JP2002220525A - Optical polymer sheet and display element substrate produced using the sheet - Google Patents

Optical polymer sheet and display element substrate produced using the sheet

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JP2002220525A
JP2002220525A JP2001015793A JP2001015793A JP2002220525A JP 2002220525 A JP2002220525 A JP 2002220525A JP 2001015793 A JP2001015793 A JP 2001015793A JP 2001015793 A JP2001015793 A JP 2001015793A JP 2002220525 A JP2002220525 A JP 2002220525A
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JP
Japan
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sheet
polymer sheet
optical polymer
resistance
liquid crystal
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Withdrawn
Application number
JP2001015793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sadafumi Furukawa
禎史 古川
Sumio Shibahara
澄夫 柴原
Yutaka Matsuda
豊 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical polymer sheet which can be applied to a liquid crystal element substrate or the like, has good transparency, heat resistance, solvent resistance and liquid crystal resistance, and has excellent adhesivity to inorganic films. SOLUTION: This optical polymer sheet comprises 99 to 70 pts.wt. of a dicyclopentadiene skeleton-having monomer represented by the general formula (1) [X1 and X2 are each a group of formula (3) or a group of formula (4)] and 1 to 30 pts.wt. of a polycarbonate resin which contains repeating units represented by the general formula (2) (R1, R2, R3 and R4 are each H, a 1 to 7C alkyl or an aralkyl, and may be identical or different each other) and is not dissolved in dimethyl sulfoxide (DMSO), when heated at 60 deg.C for 1 hr.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明性、耐熱性、
耐溶剤性、耐液晶性に優れた樹脂組成物及び該樹脂組成
物を硬化した光学用高分子シート、薄膜トランジスタ表
示素子用基板に関するものであり、本発明の樹脂組成物
は例えば、透明板、光学レンズ、光ディスク基板、光導
波路、プラスチック液晶基板、プラスチックカラーフィ
ルタ、プラスチック太陽電池基板、タッチパネル、光学
素子等に好適に利用できる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to transparency, heat resistance,
The present invention relates to a resin composition having excellent solvent resistance and liquid crystal resistance, a polymer sheet for an optical material obtained by curing the resin composition, and a substrate for a thin film transistor display element. It can be suitably used for lenses, optical disk substrates, optical waveguides, plastic liquid crystal substrates, plastic color filters, plastic solar cell substrates, touch panels, optical elements, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶,プラズマディスプレイ,エレクト
ロルミネッセンス(EL),蛍光表示管,発光ダイオ−
ド等のディスプレイ基材としてはガラス板が多く用いら
れている。しかし、大面積化を考えた場合、割れ易い、
曲げられない、比重が大きく軽量化に不向き等の問題か
ら、近年、ガラス板の代わりにプラスチック素材を用い
る試みが数多く行われるようになってきた。これらのプ
ラスチック素材は、ガラス板に比べ耐溶剤性、耐液晶
性、耐熱性等に劣るため、種々の無機及び/又は有機質
バリヤー層を設けることでこれらの欠点を補う試みがな
されている。しかし、特にTFT液晶表示基板の製造工
程においては、例えばTN、STNなどの液晶表示基板
とは異なり、レジストの除去に使用されるジメチルスル
ホキシド(以下、DMSOと略す)およびフォトリソグ
ラフィーの現像液である水酸化テトラメチルアンモニウ
ム(以下、TMAHと略す)に対する耐性が必要であ
り、さらに表示素子に用いられる液晶ミクスチャー自体
に対しても耐性が必要とされ、特にTFT液晶表示基板
に適するプラスチック素材がなかった。
2. Description of the Related Art Liquid crystals, plasma displays, electroluminescence (EL), fluorescent display tubes, light emitting diodes
A glass plate is often used as a display substrate such as a glass substrate. However, considering a large area, it is easy to crack,
In recent years, many attempts have been made to use a plastic material instead of a glass plate due to problems such as being unbendable, having a large specific gravity, and being unsuitable for weight reduction. These plastic materials are inferior to the glass plate in solvent resistance, liquid crystal resistance, heat resistance, and the like. Therefore, attempts have been made to compensate for these disadvantages by providing various inorganic and / or organic barrier layers. However, especially in the manufacturing process of a TFT liquid crystal display substrate, unlike a liquid crystal display substrate such as TN or STN, dimethyl sulfoxide (hereinafter abbreviated as DMSO) used for removing a resist and a developer for photolithography are used. It must have resistance to tetramethylammonium hydroxide (hereinafter abbreviated as TMAH) and also to liquid crystal mixture itself used for a display element, and there is no plastic material suitable for a TFT liquid crystal display substrate. .

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、液晶表示素子基板等に適用可能な透明性、
耐熱性、耐溶剤性、耐液晶性を兼ね備え、ガス・水蒸気
不透過性バリアや透明電極等の無機膜との密着性に優れ
た光学用高分子シートを提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to improve the transparency applicable to a liquid crystal display element substrate and the like.
An object of the present invention is to provide an optical polymer sheet having heat resistance, solvent resistance, and liquid crystal resistance, and having excellent adhesion to an inorganic film such as a gas / water vapor impermeable barrier and a transparent electrode.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、多官能ア
クリレート又は多官能メタクリレートモノマーを架橋さ
せて得られる透明プラスチックシートが耐溶剤性、耐液
晶性、耐熱性等にすぐれ、これらの用途に適することを
見いだし、さらに耐溶剤性を持つをポリカーボネート樹
脂と共重合させることで無機膜との密着性に優れた特性
も付与させることができた。すなわち本発明は、(1)
下記一般式(1)で示されるジシクロペンタジエン骨
格を有するモノマー99〜70重量部と、下記一般式
(2)で示される繰り返し単位を含み、ジメチルスルホ
キシド(DMSO)中60℃で1時間加熱しても溶解し
ないポリカーボネート樹脂1〜30重量部からなる光学
用高分子シート、
Means for Solving the Problems The present inventors have found that a transparent plastic sheet obtained by crosslinking a polyfunctional acrylate or polyfunctional methacrylate monomer is excellent in solvent resistance, liquid crystal resistance, heat resistance, etc. In addition, it was found that by co-polymerizing a solvent having solvent resistance with a polycarbonate resin, it was possible to impart properties excellent in adhesion to an inorganic film. That is, the present invention provides (1)
It contains 99 to 70 parts by weight of a monomer having a dicyclopentadiene skeleton represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2), and is heated at 60 ° C. for 1 hour in dimethyl sulfoxide (DMSO). An optical polymer sheet comprising 1 to 30 parts by weight of a polycarbonate resin which does not dissolve even

【0005】[0005]

【化3】 Embedded image

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】(2) 有機過酸化物、電子線、紫外線か
ら選ばれた一種以上の架橋方法で架橋処理された請求項
1記載の光学用高分子シート、(3) 請求項1又は2
記載の光学用高分子シートを使用してなる表示素子用基
板、(4) 請求項1又は2記載の光学用高分子シート
を使用してなる薄膜トランジスタ表示素子用基板であ
る。
(2) The polymer sheet for optical use according to claim 1, which has been crosslinked by one or more crosslinking methods selected from organic peroxides, electron beams and ultraviolet rays.
A substrate for a display element using the optical polymer sheet according to any one of claims 1 to 4, and (4) a substrate for a thin film transistor display element using the optical polymer sheet according to claim 1 or 2.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明のポリカーボネート樹脂
は、原料のビスフェノールとして、一般式(3)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polycarbonate resin of the present invention has the general formula (3)

【0009】[0009]

【化5】 Embedded image

【0010】で表されるビスフェノール(c)が用いら
れる。ここで一般式(3)で表されるビスフェノール
(c)としては、様々なものが適用できる。具体的な例
としては、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フ
ルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ
−3、5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレ
ン、などが挙げられる。これらの中でも9,9−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが特に好まし
い。これらのビスフェノールは、単独で用いてもよく、
また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The bisphenol (c) represented by the following formula is used. Here, various bisphenols (c) represented by the general formula (3) can be applied. Specific examples include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5 -Dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) fluorene, and the like. Among these, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene is particularly preferred. These bisphenols may be used alone,
Also, two or more kinds may be used in combination.

【0011】本発明のポリカーボネート樹脂は、前記一
般式(3)で示されたビスフェノール(c)と他のビス
フェノールとの共重合体であってもよい。他のビスフェ
ノールとしては、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン[通称ビスフェノールF]、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン[通称ビスフェノールA]、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
4,4−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン[通称ビスフェノール
S]、4,4−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
4,4−ジヒドロキシビフェノールなどが挙げられる。
また、本発明のポリカーボネート樹脂は、架橋性を良く
するために、不飽和基を含有していても良い。不飽和基
を含有したポリカーボネート樹脂としては、末端に不飽
和基を付加したもの、不飽和基を含有するビスフェノー
ルと共重合したものなどが挙げられる。末端の不飽和基
としては、アリル基、アクリル基、メタクリル基、マレ
イミド基などが例示できる。不飽和基を含有するビスフ
ェノールとしては、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタン(通称ジアリルビスフェノールF)、
1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
エタン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(通称ジアリルビスフェノールA)、
ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン(通称ジアリルビスフェノールS)、ビス(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、3、3−
ジアリル−4、4−ヒドロキシビフェノールなどが例示
できる。
The polycarbonate resin of the present invention may be a copolymer of bisphenol (c) represented by the general formula (3) and another bisphenol. Other bisphenols include bis (4-hydroxyphenyl) methane [commonly known as bisphenol F], 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [commonly known as bisphenol A] , 1,
1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane,
4,4-dihydroxydiphenyl ether, 4,4-dihydroxydiphenylsulfone [commonly known as bisphenol S], 4,4-dihydroxydiphenylsulfide,
4,4-dihydroxybiphenol and the like.
Further, the polycarbonate resin of the present invention may contain an unsaturated group in order to improve crosslinkability. Examples of the polycarbonate resin containing an unsaturated group include those having an unsaturated group added to the terminal and those copolymerized with bisphenol containing an unsaturated group. Examples of the terminal unsaturated group include an allyl group, an acryl group, a methacryl group, and a maleimide group. Examples of bisphenols containing an unsaturated group include bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) methane (commonly called diallyl bisphenol F),
1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl)
Ethane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane (commonly called diallylbisphenol A),
Bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfone (commonly called diallylbisphenol S), bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, 3,3-
Diallyl-4, 4-hydroxybiphenol and the like can be exemplified.

【0012】本発明のポリカーボネート樹脂は、通常の
ポリカーボネートの製造において慣用されている方法、
例えば、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を使用する界面
重縮合法及びエステル交換法(エステル交換法)を用い
て合成することができる。これらの中では、界面重縮合
法が好ましい。ホスゲンまたはホスゲン誘導体を用いる
界面重縮合法としては、例えば、ビスフェノール(c)
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液と不活性有機溶
剤との混合液に、ホスゲンまたはホスゲン誘導体を導入
して反応させる方法、あるいは予めビスフェノール
(c)のポリカーボネートオリゴマーをビスフェノール
(c)とホスゲンまたはホスゲン誘導体から合成してお
き、これらの不活性有機溶媒と、ビスフェノール(c)
を所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを反応させる
方法などを挙げることができる。前記ホスゲン誘導体と
しては、ホスゲンをはじめトリホスゲン、ブロモホスゲ
ン、ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)カーボネ
ート、ギ酸トリクロロメチルなどが挙げられる。これら
中ではホスゲンまたはトリホスゲンが特に好ましい。
The polycarbonate resin of the present invention can be produced by a method commonly used in the production of ordinary polycarbonates,
For example, it can be synthesized using an interfacial polycondensation method using phosgene or a phosgene derivative and a transesterification method (transesterification method). Among these, the interfacial polycondensation method is preferred. As an interfacial polycondensation method using phosgene or a phosgene derivative, for example, bisphenol (c)
Phosgene or a phosgene derivative is introduced into a mixed solution of an alkaline aqueous solution containing a predetermined ratio of phenol and phosgene or phosgene, or a polycarbonate oligomer of bisphenol (c) is previously reacted with bisphenol (c) Derivatives are synthesized beforehand, and these inert organic solvents and bisphenol (c)
And a method of reacting with an alkaline aqueous solution containing a predetermined ratio of Examples of the phosgene derivative include phosgene, triphosgene, bromophosgene, bis (2,4,6-trichlorophenyl) carbonate, and trichloromethyl formate. Of these, phosgene or triphosgene is particularly preferred.

【0013】本発明のポリカーボネート樹脂の数平均分
子量は5千〜20万であることが好ましく、1万〜15
万であることがより好ましく、1万5千〜10万である
ことが最も好ましい。数平均分子量が低いと、重合物が
脆くなる傾向にあり、高すぎると粘度が高くなり、成形
性が悪くなる傾向にある。
The number average molecular weight of the polycarbonate resin of the present invention is preferably 5,000 to 200,000, and 10,000 to 15
It is more preferably 10,000, and most preferably 15,000 to 100,000. If the number average molecular weight is low, the polymer tends to be brittle, and if it is too high, the viscosity tends to be high and moldability tends to be poor.

【0014】本発明のジシクロペンタジエン骨格を有す
るモノマーは、一般式(1)で示される構造を持つもの
で、 X1,X2の各々はメチレンオキサイド変性のアク
リロイル基又はメタクリロイル基であればよく、これら
の中では、メチレンオキサイド変性のアクリロイル基
(−CH2OCOCHCH2)が好ましい。
The monomer having a dicyclopentadiene skeleton according to the present invention has a structure represented by the general formula (1), and each of X 1 and X 2 may be a methylene oxide-modified acryloyl or methacryloyl group. Of these, a methylene oxide-modified acryloyl group (—CH 2 OCOCHCH 2 ) is preferred.

【0015】本発明で用いるジシクロペンタジエン骨格
を有するモノマー(a)とポリカーボネート樹脂(b)
との割合は、(a)/(b)の重量%で、99/1〜7
0/30であることが好ましく、98/2〜80/20
がより好ましく、97/3〜85/15がさらに好まし
い。(a)の割合が低い場合ではガス・水蒸気透過性を
抑えるための無機膜との密着性が悪くなる傾向にあり、
高すぎると(b)との相溶性が悪くなり、均一にブレン
ドするには、溶剤が必要となる。また、(a)と(b)
とを混合する温度は、60〜130℃が好ましく、70
〜120℃がより好ましく、80〜110℃がさらに好
ましい。温度が低すぎる場合には、相溶性が悪くなり、
逆に高すぎる場合にはモノマーがゲル化することがあ
る。
A monomer (a) having a dicyclopentadiene skeleton used in the present invention and a polycarbonate resin (b)
Is a percentage by weight of (a) / (b), and is 99/1 to 7
0/30, preferably 98/2 to 80/20
Is more preferable, and 97/3 to 85/15 is still more preferable. When the ratio of (a) is low, the adhesion to the inorganic film for suppressing gas / water vapor permeability tends to be poor,
If it is too high, the compatibility with (b) becomes poor, and a solvent is required for uniform blending. (A) and (b)
Is preferably 60 to 130 ° C., and 70 to 130 ° C.
-120 ° C is more preferred, and 80-110 ° C is still more preferred. If the temperature is too low, the compatibility will be poor,
Conversely, if it is too high, the monomer may gel.

【0016】本発明のジシクロペンタジエン骨格を有す
るモノマー(a)とポリカーボネート樹脂(b)とは、
無溶剤でブレンドすることができ、成形時に於ける膜厚
を均一に出来ると共に、溶剤使用時に観られるような表
面の荒れ、溶剤残留によるアウトガスの増加、溶剤が揮
発していく方向に対するモルホロジーの不均一性等の問
題を生じることがない。
The monomer (a) having a dicyclopentadiene skeleton of the present invention and the polycarbonate resin (b) are
It can be blended without solvent, and the film thickness can be made uniform at the time of molding, and the surface roughness as seen when using the solvent, an increase in outgas due to the residual solvent, and a lack of morphology in the direction in which the solvent evaporates. There is no problem such as uniformity.

【0017】ジシクロペンタジエン骨格を有するモノマ
ーとポリカーボネート樹脂の架橋方法は、不飽和基の反
応によって重合させることができる方法であればいかな
る方法でも適用できる。中でも、透明性の点から、有機
過酸化物、電子線、紫外線が好ましく、有機過酸化物を
用いた加熱による架橋が特に好ましい。本発明のポリカ
ーボネート共重合体組成物は、有機過酸化物、電子線、
紫外線等で架橋することにより優れた耐溶剤性を有する
部材となる。部材の成形方法の例としては、直接ロール
又はベルトにキャストする、さらには研磨ガラス等より
なる電子線や紫外線が透過可能な2枚の相対する平板を
用い、スペーサー等によりキャビティーを形成させ、周
辺部をシールしてなる注入型に注入して、電子線又は紫
外線照射、もしくは加熱によって架橋して成形すること
ができる。また、樹脂組成物を押出成形した後、電子線
又は紫外線、もしくは加熱により架橋して成形してもよ
い。
As a method for crosslinking the monomer having a dicyclopentadiene skeleton and the polycarbonate resin, any method can be applied as long as it can be polymerized by the reaction of unsaturated groups. Among them, from the viewpoint of transparency, organic peroxides, electron beams, and ultraviolet rays are preferred, and crosslinking by heating using an organic peroxide is particularly preferred. The polycarbonate copolymer composition of the present invention is an organic peroxide, an electron beam,
A member having excellent solvent resistance can be obtained by crosslinking with ultraviolet light or the like. As an example of a method of forming the member, directly cast on a roll or a belt, and further, using two opposed flat plates that can transmit an electron beam or ultraviolet light made of polished glass or the like, form a cavity with a spacer or the like, The resin can be injected into an injection mold having a peripheral portion sealed, cross-linked by irradiation with an electron beam or ultraviolet light, or heated to be molded. Alternatively, after the resin composition is extruded, the resin composition may be cross-linked by electron beam, ultraviolet light, or heating to be molded.

【0018】(有機過酸化物架橋)有機過酸化物による
架橋は、不飽和ポリエステル等で適用されている通常の
有機過酸化物による架橋方法をそのまま適用できる。本
発明で使用される有機過酸化物としては、ジアルキルパ
ーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロパーオ
キサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル
など公知のものを用いることができる。具体的には、ジ
クミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパ
ーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル
−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、
2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−
トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2
−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソプ
ロピルモノカーボネートなどが挙げられる。
(Crosslinking of Organic Peroxide) Crosslinking with an organic peroxide can be directly applied to the usual crosslinking method with an organic peroxide applied to unsaturated polyesters and the like. As the organic peroxide used in the present invention, known compounds such as dialkyl peroxide, acyl peroxide, hydroperoxide, ketone peroxide and peroxyester can be used. Specifically, dicumyl peroxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane,
2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, di-t-hexyl peroxide,
1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-
Trimethylcyclohexane, t-butylperoxy-2
-Ethylhexanoate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and the like.

【0019】有機過酸化物の配合量は、(a)+(b)
の100重量部に対して、0.1〜10重量部が好まし
く、0.3〜5重量部がさらに好ましい。有機過酸化物
の配合量が少ないと、充分な架橋が得られず耐溶剤性に
劣る傾向にあり、多すぎると架橋品の外観が悪化する傾
向にある。
The compounding amount of the organic peroxide is (a) + (b)
0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.3 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of If the amount of the organic peroxide is too small, sufficient crosslinking cannot be obtained and the solvent resistance tends to be poor. If the amount is too large, the appearance of the crosslinked product tends to deteriorate.

【0020】(電子線による架橋)本発明のポリカーボ
ネート樹脂組成物は、電子線などの放射線によっても架
橋できる。電子線の照射量は、100kGy〜2000
kGyの範囲が好ましく、500kGy〜1500kG
yの範囲がさらに好ましいが、この範囲を外れても得ら
れる架橋物の性質が目的範囲を外れない限り特に問題は
ない。放射線としては、種々の電子線加速器からの電子
線が好ましいが、放射性同位元素からのα線、β線、γ
線などの放射線も用いることができる。
(Crosslinking by Electron Beam) The polycarbonate resin composition of the present invention can be crosslinked by radiation such as an electron beam. The irradiation amount of the electron beam is 100 kGy to 2000
The range of kGy is preferable, and 500 kGy to 1500 kG
The range of y is more preferable, but there is no particular problem if the properties of the obtained crosslinked product do not deviate from the intended range. As the radiation, electron beams from various electron beam accelerators are preferable, but α-rays, β-rays, γ-rays from radioisotopes are preferable.
Radiation such as radiation can also be used.

【0021】(紫外線による架橋)本発明のポリカーボ
ネート樹脂組成物は、光重合開始剤を添加し、紫外線で
も架橋することができる。光重合開始剤としては、例え
ばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどが挙
げられる。これらの光重合開始剤は2種以上を併用して
もよい。
(Crosslinking by Ultraviolet Light) The polycarbonate resin composition of the present invention can be crosslinked by ultraviolet light by adding a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethyl Benzoyldiphenylphosphine oxide and the like. Two or more of these photopolymerization initiators may be used in combination.

【0022】光重合開始剤の添加量は、(a)+(b)
の100重量部に対して、0.02〜5重量部が好まし
く、0.05〜1重量部がさらに好ましい。光重合開始
剤の添加量が少ないと十分に架橋できない傾向にあり、
多すぎると色相が悪化する傾向にある。紫外線の照射量
は、光重合開始剤がラジカルを発生する範囲であれば任
意であるが、光重合開始剤の種類や量に合わせて0.1
〜200Jの範囲で照射するのが好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator added is (a) + (b)
The amount is preferably 0.02 to 5 parts by weight, more preferably 0.05 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight. If the amount of the photopolymerization initiator is small, there is a tendency that crosslinking cannot be sufficiently performed,
If it is too large, the hue tends to deteriorate. The irradiation amount of the ultraviolet ray is arbitrary as long as the photopolymerization initiator generates a radical, but may be 0.1 to match the type and amount of the photopolymerization initiator.
It is preferable to irradiate in the range of -200 J.

【0023】本発明では、架橋をすみやかに完了させる
目的で、電子線や紫外線の照射と熱重合を併用してもよ
い。すなわち、電子線や紫外線照射と同時にもしくは照
射後に組成物を30〜300℃に加熱する。この場合、
有機過酸化物を添加してもよい。また、本発明において
電子線もしくは紫外線照射による架橋を行った後、架橋
物を加熱することにより重合反応の完結及び重合時に発
生する内部歪みを低減することも可能である。加熱温度
は、架橋物の組成やガラス転移温度に合わせて適宜選択
するのが好ましい。
In the present invention, thermal polymerization may be used in combination with irradiation of an electron beam or ultraviolet rays for the purpose of promptly completing crosslinking. That is, the composition is heated to 30 to 300 ° C. simultaneously with or after the irradiation with the electron beam or ultraviolet light. in this case,
An organic peroxide may be added. In the present invention, the completion of the polymerization reaction and the internal strain generated during the polymerization can be reduced by heating the crosslinked product after the crosslinking by irradiation with an electron beam or an ultraviolet ray. The heating temperature is preferably selected as appropriate according to the composition of the crosslinked product and the glass transition temperature.

【0024】本発明のポリカーボネート共重合体組成物
には、熱安定性、耐候性、耐久性、耐水性、防蝕性等を
改良するために、前述の成分以外に、紫外線吸収剤、光
安定剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、離型剤、
イオン捕捉剤等の添加剤を加えて一層の性能改善を図る
こともできる。
In order to improve heat stability, weather resistance, durability, water resistance, corrosion resistance and the like, the polycarbonate copolymer composition of the present invention contains, in addition to the above-mentioned components, an ultraviolet absorber and a light stabilizer. , Antioxidants, defoamers, leveling agents, release agents,
Additives such as ion scavengers can be added to further improve performance.

【0025】[0025]

【実施例】以下に本発明を実施例及び比較例によってさ
らに具体的に説明するが、本発明は、これらの例によっ
てなんら制限されるものではない。[ポリカーボネート
樹脂の合成]1Lの4ツ口フラスコ(撹拌装置、環流
管、ガス導入管、滴下ロート付き)中で、1Mの水酸化
ナトリウム水溶液240mlに、ビスフェノールフルオ
レン14.0g、テトラブチルアンモニウムブロミド
0.007gを溶解させ、この溶液に1,2−ジクロロ
エタン200mlを加えた。次に1,2−ジクロロエタ
ン50mlにトリホスゲン4.158gを溶解した液を
1時間かけて滴下し、さらに30分撹拌して反応を行っ
た。反応終了後、有機相を分離し、水で洗浄したのち、
メチルエチルケトン中に投入した。析出物を濾過し、ア
セトンで洗浄し、乾燥させた。その結果、数平均分子量
23,000、ガラス転移温度Tg=281℃のポリカ
ーボネート樹脂を得た。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. [Synthesis of Polycarbonate Resin] In a 1 L four-necked flask (with a stirrer, a reflux tube, a gas introduction tube, and a dropping funnel), 14.0 g of bisphenolfluorene, 04.0 ml of tetrabutylammonium bromide were added to 240 ml of a 1M aqueous sodium hydroxide solution. .007 g was dissolved, and 200 ml of 1,2-dichloroethane was added to the solution. Next, a solution in which 4.158 g of triphosgene was dissolved in 50 ml of 1,2-dichloroethane was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for 30 minutes to carry out a reaction. After the reaction is completed, the organic phase is separated, washed with water,
Poured into methyl ethyl ketone. The precipitate was filtered, washed with acetone and dried. As a result, a polycarbonate resin having a number average molecular weight of 23,000 and a glass transition temperature Tg = 281 ° C. was obtained.

【0026】<実施例1>上記ポリカーボネート樹脂1
g、ジシクロペンタジエニルジアクリレート(東亞合成
(株)製)19gに光重合開始剤としてイルガキュア18
4(チバスペシャリティケミカル製)0.1gを添加し
100℃で20分撹拌混合した後、離型処理したガラス
板上に作成した厚み0.4mmの枠内に注入した。上部
より離型処理したガラスをのせた後、1000mJ/c
2のUV光を照射して硬化させ、ガラスからシートを
剥離し、更にステンレス板上で240℃窒素雰囲気下の
オーブンで3時間熱処理し、厚み0.4mmのシートを
得た。
<Example 1> The above polycarbonate resin 1
g, dicyclopentadienyl diacrylate (Toagosei
Irgacure 18 as a photopolymerization initiator in 19 g
After adding 0.1 g of 4 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) and stirring and mixing at 100 ° C. for 20 minutes, the mixture was poured into a 0.4 mm-thick frame formed on a release-treated glass plate. 1000mJ / c after placing the mold release glass from above
The sheet was cured by irradiating it with UV light of m 2, the sheet was peeled from the glass, and further heat-treated on a stainless steel plate in an oven at 240 ° C. under a nitrogen atmosphere for 3 hours to obtain a sheet having a thickness of 0.4 mm.

【0027】<実施例2>ポリカーボネート樹脂を2
g、ジシクロペンタジエニルジアクリレートを18gに
した以外は実施例1と同様にしてシートを得た。
Example 2 Polycarbonate resin was replaced with 2
g, and a sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of dicyclopentadienyl diacrylate was changed to 18 g.

【0028】<実施例3>ポリカーボネート樹脂1g、
ジシクロペンタジエニルジアクリレートを19gに、有
機過酸化物として0.1gのパーヘキサ25B(四国化
成製)を添加し、100℃で20分撹拌混合した後、離
型処理したガラス板上に作成した厚み0.4mmの枠内
に注入した。上部より離型処理したガラスをのせた後、
110℃窒素雰囲気下のオーブンで3時間硬化させ、ガ
ラスからシートを剥離し、更にステンレス板上で250
℃窒素雰囲気下のオーブンで3時間熱処理し、厚み0.
4mmのシートを得た。
Example 3 1 g of polycarbonate resin,
To 19 g of dicyclopentadienyl diacrylate was added 0.1 g of perhexa 25B (manufactured by Shikoku Chemicals) as an organic peroxide, and the mixture was stirred and mixed at 100 ° C. for 20 minutes, and then formed on a release-treated glass plate. Was injected into a 0.4 mm thick frame. After putting the mold release glass from the top,
Cured in an oven under a nitrogen atmosphere at 110 ° C. for 3 hours, peeled the sheet from the glass, and further cured on a stainless steel plate for 250 hours.
Heat treated in an oven under nitrogen atmosphere for 3 hours.
A 4 mm sheet was obtained.

【0029】<実施例4>ポリカーボネート樹脂1g、
ジシクロペンタジエニルジアクリレートを19gを離型
処理したガラス板上に作成した厚み0.4mmの枠内に
注入した。上部より離型処理したガラスをのせた後、上
部より約500kGyの電子線を照射して硬化させ、ガ
ラスからシートを剥離し、更にステンレス板上で270
℃窒素雰囲気下のオーブンで3時間熱処理し、厚み0.
4mmのシートを得た。
<Example 4> 1 g of a polycarbonate resin,
19 g of dicyclopentadienyl diacrylate was injected into a 0.4 mm thick frame formed on a glass plate subjected to a mold release treatment. After placing the release-treated glass from the upper part, it is cured by irradiating it with an electron beam of about 500 kGy from the upper part, the sheet is peeled from the glass, and then 270 on a stainless steel plate.
Heat treated in an oven under nitrogen atmosphere for 3 hours.
A 4 mm sheet was obtained.

【0030】<比較例1>ポリカーボネート樹脂10g
をクロロホルム30gに溶解した溶液を離型処理したガ
ラス板上にキャストし、窒素雰囲気下のオーブン中で1
00℃で3時間加熱乾燥させてシートを剥離し、更にス
テンレス板上で240℃窒素雰囲気下のオーブンで3時
間熱処理し、厚み0.4mmのシートを得た。
Comparative Example 1 10 g of polycarbonate resin
Was dissolved in 30 g of chloroform, cast on a glass plate subjected to a mold release treatment, and dried in an oven under a nitrogen atmosphere.
The sheet was peeled off by heating and drying at 00 ° C. for 3 hours, and further heat-treated on a stainless steel plate in an oven under a nitrogen atmosphere at 240 ° C. for 3 hours to obtain a sheet having a thickness of 0.4 mm.

【0031】<比較例2>ジシクロペンタジエニルジア
クリレート20gに光重合開始剤としてイルガキュア1
84 0.1gを添加し100℃で20分撹拌混合した
後、離型処理したガラス板上に作成した厚み0.4mm
の枠内に注入した。上部より離型処理したガラスをのせ
た後、1000mJ/cm2のUV光を照射して硬化さ
せ、ガラスからシートを剥離し、更にステンレス板上で
240℃窒素雰囲気下のオーブンで3時間熱処理し、厚
み0.4mmのシートを得た。
Comparative Example 2 Irgacure 1 was added to 20 g of dicyclopentadienyl diacrylate as a photopolymerization initiator.
84 g was added, and the mixture was stirred and mixed at 100 ° C. for 20 minutes.
Was injected into the frame. After placing the release-treated glass from above, it is cured by irradiating with 1000 mJ / cm 2 UV light, the sheet is peeled off from the glass, and further heat-treated on a stainless steel plate at 240 ° C. in an oven under a nitrogen atmosphere for 3 hours. And a sheet having a thickness of 0.4 mm.

【0032】以上のようにして作製したシートについ
て、下記の方法により、色、耐溶剤性(DMSO)、耐
配向剤性、耐液晶性、耐熱性(Tg)、無機膜との密着
性を評価した。
The sheet prepared as described above was evaluated for color, solvent resistance (DMSO), alignment agent resistance, liquid crystal resistance, heat resistance (Tg), and adhesion to the inorganic film by the following methods. did.

【0033】<評価方法> 色: 目視によって外観を観察した。 耐溶剤性: 40℃のジメチルスルホキシド(DM
SO)溶液に試料を浸漬して60分放置。試料を取り出
した後、目視にて外観を観察した。 耐配向剤性: スピンコーター上に試料を設置。そ
の表面にCRD−8201(住友ベークライト製)を滴
下した後 2500rpmでスピンコートを実施。18
0℃60分乾燥処理後、目視にて外観を観察した。 耐液晶性: 基板の表面にメルク社製ZLI−47
92を1滴滴下する。120℃のオーブン内に投入して
60分放置する。試料を取り出した後、目視にて外観を
観察する。 耐熱性(Tg): 粘弾性測定装置 DMS-210(セイコー
インスツルメンツ製)の1Hzでのtanδの最大値をガラス転移点
(Tg)とした。 無機膜との密着性: スパッタにより、無機膜を付
与したシートを210℃×2時間、95℃温水×30分
の処理を2回繰り返した後、無機膜でのクラック発生に
ついて電子顕微鏡(SEM)で観察した。評価結果を表
−1に示す。
<Evaluation Method> Color: The appearance was visually observed. Solvent resistance: 40 ° C. dimethyl sulfoxide (DM
SO) The sample was immersed in the solution and left for 60 minutes. After taking out the sample, the external appearance was visually observed. Alignment agent resistance: A sample is placed on a spin coater. After dropping CRD-8201 (manufactured by Sumitomo Bakelite) on the surface, spin coating was performed at 2500 rpm. 18
After drying at 0 ° C. for 60 minutes, the appearance was visually observed. Liquid crystal resistance: ZLI-47 manufactured by Merck on the surface of the substrate
92 is dropped. Put in an oven at 120 ° C. and leave for 60 minutes. After removing the sample, the external appearance is visually observed. Heat resistance (Tg): The maximum value of tan δ at 1 Hz of a viscoelasticity measuring device DMS-210 (manufactured by Seiko Instruments) was defined as the glass transition point (Tg). Adhesion with Inorganic Film: After repeating the treatment of the sheet provided with the inorganic film by sputtering twice at 210 ° C. × 2 hours and hot water at 95 ° C. × 30 minutes twice, the occurrence of cracks in the inorganic film by an electron microscope (SEM) Was observed. Table 1 shows the evaluation results.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表−1の結果から明らかなように、実施例
1〜4はいずれも従来のビスフェノールフル オレンか
らなるポリカーボネートの欠点であった耐DMSO性及
び耐NMP性が改善さ れ、かつTgが250℃以上の
耐熱性、光線透過率が88%以上の透明性及び耐液晶性
を有した。また、ガス・水蒸気透過性を抑えるための
無機膜を積層してもクラックが入 らず、無機膜との密
着性も良好であった。以上の結果から、本発明の光学用
高分子シー トは、表示素子用基板、特にTFT液晶表
示基板に適したシートであることが明らかに なった。
As is evident from the results in Table 1, Examples 1 to 4 all have improved DMSO resistance and NMP resistance, which are disadvantages of the conventional polycarbonate comprising bisphenolfluorene, and have a Tg. It had heat resistance of 250 ° C. or more, transparency of 88% or more in light transmittance, and liquid crystal resistance. In addition, even when an inorganic film for suppressing gas / water vapor permeability was laminated, cracks did not occur and adhesion to the inorganic film was good. From the above results, it has been clarified that the optical polymer sheet of the present invention is a sheet suitable for a display element substrate, particularly a TFT liquid crystal display substrate.

【0036】<実施例5>実施例1〜4に示す方法によ
りシート状の基材を作製し、酸素及び水蒸気バリヤーと
して酸化ケイ素系の無機層を蒸着した。これを高分子基
板として、特表平10−512104号公報に示す方法
に従って、薄膜トランジスタ(以下TFTと略す)アレ
イを作製した。この作製工程中、レジストの除去溶剤に
DMSOおよびフォトリソグラフィーの現像液にTMA
Hを使用したが、前記高分子基板にふくれ、曇りなどの
変性は見られなかった。また、カラーフィルター基板に
ついても同様のフォトリソグラフィー手法によって作製
した。この時もDMSOおよびTMAHを使用したが、
TFTアレイ同様ふくれ、曇り等の変性は見られなかっ
た。
Example 5 A sheet-like substrate was prepared by the method shown in Examples 1-4, and a silicon oxide-based inorganic layer was deposited as an oxygen and water vapor barrier. Using this as a polymer substrate, a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) array was produced in accordance with the method described in Japanese Patent Application Publication No. 10-512104. During this manufacturing process, DMSO was used as a solvent for removing the resist and TMA was used as a developing solution for photolithography.
Although H was used, no modification such as blistering or clouding was observed on the polymer substrate. Further, a color filter substrate was produced by the same photolithography technique. Again, DMSO and TMAH were used,
As with the TFT array, no denaturation such as blistering or clouding was observed.

【0037】次に、TFT、カラーフィルターの両基板
を洗浄後、配向膜処理を施し、カラーフィルター側にエ
ポキシ接着剤をスクリーン印刷により塗布し、TFT基
板状にスペーサーを散布した後、両者を張り合わせた。
この後、あらかじめ開けられた両基板の隙間から真空注
入法により液晶を注入した。液晶注入法は周知のよう
に、両基板の隙間(開口部)を液晶中に浸漬して圧力差
により注入する方法であり、開口部周囲の基板部分は必
ず液晶中に浸漬される。この操作後も両基板に変性は見
られなかった。以上のように、本発明の光学用高分子シ
ートを表示素子用基板に用いることにより、良好なTF
T液晶セルを得られることが証明された。
Next, after washing both substrates of the TFT and the color filter, an orientation film treatment is performed, an epoxy adhesive is applied to the color filter side by screen printing, a spacer is sprayed on the TFT substrate, and the two are laminated. Was.
Thereafter, liquid crystal was injected from the previously opened gap between the substrates by a vacuum injection method. As is well known, the liquid crystal injection method is a method in which a gap (opening) between both substrates is immersed in liquid crystal and injected by a pressure difference, and a substrate portion around the opening is always immersed in liquid crystal. After this operation, no denaturation was observed on both substrates. As described above, by using the optical polymer sheet of the present invention for a display element substrate, a good TF can be obtained.
It was proved that a T liquid crystal cell could be obtained.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明の光学用高分子シートは、透明
性、耐溶剤性、耐液晶性、耐熱性、無機膜との密着性に
優れ、ガラス基板に代えて液晶表示基板に好適に用いる
ことができ、本発明の光学用高分子シートを用いて作製
した液晶表示装置は良好な性能を示した。
The optical polymer sheet of the present invention is excellent in transparency, solvent resistance, liquid crystal resistance, heat resistance, and adhesion to an inorganic film, and is suitably used for a liquid crystal display substrate instead of a glass substrate. The liquid crystal display device manufactured using the optical polymer sheet of the present invention showed good performance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 5/18 CFD C08J 5/18 CFD G02B 1/04 G02B 1/04 Fターム(参考) 4F071 AA33 AA50 AH19 BA02 BB12 BC01 BC02 4J002 BG04X BG05X CG01W EH076 EK017 EK037 EK047 EK087 FD147 FD206 GP00 4J011 PA89 PC02 PC08 QA18 RA07 RA10 SA06 SA22 SA34 SA61 SA84 UA01 UA03 UA04 VA01 WA01 4J026 AB17 BA28 DB05 DB06 DB13 DB32 DB36 FA05 GA07 GA08 4J029 AA09 AB07 AC01 AD10 AE03 BB12A BB12B GA02 HC01 HC03 HC05B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08J 5/18 CFD C08J 5/18 CFD G02B 1/04 G02B 1/04 F term (Reference) 4F071 AA33 AA50 AH19 BA02 BB12 BC01 BC02 4J002 BG04X BG05X CG01W EH076 EK017 EK037 EK047 EK087 FD147 FD206 GP00 4J011 PA89 PC02 PC08 QA18 RA07 RA10 SA06 SA22 SA34 SA61 SA84 UA01 UA03 UA04 VA01 WA01 4A0 DB07 GA07 BB12A BB12B GA02 HC01 HC03 HC05B

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるジシクロペ
ンタジエン骨格を有するモノマー99〜70重量部、下
記一般式(2)で示される繰り返し単位を含み、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO)中60℃で1時間加熱して
も溶解しないポリカーボネート樹脂1〜30重量部から
なる光学用高分子シート。 【化1】 【化2】
1. A composition comprising 99 to 70 parts by weight of a monomer having a dicyclopentadiene skeleton represented by the following general formula (1), a repeating unit represented by the following general formula (2), and a dimethyl sulfoxide (DMSO) at 60 ° C. An optical polymer sheet comprising 1 to 30 parts by weight of a polycarbonate resin which does not dissolve even when heated for 1 hour. Embedded image Embedded image
【請求項2】有機過酸化物、電子線、紫外線から選ばれ
た一種以上の架橋方法で架橋処理された請求項1記載の
光学用高分子シート。
2. The optical polymer sheet according to claim 1, which has been crosslinked by one or more crosslinking methods selected from organic peroxides, electron beams and ultraviolet rays.
【請求項3】請求項1又は2記載の光学用高分子シート
を使用してなる表示素子用基板。
3. A display element substrate using the optical polymer sheet according to claim 1 or 2.
【請求項4】請求項1又は2記載の光学用高分子シート
を使用してなる薄膜トランジスタ表示素子用基板。
4. A substrate for a thin-film transistor display device, comprising the optical polymer sheet according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115466477A (en) * 2022-09-13 2022-12-13 Oppo广东移动通信有限公司 Optical material, preparation method, lens, camera module and electronic equipment

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