JP2002237544A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JP2002237544A
JP2002237544A JP2001034265A JP2001034265A JP2002237544A JP 2002237544 A JP2002237544 A JP 2002237544A JP 2001034265 A JP2001034265 A JP 2001034265A JP 2001034265 A JP2001034265 A JP 2001034265A JP 2002237544 A JP2002237544 A JP 2002237544A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
wiring
wiring board
internal
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001034265A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Mizuno
茂 水野
Michio Horiuchi
道夫 堀内
Takashi Kurihara
孝 栗原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP2001034265A priority Critical patent/JP2002237544A/en
Publication of JP2002237544A publication Critical patent/JP2002237544A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, in which restrictions are not generated in the dimension of a semiconductor element to be mounted and in which a plurality of all types of semiconductor elements can be mounted. SOLUTION: A semiconductor device 219 or 222 is provided with a wiring board 216, in which a cavity 216a or an opening 216c is formed into a step shape and a plurality of internal semiconductor devices 211 mounted by using the difference of the step shape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、より詳細には、半導体素子を複数備えた半導体装置
に関する。
The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device having a plurality of semiconductor elements.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に伴い、半導体
素子を複数備えたマルチチップ半導体装置が実現されて
いる。このマルチチップ半導体装置には、半導体素子を
一平面内に複数配列するタイプと、半導体素子を厚み方
向に複数積層するタイプとがある。前者は、半導体素子
が平面的に配列されるので、マルチチップ半導体装置の
実装面積が大きくなるという不都合がある。一方、後者
は、半導体素子が厚み方向に配列されるのでこのような
不都合は生じない。以下では、後者のマルチチップ半導
体装置について説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization of electronic equipment, a multi-chip semiconductor device having a plurality of semiconductor elements has been realized. The multi-chip semiconductor device includes a type in which a plurality of semiconductor elements are arranged in one plane and a type in which a plurality of semiconductor elements are stacked in a thickness direction. The former has a disadvantage that the mounting area of the multi-chip semiconductor device increases because the semiconductor elements are arranged in a plane. On the other hand, in the latter, such inconvenience does not occur because the semiconductor elements are arranged in the thickness direction. Hereinafter, the latter multi-chip semiconductor device will be described.

【0003】図11は、従来例に係るマルチチップ半導
体装置の断面図である。図11において、101は配線
基板である。この配線基板101上には、下段半導体素
子102と上段半導体素子103とが順に積層され、そ
の各々の電極端子102a及び103aが、ボンディン
グワイヤ107、107、・・・により配線基板101
と電気的に接続されている。これら下段半導体素子10
2及び上段半導体素子103の各々は、接着剤111に
より配線基板101上及び下段半導体素子102上に接
着されている。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a conventional multi-chip semiconductor device. In FIG. 11, reference numeral 101 denotes a wiring board. On the wiring substrate 101, a lower semiconductor element 102 and an upper semiconductor element 103 are sequentially stacked, and their respective electrode terminals 102a and 103a are connected to the wiring substrate 101 by bonding wires 107, 107,.
Is electrically connected to These lower semiconductor elements 10
Each of the second and upper semiconductor elements 103 is bonded to the wiring substrate 101 and the lower semiconductor element 102 with an adhesive 111.

【0004】図中、105は、配線基板101の配線パ
ターンであり、それには外部接続端子として機能するは
んだバンプ104、104、・・・が接合されている。
また、106はポリイミドフィルム等の樹脂フィルムで
あり、110は配線パターン105上に塗布されたソル
ダレジストである。そして、108は、下段半導体素子
102、上段半導体素子103、及びボンディングワイ
ヤ107、107・・・を封止するための封止樹脂であ
る。
In FIG. 1, reference numeral 105 denotes a wiring pattern of a wiring board 101, to which solder bumps 104, 104,... Functioning as external connection terminals are joined.
Reference numeral 106 denotes a resin film such as a polyimide film, and 110 denotes a solder resist applied on the wiring pattern 105. Reference numeral 108 denotes a sealing resin for sealing the lower semiconductor element 102, the upper semiconductor element 103, and the bonding wires 107.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、下段半導体
素子102にワイヤボンディングを行うには、上段半導
体素子103の大きさが下段半導体素子102よりも小
さくなければならない。これは、上段半導体素子103
の大きさが下段半導体素子102と同じか或いは大きい
と、下段半導体素子102の電極端子102aが上段半
導体素子103によって覆われてしまい、電極端子10
2aに対してワイヤボンディングを行うことができなく
なってしまうからである。このように、マルチチップ半
導体装置101においては、下段半導体素子102と上
段半導体素子103の大きさに対して制約がある。
In order to perform wire bonding to the lower semiconductor element 102, the size of the upper semiconductor element 103 must be smaller than that of the lower semiconductor element 102. This is the upper semiconductor element 103
Is larger than or equal to that of the lower semiconductor element 102, the electrode terminal 102a of the lower semiconductor element 102 is covered by the upper semiconductor element 103, and the electrode terminal 10
This is because it becomes impossible to perform wire bonding on 2a. Thus, in the multi-chip semiconductor device 101, there are restrictions on the size of the lower semiconductor element 102 and the upper semiconductor element 103.

【0006】しかしながら、半導体素子の大きさに制約
があると、搭載できる半導体素子の種類が限られてしま
うという不都合が生じてしまう。本発明は、係る従来例
の問題点に鑑みて創作されたものであり、搭載される半
導体素子の大きさに制約が生じず、あらゆる種類の半導
体素子を複数搭載することができる半導体装置を提供す
ることを目的とするものである。
However, if the size of the semiconductor element is limited, there is a disadvantage that the types of semiconductor elements that can be mounted are limited. The present invention has been made in view of the problems of the conventional example, and provides a semiconductor device capable of mounting a plurality of semiconductor elements of any type without limiting the size of the mounted semiconductor element. It is intended to do so.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記した課題は、第1の
発明である、キャビティ又は開口部が階段状に設けられ
た配線基板と、前記階段の段差を利用して搭載された複
数の内部半導体装置とを備えたことを特徴とする半導体
装置によって解決する。又は、第2の発明である、内部
半導体装置が、TABテープ又はリードフレームに半導
体素子が収容されており、階段の段差面に端子部が設け
られて、前記TABテープ又はリードフレームのアウタ
ーリード部と前記端子部とが電気的に接続されたことを
特徴とする第1の発明に記載の半導体装置によって解決
する。
The first object of the present invention is to provide a wiring board in which cavities or openings are provided in a step-like manner, and a plurality of internal parts mounted using steps of the steps. The problem is solved by a semiconductor device having a semiconductor device. Alternatively, according to the second invention, the internal semiconductor device includes a TAB tape or a lead frame in which a semiconductor element is housed, and a terminal portion is provided on a step surface of a stair, and an outer lead portion of the TAB tape or the lead frame. And the terminal portion are electrically connected to each other, the problem being solved by the semiconductor device according to the first invention.

【0008】又は、第3の発明である、配線基板の開口
部に、該開口部の底部開口を閉塞する放熱板が接合さ
れ、前記開口部内に露出する前記放熱板上に、最下段の
内部半導体装置が固着されたことを特徴とする第1の発
明又は第2の発明に記載の半導体装置によって解決す
る。又は、第4の発明である、配線基板の二つの主面の
うち、前記キャビティの底面側の主面に放熱板が接合さ
れたことを特徴とする第1の発明又は第2の発明に記載
の半導体装置によって解決する。
In a third aspect of the present invention, a radiator plate for closing a bottom opening of the opening is joined to the opening of the wiring board, and a lowermost internal portion is provided on the radiator plate exposed in the opening. The problem is solved by the semiconductor device according to the first invention or the second invention, in which the semiconductor device is fixed. Alternatively, in the fourth invention, a radiator plate is joined to a bottom main surface of the cavity among the two main surfaces of the wiring board, according to the first invention or the second invention. To solve the problem.

【0009】又は、第5の発明である、第1の発明乃至
第4の発明のいずれか一の発明に記載の半導体装置が複
数個積層されて、各々の前記半導体装置が備える外部接
続端子同士が電気的に接続されたことを特徴とする半導
体装置によって解決する。次に、本発明の作用について
説明する。本発明に係る半導体装置によれば、キャビテ
ィ又は開口部が階段状に設けられた配線基板と、上記階
段の段差を利用して搭載された複数の内部半導体装置と
を備えている。
Alternatively, a plurality of semiconductor devices according to any one of the first to fourth inventions according to the fifth invention are stacked, and the external connection terminals provided in each of the semiconductor devices are connected to each other. Are electrically connected to each other. Next, the operation of the present invention will be described. According to the semiconductor device of the present invention, the semiconductor device includes a wiring substrate having a cavity or an opening provided in a step shape, and a plurality of internal semiconductor devices mounted using the steps of the step.

【0010】階段の段差を利用すると、階段の下段から
上段に向かって内部半導体装置を搭載していく際に、上
段にいくほど内部半導体装置の搭載スペースに余裕がで
きるので、従来のように内部半導体装置の大きさに制約
が生じることが無い。内部半導体装置としては、TAB
テープに半導体素子を搭載して成るものや、リードフレ
ームに半導体素子を搭載して成るものが用いられる。そ
して、上記階段の段差面に端子部が設けられ、該端子部
は、上記TABテープやリードフレームのアウターリー
ド部と電気的に接続される。
When the steps of the stairs are used, when the internal semiconductor devices are mounted from the lower stage of the stairs to the upper stage, the mounting space for the internal semiconductor devices can be increased as the position of the upper stage increases. There is no restriction on the size of the semiconductor device. TAB as internal semiconductor device
A semiconductor device mounted on a tape or a semiconductor device mounted on a lead frame is used. A terminal portion is provided on a step surface of the stairs, and the terminal portion is electrically connected to the TAB tape or an outer lead portion of a lead frame.

【0011】このようにすると、ボンディングワイヤで
半導体素子と上記端子部とを直接接合する場合と比較し
て、次のような利点が生じる。まず第1に、ボンディン
グワイヤの場合は、半導体素子と端子部との間隔が長く
なってしまうために隣り合うボンディングワイヤ同士が
電気的に短絡し易くなるのに対し、この場合は、内部半
導体装置のアウターリード部の長さを短くできるため短
絡の恐れが無い。第2に、TABテープの両面に配線層
を形成した場合、TABテープ内でも配線の引き回しル
ートの変更が可能になり、上記配線基板内での配線の引
き廻しを軽減できる。第3に、TABテープ上へのチッ
プ状電気部品の搭載及び印刷法による電気部品の形成も
可能となる。
In this case, the following advantages are obtained as compared with the case where the semiconductor element and the terminal portion are directly joined by the bonding wire. First, in the case of a bonding wire, the distance between the semiconductor element and the terminal portion becomes long, so that adjacent bonding wires are likely to be electrically short-circuited. Since the length of the outer lead portion can be shortened, there is no danger of short circuit. Second, when wiring layers are formed on both sides of the TAB tape, the wiring routing route can be changed even in the TAB tape, and wiring routing in the wiring board can be reduced. Third, it is also possible to mount the chip-shaped electric component on the TAB tape and form the electric component by a printing method.

【0012】なお、上記配線基板の開口部に、該開口部
の底部開口を閉塞する放熱板を接合し、開口部内に露出
するこの放熱板上に、最下段の内部半導体装置を固着し
ても良い。このようにすると、最下段の内部半導体装置
で発生した熱が、放熱板を介して配線基板の外部に放熱
される。同様に、上記配線基板の二つの主面のうち、上
記キャビティの底面側の主面にこの放熱を接合しても良
い。これによっても、内部半導体装置で発生した熱が、
放熱板を介して配線基板の外部に放熱される。
A heat sink for closing a bottom opening of the opening is joined to the opening of the wiring board, and the lowermost internal semiconductor device is fixed on the heat sink exposed in the opening. good. With this configuration, the heat generated in the lowermost internal semiconductor device is radiated to the outside of the wiring board via the radiator plate. Similarly, of the two main surfaces of the wiring board, the heat radiation may be bonded to the main surface on the bottom surface side of the cavity. This also causes the heat generated in the internal semiconductor device to
Heat is radiated to the outside of the wiring board via the heat sink.

【0013】また、上記半導体装置を二個以上積層し、
各々の半導体装置が備える外部接続端子同士を電気的に
接続しても良い。
Further, two or more of the above semiconductor devices are stacked,
The external connection terminals of each semiconductor device may be electrically connected to each other.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て説明する。 内部半導体装置についての説明 まず最初に、本実施形態で用いられる内部半導体装置の
例について、図1(a)〜(c)を参照しながら説明す
る。図1(a)〜(c)の各々は、内部半導体装置の例
について示す断面図である。
Next, an embodiment of the present invention will be described. Description of Internal Semiconductor Device First, an example of an internal semiconductor device used in the present embodiment will be described with reference to FIGS. Each of FIGS. 1A to 1C is a cross-sectional view illustrating an example of an internal semiconductor device.

【0015】図1(a)に示される内部半導体装置21
1は、TAB(Tape−Automated−Bon
ding)テープ214上に半導体素子201を搭載し
て成るものである。TABテープ214は、概して、絶
縁膜205、配線206、及び樹脂フィルム203から
成る。配線206と樹脂フィルム203とは、接着剤2
04により互いに接着されている。樹脂フィルム203
としては、ポリイミドフィルム等の可撓性フィルムを用
いても良いし、エポキシガラスから成る比較的硬いもの
を用いても良い。一方、配線206は、銅箔や銅めっき
膜をパターニングして形成され、インナーリード部20
6aとアウターリード部206bとを有している。な
お、図1(a)においては、樹脂フィルム203の一方
の面上にのみ配線206が形成されているが、樹脂フィ
ルム203の両方の面上に配線206を形成しても良
い。
The internal semiconductor device 21 shown in FIG.
1 is TAB (Tape-Automated-Bon)
(Ding) The semiconductor device 201 is mounted on a tape 214. The TAB tape 214 generally includes the insulating film 205, the wiring 206, and the resin film 203. The wiring 206 and the resin film 203 are bonded with the adhesive 2
04 are attached to each other. Resin film 203
For example, a flexible film such as a polyimide film may be used, or a relatively hard film made of epoxy glass may be used. On the other hand, the wiring 206 is formed by patterning a copper foil or a copper plating film, and the inner lead portion 20 is formed.
6a and an outer lead portion 206b. In FIG. 1A, the wiring 206 is formed only on one surface of the resin film 203, but the wiring 206 may be formed on both surfaces of the resin film 203.

【0016】樹脂フィルム203はその厚み方向から見
た場合に枠状の形をしており、枠の外にはアウターリー
ド部206bが突出し、枠の内部にはインナーリード部
206aが突出していると共に半導体素子201が収め
られている。特に明示はしないが、半導体素子201の
電極端子は、インナーリード部206aの先端と超音波
ボンディングにより接合され、配線206と電気的に接
続されている。
The resin film 203 has a frame-like shape when viewed from the thickness direction. An outer lead portion 206b projects outside the frame, and an inner lead portion 206a projects inside the frame. The semiconductor element 201 is stored. Although not explicitly shown, the electrode terminals of the semiconductor element 201 are joined to the tip of the inner lead portion 206a by ultrasonic bonding, and are electrically connected to the wiring 206.

【0017】このようにして成る内部半導体装置211
は、公知の製造技術により作製することが可能である。
なお、図示は省略するが、TABを用いた通常の半導体
装置のように、半導体素子201やインナーリード部2
06aを樹脂封止しても良い。また、図1(b)に示さ
れる内部半導体装置212も、上と同様にTABテープ
214を備えている。この内部半導体装置212では、
半導体素子201にバンプ208、208、・・・が接
合されており、このバンプ208、208、・・・を介
して半導体素子201とインナーリード部206aとが
電気的に接合されている。この場合は、半導体素子20
1とTABテープ214との間に接着剤207が充填さ
れ、それにより半導体素子201とTABテープ214
とが接着されている。接着剤207としては、異方性導
電膜を用いても良いし、或いは、導電性の無いペースト
状の接着剤を用いても良い。なお、バンプ206、20
6、・・・としては、例えば金バンプが用いられる。
The internal semiconductor device 211 thus constructed
Can be manufactured by a known manufacturing technique.
Although not shown in the drawings, the semiconductor element 201 and the inner lead portion 2 are formed like a normal semiconductor device using TAB.
06a may be resin-sealed. Further, the internal semiconductor device 212 shown in FIG. 1B also includes the TAB tape 214 as in the above. In this internal semiconductor device 212,
The bumps 208, 208,... Are joined to the semiconductor element 201, and the semiconductor element 201 and the inner lead portion 206a are electrically joined via the bumps 208, 208,. In this case, the semiconductor element 20
1 and the TAB tape 214 are filled with the adhesive 207, whereby the semiconductor element 201 and the TAB tape 214 are filled.
And are glued. As the adhesive 207, an anisotropic conductive film may be used, or a paste-like adhesive having no conductivity may be used. The bumps 206 and 20
As 6, etc., for example, gold bumps are used.

【0018】この内部半導体装置212も、公知の技術
により作製することが可能である。一方、図1(c)に
示される内部半導体装置213は、リードフレーム20
9に半導体素子201を搭載して成るものである。図
中、209cは、リードフレーム209のダイパッド部
であり、その上には接着剤202を介して半導体素子2
01が接着されている。そして、209aは、リードフ
レーム209のインナーリード部であり、その先端は半
導体素子201の電極端子(不図示)とボンディングワ
イヤ210によりワイヤボンディングされて電気的に接
続されている。半導体素子201とボンディングワイヤ
210とは、封止樹脂215により封止され、リードフ
レーム209のアウターリード部209bがこの封止樹
脂215の外部に突出している。
This internal semiconductor device 212 can also be manufactured by a known technique. On the other hand, the internal semiconductor device 213 shown in FIG.
9 in which a semiconductor element 201 is mounted. In the figure, reference numeral 209c denotes a die pad portion of the lead frame 209, on which the semiconductor element 2 is placed via an adhesive 202.
01 is adhered. Reference numeral 209a denotes an inner lead portion of the lead frame 209, and its tip is electrically connected to an electrode terminal (not shown) of the semiconductor element 201 by wire bonding with a bonding wire 210. The semiconductor element 201 and the bonding wires 210 are sealed with a sealing resin 215, and an outer lead portion 209 b of the lead frame 209 projects outside the sealing resin 215.

【0019】このようにして成る内部半導体装置213
も、公知の技術により作製することが可能である。 半導体装置の製造方法についての説明。 次に、本実施形態に係る半導体装置の製造方法につい
て、図2(a)〜(c)を参照しながら説明する。図2
(a)〜(c)は、本実施形態に係る半導体装置の製造
方法について示す断面図である。
The internal semiconductor device 213 thus constructed
Can also be manufactured by a known technique. 3A to 3C illustrate a method for manufacturing a semiconductor device. Next, a method for manufacturing the semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG.
6A to 6C are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment.

【0020】まず最初に、図2(a)に示すように、配
線基板216を準備する。図示の如く、この配線基板2
16には、断面が階段形状のキャビティ216aが設け
られている。217は配線パターンであり、それはキャ
ビティ216aの段差面216bまで延在し、そこでイ
ンナーパターン217a(端子部)となっている。この
ような配線基板216は、開口部が設けられた配線基板
を多層に積層して形成され、積層された配線基板の各々
の開口部が上記キャビティ216aを画定する。そし
て、積層された各配線基板の配線パターンが上記配線パ
ターン217となる。積層される個々の配線基板の例と
しては、例えば、樹脂から成るものやセラミックから成
るものがある。セラミックから成る場合、グリーンシー
トを積層、焼成し、上記配線基板216としても良い。
First, as shown in FIG. 2A, a wiring board 216 is prepared. As shown in FIG.
16 is provided with a cavity 216a having a stepped cross section. Reference numeral 217 denotes a wiring pattern, which extends to the step surface 216b of the cavity 216a, where it serves as an inner pattern 217a (terminal portion). Such a wiring board 216 is formed by laminating a plurality of wiring boards provided with openings, and each opening of the stacked wiring boards defines the cavity 216a. Then, the wiring pattern of each of the stacked wiring boards becomes the wiring pattern 217. Examples of the individual wiring boards to be laminated include, for example, those made of resin and those made of ceramic. When the wiring board 216 is made of ceramics, the green sheets may be laminated and fired to form the wiring board 216.

【0021】次いで、図2(b)に示すように、1段目
(最下段)の段差面216bに内部半導体装置211を
搭載する。これは、内部半導体装置211のアウターリ
ード部206bと、段差面216bに露出しているイン
ナーパターン217aとを、超音波ボンディングやはん
だ接続により電気的に接続することにより行われる。こ
こで、TABテープ214(図1(a)参照)を介在さ
せずに、半導体素子201とインナーパターン217a
とを直接ワイヤボンディングすることも考えられるが、
この方法では次のような不都合が生じてしまうことに注
意されたい。
Next, as shown in FIG. 2B, the internal semiconductor device 211 is mounted on the first (lowest) step surface 216b. This is performed by electrically connecting the outer lead portion 206b of the internal semiconductor device 211 and the inner pattern 217a exposed on the step surface 216b by ultrasonic bonding or solder connection. Here, the semiconductor element 201 and the inner pattern 217a are interposed without interposing the TAB tape 214 (see FIG. 1A).
It is also conceivable to wire bond directly with
Note that this method has the following disadvantages.

【0022】まず第1に、ワイヤボンディングでは、半
導体素子201とインナーパターン217aとを結ぶボ
ンディングワイヤは厚み方向から見た場合にほぼ真っ直
ぐでなければならないが、半導体素子201とインナー
パターン217aとの間隔が長くなってしまうためにボ
ンディングワイヤが曲がり易く、隣り合うボンディング
ワイヤ同士が電気的に短絡する危険性が出てくる。
First, in the wire bonding, the bonding wire connecting the semiconductor element 201 and the inner pattern 217a must be substantially straight when viewed from the thickness direction, but the distance between the semiconductor element 201 and the inner pattern 217a is large. , The bonding wire is easily bent, and there is a risk that adjacent bonding wires may be electrically short-circuited.

【0023】第2に、配線は、ボンディングワイヤで半
導体素子201から放射状にインナーパターン217a
に引き出し、配線基板216内でのみ配線の引き回し操
作をするため、配線基板216を大きく設計しなければ
ならないが、これでは配線長が長くなり電気的特性が悪
化するといった不都合が生じる。これに対し、TABテ
ープ214を介在させると、樹脂フィルム203(図1
(a)参照)により配線206が支持されているために
アウターリード部206bを短くすることができ、隣り
合うアウターリード部206b同士が電気的に短絡する
恐れが無い。
Second, the wiring is radially formed from the semiconductor element 201 by bonding wires to the inner pattern 217a.
The wiring board 216 must be designed to be large because the wiring is drawn only inside the wiring board 216. However, this causes a disadvantage that the wiring length is increased and the electrical characteristics are deteriorated. On the other hand, when the TAB tape 214 is interposed, the resin film 203 (FIG.
Since the wiring 206 is supported by (a), the outer lead portion 206b can be shortened, and there is no possibility that adjacent outer lead portions 206b are electrically short-circuited.

【0024】更に、両面に配線層を形成したTABテー
プ214を用いた場合、TABテープ214内でも配線
の引き回しルートの変更が可能になることで、配線長を
短くでき、電気的特性が良くなり、配線基板216を小
さく設計することが可能になる。また、TABテープ2
14上に、チップ状の電気部品を搭載したり、或いは印
刷法により電気部品を形成することで、電気的特性を改
善することも可能になる。
Furthermore, when a TAB tape 214 having a wiring layer formed on both sides is used, the wiring route can be changed even within the TAB tape 214, so that the wiring length can be shortened and the electrical characteristics can be improved. Thus, the wiring board 216 can be designed to be small. Also, TAB tape 2
By mounting a chip-shaped electric component on 14 or forming an electric component by a printing method, it is also possible to improve electric characteristics.

【0025】このように1段目に内部半導体装置211
を搭載した後は、図3(c)に示すように、階段の段差
を利用して、2段目、3段目の段差面216bに上と同
様にして内部半導体装置211を搭載していく。1段に
搭載される内部半導体装置211の数は任意で良い。例
えば、図示の例では、3段目の段差面216bには2個
の半導体装置211が搭載されている。1段に複数の内
部半導体装置211を搭載する場合は、この複数の半導
体装置211を備えた長尺状のTABテープ214を切
り離さなさずに、段差面216bに搭載すれば良い。
As described above, the first stage internal semiconductor device 211
Then, as shown in FIG. 3C, the internal semiconductor device 211 is mounted on the second and third step surfaces 216b in the same manner as above using the steps of the stairs. . The number of internal semiconductor devices 211 mounted on one stage may be arbitrary. For example, in the illustrated example, two semiconductor devices 211 are mounted on the third step surface 216b. When a plurality of internal semiconductor devices 211 are mounted in one step, the long TAB tape 214 including the plurality of semiconductor devices 211 may be mounted on the step surface 216b without separating the long TAB tape 214.

【0026】また、全ての段に内部半導体装置211を
搭載する必要は無く、場合によっては内部半導体装置2
11が搭載されない段があっても良い。更にまた、各段
に搭載される内部半導体装置は、内部半導体装置211
に限られるものでは無く、内部半導体装置212や21
3を用いても良い。そして、所望の数の内部半導体装置
211を搭載した後、キャビティ216aを樹脂等の封
止剤218で充填し、本実施形態に係る半導体装置21
9を完成させる。
Further, it is not necessary to mount the internal semiconductor device 211 on all stages, and in some cases, the internal semiconductor device 2
There may be a stage where 11 is not mounted. Furthermore, the internal semiconductor devices mounted on each stage are the internal semiconductor devices 211.
The internal semiconductor devices 212 and 21 are not limited to
3 may be used. After mounting a desired number of internal semiconductor devices 211, the cavity 216a is filled with a sealing agent 218 such as a resin, and the semiconductor device 21 according to the present embodiment is filled.
9 is completed.

【0027】なお、上記のキャビティ216aに代え
て、断面が階段形状を有する開口部を配線基板216に
設けても良い。このような配線基板216の断面を図3
(a)に示す。図3(a)において、216cはこの開
口部を示す。開口部216cを設ける場合は、図3
(b)に示すように、配線基板216の2つの主面のう
ち、開口部216cの底部開口側の主面に、該底部開口
を閉塞する放熱板220を接着剤221を介して接合す
る。この放熱板220は、例えば、SUS(ステンレ
ス)、銅、グラファイト等から成るものである。
Note that an opening having a stepped cross section may be provided in the wiring board 216 instead of the cavity 216a. A cross section of such a wiring board 216 is shown in FIG.
(A). In FIG. 3A, reference numeral 216c denotes this opening. In the case where the opening 216c is provided, FIG.
As shown in (b), of the two main surfaces of the wiring board 216, a heat dissipation plate 220 for closing the bottom opening is bonded to the main surface on the bottom opening side of the opening 216c via an adhesive 221. The heat sink 220 is made of, for example, SUS (stainless steel), copper, graphite, or the like.

【0028】放熱板220を接合した後は、先の図2
(b)〜(c)と同様の工程により内部半導体装置21
1を搭載していき、図3(c)に示される半導体装置2
22が完成する。図3(c)に示されるように、1段目
(最下段)の内部半導体装置211は、接着剤221を
介してこの放熱板220に固着されているので、1段目
(最下段)の内部半導体装置211で発生した熱は、こ
の放熱板220を通じて外部に放熱されることになる。
銅の熱伝導性は非常に良いので、放熱板220が銅から
成る場合は、放熱板220の放熱効果が高められる。
After the heat sink 220 has been joined,
The internal semiconductor device 21 is formed by the same steps as in (b) to (c).
The semiconductor device 2 shown in FIG.
22 is completed. As shown in FIG. 3C, the first-stage (lower-stage) internal semiconductor device 211 is fixed to the heat-radiating plate 220 via the adhesive 221, so that the first-stage (lower-stage) internal semiconductor device 211 is fixed. The heat generated in the internal semiconductor device 211 is radiated to the outside through the heat radiating plate 220.
Since the thermal conductivity of copper is very good, when the heat radiating plate 220 is made of copper, the heat radiating effect of the heat radiating plate 220 is enhanced.

【0029】なお、図4(a)に示すように、放熱板2
20にフィン220aを設け、それを配線基板216の
外周に露出させるようにしても良い。このようにする
と、放熱板220の放熱効果が高められる。同様に、図
4(b)に示すように、キャビティ216aが設けられ
た配線基板219(図2(a)参照)にも放熱板220
を接合しても良い。この場合、放熱板220は、配線基
板216の2つの主面のうち、キャビティ216aの底
面側の主面に接合される。
Incidentally, as shown in FIG.
The fins 220 a may be provided on the outer surface 20, and may be exposed to the outer periphery of the wiring board 216. By doing so, the heat radiation effect of the heat radiation plate 220 is enhanced. Similarly, as shown in FIG. 4B, a heat sink 220 is also provided on a wiring board 219 (see FIG. 2A) provided with a cavity 216a.
May be joined. In this case, the heat radiating plate 220 is joined to the main surface on the bottom surface side of the cavity 216a among the two main surfaces of the wiring board 216.

【0030】また、半導体装置219や半導体装置22
2にEMI(Electromagnetic Int
erference)対策を施しても良い。これを行う
には、配線基板216が備える配線パターン217(図
2(a)参照)のうち、グランドとなるパターンをべた
状にする。或いは、半導体装置219や半導体装置22
2の周囲に、フェライトを含有させたシートを貼り付け
ても良い。
The semiconductor device 219 and the semiconductor device 22
2 to EMI (Electromagnetic Int.)
Reference measures may be taken. To do this, of the wiring patterns 217 (see FIG. 2A) provided on the wiring board 216, the pattern serving as the ground is made solid. Alternatively, the semiconductor device 219 or the semiconductor device 22
A sheet containing ferrite may be stuck around the periphery of 2.

【0031】更にまた、キャビティ216aや開口部2
16cの個数は一個に限られるものではない。例えば、
キャビティ216aや開口部216cが複数設けられた
配線基板216を用いたり、キャビティ216aと開口
部216cとが混在した配線基板216を用いても良
い。以上説明した半導体装置219及び222によれ
ば、キャビティ216a及び開口部216cの断面が階
段形状を有し、この階段の段差を利用して内部半導体装
置211が搭載されている。段差を利用すると、階段の
下段から上段に向かって内部半導体装置211を搭載し
ていく際、上段にいくほど内部半導体装置211の搭載
スペースに余裕ができるので、内部半導体装置211の
大きさに制約が生じることが無い。これにより、内部半
導体装置211が備える半導体素子201としてあらゆ
る種類のものを用いることができるので、一つの半導体
装置219或いは222内に複数種類の半導体素子20
1を設けて成るシステムを構築することができるように
なる。
Further, the cavity 216a and the opening 2
The number of 16c is not limited to one. For example,
A wiring board 216 provided with a plurality of cavities 216a and openings 216c may be used, or a wiring board 216 in which cavities 216a and openings 216c are mixed may be used. According to the semiconductor devices 219 and 222 described above, the cross section of the cavity 216a and the opening 216c has a stepped shape, and the internal semiconductor device 211 is mounted using the step of the step. When the step is used, when the internal semiconductor device 211 is mounted from the lower stage of the stairs to the upper stage, the mounting space of the internal semiconductor device 211 can be more marginally increased toward the upper stage, so that the size of the internal semiconductor device 211 is limited. Does not occur. As a result, all types of semiconductor elements 201 included in the internal semiconductor device 211 can be used.
1 can be constructed.

【0032】本実施形態に係る半導体装置の外部接続
端子の例 次に、上記の半導体装置219及び222に設けられる
外部接続端子の例について説明する。図5は、外部接続
端子としてシングル・イン・ライン・パッケージ用のピ
ン223、223、・・・を設けた場合の断面図であ
る。このピン223、223、・・・の各々は、配線基
板216の配線パターン217と電気的に接続されてい
る。この場合の半導体装置219の斜視図を図6に示
す。半導体装置219は、ソケット(不図示)にピン2
23、223、・・・を挿入したり、実装基板(不図
示)の配線孔にピン223、223、・・・を挿入、は
んだ付けすることにより、これらソケットや実装基板と
電気的かつ機械的に接続される。
Next, examples of external connection terminals provided on the semiconductor devices 219 and 222 will be described. FIG. 5 is a sectional view in the case where pins 223, 223,... For a single-in-line package are provided as external connection terminals. Each of the pins 223, 223,... Is electrically connected to the wiring pattern 217 of the wiring board 216. FIG. 6 is a perspective view of the semiconductor device 219 in this case. The semiconductor device 219 includes a pin 2
, Or the pins 223, 223,... Are inserted into the wiring holes of the mounting board (not shown) and soldered, thereby electrically and mechanically connecting these sockets and the mounting board. Connected to.

【0033】図7は、外部接続端子としてデュアル・イ
ン・ライン・パッケージ用のピン224、224、・・
・を設けた場合の断面図である。このピン224、22
4、・・・の各々は、配線基板216の配線パターン2
17と電気的に接続されている。半導体装置219は、
ソケット(不図示)にピン224、224、・・・を挿
入したり、実装基板(不図示)の配線孔にピン224、
224、・・・を挿入、はんだ付けすることにより、こ
れらソケットや実装基板と電気的かつ機械的に接続され
る。
FIG. 7 shows pins 224, 224,... For a dual in-line package as external connection terminals.
It is sectional drawing at the time of providing. These pins 224, 22
Each of the wiring patterns 4,...
17 are electrically connected. The semiconductor device 219 includes:
.. Are inserted into a socket (not shown), and the pins 224 are inserted into wiring holes of a mounting board (not shown).
Are electrically and mechanically connected to these sockets and mounting boards by inserting and soldering 224.

【0034】なお、ピン224、224、・・・を半導
体装置219の四辺に設け、図8に示すようなパッケー
ジとしても良い。図9(a)は、外部接続端子としては
んだバンプ226、226、・・・を設けた場合の断面
図である。この場合、半導体装置222は、いわゆるB
GA(ボール・グリッド・アレイ)タイプの半導体装置
となる。
.. May be provided on four sides of the semiconductor device 219 to form a package as shown in FIG. FIG. 9A is a cross-sectional view when solder bumps 226, 226,... Are provided as external connection terminals. In this case, the semiconductor device 222 has a so-called B
It becomes a GA (ball grid array) type semiconductor device.

【0035】はんだバンプ226、226、・・・は、
配線基板216の実装面に形成された電極パッド217
b、217b、・・・上に接合されている。電極パッド
217b、217b、・・・は、配線基板216の内部
において、配線パターン217と電気的に接続されてい
る。そして、はんだバンプ226、226、・・・が実
装基板(不図示)に当接した状態で該はんだバンプ22
6、226、・・・をリフローすることにより、半導体
装置222が実装基板に電気的かつ機械的に接続され
る。
The solder bumps 226, 226,...
Electrode pad 217 formed on mounting surface of wiring board 216
b, 217b,... The electrode pads 217b, 217b,... Are electrically connected to the wiring pattern 217 inside the wiring board 216. The solder bumps 226, 226,... Are in contact with a mounting board (not shown).
6, 226,... Are electrically and mechanically connected to the mounting substrate.

【0036】図9(b)は、上記のはんだバンプ22
6、226、・・・に代えて、PGA(ピン・グリッド
・アレイ)用のピン227、227、・・・を設け、半
導体装置222をいわゆるPGAタイプの半導体装置と
した場合の断面図である。ピン227、227、・・・
は、はんだ230により、電極パッド217b、217
b、・・・に接合されている。そして、半導体装置22
2は、実装基板(不図示)に設けられた配線孔にピン2
27、227、・・・を挿入、はんだ付けすることによ
り、この実装基板と電気的かつ機械的に接続される。
FIG. 9B shows the above-mentioned solder bump 22.
6, 226,... Are provided with pins 227, 227,... For PGA (pin grid array), and are cross-sectional views when the semiconductor device 222 is a so-called PGA type semiconductor device. . Pins 227, 227, ...
Are the electrode pads 217b, 217
b,... Then, the semiconductor device 22
2 is a pin 2 in a wiring hole provided in a mounting board (not shown).
Are electrically and mechanically connected to the mounting board by inserting and soldering.

【0037】図10は、図9に示される半導体装置22
2をソケット228を介して2段積層した場合の断面図
である。この場合、下段の半導体装置222には、2つ
の主面の両方にピン227、227、・・・が接合され
る。そして、ソケット228には貫通孔228a、22
8a、・・・が設けられ、上下2つの半導体装置222
の各々のピン227、227、・・・がこの貫通孔22
8a、228a、・・・に挿入される。上下のピン22
7、227、・・・同士を電気的に接続させるため、貫
通孔228aの内壁には銅めっき膜229が形成されて
いる。2つの半導体装置222は、下段の半導体装置2
22の実装面側に設けられたピン227、227、・・
・を実装基板(不図示)に設けられた配線孔に挿入、は
んだ付けすることにより、この実装基板と電気的かつ機
械的に接続される。
FIG. 10 shows the semiconductor device 22 shown in FIG.
2 is a cross-sectional view in a case where two layers are stacked via a socket 228. FIG. In this case, the pins 227, 227,... Are joined to both of the two main surfaces of the lower semiconductor device 222. The socket 228 has through holes 228 a, 22
, And two upper and lower semiconductor devices 222 are provided.
, 227,...
8a, 228a,... Upper and lower pins 22
, A copper plating film 229 is formed on the inner wall of the through hole 228a. The two semiconductor devices 222 are the lower semiconductor device 2
22, pins 227, 227,.
Is electrically and mechanically connected to the mounting substrate by inserting and soldering into a wiring hole provided in the mounting substrate (not shown).

【0038】なお、積層される半導体装置222の数は
任意であり、図示のような2段に限られるものではな
い。また、半導体装置222に代えて半導体装置219
を積層したり、或いは、半導体装置219と半導体装置
222とを積層しても良い。
The number of semiconductor devices 222 to be stacked is arbitrary, and is not limited to two stages as shown. Further, a semiconductor device 219 is used instead of the semiconductor device 222.
Or the semiconductor device 219 and the semiconductor device 222 may be stacked.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導
体装置によれば、キャビティ又は開口部が階段状に設け
られた配線基板と、上記階段の段差を利用して搭載され
た複数の内部半導体装置とを備えている。この構造で
は、従来のように内部半導体装置の大きさに制約が生じ
ることが無い。そのため、内部半導体装置が備える半導
体素子としてあらゆる種類のものを用いることができる
ようになる。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, a wiring board having a cavity or an opening formed in a step shape and a plurality of internal parts mounted using the step of the step are provided. A semiconductor device. With this structure, there is no restriction on the size of the internal semiconductor device unlike the related art. Therefore, any kind of semiconductor element included in the internal semiconductor device can be used.

【0040】また、内部半導体装置として、TABテー
プに半導体素子を搭載して成る半導体装置や、リードフ
レームに半導体素子を搭載して成る半導体装置を用い
る。そして、上記キャビティ又は開口部の段差面に端子
部を設け、該端子部とTABテープやリードフレームの
アウターリード部とを電気的に接続する。このようにす
ると、ボンディングワイヤでこの端子部と半導体素子と
を直接接合する場合と比較して、アウターリード部の長
さが短くなるために、隣り合うアウターリード部が電気
的に短絡する恐れが無くなる他、両面配線付きTABテ
ープの採用によって配線長を短くできたり、TABテー
プ上に電気部品を形成することで電気的特性を改善でき
る。
As the internal semiconductor device, a semiconductor device having a semiconductor element mounted on a TAB tape or a semiconductor device having a semiconductor element mounted on a lead frame is used. A terminal is provided on the step surface of the cavity or the opening, and the terminal is electrically connected to the TAB tape or the outer lead of the lead frame. In this case, the length of the outer lead portion is shorter than when the terminal portion and the semiconductor element are directly joined by a bonding wire, so that there is a possibility that an adjacent outer lead portion may be electrically short-circuited. In addition, the use of a TAB tape with double-sided wiring can shorten the wiring length, and the electrical characteristics can be improved by forming electrical components on the TAB tape.

【0041】更に、配線基板の開口部に、該開口部の底
部開口を閉塞する放熱板を接合し、開口部内に露出する
この放熱板上に、最下段の内部半導体装置を固着しても
良い。このようにすると、最下段の内部半導体装置で発
生した熱を、放熱板を介して配線基板の外部に放熱させ
ることができる。更にまた、配線基板の二つの主面のう
ち、キャビティの底面側の主面にこの放熱を接合しても
良い。この場合も、内部半導体装置で発生した熱を、放
熱板を介して配線基板の外部に放熱させることができ
る。
Further, a heat sink for closing the bottom opening of the opening may be joined to the opening of the wiring board, and the lowermost internal semiconductor device may be fixed on the heat sink exposed in the opening. . With this configuration, the heat generated in the lowermost internal semiconductor device can be radiated to the outside of the wiring board via the radiator plate. Furthermore, this heat radiation may be joined to the main surface on the bottom surface side of the cavity among the two main surfaces of the wiring board. Also in this case, the heat generated in the internal semiconductor device can be radiated to the outside of the wiring board via the radiator plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態で用いられる内部半導体
装置の例について示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an internal semiconductor device used in an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造
方法について示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 図3(a)は、本発明の実施の形態におい
て、断面が階段形状を有する開口部を備えた配線基板の
断面図であり、図3(b)は、この配線基板に放熱板を
接合した場合の断面図であり、図3(c)は、この配線
基板の開口部に内部半導体装置を搭載した場合の断面図
である。
FIG. 3A is a cross-sectional view of a wiring board provided with an opening having a stepped cross section in the embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 3C is a cross-sectional view when the boards are joined, and FIG. 3C is a cross-sectional view when the internal semiconductor device is mounted in the opening of the wiring board.

【図4】 図4(a)は、本発明の実施の形態におい
て、開口部を備えた配線基板に放熱板を設け、該放熱板
にフィンを設けた場合の断面図であり、図4(b)は、
キャビティを備えた配線基板に放熱板を設けた場合の断
面図である。
FIG. 4A is a cross-sectional view of a case where a heat sink is provided on a wiring board having an opening and a fin is provided on the heat sink in the embodiment of the present invention. b)
FIG. 3 is a cross-sectional view when a heat sink is provided on a wiring board having a cavity.

【図5】 本発明の実施の形態に係る半導体装置に、外
部接続端子として、シングル・イン・ライン用のピンを
設けた場合の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view when a single-in-line pin is provided as an external connection terminal in the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図6】 本発明の実施の形態に係る半導体装置に、外
部接続端子として、シングル・イン・ライン用のピンを
設けた場合の斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view when a single-in-line pin is provided as an external connection terminal in the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図7】 本発明の実施の形態に係る半導体装置に、外
部接続端子として、デュアル・イン・ライン用のピンを
設けた場合の断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a case where a dual-in-line pin is provided as an external connection terminal in the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図8】 本発明の実施の形態に係る半導体装置の四辺
に、外部接続端子としてデュアル・イン・ライン用のピ
ンを設けた場合の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a case where dual-in-line pins are provided as external connection terminals on four sides of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図9】 図9(a)は、本発明の実施の形態に係る半
導体装置に外部接続端子としてはんだバンプを設け、B
GAタイプの半導体装置とした場合の断面図であり、図
9(b)は、本発明の実施の形態に係る半導体装置に外
部接続端子としてPGA用のピンを設け、PGAタイプ
の半導体装置とした場合の断面図である。
FIG. 9A shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, in which solder bumps are provided as external connection terminals;
FIG. 9B is a cross-sectional view of a GA-type semiconductor device. FIG. 9B shows a PGA-type semiconductor device provided with PGA pins as external connection terminals in the semiconductor device according to the embodiment of the present invention. It is sectional drawing in the case.

【図10】 本発明の実施の形態に係る半導体装置を2
段積層した場合の断面図である。
FIG. 10 shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;
It is sectional drawing at the time of carrying out step lamination.

【図11】 従来例に係るマルチチップ半導体装置の断
面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a multi-chip semiconductor device according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101・・・従来例の配線基板、 102・・・下段半導体素子、 102a・・・下段半導体素子の電極端子、 103・・・上段半導体素子、 103a・・・上段半導体素子の電極端子、 104、226・・・はんだバンプ、 105、217・・・配線パターン、 106、203・・・樹脂フィルム、 107、210・・・ボンディングワイヤ、 108、215・・・封止樹脂、 110・・・ソルダレジスト、 111、204、207、202、221・・・接着
剤、 201・・・半導体素子、 205・・・絶縁膜、 206・・・配線、 206a・・・配線のインナーリード部、 206b・・・配線のアウターリード部、 208・・・バンプ、 209・・・リードフレーム、 209a・・・リードフレームのインナーリード部、 209b・・・リードフレームのアウターリード部、 209c・・・リードフレームのダイパッド部、 211、212、213・・・内部半導体装置、 214・・・TABテープ、 216・・・配線基板、 216a・・・キャビティ、 216b・・・段差面、 216c・・・開口部、 217a・・・インナーパターン、 217b・・・電極パッド、 218・・・封止剤、 219、222・・・半導体装置、 220・・・放熱板、 220a・・・フィン、 223・・・シングル・イン・ライン・パッケージ用の
ピン、 224・・・デュアル・イン・ライン・パッケージ用の
ピン、 227・・・ピン・グリッド・アレイ用のピン、 228・・・ソケット、 228a・・・貫通孔、 229・・・銅めっき膜、 230・・・はんだ。
Reference numeral 101: conventional wiring board 102: lower semiconductor element 102a: electrode terminal of lower semiconductor element 103: upper semiconductor element 103a: electrode terminal of upper semiconductor element 104: 226: solder bump, 105, 217: wiring pattern, 106, 203: resin film, 107, 210: bonding wire, 108, 215: sealing resin, 110: solder resist , 111, 204, 207, 202, 221 ... adhesive, 201 ... semiconductor element, 205 ... insulating film, 206 ... wiring, 206a ... inner lead part of wiring, 206b ... Outer lead portion of wiring, 208: bump, 209: lead frame, 209a: inner lead portion of the lead frame, 09b: outer lead portion of the lead frame; 209c: die pad portion of the lead frame; 211, 212, 213: internal semiconductor device; 214: TAB tape; 216: wiring board;・ Cavity, 216b ・ ・ ・ Step surface, 216c ・ ・ ・ Opening, 217a ・ ・ ・ Inner pattern, 217b ・ ・ ・ Electrode pad, 218 ・ ・ ・ Sealant, 219, 222 ・ ・ ・ Semiconductor device, 220 ・..Heat sink, 220a fin, 223 pin for single in-line package, 224 pin for dual in-line package, 227 pin grid array 228: socket, 228a: through hole, 229: copper plating film, 230: solder.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 25/18 (72)発明者 栗原 孝 長野県長野市大字栗田字舎利田711番地 新光電気工業株式会社内 Fターム(参考) 5F067 AA02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 25/18 (72) Inventor Takashi Kurihara 711 Rita Kurita, Shano, Nagano City, Nagano Prefecture Shinko Electric Industries, Ltd. F-term (reference) 5F067 AA02

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャビティ又は開口部が階段状に設けら
れた配線基板と、 前記階段の段差を利用して搭載された複数の内部半導体
装置とを備えたことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device, comprising: a wiring board having a cavity or an opening provided in a step-like manner; and a plurality of internal semiconductor devices mounted using steps of the step.
【請求項2】 内部半導体装置が、TABテープ又はリ
ードフレームに半導体素子が収容されており、 階段の段差面に端子部が設けられて、 前記TABテープ又はリードフレームのアウターリード
部と前記端子部とが電気的に接続されたことを特徴とす
る請求項1に記載の半導体装置。
2. An internal semiconductor device, wherein a semiconductor element is accommodated in a TAB tape or a lead frame, a terminal portion is provided on a step surface of a stair, and an outer lead portion of the TAB tape or the lead frame and the terminal portion are provided. The semiconductor device according to claim 1, wherein and are electrically connected to each other.
【請求項3】 配線基板の開口部に、該開口部の底部開
口を閉塞する放熱板が接合され、 前記開口部内に露出する前記放熱板上に、最下段の内部
半導体装置が固着されたことを特徴とする請求項1又は
請求項2に記載の半導体装置。
3. A heat sink for closing a bottom opening of the opening is joined to the opening of the wiring board, and a lowermost internal semiconductor device is fixed on the heat sink exposed in the opening. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項4】 配線基板の二つの主面のうち、前記キャ
ビティの底面側の主面に放熱板が接合されたことを特徴
とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein a heat radiating plate is joined to a main surface on the bottom surface side of the cavity among the two main surfaces of the wiring board.
【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に
記載の半導体装置が複数個積層されて、各々の前記半導
体装置が備える外部接続端子同士が電気的に接続された
ことを特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of the semiconductor devices are stacked, and external connection terminals of each of the semiconductor devices are electrically connected to each other. Semiconductor device.
JP2001034265A 2001-02-09 2001-02-09 Semiconductor device Withdrawn JP2002237544A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001034265A JP2002237544A (en) 2001-02-09 2001-02-09 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001034265A JP2002237544A (en) 2001-02-09 2001-02-09 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002237544A true JP2002237544A (en) 2002-08-23

Family

ID=18897900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001034265A Withdrawn JP2002237544A (en) 2001-02-09 2001-02-09 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002237544A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6002169A (en) Thermally enhanced tape ball grid array package
US6803257B2 (en) Printed circuit board with a heat dissipation element, method for manufacturing the printed circuit board, and package comprising the printed circuit board
US20140251658A1 (en) Thermally enhanced wiring board with built-in heat sink and build-up circuitry
JP3426842B2 (en) High frequency power amplifier
JPH0669402A (en) Printed-circuit board and its manufacture
JP2004537849A (en) Structure of leadless multi-die carrier and method for its preparation
JPWO2011102561A1 (en) Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2008091714A (en) Semiconductor device
JPH07169872A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JPH0917919A (en) Semiconductor device
JP2004064043A (en) Semiconductor packaging device
KR100907508B1 (en) Package board and its manufacturing method
JPH09283695A (en) Semiconductor mounting structure
JP2007207802A (en) Electronic circuit module and method of manufacturing same
JP2001085603A (en) Semiconductor device
JPH09326450A (en) Semiconductor device and its manufacture
KR100693168B1 (en) Manufacturing method of PCB and PCB thereby
JP2620611B2 (en) Substrate for mounting electronic components
JPH05175407A (en) Semiconductor mounting board
JP2003224228A (en) Package for semiconductor device, semiconductor device and its producing method
JP3024596B2 (en) BGA type semiconductor device using film carrier tape
JP2002237544A (en) Semiconductor device
JPH08172144A (en) Semiconductor device and its manufacture
JP2722451B2 (en) Semiconductor device
JP3033662B2 (en) Semiconductor element mounting film and semiconductor element mounting structure

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080513