JP2002228705A - Contact mechanism and inspection method for semiconductor device - Google Patents

Contact mechanism and inspection method for semiconductor device

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JP2002228705A
JP2002228705A JP2001027428A JP2001027428A JP2002228705A JP 2002228705 A JP2002228705 A JP 2002228705A JP 2001027428 A JP2001027428 A JP 2001027428A JP 2001027428 A JP2001027428 A JP 2001027428A JP 2002228705 A JP2002228705 A JP 2002228705A
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pusher
ball
semiconductor device
load
spring
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Takashi Imada
孝志 今田
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NEC Yamagata Ltd
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NEC Yamagata Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a contact mechanism capable of providing a uniform load and to provide an inspection device for a semiconductor device capable of improving inspection workability and allowing correct measurement. SOLUTION: This mechanism is provided with a pusher 3, a ball 1 abutting on the pusher, a spring member 2 abutting on the ball, and a pressing means 5 for pressing the spring member, and transmits the spring load to the pusher 3 through the ball 1 by the pressing means.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はコンタクト機構およ
び半導体装置の検査方法に係り、特に、半導体装置の製
造工程の電気的特性検査を行う工程で使用する製造装置
におけるコンタクト機構及び半導体装置の検査方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact mechanism and a method for inspecting a semiconductor device, and more particularly, to a contact mechanism and a method for inspecting a semiconductor device in a manufacturing apparatus used in a process of inspecting electrical characteristics in a semiconductor device manufacturing process. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来種々のコンタクト機構が半導体装置
(IC)の特性検査装置や強度試験装置等に用いられて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, various contact mechanisms have been used for a characteristic inspection apparatus, a strength test apparatus, and the like of a semiconductor device (IC).

【0003】例えば特開昭64−15674号公報に
は、図4に示すようなコンタクト機構を用いたIC検査
用コンタクタが開示されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-15674 discloses an IC inspection contactor using a contact mechanism as shown in FIG.

【0004】同図においてIC検査用コンタクタは、測
定すべきIC22のリードに対応する導体パターン26
を有する測定基板29と、測定基板29の下面側を支持
する先端が球状の支点部24を形成する支柱23と支柱
23を上下動可能に支持する支持台25と測定基板29
と支持台25の間の支柱23に沿って設けられるばね3
1とを有する支持部21と、測定基板29をIC22を
挟んで加圧方向33に押圧するプッシャ32とを具備し
ている。また、測定基板上面の導体パターン26は下面
の測定電極27にそれぞれ引き出され、通常はそれぞれ
の測定電極27に測定配線28が接続されて測定器に電
気的に接続される。
In FIG. 1, an IC inspection contactor includes a conductor pattern 26 corresponding to a lead of an IC 22 to be measured.
, A support 23 that supports the support 23 movably up and down, and a support base 25 that supports the support 23 in a vertically movable manner.
3 provided along the column 23 between the support 25 and the support 25
1 and a pusher 32 that presses the measurement substrate 29 in the pressing direction 33 with the IC 22 interposed therebetween. Further, the conductor patterns 26 on the upper surface of the measurement substrate are respectively drawn out to the measurement electrodes 27 on the lower surface, and the measurement wires 28 are usually connected to the respective measurement electrodes 27 to be electrically connected to the measuring instrument.

【0005】このように図4に示すIC検査用コンタク
タは、球状の支点部24を設けることにより、IC22
から電気信号を取り出す導体パターン26、測定電極2
7を有する測定基板29プッシャ32に対して自由に傾
くことができる構成にしたものである。
[0005] As described above, the contactor for IC inspection shown in FIG.
Pattern 26 for taking out an electric signal from the measurement electrode 2
7 can be freely inclined with respect to the measurement substrate 29 having the pusher 32.

【0006】また特開平5−264424号公報には、
図5に示すような曲げ強度試験用治具が開示されてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-264424 discloses that
A jig for bending strength test as shown in FIG. 5 is disclosed.

【0007】同図において曲げ強度試験用治具は、基台
40上の試験片受台41の上面に凹部41a、41bを
形成し、そこに押しピン42、43を設け、その上にセ
ラミックス板等の試験片49を裁置する。試験片49の
上面に当接する荷重作用支点44a、44bを下面に形
成した上部荷重治具44の上面に凹部44cが形成され
ており、加圧方向50に加圧する荷重作用棒46の下面
に形成された凹部46aと上部荷重治具44の凹部44
cとの間にボール45が設けられ、さらに荷重作用棒4
6に上部荷重治具44およびボール45を弾性体47、
48により係止している。
In the drawing, a jig for bending strength test is formed by forming concave portions 41a, 41b on the upper surface of a test piece receiving base 41 on a base 40, providing push pins 42, 43 thereon, and placing a ceramic plate thereon. Is placed. A concave portion 44c is formed on the upper surface of the upper load jig 44 formed on the lower surface with load application fulcrums 44a and 44b abutting on the upper surface of the test piece 49, and formed on the lower surface of the load application rod 46 that presses in the pressing direction 50. Recessed portion 46a and recessed portion 44 of upper load jig 44
c, and a ball 45 is provided between the
6, an upper load jig 44 and a ball 45 are attached to an elastic body 47;
Locked by 48.

【0008】このように図5に示す曲げ強度試験用治具
は、試験片49への荷重作用支点44a、44bに均一
な荷重が加わるように、ボール45を上部荷重冶具4
4、荷重作用棒46の間に設置し、弾性体47、48で
保持する構成としているから、上部荷重冶具44が試験
片49の傾きにあわせでボール45を支点に傾いた場
合、弾性体47,48は片側が収縮し、もう一方は伸び
ることとなる。
[0008] As described above, the jig for bending strength test shown in FIG. 5 uses the upper load jig 4 so that the ball 45 is applied so that a uniform load is applied to the load application fulcrums 44 a and 44 b on the test piece 49.
4. Since it is configured to be installed between the load acting rods 46 and held by the elastic bodies 47 and 48, when the upper load jig 44 is tilted about the ball 45 as a fulcrum according to the inclination of the test piece 49, the elastic body 47 is used. , 48 will contract on one side and extend on the other.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら図4に示
す従来技術では、外部測定器に電気信号を伝えるための
測定配線28が測定基板29の傾きにあわせて可動する
こととなり、断線してしまうという問題があった。
In the prior art shown in FIG. 4, however, the measurement wiring 28 for transmitting an electric signal to an external measuring instrument is moved in accordance with the inclination of the measurement board 29, and is broken. There was a problem.

【0010】さらに、コンタクタそのものが傾くように
なっているから、形状、構成に制約を生じ、一般的なコ
ンタクタを使用した電気的特性検査には対応できないと
いう欠点があった。
[0010] Furthermore, since the contactor itself is inclined, the shape and configuration are restricted, and there is a drawback that it is not possible to cope with an electrical characteristic test using a general contactor.

【0011】一方、図5に示す従来技術では、弾性体4
7,48の弾性力に差が生じることなり、ボール45を
支点とし上部荷重冶具44を弾性力が均等となるように
傾ける力が発生してしまい、結果的に荷重作用支点44
a,44bには均等な荷重が加わらない欠点がある。
On the other hand, in the prior art shown in FIG.
A difference is generated in the elastic forces of 7, 48, and a force is generated with the ball 45 as a fulcrum to tilt the upper load jig 44 so that the elastic force becomes uniform.
A and 44b have the disadvantage that an even load is not applied.

【0012】したがって本発明の目的は、汎用性のある
のコンタクタに適用することができ、且つ、均等な荷重
が得られるコンタクト機構を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a contact mechanism which can be applied to a general-purpose contactor and can obtain a uniform load.

【0013】本発明の他の目的は、種々の形状、構成に
適用することにより検査作業性を向上させ、且つ、均等
な荷重が得られることにより正確な測定を可能にする半
導体装置の検査方法を提供することである。
Another object of the present invention is to improve the inspection workability by applying to various shapes and configurations, and to provide a method of inspecting a semiconductor device capable of obtaining accurate load by obtaining a uniform load. It is to provide.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の特徴はプッシャ
ーと、前記プッシャーに当接するボールと、前記ボール
に当接するばね部材と、前記ばね部材に加圧する加圧手
段とを具備し、前記加圧手段により前記ボールを介して
前記プッシャーにばね荷重を伝えるコンタクト機構にあ
る。
According to a feature of the present invention, there is provided a pusher, a ball in contact with the pusher, a spring member in contact with the ball, and pressurizing means for pressing the spring member. The contact mechanism transmits a spring load to the pusher via the ball by a pressure means.

【0015】ここで前記ボール及び前記ばね部材は前記
プッシャーの中心部分、前記プッシャーの平面形状にお
ける中心部分に位置していることが好ましい。さらに、
前記ボールは鋼球であることが好ましい。
Here, it is preferable that the ball and the spring member are located at a central portion of the pusher and a central portion of the pusher in a planar shape. further,
Preferably, the ball is a steel ball.

【0016】さらに、前記プッシャーにより電気測定基
板上の半導体装置のパッケージの面に荷重を加えること
ができる。あるいは、前記プッシャーにより電気測定基
板上の半導体装置のリードに荷重を加えることができ
る。
Further, a load can be applied to the surface of the package of the semiconductor device on the electric measurement substrate by the pusher. Alternatively, a load can be applied to the leads of the semiconductor device on the electric measurement substrate by the pusher.

【0017】本発明の他の特徴は、半導体装置のパッケ
ージの一面に設けられた電極を測定基板のコンタクタに
接触させ、前記パッケージの他面に荷重を加えて前記半
導体装置の電気的特性を検査する方法において、プッシ
ャーと、前記プッシャーに当接するボールと、前記ボー
ルに当接するばね部材と、前記ばね部材に加圧する加圧
手段とを具備し、前記加圧手段により前記ボールを介し
て前記プッシャーにばね荷重を伝えるコンタクト機構を
用意し、前記プッシャーに加えられる前記ばね荷重を前
記パッケージの他面に加える半導体装置の検査方法にあ
る。
Another feature of the present invention is that an electrode provided on one surface of a package of a semiconductor device is brought into contact with a contactor of a measurement substrate, and a load is applied to the other surface of the package to inspect the electrical characteristics of the semiconductor device. The method comprises: a pusher, a ball abutting on the pusher, a spring member abutting on the ball, and pressurizing means for pressing the spring member, and the pusher presses the pusher through the ball. And a contact mechanism for transmitting a spring load to the pusher, and applying the spring load applied to the pusher to the other surface of the package.

【0018】あるいは本発明の他の特徴は、半導体装置
のパッケージのから導出されたリードを測定基板の導体
パターンに接触させ、前記パッケージに荷重を加えて前
記半導体装置の電気的特性を検査する方法において、プ
ッシャーと、前記プッシャーに当接するボールと、前記
ボールに当接するばね部材と、前記ばね部材に加圧する
加圧手段とを具備し、前記加圧手段により前記ボールを
介して前記プッシャーにばね荷重を伝えるコンタクト機
構を用意し、前記プッシャーに加えられる前記ばね荷重
を前記リードに加える半導体装置の検査方法にある。
Alternatively, another feature of the present invention is a method of inspecting electrical characteristics of the semiconductor device by applying a load to the conductor pattern of a measurement substrate by bringing a lead derived from a package of the semiconductor device into contact with a conductor pattern of the measurement substrate. , A pusher, a ball that abuts the pusher, a spring member that abuts the ball, and a pressing unit that presses the spring member, wherein the pressing unit applies a spring to the pusher via the ball. A method for inspecting a semiconductor device in which a contact mechanism for transmitting a load is prepared, and the spring load applied to the pusher is applied to the lead.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明を説明
する。図1は本発明の実施の形態のコンタクト機構を示
す断面図であり、図2は図1のコンタクト機構をコンタ
クタに適用した半導体装置の検査方法の実施の形態を示
す断面図であり、図3は図1のコンタクト機構を測定基
板に適用した半導体装置の検査方法の他の実施の形態を
示す断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a contact mechanism according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor device inspection method in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a contactor. FIG. 7 is a cross-sectional view showing another embodiment of a method for inspecting a semiconductor device in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a measurement substrate.

【0020】先ず図1を参照して、剛体材料から形成さ
れたプッシャー3は吊りボルト4によりプレート5から
吊り下げられている。吊りボルト4のプッシャー3との
接触面はテーパー形状となっており、ばね受け8、鋼球
1を介して、ばね2の荷重を受けており、プレート5に
対するプッシャー3の取り付け位置が決定される。
Referring first to FIG. 1, a pusher 3 made of a rigid material is suspended from a plate 5 by suspension bolts 4. The contact surface of the suspension bolt 4 with the pusher 3 is tapered, receives the load of the spring 2 via the spring receiver 8 and the steel ball 1, and the mounting position of the pusher 3 on the plate 5 is determined. .

【0021】プッシャー3の吊りボルト4が貫通する穴
は、吊りボルト4の直径に対し0.5mm程度大きい径
にする。
The diameter of the hole through which the suspension bolt 4 of the pusher 3 penetrates is set to be larger than the diameter of the suspension bolt 4 by about 0.5 mm.

【0022】鋼球1とばね受け8及びプッシャー3との
接触部は凹形状になっており、この凹形状により定めら
れる鋼球1の位置が、ばね受け8、プッシャー3の中心
に位置するようにする。すなわちプッシャー3の平面形
状(図1を上から視た形状)において、ばね受け2及び
プッシャー3の中心(中心部分)に鋼球1及びばね部材
2が位置するようにする。
The contact portion between the steel ball 1 and the spring receiver 8 and the pusher 3 is concave, and the position of the steel ball 1 determined by the concave shape is located at the center of the spring receiver 8 and the pusher 3. To That is, the steel ball 1 and the spring member 2 are positioned at the center (central portion) of the spring receiver 2 and the pusher 3 in the planar shape of the pusher 3 (shape as viewed from above in FIG. 1).

【0023】プッシャー3の先端中心には、半導体装置
を真空吸着し搬送するための、吸着パッド10を取り付
け、この吸着パッド10を真空引き11することにより
半導体装置が吸着される。
At the center of the distal end of the pusher 3, a suction pad 10 for vacuum-suctioning and transporting the semiconductor device is attached, and the semiconductor device is sucked by evacuating the suction pad 10.

【0024】次に図2を参照して、図1のコンタクト機
構をコンタクタに適用した半導体装置の検査方法の動作
について説明する。
Next, referring to FIG. 2, the operation of the semiconductor device inspection method in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a contactor will be described.

【0025】本発明の特徴を容易に説明するために図2
では、プレート5を基準とすると、プレート5に対して
測定基板7、コンタクタ9及び半導体装置6が図で右上
に傾いている場合を示している。
FIG. 2 is a diagram illustrating the features of the present invention.
Here, when the plate 5 is used as a reference, the case where the measurement substrate 7, the contactor 9, and the semiconductor device 6 are inclined to the upper right in the figure with respect to the plate 5 is shown.

【0026】この電気的特性査工程では、吸着パッド1
0により吸着されて搬送されてきた半導体装置6のパッ
ケージの一面(図で下面)側に形成された突起電極6a
をコンタクタ9の電極パッドにそれぞれ接触させ、測定
基板7を介して電気的信号を外部に接続された測定器に
伝える。
In this electrical characteristic inspection step, the suction pad 1
The protruding electrode 6a formed on one surface (lower surface in the figure) of the package of the semiconductor device 6 sucked and transported by the semiconductor device 6
Are brought into contact with the electrode pads of the contactor 9, respectively, and an electric signal is transmitted to a measuring instrument connected to the outside via the measuring board 7.

【0027】従って、安定した電気的特性検査を行うた
めには、半導体装置6をコンタクタ9に押し付け接触さ
せるための単位面積荷重を、均一かつ高精度にすること
が重要であるが、測定基板7は一般的にガラスエポキシ
材で製作されており、加工精度、強度の点から、半導体
製造装置に平衡に設置することができず、均一な単位面
積荷重を加えることは従来技術では困難であった。
Therefore, in order to perform a stable electrical characteristic test, it is important that the unit area load for pressing and contacting the semiconductor device 6 against the contactor 9 is made uniform and highly accurate. Is generally made of a glass epoxy material, and cannot be installed in a semiconductor manufacturing apparatus in equilibrium from the viewpoint of processing accuracy and strength, and it is difficult to apply a uniform unit area load with the conventional technology. .

【0028】しかしながら本発明では次に動作を説明す
るように、均一な単位面積荷重を加えることが可能にな
る。
However, according to the present invention, a uniform unit area load can be applied as will be described below.

【0029】すなわち、加圧方向12の加重によりプレ
ート5を押し下げると、プッシャー3は半導体装置6の
他面(図で上面)に接触する。さらに2mm程度押し下
げると吊りボルト4とプッシャー3の接触面が離れ、ば
ね2の荷重はばね受け8および鋼球1を介してプッシャ
ー3に加わり、半導体装置6をコンタクタ9に押し付け
る。
That is, when the plate 5 is pressed down by the load in the pressing direction 12, the pusher 3 comes into contact with the other surface (the upper surface in the figure) of the semiconductor device 6. When the pusher 3 is further pushed down by about 2 mm, the contact surface between the suspension bolt 4 and the pusher 3 is separated, and the load of the spring 2 is applied to the pusher 3 via the spring receiver 8 and the steel ball 1, thereby pressing the semiconductor device 6 against the contactor 9.

【0030】この時、プッシャー3は鋼球1を支点にし
て傾き、半導体装置6とプッシャー3の接触面は平衡に
接触しするが、ばね2は垂線方向に均一に収縮し、荷重
を均一に半導体装置6に加えることが可能となる。
At this time, the pusher 3 tilts with the steel ball 1 as a fulcrum, and the contact surfaces of the semiconductor device 6 and the pusher 3 come into equilibrium contact, but the spring 2 contracts uniformly in the perpendicular direction and uniformly applies the load. It can be added to the semiconductor device 6.

【0031】ばね部材2は、コンタクタ9の定格荷重と
同等の荷重を発生するものを使用し、ばね乗数を100
g/mm程度とすることにより、一般的な半導体装置6
やコンタクタ9の外形寸法のばらつきである0.2mm
程度にプッシャー3の押し付け位置が変化しても、20
g程度の荷重変化に抑えることができる。
The spring member 2 generates a load equivalent to the rated load of the contactor 9 and has a spring multiplier of 100.
g / mm, the general semiconductor device 6
0.2 mm, which is the variation in the outer dimensions of the contactor 9
Even if the pressing position of the pusher 3 changes to
The load change can be suppressed to about g.

【0032】この20gの荷重変化量は、外部端子数1
00Pinの半導体装置では、1Pin当たりの荷重変
化量としては0.2gと微少であり、一般的な半導体装
置のコンタクタに対する接触荷重30〜40gに対して
十分高精度な荷重を得ることができる。
The amount of load change of 20 g is the number of external terminals 1
In the case of a semiconductor device of 00 Pin, the amount of load change per Pin is as small as 0.2 g, and a sufficiently high-precision load can be obtained with respect to a contact load of 30 to 40 g on a contactor of a general semiconductor device.

【0033】以上説明したように、本発明のコンタクト
機構は半導体装置6とプッシャー3の接触面の中心に鋼
球1を配置し、ばね2の荷重を加えることにより、プッ
シャー3が鋼球1を支点に半導体装置6に対し平衡に接
触することが可能となり、コンタクタや測定基板安定し
た電気的特性検査を可能にするものである。
As described above, the contact mechanism of the present invention arranges the steel ball 1 at the center of the contact surface between the semiconductor device 6 and the pusher 3 and applies the load of the spring 2 so that the pusher 3 This makes it possible to make equilibrium contact with the fulcrum against the semiconductor device 6, thereby enabling stable electrical characteristic inspection of the contactor and the measurement substrate.

【0034】次に図3を参照して、図1のコンタクト機
構を導電パターンを有する測定基板に適用した半導体装
置の検査方法の動作について説明する。
Next, with reference to FIG. 3, an operation of a semiconductor device inspection method in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a measurement substrate having a conductive pattern will be described.

【0035】先の図2の例では本発明を1つの半導体装
置に適応したが、異なる形状の半導体装置、測定基板に
ついても容易に適応することができる。その構成を図3
に示す。尚、図3において図1及び図2と同一もしくは
類似の箇所は同じ符号を付してあるから重複する説明は
省略する。
In the example shown in FIG. 2, the present invention is applied to one semiconductor device. However, the present invention can be easily applied to semiconductor devices having different shapes and measurement substrates. Fig. 3 shows the configuration.
Shown in Note that, in FIG. 3, the same or similar portions as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and thus the duplicate description will be omitted.

【0036】図3の測定基板7の上面には測定すべきI
C6のパッケージの側面から導出しているリードに対応
する導体パターン16が形成されており、測定基板上面
の導体パターン16は下面の測定電極17にそれぞれ引
き出され、それぞれの測定電極17に測定配線18が接
続されて測定器に電気的に接続される。
On the upper surface of the measurement substrate 7 shown in FIG.
The conductor pattern 16 corresponding to the lead extending from the side surface of the package of C6 is formed, and the conductor pattern 16 on the upper surface of the measurement board is drawn out to the measurement electrode 17 on the lower surface, and the measurement wiring 18 is connected to each measurement electrode 17. Is connected and electrically connected to the measuring instrument.

【0037】このような場合、プッシャー3の先端形状
を変更するだけで異なる形状の半導体装置6に対応する
ことができ、図2の動作で説明したように本発明のコン
タクト機構を用いることにより、このようなコンタクタ
がなく測定基板に直接接触する場合でも平衡に均一に荷
重を与えることが可能である。
In such a case, it is possible to cope with a semiconductor device 6 having a different shape only by changing the shape of the tip of the pusher 3, and by using the contact mechanism of the present invention as described in the operation of FIG. Even in the case where there is no such a contactor and the sample comes into direct contact with the measurement substrate, it is possible to uniformly apply a load to the balance.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1の効
果は、本発明のコンタクト機構を用いることにより半導
体装置を平衡に均一にコンタクタ、あるいは直接測定基
板に接触することができる点である。
As described above, the first effect of the present invention is that the semiconductor device can be brought into equilibrium and uniform contact with a contactor or a measurement substrate directly by using the contact mechanism of the present invention. is there.

【0039】第2の効果は、コンタクタへ接触する時の
荷重精度を向上することができる点である。その理由
は、鋼球を支点にコンタクタに平衡に傾くプッシャーと
ばねにより安定した接触荷重を加えるばねを備えている
ことである。
The second effect is that the load accuracy when contacting the contactor can be improved. The reason is that a steel ball is used as a fulcrum to provide a pusher that tilts in equilibrium to the contactor and a spring that applies a stable contact load by a spring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態のコンタクト機構を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a contact mechanism according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のコンタクト機構をコンタクタに適用した
半導体装置の検査方法の本発明の実施の形態を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of the present invention of a method for inspecting a semiconductor device in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a contactor;

【図3】図1のコンタクト機構を測定基板に適用した半
導体装置の検査方法の本発明の他の実施の形態を示す断
面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the present invention of a method for inspecting a semiconductor device in which the contact mechanism of FIG. 1 is applied to a measurement substrate.

【図4】従来技術を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional technique.

【図5】他の従来技術を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing another conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 鋼球 2 ばね部材 3 プッシャー 4 吊りボルト 5 プレート 6 半導体装置 6a 半導体装置の突起電極 7 測定基板 8 ばね受け 9 コンタクタ 10 吸着パッド 11 真空引き 12 加圧方向 16 導体パターン 17 測定電極 18 測定配線 21 支持部 22 IC 23 支柱 24 先端が球状の支点部 25 支持台 26 導体パターン 27 測定電極 28 測定配線 29 測定基板 31 ばね 32 プッシャ 33 加圧方向 40 基台 41 試験片受台 41a、41b 試験片受台の凹部 42、43 押しピン 44 上部荷重治具 44a、44b 上部荷重治具の加重作用支点 44c 上部荷重治具の凹部 45 ボール 46 荷重作用棒 46a 加重作用棒の凹部 47、48 弾性体 49 試験片 50 加圧方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Steel ball 2 Spring member 3 Pusher 4 Hanging bolt 5 Plate 6 Semiconductor device 6a Protrusion electrode of semiconductor device 7 Measurement board 8 Spring receiver 9 Contactor 10 Suction pad 11 Vacuum evacuation 12 Pressure direction 16 Conductor pattern 17 Measurement electrode 18 Measurement wiring 21 Supporting part 22 IC 23 Supporting column 24 Supporting point with spherical tip 25 Supporting base 26 Conductor pattern 27 Measurement electrode 28 Measurement wiring 29 Measurement board 31 Spring 32 Pusher 33 Pressing direction 40 Base 41 Test specimen receiving base 41a, 41b Test specimen receiving Table recesses 42, 43 Push pin 44 Upper load jig 44a, 44b Weight support fulcrum of upper load jig 44c Recess of upper load jig 45 Ball 46 Load acting rod 46a Recess of load acting rod 47, 48 Elastic body 49 Test Piece 50 Pressing direction

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プッシャーと、前記プッシャーに当接す
るボールと、前記ボールに当接するばね部材と、前記ば
ね部材に加圧する加圧手段とを具備し、前記加圧手段に
より前記ボールを介して前記プッシャーにばね荷重を伝
えることを特徴とするコンタクト機構。
1. A pusher, a ball in contact with the pusher, a spring member in contact with the ball, and pressurizing means for pressing the spring member, the pressurizing means interposing the ball through the ball A contact mechanism that transmits the spring load to the pusher.
【請求項2】 前記ボール及び前記ばね部材は前記プッ
シャーの中心部分に位置していることを特徴とする請求
項1記載のコンタクト機構。
2. The contact mechanism according to claim 1, wherein said ball and said spring member are located at a central portion of said pusher.
【請求項3】 前記ボールは鋼球であることを特徴とす
る請求項1記載のコンタクト機構。
3. The contact mechanism according to claim 1, wherein said ball is a steel ball.
【請求項4】 前記プッシャーにより電気測定基板上の
半導体装置のパッケージの面に荷重を加えることを特徴
とする請求項1記載のコンタクト機構。
4. The contact mechanism according to claim 1, wherein a load is applied to the surface of the package of the semiconductor device on the electric measurement substrate by the pusher.
【請求項5】 前記プッシャーにより電気測定基板上の
半導体装置のリードに荷重を加えることを特徴とする請
求項1記載のコンタクト機構。
5. The contact mechanism according to claim 1, wherein a load is applied to a lead of the semiconductor device on the electric measurement board by the pusher.
【請求項6】 半導体装置のパッケージの一面に設けら
れた電極を測定基板のコンタクタに接触させ、前記パッ
ケージの他面に荷重を加えて前記半導体装置の電気的特
性を検査する方法において、プッシャーと、前記プッシ
ャーに当接するボールと、前記ボールに当接するばね部
材と、前記ばね部材に加圧する加圧手段とを具備し、前
記加圧手段により前記ボールを介して前記プッシャーに
ばね荷重を伝えるコンタクト機構を用意し、前記プッシ
ャーに加えられる前記ばね荷重を前記パッケージの他面
に加えることを特徴とする半導体装置の検査方法。
6. A method of testing an electrical characteristic of a semiconductor device by contacting an electrode provided on one surface of a package of a semiconductor device with a contactor of a measurement substrate and applying a load to the other surface of the package. A contact that includes a ball that contacts the pusher, a spring member that contacts the ball, and a pressing unit that presses the spring member, and that transmits a spring load to the pusher via the ball by the pressing unit. A method for testing a semiconductor device, comprising preparing a mechanism and applying the spring load applied to the pusher to the other surface of the package.
【請求項7】 半導体装置のパッケージのから導出され
たリードを測定基板の導体パターンに接触させ、前記パ
ッケージに荷重を加えて前記半導体装置の電気的特性を
検査する方法において、プッシャーと、前記プッシャー
に当接するボールと、前記ボールに当接するばね部材
と、前記ばね部材に加圧する加圧手段とを具備し、前記
加圧手段により前記ボールを介して前記プッシャーにば
ね荷重を伝えるコンタクト機構を用意し、前記プッシャ
ーに加えられる前記ばね荷重を前記リードに加えること
を特徴とする半導体装置の検査方法。
7. A method for inspecting electrical characteristics of a semiconductor device by applying a lead to a lead of a package of a semiconductor device to a conductor pattern of a measurement substrate and applying a load to the package. A contact mechanism for transmitting a spring load to the pusher via the ball by the pressing means, comprising: a ball that abuts the ball; a spring member that abuts the ball; and a pressing unit that presses the spring member. And applying the spring load applied to the pusher to the lead.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009158362A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Enplas Corp Socket for electric component
US8981804B2 (en) 2011-10-06 2015-03-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Contact apparatus and semiconductor test equipment using the same
KR20200099659A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 피닉슨컨트롤스 주식회사 Probe device of floating structure

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009158362A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Enplas Corp Socket for electric component
US8981804B2 (en) 2011-10-06 2015-03-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Contact apparatus and semiconductor test equipment using the same
KR101830284B1 (en) 2011-10-06 2018-02-21 삼성전자주식회사 Contact apparatus and equipment for testing semiconductor device using it
KR20200099659A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 피닉슨컨트롤스 주식회사 Probe device of floating structure
KR102158735B1 (en) 2019-02-15 2020-09-22 피닉슨컨트롤스 주식회사 Probe device of floating structure

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