JP2002237254A - Extension type shadow mask and material for the same - Google Patents

Extension type shadow mask and material for the same

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JP2002237254A
JP2002237254A JP2001031513A JP2001031513A JP2002237254A JP 2002237254 A JP2002237254 A JP 2002237254A JP 2001031513 A JP2001031513 A JP 2001031513A JP 2001031513 A JP2001031513 A JP 2001031513A JP 2002237254 A JP2002237254 A JP 2002237254A
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JP
Japan
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shadow mask
heat treatment
less
dimensional
stretchable
Prior art date
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Application number
JP2001031513A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Makita
明 牧田
Akio Wakabayashi
顕郎 若林
Kazutaka Iizuka
和孝 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for an extension type shadow mask, capable of minimizing the dimensional fluctuation of the shadow mask, and the extension type shadow mask. SOLUTION: As for the material for the extension type shadow mask formed by being rolled to a prescribed thickness, the height of elongation at its end is kept at 3 mm or less, its camber is kept at 3 mm/2 m or less, and the rate of dimensional change before and after heat treatment is kept at 0.015% or less in its parallel rolling direction and its vertical rolling direction. At this time, the material for the shadow mask is heat-treated in advance under a prescribed condition wherein no recrystallization is caused. The extension type shadow mask having a quantity of dimensional fluctuation of not more than 55 μm before and after the heat treatment is manufactured from this material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、展張型シャドウマ
スク用材料および展張型シャドウマスクに関し、更に詳
しくは、展張型シャドウマスクの寸法精度を向上させ且
つ寸法変動を極小化させることができる展張型シャドウ
マスク用材料および展張型シャドウマスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a material for an extended shadow mask and an extended shadow mask, and more particularly, to an extended shadow mask capable of improving the dimensional accuracy of an extended shadow mask and minimizing dimensional fluctuation. The present invention relates to a shadow mask material and an extended shadow mask.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的なシャドウマスクは、プレス加工
されてブラウン管内に装着されるプレス型シャドウマス
クと、展張加工されてブラウン管内に装着される展張型
シャドウマスクとに大別される。このうち、展張型シャ
ドウマスクには、スリットタイプのシャドウマスク(ア
パーチャーグリルという。)と、スロットタイプのシャ
ドウマスクとがある。
2. Description of the Related Art A general shadow mask is roughly classified into a press-type shadow mask which is pressed and mounted in a cathode ray tube, and a stretch-type shadow mask which is expanded and mounted in a cathode ray tube. Among these, the expansion type shadow mask includes a slit type shadow mask (referred to as an aperture grill) and a slot type shadow mask.

【0003】こうした展張型シャドウマスクを使用する
ブラウン管において、ブラウン管内の蛍光面を露光形成
する方法としては、(1)シャドウマスクをガラスパネ
ルに装着し、そのシャドウマスク自身が蛍光面を露光形
成する方法と、(2)シャドウマスクを用いずに、アー
トワークで予めガラスパネルに蛍光面を露光形成する方
法とがある。前者の方法においては、装着されたシャド
ウマスクによって蛍光面が露光形成されるので、その蛍
光面に蛍光体が塗布された後に電子ビームを照射してそ
の蛍光面上に電子ビームをランディングさせても、所望
の位置に電子ビームをランディングさせることができな
いというランディングエラーは発生しない。
In a cathode ray tube using such an extended shadow mask, a method for exposing and forming a fluorescent screen in the cathode ray tube involves the following steps. (1) A shadow mask is mounted on a glass panel, and the shadow mask itself exposes and forms the fluorescent screen. And (2) a method of exposing and forming a phosphor screen on a glass panel in advance using artwork without using a shadow mask. In the former method, since the fluorescent screen is exposed and formed by the mounted shadow mask, it is possible to irradiate the electron beam after the phosphor is coated on the fluorescent screen and land the electron beam on the fluorescent screen. There is no landing error that the electron beam cannot be landed at a desired position.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、後者の
方法においては、蛍光面を露光形成するアートワーク
と、その蛍光面に蛍光体が塗布された後にその蛍光面に
電子ビームをランディングさせるためのマスク(シャド
ウマスク)とが別のものであるので、寸法精度が悪いシ
ャドウマスクを使用したり、熱処理によって寸法変動が
生じたシャドウマスクを使用すると、ランディングエラ
ーが発生するという問題がある。
However, in the latter method, an artwork for exposing and forming a phosphor screen and a mask for landing an electron beam on the phosphor screen after the phosphor is coated on the phosphor screen. Since (shadow mask) is different from the (shadow mask), there is a problem that a landing error occurs when a shadow mask with poor dimensional accuracy is used or a shadow mask whose dimensional variation is caused by heat treatment is used.

【0005】こうした問題に対し、本発明者らは研究を
重ねた結果、展張型シャドウマスク用材料である所定厚
さの圧延コイルの平坦性がシャドウマスクの寸法精度に
影響していることを見いだした。
The inventors of the present invention have conducted various studies on these problems, and as a result, have found that the flatness of a rolled coil having a predetermined thickness, which is a material for a stretch type shadow mask, affects the dimensional accuracy of the shadow mask. Was.

【0006】しかし、たとえ寸法精度に優れた展張型シ
ャドウマスクを製造しても、その展張型シャドウマスク
は、熱処理された後に展張加工されてブラウン管内に装
着されることから、その熱処理の際に、展張型シャドウ
マスクに寸法変動が発生してしまうという問題が生じ
た。
However, even if a stretchable shadow mask having excellent dimensional accuracy is manufactured, the stretchable shadow mask is stretched after being heat-treated and mounted in a cathode ray tube. However, there has been a problem that dimensional fluctuations occur in the stretchable shadow mask.

【0007】本発明は、上記問題を解決すべくなされた
ものであって、展張型シャドウマスクの寸法精度を向上
させ且つ寸法変動を極小化させることができる展張型シ
ャドウマスク用材料および展張型シャドウマスクを提供
するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to improve the dimensional accuracy of an extended shadow mask and to minimize dimensional fluctuations. A mask is provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、所定の厚さに圧延されてなる展張型シャドウマスク
用材料において、前記展張型シャドウマスク用材料は、
端伸び高さが3mm以下でキャンバーが3mm以下/2
mであり、熱処理前後での寸法変化率が圧延平行方向お
よび圧延垂直方向で0.015%以下であることに特徴
を有する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a stretchable shadow mask material rolled to a predetermined thickness, wherein the stretchable shadow mask material comprises:
Edge extension height is 3mm or less and camber is 3mm or less / 2
m, and the dimensional change before and after the heat treatment is not more than 0.015% in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction.

【0009】この発明によれば、所定の厚さに圧延され
てなる展張型シャドウマスク用材料は、端伸び高さが3
mm以下でキャンバーが3mm以下/2mであるので、
良好な平坦性を示している。こうした展張型シャドウマ
スク用材料は、シャドウマスクの露光工程において、そ
の材料に掛かる張力がシャドウマスク用材料の各部で均
一になり易く、その張力に基づいた材料各部の伸展量が
均一になり易い。その結果、本発明の展張型シャドウマ
スク用材料から製造された展張型シャドウマスクは、寸
法精度に優れた高品質のものとなる。さらに、その展張
型シャドウマスク用材料は、熱処理前後での寸法変化率
が圧延平行方向および圧延垂直方向で0.015%以下
であるので、その展張型シャドウマスク用材料から製造
された展張型シャドウマスクは、規定の温度で熱処理さ
れた後の寸法変化率が圧延平行方向および圧延垂直方向
で0.015%以下という小さな寸法変動しか示さな
い。その結果、展張加工されてブラウン管内に装着され
た後の展張型シャドウマスクは、所定の識別孔間隔に対
して寸法変動量が小さい高品質のものとなる。
According to the present invention, the material for an extended shadow mask rolled to a predetermined thickness has an edge elongation height of 3 mm.
mm or less and the camber is 3 mm or less / 2 m,
It shows good flatness. In such a stretch-type shadow mask material, in the shadow mask exposure process, the tension applied to the material tends to be uniform at each part of the shadow mask material, and the amount of extension of each material part based on the tension tends to be uniform. As a result, the stretched shadow mask manufactured from the stretchable shadow mask material of the present invention is of high quality with excellent dimensional accuracy. Further, since the dimensional change rate before and after the heat treatment is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction, the stretchable shadow mask material is manufactured by using the stretchable shadow mask material. The mask shows only a small dimensional change of less than 0.015% in the direction parallel to the rolling direction and the direction perpendicular to the rolling direction after the heat treatment at the specified temperature. As a result, the stretchable shadow mask that has been stretched and mounted in the cathode ray tube is of high quality with a small dimensional variation with respect to a predetermined discrimination hole interval.

【0010】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の展張型シャドウマスク用材料において、前記展張型シ
ャドウマスク用材料は、再結晶を起こさない所定の条件
で、あらかじめ熱処理されていることに特徴を有する。
[0010] According to a second aspect of the present invention, in the stretchable shadow mask material according to the first aspect, the stretchable shadow mask material is heat-treated in advance under predetermined conditions that do not cause recrystallization. It has a special feature.

【0011】この発明によれば、展張型シャドウマスク
用材料は、再結晶を起こさない所定の条件であらかじめ
熱処理されているので、その材料から製造された展張型
シャドウマスクが規定の温度で後に熱処理されても、そ
の熱処理前後での寸法変化率が上述した圧延平行方向お
よび圧延垂直方向で0.015%以下となる。あらかじ
めなされた熱処理に基づいて達成される、後の熱処理前
後での小さい寸法変化率は、製造された展張型シャドウ
マスクの寸法精度を向上させることになる。
According to the present invention, since the material for the extended shadow mask is heat-treated in advance under predetermined conditions that do not cause recrystallization, the extended shadow mask manufactured from the material is subjected to heat treatment at a specified temperature. Even when the heat treatment is performed, the dimensional change before and after the heat treatment becomes 0.015% or less in the above-described rolling parallel direction and rolling vertical direction. The small dimensional change before and after the heat treatment, which is achieved based on the heat treatment performed in advance, will improve the dimensional accuracy of the manufactured stretch-type shadow mask.

【0012】請求項3に記載の発明は、所定の厚さに圧
延されてなる展張型シャドウマスク用材料から製造され
る展張型シャドウマスクにおいて、前記展張型シャドウ
マスク用材料は、端伸び高さが3mm以下でキャンバー
が3mm以下/2mであり、熱処理前後での寸法変化率
が圧延平行方向および圧延垂直方向で0.015%以下
であることに特徴を有する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an extended shadow mask manufactured from an extended shadow mask material rolled to a predetermined thickness, wherein the extended shadow mask material has an edge extension height. Is 3 mm or less, the camber is 3 mm or less / 2 m, and the dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction.

【0013】この発明によれば、所定の厚さに圧延され
てなる展張型シャドウマスク用材料は、端伸び高さが3
mm以下でキャンバーが2m当たり3mm以下であるの
で、良好な平坦性を示している。こうした展張型シャド
ウマスク用材料を用いれば、シャドウマスクの露光工程
において、その材料に掛かる張力がシャドウマスク用材
料の各部で均一になり易く、その張力に基づいた材料各
部での伸展量が均一になり易い。その結果、本発明の展
張型シャドウマスクは、展張加工されてブラウン管内に
装着された後において、寸法精度に優れた高品質のもの
となる。本発明の展張型シャドウマスクは、規定の温度
で熱処理されても、その熱処理前後での寸法変化率が圧
延平行方向および圧延垂直方向で0.015%以下とな
るので、所定の識別孔間隔に対して寸法変動量が小さい
高品質のものとなる。
According to the present invention, the material for the stretch type shadow mask rolled to a predetermined thickness has an edge elongation height of 3 mm.
mm or less and the camber is 3 mm or less per 2 m, indicating good flatness. If such a material for a stretchable shadow mask is used, in the shadow mask exposure process, the tension applied to the material tends to be uniform at each part of the material for the shadow mask, and the amount of extension at each part of the material based on the tension is uniform. Easy to be. As a result, the stretchable shadow mask of the present invention is of high quality with excellent dimensional accuracy after being stretched and mounted in a cathode ray tube. Even if the stretched shadow mask of the present invention is heat-treated at a prescribed temperature, the dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling perpendicular direction, so that the predetermined discrimination hole interval is not increased. On the other hand, it is of high quality with small dimensional variation.

【0014】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の展張型シャドウマスクにおいて、前記展張型シャドウ
マスクの熱処理前後での寸法変動量が、55μm以下で
あることに特徴を有する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the stretchable shadow mask according to the third aspect, a dimensional variation of the stretchable shadow mask before and after the heat treatment is 55 μm or less.

【0015】この発明によれば、展張型シャドウマスク
の熱処理前後での寸法変動量が55μm以下であるの
で、そうした展張型シャドウマスクは、所定の位置に精
度よく電子ビームをランディングさせることができる。
According to the present invention, since the dimensional change before and after the heat treatment of the extended shadow mask is 55 μm or less, such an extended shadow mask can accurately land an electron beam at a predetermined position.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の展張型シャドウマスク用
材料および展張型シャドウマスクについて、図面を参照
しつつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A stretchable shadow mask material and a stretchable shadow mask according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0017】本発明の展張型シャドウマスク用材料(以
下「シャドウマスク用材料」という。)は、展張型シャ
ドウマスク(以下「シャドウマスク」という。)を製造
するための原材料である。一般的には、図1に示すよう
に、所定の厚さに圧延処理されたコイル状のシャドウマ
スク用材料1が好ましく使用されるが、必ずしもコイル
状でなくてもよく、所定の長さに切断された圧延板材で
あってもよい。
The material for an extended shadow mask of the present invention (hereinafter referred to as "material for shadow mask") is a raw material for producing an extended shadow mask (hereinafter referred to as "shadow mask"). Generally, as shown in FIG. 1, a coil-shaped shadow mask material 1 that has been rolled to a predetermined thickness is preferably used. A cut rolled plate material may be used.

【0018】本発明は、シャドウマスク用材料1が、
(一)3mm以下の端伸び高さTを有し、(二)2m当
たり3mm以下(3mm以下/2m)のキャンバーKを
有するものであり、さらに、(三)そのシャドウマスク
用材料1を熱処理した前後での寸法変化率が、圧延平行
方向および圧延垂直方向で0.015%以下であること
に特徴を有するものである。
According to the present invention, the shadow mask material 1 comprises:
(1) It has an end elongation height T of 3 mm or less, (2) has a camber K of 3 mm or less (3 mm or less / 2 m) per 2 m, and (3) heat-treats the shadow mask material 1 The dimensional change before and after the rolling is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction.

【0019】端伸び高さTは、図2の拡大端面図に示し
たように、シャドウマスク用材料1の圧延垂直方向の端
面Zの波高さを表すものである。この端伸び高さTは、
図3に示すように、シャドウマスク用材料1を定盤2上
に載せ、その端面Zと定盤2との間の隙間を隙間ゲージ
3で測定した値をもって表される。
As shown in the enlarged end view of FIG. 2, the end elongation height T represents the wave height of the end surface Z of the shadow mask material 1 in the rolling vertical direction. This end extension height T is
As shown in FIG. 3, the shadow mask material 1 is placed on the surface plate 2, and the gap between the end surface Z and the surface plate 2 is represented by a value measured by the gap gauge 3.

【0020】端伸び高さTは、3mm以下であり、より
好ましくは2mm以下である。こうした端伸び高さTか
らなるシャドウマスク用材料1は、その材料1に掛かる
張力がその材料1各部で均一になり易く、その張力に基
づいた材料1各部の伸展量が均一になり易い。従って、
シャドウマスクを製造する際の露光工程で加わる張力に
よっても、シャドウマスク用材料1各部での伸展量が均
一になる。その結果、そのシャドウマスク用材料1から
製造されたシャドウマスクは、孔寸法の精度に優れた高
品質のものとなる。なお、端伸び高さTが2mm以下の
場合には、平坦性により優れ、その材料1に掛かる張力
に基づいた材料1各部の伸展量がより均一になる。その
結果、そうしたシャドウマスク用材料1から製造された
シャドウマスクは、孔寸法の精度により優れた高品質の
ものとなる。
The end extension height T is 3 mm or less, more preferably 2 mm or less. In the shadow mask material 1 having such an edge elongation height T, the tension applied to the material 1 tends to be uniform at each portion of the material 1 and the extension amount of each portion of the material 1 based on the tension tends to be uniform. Therefore,
The amount of extension at each part of the shadow mask material 1 becomes uniform also by the tension applied in the exposure step when manufacturing the shadow mask. As a result, the shadow mask manufactured from the shadow mask material 1 is of high quality with excellent hole dimension accuracy. When the end elongation height T is 2 mm or less, the flatness is excellent, and the amount of extension of each part of the material 1 based on the tension applied to the material 1 becomes more uniform. As a result, the shadow mask manufactured from such a shadow mask material 1 is of high quality with more excellent hole dimension accuracy.

【0021】一方、端伸び高さTが3mmを超えると、
その材料に掛かる張力がシャドウマスク用材料1各部で
均一になり難いことがあり、その張力に基づいた材料1
各部の伸展量が均一になり難い場合がある。そのため、
上述した(二)(三)の条件を満たしても、露光工程で
加わる張力によってシャドウマスク用材料各部での伸展
量が不均一になることがある。その結果、そのシャドウ
マスク用材料から製造されたシャドウマスクは、孔寸法
の精度に劣ることがあり、品質が低下することがある。
On the other hand, when the end extension height T exceeds 3 mm,
In some cases, it is difficult for the tension applied to the material to be uniform at each part of the shadow mask material 1.
In some cases, the extension amount of each part is difficult to be uniform. for that reason,
Even if the above conditions (2) and (3) are satisfied, the amount of extension in each part of the shadow mask material may be uneven due to the tension applied in the exposure step. As a result, the shadow mask manufactured from the shadow mask material may be inferior in the accuracy of the hole size, and may be deteriorated in quality.

【0022】キャンバーKは、図4に示すように、シャ
ドウマスク用材料1の圧延平行方向の湾曲の程度を表す
ものである。このキャンバーKは、圧延平行方向に沿っ
て長さ2mで切り出したシャドウマスク用材料1を定盤
2上に載せ、その材料1の圧延平行方向に沿った一の長
辺側コーナーを結んだ直線Pと、材料1との間の最大隙
間を測定した値をもって表される。
As shown in FIG. 4, the camber K indicates the degree of curvature of the shadow mask material 1 in the rolling parallel direction. In this camber K, a shadow mask material 1 cut out to a length of 2 m along a rolling parallel direction is placed on a surface plate 2 and a straight line connecting one long side corner along the rolling parallel direction of the material 1. It is represented by a value obtained by measuring the maximum gap between P and the material 1.

【0023】キャンバーKは、3mm以下/2mであ
り、より好ましくは2mm以下/2mである。なお、切
り出した長さが2mでない場合にであっても、上述の比
の範囲内であるものは本発明の範囲であり、例えば、
1.5mm以下/1mであっても、4.5mm以下/3
mであってもよい。こうしたキャンバーKからなるシャ
ドウマスク用材料1は、その材料1の両辺に掛かる張力
が均一になり易く、その張力に基づいた材料1各辺の伸
展量が均一になり易い。従って、シャドウマスクを製造
する際の露光工程で加わる張力によっても、シャドウマ
スク用材料1各辺および各部での伸展量が均一になる。
その結果、そのシャドウマスク用材料1から製造された
シャドウマスクは、孔寸法の精度に優れた高品質のもの
となる。なお、キャンバーKが2mm以下/2mの場合
には、湾曲が極めて小さいので、その材料1に掛かる張
力に基づいた材料各辺および各部の伸展量がより均一に
なる。その結果、そうしたシャドウマスク用材料1から
製造されたシャドウマスクは、孔寸法の精度により優れ
た高品質のものとなる。
The camber K is 3 mm or less / 2 m, more preferably 2 mm or less / 2 m. In addition, even when the cut length is not 2 m, what is within the range of the above ratio is within the scope of the present invention. For example,
Even if 1.5 mm or less / 1 m, 4.5 mm or less / 3
m. In the shadow mask material 1 made of the camber K, the tension applied to both sides of the material 1 tends to be uniform, and the amount of extension of each side of the material 1 based on the tension tends to be uniform. Therefore, the amount of extension on each side and each portion of the shadow mask material 1 becomes uniform also by the tension applied in the exposure step in manufacturing the shadow mask.
As a result, the shadow mask manufactured from the shadow mask material 1 is of high quality with excellent hole dimension accuracy. When the camber K is 2 mm or less / 2 m, since the curvature is extremely small, the amount of extension of each side and each portion of the material based on the tension applied to the material 1 becomes more uniform. As a result, the shadow mask manufactured from such a shadow mask material 1 is of high quality with more excellent hole dimension accuracy.

【0024】一方、キャンバーKが3mm/2mを超え
ると、その材料の両辺に掛かる張力が均一になり難いこ
とがあり、その張力に基づいた材料1各辺および各部の
伸展量が均一になり難い場合がある。そのため、上述し
た(一)(三)の条件を満たしても、露光工程で加わる
張力によってシャドウマスク用材料各辺および各部での
伸展量が不均一になることがある。その結果、そのシャ
ドウマスク用材料から製造されたシャドウマスクは、孔
寸法の精度に劣ることがあり、品質が低下することがあ
る。
On the other hand, if the camber K exceeds 3 mm / 2 m, the tension applied to both sides of the material may be difficult to be uniform, and the amount of extension of each side and each part of the material 1 based on the tension may not be uniform. There are cases. Therefore, even if the above-mentioned conditions (1) and (3) are satisfied, the amount of extension on each side and each part of the shadow mask material may be uneven due to the tension applied in the exposure step. As a result, the shadow mask manufactured from the shadow mask material may be inferior in the accuracy of the hole size, and may be deteriorated in quality.

【0025】さらに、本発明のシャドウマスク用材料1
は、熱処理前後での寸法変化率が圧延平行方向および圧
延垂直方向で0.015%以下となるものである。こう
したシャドウマスク用材料1から製造されたシャドウマ
スクは、規定の温度で熱処理されても、その熱処理前後
での寸法変化率が圧延平行方向および圧延垂直方向で
0.015%以下になる。こうした小さい寸法変化率
は、製造されたシャドウマスクの寸法変動を抑制し、そ
の精度を向上させる。そのため、展張加工されてブラウ
ン管内に装着された後のシャドウマスクは、所定の識別
孔間隔に対し、寸法変動量が小さい高品質のものとな
る。なお、寸法変化率が0.010%以下の場合には、
熱処理前後での寸法変化率が極めて小さいので、製造さ
れたシャドウマスクの寸法変動をより抑制することがで
き、その精度をより一層向上させることができる。
Further, the shadow mask material 1 of the present invention
The dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction. Even if the shadow mask manufactured from such a shadow mask material 1 is heat-treated at a prescribed temperature, the dimensional change before and after the heat treatment becomes 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction. Such a small dimensional change rate suppresses dimensional fluctuation of the manufactured shadow mask and improves its accuracy. For this reason, the shadow mask after being stretched and mounted in the cathode ray tube is of high quality with a small dimensional variation with respect to a predetermined identification hole interval. When the dimensional change rate is 0.010% or less,
Since the dimensional change before and after the heat treatment is extremely small, the dimensional change of the manufactured shadow mask can be further suppressed, and the accuracy thereof can be further improved.

【0026】一方、寸法変化率が0.015%を超える
と、規定の温度で熱処理がされた際に、シャドウマスク
寸法変動が大きくなることがあり、シャドウマスクの寸
法精度が悪くなる場合がある。そのため、上述の(一)
(二)の条件を満たしても、ブラウン管内に装着された
後のシャドウマスクは、所定の識別孔間隔に対し、寸法
変動量が大きく品質の悪いものとなることがある。
On the other hand, if the dimensional change rate exceeds 0.015%, the dimensional variation of the shadow mask may increase when heat treatment is performed at a specified temperature, and the dimensional accuracy of the shadow mask may deteriorate. . Therefore, the above (1)
Even if the condition (2) is satisfied, the shadow mask after being mounted in the cathode ray tube may have a large amount of dimensional variation and a poor quality with respect to a predetermined discrimination hole interval.

【0027】なお、熱処理は、シャドウマスク用材料1
の種類によっても若干異なるが、およそ650℃以下の
熱処理をいう。およそ650℃以下の熱処理を対象とし
ているのは、その温度を超える温度で熱処理すると、再
結晶等が起こって材料自体の物性が変化し、シャドウマ
スクの材料物性に大きな影響を及ぼすことがあるためで
ある。このとき、熱処理環境や熱処理時間は、そうした
観点から任意に設定される。
The heat treatment is performed by using the shadow mask material 1
Is a heat treatment at about 650 ° C. or less, although it differs slightly depending on the type of the heat treatment. The purpose of the heat treatment at about 650 ° C. or less is that if the heat treatment is performed at a temperature exceeding the temperature, recrystallization or the like occurs, and the physical properties of the material itself change, which may greatly affect the physical properties of the material of the shadow mask. It is. At this time, the heat treatment environment and the heat treatment time are arbitrarily set from such a viewpoint.

【0028】本発明のシャドウマスク用材料1は、再結
晶を起こさない所定の条件であらかじめ熱処理されてい
ることが好ましい。こうした熱処理を施すことによっ
て、上述の範囲内の寸法変化率にすることができる。こ
のとき、再結晶を起こさない所定の条件の熱処理とは、
水素含有ガスやアンモニアガス等の還元性ガス、窒素ガ
スや不活性ガス等の非酸化性ガス等からなる雰囲気中
で、例えば展張型シャドウマスクに通常使用されている
アルミキルド鋼の場合においては、450〜650℃好
ましくは540〜580℃の温度で、120〜3秒間好
ましくは60〜40秒の熱処理をいう。こうした条件で
の熱処理を施すことによって、その材料から製造された
シャドウマスクが規定の温度で熱処理されても、熱処理
前後の寸法変化率が上述した圧延平行方向および圧延垂
直方向で0.015%以下となるシャドウマスク用材料
1を得ることができる。さらに、この熱処理は、歪み取
り焼鈍ということができ、シャドウマスク用材料1の歪
みを除去することができる。こうした熱処理に基づいた
歪みの除去は、その後の熱処理前後における寸法変化率
に大きく影響するものと考えられる。なお、温度と時間
の関係は、通常、温度が低い場合には時間は長く、温度
が高い場合には時間が短く設定される。また、焼鈍炉の
形式は特に問わず、連続式であっても、箱形のバッチ式
であってもよい。
It is preferable that the shadow mask material 1 of the present invention has been previously heat-treated under predetermined conditions that do not cause recrystallization. By performing such a heat treatment, the dimensional change rate can be set within the above range. At this time, the heat treatment under predetermined conditions that does not cause recrystallization is
In an atmosphere composed of a reducing gas such as a hydrogen-containing gas or an ammonia gas, a non-oxidizing gas such as a nitrogen gas or an inert gas, and the like, for example, in the case of aluminum killed steel generally used for an extended shadow mask, 450 650 ° C., preferably 540-580 ° C., for 120-3 seconds, preferably 60-40 seconds. By performing the heat treatment under these conditions, even if the shadow mask manufactured from the material is heat-treated at a prescribed temperature, the dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in the above-described rolling parallel direction and rolling perpendicular direction. Shadow mask material 1 can be obtained. Furthermore, this heat treatment can be called strain relief annealing, and can remove the distortion of the shadow mask material 1. It is considered that the removal of the strain based on the heat treatment greatly affects the dimensional change rate before and after the subsequent heat treatment. Note that the relationship between temperature and time is generally set such that the time is long when the temperature is low and the time is short when the temperature is high. The type of the annealing furnace is not particularly limited, and may be a continuous type or a box-type batch type.

【0029】上述の熱処理の温度が450℃未満の場合
には、熱処理前後での寸法変化率が0.015%を超え
ることがある。また、熱処理の温度が650℃を超える
場合には、シャドウマスク用材料1が再結晶化すること
があり、抗張力の低下が生じることがある。こうした抗
張力の低下は、製造されたシャドウマスクをブラウン管
内に装着する際において、そのシャドウマスクの破断を
誘発するおそれがある。
When the temperature of the heat treatment is lower than 450 ° C., the dimensional change before and after the heat treatment may exceed 0.015%. If the temperature of the heat treatment exceeds 650 ° C., the shadow mask material 1 may be recrystallized, and the tensile strength may decrease. Such a decrease in tensile strength may cause the shadow mask to break when the manufactured shadow mask is mounted in a cathode ray tube.

【0030】本発明のシャドウマスク用材料1は、一般
的な展張型シャドウマスク用の材料として使用されてい
るアルミキルド鋼材を好ましく使用することができる。
しかし、特にこの材料に限定されるものではなく、本発
明の趣旨に基づく上記の構成を有し且つ展張型シャドウ
マスク用の材料として好ましいものであれば、如何なる
種類の材料であってもよい。また、シャドウマスク用材
料1の厚さは、展張型シャドウマスク用として好適な2
5〜130μm程度である。
As the shadow mask material 1 of the present invention, an aluminum killed steel material used as a general material for a stretch type shadow mask can be preferably used.
However, the material is not particularly limited to this material, and may be of any type as long as it has the above-described configuration based on the gist of the present invention and is preferable as a material for a stretchable shadow mask. Further, the thickness of the shadow mask material 1 is 2 which is suitable for a stretch type shadow mask.
It is about 5 to 130 μm.

【0031】以上説明したように、本発明のシャドウマ
スク用材料1は、平坦性に優れ且つ熱処理前後での寸法
変化率も小さいので、寸法精度に優れたシャドウマスク
を製造することができると共に、その後の熱処理におい
ても、その処理前後での寸法変動が小さい。従って、こ
うしたシャドウマスク用材料1は、寸法精度に優れ、寸
法変動の少ないシャドウマスクの製造に極めて好適に用
いることができる。
As described above, the shadow mask material 1 of the present invention has excellent flatness and a small dimensional change rate before and after heat treatment, so that a shadow mask having excellent dimensional accuracy can be manufactured. Also in the subsequent heat treatment, the dimensional change before and after the treatment is small. Therefore, such a shadow mask material 1 is excellent in dimensional accuracy and can be used very suitably for manufacturing a shadow mask with little dimensional fluctuation.

【0032】そのシャドウマスク用材料1から製造され
たシャドウマスクが、アートワークによって予め作成さ
れたガラスパネルで蛍光面が露光形成されるタイプのブ
ラウン管内に装着された場合において、そのシャドウマ
スクを装着したブラウン管は、所定の識別孔間隔に対し
て、寸法変動量が極めて小さい高品質のものとなる。
When the shadow mask manufactured from the shadow mask material 1 is mounted in a cathode ray tube of a type in which a fluorescent screen is exposed and formed by a glass panel prepared in advance by an artwork, the shadow mask is mounted. The obtained cathode ray tube is of high quality with an extremely small dimensional variation with respect to a predetermined discrimination hole interval.

【0033】こうしたシャドウマスクは、その寸法変動
量の絶対値を55μm以下、好ましくは40μm以下と
することができる。この範囲内の寸法変動量を有するシ
ャドウマスクは、所定の位置に精度よく電子ビームをラ
ンディングさせることができる。
In such a shadow mask, the absolute value of the dimensional variation can be 55 μm or less, preferably 40 μm or less. A shadow mask having a dimensional variation amount within this range can accurately land an electron beam at a predetermined position.

【0034】シャドウマスク1は、下記の従来公知の方
法で形成することができるが、言うまでもなく下記の製
造方法に限定されない。
The shadow mask 1 can be formed by the following conventionally known method, but is not limited to the following manufacturing method.

【0035】シャドウマスクは、通常、フォトエッチン
グの各工程で行われ、連続したインライン装置で製造さ
れる。例えば、金属薄板の両面に水溶性コロイド系フォ
トレジスト等を塗布し、乾燥する。その後、その表面に
は、上述したような表側孔部の形状パターンを形成した
ガラス乾板を密着させ、裏面には、裏側孔部の形状パタ
ーンを形成したガラス乾板を密着させ、高圧水銀等の紫
外線によって露光し、水で現像する。この露光工程にお
いて、本発明のシャドウマスク用材料は、端伸び高さT
とキャンバーKが本発明の所定の範囲内にあるので、露
光工程において加わる張力によっても、材料各部の伸展
量が不均一にならない。なお、表側孔部のパターンを形
成したガラス乾板と、裏側孔部のパターンを形成したガ
ラス乾板の位置関係およびその形状は、得られるシャド
ウマスクに形成された表側孔部と裏側孔部との位置関係
およびそれらの大きさに考慮して設計され、配置され
る。レジスト膜画像で周囲がカバーされた金属の露出部
分は、各部のエッチング進行速度の相違に基づいて、上
述したような各々の形状で形成される。なお、エッチン
グ加工は、熱処理等された後、両面側から塩化第二鉄溶
液をスプレー等して行われる。その後、水洗い、剥離等
の後工程を連続的に行うことによってシャドウマスクが
製造される。こうして製造されたシャドウマスクは、所
定の条件で熱処理され、展張加工される。
The shadow mask is usually formed in each step of photoetching, and is manufactured by a continuous in-line apparatus. For example, a water-soluble colloid-based photoresist or the like is applied to both surfaces of a thin metal plate and dried. Thereafter, a glass dry plate having a shape pattern of the above-described front side hole portion is adhered to the surface thereof, and a glass dry plate having a shape pattern of the back side hole portion is closely adhered to the back surface thereof, and ultraviolet rays such as high-pressure mercury And develop with water. In this exposure step, the shadow mask material of the present invention has an edge extension height T
And the camber K are within the predetermined range of the present invention, so that the amount of extension of each part of the material does not become uneven even by the tension applied in the exposure step. The positional relationship and the shape of the glass dry plate on which the pattern of the front side hole is formed and the glass dry plate on which the pattern of the back side hole is formed are determined by the positions of the front side hole and the back side hole formed on the obtained shadow mask. Designed and placed in consideration of relationships and their size. The exposed portion of the metal whose periphery is covered by the resist film image is formed in each of the shapes described above based on the difference in the etching progress rate of each portion. The etching process is performed by spraying a ferric chloride solution from both sides after heat treatment or the like. Thereafter, a shadow mask is manufactured by continuously performing post-processes such as washing and peeling. The shadow mask thus manufactured is subjected to a heat treatment under predetermined conditions and is stretched.

【0036】本発明のシャドウマスクは、熱処理前後で
の寸法変化率が小さいので、寸法変動が抑制されて、寸
法精度に優れた高品質のシャドウマスクとなる。こうし
たシャドウマスクを装着したブラウン管は、ランディン
グエラーが極めて起こし難いものとなる。
Since the shadow mask of the present invention has a small dimensional change before and after the heat treatment, a dimensional change is suppressed, and a high-quality shadow mask having excellent dimensional accuracy is obtained. A cathode ray tube equipped with such a shadow mask is very unlikely to cause a landing error.

【0037】[0037]

【実施例】以下、本発明について実施例と比較例を挙げ
て具体的に説明する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples.

【0038】シャドウマスクを蛍光体の露光に使用しな
いタイプのブラウン管内に装着する展張型シャドウマス
クを製造した。
An extended shadow mask was prepared in which the shadow mask was mounted in a cathode ray tube of a type not used for exposing the phosphor.

【0039】展張型シャドウマスク用材料として、板厚
50μmのアルミキルド鋼材からなる圧延コイルを用い
た。次に、その材料を、再結晶しない条件で熱処理し
た。熱処理条件は、540〜560℃・45秒間とし
た。このとき、熱処理された材料を2m切り出し、端伸
び高さTとキャンバーKを測定した。その後、通常のエ
ッチング工程に供して展張型シャドウマスクを製造し
た。製造された展張型シャドウマスクについて、熱処理
前後の寸法変化率と、ブラウン管内に装着した際の寸法
変動量を測定した。
A rolled coil made of an aluminum-killed steel having a thickness of 50 μm was used as a material for the extended shadow mask. Next, the material was heat-treated under conditions that did not cause recrystallization. The heat treatment was performed at 540 to 560 ° C. for 45 seconds. At this time, 2 m of the heat-treated material was cut out, and the end extension height T and the camber K were measured. Then, it was subjected to a normal etching process to produce an extended shadow mask. With respect to the produced stretch type shadow mask, the dimensional change rate before and after the heat treatment and the dimensional change amount when the shadow mask was mounted in a cathode ray tube were measured.

【0040】(評価方法)端伸び高さTは、図3に示す
ように、シャドウマスク用材料1を定盤2上に載せ、そ
の端面Zと定盤2との間の隙間を隙間ゲージ3で測定し
た。
(Evaluation Method) As shown in FIG. 3, the edge elongation height T is obtained by placing a shadow mask material 1 on a surface plate 2 and measuring the gap between the end surface Z and the surface plate 2 with a gap gauge 3. Was measured.

【0041】キャンバーKは、図4に示すように、圧延
平行方向に沿って長さ2m切り出したシャドウマスク用
材料1を定盤2上に載せ、その材料1の圧延平行方向に
沿った長辺側コーナーを結んだ直線Pと、材料1との間
の最大隙間を測定した。
As shown in FIG. 4, the camber K is placed on the surface plate 2 with the shadow mask material 1 cut out in a length of 2 m along the rolling parallel direction, and the long side of the material 1 along the rolling parallel direction. The maximum gap between the straight line P connecting the side corners and the material 1 was measured.

【0042】寸法変化率は、測定試料としてJIS−Z
−2201における5号試験片(長さ250mm)を使
用し、490℃・60分間還元雰囲気の箱形炉内で熱処
理した前後の試験片の長さを測定し、以下の方法で求め
た。寸法変化率は、|(熱処理前の試験片の長さ)−
(熱処理後の試験片の長さ)|÷(熱処理前の試験片の
長さ)×100で計算した。
The dimensional change rate was measured according to JIS-Z
Using the No. 5 test piece (250 mm length) in -2201, the length of the test piece before and after heat treatment in a box furnace in a reducing atmosphere at 490 ° C. for 60 minutes was measured and determined by the following method. The dimensional change rate is | (length of test piece before heat treatment)-
(Length of test piece after heat treatment) |) (length of test piece before heat treatment) × 100.

【0043】寸法変動量は、X方向(圧延垂直方向)3
20mmでY方向(圧延平行方向)240mmのアルミ
キルド鋼材サンプル5(17インチシャドウマスク相当
材)を使用し、490℃・60分間還元雰囲気の箱形炉
内で熱処理を行った後のサンプルにおけるX方向とY方
向の識別孔(6a〜6d)の間隔を測定した(図5を参
照。)。寸法変動量は、|(熱処理前の識別孔間隔)−
(熱処理後の識別孔間隔)|で計算した。なお、図5に
おいて、測定サンプル5は、Y方向にスロットの長辺側
を有するように形成した17インチシャドウマスク相当
品である。
The amount of dimensional variation is expressed in X direction (vertical direction of rolling) 3
Using an aluminum-killed steel sample 5 (equivalent to a 17-inch shadow mask) having a thickness of 20 mm and a Y direction (rolling parallel direction) of 240 mm (a material equivalent to a 17-inch shadow mask), the X direction of the sample after heat treatment in a box furnace in a reducing atmosphere at 490 ° C. for 60 minutes. And the distance between the identification holes (6a to 6d) in the Y direction were measured (see FIG. 5). The amount of dimensional variation is | (interval of identification holes before heat treatment)-
(Interval between discrimination holes after heat treatment) | In FIG. 5, the measurement sample 5 is a 17-inch shadow mask-equivalent product formed to have the long side of the slot in the Y direction.

【0044】(評価結果)得られた結果の一覧を表1に
示した。
(Evaluation Results) A list of the obtained results is shown in Table 1.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】以上のように、端伸び高さが3mm以下で
キャンバーが3mm以下/2mであり、熱処理前後での
寸法変化率が圧延平行方向および圧延垂直方向で0.0
15%以下のシャドウマスク用材料で製造されたシャド
ウマスクは、何れも、55μm以下の寸法変動量を示し
た。この範囲内の寸法変動量を有するシャドウマスク
は、蛍光面の所定の位置に精度よく電子ビームをランデ
ィングさせることができた。
As described above, the end elongation height is 3 mm or less, the camber is 3 mm or less / 2 m, and the dimensional change before and after the heat treatment is 0.00 in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction.
Each of the shadow masks manufactured with the shadow mask material of 15% or less showed a dimensional variation of 55 μm or less. The shadow mask having the dimensional variation within this range was able to accurately land the electron beam at a predetermined position on the phosphor screen.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の展張型シ
ャドウマスク用材料によれば、良好な平坦性を有すると
共に熱処理前後における寸法変化が小さいシャドウマス
ク用材料とすることができるので、こうした材料で展張
型シャドウマスクを製造することによって、展張型シャ
ドウマスクの寸法精度と寸法変動量を小さくすることが
でき、ランディングエラーが極めて起こし難いブラウン
管の製造に極めて有効である。
As described above, according to the stretch type shadow mask material of the present invention, a shadow mask material having good flatness and small dimensional change before and after heat treatment can be obtained. By manufacturing a stretch-type shadow mask from a material, the dimensional accuracy and dimensional variation of the stretch-type shadow mask can be reduced, which is extremely effective in manufacturing a cathode ray tube in which landing errors are extremely unlikely to occur.

【0048】また、本発明の展張型シャドウマスクによ
れば、所定の識別孔間隔に対して寸法変動量が小さい高
品質のものとなる。その結果、所定の位置に精度よく電
子ビームをランディングさせることができるので、ラン
ディングエラーが極めて起こし難いブラウン管の製造に
極めて有効である。
Further, according to the stretch type shadow mask of the present invention, a high-quality shadow mask having a small dimensional variation with respect to a predetermined interval between identification holes is obtained. As a result, the electron beam can be accurately landed at a predetermined position, which is extremely effective for manufacturing a cathode ray tube in which a landing error is extremely unlikely to occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の展張型シャドウマスク用材料の一例を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a material for a stretchable shadow mask of the present invention.

【図2】端伸び高さの説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an end extension height.

【図3】端伸び高さの測定方法の一例を示す説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a method of measuring an end elongation height.

【図4】キャンバーの測定方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a camber measurement method.

【図5】識別孔間隔の測定方法の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for measuring an identification hole interval.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 展張型シャドウマスク用材料 2 定盤 3 隙間ゲージ 5 識別孔間隔測定サンプル 6a、6b、6c、6d 識別孔 X 圧延垂直方向 Y 圧延平行方向 Z 端面 T 端伸び高さ K キャンバー P 直線 REFERENCE SIGNS LIST 1 material for stretch-type shadow mask 2 surface plate 3 gap gauge 5 identification hole interval measurement sample 6a, 6b, 6c, 6d identification hole X rolling vertical direction Y rolling parallel direction Z end face T end extension height K camber P straight line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯塚 和孝 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 HH03 5C031 EE06 EF05 EH04 EH06 EH08 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Kazutaka Iizuka 1-1-1 Ichigaya-Kaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 5C027 HH03 5C031 EE06 EF05 EH04 EH06 EH08

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の厚さに圧延されてなる展張型シャ
ドウマスク用材料において、 前記展張型シャドウマスク用材料は、端伸び高さが3m
m以下でキャンバーが3mm以下/2mであり、熱処理
前後での寸法変化率が圧延平行方向および圧延垂直方向
で0.015%以下であることを特徴とする展張型シャ
ドウマスク用材料。
1. A stretchable shadow mask material rolled to a predetermined thickness, wherein said stretchable shadow mask material has an end elongation height of 3 m.
m, the camber is 3 mm or less / 2 m, and the dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in the rolling parallel direction and the rolling vertical direction, and is characterized by being not more than 0.015%.
【請求項2】 前記展張型シャドウマスク用材料は、再
結晶を起こさない所定の条件であらかじめ熱処理されて
いることを特徴とする請求項1に記載の展張型シャドウ
マスク用材料。
2. The material for an extended shadow mask according to claim 1, wherein the material for the extended shadow mask is heat-treated in advance under a predetermined condition that does not cause recrystallization.
【請求項3】 所定の厚さに圧延されてなる展張型シャ
ドウマスク用材料から製造される展張型シャドウマスク
において、 前記展張型シャドウマスク用材料は、端伸び高さが3m
m以下でキャンバーが3mm以下/2mであり、熱処理
前後での寸法変化率が圧延平行方向および圧延垂直方向
で0.015%以下であることを特徴とする展張型シャ
ドウマスク。
3. An extended shadow mask manufactured from an extended shadow mask material rolled to a predetermined thickness, wherein the extended shadow mask material has an end elongation height of 3 m.
m, the camber is 3 mm or less / 2 m, and the dimensional change before and after the heat treatment is 0.015% or less in a rolling parallel direction and a rolling vertical direction, and is a stretchable shadow mask.
【請求項4】 前記展張型シャドウマスクの熱処理前後
での寸法変動量が、55μm以下であることを特徴とす
る請求項3に記載の展張型シャドウマスク。
4. The stretchable shadow mask according to claim 3, wherein a dimensional variation of the stretchable shadow mask before and after the heat treatment is 55 μm or less.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105637110A (en) * 2013-10-15 2016-06-01 大日本印刷株式会社 Metal plate, production method of metal plate, and method of producing vapor deposition mask by using metal plate
US10233546B2 (en) 2013-09-13 2019-03-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate
US10570498B2 (en) 2015-02-10 2020-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Manufacturing method for deposition mask, metal plate used for producing deposition mask, and manufacturing method for said metal sheet
US10600963B2 (en) 2014-05-13 2020-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10233546B2 (en) 2013-09-13 2019-03-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate
US10731261B2 (en) 2013-09-13 2020-08-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate
CN107604302A (en) * 2013-10-15 2018-01-19 大日本印刷株式会社 Metallic plate, the manufacture method of metallic plate and the method using metallic plate manufacture deposition mask
CN105637110A (en) * 2013-10-15 2016-06-01 大日本印刷株式会社 Metal plate, production method of metal plate, and method of producing vapor deposition mask by using metal plate
CN107604304A (en) * 2013-10-15 2018-01-19 大日本印刷株式会社 Metallic plate, the manufacture method of metallic plate and the method using metallic plate manufacture deposition mask
CN107604303A (en) * 2013-10-15 2018-01-19 大日本印刷株式会社 Metallic plate, the manufacture method of metallic plate and the method using metallic plate manufacture deposition mask
US9828665B2 (en) 2013-10-15 2017-11-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing deposition mask by use of metal plate
CN107604304B (en) * 2013-10-15 2021-02-05 大日本印刷株式会社 Metal plate, method for producing metal plate, and method for producing vapor deposition mask using metal plate
US20210340666A1 (en) * 2013-10-15 2021-11-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate
US11486031B2 (en) 2013-10-15 2022-11-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate
US10600963B2 (en) 2014-05-13 2020-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate
US11217750B2 (en) 2014-05-13 2022-01-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate
US10570498B2 (en) 2015-02-10 2020-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Manufacturing method for deposition mask, metal plate used for producing deposition mask, and manufacturing method for said metal sheet
US10612124B2 (en) 2015-02-10 2020-04-07 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Manufacturing method for deposition mask, metal plate used for producing deposition mask, and manufacturing method for said metal sheet

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