研磨を行うことによって、浮
遊した研磨材粒子の凝集物等を排除し、それらが研磨フ
ィルムと被研磨面との間に存在しないようにしていた。
しかし、そうした手段によっても未だ十分に問題を解決
しているとはいえなかった。Conventionally, to solve the above-mentioned problems, the polishing is carried out while flowing water to eliminate agglomerates and the like of suspended abrasive particles. Between and did not exist.
However, even by such means, the problem was not sufficiently solved.
【０００６】また、従来の研磨フィルムにおいては、上
述のように研磨層の表層部の研磨材粒子の脱離が比較的
容易に起こることから、その研磨材粒子の脱離が進むに
したがって研磨フィルムの寿命が短くなるという問題、
さらには、どの状態をもって寿命とするかの明確な基準
を設定し得ないという問題があった。Further, in the conventional polishing film, since the removal of the abrasive particles from the surface layer portion of the polishing layer occurs relatively easily as described above, the polishing film becomes more and more as the removal of the abrasive particles progresses. Problem of shortening the life of
Further, there is a problem that it is not possible to set a clear criterion as to which state is the life.
【０００７】本発明は、上記問題を解決すべくなされた
ものであって、特に光ファイバコネクタの端面研磨に好
適に使用され、良好な被研磨面を形成することができる
と共に、長寿命且つ寿命の判断が容易な研磨フィルムを
提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is particularly suitable for use in polishing the end face of an optical fiber connector. The purpose of the present invention is to provide a polishing film that can easily determine the polishing film.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の研磨フ
ィルムは、基材フィルムと、当該基材フィルム上に形成
されて少なくとも研磨材粒子およびバインダー樹脂を有
する研磨層と、当該研磨層上に形成されて前記研磨材粒
子の脱離を抑制するオーバーコート層とを有することに
特徴を有する。The polishing film according to claim 1 comprises a base film, a polishing layer formed on the base film and having at least abrasive particles and a binder resin, and a polishing layer formed on the polishing film. And an overcoat layer formed to prevent the abrasive particles from desorbing.
【０００９】この発明によれば、研磨層上には研磨材粒
子の脱離を抑制するオーバーコート層が形成されている
ので、そのオーバーコート層により研磨材粒子が研磨層
に固定される。その結果、本発明の研磨フィルムは、研
磨材粒子の脱離が抑制されて長寿命になる。さらに、被
研磨面に傷を発生させ得る研磨材粒子の凝集物等の発生
が抑制されるので、傷がなく品質に優れた被研磨面を長
期間安定して研磨することができる。According to the present invention, since the overcoat layer for suppressing detachment of the abrasive particles is formed on the polishing layer, the abrasive particles are fixed to the polishing layer by the overcoat layer. As a result, the abrasive film of the present invention has a long life because the detachment of abrasive particles is suppressed. Furthermore, since the generation of aggregates of abrasive particles that can cause scratches on the surface to be polished is suppressed, the surface to be polished having no scratches and having excellent quality can be polished stably for a long period of time.
【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の研磨フィルムにおいて、前記オーバーコート層が柔軟
性のある樹脂層であることに特徴を有する。According to a second aspect of the present invention, in the polishing film according to the first aspect, the overcoat layer is a flexible resin layer.
【００１１】この発明によれば、オーバーコート層が柔
軟性のある樹脂層であるので、研磨時に研磨フィルムの
研磨面に加わる被研磨材の荷重によって、研磨層中の研
磨材粒子がオーバーコート層を突き抜けて容易に突出
し、その研磨材粒子が研磨に寄与することができる。そ
の結果、研磨材粒子が研磨層に固定されて脱離が抑制さ
れた状態で、そうした研磨材粒子によって被研磨材を効
果的に研磨することができる。According to the present invention, since the overcoat layer is a flexible resin layer, the abrasive particles in the polishing layer are changed by the load of the material to be polished applied to the polishing surface of the polishing film during polishing. , And easily project, and the abrasive particles can contribute to polishing. As a result, in a state where the abrasive particles are fixed to the polishing layer and desorption is suppressed, the material to be polished can be effectively polished by such abrasive particles.
【００１２】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の研磨フィルムにおいて、前記柔軟性のある樹脂層は、
ＪＩＳ−Ｋ−６２５３によって測定されたゴム硬度が３
０〜９５であることに特徴を有する。According to a third aspect of the present invention, in the polishing film according to the second aspect, the flexible resin layer comprises:
Rubber hardness measured by JIS-K-6253 is 3
It is characterized by being 0 to 95.
【００１３】この発明によれば、柔軟性のある樹脂層は
ＪＩＳ−Ｋ−６２５３によって測定されたゴム硬度が３
０〜９５であるので、こうした範囲のゴム硬度からなる
樹脂層は、研磨時に研磨フィルムの表面に加わる被研磨
材の荷重によって、研磨層中の研磨材粒子がその樹脂層
を突き抜けて容易に突出することができる。According to the invention, the flexible resin layer has a rubber hardness of 3 measured according to JIS-K-6253.
Since it is 0 to 95, the resin layer having a rubber hardness in such a range easily projects abrasive particles in the polishing layer through the resin layer due to the load of the material to be polished applied to the surface of the polishing film during polishing. can do.
【００１４】請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請
求項３の何れかに記載の研磨フィルムにおいて、前記オ
ーバーコート層が着色されていることに特徴を有する。According to a fourth aspect of the present invention, in the polishing film according to any one of the first to third aspects, the overcoat layer is colored.
【００１５】この発明によれば、オーバーコート層が着
色されているので、研磨の進行や研磨フィルムを多数回
使用することによって徐々にオーバーコート層及び研磨
層が削れていった場合であっても、少なくとも研磨層上
の着色されたオーバーコート層が存在する限りは、研磨
フィルムが有効に研磨しうると判断できる。また、着色
されたオーバーコート層が徐々に退色するにしたがっ
て、研磨フィルムの劣化状況または使用状況を判断する
ことができる。従って、本発明の研磨フィルムは、長寿
命且つ寿命の判断が容易な研磨フィルムである。According to the present invention, since the overcoat layer is colored, even if the overcoat layer and the polishing layer are gradually scraped by the progress of polishing and the use of the polishing film many times, As long as there is at least a colored overcoat layer on the polishing layer, it can be determined that the polishing film can be polished effectively. In addition, as the colored overcoat layer gradually fades, it is possible to determine the deterioration state or use state of the polishing film. Therefore, the polishing film of the present invention is a polishing film having a long life and whose life can be easily determined.
【００１６】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請
求項４の何れかに記載の研磨フィルムにおいて、光ファ
イバコネクタの端面研磨に使用されることに特徴を有す
る。A fifth aspect of the present invention is characterized in that the polishing film according to any one of the first to fourth aspects is used for polishing an end face of an optical fiber connector.
【００１７】この発明によれば、光ファイバコネクタの
端面研磨に使用されるので、光ファイバコネクタ端面が
研磨材粒子によって傷つけられることがなく、傷のない
光ファイバーコネクタ端面を安定して研磨することがで
きると共に、品質に優れた光ファイバコネクタを安定し
て供給することができる。According to the present invention, since the end face of the optical fiber connector is used for polishing the end face of the optical fiber connector, the end face of the optical fiber connector is not damaged by the abrasive particles, and the end face of the optical fiber connector without scratches can be stably polished. It is possible to stably supply an optical fiber connector having excellent quality.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】本発明の研磨フィルムについて図
面を参照しつつ説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The polishing film of the present invention will be described with reference to the drawings.
【００１９】本発明の研磨フィルム１は、図１に示すよ
うに、基材フィルム２と、その基材フィルム２上に形成
されて少なくとも研磨材粒子５およびバインダー樹脂６
を有する研磨層３と、その研磨層３上に形成されて研磨
材粒子５の脱離を抑制するオーバーコート層４とを有す
るものであり、特に本発明の特徴とするところは、オー
バーコート層４を研磨層３上に形成したところにある。As shown in FIG. 1, the abrasive film 1 of the present invention comprises a base film 2 and at least abrasive particles 5 and a binder resin 6 formed on the base film 2.
And an overcoat layer 4 formed on the polishing layer 3 to suppress detachment of the abrasive particles 5. Particularly, the feature of the present invention is that the overcoat layer 4 is formed on the polishing layer 3.
【００２０】こうした特徴を有する本発明の研磨フィル
ム１を使用することによって、研磨材粒子５が研磨層３
に固定されてその脱離が抑制されるので、研磨フィルム
１が長寿命になると共に、被研磨面に傷を発生させ得る
研磨材粒子の凝集物等の発生が抑制されるので、傷がな
く品質に優れた被研磨面を長期間安定して研磨すること
ができるという格別の効果を有している。By using the polishing film 1 of the present invention having such characteristics, the abrasive particles 5
The polishing film 1 has a long life and the generation of agglomerates of abrasive particles, which can cause scratches on the surface to be polished, is suppressed. This has a special effect that a polished surface having excellent quality can be polished stably for a long period of time.
【００２１】以下、本発明の研磨フィルムの構成につい
て詳しく説明する。Hereinafter, the structure of the polishing film of the present invention will be described in detail.
【００２２】研磨フィルム１の適用対象としては、図２
に示すように、光ファイバ１２及びフェルール１３から
なる光ファイバコネクタ１１を特に好ましく挙げること
ができる。なお、光ファイバコネクタ１１に限らず、半
導体ウエハ、金属、セラミックス、カラーフィルター
（液晶表示用等）、プラズマディスプレイ、光学レン
ズ、磁気ディスクあるいは光ディスク基板、磁気ヘッ
ド、光学読取ヘッド等の精密部品等に対しても好ましく
適用できる。また、これらに限定されず、一般部品等に
適用してもよい。本発明の研磨フィルム１は、例えば光
ファイバコネクタ１１等の端面または表面の研磨に好ま
しく使用することができる。本発明の研磨フィルム１が
使用される研磨工程は、仕上げ研磨工程でも中間研磨工
程でも構わない。この研磨フィルム１を光ファイバコネ
クタ１１の端面研磨に使用する場合には、仕上げ研磨工
程でも中間研磨工程でも好ましく使用できる。なお、仕
上げ研磨工程と中間研磨工程とでは、主として研磨材粒
子５の種類や平均粒径が異なる研磨フィルム１が使用さ
れるので、それぞれの工程で使用される研磨フィルム１
には、その要求に応じた種類と粒径からなる研磨材粒子
５を含有した研磨層３が形成される。The polishing film 1 is applied as shown in FIG.
As shown in (1), an optical fiber connector 11 composed of an optical fiber 12 and a ferrule 13 can be particularly preferably mentioned. Not only the optical fiber connector 11 but also precision parts such as semiconductor wafers, metals, ceramics, color filters (for liquid crystal display, etc.), plasma displays, optical lenses, magnetic disks or optical disk substrates, magnetic heads, optical reading heads, etc. It can also be applied preferably. The invention is not limited to these, and may be applied to general parts and the like. The polishing film 1 of the present invention can be preferably used for polishing an end face or a surface of an optical fiber connector 11 or the like, for example. The polishing step using the polishing film 1 of the present invention may be a finish polishing step or an intermediate polishing step. When this polishing film 1 is used for polishing the end face of the optical fiber connector 11, it can be preferably used in both the final polishing step and the intermediate polishing step. In addition, in the final polishing step and the intermediate polishing step, since the polishing films 1 having different types and average particle diameters of the abrasive particles 5 are mainly used, the polishing film 1 used in each step is used.
The polishing layer 3 containing the abrasive particles 5 of the type and particle size according to the requirement is formed.
【００２３】研磨フィルム１は、幅が広い長尺シート
状、幅が狭い長尺帯状、四角形状、円形状等、どのよう
な形状であってもよい。こうした研磨フィルム１の具体
的な使用態様については、適用される対象および研磨装
置に応じて適宜形状を特定して使用することができる。
特に、光ファイバコネクタ１１を研磨する場合には、回
転円盤式の研磨機が通常使用されるので、円形状に加工
された研磨フィルム１が好ましく使用される。The polishing film 1 may have any shape such as a long sheet having a wide width, a long band having a small width, a square shape, a circular shape, and the like. About the specific usage mode of such a polishing film 1, the shape can be appropriately specified and used according to an object to be applied and a polishing apparatus.
In particular, when polishing the optical fiber connector 11, a rotating disk type polishing machine is usually used, and therefore, the polishing film 1 processed into a circular shape is preferably used.
【００２４】基材フィルム２には、機械的強度、寸法安
定性、耐熱性等が要求される。基材フィルム用の材料と
しては、合成紙やプラスチックフィルムが適用される。
例えば、ポリエチレンテレフタレート、延伸ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、アセチルセルロースジエステ
ル、アセチルセルローストリエステル、延伸ポリエチレ
ン、ポリブチレンテレフタレート等を挙げることができ
る。基材フィルム２の厚さとしては、１０〜１５０μｍ
程度のものが好適である。The base film 2 is required to have mechanical strength, dimensional stability, heat resistance and the like. As a material for the base film, synthetic paper or a plastic film is used.
For example, polyethylene terephthalate, stretched polypropylene, polycarbonate, acetyl cellulose diester, acetyl cellulose triester, stretched polyethylene, polybutylene terephthalate, and the like can be given. The thickness of the base film 2 is 10 to 150 μm
A degree is preferred.
【００２５】プライマー層は、本発明の研磨フィルム１
においては必須の層ではなく、主に研磨層３の接着性を
考慮して必要に応じて設けられるものである。こうした
プライマー層は、研磨層３の隣接層として基材フィルム
２側に設けられる。プライマー層を形成することによ
り、被研磨材を研磨した際の研磨層３の剥離を防止する
ことができる。プライマー層としては、従来公知の構成
からなるプライマー層を適用可能であり、例えば、易接
着プライマー層、シランカップリング剤等の表面改質剤
層（界面活性剤層）、蒸着層等とすることができる。な
お、蒸着層としては、アルミニウム等の金属蒸着層、Ｓ
ｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2 等の金属酸化物蒸着層、ポ
リ尿素等の高分子薄膜蒸着層等を挙げることができる。The primer layer is made of the polishing film 1 of the present invention.
Is not an indispensable layer, but is provided as necessary mainly in consideration of the adhesiveness of the polishing layer 3. Such a primer layer is provided on the base film 2 side as a layer adjacent to the polishing layer 3. By forming the primer layer, it is possible to prevent the polishing layer 3 from peeling off when the material to be polished is polished. As the primer layer, a primer layer having a conventionally known configuration can be used. For example, an easily adhesive primer layer, a surface modifying agent layer (surfactant layer) such as a silane coupling agent, a vapor-deposited layer, and the like can be used. Can be. In addition, as the vapor deposition layer, a metal vapor deposition layer of aluminum or the like, S
iO 2, Al 2 O 3, metal oxide deposited layer such as TiO 2, can be cited a polymer thin film deposition layer such as a polyurea.
【００２６】塗布、印刷または蒸着等によって形成でき
るプライマー層用の材料としては、例えば、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアクリル系も
しくはポリメタクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系
樹脂、エチレン共重合体、ポリビニルアセタール系樹
脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹
脂、フェノール系樹脂、アミノ−プラスト系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、
セルロース系樹脂等からなる樹脂を構成するモノマー、
プレポリマー若しくはオリゴマーまたはポリマーの一種
ないしそれ以上をビヒクルの主成分とする組成物を挙げ
ることができる。プライマー層は、そうしたプライマー
層用材料からなる塗工液や印刷インキ等を調製し、基材
フィルム２上に所定の厚さで塗布、印刷または蒸着して
形成することができる。さらに、接着性を向上させるた
めに、イソシアネート等の硬化剤を入れてもよい。Examples of the material for the primer layer which can be formed by coating, printing or vapor deposition include polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyacrylic or polymethacrylic resin, polyvinyl alcohol resin and ethylene copolymer. Polymer, polyvinyl acetal resin, rubber resin, polyester resin, polyamide resin, phenol resin, amino-plast resin, epoxy resin, polyurethane resin, silicone resin,
A monomer constituting a resin made of a cellulose resin or the like,
Examples of the composition include one or more of a prepolymer, an oligomer, and a polymer as a main component of the vehicle. The primer layer can be formed by preparing a coating liquid, a printing ink, or the like made of such a primer layer material, and applying, printing, or vapor-depositing the base layer 2 at a predetermined thickness. Further, a curing agent such as isocyanate may be added to improve the adhesiveness.
【００２７】研磨層３は、基材フィルム２上に設けられ
るものであって、少なくとも研磨材粒子５およびバイン
ダー樹脂６から形成されてなるものである。研磨層３の
厚さは、被研磨材の種類やその研磨工程に応じて設定さ
れるので特に限定されるものではないが、通常は３〜２
０μｍ程度である。The polishing layer 3 is provided on the base film 2 and is formed of at least the abrasive particles 5 and the binder resin 6. The thickness of the polishing layer 3 is not particularly limited because it is set according to the type of the material to be polished and the polishing process thereof, but is usually 3 to 2
It is about 0 μm.
【００２８】研磨材粒子５は、固定砥粒作用に基づいた
研磨を行うものであればよく、その種類は特に限定され
ない。通常は、被研磨材の種類やその研磨工程に応じ
て、研磨材粒子５の種類や粒子径が設定される。なお、
粒子径は、通常、平均粒径で取り扱っている。使用され
る研磨材粒子５としては、例えば、ダイヤモンド、アル
ミナ（酸化アルミニウム）、酸化チタン、ジルコニア
（酸化ジルコニウム）、リチウムシリケート、窒化ケイ
素、炭化ケイ素、酸化鉄、酸化クロム、シリカ（酸化ケ
イ素）、酸化アンチモン等の無機固体粒子を挙げること
ができる。一般には、ダイヤモンドやアルミナ等が好ま
しく使用される。また、本発明の研磨フィルム１が特に
好ましく適用される光ファイバコネクタ１１に対して
は、ダイヤモンドが特に好ましく使用される。The type of the abrasive particles 5 is not particularly limited as long as the abrasive particles 5 perform polishing based on the action of fixed abrasive grains. Usually, the type and particle size of the abrasive particles 5 are set according to the type of the material to be polished and the polishing step. In addition,
The particle diameter is usually handled as an average particle diameter. Examples of the abrasive particles 5 used include diamond, alumina (aluminum oxide), titanium oxide, zirconia (zirconium oxide), lithium silicate, silicon nitride, silicon carbide, iron oxide, chromium oxide, silica (silicon oxide), Examples include inorganic solid particles such as antimony oxide. Generally, diamond and alumina are preferably used. Diamond is particularly preferably used for the optical fiber connector 11 to which the polishing film 1 of the present invention is particularly preferably applied.
【００２９】研磨材粒子５の好ましい平均粒径は、０．
１〜５μｍの範囲内の所定の平均粒径からなるものであ
り、好ましくは０．５〜３μｍの範囲内の所定の平均粒
径からなるものである。これらは、一次粒子の状態のも
のを使用することが望ましい。こうした粒径からなる研
磨材粒子５は、微細研磨に適する研磨フィルム１を構成
する研磨層３に好ましく含有させることができる。研磨
層３をその範囲の平均粒径からなる研磨材粒子５で構成
することにより、その平均粒径に応じた段階的な研磨工
程で使用される各種の研磨フィルム１を作製することが
できる。The preferred average particle size of the abrasive particles 5 is 0.1.
It has a predetermined average particle size in the range of 1 to 5 μm, and preferably has a predetermined average particle size in the range of 0.5 to 3 μm. It is desirable to use these in the state of primary particles. The abrasive particles 5 having such a particle diameter can be preferably contained in the polishing layer 3 constituting the polishing film 1 suitable for fine polishing. By forming the polishing layer 3 with the abrasive particles 5 having an average particle size in the range, various types of polishing films 1 used in a stepwise polishing process according to the average particle size can be produced.
【００３０】上述した研磨材粒子５は、後述するバイン
ダー樹脂６中に含有されて研磨層３を構成し、その研磨
材粒子５とバインダー樹脂６との配合割合は、研磨材粒
子：バインダー樹脂＝２０：８０〜９５：５の配合割合
（重量％比）とすることができる。The above-mentioned abrasive particles 5 are contained in a binder resin 6 to be described later to constitute the polishing layer 3, and the mixing ratio of the abrasive particles 5 and the binder resin 6 is as follows: abrasive particles: binder resin = The mixing ratio (weight% ratio) can be 20:80 to 95: 5.
【００３１】バインダー樹脂６は、研磨材粒子５を研磨
層３中に固着させる役割を有するものである。バインダ
ー樹脂６としては、そうした作用を有するものであれば
特に限定されず、一般的な研磨フィルムのバインダー樹
脂として採用されている各種のものを選択して適用する
ことができる。例えば、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化
ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアクリル系
またはポリメタクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系
樹脂、エチレン共重合体、ポリビニルアセタール系樹
脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹
脂、フェノール系樹脂、アミノ−プラスト系樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、そ
の他の樹脂を構成するモノマー、プレポリマー若しくは
オリゴマーまたはポリマー、またはそれらのブレンド
物、あるいは反応変性物等を使用することができる。そ
うした樹脂には、ＵＶ硬化性樹脂、ＥＢ硬化性樹脂を含
まれる。本発明においては、ポリエステル系樹脂、ポリ
塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアクリ
ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ＵＶ硬化性樹脂、ＥＢ
硬化性樹脂を特に好ましく使用できる。The binder resin 6 has a role of fixing the abrasive particles 5 in the polishing layer 3. The binder resin 6 is not particularly limited as long as it has such an effect, and various kinds of resins that are employed as binder resins for general polishing films can be selected and applied. For example, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyacrylic or polymethacrylic resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene copolymer, polyvinyl acetal resin, rubber resin, polyester resin, Polyamide-based resin, phenol-based resin, amino-plast-based resin, epoxy resin, polyurethane-based resin, cellulosic-based resin, monomer, prepolymer or oligomer or polymer constituting other resin, blended product thereof, or reaction modified product Etc. can be used. Such resins include UV-curable resins and EB-curable resins. In the present invention, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyacrylic resin, polyurethane resin, UV curable resin, EB
A curable resin can be particularly preferably used.
【００３２】オーバーコート層４は、上述した研磨層３
上に形成されてなり、その研磨層３中の研磨材粒子５の
脱離を抑制する作用を有している。すなわち、このオー
バーコート層４は、研磨層３の最表層に位置してバイン
ダー樹脂６に十分に埋包（埋まり包まれていること）さ
れていない研磨材粒子５を覆うので、そうした研磨材粒
子５は、その全体がオーバーコート層４に覆われること
により研磨層３に固定される。そのため、その研磨材粒
子５にあっては、研磨中にバインダー樹脂６から脱離す
るのが抑制され、結果として、研磨フィルム１そのもの
の寿命が長くなる。こうしたことは、研磨材粒子の凝集
物等の発生を極力抑えることとなるので、傷がなく品質
に優れた被研磨面を長期間安定して研磨することを可能
にさせる。The overcoat layer 4 is formed of the polishing layer 3 described above.
It has an effect of suppressing detachment of the abrasive particles 5 in the polishing layer 3. That is, since the overcoat layer 4 covers the abrasive particles 5 which are located on the outermost layer of the polishing layer 3 and are not sufficiently embedded (buried) in the binder resin 6, such abrasive particles 5 5 is fixed to the polishing layer 3 by being entirely covered with the overcoat layer 4. Therefore, the abrasive particles 5 are prevented from detaching from the binder resin 6 during polishing, and as a result, the life of the polishing film 1 itself is prolonged. This minimizes the generation of agglomerates of the abrasive particles and the like, and thus makes it possible to stably polish a polished surface having no scratches and excellent quality for a long period of time.
【００３３】オーバーコート層４の厚さは、研磨層中に
含有される研磨材粒子５の粒径との関係で任意に設定さ
れる。すなわち、研磨材粒子５が大きい場合には、比較
的厚いオーバーコート層４であっても、その研磨材粒子
５に基づいた固定砥流作用によって効果的に被研磨面を
研磨することができる。しかし、研磨材粒子５が小さい
場合には、厚いオーバーコート層４では研磨材粒子５が
オーバーコート層４の表層部から突出することができ
ず、研磨能力が低下してしまうこととなる。したがっ
て、オーバーコート層４の厚さは、こうした観点から、
研磨材粒子５の大きさとの関係を考慮して設定される。
通常、厚さ０．１〜１０μｍの範囲で任意に設定され
る。The thickness of the overcoat layer 4 is arbitrarily set in relation to the size of the abrasive particles 5 contained in the polishing layer. That is, when the abrasive particles 5 are large, the surface to be polished can be effectively polished by the fixed abrasive flow action based on the abrasive particles 5 even if the overcoat layer 4 is relatively thick. However, when the abrasive particles 5 are small, the abrasive particles 5 cannot protrude from the surface portion of the overcoat layer 4 in the thick overcoat layer 4, and the polishing ability is reduced. Accordingly, the thickness of the overcoat layer 4 is determined from such a viewpoint.
It is set in consideration of the relationship with the size of the abrasive particles 5.
Usually, the thickness is arbitrarily set in a range of 0.1 to 10 μm.
【００３４】本発明においては、そのオーバーコート層
４が柔軟性のある樹脂層であることが好ましい。柔軟性
のある樹脂層がオーバーコート層４を構成すると、研磨
時に研磨フィルム１の研磨面に加わる被研磨材の荷重に
よって、研磨層３中の研磨材粒子５がその樹脂層を突き
抜けて容易に突出する。突出した研磨材粒子５は、有効
に研磨に寄与することができる。その結果、研磨材粒子
５が研磨層３に固定されて脱離が抑制された状態を保持
したまま、被研磨材を効果的に研磨することができる。In the present invention, the overcoat layer 4 is preferably a flexible resin layer. When the flexible resin layer constitutes the overcoat layer 4, the abrasive particles 5 in the polishing layer 3 easily penetrate the resin layer due to the load of the material to be polished applied to the polishing surface of the polishing film 1 during polishing. Protrude. The protruding abrasive particles 5 can effectively contribute to polishing. As a result, the material to be polished can be effectively polished while maintaining the state in which the abrasive particles 5 are fixed to the polishing layer 3 and desorption is suppressed.
【００３５】柔軟性のある樹脂層としては、ＪＩＳ−Ｋ
−６２５３によって測定されたゴム硬度が３０〜９５、
好ましくは５０〜９０の範囲の樹脂層であればよく樹脂
の種類等は特に限定されない。こうした範囲の硬度から
なる樹脂層は、研磨材粒子５を容易に突出させる前記の
好ましい作用を発揮するほか、その樹脂層自身が容易に
変形するので、研磨フィルム１の研磨面に加わる被研磨
材の荷重に対して柔軟に振る舞うことができる。そのた
め、研磨材粒子５の研磨能力を落とすことなく、その研
磨材粒子５を研磨層３中に有効に保持させることができ
る。ゴム硬度が３０未満の場合は、柔らからすぎて研磨
材粒子５を効果的に保持することができなくなることが
ある。ゴム硬度が９５を超えると、樹脂層の変形が起こ
りにくく、研磨材粒子５を容易に突出させ難い。そのた
め、研磨材粒子５が研磨面の表層部に出てき難くなるの
で、研磨材粒子５に基づいた研磨能力が低下してしまう
ことがある。As the flexible resin layer, JIS-K
A rubber hardness measured by -6253 of 30 to 95,
Preferably, the resin layer is in the range of 50 to 90, and the type of the resin is not particularly limited. The resin layer having a hardness in such a range not only exhibits the above-described preferable effect of easily projecting the abrasive particles 5 but also easily deforms the resin layer itself. It can behave flexibly with respect to the load. Therefore, the abrasive particles 5 can be effectively held in the polishing layer 3 without lowering the polishing ability of the abrasive particles 5. If the rubber hardness is less than 30, the abrasive particles 5 may be too soft to effectively retain the abrasive particles 5 in some cases. If the rubber hardness exceeds 95, the resin layer is less likely to be deformed and the abrasive particles 5 are not easily protruded. Therefore, it becomes difficult for the abrasive particles 5 to come out to the surface layer portion of the polishing surface, so that the polishing ability based on the abrasive particles 5 may be reduced.
【００３６】なお、柔軟性のある樹脂としては、ゴム状
弾性を示す材料を使用できる。例えば、スチレンブタジ
エンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、ブタジエ
ンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、クロロス
ルホン化ポリエチレン、エチレンプロピレンゴム、ブチ
ルゴム、シリコーンゴム、多硫化ゴム、フッ素ゴム、ウ
レタンゴム、アクリルゴム、等が挙げられる。特に、シ
リコンゴムあるいはイソプレンゴムが好ましく用いられ
る。As the flexible resin, a material exhibiting rubber-like elasticity can be used. For example, styrene butadiene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, chlorosulfonated polyethylene, ethylene propylene rubber, butyl rubber, silicone rubber, polysulfide rubber, fluorine rubber, urethane rubber, acrylic rubber, etc. . In particular, silicone rubber or isoprene rubber is preferably used.
【００３７】さらに、本発明においては、オーバーコー
ト層４が着色されていることが好ましい。着色剤として
は、一般的な着色顔料を用いることができる。例えば、
グンジョウ、ベンガラ、クロムイエロー、鉛白、チタン
ホワイト、カーボンブラック等の無機顔料、および、ア
ゾ系、トリフェニルメタン系、キノリン系、アントラキ
ノン系、フタロシアニン系、その他の有機顔料等が挙げ
られる。そうした着色顔料をオーバーコート層用塗工液
に含有させ、その塗工液を塗布または印刷することによ
って、着色したオーバーコート層４を容易に形成するこ
とができる。こうして、オーバーコート層４を着色する
と、研磨の進行や研磨フィルムを多数回使用することに
よって徐々にオーバーコート層４及び研磨層３が削れて
いった場合であっても、少なくとも研磨層３上の着色さ
れたオーバーコート層４が存在する限りは、研磨フィル
ム１が有効に研磨しうると判断できるし、また、着色さ
れたオーバーコート層４が徐々に退色変化するにしたが
って、研磨フィルム１の劣化状況または使用状況を判断
することができ、寿命判別が容易になる。Further, in the present invention, it is preferable that the overcoat layer 4 is colored. As the coloring agent, a general coloring pigment can be used. For example,
Inorganic pigments such as Gunjo, Bengala, chrome yellow, lead white, titanium white, and carbon black, and azo, triphenylmethane, quinoline, anthraquinone, phthalocyanine, and other organic pigments. The colored overcoat layer 4 can be easily formed by including such a coloring pigment in a coating liquid for an overcoat layer and applying or printing the coating liquid. When the overcoat layer 4 is colored in this way, even if the overcoat layer 4 and the polishing layer 3 are gradually scraped by the progress of polishing and the use of the polishing film many times, at least the polishing layer 3 As long as the colored overcoat layer 4 is present, it can be determined that the polishing film 1 can be effectively polished, and as the colored overcoat layer 4 gradually fades, the polishing film 1 deteriorates. The condition or the use condition can be determined, and the life can be easily determined.
【００３８】こうして構成された本発明の研磨フィルム
１にあっては、上述のオーバーコート層４は、研磨材粒
子５を研磨層３に固定して、その研磨材粒子５が容易に
研磨層３から脱離するのを防ぐので、被研磨面に傷を発
生させ得る研磨材粒子の凝集物等の発生を極力抑えるこ
とができる。また、そうしたオーバーコート層４を設け
ることによって、研磨フィルム自身の寿命を向上させる
ことができる。そして、本発明の研磨フィルム１を極め
て高精度な研磨が要求される光ファイバコネクタ１１の
端面研磨に適用すれば、その端面が研磨材粒子の凝集物
等で傷つけられることはほとんどなくなり、傷のない光
ファイバコネクタ１１の端面１４、１５を安定して研磨
することができ、高品質の光ファイバコネクタ１１を安
定して供給することができる。In the polishing film 1 of the present invention thus configured, the above-mentioned overcoat layer 4 fixes the abrasive particles 5 to the polishing layer 3 so that the abrasive particles 5 can be easily applied to the polishing layer 3. Therefore, it is possible to minimize the generation of agglomerates of abrasive particles and the like which may cause scratches on the surface to be polished. Further, by providing such an overcoat layer 4, the life of the polishing film itself can be improved. If the polishing film 1 of the present invention is applied to the polishing of the end face of the optical fiber connector 11 which requires extremely high-precision polishing, the end face is hardly damaged by aggregates of abrasive particles and the like. The end faces 14 and 15 of the optical fiber connector 11 can be polished stably, and a high-quality optical fiber connector 11 can be supplied stably.
【００３９】次に、研磨フィルムの製造方法について説
明する。Next, a method for producing a polishing film will be described.
【００４０】本発明の研磨フィルム１を製造するには、
先ず、ポリエステルフィルム、例えば２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートからなる所定厚さの基材フィルム２
を準備し、その基材フィルム２上に、必要に応じてプラ
イマー層を塗布等によって形成する。次に、所定の平均
粒径の研磨材粒子５である例えばダイヤモンド粒子を、
バインダー樹脂６およびバインダー樹脂用溶媒を含んだ
バインダー樹脂液中に混合して塗工液を調製する。この
とき、研磨材粒子５とバインダー樹脂６との配合割合
は、上述した通りである。こうして調製された塗工液
を、上述の基材フィルム２上または必要に応じて設けら
れるプライマー層上に塗布形成する。このときの塗布方
法としては、ロールコート法、グラビアコート法、ダイ
コート法等、種々の手段を適用することができる。塗布
後直ちに所定の温度（例えば１１０℃〜１２０℃）で所
定の時間（例えば３０秒間程度）加熱し、塗工層中の溶
媒を蒸発させる。このようにして塗工層が乾燥され、所
定の厚さ（例えば、５〜２０μｍ）の研磨層３が形成さ
れる。次いで、予め調製されたオーバーコート層用塗工
液を、上述の研磨層３上に塗布する。このときの塗布方
法としては、ナイフコート法、ロールコート法、グラビ
アコート法、ダイコート法等、種々の手段を適用するこ
とができる。塗布後直ちに所定の温度（例えば１１０℃
〜１２０℃）で所定の時間（例えば３０秒間程度）加熱
し、塗工層中の溶媒を蒸発させる。さらに、塗布したオ
ーバーコート層用塗工液の種類に応じて、加熱硬化する
こともある。このようにして所定の厚さ（例えば、０．
１〜１０μｍ）のオーバーコート層４が形成されて研磨
フィルム１が製造される。To produce the polishing film 1 of the present invention,
First, a base film 2 of a predetermined thickness made of a polyester film, for example, biaxially stretched polyethylene terephthalate.
Is prepared, and a primer layer is formed on the base film 2 by coating or the like as necessary. Next, for example, abrasive particles 5 having a predetermined average particle diameter, for example, diamond particles,
It is mixed with a binder resin liquid containing the binder resin 6 and a solvent for the binder resin to prepare a coating liquid. At this time, the mixing ratio of the abrasive particles 5 and the binder resin 6 is as described above. The coating liquid thus prepared is applied and formed on the base film 2 or on a primer layer provided as necessary. As a coating method at this time, various means such as a roll coating method, a gravure coating method, and a die coating method can be applied. Immediately after the application, heating is performed at a predetermined temperature (for example, 110 ° C. to 120 ° C.) for a predetermined time (for example, about 30 seconds) to evaporate the solvent in the coating layer. Thus, the coating layer is dried, and the polishing layer 3 having a predetermined thickness (for example, 5 to 20 μm) is formed. Next, a coating liquid for an overcoat layer prepared in advance is applied on the polishing layer 3 described above. As a coating method at this time, various means such as a knife coating method, a roll coating method, a gravure coating method, and a die coating method can be applied. Immediately after application, a predetermined temperature (for example, 110 ° C.)
To about 120 ° C.) for a predetermined time (for example, about 30 seconds) to evaporate the solvent in the coating layer. Further, depending on the type of the applied coating liquid for the overcoat layer, the composition may be cured by heating. In this manner, a predetermined thickness (for example, 0.
The overcoat layer 4 of 1 to 10 μm) is formed, and the polishing film 1 is manufactured.
【００４１】[0041]
【実施例】以下に、本発明の研磨フィルムおよびその製
造方法について、実施例と比較例を挙げて更に詳しく説
明する。なお、本発明が以下に実施例に限定されるもの
でないことは言うまでもない。The polishing film of the present invention and the method for producing the same will be described below in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. It goes without saying that the present invention is not limited to the following examples.
【００４２】（実施例１）基材フィルム２として、片面
にプライマー層が施された厚さ７５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムを用いた。次に、そのプライマ
ー層面に、下記の組成の研磨層用塗工液（ａ）をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが１０μｍと
なるように塗布し、加熱乾燥し、更に１００℃・２０分
間の条件で加熱硬化させた。こうして、基材フィルム２
上にプライマー層を介して厚さ１０μｍの研磨層３を形
成した。なお、研磨層用塗工液（ａ）は、研磨材粒子５
として平均粒径０．６μｍのダイヤモンド粒子を１００
重量部、バインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を２
０重量部、架橋剤としてポリイソシアネート架橋剤を３
重量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトン／トルエン
混合系溶媒を２００重量部を混合し撹拌して調製した。Example 1 A 75 μm thick polyethylene terephthalate film having a primer layer on one side was used as a base film 2. Next, a coating liquid (a) for a polishing layer having the following composition was applied to the surface of the primer layer by a gravure reverse coating method so that the thickness at the time of drying was 10 μm, and was dried by heating. The composition was cured by heating for 20 minutes. Thus, the base film 2
A polishing layer 3 having a thickness of 10 μm was formed thereon via a primer layer. Note that the coating liquid (a) for the polishing layer contains the abrasive particles 5
Diamond particles having an average particle diameter of 0.6 μm as 100
2 parts by weight of polyester resin as binder resin
0 parts by weight, 3 parts of a polyisocyanate crosslinking agent as a crosslinking agent
The mixture was prepared by mixing and stirring 200 parts by weight of a methyl ethyl ketone / toluene mixed solvent as a diluting solvent.
【００４３】次に、研磨層３上に、２液型シリコーンゴ
ム塗工液（Ａ）をナイフコート法により、乾燥時の厚さ
が１μｍ、表面ゴム硬度が７０、となるように塗布し、
加熱乾燥し、さらに１００℃・３０分間の条件で加熱硬
化して、その研磨層３上に厚さ１μｍのオーバーコート
層４を形成した。こうして実施例１の研磨フィルムを作
製した。Next, a two-part silicone rubber coating liquid (A) is applied on the polishing layer 3 by a knife coating method so that the dry thickness is 1 μm and the surface rubber hardness is 70.
The resultant was dried by heating and further cured by heating at 100 ° C. for 30 minutes to form an overcoat layer 4 having a thickness of 1 μm on the polishing layer 3. Thus, the polishing film of Example 1 was produced.
【００４４】（実施例２）基材フィルム２として、片面
にプライマー層が施された厚さ７５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムを用いた。次に、そのプライマ
ー層面に、下記の組成の研磨層用塗工液（ｂ）をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが１０μｍと
なるように塗布し、加熱乾燥し、更に１００℃・２０分
間の条件で加熱硬化させた。こうして、基材フィルム２
上にプライマー層を介して厚さ１０μｍの研磨層３を形
成した。なお、研磨層用塗工液（ｂ）は、研磨材粒子５
として平均粒径１．０μｍのダイヤモンド粒子を１００
重量部、バインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を３
０重量部、架橋剤としてポリイソシアネート架橋剤を５
重量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトン／トルエン
混合系溶媒を２００重量部を混合し撹拌して調製した。Example 2 A 75 μm thick polyethylene terephthalate film having a primer layer on one side was used as the base film 2. Next, a coating liquid (b) for a polishing layer having the following composition is applied to the surface of the primer layer by a gravure reverse coating method so that the thickness at the time of drying becomes 10 μm, and dried by heating. The composition was cured by heating for 20 minutes. Thus, the base film 2
A polishing layer 3 having a thickness of 10 μm was formed thereon via a primer layer. The coating liquid (b) for the polishing layer contains the abrasive particles 5
Diamond particles having an average particle size of 1.0 μm as 100
3 parts by weight of polyester resin as binder resin
0 parts by weight, 5 parts of a polyisocyanate crosslinking agent as a crosslinking agent
The mixture was prepared by mixing and stirring 200 parts by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / toluene as a diluting solvent.
【００４５】次に、研磨層３上に、赤色顔料を添加した
２液型シリコーンゴム塗工液（Ｂ）をナイフコート法に
より、乾燥時の厚さが２μｍ、表面ゴム硬度が８０、と
なるように塗布し、加熱乾燥し、さらに１００℃・３０
分間の条件で加熱硬化して、その研磨層３上に厚さ２μ
ｍのオーバーコート層４を形成した。こうして実施例２
の研磨フィルムを作製した。Next, the two-component silicone rubber coating liquid (B) to which the red pigment has been added is applied to the polishing layer 3 by knife coating to a dry thickness of 2 μm and a surface rubber hardness of 80. And dried by heating.
For 2 minutes on the polishing layer 3 with a thickness of 2 μm.
m of the overcoat layer 4 was formed. Thus, Embodiment 2
Was prepared.
【００４６】（比較例１）基材フィルム２として、片面
にプライマー層が施された厚さ７５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムを用いた。次に、そのプライマ
ー層面に、下記の組成の研磨層用塗工液（ｃ）をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが１０μｍと
なるように塗布し、加熱乾燥し、更に１００℃・２０分
間の条件で加熱硬化させた。こうして、基材フィルム２
上にプライマー層を介して厚さ１０μｍの研磨層３を形
成した。なお、研磨層用塗工液（ｃ）は、研磨材粒子５
として平均粒径０．６μｍのダイヤモンド粒子を１００
重量部、バインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を２
０重量部、架橋剤としてポリイソシアネート架橋剤を３
重量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトン／トルエン
混合系溶媒を２００重量部を混合し撹拌して調製した。
このとき、オーバーコート層は形成せずに、比較例１の
研磨フィルムを作製した。Comparative Example 1 A 75 μm thick polyethylene terephthalate film having a primer layer on one side was used as the base film 2. Next, a coating liquid (c) for a polishing layer having the following composition was applied to the surface of the primer layer by a gravure reverse coating method so that the thickness at the time of drying was 10 μm, and was dried by heating. The composition was cured by heating for 20 minutes. Thus, the base film 2
A polishing layer 3 having a thickness of 10 μm was formed thereon via a primer layer. In addition, the coating liquid (c) for the polishing layer contains the abrasive particles 5
Diamond particles having an average particle diameter of 0.6 μm as 100
2 parts by weight of polyester resin as binder resin
0 parts by weight, 3 parts of a polyisocyanate crosslinking agent as a crosslinking agent
The mixture was prepared by mixing and stirring 200 parts by weight of a methyl ethyl ketone / toluene mixed solvent as a diluting solvent.
At this time, the polishing film of Comparative Example 1 was produced without forming the overcoat layer.
【００４７】（比較例２）基材フィルム２として、片面
にプライマー層が施された厚さ７５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムを用いた。次に、そのプライマ
ー層面に、下記の組成の研磨層用塗工液（ｄ）をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが１０μｍと
なるように塗布し、加熱乾燥し、更に１００℃・２０分
間の条件で加熱硬化させた。こうして、基材フィルム２
上にプライマー層を介して厚さ１０μｍの研磨層３を形
成した。なお、研磨層用塗工液（ｄ）は、研磨材粒子５
として平均粒径１．０μｍのダイヤモンド粒子を１００
重量部、バインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を３
０重量部、架橋剤としてポリイソシアネート架橋剤を５
重量部、希釈溶剤としてメチルエチルケトン／トルエン
混合系溶媒を２００重量部を混合し撹拌して調製した。Comparative Example 2 A 75 μm thick polyethylene terephthalate film having a primer layer on one side was used as the base film 2. Next, a coating liquid (d) for a polishing layer having the following composition is applied to the surface of the primer layer by a gravure reverse coating method so that the thickness when dried becomes 10 μm, and dried by heating. The composition was cured by heating for 20 minutes. Thus, the base film 2
A polishing layer 3 having a thickness of 10 μm was formed thereon via a primer layer. The coating liquid (d) for the polishing layer contains the abrasive particles 5
Diamond particles having an average particle size of 1.0 μm as 100
3 parts by weight of polyester resin as binder resin
0 parts by weight, 5 parts of a polyisocyanate crosslinking agent as a crosslinking agent
The mixture was prepared by mixing and stirring 200 parts by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / toluene as a diluting solvent.
【００４８】次に、研磨層３上に、２液型シリコーンゴ
ム塗工液（Ｄ）をナイフコート法により、乾燥時の厚さ
が５μｍ、表面ゴム硬度が９６、となるように塗布し、
加熱乾燥し、さらに１００℃・２０分間の条件で加熱硬
化して、その研磨層３上に厚さ５μｍのオーバーコート
層４を形成した。こうして比較例２の研磨フィルムを作
製した。Next, a two-part silicone rubber coating liquid (D) is applied on the polishing layer 3 by a knife coating method so that the dry thickness is 5 μm and the surface rubber hardness is 96.
The resultant was dried by heating, and further cured by heating at 100 ° C. for 20 minutes to form an overcoat layer 4 having a thickness of 5 μm on the polishing layer 3. Thus, a polishing film of Comparative Example 2 was produced.
【００４９】（評価および結果）以上のように作製した
実施例１、２および比較例１、２の研磨フィルムを、そ
れぞれ直径１５０ｍｍφの円形に打ち抜いて評価用の試
料とし、その研磨性能の比較確認を行った。(Evaluation and Results) The polishing films of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 produced as described above were each punched into a circle having a diameter of 150 mmφ to prepare a sample for evaluation. Was done.
【００５０】評価は、光ファイバコネクタ１１の端面研
磨によるものとし、それぞれの研磨フィルムによる研磨
直後の光ファイバコネクタ１１の端面状態の観察、およ
び使用後の研磨フィルムの表面を観察することにより行
った。使用した光ファイバコネクタ１１は２．５ｍｍφ
とした。なお、実施例１及び比較例１の評価に際して
は、平均粒径１．０μｍのダイヤモンド研磨フィルム
（３Ｍ製、ダイヤモンドラッピングフィルム：１ｍｉ
ｃ）で前処理（前研磨）した後に上述の評価を行った。
また、実施例２及び比較例２の評価に際しては、平均粒
径３．０μｍのダイヤモンド研磨フィルム（３Ｍ製、ダ
イヤモンドラッピングフィルム：３ｍｉｃ）で前処理
（前研磨）した後に上述の評価を行った。The evaluation was performed by polishing the end face of the optical fiber connector 11, and was performed by observing the state of the end face of the optical fiber connector 11 immediately after polishing with each polishing film and observing the surface of the polishing film after use. . The used optical fiber connector 11 is 2.5 mmφ
And In the evaluation of Example 1 and Comparative Example 1, a diamond polished film having an average particle diameter of 1.0 μm (manufactured by 3M, diamond wrapping film: 1 mi)
After the pretreatment (pre-polishing) in c), the above evaluation was performed.
In the evaluation of Example 2 and Comparative Example 2, the above-mentioned evaluation was performed after pretreatment (pre-polishing) with a diamond polishing film (3M, diamond wrapping film: 3 mic) having an average particle size of 3.0 μm.
【００５１】研磨工程は、光ファイバコネクタ研磨機
（精工技研製、ＳＦＰ−１２０Ａ）により、光ファイバ
コネクタ１１の端面研磨を実施した。潤滑剤は純水と
し、研磨時間は６０秒とした。また、コネクタの端面状
態は、倍率８００倍の光学顕微鏡で観察し、研磨フィル
ムの表面状態は、倍率１０００倍の走査型電子顕微鏡で
観察した。その観察結果を表１に示した。In the polishing step, the end face of the optical fiber connector 11 was polished by an optical fiber connector polishing machine (SFP-120A manufactured by Seiko Giken). The lubricant was pure water, and the polishing time was 60 seconds. Further, the end face state of the connector was observed with an optical microscope of 800 times magnification, and the surface state of the polished film was observed with a scanning electron microscope of 1000 times magnification. The results of the observation are shown in Table 1.
【００５２】[0052]
【表１】 [Table 1]
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上説明したように本発明の研磨フィル
ムによれば、オーバーコート層により研磨材粒子の脱離
を抑制して被研磨面の傷の発生原因になり得る研磨材粒
子の凝集物等の発生を極力抑えることができるので、傷
がなく品質に優れた被研磨面を長期間安定して研磨する
ことができると共に、研磨フィルム自体も寿命が長くな
る。さらに、オーバーコート層を柔軟性のある樹脂層と
したので、研磨層中の研磨材粒子がオーバーコート層を
突き抜けて容易に突出する。そのため、研磨材粒子の脱
離が抑制された状態で、その研磨材粒子によって被研磨
材を効果的に研磨することができる。また、オーバーコ
ート層を着色することにより、その着色されたオーバー
コート層が存在する限り研磨フィルムが有効に研磨しう
ると判断できるので、その寿命および劣化状態を容易に
判断できる。As described above, according to the polishing film of the present invention, the overcoat layer suppresses the detachment of the abrasive particles, and the aggregates of the abrasive particles which may cause the scratch on the surface to be polished. And the like can be suppressed to the utmost, so that the surface to be polished having no scratches and excellent quality can be polished stably for a long period of time, and the life of the polishing film itself becomes longer. Further, since the overcoat layer is a flexible resin layer, abrasive particles in the polishing layer easily penetrate through the overcoat layer. Therefore, the material to be polished can be effectively polished by the abrasive particles in a state where the detachment of the abrasive particles is suppressed. Further, by coloring the overcoat layer, it can be determined that the polishing film can be effectively polished as long as the colored overcoat layer is present, so that the life and the deterioration state can be easily determined.
【００５４】このような研磨フィルムは、光ファイバ及
びフェルールからなる光ファイバコネクタの端面研磨に
特に好ましく適用されると共に、半導体ウエハ、金属、
セラミックス、カラーフィルター（液晶表示用等）、プ
ラズマディスプレイ、光学レンズ、磁気ディスクあるい
は光ディスク基板、磁気ヘッド、光学読取ヘッド等の精
密部品の表面、端面等に対する仕上げ研磨もしくは中間
研磨または一般研磨を行う研磨フィルムに好適に適用で
きる。Such a polishing film is particularly preferably applied to polishing of an end face of an optical fiber connector composed of an optical fiber and a ferrule.
Finishing or intermediate polishing or general polishing for the surface, end face, etc. of precision parts such as ceramics, color filters (for liquid crystal display, etc.), plasma displays, optical lenses, magnetic disks or optical disk substrates, magnetic heads, optical reading heads, etc. It can be suitably applied to films.
【図１】本発明の研磨フィルムの層構成の一例を示す断
面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a polishing film of the present invention.
【図２】本発明の研磨フィルムを使用した光ファイバコ
ネクタの端面研磨の一態様を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing one mode of polishing an end face of an optical fiber connector using the polishing film of the present invention.
１ 研磨フィルム ２ 基材フィルム ３ 研磨層 ４ オーバーコート層 ５ 研磨材粒子 ６ バインダー樹脂 １１ 光ファイバコネクタ １２ 光ファイバ １３ フェルール １４ 光ファイバ端面 １５ フェルール端面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polishing film 2 Base film 3 Polishing layer 4 Overcoat layer 5 Abrasive particles 6 Binder resin 11 Optical fiber connector 12 Optical fiber 13 Ferrule 14 Optical fiber end face 15 Ferrule end face
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 6/00 ３３５ Ｇ０２Ｂ 6/00 ３３５ 6/36 6/36 (72)発明者 井沢 秀樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H036 KA03 QA13 QA22 QA29 2H038 CA22 3C049 AA07 AA09 CA01 3C058 AA07 AA09 3C063 AA03 AB07 BA37 BA40 BB02 BB03 BB04 BB07 BC03 BG08 BG22 EE01 FF13 FF23 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 6/00 335 G02B 6/00 335 6/36 6/36 (72) Inventor Hideki Izawa Shinjuku-ku, Tokyo 1-1-1 Ichigaya-Kagacho F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (Reference) 2H036 KA03 QA13 QA22 QA29 2H038 CA22 3C049 AA07 AA09 CA01 3C058 AA07 AA09 3C063 AA03 AB07 BA37 BA40 BB02 BB03 BB04 BB07 BB07 BB04
Claims (5)
形成されて少なくとも研磨材粒子およびバインダー樹脂
を有する研磨層と、当該研磨層上に形成されて前記研磨
材粒子の脱離を抑制するオーバーコート層とを有するこ
とを特徴とする研磨フィルム。1. A base film, a polishing layer formed on the base film and having at least abrasive particles and a binder resin, and formed on the polishing layer to suppress detachment of the abrasive particles. A polishing film having an overcoat layer.
樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の研磨フ
ィルム。2. The polishing film according to claim 1, wherein the overcoat layer is a flexible resin layer.
−６２５３によって測定されたゴム硬度が３０〜９５で
あることを特徴とする請求項２に記載の研磨フィルム。3. The flexible resin layer is made of JIS-K
The polishing film according to claim 2, wherein the rubber hardness measured by -6253 is 30 to 95.
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載
の研磨フィルム。4. The polishing film according to claim 1, wherein the overcoat layer is colored.
れることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れかに
記載の研磨フィルム。5. The polishing film according to claim 1, wherein the polishing film is used for polishing an end face of an optical fiber connector.
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