JP2002212123A - Method for producing cyclohexenylphenol - Google Patents

Method for producing cyclohexenylphenol

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JP2002212123A
JP2002212123A JP2001008542A JP2001008542A JP2002212123A JP 2002212123 A JP2002212123 A JP 2002212123A JP 2001008542 A JP2001008542 A JP 2001008542A JP 2001008542 A JP2001008542 A JP 2001008542A JP 2002212123 A JP2002212123 A JP 2002212123A
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cyclohexenyl
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裕康 大野
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陽一郎 磯田
Kazuhiko Yao
和彦 八尾
Hiroyuki Kojima
洋之 小嶋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of producing a high-purity alkenylphenol in high yield without using a complex and expensive production system by thermally decomposing a cyclohexylidene bisphenol under a mild condition. SOLUTION: This method comprises thermally decomposing a cyclohexylidene bisphenol of general formula I, specifically, e.g. 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-4- heptylcyclohexane in a reaction vessel in the presence of a basic catalyst in an inert gas atmosphere under reduced pressure, distilling the produced phenols with, simultaneously, leaving the produced cyclohexenylphenol in the reaction vessel as the reaction residue liquor and fractionating the cyclohexenylphenol from the reaction residue liquor to obtain the objective cyclohexenylphenol of general formula II, specifically, e.g. 4-(4-n-hepthyl-1-cyclohexenyl)phenol.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シクロヘキセニル
フェノール類の製造方法に関し、詳しくは、非対称のシ
クロヘキシリデンビスフェノール類の製造原料や、電子
材料用化学品の製造原料として有用であるシクロヘキセ
ニルフェノール類をシクロヘキシリデンビスフェノール
類の熱分解によって製造する方法に関する。
The present invention relates to a method for producing cyclohexenylphenols, and more particularly, to cyclohexenylphenol useful as a raw material for producing asymmetric cyclohexylidenebisphenols or as a raw material for producing chemicals for electronic materials. To cyclohexylidenebisphenols by thermal decomposition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ジヒドロキシジアリールアルカン
類を塩基性触媒の存在下に熱分解することによって、分
子が非対称に開裂して、対応するアルケニルフェノール
類とフェノール類とが生成することは既に知られてお
り、このような反応を利用して、従来、種々のアルケニ
ルフェノール類が製造されている。
2. Description of the Related Art It has been already known that pyrolysis of dihydroxydiarylalkanes in the presence of a basic catalyst causes asymmetric cleavage of the molecule to produce corresponding alkenylphenols and phenols. Utilizing such a reaction, various alkenylphenols have been conventionally produced.

【0003】例えば、ドイツ特許公報第1235894
号には、ジヒドロキシジフェニルアルカン類をアルカリ
金属水酸化物を触媒として、減圧下に熱分解した後、反
応生成物を留出させた後、これを再結晶して、アルケニ
ルフェノール類の精製品を得ることが記載されている。
特開昭50−37736号公報には、ジヒドロキシジフ
ェニルプロパンを塩基性触媒の存在下に加熱し、反応生
成物を留出させ、この留出物を極性溶剤中に捕集するこ
とによって、p−イソプロペニルフェノールを得る方法
が記載されている。更に、特開2000−159711
号公報には、シクロヘキシリデンビスフェノール類を塩
基性触媒の存在下に減圧下に熱分解し、生成物を留出さ
せた後、これを再結晶や蒸留等の手段にて精製して、シ
クロヘキセニルフェノール類の精製品を得ることが記載
されている。
[0003] For example, German Patent Publication No. 1235894.
No.2, dihydroxydiphenylalkanes are thermally decomposed under reduced pressure using alkali metal hydroxide as a catalyst, the reaction product is distilled off, and this is recrystallized to produce purified alkenylphenols. It is stated that it can be obtained.
JP-A-50-37736 discloses that dihydroxydiphenylpropane is heated in the presence of a basic catalyst to distill a reaction product, and this distillate is collected in a polar solvent to obtain p- Methods for obtaining isopropenylphenol are described. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-159711
In the publication, cyclohexylidenebisphenols are thermally decomposed under reduced pressure in the presence of a basic catalyst, and the product is distilled off. It is described to obtain a purified product of hexenylphenols.

【0004】しかしながら、従来のこのような方法によ
っては、原料を熱分解して、精製するフェノール類とア
ルケニルフェノール類とを一旦、反応槽から減圧下に留
出させ、これを再結晶や蒸留等の手段にて精製して、精
製品を得るので、反応槽と精製槽の二つの装置が必要で
ある。更に、従来の方法によれば、減圧下に反応精製物
を留出させるので、特に、目的とするアルキル置換シク
ロアルケニルフェノール類のアルキル基の炭素数が多い
場合、例えば、4−(4−プロピル−1−シクロヘキセ
ニル)フェノールの場合には、その留出には、温度22
0℃、圧力8mmHg以上の高温、減圧条件が必要であり、
かくして、高温高真空に耐える装置が必要となり、製造
費用を高める要因となる。
However, according to such a conventional method, the raw material is thermally decomposed and the phenols and alkenylphenols to be purified are once distilled off from the reaction tank under reduced pressure, and this is recrystallized or distilled. Purification by means of (1) above gives a purified product, so two devices, a reaction tank and a purification tank, are required. Furthermore, according to the conventional method, since the reaction purified product is distilled under reduced pressure, particularly when the alkyl group of the target alkyl-substituted cycloalkenylphenol has a large number of carbon atoms, for example, 4- (4-propyl) In the case of -1-cyclohexenyl) phenol, the distillation takes place at a temperature of 22.
0 ° C, high pressure of 8mmHg or more, decompression conditions are required,
Thus, a device that can withstand high temperature and high vacuum is required, which causes an increase in manufacturing cost.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のアル
ケニルフェノール類の製造における上述したような問題
を解決するためになされたものであって、精製するフェ
ノール類は反応槽から留出するが、しかし、生成するシ
クロヘキセニルフェノール類は反応槽に残留するよう
に、従来の方法に比べて、穏和な条件下にシクロヘキシ
リデンビスフェノール類を熱分解し、次いで、このよう
に、反応槽に残留した反応残留液から目的とするシクロ
ヘキセニルフェノール類を分別することによって、複雑
で高価な製造装置を用いることなく、高純度のアルケニ
ルフェノール類を高収率で得ることができる製造方法を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the conventional production of alkenylphenols, and the phenols to be purified are distilled off from the reaction tank. However, compared to the conventional method, the cyclohexenylidene bisphenol is thermally decomposed under milder conditions so that the formed cyclohexenyl phenol remains in the reaction vessel, and then the cyclohexenyl phenol remains in the reaction vessel. To provide a production method capable of obtaining high-purity alkenylphenols in a high yield without separating a cyclohexenylphenol of interest from a reaction residue obtained by using a complicated and expensive production apparatus. With the goal.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I)
According to the present invention, the compound represented by the general formula (I)

【0007】[0007]

【化7】 Embedded image

【0008】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキ
ル基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3の
とき、R3 は相互に同一でもよく、相違していてもよ
い。)で表わされるシクロヘキシリデンビスフェノール
類を、反応槽において、不活性ガス雰囲気中で熱分解し
て、生成するフェノール類を留出させる一方、生成する
シクロヘキセニルフェノール類を反応残留液として反応
槽に残留させ、この反応残留液からシクロヘキセニルフ
ェノール類を分別することを特徴とする一般式(II)
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group, R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same as or different from each other, and the cyclohexylidenebisphenol represented by Thermal decomposition in an active gas atmosphere to distill off the generated phenols, while leaving the generated cyclohexenyl phenols in the reaction tank as a reaction residue, and separating cyclohexenyl phenols from the reaction residue General formula (II) characterized by

【0009】[0009]

【化8】 Embedded image

【0010】(式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ
である。)で表わされるシクロヘキセニルフェノール類
の製造方法が提供される。
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above). A process for producing cyclohexenylphenols represented by the formula:

【0011】更に、本発明によれば、一般式(III)Further, according to the present invention, a compound represented by the general formula (III):

【0012】[0012]

【化9】 Embedded image

【0013】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル基を示す。)で表わされるフェノール類と
一般式(IV)
(Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group) and a phenol represented by the general formula (IV)

【0014】[0014]

【化10】 Embedded image

【0015】(式中、R3 は炭素数1〜12のアルキル
基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3のと
き、R3 は相互に同一でもよく、相違していてもよ
い。)で表わされるシクロヘキサノン類とを酸触媒の存
在下に脱水縮合させ、得られた反応混合物をアルカリで
中和した後、水層を分液にて除去して、一般式(I)
(Wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same or different. Is dehydrated and condensed in the presence of an acid catalyst, and the resulting reaction mixture is neutralized with an alkali. The aqueous layer is removed by liquid separation to obtain a compound represented by the general formula ( I)

【0016】[0016]

【化11】 Embedded image

【0017】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキ
ル基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3の
とき、R3 は相互に同一でもよく、相違していてもよ
い。)で表わされるシクロヘキシリデンビスフェノール
類を含む油層を得、この油層を、反応槽において、不活
性ガス雰囲気中で熱分解して、生成するフェノール類を
留出させる一方、生成するシクロヘキセニルフェノール
類を反応残留液として反応槽に残留させ、この反応残留
液からシクロヘキセニルフェノール類を分別することを
特徴とする一般式(II)
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group; R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same as or different from each other) to obtain an oil layer containing a cyclohexylidenebisphenol represented by the formula: The oil layer is thermally decomposed in an inert gas atmosphere in a reaction tank to distill off the generated phenols, and the generated cyclohexenylphenols are left in the reaction tank as a reaction residual liquid. General formula (II) characterized in that cyclohexenylphenols are separated

【0018】[0018]

【化12】 Embedded image

【0019】(式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ
である。)で表わされるシクロヘキセニルフェノール類
の製造方法が提供される。
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above), and a process for producing cyclohexenylphenols represented by the formula:

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明によれば、第1の側面とし
て、シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解によ
るシクロヘキセニルフェノール類の製造方法が提供され
る。この方法においては、出発原料として、一般式
(I)
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to the present invention, as a first aspect, there is provided a method for producing cyclohexenylphenols by pyrolysis of cyclohexylidenebisphenols. In this method, a general formula (I) is used as a starting material.

【0021】[0021]

【化13】 Embedded image

【0022】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキ
ル基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3の
とき、R3 は相互に同一でもよく、相違していてもよ
い。)で表わされるシクロヘキシリデンビスフェノール
類が用いられる。
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group, R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same as or different from each other.).

【0023】上記一般式(I)で表わされるシクロヘキ
シリデンビスフェノール類において、R1 及びR2 はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シ
クロヘキシル基又はフェニル基であり、炭素数1〜4の
アルキル基である場合、それらの具体例として、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を挙
げることができる。プロピル基及びブチル基は直鎖状で
も、分岐状でもよい。
In the cyclohexylidenebisphenols represented by the general formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group; When it is an alkyl group of 1 to 4, specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. The propyl group and the butyl group may be linear or branched.

【0024】また、R3 は炭素数1〜12のアルキル基
を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3のと
き、R3 は相互に同一でもよく、相違していてもよい。
従って、R3 の具体例として、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基
又はドデシル基を挙げることができる。アルキル基が炭
素数3以上であるときは、そのアルキル基は、直鎖状で
も、分岐状でもよい。
R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same as or different from each other. Is also good.
Therefore, specific examples of R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group. When the alkyl group has 3 or more carbon atoms, the alkyl group may be linear or branched.

【0025】従って、このようなシクロヘキシリデンビ
スフェノール類の具体例としては、例えば、1, 1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシクロ
ヘキサン、1, 1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4
−n−プロピルシクロヘキサン、1, 1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−4−n−ブチルシクロヘキサン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−n−ペンチ
ルシクロヘキサン、1, 1−ビス(3−シクロヘキシル−
4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1, 1−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1, 1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、1, 1−ビス(3, 5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1, 1−ビス
(3, 5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−イ
ソプロピルシクロヘキサン、1, 1−ビス(3−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピル
シクロヘキサン、1, 1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1, 1−ビス
(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン等を挙げることができる。
Accordingly, specific examples of such cyclohexylidenebisphenols include, for example, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl)- 4
-N-propylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-n-butylcyclohexane,
1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-n-pentylcyclohexane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-
4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5 -Dimethyl-4
-Hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, Examples thereof include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane and 1,1-bis (3-t-butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane.

【0026】本発明の方法によれば、このようなシクロ
ヘキシリデンビスフェノール類を、反応槽において、塩
基性触媒の存在下又は不存在下に、窒素ガス等の不活性
ガス雰囲気下に、160〜270℃の範囲の温度に加熱
し、熱分解することによって、シクロヘキセニルフェノ
ール類とフェノール類とを生成させる。
According to the method of the present invention, such cyclohexylidenebisphenols are added to a reaction vessel in the presence or absence of a basic catalyst in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas for 160-160. Heating to a temperature in the range of 270 ° C. and pyrolysis produces cyclohexenylphenols and phenols.

【0027】上記塩基性触媒は、シクロヘキシリデンビ
スフェノール類の熱分解を促進するために用いることが
好ましく、そのような塩基性触媒としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の
アルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素
塩、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカ
リ土類金属水酸化物、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム等のアルカリ土類金属酸化物等を挙げることができ
る。本発明によれば、これらのなかでも、特に、水酸化
ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物
が好ましく用いられる。
The above basic catalyst is preferably used for accelerating the thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols. Examples of such a basic catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. Alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, and alkaline earth metals such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide Examples thereof include hydroxides, alkaline earth metal oxides such as calcium oxide and magnesium oxide. According to the present invention, among these, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide are particularly preferably used.

【0028】これらの塩基性触媒は、特に限定されるも
のではないが、通常、出発原料であるシクロヘキシリデ
ンビスフェノール類に対して、0.01〜20モル%、好まし
くは、0.1 〜10モル%の範囲で用いられる。
These basic catalysts are not particularly limited, but are usually in the range of 0.01 to 20 mol%, preferably 0.1 to 10 mol%, based on the starting material cyclohexylidenebisphenols. Used in

【0029】本発明においては、シクロヘキシリデンビ
スフェノール類の熱分解に際して、反応槽にシクロヘキ
シリデンビスフェノール類を仕込み、反応槽内を不活性
ガス、例えば窒素ガスで置換した後に、上記塩基性触媒
を反応槽に仕込むことによって、望ましくない副反応に
よるキノン類の生成を抑えて、目的物の収率を高くする
ことができる。
In the present invention, during the thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols, cyclohexylidenebisphenols are charged into a reaction vessel, and the inside of the reaction vessel is replaced with an inert gas, for example, nitrogen gas. By charging the reactor, the production of quinones due to undesired side reactions can be suppressed, and the yield of the target product can be increased.

【0030】本発明によれば、シクロヘキシリデンビス
フェノール類の熱分解反応は、熱分解温度において、得
られる反応混合物が液状又はスラリーであれば、反応溶
媒は、特に、用いる必要はないが、しかし、熱分解温度
において、得られる反応混合物の粘度が高い場合や、得
られる反応混合物が固化するような場合には、反応溶媒
を用いてもよい。用いる反応溶媒としては、熱分解温度
において、反応に対して不活性な溶媒であればよく、例
えば、ドデシルアルコール、2−エチルヘキサノール等
のアルコール類、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコ
ール類、フェノール、アルキルフェノール等のフェノー
ル類、トリイソプロピルベンゼン等のアルキルベンゼン
類、ジイソプロピルナフタレン等のアルキルナフタレン
類、水素化トリフェニル等の炭化水素類を挙げることが
できる。
According to the present invention, the thermal decomposition reaction of cyclohexylidenebisphenols is not particularly required to use a reaction solvent at the thermal decomposition temperature if the obtained reaction mixture is a liquid or a slurry. When the viscosity of the obtained reaction mixture is high at the thermal decomposition temperature or when the obtained reaction mixture solidifies, a reaction solvent may be used. The reaction solvent to be used may be any solvent that is inert to the reaction at the thermal decomposition temperature, such as alcohols such as dodecyl alcohol and 2-ethylhexanol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, tripropylene glycol and the like. Glycols, phenols such as phenol and alkylphenol, alkylbenzenes such as triisopropylbenzene, alkylnaphthalenes such as diisopropylnaphthalene, and hydrocarbons such as hydrogenated triphenyl.

【0031】このような反応溶媒を用いる場合、溶媒
は、出発原料であるシクロヘキシリデンビスフェノール
類に対して、通常、0.01〜20重量倍、好ましくは、0.1
〜5重量倍程度が用いられる。
When such a reaction solvent is used, the solvent is usually used in an amount of 0.01 to 20 times by weight, preferably 0.1 times, the weight of the starting material cyclohexylidenebisphenols.
About 5 times the weight is used.

【0032】上述したように、本発明においては、シク
ロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解は、生成する
目的物シクロヘキセニルフェノール類が反応槽から留出
しない条件下で行われる。従って、本発明によれば、出
発原料として用いる個々のシクロヘキシリデンビスフェ
ノール類にもよるが、通常、シクロヘキシリデンビスフ
ェノール類の熱分解は、160〜270℃の範囲の温
度、好ましくは、180〜220℃の範囲の温度におい
て、常圧又は減圧下に、好ましくは、常圧乃至0.1mmH
g、特に好ましくは、10〜40mmHgの減圧下に行なわれ
る。
As described above, in the present invention, the thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols is carried out under the condition that the produced cyclohexenylphenols are not distilled out of the reaction vessel. Therefore, according to the present invention, although it depends on the individual cyclohexylidenebisphenols used as a starting material, the thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols is usually carried out at a temperature in the range of 160 to 270 ° C, preferably 180 to 270 ° C. At a temperature in the range of 220 ° C., under normal pressure or reduced pressure, preferably normal pressure to 0.1 mmH
g, particularly preferably under reduced pressure of 10 to 40 mmHg.

【0033】本発明に従って、このような条件下におい
て、シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解を行
なうことによって、熱分解反応に伴って生成するフェノ
ール類(用いるシクロヘキシリデンビスフェノール類に
よって、アルキルフェノール類又はフェノールが生成す
る。)等の低沸点生成物のほか、反応溶媒の一部又は全
部も、反応槽より留出するが、しかし、生成した目的物
シクロヘキセニルフェノール類は、反応槽に反応残留液
として残留する。
According to the present invention, under such conditions, cyclohexylidenebisphenols are thermally decomposed to form phenols formed by the thermal decomposition reaction (depending on the cyclohexylidenebisphenols used, alkylphenols or phenols). ), And a part or all of the reaction solvent is distilled out of the reaction tank. However, the produced cyclohexenyl phenols formed as a reaction residual liquid in the reaction tank. Remains.

【0034】ここに、本発明によれば、このように、反
応槽に残留した反応残留液中の目的物シクロヘキセニル
フェノール類は、シクロヘキシリデンビスフェノール類
の熱分解の温度及び圧力条件の下において比較的安定で
あり、かくして、熱分解反応を通じて、反応槽におい
て、更なる熱分解を実質的に起こさない。また、本発明
によれば、シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱分
解によって生成した上記フェノール類は、反応槽から留
出するので、反応によって生成した目的物であるシクロ
ヘキセニルフェノール類にこのフェノール類が付加し
て、出発原料であるシクロヘキシリデンビスフェノール
類として再生することをも防止するすることができる。
Here, according to the present invention, as described above, the target product cyclohexenylphenol in the reaction residual liquid remaining in the reaction tank can be obtained under the temperature and pressure conditions of thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenol. It is relatively stable and thus does not substantially undergo further pyrolysis in the reactor through the pyrolysis reaction. Further, according to the present invention, the phenols formed by the thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols are distilled out of the reaction tank, so that the phenols are added to cyclohexenylphenols, which are the target products formed by the reaction. Thus, regeneration as cyclohexylidenebisphenols, which are starting materials, can also be prevented.

【0035】本発明の方法によれば、このように、シク
ロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解反応におい
て、目的物であるシクロヘキセニルフェノール類を反応
槽から留出させることなく、この反応槽中に、シクロヘ
キセニルフェノール類を含む反応残留液として残留さ
せ、この反応残留液から目的とするシクロヘキセニルフ
ェノール類を分別する。特に、本発明によれば、この分
別手段として、(反応溶媒を用いた場合には、その)反
応溶媒をそのまま、晶析溶媒として用いて、又は反応残
留液に晶析溶媒を加えた後、更に、酸を加えて、反応残
留液を中和し、次いで、得られた混合物からシクロヘキ
セニルフェノール類を晶析させ、これを分離し、乾燥し
て、目的とする高純度のシクロヘキセニルフェノ−ル類
を高収率で得ることができる。
According to the method of the present invention, in the thermal decomposition reaction of cyclohexylidenebisphenols, the desired cyclohexenylphenols are not distilled out of the reaction tank, but are introduced into the reaction tank. The residue is left as a reaction residue containing cyclohexenylphenols, and the target cyclohexenylphenol is separated from the reaction residue. In particular, according to the present invention, as this separation means, the reaction solvent (if a reaction solvent is used) is used as it is, as a crystallization solvent, or after the crystallization solvent is added to the reaction residual liquid, Further, an acid is added to neutralize the reaction residual liquid, and then cyclohexenylphenols are crystallized from the resulting mixture, which is separated and dried, and the desired high-purity cyclohexenylpheno-phenol is obtained. Can be obtained in high yield.

【0036】上記晶析溶媒としては、本発明において製
造するシクロヘキセニルフェノール類と反応しない溶媒
であればよく、特に、限定されるものではないが、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、シクロヘキサノール等の脂肪族又は脂環式アルコー
ルやこれらの混合物、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香
族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、
メチルシクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭化水素を
挙げることができる。
The crystallization solvent may be any solvent that does not react with the cyclohexenylphenol produced in the present invention, and is not particularly limited. Examples thereof include methanol, ethanol, propanol, butanol, and cyclohexanol. Such as aliphatic or alicyclic alcohols and mixtures thereof, acetone, methyl ethyl ketone,
Aliphatic ketones such as methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene and mesitylene, hexane, cyclohexane, heptane,
Examples thereof include aliphatic or alicyclic hydrocarbons such as methylcyclohexane.

【0037】しかし、これらのなかでも、本発明におい
て製造するシクロヘキセニルフェノール類の溶解性が低
く、熱分解反応において副生した不純物の溶解性が高い
脂肪族炭化水素類が好ましく、特に、ヘプタンが好まし
い。
However, among these, aliphatic hydrocarbons having low solubility of the cyclohexenylphenol produced in the present invention and high solubility of impurities produced as a by-product in the thermal decomposition reaction are preferable, and heptane is particularly preferable. preferable.

【0038】このような晶析溶媒は、通常、シクロヘキ
セニルフェノール類に対して、0.2〜20重量倍、好まし
くは、0.1〜5重量倍の範囲で用いられる。
Such a crystallization solvent is usually used in an amount of 0.2 to 20 times by weight, preferably 0.1 to 5 times by weight, based on cyclohexenylphenol.

【0039】本発明においては、反応残留液に晶析溶媒
を加える態様は、特に、限定されるものではないが、し
かし、反応溶媒を用いることなく、熱分解反応を行なっ
た場合、熱分解反応生成物の凝固点が高いこと等の理由
から、晶析溶媒をその沸点付近の温度において、反応残
留液に加えるのが好ましい。従って、晶析溶媒として、
例えば、ヘプタンを用いる場合は、90〜120 ℃の範囲の
温度において、これを反応残留液に加えるのが好まし
い。
In the present invention, the mode of adding the crystallization solvent to the reaction residual liquid is not particularly limited. However, when the thermal decomposition reaction is performed without using the reaction solvent, the thermal decomposition reaction For reasons such as a high freezing point of the product, it is preferable to add the crystallization solvent to the reaction residue at a temperature near its boiling point. Therefore, as a crystallization solvent,
For example, when heptane is used, it is preferably added to the reaction residue at a temperature in the range of 90 to 120 ° C.

【0040】このように、反応残留液に晶析溶媒を加え
た後、反応残留液に酢酸、硫酸、リン酸等の酸を加え
て、反応残留液を、好ましくは、pHが6〜10の範囲に中
和する。これによって、目的物であるシクロヘキセニル
フェノール類の反応性を低くすることができるので好ま
しい。次いで、得られた混合物に、必要に応じて、中和
によって生成した塩を溶解させるために水を加えた後、
分離した水層を分液除去し、又は、分液除去せずに、シ
クロヘキセニルフェノール類を晶析させ、これを分離、
乾燥して、目的とする高純度のシクロヘキセニルフェノ
ール類を得ることができる。
As described above, after the crystallization solvent is added to the reaction residue, an acid such as acetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or the like is added to the reaction residue, and the reaction residue is added preferably at a pH of 6 to 10. Neutralize to a range. This is preferable because the reactivity of the target cyclohexenylphenol can be reduced. Then, water was added to the resulting mixture, if necessary, to dissolve the salt formed by neutralization.
Separation and removal of the separated aqueous layer, or without separation and separation, crystallize cyclohexenylphenols, and separate and separate them.
By drying, the desired high-purity cyclohexenylphenols can be obtained.

【0041】本発明の方法によれば、このように、シク
ロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解反応におい
て、目的物であるシクロヘキセニルフェノール類を反応
槽から留出させることなく、この反応槽中に、シクロヘ
キセニルフェノール類を含む反応残留液として残留さ
せ、次いで、この反応残留液から目的とするシクロヘキ
セニルフェノール類を分別して、高純度品を得る。従っ
て、本発明の方法によれば、精製のための装置、例え
ば、精製槽が必要でなく、工程が簡単であり、反応収率
も向上する。即ち、本発明によれば、目的とするシクロ
ヘキセニルフェノール類の収率は、通常、出発原料であ
るシクロヘキシリデンビスフェノール類に対して、60
〜90モル%程度である。
According to the method of the present invention, as described above, in the thermal decomposition reaction of cyclohexylidenebisphenols, the desired cyclohexenylphenols are not distilled out of the reaction vessel, and It is left as a reaction residue containing cyclohexenylphenols, and then the desired cyclohexenylphenol is separated from the reaction residue to obtain a highly purified product. Therefore, according to the method of the present invention, an apparatus for purification, for example, a purification tank is not required, the process is simple, and the reaction yield is improved. That is, according to the present invention, the yield of the desired cyclohexenylphenol is usually 60 to the starting material cyclohexylidenebisphenol.
About 90 mol%.

【0042】このようにして、本発明によれば、用いる
出発原料に対応して、一般式(II)
As described above, according to the present invention, the general formula (II)

【0043】[0043]

【化14】 Embedded image

【0044】(式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ
である。)で表わされるシクロヘキセニルフェノール類
を得ることができる。
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above).

【0045】従って、このようなシクロヘキセニルフェ
ノール類の具体例として、4−(1−シクロヘキセニ
ル)フェノール、4−(4−メチル−1−シクロヘキセ
ニル)フェノール、4−(4−エチル−1−シクロヘキ
セニル)フェノール、4−(4−n−プロピル−1−シ
クロヘキセニル)フェノール、4−(4−イソプロピル
−1−シクロヘキセニル)フェノール、4−(4−n−
ブチル−1−シクロヘキセニル)フェノール、4−(4
−n−ペンチル−1−シクロヘキセニル)フェノール、
4−(4−n−ヘキシル−1−シクロヘキセニル)フェ
ノール、4−(4−n−ヘブチル−1−シクロヘキセニ
ル)フェノール、4−(4−n−オクチル−1−シクロ
ヘキセニル)フェノール、4−(4−n−ドデシル−1
−シクロヘキセニル)フェノール、4−(4−シクロヘ
キシル−1−シクロヘキセニル)フェノール、4−(1
−シクロヘキセニル)−2−シクロヘキシルフェノー
ル、4−(1−シクロヘキセニル)−2−メチルフェノ
ール、4−(1−シクロヘキセニル)−2−フェニルフ
ェノール、4−(1−シクロヘキセニル)−2,6−ジメ
チルフェノール、4−(4−イソプロピル−1−シクロ
ヘキセニル)−2,6−ジメチルフェノール、4−(3,3,
5−トリメチル−1−シクロヘキセニル)フェノール、
4−(4−n−ブチル−1−シクロヘキセニル)−2−
シクロヘキシルフェノール、4−(1−シクロヘキセニ
ル)−2−t−ブチルフェノール等を挙げることができ
る。
Accordingly, specific examples of such cyclohexenyl phenols include 4- (1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-methyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-ethyl-1- Cyclohexenyl) phenol, 4- (4-n-propyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-isopropyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-n-
Butyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4
-N-pentyl-1-cyclohexenyl) phenol,
4- (4-n-hexyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-n-hexyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-n-octyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (4-n-dodecyl-1
-Cyclohexenyl) phenol, 4- (4-cyclohexyl-1-cyclohexenyl) phenol, 4- (1
-Cyclohexenyl) -2-cyclohexylphenol, 4- (1-cyclohexenyl) -2-methylphenol, 4- (1-cyclohexenyl) -2-phenylphenol, 4- (1-cyclohexenyl) -2,6 -Dimethylphenol, 4- (4-isopropyl-1-cyclohexenyl) -2,6-dimethylphenol, 4- (3,3,
5-trimethyl-1-cyclohexenyl) phenol,
4- (4-n-butyl-1-cyclohexenyl) -2-
Cyclohexylphenol, 4- (1-cyclohexenyl) -2-t-butylphenol and the like can be mentioned.

【0046】上記本発明の方法において、出発原料とし
て用いるシクロヘキシリデンビスフェノール類は、既
に、特開2000−159711号公報に記載されてい
るように、適当なフェノール類とシクロヘキサノン類と
の縮合反応によって得ることができる。
In the method of the present invention, the cyclohexylidenebisphenol used as a starting material is obtained by a condensation reaction of an appropriate phenol with a cyclohexanone as described in JP-A-2000-159711. Obtainable.

【0047】従って、本発明によれば、別の側面とし
て、適当なフェノール類とシクロヘキサノン類とを縮合
させて、シクロヘキシリデンビスフェノール類を生成さ
せ、これを単離することなく、得られた反応生成物をそ
のままか、必要に応じて、未反応フェノール類や、場合
によっては、未反応シクロヘキサノン類を蒸留にて除い
た後、これを、好ましくは、塩基性触媒の存在下に熱分
解して、生成したシクロヘキセニルフェノール類を含む
反応槽の反応残留液から、前述したようにして、シクロ
ヘキセニルフェノ−ル類を分別して、目的とする高純度
シクロヘキセニルフェノール類を得ることができる。
Therefore, according to the present invention, as another aspect, an appropriate phenol and cyclohexanone are condensed to form cyclohexylidenebisphenols, and the obtained reaction is isolated without isolation. The product as it is, or, if necessary, unreacted phenols or, in some cases, unreacted cyclohexanones are removed by distillation, and this is preferably thermally decomposed in the presence of a basic catalyst. As described above, cyclohexenylphenols can be separated from the reaction residual liquid in the reaction tank containing the produced cyclohexenylphenols to obtain the desired high-purity cyclohexenylphenols.

【0048】即ち、前記一般式(I) で表わされるシクロ
ヘキシリデンビスフェノール類は、一般式(III)
That is, the cyclohexylidenebisphenol represented by the general formula (I) is a compound represented by the general formula (III)

【0049】[0049]

【化15】 Embedded image

【0050】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル基を示す。)で表わされるフェノール類と
一般式(IV)
(Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group) and a phenol represented by the general formula (IV)

【0051】[0051]

【化16】 Embedded image

【0052】(式中、R3 は炭素数1〜12のアルキル
基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3のと
き、R3 は相互に同一でもよく、相違してもよい。)で
表わされるシクロヘキサノン類とを酸触媒の存在下に脱
水縮合させることによって得ることができる。
(Wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be mutually the same or different. May be obtained by dehydration-condensation with the cyclohexanone represented by the formula (1) in the presence of an acid catalyst.

【0053】上記一般式(III) で表わされるフェノール
類と一般式(IV)で表わされるシクロヘキサノン類のおい
て、R1 、R2 、R3 及びnは、前記と同じである。従
って、上記フェノール類としては、例えば、フェノー
ル、2−メチルフェノール、2−エチルフェノール、2
−プロピルフェノール、2−イソブチルフェノール、2,
6−ジメチルフェノール、2,6−ジエチルフェノール、
2,6−ジプロピルフェノール、2,6−ジ−t−ブチルフ
ェノール、2−シクロヘキシルフェノール、2−シクロ
ヘキシル−5−ジメチルフェノール等を挙げることがで
きる。
In the phenols represented by the general formula (III) and the cyclohexanones represented by the general formula (IV), R 1 , R 2 , R 3 and n are the same as described above. Therefore, the phenols include, for example, phenol, 2-methylphenol, 2-ethylphenol,
-Propylphenol, 2-isobutylphenol, 2,
6-dimethylphenol, 2,6-diethylphenol,
Examples thereof include 2,6-dipropylphenol, 2,6-di-t-butylphenol, 2-cyclohexylphenol, and 2-cyclohexyl-5-dimethylphenol.

【0054】同様に、上記シクロヘキサノン類として
は、例えば、シクロヘキサノン、4−メチルシクロヘキ
サノン、4−エチルシクロヘキサノン、4−n−プロピ
ルシクロヘキサノン、4−イソプロピルシクロヘキサノ
ン、4−n−ブチルシクロヘキサノン、4−t−ブチル
シクロヘキサノン、4−n−ペンチルシクロヘキサノ
ン、4−n−ヘキシルシクロヘキサノン、4−n−ヘプ
チルシクロヘキサノン、4−n−オクチルシクロヘキサ
ノン、4−n−デシルシクロヘキサノン、4−n−ドデ
シルシクロヘキサノン、4−シクロヘキシルシクロヘキ
サノン、3,5−ジメチルシクロヘキサノン、3,3,5 −ト
リメチルシクロヘキサノン等を挙げることができる。
Similarly, the cyclohexanone includes, for example, cyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, 4-ethylcyclohexanone, 4-n-propylcyclohexanone, 4-isopropylcyclohexanone, 4-n-butylcyclohexanone, 4-t-butyl Cyclohexanone, 4-n-pentylcyclohexanone, 4-n-hexylcyclohexanone, 4-n-heptylcyclohexanone, 4-n-octylcyclohexanone, 4-n-decylcyclohexanone, 4-n-dodecylcyclohexanone, 4-cyclohexylcyclohexanone, 3 , 5-dimethylcyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, and the like.

【0055】上記フェノール類と上記シクロヘキサノン
類との縮合によるシクロヘキシリデンビスフェノール類
の製造において、特に、限定されるものではないが、フ
ェノール類は、通常、シクロヘキサノン類1モル部に対
して、理論値(2モル部)以上が用いられ、特に、シク
ロヘキサノン類1モル部に対して、4〜10モル部の範
囲で用いられる。シクロヘキサノン類1モル部に対し
て、フェノール類が2モル部よりも少ないときは、望ま
しくない副生物の生成割合が多くなって、目的とするシ
クロヘキシリデンビスフェノール類の収率が低下する。
しかし、シクロヘキサノン類1モル部に対して、フェノ
ール類を10モル部よりも多く用いると、未反応のフェ
ノール類が多く残存するので、反応経済の点からみて不
利であり、しかも、生産効率が低下する。
In the production of cyclohexylidenebisphenols by condensation of the above-mentioned phenols with the above-mentioned cyclohexanone, the phenol is usually, but not limited to, a phenol having a theoretical value based on 1 mol part of the cyclohexanone. (2 mol parts) or more, and particularly in the range of 4 to 10 mol parts per 1 mol part of cyclohexanone. When the amount of the phenol is less than 2 parts by mol per 1 part by mol of the cyclohexanone, the production ratio of undesired by-products increases, and the yield of the desired cyclohexylidenebisphenol decreases.
However, if more than 10 parts by mole of phenol is used per 1 part by mole of cyclohexanone, a large amount of unreacted phenol remains, which is disadvantageous from the viewpoint of reaction economy, and lowers production efficiency. I do.

【0056】上記フェノール類と上記シクロヘキサノン
類との縮合に用いる酸触媒には、限定されるものではな
いが、例えば、濃塩酸、塩化水素ガス、60〜98%硫
酸、85%リン酸、メタンスルホン酸、イオン交換樹脂
等が用いられる。
The acid catalyst used for the condensation of the above phenols with the above cyclohexanone is not limited. For example, concentrated hydrochloric acid, hydrogen chloride gas, 60 to 98% sulfuric acid, 85% phosphoric acid, methane sulfone Acids, ion exchange resins and the like are used.

【0057】上記フェノール類と上記シクロヘキサノン
類とは、このような酸触媒のみの存在下においても、縮
合するが、しかし、用いるシクロヘキサノンによって
は、アルキルメルカプタン等の助触媒を上記酸触媒と共
に併用するのが好ましい場合がある。このような助触媒
としては、特に、炭素数1〜12のアルキルメルカプタ
ンが好ましい。このようなアルキルメルカプタンは、通
常、シクロヘキサノン類に対して、0.1〜10重量%の
範囲で用いられる。
The phenols and the cyclohexanone condense even in the presence of only such an acid catalyst. However, depending on the cyclohexanone used, a co-catalyst such as an alkyl mercaptan may be used together with the acid catalyst. May be preferred. As such a co-catalyst, an alkyl mercaptan having 1 to 12 carbon atoms is particularly preferable. Such an alkyl mercaptan is usually used in a range of 0.1 to 10% by weight based on cyclohexanone.

【0058】用いるフェノール類が常温で固体であると
きは、シクロヘキサノン類との縮合反応に際しては、好
ましくは、例えば、脂肪族アルコール類や芳香族炭化水
素類(例えば、トルエン等)等が反応溶剤として用いら
れる。
When the phenols used are solid at ordinary temperature, preferably, for example, aliphatic alcohols or aromatic hydrocarbons (eg, toluene, etc.) are used as a reaction solvent in the condensation reaction with cyclohexanone. Used.

【0059】上記フェノール類と上記シクロヘキサノン
類との縮合反応は、特に、限定されるものではないが、
反応温度が低すぎるときは、反応速度が実用上、遅す
ぎ、他方、高すぎるときは、望ましくない副反応が起こ
って、目的とするシクロヘキシリデンビスフェノール類
の収率が低下する。従って、上記フェノール類と上記シ
クロヘキサノン類との縮合反応は、好ましくは、20〜
80℃、好ましくは、30〜60℃の範囲の温度で行わ
れる。
The condensation reaction between the above phenols and the above cyclohexanone is not particularly limited.
When the reaction temperature is too low, the reaction rate is too slow for practical use. On the other hand, when the reaction temperature is too high, an undesired side reaction occurs and the yield of the desired cyclohexylidenebisphenol decreases. Therefore, the condensation reaction between the phenols and the cyclohexanone is preferably 20 to 20.
It is carried out at a temperature of 80 ° C, preferably 30-60 ° C.

【0060】上記フェノール類と上記シクロヘキサノン
類との縮合反応は、液体クロマトグラフィー分析又はガ
スクロマトグラフィー分析によって追跡することがで
き、未反応シクロヘキサノン類が消失し、目的とするシ
クロヘキシリデンビスフェノール類の増加が認められな
くなった時点を反応の終点とすればよい。
The condensation reaction between the above phenols and the above cyclohexanone can be monitored by liquid chromatography analysis or gas chromatography analysis, and the unreacted cyclohexanone disappears and the desired cyclohexylidenebisphenol increases. The point at which is no longer observed may be the end point of the reaction.

【0061】そこで、反応の終了後、得られた反応混合
物をアルカリ水溶液で中和した後、水層を分液除去し、
得られた油分を前記出発原料として、前述したと同様に
して、これを、好ましくは、塩基性触媒の存在下に熱分
解することによって、目的とするシクロヘキセニルフェ
ノール類を得ることができる。
Therefore, after completion of the reaction, the obtained reaction mixture was neutralized with an aqueous alkali solution, and the aqueous layer was separated and removed.
The obtained cyclohexenyl phenols can be obtained by subjecting the obtained oil component to thermal decomposition in the same manner as described above, preferably in the presence of a basic catalyst.

【0062】即ち、前述したようにシクロヘキシリデン
ビスフェノール類を反応生成物として含む油分を得、フ
ェノール類とシクロヘキサノン類との縮合反応に溶媒を
用いた場合には、好ましくは、上記油分からその溶媒を
留去する。このように、油分から溶媒を除去した後は、
この油分は、生成したシクロヘキシリデンビスフェノー
ル類と過剰に用いた未反応フェノール類のほか、反応副
生物からなる。
That is, as described above, when an oil containing cyclohexylidenebisphenols as a reaction product is obtained, and a solvent is used in the condensation reaction between the phenols and cyclohexanone, the oil is preferably converted from the oil to the solvent. Is distilled off. Thus, after removing the solvent from the oil,
This oil component consists of the produced cyclohexylidenebisphenols, the unreacted phenols used in excess, and the reaction by-products.

【0063】そこで、この油分を、好ましくは、塩基性
触媒の存在下、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で、常
圧乃至10mmHgの減圧下に、160〜270℃の範囲の
温度にシクロヘキシリデンビスフェノール類を加熱し
て、油分中のシクロヘキシリデンビスフェノール類を熱
分解し、生成したフェノール類(アルキルフェノール類
又はフェノール)等の低沸点生成物を反応槽より留出さ
せ、他方、生成した目的物シクロヘキセニルフェノール
類を反応槽に反応残留液として残留せしめて、以後、前
述したようにして、反応槽中において、得られた反応残
留液から目的とするシクロヘキセニルフェノール類を分
別して、目的とする高純度のシクロヘキセニルフェノー
ル類を高収率で得ることができる。
Thus, the oil is cyclohexylylated at a temperature in the range of 160 to 270 ° C., preferably in the presence of a basic catalyst, in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas, under reduced pressure of normal pressure to 10 mmHg. By heating denbisphenols to thermally decompose cyclohexylidenebisphenols in oil, low boiling products such as phenols (alkylphenols or phenols) formed are distilled out of the reaction tank, and The product cyclohexenyl phenol is allowed to remain in the reaction tank as a reaction residual liquid, and thereafter, in the reaction tank, the target cyclohexenyl phenol is separated from the obtained reaction residual liquid in the reaction tank as described above. High purity cyclohexenylphenols can be obtained in high yield.

【0064】このような本発明の方法によれば、フェノ
ールとシクロヘキサノンから出発して、得られたシクロ
ヘキシリデンビスフェノール類を分離することなく、得
られた反応混合物をそのまま、熱分解し、しかも、反応
残留液から目的とするシクロヘキセニルフェノール類を
分別して、高純度品を得る。従って、このような方法に
よれば、フェノールとシクロヘキサノンの縮合反応によ
って生成したシクロヘキシリデンビスフェノール類の熱
分解と、この熱分解によって生成したシクロヘキセニル
フェノール類の分別とを単一の反応槽において行なうこ
とができ、かくして、精製のための装置が必要でなく、
工程が簡単であり、しかも、高純度品を高収率にて得る
ことができる。
According to the method of the present invention, starting from phenol and cyclohexanone, the obtained reaction mixture is thermally decomposed as it is without separating the obtained cyclohexylidenebisphenols. The desired cyclohexenylphenols are separated from the reaction residue to obtain a high-purity product. Therefore, according to such a method, thermal decomposition of cyclohexylidenebisphenols generated by the condensation reaction of phenol and cyclohexanone and separation of cyclohexenylphenols generated by the thermal decomposition are performed in a single reaction tank. And thus no equipment is required for purification,
The process is simple, and a high-purity product can be obtained in a high yield.

【0065】[0065]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited by these examples.

【0066】[0066]

【実施例1】(4−(4−n−ヘプチル−1−シクロヘ
キセニル)フェノールの合成)温度計、攪拌機、窒素ガ
ス吹き込み管及び凝縮管を備えた1000ml容量の四つ
口フラスコを反応槽として用い、これに1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−4−n−ヘプチルシクロヘキ
サン366gを仕込み、反応槽内を窒素ガス置換した
後、48%水酸化ナトリウム水溶液1.8g(0.022モ
ル)を加え、窒素気流下に200℃まで昇温し、その
後、反応槽内を30mmHgに減圧し、生成したフェノール
を留出させながら、熱分解反応を4時間、行なって、留
出物94gを得ると共に、反応槽内に反応残留液272
gを得た。
Example 1 (Synthesis of 4- (4-n-heptyl-1-cyclohexenyl) phenol) A 1000 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen gas injection tube and a condensation tube was used as a reaction tank. Used and 1,1-bis (4
-Hydroxyphenyl) -4-n-heptylcyclohexane was charged, and the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. The temperature was raised, and then the pressure inside the reaction vessel was reduced to 30 mmHg, and a thermal decomposition reaction was carried out for 4 hours while distilling off the generated phenol, to obtain 94 g of a distillate and a reaction residue 272 in the reaction vessel.
g was obtained.

【0067】反応終了後、この反応残留液を高速液体ク
ロマトグラフィー(HPLC)にて分析したところ、反
応残留液中の86重量%が4−(4−n−ヘプチル−1
−シクロヘキセニル)フェノールであった。
After completion of the reaction, the reaction residue was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC). As a result, 86% by weight of the reaction residue was 4- (4-n-heptyl-1).
-Cyclohexenyl) phenol.

【0068】次いで、この反応残留液にヘプタン544
gと氷酢酸1.3gを加え、更に、水136gを加えた
後、25℃に冷却した。かくして、析出した結晶を濾別
し、減圧乾燥して、目的とする4−(4−n−ヘプチル
−1−シクロヘキセニル)フェノール220gを白色針
状結晶として得た。純度は99.3%、融点は118.5℃
であった。また、原料1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−4−n−ヘプチルシクロヘキサンに対する収率
は80.7%であった。
Next, heptane 544 was added to the reaction residue.
g and 1.3 g of glacial acetic acid, 136 g of water were further added, and the mixture was cooled to 25 ° C. Thus, the precipitated crystals were separated by filtration and dried under reduced pressure to obtain 220 g of the objective 4- (4-n-heptyl-1-cyclohexenyl) phenol as white needle crystals. Purity 99.3%, melting point 118.5 ° C
Met. The yield based on the raw material 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-n-heptylcyclohexane was 80.7%.

【0069】[0069]

【実施例2】(4−(4−エチル−1−シクロヘキセニ
ル)フェノールの合成)温度計、攪拌機、ガス吹き込み
管及び滴下漏斗を備えた1000ml容量の四つ口フラス
コを反応槽として用い、これにフェノール564gを仕
込んだ後、塩化水素ガスを飽和になるまで吹き込んだ。
Example 2 (Synthesis of 4- (4-ethyl-1-cyclohexenyl) phenol) A 1000 ml four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, gas injection tube and dropping funnel was used as a reaction vessel. After charging 564 g of phenol, hydrogen chloride gas was blown into the flask until saturation.

【0070】次いで、温度を50℃に昇温し、4−エチ
ルシクロヘキサノン126gとトルエン189gの混合
物を2時間かけて滴下し、その後、同じ温度を維持しつ
つ、更に、攪拌下に6時間反応を行なった。
Then, the temperature was raised to 50 ° C., and a mixture of 126 g of 4-ethylcyclohexanone and 189 g of toluene was added dropwise over 2 hours. Thereafter, while maintaining the same temperature, the reaction was further continued for 6 hours with stirring. Done.

【0071】反応終了後、得られた反応混合物に16%
水酸化ナトリウム水溶液を加えて封和した。その後、ト
ルエンを追加添加し、得られた混合物から水層を分液分
離した後、更に、2度水洗して、目的とする1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−4−エチルシクロヘキサ
ンを含む油層を得た。
After the completion of the reaction, 16% was added to the obtained reaction mixture.
An aqueous sodium hydroxide solution was added to seal. Thereafter, toluene was additionally added, and the aqueous layer was separated and separated from the obtained mixture, and further washed twice with water to obtain a target 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-ethylcyclohexane. An oily layer containing was obtained.

【0072】次に、この油層を有する反応槽の滴下漏斗
を凝縮管に換えた後、反応槽内を窒素置換し、48%水
酸化ナトリウム水溶液1.4g(0.017モル)を加え、
窒素気流下に180℃に昇温し、トルエンと過剰のフェ
ノールを留出させた。その後、温度200℃、圧力30
mmHgの条件下に、生成したフェノールを留出させなが
ら、6時間、熱分解反応を行なって、留出物94gを得
ると共に、反応槽内に反応残留液202gを得た。
Next, after replacing the dropping funnel of the reaction tank having the oil layer with a condenser tube, the inside of the reaction tank was replaced with nitrogen, and 1.4 g (0.017 mol) of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added.
The temperature was raised to 180 ° C. under a nitrogen stream to distill toluene and excess phenol. After that, at a temperature of 200 ° C and a pressure of 30
A thermal decomposition reaction was performed for 6 hours while distilling off the generated phenol under the condition of mmHg to obtain 94 g of a distillate and 202 g of a reaction residual liquid in the reaction vessel.

【0073】反応終了後、この反応残留液を高速液体ク
ロマトグラフィー(HPLC)にて分析したところ、残
留液中の88重量%が4−(4−エチル−1−シクロヘ
キセニル)フェノールであった。
After completion of the reaction, the reaction residue was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC). As a result, 88% by weight of the residue was 4- (4-ethyl-1-cyclohexenyl) phenol.

【0074】次いで、この反応残留液にヘプタン404
gと氷酢酸1.0gを加え、更に、水202gを加えて、
25℃に冷却した。かくして、析出した結晶を濾別し、
減圧乾燥して、目的とする4−(4−エチル−1−シク
ロヘキセニル)フェノール168gを白色針状結晶とし
て得た。純度は98.7%、融点は117.7℃であった。
また、原料4−エチルシクロヘキサノ ンに対する収率は
83.2%であった。
Next, heptane 404 was added to the reaction residue.
g and 1.0 g of glacial acetic acid, and further, 202 g of water.
Cooled to 25 ° C. Thus, the precipitated crystals are filtered off,
After drying under reduced pressure, 168 g of the desired 4- (4-ethyl-1-cyclohexenyl) phenol was obtained as white needle crystals. The purity was 98.7% and the melting point was 117.7 ° C.
The yield based on the raw material 4-ethylcyclohexanone was 83.2%.

【0075】[0075]

【実施例3】(4−(1−シクロヘキセニル)フェノー
ルの合成)実施例1において、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサンに代え
て、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン268gを用いた以外は、実施例1と同様にして、
目的とする4−(1−シクロヘキセニル)フェノール1
10gを白色針状結晶として得た。純度は97.2%、融
点は121.1℃であった。また、原料1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率は6
3%であった。
Example 3 Synthesis of 4- (1-cyclohexenyl) phenol In Example 1, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-heptylcyclohexane was replaced with 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) cyclohexane, except that 268 g was used.
Desired 4- (1-cyclohexenyl) phenol 1
10 g were obtained as white needle crystals. The purity was 97.2% and the melting point was 121.1 ° C. The raw material 1,1-bis (4-
The yield based on (hydroxyphenyl) cyclohexane is 6
3%.

【0076】[0076]

【実施例4】(4−(4−プロピル−1−シクロヘキセ
ニル)フェノールの合成)実施例1において、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−4−ヘプチルシクロヘ
キサンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−プロピルシクロヘキサン310gを用いた以
外は、実施例1と同様にして、目的とする4−(4−プ
ロピル−1−シクロヘキセニル)フェノール164gを
白色針状結晶として得た。純度は99.2%、融点は11
6.7℃であった。また、原料1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−プロピルシクロヘキサンに対する収
率は76%であった。
Example 4 (Synthesis of 4- (4-propyl-1-cyclohexenyl) phenol) In Example 1, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-heptylcyclohexane was replaced with 1,1 In the same manner as in Example 1 except that 310 g of -bis (4-hydroxyphenyl) -4-propylcyclohexane was used, 164 g of the intended 4- (4-propyl-1-cyclohexenyl) phenol was obtained as white needle-like crystals. As obtained. Purity 99.2%, melting point 11
6.7 ° C. The yield based on the raw material 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-propylcyclohexane was 76%.

【0077】[0077]

【実施例5】(4−(4−ブチル−1−シクロヘキセニ
ル)フェノールの合成)実施例1において、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−4−ヘプチルシクロヘキ
サンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−4−ブチルシクロヘキサン324gを用いた以外は、
実施例1と同様にして、目的とする4−(4−ブチル−
1−シクロヘキセニル)フェノール182gを白色針状
結晶として得た。純度は98.3%、融点は126.6℃で
あった。また、原料1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−ブチルシクロヘキサンに対する収率は79%
であった。
Example 5 (Synthesis of 4- (4-butyl-1-cyclohexenyl) phenol) In Example 1, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-heptylcyclohexane was replaced with 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl)
Except for using 324 g of -4-butylcyclohexane,
In the same manner as in Example 1, the desired 4- (4-butyl-
182 g of 1-cyclohexenyl) phenol were obtained as white needle-like crystals. The purity was 98.3% and the melting point was 126.6 ° C. The yield based on the raw material 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-butylcyclohexane was 79%.
Met.

【0078】[0078]

【実施例6】(4−(4−ペンチル−1−シクロヘキセ
ニル)フェノールの合成)実施例1において、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−4−ヘプチルシクロヘ
キサンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−ペンチルシクロヘキサン338gを用いた以
外は、実施例1と同様にして、目的とする4−(4−ペ
ンチル−1−シクロヘキセニル)フェノール198gを
白色針状結晶として得た。純度は99.1%、融点は12
3.0℃であった。また、原料1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−ペンチルシクロヘキサンに対する収
率は81%であった。
Example 6 (Synthesis of 4- (4-pentyl-1-cyclohexenyl) phenol) In Example 1, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-heptylcyclohexane was replaced with 1,1 In the same manner as in Example 1 except that 338 g of -bis (4-hydroxyphenyl) -4-pentylcyclohexane was used, 198 g of the objective 4- (4-pentyl-1-cyclohexenyl) phenol was obtained in the form of white needle crystals. As obtained. Purity 99.1%, melting point 12
3.0 ° C. The yield based on the raw material 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-pentylcyclohexane was 81%.

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明によれば、生成するフェノール類
は反応槽から留出するが、しかし、生成するシクロヘキ
セニルフェノール類は反応槽に残留するような穏和な反
応条件下にシクロヘキシリデンビスフェノール類を熱分
解し、次いで、このように、反応槽に残留した反応残留
液から目的とするシクロヘキセニルフェノール類を分別
する。従って、本発明によれば、複雑で高価な製造装置
を用いることなく、高純度のアルケニルフェノール類を
高収率で得ることができる。
According to the present invention, the phenols formed distill out of the reaction vessel, but the cyclohexenylphenols formed remain under the mild reaction conditions such that they remain in the reaction vessel. Then, the desired cyclohexenyl phenols are separated from the reaction residue remaining in the reaction vessel in this manner. Therefore, according to the present invention, high-purity alkenylphenols can be obtained in high yield without using complicated and expensive production equipment.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 磯田 陽一郎 和歌山県和歌山市小雑賀二丁目5番115号 本州化学工業株式会社内総合研究所内 (72)発明者 八尾 和彦 和歌山県和歌山市小雑賀二丁目5番115号 本州化学工業株式会社内総合研究所内 (72)発明者 小嶋 洋之 和歌山県和歌山市小雑賀二丁目5番115号 本州化学工業株式会社内総合研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC41 AD15 FC52 FE13 4H039 CA40 CD10 CF30 CL25  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoichiro Isoda 2-115, Kozaiga, Wakayama-shi, Wakayama Pref. Inside the Research Institute, Honshu Chemical Industry Co., Ltd. No. 5 115 Inside Honshu Chemical Industry Co., Ltd. (72) Inventor Hiroyuki Kojima 2-115 Kozaiga, Wakayama-shi, Wakayama Prefecture Honshu Chemical Industry Co., Ltd. FC52 FE13 4H039 CA40 CD10 CF30 CL25

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 ( 式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル
基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキル基を示し、
nは0〜3の整数であり、nが2又は3のとき、R3
相互に同一でもよく、相違してもよい。)で表わされる
シクロヘキシリデンビスフェノール類を、反応槽におい
て、不活性ガス雰囲気中で熱分解して、生成するフェノ
ール類を留出させる一方、生成するシクロヘキセニルフ
ェノール類を反応残留液として反応槽に残留させ、この
反応残留液からシクロヘキセニルフェノール類を分別す
ることを特徴とする一般式(II) 【化2】 (式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じである。)で
表わされるシクロヘキセニルフェノール類の製造方法。
[Claim 1] General formula (1) (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group; R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;
n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same or different. ) Is thermally decomposed in an inert gas atmosphere in a reaction vessel to distill off the generated phenols, and the generated cyclohexenylphenols as a reaction residual liquid in the reaction vessel. Wherein cyclohexenylphenols are separated from the reaction residual liquid, and characterized by the general formula (II): (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above).
【請求項2】 一般式(III) 【化3】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル
基を示す。)で表わされるフェノール類と一般式(IV) 【化4】 (式中、R3 は炭素数1〜12のアルキル基を示し、n
は0〜3の整数であり、nが2又は3のとき、R3 は相
互に同一でもよく、相違していてもよい。)で表わされ
るシクロヘキサノン類とを酸触媒の存在下に脱水縮合さ
せ、得られた反応混合物をアルカリで中和した後、水層
を分液にて除去して、一般式(I) 【化5】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル
基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキル基を示し、
nは0〜3の整数であり、nが2又は3のとき、R3
相互に同一でもよく、相違していてもよい。)で表わさ
れるシクロヘキシリデンビスフェノール類を含む油層を
得、この油層を、反応槽において、不活性ガス雰囲気中
で熱分解して、生成するフェノール類を留出させる一
方、生成するシクロヘキセニルフェノール類を反応残留
液として反応槽に残留させ、この反応残留液からシクロ
ヘキセニルフェノール類を分別することを特徴とする一
般式(II) 【化6】 (式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じである。)で
表わされるシクロヘキセニルフェノ−ル類の製造方法。
2. A compound of the general formula (III) (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group) and a phenol represented by the general formula (IV): (Wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;
Is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same or different. ) Is dehydrated and condensed in the presence of an acid catalyst, the resulting reaction mixture is neutralized with an alkali, and the aqueous layer is removed by liquid separation to obtain a compound of the general formula (I) ] (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclohexyl group or a phenyl group; R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;
n is an integer of 0 to 3, and when n is 2 or 3, R 3 may be the same or different. ) Is obtained, and the oil layer is thermally decomposed in an inert gas atmosphere in a reaction vessel to distill off the produced phenols, and to form the cyclohexenylphenols produced. Is left in the reaction tank as a reaction residual liquid, and cyclohexenylphenols are separated from the reaction residual liquid. (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above).
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