JP2002214600A - Liquid crystal display device and manufacturing method therefor - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method therefor

Info

Publication number
JP2002214600A
JP2002214600A JP2001011170A JP2001011170A JP2002214600A JP 2002214600 A JP2002214600 A JP 2002214600A JP 2001011170 A JP2001011170 A JP 2001011170A JP 2001011170 A JP2001011170 A JP 2001011170A JP 2002214600 A JP2002214600 A JP 2002214600A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
liquid crystal
scattering
reflection
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001011170A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3918436B2 (en
Inventor
Norihiro Arai
則博 荒井
Kunpei Kobayashi
君平 小林
Toshiharu Nishino
利晴 西野
Masayuki Takahashi
政之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP2001011170A priority Critical patent/JP3918436B2/en
Publication of JP2002214600A publication Critical patent/JP2002214600A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3918436B2 publication Critical patent/JP3918436B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device wherein image blur due to parallax is reduced, bright and uniform reflection display quality can be obtained and manufacturing is easy. SOLUTION: A supporting layer 26 the surface of which is accurately formed in a desired rugged shape is provided on the inner surface of a back side substrate 23 of a liquid crystal cell 21 by a transfer method or a printing method. A scattering reflection layer 27 consisting of a reflection layer having a rugged surface following the rugged surface of the supporting layer 26 is provided on the supporting layer 26. That is, the scattering reflection layer 27 is provided with a reflection surface having the desired rugged shape uniformly formed thereon and has both reflection and scattering functions. As a result, the liquid crystal display device wherein image blur due to parallax is reduced and which has bright and uniform reflection display quality can be obtained and easily manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶セル内に散
乱反射層を有する液晶表示装置およびその製造方法に関
し、より詳細には、視差による画像ボケが軽減され、且
つ明るくて均一な反射表示品質が得られると共に製造が
容易な液晶表示装置およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device having a scattering reflection layer in a liquid crystal cell and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a bright and uniform reflective display quality in which image blur due to parallax is reduced. The present invention relates to a liquid crystal display device which can be manufactured and is easy to manufacture, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は従来の反射型の液晶表示装置の
一例の一部の断面図を示したものである。この液晶表示
装置は単純マトリクス型の液晶セル1を備えている。液
晶セル1はガラス基板やフィルム基板等からなる表示面
側基板2および背面側基板3を備えている。表示面側基
板2の内面には信号電極4および配向膜5が設けられて
いる。背面側基板3の内面にはアルミニウム等からなる
反射層6、赤、緑、青のカラーフィルタ要素7、保護膜
8、走査電極9および配向膜10が設けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 11 is a partial sectional view of an example of a conventional reflection type liquid crystal display device. This liquid crystal display device includes a liquid crystal cell 1 of a simple matrix type. The liquid crystal cell 1 includes a display surface side substrate 2 and a back side substrate 3 made of a glass substrate, a film substrate, or the like. A signal electrode 4 and an alignment film 5 are provided on the inner surface of the display surface side substrate 2. A reflective layer 6 made of aluminum or the like, red, green, and blue color filter elements 7, a protective film 8, a scan electrode 9, and an alignment film 10 are provided on the inner surface of the rear substrate 3.

【0003】そして、表示面側基板2と背面側基板3と
はほぼ方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼り合
わされ、シール材の内側における両基板2、3の配向膜
5、10間には液晶11が封入されている。表示面側基
板2の外面には位相差板12が粘着剤層(図示せず)を
介して貼り付けられ、その外面には偏光板13が粘着剤
層(図示せず)を介して貼り付けられ、その外面には散
乱板14が粘着剤層(図示せず)を介して貼り付けられ
ている。
Then, the display surface side substrate 2 and the back side substrate 3 are bonded together via a substantially rectangular frame-shaped sealing material (not shown), and the alignment films 5, 2 of the two substrates 2, 3 inside the sealing material. A liquid crystal 11 is sealed between the 10. A retardation plate 12 is attached to the outer surface of the display surface side substrate 2 via an adhesive layer (not shown), and a polarizing plate 13 is attached to the outer surface thereof via an adhesive layer (not shown). A scattering plate 14 is attached to the outer surface of the scattering plate 14 via an adhesive layer (not shown).

【0004】そして、この液晶表示装置では、散乱板1
4の外面側から入射された外光を散乱板14、偏光板1
3、液晶11、カラーフィルタ要素7等を透過させて反
射層6で反射させ、この反射光をカラーフィルタ要素
7、液晶11、偏光板13、散乱板14等を透過させて
散乱板14の外面側に散乱出射させ、これにより表示を
行う。この場合、反射層6で反射されて液晶11、偏光
板13等を透過した光を散乱板14で散乱させるのは、
鏡面反射を防止し、視認性に優れたペーパーホワイト色
を得るためである。
In this liquid crystal display device, the scattering plate 1
The external light incident from the outer surface side of the light-transmitting plate 4 is
3, the liquid crystal 11, the color filter element 7 and the like are transmitted and reflected by the reflection layer 6, and the reflected light is transmitted through the color filter element 7, the liquid crystal 11, the polarizing plate 13, the scattering plate 14 and the like to form an outer surface of the scattering plate 14. The light is scattered and emitted to the side, thereby displaying. In this case, the light that is reflected by the reflective layer 6 and transmitted through the liquid crystal 11, the polarizing plate 13, and the like is scattered by the scattering plate 14.
This is for preventing specular reflection and obtaining a paper white color excellent in visibility.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような液晶表示装置では、反射層6と散乱板14と
の間に表示面側基板2等があるため、斜めに視角を変え
た際に像が惚ける所謂視差による画像ボケが発生すると
いう問題があった。また、視差による画像ボケを軽減す
るため、散乱板14による散乱量をあまり大きくするこ
とができず、十分なペーパーホワイト色が得られないと
いう問題もあった。この発明の課題は、視差による画像
ボケが軽減され、且つ明るくて均一な視認性に優れた表
示品質が得られると共に製造が容易な液晶表示装置を提
供することである。
However, in such a conventional liquid crystal display device, since the display surface side substrate 2 and the like are provided between the reflection layer 6 and the scattering plate 14, the liquid crystal display device may be obliquely changed in viewing angle. There has been a problem that image blurring due to so-called parallax that the image falls in love occurs. Further, in order to reduce image blur due to parallax, the amount of scattering by the scattering plate 14 cannot be increased so much that there is a problem that a sufficient paper white color cannot be obtained. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device in which image blur due to parallax is reduced, and a bright and uniform display quality with excellent visibility is obtained, and which is easy to manufacture.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、上記課題を解決するため、請求項1に記載のよう
に、表示面側基板と背面側基板との間に液晶を封入して
なる液晶セルの前記背面側基板の内面に、転写または印
刷により形成された凹凸表面を有する支持層と、前記凹
凸表面の上に形成され、前記凹凸表面に追従する凹凸面
に形成された反射面を備える光散乱機能と光反射機能の
双方の機能を備えた散乱反射層を設けたことを特徴とす
るものである。本発明の液晶表示装置においては、請求
項2に記載のように、前記支持層を所定の粒径の粒子を
含有する光学等方性材料で形成することが好ましい。ま
た、請求項3に記載したように、前記散乱反射層を入射
光の一部分を透過させる散乱半透過反射層としてもよ
い。その場合、請求項4記載のように、前記散乱半透過
反射層の前記液晶側に保護層を積層し、該保護層と前記
支持層および前記液晶のうちの少なくとも2つの屈折率
を実質的に同一とすることが好ましい。また、本発明の
他の液晶表示装置は、請求項5に記載のように、表示面
側基板と背面側基板との間に液晶を封入してなる液晶セ
ルの前記背面側基板の内面に、転写または印刷により、
光散乱性粒子を含む光学等方性材料からなる散乱反射層
を形成したことを特徴とするものである。そして、この
本発明の他の液晶表示装置においては、請求項6に記載
のように、前記散乱反射層を入射光の一部分を透過させ
る散乱半透過反射層とし、この散乱半透過反射層と前記
背面側基板との間に反射金属膜を設けることが好まし
い。本発明の液晶表示装置の製造方法は、請求項7に記
載のように、表示面側基板と背面側基板との間に液晶を
封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に、凹凸
表面を有する支持層と、前記凹凸表面に追従する凹凸面
に形成された反射面を備え光散乱機能と光反射機能の双
方の機能を有する散乱反射層が設けられた液晶表示装置
の製造方法であって、前記支持層を形成するための支持
部材層と、後工程での剥離を容易にする境界面を形成す
るための離型層とを、何れか一方の層に所定の粒径の粒
子を含有させてベースフィルム上に順次積層して前記離
型層と前記支持部材層との境界面が前記粒子の粒径に対
応した凹凸面をなす転写フィルムを形成する工程と、前
記転写フィルムの前記支持部材層を前記背面側基板の内
面に圧着した後、前記転写フィルムのうち前記ベースフ
ィルムおよび前記離型層を前記支持部材層から剥離し、
これにより前記背面側基板の内面に凸凹な表面を有する
支持層を転写形成する工程と、前記支持層上に該支持層
の凸凹な表面に追従する凸凹な表面を有する反射層を積
層して前記散乱反射層を形成する工程とを具備したこと
を特徴とするものである。この本発明の液晶表示装置の
製造方法では、請求項8に記載のように、前記転写フィ
ルムの前記離型層に所定の粒径の粒子を含ませることが
好ましい。また、請求項9に記載のように、前記転写フ
ィルムの前記支持部材層に、所定の粒径の粒子を含ませ
てもよい。。更に、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、請求項10に記載のように、表示面側基板と背面
側基板との間に液晶を封入してなる液晶セルの前記背面
側基板の内面に光散乱機能と光反射機能の双方の機能を
有する散乱反射層が設けられた液晶表示装置の製造方法
であって、ベースフィルム上に後工程での剥離を容易に
する境界面を形成するための離型層および前記散乱反射
層を形成するための散乱反射部材層を順次積層して転写
フィルムを形成する工程と、前記転写フィルムの前記散
乱反射部材層を前記背面側基板の内面に圧着した後、前
記転写フィルムのうち前記ベースフィルムおよび前記離
型層を前記散乱反射部材層から剥離し、これにより前記
背面側基板の内面に前記散乱反射層を転写形成する工程
とを、具備したことを特徴とするものである。そして、
請求項1に記載の発明によれば、液晶セルの背面側基板
の内面に、転写または印刷により形成された凹凸表面を
有する支持層上にこの凹凸表面に追従する凹凸反射面を
備えた散乱反射層を設けているので、常に表示領域全面
にわたり凹凸が均一な反射面が得られ、視差による画像
ボケを軽減できると共に、表示領域の全体にわたり均一
に明るくて視認性の良好な高表示品質を安定して得るこ
とができる。また、請求項7に記載の発明によれば、所
定の粒径の粒子を含有させた転写フィルムを液晶セルの
背面側基板の内面に転写して粒子の粒径に基づく凸凹表
面を有する支持層を形成し、その上に反射層を積層して
散乱反射層を形成するから、表示領域全面にわたり凹凸
の大きさが正確に制御された反射面を備える散乱反射層
を容易に形成することができ、表示領域の全体にわたり
均一に明るくて視認性の良好な高表示品質を安定して得
られる液晶表示装置を容易に製造することができる。更
に、請求項10に記載の発明によれば、液晶セルの背面
側基板の内面に散乱反射層を転写形成するから、上述し
た所望の散乱反射機能を備えた散乱反射層を容易に形成
することができる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sealed between a display side substrate and a rear side substrate. A support layer having an uneven surface formed by transfer or printing on the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell; and a reflective surface formed on the uneven surface formed on the uneven surface and following the uneven surface. And a scattering reflection layer having both a light scattering function and a light reflection function. In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the support layer is formed of an optically isotropic material containing particles having a predetermined particle size. Further, as described in claim 3, the scattering reflection layer may be a scattering semi-transmission reflection layer that transmits a part of incident light. In that case, as described in claim 4, a protective layer is laminated on the liquid crystal side of the scattering semi-transmissive reflective layer, and the refractive index of at least two of the protective layer, the support layer, and the liquid crystal is substantially increased. Preferably, they are the same. Further, another liquid crystal display device of the present invention, as described in claim 5, on the inner surface of the rear substrate of a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between a display surface substrate and a rear substrate, By transfer or printing,
A scattering reflection layer made of an optically isotropic material containing light scattering particles is formed. In another liquid crystal display device according to the present invention, as described in claim 6, the scattering / reflecting layer is a scattering / semi-transmitting / reflecting layer that transmits a part of incident light, It is preferable to provide a reflective metal film between the substrate and the rear substrate. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, as described in claim 7, is a method in which liquid crystal is sealed between a display surface side substrate and a back side substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a support layer having a surface; and a reflective surface having a reflective surface formed on an uneven surface following the uneven surface and having both a light scattering function and a light reflective function. A support member layer for forming the support layer, and a release layer for forming a boundary surface for facilitating separation in a later step, a particle having a predetermined particle size in one of the layers. Forming a transfer film in which a boundary surface between the release layer and the support member layer forms an uneven surface corresponding to the particle diameter of the particles by successively laminating the transfer film on the base film; After crimping the support member layer to the inner surface of the rear substrate, the The base film and the release layer is peeled off from the support member layer among the shooting film,
The step of transferring and forming a support layer having an uneven surface on the inner surface of the back side substrate, and laminating a reflective layer having an uneven surface that follows the uneven surface of the support layer on the support layer. Forming a scattering reflection layer. In the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the release layer of the transfer film include particles having a predetermined particle size. Further, as described in claim 9, the support member layer of the transfer film may include particles having a predetermined particle size. . Furthermore, another method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes, as described in claim 10, a method of manufacturing a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between a display surface side substrate and a back side substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device provided with a scattering / reflection layer having both a light scattering function and a light reflecting function on an inner surface, wherein a boundary surface is formed on a base film to facilitate separation in a later step. Forming a transfer film by sequentially laminating a release layer for forming the scattering reflection layer and a scattering reflection member layer for forming the scattering reflection layer, and pressing the scattering reflection member layer of the transfer film onto the inner surface of the rear substrate. Separating the base film and the release layer of the transfer film from the scattering / reflection member layer, thereby transferring and forming the scattering / reflection layer on the inner surface of the back-side substrate. Characterized by It is intended. And
According to the first aspect of the present invention, on the inner surface of the back side substrate of the liquid crystal cell, on a support layer having an uneven surface formed by transfer or printing, a scattering reflection provided with an uneven reflecting surface that follows the uneven surface. Since the layer is provided, a reflective surface with uniform unevenness is always obtained over the entire display area, image blurring due to parallax can be reduced, and the entire display area is uniformly bright, and high display quality with good visibility is stable. Can be obtained. According to the invention as set forth in claim 7, a transfer film containing particles having a predetermined particle size is transferred to the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell, and the support layer having an uneven surface based on the particle size of the particles. Is formed, and the reflection layer is laminated thereon to form the scattering reflection layer. Therefore, it is possible to easily form a scattering reflection layer having a reflection surface in which the size of unevenness is accurately controlled over the entire display area. In addition, it is possible to easily manufacture a liquid crystal display device that is uniformly bright over the entire display area and that can stably obtain high display quality with good visibility. Further, according to the tenth aspect of the present invention, since the scattering reflection layer is transferred and formed on the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell, the scattering reflection layer having the desired scattering reflection function can be easily formed. Can be.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図1はこの発明の第1実施形態に
おける反射型の液晶表示装置の要部の一部を拡大した断
面図を示したものである。この液晶表示装置は単純マト
リクス型の液晶セル21を備えている。液晶セル21は
ガラス基板やフィルム基板等からなる表示面側基板22
および背面側基板23を備えている。表示面側基板22
の内面には信号電極24および配向膜25が設けられて
いる。背面側基板23の内面には、表面が凸凹な支持層
26が設けられている。支持層26上には、支持層26
の凸凹な表面に追従する凸凹な表面を有する光反射材料
からなる散乱反射層27が設けられている。散乱反射層
27上には赤、緑、青のカラーフィルタ要素(カラーフ
ィルタ層)28、保護膜(平坦化膜)29、走査電極3
0および配向膜31が設けられている。
FIG. 1 is an enlarged sectional view showing a part of a main part of a reflection type liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. This liquid crystal display device includes a liquid crystal cell 21 of a simple matrix type. The liquid crystal cell 21 is a display surface side substrate 22 made of a glass substrate, a film substrate, or the like.
And a rear substrate 23. Display side substrate 22
Are provided with a signal electrode 24 and an alignment film 25 on the inner surface thereof. A support layer 26 having an uneven surface is provided on the inner surface of the rear substrate 23. On the support layer 26, the support layer 26
Is provided with a scattering reflection layer 27 made of a light reflection material having an uneven surface that follows the uneven surface. Red, green, and blue color filter elements (color filter layers) 28, protective films (planarization films) 29, and scan electrodes 3 are provided on the scattering reflection layer 27.
0 and an alignment film 31 are provided.

【0008】そして、表示面側基板22と背面側基板2
3とはほぼ方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼
り合わされ、シール材の内側における両基板22、23
の配向膜25、31間には液晶32が封入されている。
表示面側基板22の外面には位相差板33が粘着剤層
(図示せず)を介して貼り付けられ、その外面には偏光
板34が粘着剤層(図示せず)を介して貼り付けられい
る。
The display side substrate 22 and the rear substrate 2
3 are bonded together via a substantially rectangular frame-shaped sealing material (not shown), and the two substrates 22 and 23 inside the sealing material are bonded together.
A liquid crystal 32 is sealed between the alignment films 25 and 31.
A retardation plate 33 is attached to the outer surface of the display surface side substrate 22 via an adhesive layer (not shown), and a polarizing plate 34 is attached to the outer surface thereof via an adhesive layer (not shown). Have been

【0009】そして、この液晶表示装置では、偏光板3
4の外面側から入射された外光を偏光板34、液晶3
2、カラーフィルタ要素28等を透過させて散乱反射層
27で散乱反射させ、この散乱反射光をカラーフィルタ
要素28、液晶32、偏光板34等を透過させて偏光板
34の外面側に出射させ、これにより表示を行う。この
場合、偏光板は液晶セル21の表示面側に偏光板34を
1枚設けただけであり、液晶セル21の表裏両面に設け
る場合に比べて採り込んだ外光をより有効に利用するこ
とができる。
In this liquid crystal display device, the polarizing plate 3
4 is applied to the polarizing plate 34 and the liquid crystal 3
2. The light is transmitted through the color filter element 28 and the like and is scattered and reflected by the scattering / reflection layer 27. The scattered reflected light is transmitted through the color filter element 28, the liquid crystal 32, the polarizing plate 34 and the like, and emitted to the outer surface side of the polarizing plate 34. Thus, display is performed. In this case, as the polarizing plate, only one polarizing plate 34 is provided on the display surface side of the liquid crystal cell 21, and the external light taken in can be used more effectively as compared with the case where the polarizing plate is provided on both the front and back surfaces of the liquid crystal cell 21. Can be.

【0010】このように、この液晶表示装置では、液晶
セル21の背面側基板23の内面に設けられた支持層2
6上に散乱反射層27を設けているので、すなわち、反
射層に散乱層を兼ねさせているので、反射と散乱が同時
に行われ、したがって視差による画像ボケを軽減するこ
とができる。
As described above, in this liquid crystal display device, the support layer 2 provided on the inner surface of the rear substrate 23 of the liquid crystal cell 21 is provided.
Since the scattering / reflection layer 27 is provided on the surface 6, that is, the reflection layer also serves as the scattering layer, reflection and scattering are performed simultaneously, and therefore, image blur due to parallax can be reduced.

【0011】次に、この液晶表示装置の一部の製造方法
について、つまり、散乱反射層27の形成方法につい
て、図2を参照して説明する。まず、図2(A)に示す
転写フィルム41を用意する。この転写フィルム41
は、ポリエチレンテレフタレート等からなるベースフィ
ルム42の図での下面に、シリカや樹脂等からなる所定
の粒径の粒子43を含むメラミン系樹脂等からなる後工
程での剥離を容易にする境界面を形成するための離型層
44、アクリル系樹脂等の光学等方性材料からなり支持
層を形成するための支持部材層26´およびプロピレン
系フィルム等からなるカバーフィルム45が順次積層さ
れた構造となっている。この場合、離型層44の下面
は、粒子43の粒径や混入量等を制御することにより、
所期の大きさの凸凹が均一に形成された面となってい
る。したがって、支持部材層26´の離型層44の下面
と接する面も、離型層44の凸凹に追従した所期の大き
さの凸凹が均一に形成された面となっている。
Next, a method of manufacturing a part of the liquid crystal display device, that is, a method of forming the scattering reflection layer 27 will be described with reference to FIG. First, a transfer film 41 shown in FIG. 2A is prepared. This transfer film 41
The lower surface of the base film 42 made of polyethylene terephthalate or the like in the drawing is provided with a boundary surface that facilitates peeling in a post-process made of a melamine-based resin or the like containing particles 43 having a predetermined particle size made of silica, resin, or the like. A structure in which a release layer 44 to be formed, a support member layer 26 ′ made of an optically isotropic material such as an acrylic resin, and a cover film 45 made of a propylene film and the like are sequentially laminated. Has become. In this case, the lower surface of the release layer 44 is controlled by controlling the particle diameter and the mixing amount of the particles 43, and the like.
It is a surface on which the irregularities of the expected size are formed uniformly. Therefore, the surface of the support member layer 26 ′ in contact with the lower surface of the release layer 44 is also a surface on which the irregularities of the desired size that follow the irregularities of the release layer 44 are uniformly formed.

【0012】次に、転写フィルム41のうちカバーフィ
ルム45を支持部材層26´から剥離し、次いで図2
(B)に示すように、転写フィルム41の支持部材層2
6´の平坦な下面を背面側基板23の上面(内面)にロ
ーラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより支持
部材層26´を硬化させて背面側基板23の上面に固着
させる。支持部材層26´が感光性樹脂からなる場合に
は、紫外線照射により硬化させるようにしてもよい。
Next, the cover film 45 of the transfer film 41 is peeled from the support member layer 26 ', and
As shown in (B), the support member layer 2 of the transfer film 41
After the flat lower surface of 6 ′ is pressed against the upper surface (inner surface) of the rear substrate 23 using a roller or the like, the support member layer 26 ′ is cured by baking and fixed to the upper surface of the rear substrate 23. When the support member layer 26 'is made of a photosensitive resin, the support member layer 26' may be cured by irradiation with ultraviolet rays.

【0013】次に、転写フィルム41のうちベースフィ
ルム42および粒子43を含む離型層44を支持部材層
26´から剥離する。すると、図2(C)に示すよう
に、背面側基板23の上面には、所期の大きさの凸凹が
均一に形成された表面を有する支持層26が残される。
次に、図2(D)に示すように、支持層26上にスパッ
タ法や蒸着法等によりアルミニウム、銀、銀−パラジウ
ム合金、銀−パラジウム−銅合金等の金属からなる反射
層を成膜して散乱反射層27を形成する。この場合、散
乱反射層27の膜厚は1000〜1500Å程度と比較
的薄いので、散乱反射層27は支持層26の凸凹な表面
に沿うように形成され、その表面は支持層26の凸凹な
表面に追従したそれとほぼ同じ大きさの凸凹な面とな
る。そして、この散乱反射層27上に、図1に示すよう
に、カラーフィルタ要素28、保護膜29、走査電極3
0および配向膜31を形成することになる。
Next, the release layer 44 containing the base film 42 and the particles 43 of the transfer film 41 is peeled off from the support member layer 26 '. Then, as shown in FIG. 2 (C), a support layer 26 having a surface on which unevenness of a desired size is uniformly formed is left on the upper surface of the rear substrate 23.
Next, as shown in FIG. 2D, a reflective layer made of a metal such as aluminum, silver, a silver-palladium alloy, or a silver-palladium-copper alloy is formed on the support layer 26 by a sputtering method, an evaporation method, or the like. Thus, the scattering reflection layer 27 is formed. In this case, since the thickness of the scattering reflection layer 27 is relatively thin, about 1000 to 1500 °, the scattering reflection layer 27 is formed along the uneven surface of the support layer 26, and the surface thereof is formed on the uneven surface of the support layer 26. And an uneven surface having substantially the same size as that following the above. Then, as shown in FIG. 1, a color filter element 28, a protective film 29, and a scan electrode 3 are formed on the scattering / reflection layer 27.
0 and the alignment film 31 are formed.

【0014】このように、この散乱反射層の形成方法で
は、転写フィルム41の離型層44の下面を、粒子43
の粒径や混入量等を制御することにより、所期の大きさ
で均一な凸凹面とすることができるので、支持部材層2
6´の離型層44と接する面を容易に同じ大きさの所期
の凸凹が均一に形成された面とすることができる。この
結果、背面側基板23の上面に転写された支持層26上
にスパッタ法や蒸着法等により散乱反射層27を形成す
るだけで、散乱反射層27の表面を容易に所期の大きさ
の凸凹が均一に形成された面とすることができる。
As described above, in the method of forming the scattering reflection layer, the lower surface of the release layer 44 of the transfer film 41 is
By controlling the particle size and mixing amount of the support member layer 2, it is possible to form a uniform uneven surface with a desired size.
The surface of the 6 ′ in contact with the release layer 44 can be easily made the surface having the same size and the desired irregularities formed uniformly. As a result, the surface of the scattering / reflecting layer 27 can be easily adjusted to a desired size only by forming the scattering / reflecting layer 27 on the supporting layer 26 transferred to the upper surface of the rear substrate 23 by a sputtering method, an evaporation method, or the like. A surface with unevenness can be uniformly formed.

【0015】この場合、例えば、支持層26をフォトリ
ソグラフィ法により形成する場合、マスクのパターン、
露光、現像、ベークの各条件で支持層26の表面の凸凹
を制御することになるので、支持層26の表面の凸凹に
ばらつきが生じやすい。支持層26の表面の凸凹にバラ
ツキが生じた場合、その上に成膜される散乱反射層27
の表面の凸凹にもバラツキが生じるため、十分な反射輝
度が得られなかったり、反射輝度のバラツキが生じた
り、製品ごとに反射輝度のバラツキが生じたりしてしま
う。
In this case, for example, when the support layer 26 is formed by a photolithography method, a mask pattern,
Since the unevenness on the surface of the support layer 26 is controlled under the conditions of exposure, development, and baking, the unevenness on the surface of the support layer 26 is likely to vary. When unevenness of the surface of the support layer 26 varies, the scattering / reflection layer 27 formed thereon
Since unevenness also occurs in the unevenness of the surface, a sufficient reflection luminance cannot be obtained, the reflection luminance varies, or the reflection luminance varies from product to product.

【0016】このように、支持層26をフォトリソグラ
フィ法により形成する場合、散乱反射層27の表面を所
期の凸凹な面とすることは困難であり、均一な反射表示
品質を得ることができない。これに対し、上記実施形態
の場合には、背面側基板23の上面に転写された支持層
26の表面を容易に所期の凸凹な面とすることができ、
その上に成膜される散乱反射層27の表面も容易に所期
の凸凹な面とすることができるので、均一な反射表示品
質を得ることができる。即ち、上記実施形態の場合に
は、所期の大きさで均一な凸凹表面を有する散乱反射層
27の形成が容易であり、ひいては均一な反射表示品質
を得る液晶表示装置を容易に製造することができる。
As described above, when the support layer 26 is formed by the photolithography method, it is difficult to make the surface of the scattering / reflection layer 27 an intended uneven surface, and it is impossible to obtain a uniform reflective display quality. . On the other hand, in the case of the above embodiment, the surface of the support layer 26 transferred to the upper surface of the rear substrate 23 can be easily made the desired uneven surface,
The surface of the scattering / reflection layer 27 formed thereon can also be easily formed as a desired uneven surface, so that a uniform reflection display quality can be obtained. That is, in the case of the above-described embodiment, it is easy to form the scattering reflection layer 27 having a desired size and a uniform uneven surface, and thus to easily manufacture a liquid crystal display device that obtains a uniform reflection display quality. Can be.

【0017】次に、この発明の第2実施形態における液
晶表示装置において散乱反射層を形成する場合につい
て、図3を参照して説明する。まず、図3(A)に示す
転写フィルム51を用意する。この転写フィルム51
は、ベースフィルム52の図での下面に、離型層53、
シリカや樹脂等からなる所定の粒径の粒子54を含むア
クリル系樹脂等の光学等方性材料からなる支持部材層5
5´およびカバーフィルム56が順次積層された構造と
なっている。この場合、支持部材層55´の離型層53
と接する面は、粒子54の粒径や混入量等を制御するこ
とにより、所期の大きさの凸凹が均一に形成された面と
なっている。
Next, a case where a scattering reflection layer is formed in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, a transfer film 51 shown in FIG. 3A is prepared. This transfer film 51
Is a release layer 53 on the lower surface of the base film 52 in the drawing.
Support member layer 5 made of an optically isotropic material such as an acrylic resin containing particles 54 having a predetermined particle size made of silica, resin, or the like.
5 'and the cover film 56 are sequentially laminated. In this case, the release layer 53 of the support member layer 55 '
The surface in contact with is a surface on which irregularities of the desired size are uniformly formed by controlling the particle size and the amount of the particles 54 mixed.

【0018】次に、転写フィルム51のうちカバーフィ
ルム56を支持部材層55´から剥離し、次いで図3
(B)に示すように、転写フィルム51の支持部材層5
5´の下面を背面側基板57の上面(内面)にローラ等
を用いて圧着した後、ベークすることにより支持部材層
55´を硬化させて背面側基板57の上面に固着させ
る。支持層26が感光性樹脂からなる場合には、紫外線
照射により硬化させるようにしてもよい。
Next, the cover film 56 of the transfer film 51 is peeled off from the support member layer 55 '.
As shown in (B), the support member layer 5 of the transfer film 51 is formed.
The lower surface of 5 ′ is pressed against the upper surface (inner surface) of the rear substrate 57 using a roller or the like, and then baked to cure the support member layer 55 ′ and adhere to the upper surface of the rear substrate 57. When the support layer 26 is made of a photosensitive resin, the support layer 26 may be cured by ultraviolet irradiation.

【0019】次に、転写フィルム51のうちベースフィ
ルム52および離型層53を支持部材層55´から剥離
する。すると、図3(C)に示すように、背面側基板5
7の上面には、粒子54を含む凸凹な表面を有する支持
層55が残される。次に、図3(D)に示すように、支
持層55上にスパッタ法や蒸着法等によりアルミニウ
ム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金
等の金属からなる散乱反射層58を成膜する。この場合
も、散乱反射層58の膜厚は1000〜1500Å程度
と比較的薄いので、散乱反射層58は支持層55の凸凹
な表面に沿うように形成され、その表面つまり反射面は
支持層55の凸凹な表面に追従した所期の大きさの凸凹
が均一に形成された面となる。
Next, the base film 52 and the release layer 53 of the transfer film 51 are peeled off from the support member layer 55 '. Then, as shown in FIG.
On the upper surface of 7, a support layer 55 having an uneven surface containing particles 54 is left. Next, as shown in FIG. 3D, a scattering reflection layer 58 made of a metal such as aluminum, silver, a silver-palladium alloy, or a silver-palladium-copper alloy is formed on the support layer 55 by a sputtering method, an evaporation method, or the like. Form a film. Also in this case, since the thickness of the scattering / reflecting layer 58 is relatively thin, about 1000 to 1500 °, the scattering / reflecting layer 58 is formed along the uneven surface of the support layer 55, and the surface, that is, the reflection surface is This is a surface in which the irregularities of the desired size following the irregular surface of are uniformly formed.

【0020】このように、この散乱反射層の形成方法で
は、転写フィルム51の支持層55の離型層53と接す
る面を、粒子54の粒径や混入量等を制御することによ
り、所期の凸凹な面とすることができるので、背面側基
板57の上面に転写された支持層55上にスパッタ法や
蒸着法等により散乱反射層58を形成するだけで、散乱
反射層58の表面を容易に所期の大きさの凸凹が均一に
形成された面とすることができる。したがって、均一な
反射表示品質を得ることができる液晶表示装置を容易に
製造することができる。なお、粒子54を含む支持層5
5を印刷法により形成するようにしてもよい。
As described above, in the method of forming the scattering / reflection layer, the surface of the transfer film 51 which is in contact with the release layer 53 of the support layer 55 is controlled by controlling the particle diameter and the amount of the particles 54 to be mixed. Can be formed on the support layer 55 transferred onto the upper surface of the rear substrate 57 by simply forming the scattering reflection layer 58 by sputtering, vapor deposition, or the like. It is possible to easily provide a surface on which irregularities of the desired size are uniformly formed. Therefore, it is possible to easily manufacture a liquid crystal display device capable of obtaining uniform reflective display quality. The support layer 5 containing the particles 54
5 may be formed by a printing method.

【0021】次に、この発明の第3実施形態としての液
晶表示装置において散乱反射層を形成する場合につい
て、図4を参照して説明する(ただし、この場合、散乱
反射層の表面は平坦である。)。まず、図4(A)に示
す転写フィルム61を用意する。この転写フィルム61
は、ベースフィルム62の図での下面に、離型層63、
二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコ
ンパウダー等の光散乱粒子材料(図示せず)を含むアク
リル系樹脂等の光学等方性材料からなる散乱反射層を形
成するための散乱反射部材層64´およびカバーフィル
ム65が順次積層された構造となっている。
Next, a case where a scattering reflection layer is formed in the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4 (in this case, the surface of the scattering reflection layer is flat. is there.). First, a transfer film 61 shown in FIG. 4A is prepared. This transfer film 61
Is a release layer 63 on the lower surface of the base film 62 in the drawing.
A scattering / reflecting member for forming a scattering / reflecting layer made of an optically isotropic material such as an acrylic resin containing a light scattering particle material (not shown) such as a metal oxide such as titanium dioxide, silica, mica, and silicon powder. It has a structure in which a layer 64 'and a cover film 65 are sequentially laminated.

【0022】次に、転写フィルム61のうちカバーフィ
ルム65を散乱反射層64から剥離し、次いで図4
(B)に示すように、転写フィルム61の散乱反射部材
層64´の下面を背面側基板66の上面(内面)にロー
ラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより散乱反
射層64を硬化させて背面側基板66の上面に固着させ
る。散乱反射部材層64´の光学等方性材料が感光性樹
脂からなる場合には、紫外線照射により硬化させるよう
にしてもよい。次に、転写フィルム61のうちベースフ
ィルム62および離型層63を散乱反射部材層64´か
ら剥離する。すると、図4(C)に示すように、背面側
基板66の上面には、表面が平坦な散乱反射層64が残
される。
Next, the cover film 65 of the transfer film 61 is peeled off from the scattering / reflection layer 64.
As shown in (B), after the lower surface of the scattering / reflecting member layer 64 ′ of the transfer film 61 is pressed against the upper surface (inner surface) of the rear substrate 66 using a roller or the like, the scattering / reflecting layer 64 is cured by baking. Then, it is fixed to the upper surface of the rear substrate 66. When the optically isotropic material of the scattering / reflecting member layer 64 'is made of a photosensitive resin, it may be cured by irradiation with ultraviolet rays. Next, the base film 62 and the release layer 63 of the transfer film 61 are peeled from the scattering / reflecting member layer 64 '. Then, as shown in FIG. 4C, the scattering reflection layer 64 having a flat surface is left on the upper surface of the rear substrate 66.

【0023】この場合、散乱反射層64は、二酸化チタ
ン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコンパウダー
等の光散乱粒子材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方
性材料からなっているので、光散乱粒子材料の混入量を
光を透過させることなく必要な反射と散乱の両機能が得
られるように制御することにより、上述した実施形態の
散乱反射層と同様に、視差による画像ボケを軽減するこ
とができ、また明るくて均一な反射表示品質を得ること
ができる。また、散乱反射層64を形成する場合、転写
フィルム61の散乱反射層64を背面側基板66の上面
に転写するだけであるので、所望の均一な反射表示品質
を備えた液晶表示装置を容易に製造することができる。
In this case, the scattering / reflection layer 64 is made of an optically isotropic material such as a metal oxide such as titanium dioxide, an acrylic resin containing a light scattering particle material such as silica, mica, and silicon powder. By controlling the mixing amount of the light scattering particle material so that both the necessary reflection and scattering functions can be obtained without transmitting light, image blur due to parallax is reduced as in the case of the scattering reflection layer of the above-described embodiment. And a bright and uniform reflective display quality can be obtained. Further, when the scattering reflection layer 64 is formed, the scattering reflection layer 64 of the transfer film 61 is merely transferred onto the upper surface of the rear substrate 66, so that a liquid crystal display device having a desired uniform reflection display quality can be easily manufactured. Can be manufactured.

【0024】次に、この発明の第4実施形態としての液
晶表示装置において散乱反射層を形成する場合につい
て、図5を参照して説明する。まず、図5(A)に示す
転写フィルム71を用意する。この転写フィルム71
は、ベースフィルム72の図での下面に、離型層73、
二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコ
ンパウダー等の光散乱粒子材料(図示せず)を含むアク
リル系樹脂等の光学等方性材料からなる散乱反射部材層
74´およびカバーフィルム75が順次積層された構造
となっている。この場合、散乱反射部材層74´は、必
要且つ十分な光散乱機能が得られるように光散乱粒子材
料の含有量と膜厚を調整してある。従って、本実施形態
の散乱反射層74は、入射光の一部分は反射されずに透
過する散乱半透過反射層である。
Next, a case where a scattering reflection layer is formed in a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, a transfer film 71 shown in FIG. 5A is prepared. This transfer film 71
Is a release layer 73 on the lower surface of the base film 72 in the drawing.
The scattering / reflecting member layer 74 'and the cover film 75 are made of an optically isotropic material such as an acrylic resin containing a light scattering particle material (not shown) such as a metal oxide such as titanium dioxide, silica, mica, and silicon powder. It has a structure of being sequentially laminated. In this case, the content and the thickness of the light scattering particle material are adjusted in the scattering / reflecting member layer 74 'so that a necessary and sufficient light scattering function can be obtained. Therefore, the scattering reflection layer 74 of the present embodiment is a scattering transflective layer that transmits a part of incident light without being reflected.

【0025】次に、転写フィルム71のうちカバーフィ
ルム75を散乱反射部材層74´から剥離し、次いで図
5(B)に示すように、転写フィルム71の散乱反射部
材層74´の下面を背面側基板66の上面(内面)に予
め設けられたアルミニウム、銀、銀−パラジウム合金、
銀−パラジウム−銅合金等の金属からなる反射金属膜7
7の上面にローラ等を用いて圧着した後、ベークするこ
とにより散乱反射部材層74´を硬化させて反射金属膜
77の上面に固着させる。散乱反射部材層74´の光学
等方性材料が感光性樹脂からなる場合には、紫外線照射
により硬化させるようにしてもよい。次に、転写フィル
ム71のうちベースフィルム72および離型層73を散
乱反射部材層74´から剥離する。すると、図5(C)
に示すように、背面側基板66上の反射金属膜77の上
面には、表面が平坦な散乱反射層74が残される。
Next, the cover film 75 of the transfer film 71 is peeled off from the scattering / reflecting member layer 74 ', and then, as shown in FIG. Aluminum, silver, silver-palladium alloy, provided in advance on the upper surface (inner surface) of the side substrate 66;
Reflective metal film 7 made of a metal such as silver-palladium-copper alloy
After being press-bonded to the upper surface of 7 using a roller or the like, the scattering / reflecting member layer 74 ′ is cured by baking and fixed to the upper surface of the reflective metal film 77. When the optically isotropic material of the scattering / reflecting member layer 74 'is made of a photosensitive resin, the material may be cured by ultraviolet irradiation. Next, the base film 72 and the release layer 73 of the transfer film 71 are separated from the scattering / reflecting member layer 74 '. Then, FIG. 5 (C)
As shown in the figure, a scattering reflection layer 74 having a flat surface is left on the upper surface of the reflection metal film 77 on the rear substrate 66.

【0026】この場合、背面側基板66上の反射金属膜
77の上面に、主として散乱機能を有する散乱反射層7
4を設けているので、反射金属膜77と散乱反射層74
とで必要とされる反射と散乱の両機能が発揮され、した
がって視差による画像ボケを軽減することができ、また
明るくて均一な反射表示品質を得ることができる。ま
た、散乱反射層74を形成する場合、転写フィルム71
の散乱反射部材層74´を背面側基板66上の反射金属
膜77の上面に転写するだけであるので、明るくて均一
な反射表示品質を備えた液晶表示装置を容易に製造する
ことができる。
In this case, on the upper surface of the reflection metal film 77 on the rear substrate 66, the scattering reflection layer 7 having a scattering function is provided.
4, the reflection metal film 77 and the scattering reflection layer 74 are provided.
Thus, both of the reflection and scattering functions required are exhibited, so that image blur due to parallax can be reduced, and a bright and uniform reflective display quality can be obtained. When the scattering reflection layer 74 is formed, the transfer film 71
Is merely transferred onto the upper surface of the reflective metal film 77 on the rear substrate 66, so that a liquid crystal display device having bright and uniform reflective display quality can be easily manufactured.

【0027】なお、上記第3、第4実施形態では、散乱
反射層64、74を二酸化チタン等の金属酸化物、シリ
カ、マイカ、シリコンパウダー等の光散乱粒子材料を含
むアクリル系樹脂等の光学等方性材料により形成した場
合について説明したが、これに限らず、蛍光材料を含む
アクリル系樹脂等の光学等方性材料により形成するよう
にしてもよく、また蛍光材料のみにより形成するように
してもよい。また、上記第3、第4実施形態では、散乱
反射層64、74を転写法により形成する場合について
説明したが、これに限らず、印刷法により形成するよう
にしてもよい。即ち、凸版の印刷版を用いて光散乱粒子
材料や蛍光材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材
料を透明基板に直接印刷する方法である。
In the third and fourth embodiments, the scattering / reflecting layers 64 and 74 are made of a metal oxide such as titanium dioxide, or an optical resin such as an acrylic resin containing a light scattering particle material such as silica, mica, or silicon powder. Although the case of forming with an isotropic material has been described, the present invention is not limited to this, and it may be formed with an optical isotropic material such as an acrylic resin containing a fluorescent material, or may be formed with only a fluorescent material. May be. In the third and fourth embodiments, the case where the scattering reflection layers 64 and 74 are formed by the transfer method has been described. However, the present invention is not limited to this, and the scattering reflection layers 64 and 74 may be formed by the printing method. That is, a method of directly printing an optically isotropic material such as an acrylic resin containing a light scattering particle material or a fluorescent material on a transparent substrate using a relief printing plate.

【0028】また、上記各実施形態では、この発明を反
射型の液晶表示装置に適用した場合について説明した
が、これに限らず、例えば図6に示すこの発明の第5実
施形態のように、半透過反射型の液晶表示装置にも適用
することができる。次に、この半透過反射型の液晶表示
装置について説明するが、図6において、図1と同一名
称部分には同一の符号を付し、その説明を適宜省略す
る。
In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to a reflection type liquid crystal display device has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, as in a fifth embodiment of the present invention shown in FIG. The present invention can also be applied to a transflective liquid crystal display device. Next, the transflective liquid crystal display device will be described. In FIG. 6, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.

【0029】図6に示す液晶表示装置では、背面側基板
23の外面に位相差板81が粘着剤層(図示せず)を介
して貼り付けられ、その外面に偏光板82が粘着剤層
(図示せず)を介して貼り付けられ、その外面側にバッ
クライト83が配置されている。そして、第1実施形態
と同様に所定の大きさの凹凸面を備えた光学等方性材料
からなる支持層26が背面側基板23の内面に形成さ
れ、この凹凸面上に金属層からなる散乱半透過反射層2
7Aが設けられている。散乱半透過反射層27Aは、膜
厚を300〜700Å程度と薄くするかスリット等を形
成することにより、必要な光散乱反射機能と光透過機能
を有する構造となっている。尚、上記第3実施形態のよ
うに凹凸支持層を形成せずに散乱反射層を光学等方性材
料に光散乱粒子を混入させて形成する場合は、膜厚を薄
く或いは光散乱粒子材料等の混入量を少なく調整するこ
とにより、所望の散乱半透過反射層を形成することがで
きる。
In the liquid crystal display device shown in FIG. 6, a retardation plate 81 is attached to the outer surface of the rear substrate 23 via an adhesive layer (not shown), and a polarizing plate 82 is attached to the outer surface of the adhesive layer (not shown). (Not shown), and a backlight 83 is arranged on the outer surface side thereof. Then, similarly to the first embodiment, a support layer 26 made of an optically isotropic material having an uneven surface of a predetermined size is formed on the inner surface of the rear substrate 23, and a scattering layer made of a metal layer is formed on the uneven surface. Transflective layer 2
7A is provided. The scattering semi-transmissive reflection layer 27A has a structure having necessary light scattering and reflecting functions and light transmitting functions by reducing the film thickness to about 300 to 700 ° or forming slits or the like. In the case where the scattering / reflecting layer is formed by mixing light scattering particles with an optically isotropic material without forming an uneven support layer as in the third embodiment, the film thickness may be reduced or the light scattering particle material may be used. By adjusting the mixing amount of a small amount, a desired scattering semi-transmissive reflection layer can be formed.

【0030】そして、この液晶表示装置を反射型として
使用する場合には、バックライト83を点灯させず、表
示面側の偏光板34の外面側から入射された外光を偏光
板34、液晶32、カラーフィルタ要素28等を透過さ
せて散乱半透過反射層27Aで散乱反射させ、この散乱
反射光をカラーフィルタ要素28、液晶32、偏光板3
4等を透過させて偏光板34の外面側に出射させ、これ
により表示を行う。一方、この液晶表示装置を透過型と
して使用する場合には、バックライト83を点灯させ、
バックライト83からの光を偏光板82、散乱半透過反
射層27A、カラーフィルタ要素28、液晶32、偏光
板34等を透過させて偏光板34の外面側に出射させ、
これにより表示を行う。
When the liquid crystal display device is used as a reflection type, the backlight 83 is not turned on, and external light incident from the outer surface of the polarizing plate 34 on the display surface side is reflected by the polarizing plate 34 and the liquid crystal 32. , The light is transmitted through the color filter element 28 and the like, and is scattered and reflected by the scattering semi-transmissive reflection layer 27A.
4 and the like are transmitted and emitted to the outer surface side of the polarizing plate 34, thereby performing display. On the other hand, when this liquid crystal display device is used as a transmission type, the backlight 83 is turned on,
The light from the backlight 83 is transmitted through the polarizing plate 82, the scattering semi-transmissive reflection layer 27A, the color filter element 28, the liquid crystal 32, the polarizing plate 34, and the like, and is emitted to the outer surface side of the polarizing plate 34.
Thus, display is performed.

【0031】ところで、この液晶表示装置の散乱半透過
反射層27Aが、図7に示すように、凸凹な表面を有す
る支持層26上に設けられた金属層からなる場合、透過
型として使用するとき、同図において矢印で示すよう
に、膜厚が比較的大きい支持層26と保護層29との間
および保護層29と液晶(層)32との間で屈折率の差
に起因してバックライト83から出射された平行光がそ
れら各部材を透過するうちに徐々に拡散されて表示の明
るさが低下する。なお、散乱半透過反射層27A及びカ
ラーフィルタ要素28を透過する際の屈折は、夫々の膜
厚が薄いために無視できる。ここで、一例として、支持
層26、散乱半透過反射層27A、カラーフィルタ要素
28、保護層29、液晶(層)32の各膜厚は、2.5
μm、0.2μm、1.0μm、2.5μm、5μmで
ある。
By the way, when the scattering semi-transmissive reflection layer 27A of this liquid crystal display device is made of a metal layer provided on a support layer 26 having an uneven surface as shown in FIG. As shown by the arrows in the figure, the backlight caused by the difference in the refractive index between the support layer 26 having a relatively large thickness and the protective layer 29 and between the protective layer 29 and the liquid crystal (layer) 32. The parallel light emitted from 83 is gradually diffused while passing through each of the members, and the brightness of the display is reduced. The refraction when transmitting through the scattering semi-transmissive reflection layer 27A and the color filter element 28 can be neglected because their respective film thicknesses are thin. Here, as an example, each film thickness of the support layer 26, the scattering semi-transmissive reflective layer 27A, the color filter element 28, the protective layer 29, and the liquid crystal (layer) 32 is 2.5
μm, 0.2 μm, 1.0 μm, 2.5 μm, 5 μm.

【0032】そこで、まず、保護層28と液晶32の屈
折率を実質的に同一にする。本実施形態では常光屈折率
noが1.5、異常光屈折率neが1.9のp型液晶を使
用しているから、保護層28を液晶32の常光屈折率
(1.5)と同一の屈折率を有するアクリル系樹脂によ
って形成する。これにより、図8において矢印で示すよ
うに、保護層29から電極30、配向膜31を経て液晶
32に至る光路において屈折による光の拡散がほぼ無く
なる。なお、電極30や配向膜31も膜厚が薄いために
それらを透過する際の屈折は無視できる。更に、支持層
26および保護層29を液晶32の常光屈折率(1.
5)と実質的に同一の屈折率を有するアクリル系樹脂に
よって形成すると、図9において矢印で示すように、バ
ックライト83から出射された光をほとんど拡散させず
に液晶32まで透過させるることができる。これによ
り、バックライト83から液晶セルに入射された光が無
駄なく表示に利用され、明るい表示が得られる。即ち、
本実施形態の液晶表示装置によれば、反射型表示を行う
場合は、散乱半透過反射層による光散乱反射機能によ
り、表示領域全体が均一に明るい視認性に優れた反射表
示品質が得られ、透過表示を行う場合は、透過光の拡散
が防止されて光の利用効率に優れた明るい透過表示品質
が得られる。
Therefore, first, the refractive indexes of the protective layer 28 and the liquid crystal 32 are made substantially the same. In this embodiment, a p-type liquid crystal having an ordinary light refractive index no of 1.5 and an extraordinary light refractive index ne of 1.9 is used, so that the protective layer 28 is the same as the ordinary light refractive index (1.5) of the liquid crystal 32. It is formed of an acrylic resin having a refractive index of. As a result, as shown by arrows in FIG. 8, light diffusion due to refraction in the optical path from the protective layer 29 to the liquid crystal 32 via the electrode 30 and the alignment film 31 is substantially eliminated. Since the electrode 30 and the alignment film 31 are also thin, refraction when transmitting them is negligible. Further, the support layer 26 and the protective layer 29 are provided with an ordinary refractive index (1.
When formed of an acrylic resin having substantially the same refractive index as that of 5), the light emitted from the backlight 83 can be transmitted to the liquid crystal 32 with almost no diffusion, as indicated by arrows in FIG. it can. Thus, light incident on the liquid crystal cell from the backlight 83 is used for display without waste, and a bright display is obtained. That is,
According to the liquid crystal display device of the present embodiment, when performing a reflection type display, the light scattering reflection function of the scattering semi-transmissive reflection layer can provide a reflective display quality in which the entire display region is uniformly bright and has excellent visibility, When performing transmissive display, diffusion of transmitted light is prevented, and a bright transmissive display quality with excellent light use efficiency is obtained.

【0033】なお、上記各実施形態では、この発明を単
純マトリクス型の液晶表示装置に適用した場合について
説明したが、これに限定されるものではない。例えば、
図10に示すこの発明の第6実施形態のように、アクテ
ィブマトリクス型の液晶表示装置にも適用することがで
きる。次に、このアクティブマトリクス型の液晶表示装
置について説明する。
In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal display device has been described, but the present invention is not limited to this. For example,
As in the sixth embodiment of the present invention shown in FIG. 10, the present invention can be applied to an active matrix type liquid crystal display device. Next, the active matrix type liquid crystal display device will be described.

【0034】この液晶表示装置はアクティブマトリクス
型の液晶セル91を備えている。液晶セル91はガラス
基板やフィルム基板等からなる表示面側基板92および
背面側基板93を備えている。表示面側基板92の内面
には赤、緑、青のカラーフィルタ要素94、共通電極9
5および配向膜96が設けられている。背面側基板93
の内面には薄膜トランジスタ97、絶縁膜98、画素電
極99および配向膜100が設けられている。この場
合、絶縁膜98は、例えば図1に示す支持層26と同様
に、所期の大きさの凸凹が均一に形成された表面を有す
るものからなっている。したがって、この絶縁膜98上
に設けられた画素電極99の表面も所期の凸凹が形成さ
れた面となっている。また、画素電極99はアルミニウ
ム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金
等の金属からなり、散乱反射層を兼ねている。
This liquid crystal display device has an active matrix type liquid crystal cell 91. The liquid crystal cell 91 includes a display surface side substrate 92 and a back side substrate 93 made of a glass substrate, a film substrate, or the like. Red, green, and blue color filter elements 94 and a common electrode 9 are provided on the inner surface of the display surface side substrate 92.
5 and an alignment film 96 are provided. Back side substrate 93
A thin film transistor 97, an insulating film 98, a pixel electrode 99, and an alignment film 100 are provided on the inner surface of the device. In this case, like the support layer 26 shown in FIG. 1, for example, the insulating film 98 has a surface on which irregularities of a desired size are uniformly formed. Therefore, the surface of the pixel electrode 99 provided on the insulating film 98 is also a surface on which the desired unevenness is formed. The pixel electrode 99 is made of a metal such as aluminum, silver, a silver-palladium alloy, and a silver-palladium-copper alloy, and also functions as a scattering reflection layer.

【0035】そして、表示面側基板92と背面側基板9
3とはほぼ方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼
り合わされ、シール材の内側における両基板92、93
の配向膜96、100間には液晶101が封入されてい
る。表示面側基板92の外面には位相差板102が粘着
剤層(図示せず)を介して貼り付けられ、その外面には
偏光板103が粘着剤層(図示せず)を介して貼り付け
られている。
Then, the display surface side substrate 92 and the back side substrate 9
3 are bonded together via a substantially rectangular frame-shaped sealing material (not shown), and the two substrates 92 and 93 inside the sealing material are bonded together.
A liquid crystal 101 is sealed between the alignment films 96 and 100. A retardation plate 102 is attached to the outer surface of the display surface side substrate 92 via an adhesive layer (not shown), and a polarizing plate 103 is attached to the outer surface via an adhesive layer (not shown). Has been.

【0036】そして、この液晶表示装置では、偏光板1
03の外面側から入射された外光を偏光板103、カラ
ーフィルタ要素94、液晶101等を透過させて画素電
極99で散乱反射させ、この散乱反射光を液晶101、
カラーフィルタ要素94、偏光板103等を透過させて
偏光板103の外面側に出射させ、これにより表示を行
う。
In this liquid crystal display device, the polarizing plate 1
03 is transmitted through the polarizing plate 103, the color filter element 94, the liquid crystal 101 and the like and is scattered and reflected by the pixel electrode 99. The scattered reflected light is
The light is transmitted through the color filter element 94, the polarizing plate 103, and the like, and emitted to the outer surface side of the polarizing plate 103, thereby performing display.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
発明によれば、液晶セルの背面側基板の内面に、転写ま
たは印刷により形成された凹凸表面を有する支持層上に
この凹凸表面に追従する凹凸反射面を備えた散乱反射層
を設けているので、常に表示領域全面にわたり凹凸が均
一な反射面が得られ、視差による画像ボケを軽減できる
と共に、表示領域の全体にわたり均一に明るくて視認性
の良好な高表示品質を安定して得ることができる。ま
た、請求項7に記載の発明によれば、所定の粒径の粒子
を含有させた転写フィルムを液晶セルの背面側基板の内
面に転写して粒子の粒径に基づく凸凹表面を有する支持
層を形成し、その上に反射層を積層して散乱反射層を形
成するから、表示領域全面にわたり凹凸の大きさが正確
に制御された反射面を備える散乱反射層を容易に形成す
ることができ、表示領域の全体にわたり均一に明るくて
視認性の良好な高表示品質を安定して得られる液晶表示
装置を容易に製造することができる。更に、請求項10
に記載の発明によれば、液晶セルの背面側基板の内面に
散乱反射層を転写形成するから、上述した所望の散乱反
射機能を備えた散乱反射層を容易に形成することができ
る。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the uneven surface is formed on the support layer having the uneven surface formed by transfer or printing on the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell. Is provided with a scattering reflection layer with an uneven reflection surface that follows the surface, so that a reflection surface with uniform unevenness is always obtained over the entire display area, image blur due to parallax can be reduced, and uniform brightness over the entire display area can be achieved. Thus, high display quality with good visibility can be stably obtained. According to the invention as set forth in claim 7, a transfer film containing particles having a predetermined particle size is transferred to the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell, and the support layer having an uneven surface based on the particle size of the particles. Is formed, and the reflection layer is laminated thereon to form the scattering reflection layer. Therefore, it is possible to easily form a scattering reflection layer having a reflection surface in which the size of unevenness is accurately controlled over the entire display area. In addition, it is possible to easily manufacture a liquid crystal display device which is uniformly bright over the entire display area and has a high display quality with good visibility stably. Claim 10
According to the invention described in (1), since the scattering reflection layer is transferred and formed on the inner surface of the rear substrate of the liquid crystal cell, the scattering reflection layer having the above-mentioned desired scattering reflection function can be easily formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1実施形態における液晶表示装置
の要部の一部を拡大した断面図。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a part of a main part of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(A)〜(D)はそれぞれ図1に示す散乱反射
層の形成方法を説明するために示す断面図。
FIGS. 2A to 2D are cross-sectional views for explaining a method of forming the scattering reflection layer shown in FIG. 1;

【図3】(A)〜(D)はそれぞれこの発明の第2実施
形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方
法を説明するために示す断面図。
FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views for explaining a method of forming a scattering reflection layer in a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】(A)〜(C)はそれぞれこの発明の第3実施
形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方
法を説明するために示す断面図。
FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views for explaining a method of forming a scattering reflection layer in a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】(A)〜(C)はそれぞれこの発明の第4実施
形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方
法を説明するために示す断面図。
FIGS. 5A to 5C are cross-sectional views for explaining a method of forming a scattering reflection layer in a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】この発明の第5実施形態における液晶表示装置
の要部の断面図。
FIG. 6 is a sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】図6に示す液晶表示装置を透過型として使用す
る場合の問題点を説明するために示す断面図。
7 is a cross-sectional view for explaining a problem when the liquid crystal display device shown in FIG. 6 is used as a transmission type.

【図8】図7に示す問題点を解決する第1の方法を説明
するために示す断面図。
FIG. 8 is a sectional view for explaining a first method for solving the problem shown in FIG. 7;

【図9】図7に示す問題点を解決する第2の方法を説明
するために示す断面図。
FIG. 9 is a sectional view for explaining a second method for solving the problem shown in FIG. 7;

【図10】この発明の第6実施形態における液晶表示装
置の要部の断面図。
FIG. 10 is a sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図11】従来の液晶表示装置の一例の一部の断面図。FIG. 11 is a partial cross-sectional view of an example of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 液晶セル 22 表示面側基板 23 背面側基板 24 信号電極 25 配向膜 26 支持層 27 散乱反射層 28 カラーフィルタ要素 29 保護膜 30 走査電極 31 配向膜 32 液晶 33 位相差板 34 偏光板 Reference Signs List 21 liquid crystal cell 22 display surface side substrate 23 back side substrate 24 signal electrode 25 alignment film 26 support layer 27 scattering reflection layer 28 color filter element 29 protective film 30 scan electrode 31 alignment film 32 liquid crystal 33 retardation plate 34 polarizing plate

フロントページの続き (72)発明者 西野 利晴 東京都八王子市石川町2951番地の5 カシ オ計算機株式会社八王子研究所内 (72)発明者 高橋 政之 東京都八王子市石川町2951番地の5 カシ オ計算機株式会社八王子研究所内 Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA15 BA20 DA01 DA02 DA04 DA11 DB01 DC02 DC08 DD00 DE00 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA16Z FB02 GA16 LA16 5C094 AA02 AA06 AA10 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA06 EA07 EB02 ED03 ED11 ED13 ED14 Continued on the front page (72) Inventor Toshiharu Nishino 5 Casio Computer, Hachioji Research Laboratory, 2951, Ishikawacho, Hachioji-shi, Tokyo (72) Inventor Masayuki Takahashi 5 Casio Computer Stock, 2951 Ishikawacho, Hachioji-shi, Tokyo F-term in the Hachioji Research Laboratories (reference) ED13 ED14

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示面側基板と背面側基板との間に液晶
を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に、転
写または印刷により形成された凹凸表面を有する支持層
と、前記凹凸表面の上に形成され、前記凹凸表面に追従
する凹凸面に形成された反射面を備え光散乱機能と光反
射機能の双方の機能を有する散乱反射層とが、設けられ
ていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A support layer having an uneven surface formed by transfer or printing on an inner surface of a rear substrate of a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between a display surface substrate and a rear substrate. A scattering reflection layer formed on the uneven surface and provided with a reflecting surface formed on the uneven surface following the uneven surface and having both functions of a light scattering function and a light reflecting function, is provided. Liquid crystal display device.
【請求項2】 請求項1に記載の発明において、前記支
持層は所定の粒径の粒子を含む光学等方性材料からなる
ことを特徴とする液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the support layer is made of an optically isotropic material containing particles having a predetermined particle size.
【請求項3】 請求項1に記載の発明において、前記散
乱反射層は入射光の一部分を透過させる散乱半透過反射
層であることを特徴とする液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the scattering reflection layer is a scattering transflective layer that transmits a part of incident light.
【請求項4】 請求項3に記載の発明において、前記散
乱半透過反射層の前記液晶側に保護層が積層され、該保
護層と前記支持層および前記液晶のうちの少なくとも2
つの屈折率は実質的に同一であることを特徴とする液晶
表示装置。
4. The liquid crystal display according to claim 3, wherein a protective layer is laminated on the liquid crystal side of the scattering semi-transmissive reflective layer, and at least two of the protective layer, the support layer, and the liquid crystal.
The liquid crystal display device, wherein the two refractive indexes are substantially the same.
【請求項5】 表示面側基板と背面側基板との間に液晶
を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に、転
写または印刷により、光散乱性粒子を含む光学等方性材
料からなる散乱反射層を形成したことを特徴とする液晶
表示装置。
5. An optically isotropic material containing light-scattering particles by transfer or printing on the inner surface of the rear substrate of a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between a display surface substrate and a rear substrate. A liquid crystal display device comprising a scattering reflection layer made of:
【請求項6】 請求項5に記載の発明において、前記散
乱反射層は入射光の一部分を透過させる散乱半透過反射
層であり、前記散乱半透過反射層と前記背面側基板との
間に反射金属膜が設けられていることを特徴とする液晶
表示装置。
6. The scattering reflection layer according to claim 5, wherein the scattering reflection layer is a scattering semi-transmissive reflection layer that transmits a part of incident light, and the light is reflected between the scattering semi-transmissive reflection layer and the rear substrate. A liquid crystal display device provided with a metal film.
【請求項7】 表示面側基板と背面側基板との間に液晶
を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に、凹
凸表面を有する支持層と、前記凹凸表面に追従する凹凸
面に形成された反射面を備える光散乱機能と光反射機能
の双方の機能を有する散乱反射層が設けられた液晶表示
装置の製造方法であって、 前記支持層を形成するための支持部材層と、後工程での
剥離を容易にする境界面を形成するための離型層とを、
何れか一方の層に所定の粒径の粒子を含有させてベース
フィルム上に順次積層して前記離型層と前記支持部材層
との境界面が前記粒子の粒径に対応した凹凸面をなす転
写フィルムを形成する工程と、 前記転写フィルムの前記支持部材層を前記背面側基板の
内面に圧着した後、前記転写フィルムのうち前記ベース
フィルムおよび前記離型層を前記支持部材層から剥離
し、これにより前記背面側基板の内面に凸凹な表面を有
する支持層を転写形成する工程と、 前記支持層上に該支持層の凸凹な表面に追従する凸凹な
表面を有する反射層を積層して前記散乱反射層を形成す
る工程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
7. A support layer having an uneven surface on the inner surface of the rear substrate of a liquid crystal cell having liquid crystal sealed between a display surface substrate and a rear substrate, and an uneven surface following the uneven surface. A method for manufacturing a liquid crystal display device provided with a scattering reflection layer having both functions of a light scattering function and a light reflection function having a reflection surface formed on a support member layer for forming the support layer A release layer for forming a boundary surface that facilitates peeling in a later step,
Any one of the layers contains particles having a predetermined particle size and is sequentially laminated on a base film so that a boundary surface between the release layer and the support member layer forms an uneven surface corresponding to the particle size of the particles. Forming a transfer film, and after pressing the support member layer of the transfer film against the inner surface of the rear substrate, peeling the base film and the release layer of the transfer film from the support member layer, The step of transferring and forming a support layer having an uneven surface on the inner surface of the back side substrate, and laminating a reflective layer having an uneven surface that follows the uneven surface of the support layer on the support layer. Forming a scattering reflection layer.
【請求項8】 請求項7に記載の発明において、前記転
写フィルムの前記離型層が所定の粒径の粒子を含んでい
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the release layer of the transfer film contains particles having a predetermined particle size.
【請求項9】 請求項7に記載の発明において、前記転
写フィルムの前記支持部材層が所定の粒径の粒子を含ん
でいることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
9. The method according to claim 7, wherein the support member layer of the transfer film contains particles having a predetermined particle size.
【請求項10】 表示面側基板と背面側基板との間に液
晶を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に光
散乱機能と光反射機能の双方の機能を有する散乱反射層
が設けられた液晶表示装置の製造方法であって、 ベースフィルム上に後工程での剥離を容易にする境界面
を形成するための離型層および前記散乱反射層を形成す
るための散乱反射部材層を順次積層して転写フィルムを
形成する工程と、 前記転写フィルムの前記散乱反射部材層を前記背面側基
板の内面に圧着した後、前記転写フィルムのうち前記ベ
ースフィルムおよび前記離型層を前記散乱反射部材層か
ら剥離し、これにより前記背面側基板の内面に前記散乱
反射層を転写形成する工程とを具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
10. A scattering / reflecting layer having both a light scattering function and a light reflecting function is provided on the inner surface of the rear substrate of a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between a display surface substrate and a rear substrate. A method for manufacturing a provided liquid crystal display device, comprising: a release layer for forming a boundary surface on a base film for facilitating separation in a later step; and a scattering / reflecting member layer for forming the scattering / reflecting layer. Forming a transfer film by successively laminating the base film and the release layer of the transfer film after pressing the scattering reflection member layer of the transfer film on the inner surface of the rear substrate. Peeling off the reflective member layer, thereby transferring and forming the scattering reflective layer on the inner surface of the rear substrate.
JP2001011170A 2001-01-19 2001-01-19 Manufacturing method of liquid crystal display device Expired - Fee Related JP3918436B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001011170A JP3918436B2 (en) 2001-01-19 2001-01-19 Manufacturing method of liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001011170A JP3918436B2 (en) 2001-01-19 2001-01-19 Manufacturing method of liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002214600A true JP2002214600A (en) 2002-07-31
JP3918436B2 JP3918436B2 (en) 2007-05-23

Family

ID=18878334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001011170A Expired - Fee Related JP3918436B2 (en) 2001-01-19 2001-01-19 Manufacturing method of liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3918436B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006154252A (en) * 2004-11-29 2006-06-15 Toppan Printing Co Ltd Diffusion lens array sheet, transmission type screen, back projection type display device, and method for manufacturing diffusion lens array sheet

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006154252A (en) * 2004-11-29 2006-06-15 Toppan Printing Co Ltd Diffusion lens array sheet, transmission type screen, back projection type display device, and method for manufacturing diffusion lens array sheet

Also Published As

Publication number Publication date
JP3918436B2 (en) 2007-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7916241B2 (en) Method for manufacturing optical element
CN105717694B (en) Display device and electronic equipment
EP2063313A1 (en) Liquid crystal display panel provided with microlens array, method for manufacturing the liquid crystal display panel, and liquid crystal display device
TW200925666A (en) Light concentrating sheet, backlight unit including the light concentrating sheet and liquid crystal display module including the backlight unit
JPWO2005091060A1 (en) Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
TW200400369A (en) Transflective liquid crystal display device color filter
JP2004341098A (en) Color liquid crystal panel
WO2017206284A1 (en) Ultrathin liquid crystal display
JPH05346578A (en) Liquid crystal display panel
TWI234038B (en) Semi-transparent type LCD device
WO2023138354A1 (en) Display screen
JP2002214600A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method therefor
JP2003222851A (en) Semi transmission type liquid crystal display device
JP2001013495A (en) Semitransmission type liquid crystal display device
TWI245967B (en) Substrate for optoelectronic device and its manufacturing method, optoelectronic device and its manufacturing method, exposure mask and electronic appliance
JP2000338476A (en) Color filter substrate for reflective liquid crystal display device
JP2001174797A (en) Semitransmissive liquid crystal display device
TW200300860A (en) Liquid crystal display device
JP2003279945A (en) Liquid crystal display device
JP2002250916A (en) Liquid crystal display device
JP4093798B2 (en) Transflective LCD panel
JP2001194517A (en) Optical film
JP2005099267A (en) Color filter and transflective liquid crystal display device
JP2002139728A (en) Reflection type liquid crystal display element and method for forming its light diffusion layer
JP3924518B2 (en) Transflective color liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040302

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060123

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060829

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061027

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070123

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140223

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees