JP2002208178A - Optical information recording medium, manufacturing method therefor and recording method for optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium, manufacturing method therefor and recording method for optical information recording medium

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JP2002208178A
JP2002208178A JP2001335227A JP2001335227A JP2002208178A JP 2002208178 A JP2002208178 A JP 2002208178A JP 2001335227 A JP2001335227 A JP 2001335227A JP 2001335227 A JP2001335227 A JP 2001335227A JP 2002208178 A JP2002208178 A JP 2002208178A
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layer
recording
recording medium
optical information
substrate
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JP2001335227A
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Shuichi Okubo
修一 大久保
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium which can be formed by a simple manufacturing process and on which recording can be performed by using a semiconductor laser beam having 380-430 nm wavelength. SOLUTION: The optical information recording medium has at least a recording layer 2 on a substrate 1. Information recording is performed by irradiating the recording layer with the laser beam having 380-430 nm wavelength. The refractive index n and the extinction coefficient k of the recording layer 2 satisfy the conditions of 3.9<n<5.6 and k>0.4 in the range of 380 nm-430 nm wavelength.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光照射によ
り情報の記録・再生を行う光学情報記録媒体とその製造
方法及び光学情報記録媒体の記録方法に関し、特に、1
回だけ記録が可能な追記型の光学情報記録媒体と、その
製造方法及びそれへの記録方法に関する。
The present invention relates to an optical information recording medium for recording / reproducing information by irradiating a laser beam, a method for manufacturing the same, and a method for recording the optical information recording medium.
The present invention relates to a write-once optical information recording medium that can be recorded only once, a method of manufacturing the same, and a method of recording on the medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】CD−ROMおよびDVD−ROMの近
年の普及にともない、CD−RやDVD−Rと呼ばれる
ユーザにより1回だけ記録可能な光学情報記録媒体の普
及も加速的に進んでいる。CD−RやDVD−Rでは、
記録層として感光性の色素層がスピン塗布あるいは蒸着
等により基板上に形成される。CD−ROMと同等の反
射率を実現するために、色素層の上に、AlやAuなど
の材料からなる反射層が形成されている。色素材料は、
光学情報の記録・再生を行う半導体レーザの波長におい
て記録可能な程度に吸収が存在するように、選択されて
いる。情報の記録・再生に用いられている半導体レーザ
の波長は、CD−Rでは780nm前後、また、DVD
−Rでは650nm前後である。
2. Description of the Related Art With the recent widespread use of CD-ROMs and DVD-ROMs, the spread of optical information recording media called CD-Rs and DVD-Rs that can be recorded only once by a user is also accelerating. For CD-R and DVD-R,
A photosensitive dye layer is formed on the substrate as a recording layer by spin coating or vapor deposition. In order to realize a reflectance equivalent to that of a CD-ROM, a reflection layer made of a material such as Al or Au is formed on the dye layer. The pigment material is
It is selected so that there is absorption to the extent that recording is possible at the wavelength of the semiconductor laser for recording and reproducing optical information. The wavelength of the semiconductor laser used for recording / reproducing information is around 780 nm for CD-R, and for DVD.
For -R, it is around 650 nm.

【0003】一方、近年、青紫色半導体レーザに関する
研究・開発が急激に進展している。これにより、波長3
80〜430nmの青紫色半導体レーザの実用化が近づ
いている。光ディスクの記録密度は主に情報の記録再生
に用いられる光ビームの集光スポットサイズにより決ま
る。集光スポットサイズは半導体レーザの波長に比例す
るので、現在実用化されている赤色半導体レーザに比べ
て波長の短い青紫色半導体レーザを用いることにより光
ディスクの記録容量が大幅に増えるものと期待されてい
る。
On the other hand, in recent years, research and development on blue-violet semiconductor lasers have been rapidly advanced. Thereby, the wavelength 3
The practical use of a blue-violet semiconductor laser with a wavelength of 80 to 430 nm is approaching. The recording density of an optical disk is mainly determined by the size of the focused spot of a light beam used for recording and reproducing information. Since the focused spot size is proportional to the wavelength of the semiconductor laser, it is expected that the recording capacity of the optical disk will be greatly increased by using a blue-violet semiconductor laser having a shorter wavelength than the red semiconductor laser currently in practical use. I have.

【0004】しかしながら、380〜430nmの波長
のレーザ光に適する色素材料は、これまでのところ知ら
れておらず、青紫色半導体レーザを用いる光学情報記録
媒体は実用化されていない。また、色素層がスピンコー
トにより形成された後、改めてスパッタリングなどによ
り反射層が形成されるというプロセスも煩雑であり、光
学情報記録媒体のコストの上昇を招いてしまう。
However, a dye material suitable for laser light having a wavelength of 380 to 430 nm has not been known so far, and an optical information recording medium using a blue-violet semiconductor laser has not been put to practical use. Further, the process of forming a reflective layer again by sputtering or the like after the dye layer is formed by spin coating is also complicated, and causes an increase in the cost of the optical information recording medium.

【0005】上記記載と関連して、光記録媒体が特開平
10−172180に開示されている。この引例では、
光の照射による非晶質相と結晶相の間の相変化により情
報の記録及び消去が行われる。透明基板上に少なくとも
第1誘電体層/記録層/第2誘電体層/反射層がこの順
に積層されている。照射される光の波長は550nm以
下であり、照射される光の波長における第1誘電体層の
屈折率nが1.4〜2.1である。照射される光の波長
が波長450nm以下であり、照射される光の波長にお
ける第1誘電体層の屈折率nが1.4〜1.8である。
[0005] In connection with the above description, an optical recording medium is disclosed in JP-A-10-172180. In this reference,
Information recording and erasing are performed by a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase due to light irradiation. At least a first dielectric layer / recording layer / second dielectric layer / reflective layer is laminated on a transparent substrate in this order. The wavelength of the irradiated light is 550 nm or less, and the refractive index n of the first dielectric layer at the wavelength of the irradiated light is 1.4 to 2.1. The wavelength of the irradiated light is 450 nm or less, and the refractive index n of the first dielectric layer at the wavelength of the irradiated light is 1.4 to 1.8.

【0006】また、光記録媒体が特開平10−2082
96に開示されている。この引例では、光記録媒体は、
基板上に少なくともTeを含む光記録層を有する。光記
録層のアモルファス層における消衰係数kaが波長400
〜500nmにおいて2.5以下である。また、光記録
層が、30ppm以上10000ppm以下の水素を含
有する。
An optical recording medium is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-2082.
96. In this reference, the optical recording medium is:
An optical recording layer containing at least Te is provided on the substrate. The extinction coefficient ka in the amorphous layer of the optical recording layer is 400 wavelengths.
It is 2.5 or less at 500 nm. Further, the optical recording layer contains 30 ppm or more and 10000 ppm or less of hydrogen.

【0007】また、光記録媒体が特開平11−3970
9に開示されている。この引例では、光の照射による非
晶質相と結晶相の間の相変化により情報の記録及び消去
が行われる。透明基板上に少なくとも第1誘電体層/下
地誘電体層/記録層/第2誘電体層/反射層がこの順に
積層されている。波長700〜630nm及び波長50
0〜380nmでの各層の屈折率、消衰係数と層の厚さ
が下記の式で表される関係を有している。 1.85≦na2、 45≦da55(nm) 2.1≦nb 145≦db155(nm) 2.4≦nα≦4.5 1.9≦kα≦2.9 1.65≦nc4.5 3.2≦kc4.1 0<dr20(nm) 2.1≦nd2.4 10≦dd20(nm) 0.4≦ne1.4 3.8≦ke6.2 ここで、naは第1誘電体層の屈折率、daは第1誘電体
層の厚さ(nm)、nbは下地誘電体層の屈折率、dbは
下地誘電体層の厚さ(nm)、nαは記録層の非晶質状
態の屈折率、kαは記録層の非晶質状態の消衰係数、n
cは記録層の結晶状態の屈折率、kcは記録層の結晶状態
の消衰係数、drは記録層の厚さ(nm)、ndは第2誘
電体層の屈折率、ddは第2誘電体層の厚さ(nm)、
neは反射層の屈折率、keは反射層の消衰係数を表す。
The optical recording medium is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-3970.
9 is disclosed. In this reference, information is recorded and erased by a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase due to light irradiation. On a transparent substrate, at least a first dielectric layer / a base dielectric layer / a recording layer / a second dielectric layer / a reflective layer are laminated in this order. 700-630 nm wavelength and 50 wavelength
The refractive index, extinction coefficient, and layer thickness of each layer at 0 to 380 nm have a relationship represented by the following equation. 1.85 ≦ na2, 45 ≦ da55 (nm) 2.1 ≦ nb145 ≦ db155 (nm) 2.4 ≦ nα ≦ 4.5 1.9 ≦ kα ≦ 2.9 1.65 ≦ nc4.5 3.5. 2 ≦ kc4.1 0 <dr20 (nm) 2.1 ≦ nd2.4 10 ≦ dd20 (nm) 0.4 ≦ ne1.4 3.8 ≦ ke6.2 where na is the refraction of the first dielectric layer. Ratio, da is the thickness of the first dielectric layer (nm), nb is the refractive index of the underlying dielectric layer, db is the thickness of the underlying dielectric layer (nm), and nα is the refraction of the recording layer in the amorphous state. Rate, kα is the extinction coefficient of the amorphous state of the recording layer, n
c is the refractive index of the crystalline state of the recording layer, kc is the extinction coefficient of the crystalline state of the recording layer, dr is the thickness (nm) of the recording layer, nd is the refractive index of the second dielectric layer, and dd is the second dielectric layer. Body layer thickness (nm),
ne represents the refractive index of the reflective layer, and ke represents the extinction coefficient of the reflective layer.

【0008】また、光記録媒体が特開平11−3971
6に開示されている。この引例では、光の照射による非
晶質相と結晶相の間の相変化により情報の記録及び消去
が行われる。透明基板上に少なくとも第1誘電体層/記
録層/第2誘電体層/反射層がこの順に積層されてお
り、波長390nm以上450nm以下での各層の屈折
率、消衰係数、層の厚さが下記の式で表される関係を有
している。 2.2≦na2.3 30≦da500 2.58≦nα≦3.3 2.6≦kα≦2.9 1.77≦nc2.5 3.2≦kc3.8 7≦dr35(nm) 2.25≦nb2.4 0<db25(nm) 0.4≦nβ≦0.6 3.8≦kβ≦4.25 ここで、naは第1誘電体層の屈折率、daは第1誘電体
層の厚さ(nm)、nαは記録層の非晶質状態の屈折
率、kαは記録層の非晶質状態の消衰係数、ncは記録
層の結晶状態の屈折率、kcは記録層の結晶状態の消衰
係数、drは記録層の厚さ(nm)、nbは第2誘電体層
の屈折率、dbは第2誘電体層の厚さ(nm)、nβは
反射層の屈折率、kβは反射層の消衰係数を表す。
An optical recording medium is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-3971.
6 is disclosed. In this reference, information is recorded and erased by a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase due to light irradiation. At least a first dielectric layer / recording layer / second dielectric layer / reflective layer is laminated on a transparent substrate in this order, and the refractive index, extinction coefficient, and layer thickness of each layer at a wavelength of 390 nm to 450 nm are provided. Has a relationship represented by the following equation. 2.2 ≦ na2.3 30 ≦ da500 2.58 ≦ nα ≦ 3.3 2.6 ≦ kα ≦ 2.9 1.77 ≦ nc2.5 3.2 ≦ kc3.8 7 ≦ dr35 (nm) 25 ≦ nb2.4 0 <db25 (nm) 0.4 ≦ nβ ≦ 0.6 3.8 ≦ kβ ≦ 4.25 where na is the refractive index of the first dielectric layer, and da is the first dielectric layer. , Nα is the refractive index of the amorphous state of the recording layer, kα is the extinction coefficient of the amorphous state of the recording layer, nc is the refractive index of the crystalline state of the recording layer, and kc is the refractive index of the recording layer. Extinction coefficient of the crystalline state, dr is the thickness of the recording layer (nm), nb is the refractive index of the second dielectric layer, db is the thickness of the second dielectric layer (nm), and nβ is the refractive index of the reflective layer. , Kβ represent the extinction coefficient of the reflective layer.

【0009】また、相変化型光記録媒体が特開平11−
265525に開示されている。この引例では、相変化
型光記録媒体は、基板と、記録層と、この記録層と基板
との間に形成された誘電体層とを少なくとも有する。記
録層は、基板の一方の面に形成され、照射光の強度に応
じて結晶−非晶質間の相変化が可逆的になされる。誘電
体層は、記録層と基板との間に形成されている。波長4
00nm以上500nm以下の強度変調された単一レー
ザビームでオーバーライトが行われる。誘電体層はZn
SとSiO2との混合物からなり、記録層は少なくとも
GeとTeとSbとを含む材料からなる。基板と誘電体
層との間にAg、TiO2、AgとTiO2の混合物、A
gを主成分として含む混合物、またはTiO2を主成分
として含む混合物からなる多重反射層が設けられていて
もよい。記録層の基板とは反対側の面に反射層が設けら
れ、反射層と記録層との間に第2誘電体層が設けられて
いる。
Further, a phase change type optical recording medium is disclosed in
265525. In this reference, the phase change optical recording medium has at least a substrate, a recording layer, and a dielectric layer formed between the recording layer and the substrate. The recording layer is formed on one surface of the substrate, and the phase change between crystal and amorphous is reversibly performed according to the intensity of irradiation light. The dielectric layer is formed between the recording layer and the substrate. Wavelength 4
Overwriting is performed with a single laser beam whose intensity is not less than 00 nm and not more than 500 nm. The dielectric layer is Zn
The recording layer is made of a mixture of S and SiO 2, and the recording layer is made of a material containing at least Ge, Te and Sb. Ag, TiO 2 , a mixture of Ag and TiO 2 , A between the substrate and the dielectric layer
A multiple reflection layer made of a mixture containing g as a main component or a mixture containing TiO 2 as a main component may be provided. A reflective layer is provided on the surface of the recording layer opposite to the substrate, and a second dielectric layer is provided between the reflective layer and the recording layer.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、単純
な製造プロセスで形成でき、かつ、波長380〜430
nmの半導体レーザを用いて1回だけ記録可能な光学情
報記録媒体とその製造方法及び光学情報記録媒体の記録
方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor device which can be formed by a simple manufacturing process and has a wavelength of 380 to 430.
It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium that can be recorded only once using a semiconductor laser of nm, a manufacturing method thereof, and a recording method of the optical information recording medium.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】以下に、[発明の実施の
形態]で使用する番号・符号を用いて、課題を解決する
ための手段を説明する。これらの番号・符号は、[特許
請求の範囲]の記載と発明の実施の形態の記載との対応
関係を明らかにするために付加されたものであるが、
[特許請求の範囲]に記載されている発明の技術的範囲
の解釈に用いてはならない。
Means for solving the problem will be described below using the numbers and symbols used in the embodiments of the present invention. These numbers and symbols have been added in order to clarify the correspondence between the description of [Claims] and the description of the embodiment of the invention.
It should not be used for interpreting the technical scope of the invention described in [Claims].

【0012】上記目的を達成するため、本発明は、基板
(1)上に少なくとも記録層(2)を有し、波長380
nm〜430nmのレーザ光照射により情報の記録を行
う光学情報記録媒体であって、前記記録層(2)の屈折
率n及び消衰係数kが、波長380〜430nmの範囲
において、3.9<n<5.6、かつ、k>0.4の条
件を満たすものである。
[0012] In order to achieve the above object, the present invention has at least a recording layer (2) on a substrate (1) and has a wavelength of 380.
An optical information recording medium for recording information by irradiating a laser beam of nm to 430 nm, wherein a refractive index n and an extinction coefficient k of the recording layer (2) are 3.9 <in a wavelength range of 380 to 430 nm. It satisfies the conditions of n <5.6 and k> 0.4.

【0013】また、本発明は、基板(1)上に少なくと
も記録層(2)を有し、波長380nm〜430nmの
レーザ光照射により情報の記録を行う光学情報記録媒体
であって、波長380〜430nmの範囲において、前
記記録層(2)の吸収率が20%以上であって、記録層
(2)が、光学情報記録前は再生専用型光学情報記録媒
体と互換可能な反射率を有し、光学情報記録後に反射率
が高くなるように形成されているものである。
The present invention also relates to an optical information recording medium having at least a recording layer (2) on a substrate (1) and recording information by irradiating a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm, wherein the optical information recording medium has a wavelength of 380 to 430 nm. In the range of 430 nm, the recording layer (2) has an absorptance of 20% or more, and the recording layer (2) has a reflectance that is compatible with a read-only optical information recording medium before optical information recording. Are formed so that the reflectance increases after optical information recording.

【0014】本発明においては、前記記録層(2)の膜
厚が、10nm以上、30nm以下であり、また、前記
記録層(2)の熱伝導率が、0.5W/mK以上、20
W/mK以下であることが好ましい。
In the present invention, the thickness of the recording layer (2) is 10 nm or more and 30 nm or less, and the thermal conductivity of the recording layer (2) is 0.5 W / mK or more and 20 W / mK or more.
It is preferably at most W / mK.

【0015】また、本発明においては、前記記録層
(2)が、Si、Ge、Siを主成分とする酸化物又は
窒化物、Geを主成分とする酸化物又は窒化物のいずれ
かを含むことが好ましい。
Further, in the present invention, the recording layer (2) contains any of Si, Ge, an oxide or nitride containing Si as a main component, and an oxide or nitride containing Ge as a main component. Is preferred.

【0016】本発明の光学情報記録媒体の製造方法は、
波長380nm〜430nmのレーザ光照射により情報
の記録が可能な記録層(2)を基板上に形成する工程を
少なくとも有する光学情報記録媒体の製造方法であっ
て、前記記録層(2)を、Si又はGeをターゲットと
して、前記記録層(2)の熱伝導率が所望の値となるよ
うな成膜ガス圧力の基でスパッタリング法により形成す
るものである。
The method for producing an optical information recording medium according to the present invention comprises:
A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising at least a step of forming a recording layer (2) on which information can be recorded by irradiating a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm on a substrate, wherein the recording layer (2) is formed of Si. Alternatively, the recording layer (2) is formed by sputtering using Ge as a target under a film forming gas pressure such that the thermal conductivity of the recording layer (2) becomes a desired value.

【0017】本発明の光学情報記録媒体の記録方法は、
前記レーザ光の記録パルスとしてマルチパルスを用い、
マルチパルスのレーザピークパワーをPw、マルチパル
スのレーザボトムパワーをPbw、記録パルス間のバイ
アスパワーをPbとした時、0<Pbw<0.5mW、
かつ、0<Pb/Pw<0.33の関係を満たす条件で
記録を行うものである。
The recording method of the optical information recording medium of the present invention comprises:
Using a multi-pulse as a recording pulse of the laser light,
When the laser peak power of the multi-pulse is Pw, the laser bottom power of the multi-pulse is Pbw, and the bias power between recording pulses is Pb, 0 <Pbw <0.5 mW,
In addition, recording is performed under conditions satisfying the relationship of 0 <Pb / Pw <0.33.

【0018】また、本発明の記録方法は、前記レーザ光
の記録パルスとして矩形波を用い、線速10m/s以上で
記録を行うものである。
Further, in the recording method of the present invention, recording is performed at a linear velocity of 10 m / s or more using a rectangular wave as a recording pulse of the laser beam.

【0019】本発明にかかる光学情報記録媒体は、波長
380nm〜430nmのレーザ光照射により情報の記
録を行う光学情報記録媒体であって、基板(1)上に少
なくとも記録層(2)、光透過層(7)を有し、光透過
層(7)側からレーザ光を入射して光学情報の記録・再
生を行う光学情報記録媒体であって、記録層(2)と光
透過層(7)の間に熱変形抑止層(8)を有するもので
ある。
An optical information recording medium according to the present invention is an optical information recording medium for recording information by irradiating a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm, wherein at least a recording layer (2) is formed on a substrate (1). An optical information recording medium having a layer (7) and recording / reproducing optical information by irradiating a laser beam from the light transmitting layer (7) side, wherein the recording layer (2) and the light transmitting layer (7) A heat deformation suppressing layer (8) is provided between them.

【0020】熱変形抑止層(8)としては、SiN、S
iO2、Ta25、Al23、AlN、SiC、TiC
のいずれか1つまたは複数を積層して形成することが好
ましい。あるいは、AuあるいはAgを主成分とする膜
厚10nm以下の金属薄膜が好ましい。
As the thermal deformation suppressing layer (8), SiN, S
iO 2 , Ta 2 O 5 , Al 2 O 3 , AlN, SiC, TiC
It is preferable that any one or a plurality of the above is laminated. Alternatively, a metal thin film containing Au or Ag as a main component and having a thickness of 10 nm or less is preferable.

【0021】熱変形抑止層(8)を付加した場合には、
記録層(2)としてSiあるいはGeが特に好適であ
る。
When the thermal deformation inhibiting layer (8) is added,
Si or Ge is particularly suitable for the recording layer (2).

【0022】また、本発明の記録方法は、波長380n
m〜430nmのレーザ光を用いて、基板(1)上に少
なくとも記録層(2)、光透過層(7)を有する光学情
報記録媒体に対して、光透過層(7)側からレーザ光を
入射して光学情報の記録・再生を行う記録方法であっ
て、基板(1)に形成された案内溝内および案内溝間の
平坦部両方に記録を行うものである。
The recording method according to the present invention employs a wavelength of 380 n
Using a laser beam of m to 430 nm, a laser beam is applied from the light transmitting layer (7) side to an optical information recording medium having at least a recording layer (2) and a light transmitting layer (7) on a substrate (1). A recording method for recording / reproducing optical information upon incidence, wherein recording is performed on both flat portions between guide grooves formed in a substrate (1) and between guide grooves.

【0023】また、本発明の光学情報記録媒体は、所定
の間隔で形成された案内溝を有する基板(1)と、前記
基板上に形成された記録層(2)とを具備し、波長38
0nm〜430nmのレーザ光を用いて、隣り合う前記
案内溝の間の平坦領域に情報が記録される。前記案内溝
内にも情報が記録されてもよい。
The optical information recording medium of the present invention comprises a substrate (1) having guide grooves formed at predetermined intervals, and a recording layer (2) formed on the substrate, and has a wavelength of 38.
Information is recorded in a flat region between the adjacent guide grooves by using a laser beam of 0 nm to 430 nm. Information may be recorded in the guide groove.

【0024】また、本発明の光学情報記録媒体は、所定
の間隔で形成された案内溝を有する基板(1)と、前記
基板上に形成された記録層(2)とを具備し、波長38
0nm〜430nmのレーザ光を用いて情報が記録され
るとき、前記情報が記録された部位に対応する前記案内
溝の深さは、前記情報の記録前より前記情報の記録後に
浅い。この結果、前記情報の記録前の反射率は、前記情
報の記録後の反射率より低い。また、本発明の光学情報
記録媒体は、基板と、前記基板上に形成された記録層と
を具備し、前記記録層と前記基板の間のレーザ光が照射
される位置に空間が形成されるように波長380nm〜
430nmの前記レーザ光を照射することにより情報が
記録される。
The optical information recording medium of the present invention comprises a substrate (1) having guide grooves formed at a predetermined interval, and a recording layer (2) formed on the substrate, and has a wavelength of 38.
When information is recorded by using a laser beam of 0 nm to 430 nm, the depth of the guide groove corresponding to a portion where the information is recorded is smaller after recording the information than before recording the information. As a result, the reflectance before recording the information is lower than the reflectance after recording the information. Further, the optical information recording medium of the present invention includes a substrate, and a recording layer formed on the substrate, and a space is formed between the recording layer and the substrate at a position irradiated with laser light. 380nm ~
Information is recorded by irradiating the laser light of 430 nm.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】次に、本発明の光学情報記録媒体
について、添付図面を参照して詳細に説明する。
Next, an optical information recording medium of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0026】図1乃至9は、本発明の相変化型光学情報
記録媒体の光ディスク構造を模式的に示す断面図であ
り、図10は、再生信号波形を模式的に説明する図であ
る。
FIGS. 1 to 9 are cross-sectional views schematically showing an optical disk structure of a phase change type optical information recording medium of the present invention, and FIG. 10 is a view schematically explaining a reproduction signal waveform.

【0027】図1に示される本発明の光学情報記録媒体
では、基板1上に記録層2が形成された単純な基本構造
が採用されている。基板1の厚さは0.3mm〜1.2
mm程度であり、基板1の材料としては、ポリカーボネ
ート等の樹脂あるいはガラスが用いられる。記録層は、
単層でも複数の異なる層の積層でもよい。通常、図1に
示されるように、情報の記録・再生は、基板1側に設け
られたレーザ10からレーザ光を入射し、再生は反射光
を受光部12により受光することにより行われる。
The optical information recording medium of the present invention shown in FIG. 1 employs a simple basic structure in which a recording layer 2 is formed on a substrate 1. The thickness of the substrate 1 is 0.3 mm to 1.2
mm, and a resin such as polycarbonate or glass is used as a material of the substrate 1. The recording layer is
It may be a single layer or a laminate of a plurality of different layers. Normally, as shown in FIG. 1, recording and reproduction of information are performed by irradiating a laser beam from a laser 10 provided on the substrate 1 side and reproducing by receiving a reflected light by a light receiving unit 12.

【0028】構成が最も単純であることから、基板1上
に記録層2が形成される構造が最も望ましい。しかしな
がら、図2に示される本発明の光学情報記録媒体では、
基板1上に記録層2が形成され、傷やゴミを防止するた
め、記録層2上に紫外線硬化樹脂3が形成されてもよ
い。また、図3に示されるように、機械特性向上のため
に、更に他の基板4が貼り合わされても良い。
Since the structure is the simplest, a structure in which the recording layer 2 is formed on the substrate 1 is most desirable. However, in the optical information recording medium of the present invention shown in FIG.
The recording layer 2 may be formed on the substrate 1, and an ultraviolet curable resin 3 may be formed on the recording layer 2 to prevent scratches and dust. Further, as shown in FIG. 3, another substrate 4 may be bonded to improve mechanical characteristics.

【0029】他に、図4と5に示される本発明の光学情
報記録媒体では、基板1上に記録層2が形成され、記録
層2上に誘電体層5または反射層6が積層されてもよ
い。あるいは、図6に示されるように、記録層2上の形
成された誘電体層5の上に反射層6が積層されても良
い。更に、機械特性向上のために、図7に示されるよう
に、紫外線硬化樹脂3により他の基板4が更に貼り合わ
されても良い。
In addition, in the optical information recording medium of the present invention shown in FIGS. 4 and 5, a recording layer 2 is formed on a substrate 1, and a dielectric layer 5 or a reflection layer 6 is laminated on the recording layer 2. Is also good. Alternatively, as shown in FIG. 6, a reflective layer 6 may be laminated on a dielectric layer 5 formed on the recording layer 2. Further, as shown in FIG. 7, another substrate 4 may be further bonded with the ultraviolet curing resin 3 in order to improve the mechanical characteristics.

【0030】また、図8に示されるように、本発明の光
学情報記録媒体では、基板1上に記録層2が形成され、
記録層2上に厚さ0.1mm前後の光透過層7が形成さ
れていてもよい。基板1の厚さは0.3mm〜1.2m
m程度であり、基板1の材料としては、ポリカーボネー
ト等の樹脂あるいはガラスが用いられる。また、図9に
示されるように、記録層2と光透過層7の間に熱変形抑
止層8が設けられてもよい。このような構造の場合、図
8に示されるように、情報の記録・再生は、光透過層7
側に設けられたレーザ10から記録層2にレーザ光を照
射し、再生は反射光を受光部12により受光することに
より行われる。
As shown in FIG. 8, in the optical information recording medium of the present invention, a recording layer 2 is formed on a substrate 1,
A light transmitting layer 7 having a thickness of about 0.1 mm may be formed on the recording layer 2. The thickness of the substrate 1 is 0.3 mm to 1.2 m
m, and the substrate 1 is made of a resin such as polycarbonate or glass. Further, as shown in FIG. 9, a thermal deformation suppressing layer 8 may be provided between the recording layer 2 and the light transmitting layer 7. In the case of such a structure, as shown in FIG.
The recording layer 2 is irradiated with laser light from a laser 10 provided on the side, and reproduction is performed by receiving reflected light by a light receiving unit 12.

【0031】記録層2の膜厚としては、10nm以上3
0nm以下であることが望ましい。これは、10nmよ
り薄い膜では膜質が低下して耐候性に問題が生じたり、
十分に高い反射率を得ることが難しいためであり、ま
た、30nm以上では熱容量が大きくなるので、記録感
度が低くなり良好な記録を行うことができなくなるため
である。さらに、30nm以上では高パワーで記録が行
われるとしても、マーク間の熱干渉(記録を行おうとし
ているマークの直前のマーク記録時の温度上昇の影響)
が大きく、良好な記録を行うことができないからであ
る。
The thickness of the recording layer 2 is 10 nm or more and 3
It is desirable that the thickness be 0 nm or less. This is because if the film thickness is less than 10 nm, the film quality is deteriorated and a problem occurs in the weather resistance.
This is because it is difficult to obtain a sufficiently high reflectivity, and if it is 30 nm or more, the heat capacity becomes large, so that the recording sensitivity is lowered and good recording cannot be performed. Further, at 30 nm or more, even if recording is performed with high power, thermal interference between marks (influence of temperature rise at the time of recording a mark immediately before a mark to be recorded).
This is because good recording cannot be performed.

【0032】次に、図1乃至7の光学情報記録媒体の光
学特性について説明する。本発明の光学情報記録媒体の
反射率は、記録前において30%−70%であるように
設計されている。これは、再生専用型(CD−ROM)
の光学情報記録媒体の反射率が一般的に60%前後にな
っており、CD−ROMとの互換性を考慮しているため
である。本発明の光学情報記録媒体がCD−ROMの半
分程度の反射率を有していれば、簡単なAGC回路を追
加することにより、本発明の光学情報記録媒体から情報
を再生することが可能であるからである。
Next, the optical characteristics of the optical information recording medium shown in FIGS. 1 to 7 will be described. The reflectance of the optical information recording medium of the present invention is designed to be 30% -70% before recording. This is a read-only type (CD-ROM)
This is because the reflectivity of the optical information recording medium is generally around 60%, and compatibility with a CD-ROM is considered. If the optical information recording medium of the present invention has a reflectance about half that of a CD-ROM, it is possible to reproduce information from the optical information recording medium of the present invention by adding a simple AGC circuit. Because there is.

【0033】さらに、本発明の光学情報記録媒体では、
図10に示される再生信号波形から分かるように、記録
後にさらに反射率が高くなるので、CD−ROMとの互
換がよりとりやすくなっている。このように記録により
反射率が高くなるのは、レーザ光が照射された領域で基
板1の表面部分が溶融し・案内溝内に流動し、結果的に
レーザ光が照射された領域に対応する案内溝(図示せ
ず)の深さが記録前より浅くなるためである。また、こ
のとき、レーザ光が照射された部位には、流動により記
録層と基板の間には空間(ギャップ)が形成される。従
来の光学情報記録媒体では、記録後に反射率が低下し、
サーボ信号が不安定になるという問題が生じていたが、
本発明の光学情報記録媒体では、記録後に反射率が更に
高くなるのでサーボ信号が不安定になるという問題は生
じない。
Further, in the optical information recording medium of the present invention,
As can be seen from the reproduced signal waveform shown in FIG. 10, the reflectance is further increased after recording, so that compatibility with the CD-ROM is more easily achieved. The reason that the reflectivity is increased by recording in this manner corresponds to the region irradiated with the laser beam, where the surface portion of the substrate 1 is melted and flows into the guide groove in the region irradiated with the laser beam. This is because the depth of the guide groove (not shown) becomes shallower than before recording. At this time, a space (gap) is formed between the recording layer and the substrate by the flow at a portion irradiated with the laser beam. In a conventional optical information recording medium, the reflectance decreases after recording,
There was a problem that the servo signal became unstable,
In the optical information recording medium of the present invention, since the reflectance is further increased after recording, the problem that the servo signal becomes unstable does not occur.

【0034】また、案内溝内、案内溝間の平坦部(図示
せず)のいずれにおいても記録を行うことが可能である
が、基板上に記録層単層のみを用いて光学情報記録媒体
が形成される場合には、案内溝間の平坦部に記録が行わ
れる方がレーザ光のパワーを低くでき、かつ、信号品質
も良好である。なお、記録層が単層で形成される場合
に、案内溝間の平坦部で記録が行われる方がレーザ光の
記録パワーが低く、かつ、信号品質が良好であるという
事実は、本願発明者が実験により見いだしたものであ
る。
Further, although recording can be performed on any of the flat portions (not shown) in the guide grooves and between the guide grooves, an optical information recording medium is formed by using only a single recording layer on a substrate. When formed, recording on a flat portion between the guide grooves can lower the power of the laser beam and improve the signal quality. In addition, when the recording layer is formed as a single layer, the fact that recording is performed in a flat portion between the guide grooves has a lower recording power of the laser beam and a better signal quality. Was found by experiment.

【0035】[0035]

【実施例】上記した本発明の実施の形態についてさらに
詳細に説明する。情報の記録再生には、半導体レーザ1
0、受光部12,及び対物レンズを有する光ヘッド20
が使用される。
The embodiments of the present invention will be described in more detail. For recording and reproducing information, the semiconductor laser 1 is used.
Optical head 20 having light receiving unit 12, objective lens
Is used.

【0036】[実施例1]まず、本発明の第1実施例に係
る光学情報記録媒体とその製造方法及び光学情報記録媒
体の記録方法について、図11及び図12を参照して説
明する。図11は、第1実施例に係る光学情報記録媒体
の記録パワーとC/N(carrier-to-noise)比の関係を
示す図であり、図12は、レーザ駆動波形を説明する図
である。
Embodiment 1 First, an optical information recording medium according to a first embodiment of the present invention, a method for manufacturing the same, and a method for recording on the optical information recording medium will be described with reference to FIGS. FIG. 11 is a diagram illustrating a relationship between a recording power and a C / N (carrier-to-noise) ratio of the optical information recording medium according to the first example, and FIG. 12 is a diagram illustrating a laser driving waveform. .

【0037】図3に示されるように、光学情報記録媒体
のディスク型基板1として厚さ0.6mm程度のポリカ
ーボネート基板が用いられ、その上に、記録層2として
厚さ20nm程度のSi層がSiターゲットを用いてス
パッタリング法により前記記録層が形成された。さら
に、機械特性確保のために、紫外線硬化樹脂層3により
厚さ0.6mm程度のダミーのポリカーボネート基板4
が貼り合わされた。また、基板1として、深さ30nm
程度、ピッチ0.4μm程度の案内溝(図せず)が形成
されたものが用いられた。
As shown in FIG. 3, a polycarbonate substrate having a thickness of about 0.6 mm is used as the disk-type substrate 1 of the optical information recording medium, and a Si layer having a thickness of about 20 nm is formed thereon as the recording layer 2. The recording layer was formed by a sputtering method using a Si target. Further, in order to secure mechanical properties, a dummy polycarbonate substrate 4 having a thickness of about 0.6 mm
Was pasted together. The substrate 1 has a depth of 30 nm.
A guide groove (not shown) having a pitch of about 0.4 μm was used.

【0038】このような構造を有する光学情報記録媒体
の、400nmの波長のレーザ光に対する反射率は、記
録前において44%、記録後において57%であり、S
i層でレーザ光の吸収率は記録前において43%であっ
た。また、波長400nmのレーザ光に対する(n:屈
折率,k:消衰係数)は(4.4,1.9)であり、熱
伝導率は1.5W/mKであった。
The reflectivity of the optical information recording medium having such a structure with respect to a laser beam having a wavelength of 400 nm is 44% before recording and 57% after recording.
The absorptivity of the laser beam in the i-layer was 43% before recording. Further, (n: refractive index, k: extinction coefficient) for a laser beam having a wavelength of 400 nm was (4.4, 1.9), and the thermal conductivity was 1.5 W / mK.

【0039】なお、図4に示されるように、Si層の上
にさらにZnS−SiO2、SiN、AlN、SiO2
Al23、Ta25等の誘電体層5が形成されても50
%程度の反射率を実現することが可能である。さらに反
射率を高めるために、図6に示されるように、誘電体層
5上に金属反射層6が形成されても良いが、本実施例で
はSi層のみが形成された。
As shown in FIG. 4, ZnS-SiO 2 , SiN, AlN, SiO 2 ,
Al 2 O 3, Ta 2 O 5 or the like dielectric layer even 5 is formed 50
% Can be achieved. As shown in FIG. 6, a metal reflective layer 6 may be formed on the dielectric layer 5 in order to further increase the reflectance, but in this embodiment, only the Si layer is formed.

【0040】上記構造の光学情報記録媒体が線速3m/
sで回転させられながら、記録周波数5MHzで情報信
号が記録され、レーザ光の記録パワーとC/N比の関係
が調べられた。記録・再生には400nmの波長の半導
体レーザと、NA=0.65の対物レンズを有する光ヘ
ッド20が用いられ、記録は案内溝間の平坦部を用いて
行われた。その結果が図11に示されている。図11か
ら分かるように、本実施例の光学情報記録媒体では、記
録パワーが約5mW以上のとき、50dB以上の高いC
/N比が得られた。なお、案内溝内部に記録が行われる
場合には、記録パワーが6mW以上必要であり、また、
C/N比も43dB程度しか得られなかった。
The optical information recording medium having the above structure has a linear velocity of 3 m /
While rotating at s, an information signal was recorded at a recording frequency of 5 MHz, and the relationship between the recording power of the laser beam and the C / N ratio was examined. For recording / reproduction, a semiconductor laser having a wavelength of 400 nm and an optical head 20 having an objective lens with NA = 0.65 were used, and recording was performed using a flat portion between the guide grooves. The result is shown in FIG. As can be seen from FIG. 11, in the optical information recording medium of this embodiment, when the recording power is about 5 mW or more, the high C of 50 dB or more is obtained.
/ N ratio was obtained. When recording is performed inside the guide groove, the recording power is required to be 6 mW or more.
The C / N ratio was also only about 43 dB.

【0041】なお、記録は図12に示されるマルチパル
スの記録パルスを用いて行われた。図12において、P
wはレーザ10からのレーザ光のピークパワー、Pbw
はレーザ光のボトムパワーであり、Pbは記録パルス間
のバイアスパワーである。本実施例ではPbw=0.1
mW、Pb=1.5mWとした。また、図12には3T
記録データ(記録周波数5MHz/クロック周波数30
MHz)に対する記録パルス波形が示されているが、各
パラメータはTd=1T、Tw=Tbw=0.5Tに設
定された。
The recording was performed by using a multi-pulse recording pulse shown in FIG. In FIG.
w is the peak power of the laser beam from the laser 10, Pbw
Is the bottom power of the laser light, and Pb is the bias power between recording pulses. In this embodiment, Pbw = 0.1
mW, Pb = 1.5 mW. FIG. 12 shows 3T
Recording data (recording frequency 5 MHz / clock frequency 30
The recording pulse waveform with respect to (MHz) is shown, but each parameter was set to Td = 1T and Tw = Tbw = 0.5T.

【0042】このように、本実施例の光学情報記録媒体
によれば、基板1上に形成された記録層2は、レーザ1
0からの波長380〜430nmのレーザ光に対して2
0%以上の吸収率を有し、さらに、熱伝導率が低い物質
を用いて形成された。これにより、高いC/N比で記録
が可能であることが究明された。吸収率が20%より低
い場合には、レーザ光として非常に高い記録パワーが必
要となるため好ましくない。波長400nm近傍におい
て、反射率30%以上、吸収率20%以上の記録層2を
実現するためには、基板1上に形成された記録層2が、
屈折率n、消衰係数kとして3.9<n<5.6、k>
0.4を満足する材料で形成されればよいことがわかっ
た。
As described above, according to the optical information recording medium of this embodiment, the recording layer 2 formed on the substrate 1
2 for laser light of wavelength 380 to 430 nm from 0
It was formed using a substance having an absorptance of 0% or more and a low thermal conductivity. Thus, it was determined that recording was possible at a high C / N ratio. If the absorptance is lower than 20%, an extremely high recording power is required as a laser beam, which is not preferable. In order to realize a recording layer 2 having a reflectance of 30% or more and an absorption of 20% or more near a wavelength of 400 nm, the recording layer 2 formed on the substrate 1
As a refractive index n and an extinction coefficient k, 3.9 <n <5.6, k>
It was found that the material should be formed of a material satisfying 0.4.

【0043】[実施例2]実施例1と同様の基板を用いて
ディスク型光学情報記録媒体が製作された。記録層2
は、Si層、Ge層、(Si+N)窒化物層、または
(Ge+N)窒化物層である。記録層2の熱伝導率が所
望の値となるように、成膜時に成膜スパッタガス圧力は
調整された。Si又はGeをターゲットとして、調整さ
れたスパッタガス圧力でスパッタリング法により記録層
2が形成された。こうしてSi層またはGe層が形成さ
れた。または、スパッタガスに窒素を加えることによ
り、(Si+N)層、または(Ge+N)層が成膜され
た。このとき、スパッタガス圧力と共に、スパッタパワ
ーも変化させて、光学定数を変化させた。
Example 2 A disk-type optical information recording medium was manufactured using the same substrate as in Example 1. Recording layer 2
Is a Si layer, a Ge layer, a (Si + N) nitride layer, or a (Ge + N) nitride layer. During the film formation, the pressure of the film-forming sputter gas was adjusted so that the thermal conductivity of the recording layer 2 became a desired value. The recording layer 2 was formed by sputtering using Si or Ge as a target and an adjusted sputtering gas pressure. Thus, a Si layer or a Ge layer was formed. Alternatively, by adding nitrogen to the sputtering gas, a (Si + N) layer or a (Ge + N) layer was formed. At this time, the optical constant was changed by changing the sputtering power together with the sputtering gas pressure.

【0044】ディスク型光学情報記録媒体が線速3m/
sで回転させられながら記録周波数5MHzで情報信号
が記録され、C/N比が測定された。記録・再生には4
05nmの波長の半導体レーザと、NA=0.65の対
物レンズを有する光ヘッド20が用いられ、記録は案内
溝間の平坦部に行われた。記録パルス波形は実施例1と
同様である。結果を表1に示す。
When the disk type optical information recording medium has a linear velocity of 3 m /
While rotating at s, an information signal was recorded at a recording frequency of 5 MHz, and the C / N ratio was measured. 4 for recording and playback
An optical head 20 having a semiconductor laser with a wavelength of 05 nm and an objective lens with NA = 0.65 was used, and recording was performed on a flat portion between the guide grooves. The recording pulse waveform is the same as in the first embodiment. Table 1 shows the results.

【0045】[0045]

【表1】 表1から分かるように、3.9<n<5.6、k>0.
4で50dB以上の高いC/N比が得られた。なお、デ
ィスク型光学情報記録媒体に対して、波長660nmの
半導体レーザと、NA=0.65の対物レンズを有する
光ヘッド20を用いて記録が試みられたが、記録を行う
ことは全くできなかった。
[Table 1] As can be seen from Table 1, 3.9 <n <5.6, k> 0.
4, a high C / N ratio of 50 dB or more was obtained. Recording was attempted on a disk-type optical information recording medium using a semiconductor laser having a wavelength of 660 nm and an optical head 20 having an objective lens with NA = 0.65, but recording could not be performed at all. Was.

【0046】[実施例3]次に、本発明の第3実施例に係
る光学情報記録媒体とその製造方法及び光学情報記録媒
体の記録方法について説明する。本実施例では、記録層
2の吸収率の最適化を図るための実験について説明す
る。
Third Embodiment Next, an optical information recording medium according to a third embodiment of the present invention, a method for manufacturing the same, and a method for recording on the optical information recording medium will be described. In this embodiment, an experiment for optimizing the absorptance of the recording layer 2 will be described.

【0047】厚さ1.1mmのポリカーボネート製のデ
ィスク型基板上に記録層2がスパッタリング法により形
成された。スパッタリングに際して、スパッタガスに酸
素が加えられ、(Si+O)酸化物層が15nmの膜厚
に形成された。その後光透過層7として、厚さ0.1m
mのポリカーボネートフィルムが接着された。こうし
て、図8に示される光学情報記録媒体が作成された。
The recording layer 2 was formed on a 1.1 mm thick polycarbonate disk type substrate by a sputtering method. During sputtering, oxygen was added to the sputtering gas, and a (Si + O) oxide layer was formed to a thickness of 15 nm. Then, as the light transmission layer 7, a thickness of 0.1 m
m of the polycarbonate film was adhered. Thus, the optical information recording medium shown in FIG. 8 was created.

【0048】記録膜成膜時、スパッタガス中への酸素添
加量を変化させることで、記録層2の吸収率が変化させ
られた。案内溝のピッチは0.35μm、溝深さは35
nであった。ディスク型光学情報記録媒体が線速10m
/sで回転させられ、波長405nmの半導体レーザ
と、NA=0.85の対物レンズとを有する光ヘッド2
0を用いて、光透過層7側から記録層2へレーザ光が照
射され、記録周波数5MHzの矩形波信号で情報の記録
・再生が行われた。記録は案内溝間の平坦部(ここで
は、基板の凹凸のうち、レーザ光入射側に近い方)に行
われた。記録層2の吸収率と記録パワー、C/N比の関
係を表2に示す。本実施例に用いられたレーザ光の最大
出射パワーは7.5mWであった。
When the recording film was formed, the absorptance of the recording layer 2 was changed by changing the amount of oxygen added to the sputtering gas. The guide groove pitch is 0.35 μm and the groove depth is 35
n. Disc type optical information recording medium has a linear velocity of 10m
/ Head rotated at 405 / s and having a semiconductor laser with a wavelength of 405 nm and an objective lens with NA = 0.85
Using 0, the recording layer 2 was irradiated with laser light from the light transmission layer 7 side, and information was recorded / reproduced with a rectangular wave signal having a recording frequency of 5 MHz. Recording was performed on a flat portion between the guide grooves (here, the unevenness of the substrate, which is closer to the laser beam incident side). Table 2 shows the relationship between the absorptance of the recording layer 2, the recording power, and the C / N ratio. The maximum emission power of the laser beam used in this example was 7.5 mW.

【0049】表2から分かるように、吸収率が20%より
低い場合には、十分なC/N比が得られない。なお、各
光学情報記録媒体に対して、波長660nmの半導体レ
ーザと、NA=0.85の対物レンズとを有する光ヘッ
ド20を用いて記録が試みられたが、記録を行うことは
全くできなかった。
As can be seen from Table 2, when the absorption is lower than 20%, a sufficient C / N ratio cannot be obtained. Recording was attempted on each optical information recording medium using an optical head 20 having a semiconductor laser with a wavelength of 660 nm and an objective lens with NA = 0.85, but recording could not be performed at all. Was.

【0050】[0050]

【表2】 [実施例4]次に、本発明の第4実施例に係る光学情報記
録媒体とその製造方法及び光学情報記録媒体の記録方法
について説明する。本実施例では、記録層の膜厚の最適
化を図るための実験について説明する。
[Table 2] Embodiment 4 Next, an optical information recording medium according to a fourth embodiment of the present invention, a method for manufacturing the same, and a method for recording on the optical information recording medium will be described. In the present embodiment, an experiment for optimizing the thickness of the recording layer will be described.

【0051】基板1として、第1実施例と同じポリカー
ボネート製のディスク型基板1を用い、記録層2として
Si層がスパッタリングにより形成された。さらに、機
械特性確保のために、紫外線硬化樹脂層により厚さ0.
6mmのダミーのポリカーボネート基板が貼り合わされ
た。こうして、図3に示される構造の光学情報記録媒体
が作成された。Si層の膜厚が7nm〜35nmの間で
変化させられ、ジッターの測定が行われた。
As the substrate 1, the same disk type substrate 1 made of polycarbonate as in the first embodiment was used, and a Si layer was formed as the recording layer 2 by sputtering. Furthermore, in order to secure mechanical characteristics, the thickness of the UV-curable resin layer is set to 0.1 mm.
A 6 mm dummy polycarbonate substrate was bonded. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 3 was produced. The thickness of the Si layer was changed between 7 nm and 35 nm, and the jitter was measured.

【0052】記録・再生には波長400nmの半導体レ
ーザと、NA=0.65の対物レンズとを有する光ヘッ
ド20が用いられた。記録は、光学情報記録媒体が線速
3m/sで回転させられながら、クロック周波数33M
Hzで(8−16)変調されたランダム信号を記録する
ことにより行われた。記録パルスとして図12と同様の
波形が用いられ、3T〜11Tの記録データに対して、
Td、Tw、Tbwは同一の値に設定された。また、記
録は案内溝間の平坦部を用いて行われた。その結果が表
3に示される。なお、表3に示される再生信号ジッタ
(s/30(ns)*100%:クロック周波数33M
Hz)は、Pw、Pbw、Pbが変化させられたとき得
られた最良値である。
For recording / reproduction, an optical head 20 having a semiconductor laser having a wavelength of 400 nm and an objective lens having an NA of 0.65 was used. Recording was performed at a clock frequency of 33 M while the optical information recording medium was rotated at a linear velocity of 3 m / s.
This was done by recording a random signal (8-16) modulated at Hz. As a recording pulse, a waveform similar to that shown in FIG. 12 is used. For recording data of 3T to 11T,
Td, Tw, and Tbw were set to the same value. The recording was performed using a flat portion between the guide grooves. The results are shown in Table 3. The reproduced signal jitter shown in Table 3 (s / 30 (ns) * 100%: clock frequency 33M)
Hz) is the best value obtained when Pw, Pbw, and Pb are changed.

【0053】また、信号が記録された後、各光学情報記
録媒体が温度90℃、湿度90%の環境に100時間晒
される環境試験が行われ、ジッタの変化を調べた。
After the signal was recorded, an environmental test was performed in which each optical information recording medium was exposed to an environment at a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90% for 100 hours, and the change in jitter was examined.

【0054】[0054]

【表3】 表3から分かるように、記録層2の膜厚が30nmより
厚くなるとジッタが急激に悪くなっている。また、膜厚
が10nmより薄い場合には、環境試験により特性が大
幅に劣化してしまう。従って、記録層2の膜厚としては
10nm以上、30nm以下が好ましいことが分かる。
[Table 3] As can be seen from Table 3, when the film thickness of the recording layer 2 is greater than 30 nm, the jitter sharply worsens. On the other hand, when the film thickness is smaller than 10 nm, the characteristics are greatly deteriorated by an environmental test. Therefore, it is understood that the thickness of the recording layer 2 is preferably 10 nm or more and 30 nm or less.

【0055】[実施例5]次に、本発明の第5の実施例に
係る光学情報記録媒体とその製造方法及び光学情報記録
媒体の記録方法について説明する。本実施例は、記録層
の熱伝導率の最適化を図るための実験について説明す
る。
Fifth Embodiment Next, an optical information recording medium according to a fifth embodiment of the present invention, a method for manufacturing the same, and a method for recording on the optical information recording medium will be described. In this embodiment, an experiment for optimizing the thermal conductivity of the recording layer will be described.

【0056】本発明に係る光学情報記録媒体では、記録
時に記録パワーの半導体レーザ10から照射されるレー
ザ光が記録層2で吸収され、記録層2および基板1表面
の温度が融点以上に上昇する。熱伝導率の低い記録層2
を用いることで熱拡散が抑制され、基板1の表面部分が
効率よく溶融され、案内溝に流動させられる。また、記
録層2と基板1との間に空間(ギャップ)が形成され
る。その結果、案内溝の深さが記録前より浅くなり、反
射率が高くなって情報の記録を行うことが可能となる。
そこで、記録膜2のスパッタ条件を変えて、熱伝導率の
異なるサンプルが作製され、熱伝導率の好ましい範囲が
調べられた。
In the optical information recording medium according to the present invention, the laser beam emitted from the semiconductor laser 10 having a recording power during recording is absorbed by the recording layer 2, and the temperatures of the surface of the recording layer 2 and the surface of the substrate 1 rise above the melting point. . Recording layer 2 with low thermal conductivity
Is used, heat diffusion is suppressed, and the surface portion of the substrate 1 is efficiently melted and flown into the guide grooves. Further, a space (gap) is formed between the recording layer 2 and the substrate 1. As a result, the depth of the guide groove becomes shallower than before recording, and the reflectance becomes higher, so that information can be recorded.
Therefore, samples having different thermal conductivity were produced by changing the sputtering conditions of the recording film 2, and a preferable range of the thermal conductivity was examined.

【0057】基板1としてディスク型ポリカーボネート
基板が用いられ、20nm程度の膜厚を有する記録層2
としてGe層がスパッタリングにより形成された。さら
に、機械特性確保のために、紫外線硬化樹脂層により厚
さ0.6mm程度のダミーのポリカーボネート基板が貼
り合わされた。こうして、図3に示される構造の光学情
報記録媒体が制作された。Ge層の形成時には、DCス
パッタ法が用いられ、投入パワー密度は34KW/m2
であった。成膜時のガス圧(Arガス)を0.05Pa
〜2.0Paの間で変化させて成膜が行われた。その
後、各光学情報記録媒体が線速3m/sで回転させられ
ながら記録周波数5MHzの信号が、マルチパルス(P
wb=0.1mW、Pb=2.5mW)で記録されて、
記録パワーとC/Nの関係が調べられた。
A disc-type polycarbonate substrate is used as the substrate 1, and the recording layer 2 having a thickness of about 20 nm
As a Ge layer was formed by sputtering. Further, a dummy polycarbonate substrate having a thickness of about 0.6 mm was bonded with an ultraviolet curable resin layer to secure mechanical characteristics. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 3 was produced. When forming the Ge layer, a DC sputtering method is used, and the input power density is 34 KW / m 2.
Met. Gas pressure (Ar gas) during film formation is 0.05 Pa
The film was formed by changing the pressure between 2.0 Pa and 2.0 Pa. Thereafter, while each optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 3 m / s, a signal of a recording frequency of 5 MHz is output by a multi-pulse (P
wb = 0.1 mW, Pb = 2.5 mW)
The relationship between recording power and C / N was examined.

【0058】スパッタの成膜時のガス圧とその条件で成
膜された記録層2の熱伝導率と記録信号の2次高調波歪
み(2ndH/C)が最小となるレーザ光の記録パワー
とC/N比の関係を表4にに示す。なお、表4には、各
条件で成膜されたGeの熱伝導率を細線加熱法(例え
ば、Thin Solid Films, 219 (1992) 239)により
測定した値も示してある。
The gas pressure at the time of film formation by sputtering, the thermal conductivity of the recording layer 2 formed under the conditions, and the recording power of the laser beam at which the second harmonic distortion (2ndH / C) of the recording signal is minimized. Table 4 shows the relationship between C / N ratios. Table 4 also shows the values obtained by measuring the thermal conductivity of Ge formed under each condition by a thin wire heating method (for example, Thin Solid Films, 219 (1992) 239).

【0059】表4に示されるように、熱伝導率が20W
/mKより高くなるとC/N比が急激に低下している。
これは、20W/mK以上では熱拡散が速やかに起こる
ので、基板1の表面部分が溶融しにくくなり記録を行う
ことが困難となるからである。上記観点から熱伝導率は
低ければ低い程良いが、低すぎる場合には、膜中の欠陥
等が多くなって耐候性が低くなるため、0.5W/mK
以上であることが望ましい。
As shown in Table 4, the thermal conductivity was 20 W
When it is higher than / mK, the C / N ratio sharply decreases.
This is because heat diffusion occurs quickly at 20 W / mK or more, so that the surface portion of the substrate 1 is difficult to melt and recording becomes difficult. From the above viewpoint, the lower the thermal conductivity is, the better. However, if the thermal conductivity is too low, the number of defects in the film increases and the weather resistance is lowered.
It is desirable that this is the case.

【0060】[0060]

【表4】 [実施例6]次に、本発明の第6の実施例に係る光学情報
記録媒体とその製造方法及び光学情報記録媒体の記録方
法について説明する。本実施例は、記録層2の熱伝導率
の最適化を図るための実験について記載するものであ
る。
[Table 4] Embodiment 6 Next, an optical information recording medium according to a sixth embodiment of the present invention, a method for manufacturing the same, and a method for recording on the optical information recording medium will be described. The present embodiment describes an experiment for optimizing the thermal conductivity of the recording layer 2.

【0061】基板1としてポリカーボネート製のディス
ク型基板1を用い、記録層2として(Ge+O)層が1
5nmの膜厚をもつようにスパッタリング法により形成
された。さらに、機械特性確保のために、紫外線硬化樹
脂層により厚さ0.6mm程度のダミーのポリカーボネ
ート基板が貼り合わされた。こうして、図3に示される
構造の光学情報記録媒体が制作された。スパッタリング
法はRFスパッタ法により、Ar+O2ガスを用いて行
われた。熱伝導率を変化させるため、成膜時のガス圧は
0.05Pa〜2.0Paの間で変化させられた。各光
学情報記録媒体は線速3m/sで回転させられながら記
録周波数5MHzの信号が記録(Pwb=0.1mW、
Pb=2.5mW)された。その後、温度90℃、湿度
90%の条件で100時間の環境試験が行われ、環境試
験前後でのC/N比の変化が調べられた。結果を表5に
示す。
A disc type substrate 1 made of polycarbonate was used as the substrate 1, and one (Ge + O) layer was used as the recording layer 2.
The film was formed by a sputtering method so as to have a thickness of 5 nm. Further, a dummy polycarbonate substrate having a thickness of about 0.6 mm was bonded with an ultraviolet curable resin layer to secure mechanical characteristics. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 3 was produced. The sputtering method was performed by an RF sputtering method using Ar + O2 gas. In order to change the thermal conductivity, the gas pressure during film formation was changed between 0.05 Pa and 2.0 Pa. Each optical information recording medium is recorded at a recording frequency of 5 MHz while being rotated at a linear velocity of 3 m / s (Pwb = 0.1 mW,
Pb = 2.5 mW). Thereafter, an environmental test was performed for 100 hours under the conditions of a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90%, and a change in the C / N ratio before and after the environmental test was examined. Table 5 shows the results.

【0062】表5から分かるように、熱伝導率が0.5
W/mKより低い場合には、耐候性が低く環境試験によ
り、C/N比が大幅に低下してしまう。実施例5の結果
とあわせて、記録層2の熱伝導率は0.5W/mK以上
20W/mK以下であることが望ましいことが分かる。
As can be seen from Table 5, the thermal conductivity was 0.5
If it is lower than W / mK, the weather resistance is low and the C / N ratio is significantly reduced by an environmental test. Together with the result of Example 5, it is understood that the thermal conductivity of the recording layer 2 is desirably 0.5 W / mK or more and 20 W / mK or less.

【0063】[0063]

【表5】 [実施例7]次に、本発明の第7の実施例に係る光学情報
記録媒体の記録方法について、図13を参照して説明す
る。図13は、本実施例に係る光学情報記録媒体のPb
/PwとC/Nとの関係を示す図である。
[Table 5] [Embodiment 7] Next, a recording method for an optical information recording medium according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 13 shows Pb of the optical information recording medium according to the present embodiment.
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between / Pw and C / N.

【0064】前記第1実施例で説明された光学情報記録
媒体が線速3m/sで回転させられながら、記録周波数
5MHzで記録が行われ、Pb/Pw比とC/N比の関
係が調べられた。記録パルスは第1実施例と同様にマル
チパルスであり、Pw=6mW、Pbw=0.1mWと
した。記録には波長405nmの半導体レーザと、NA
=0.65の対物レンズとを有する光ヘッド20が用い
られた。その結果を図13に示す。
While the optical information recording medium described in the first embodiment is rotated at a linear velocity of 3 m / s, recording is performed at a recording frequency of 5 MHz, and the relationship between the Pb / Pw ratio and the C / N ratio is examined. Was done. The recording pulse was a multi-pulse as in the first embodiment, and Pw = 6 mW and Pbw = 0.1 mW. For recording, a semiconductor laser of 405 nm wavelength and NA
An optical head 20 having an objective lens of = 0.65 was used. The result is shown in FIG.

【0065】図13から分かるように、Pb/Pw比>
0.33の条件ではC/N比が低下している。このこと
から、レーザ光の記録パルスのPb(記録パルス間のバ
イアスパワー)とPw(レーザのピークパワー)とのP
b/Pw比は0.33より小さい範囲が好ましいことが
分かる。
As can be seen from FIG. 13, the ratio Pb / Pw>
Under the condition of 0.33, the C / N ratio is reduced. From this, the Pb of the recording pulse of the laser beam (the bias power between the recording pulses) and Pw (the peak power of the laser) are calculated.
It can be seen that the b / Pw ratio is preferably in a range smaller than 0.33.

【0066】[実施例8]次に、本発明の第8の実施例に
係る光学情報記録媒体の記録方法について、図14を参
照して説明する。図14は、本実施例に係る光学情報記
録媒体のPbwとC/N比の関係を示す図である。
[Embodiment 8] Next, a recording method for an optical information recording medium according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a diagram illustrating a relationship between Pbw and C / N ratio of the optical information recording medium according to the present embodiment.

【0067】前記第1実施例で説明された光学情報記録
媒体が線速3m/sで回転させられながら、記録周波数
5MHzで記録が行われ、PbwとC/N比の関係が調
べられた。記録パルスは第1実施例と同様にマルチパル
スとし、Pw=6mW、Pb=1.5mWとした。記録
には波長405nmの半導体レーザと、NA=0.65
の対物レンズとを有する光ヘッド20が用いられた。そ
の結果を図14に示す。
The recording was performed at a recording frequency of 5 MHz while the optical information recording medium described in the first embodiment was rotated at a linear velocity of 3 m / s, and the relationship between Pbw and the C / N ratio was examined. The recording pulse was a multi-pulse as in the first embodiment, with Pw = 6 mW and Pb = 1.5 mW. For recording, a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm and NA = 0.65 were used.
An optical head 20 having an objective lens was used. FIG. 14 shows the result.

【0068】図14からわかるように、Pbw>0.5
mWの条件ではC/N比が低下している。このことか
ら、レーザ光の記録パルスのPbw(レーザのボトムパ
ワー)は0.5mWより小さいことが好ましいことが分
かる。
As can be seen from FIG. 14, Pbw> 0.5
Under the condition of mW, the C / N ratio is reduced. From this, it is understood that Pbw (bottom power of laser) of the recording pulse of the laser beam is preferably smaller than 0.5 mW.

【0069】[実施例9]次に、本発明の第9の実施例に
係る光学情報記録媒体の記録方法について説明する。本
実施例は、本発明に係る光学情報記録媒体への記録方法
の最適化に関して記載するものである。
[Embodiment 9] Next, a recording method for an optical information recording medium according to a ninth embodiment of the present invention will be described. This embodiment describes optimization of a recording method for an optical information recording medium according to the present invention.

【0070】実施例1で説明された光学情報記録媒体に
対して、波長405nmの半導体レーザと、NA=0.
65の対物レンズを有する光ヘッド20を用いて、光学
情報記録媒体の回転線速が変化させられながら、長さ1
μmのマークが記録され、線速とC/N比の関係が調べ
られた。この際、記録パルスはマルチパルスではなく、
デューティ(duty)=50%の矩形波とした。結果
を表6に示す。
For the optical information recording medium described in the first embodiment, a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm and NA = 0.
Using an optical head 20 having 65 objective lenses, while changing the rotational linear velocity of the optical information recording medium,
A mark of μm was recorded, and the relationship between the linear velocity and the C / N ratio was examined. At this time, the recording pulse is not a multi-pulse,
A rectangular wave with a duty (duty) = 50% was used. Table 6 shows the results.

【0071】表6から分かるように、線速10m/s以
上では、マルチパルス記録ではなく、矩形波による記録
でも良好な特性が得られる。矩形波による記録では、マ
ルチパルス記録に比べて、記録パワーが低くでき、レー
ザの駆動回路が簡単化できる等の利点がある。低線速で
C/N比が低下しているのは、ノイズが上昇しているた
めである。これは、マーク形成時に熱がより蓄積しやす
い矩形波記録を用いた場合、低線速では熱拡散が遅く媒
体への熱負荷が大きくなるためである。
As can be seen from Table 6, at a linear velocity of 10 m / s or more, good characteristics can be obtained not only by multi-pulse recording but also by recording using a rectangular wave. Compared with multi-pulse recording, recording using a rectangular wave has advantages such as lower recording power and simplification of a laser driving circuit. The reason why the C / N ratio decreases at a low linear velocity is that noise increases. This is because, when a rectangular wave recording in which heat is more likely to be accumulated at the time of forming a mark is used, the thermal diffusion is slow at a low linear velocity, and the thermal load on the medium increases.

【0072】[0072]

【表6】 [実施例10]次に、本発明の第10実施例に係る光学情
報記録媒体の記録方法について説明する。本実施例は、
本発明に係る光学情報記録媒体への記録方法の最適化に
関して説明する。
[Table 6] [Embodiment 10] Next, a recording method for an optical information recording medium according to a tenth embodiment of the present invention will be described. In this embodiment,
The optimization of the recording method on the optical information recording medium according to the present invention will be described.

【0073】実施例3で説明された光学情報記録媒体の
うち、吸収率が40%の光学情報記録媒体に対して、波
長400nmの半導体レーザと、NA=0.85の対物
レンズを有する光ヘッド20を用いて、光学情報記録媒
体の回転時の線速が変化させられながら、長さ0.7μ
mのマークが記録され、線速とC/N比の関係が調べら
れた。この際、記録パルスはマルチパルスではなく、d
uty=50%の矩形波とした。結果を表7に示す。
An optical head having a semiconductor laser with a wavelength of 400 nm and an objective lens with NA = 0.85 for an optical information recording medium having an absorptance of 40% among the optical information recording media described in the third embodiment. 20 while changing the linear velocity during rotation of the optical information recording medium,
The mark of m was recorded, and the relationship between the linear velocity and the C / N ratio was examined. At this time, the recording pulse is not a multi-pulse, but d.
Uty = 50% rectangular wave. Table 7 shows the results.

【0074】[0074]

【表7】 実施例9と同様に、線速10m/s以上では、マルチパ
ルス記録ではなく、矩形波による記録でも良好な特性が
得られることが確認された。
[Table 7] As in the case of Example 9, it was confirmed that good characteristics could be obtained not only by multi-pulse recording but also by recording with a rectangular wave at a linear velocity of 10 m / s or more.

【0075】[実施例11]厚さ1.1mmのポリカーボネ
ート製のディスク型基板1上に10nmのSi層2と、1
00nmのSiO2層8とが順次スパッタリングにより
形成された。その後、光透過層7として、厚さ0.1m
mのポリカーボネートフィルムが接着された。こうし
て、図9に示される構造の光学情報記録媒体が制作され
た。案内溝のピッチは0.35μm、溝深さは35nm
であった。本光学情報記録媒体が線速5m/sで回転さ
せられ、波長400nmの半導体レーザと、NA=0.
85の対物レンズを有する光ヘッド20を用いて、光透
過層側からレーザ光を入射することにより情報の記録・
再生が行われた。
[Example 11] A 10-nm thick Si layer 2 and a 1-mm thick
A 00 nm SiO 2 layer 8 was sequentially formed by sputtering. Then, as the light transmission layer 7, a thickness of 0.1 m
m of the polycarbonate film was adhered. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 9 was produced. The guide groove pitch is 0.35 μm and the groove depth is 35 nm
Met. The optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 5 m / s, and a semiconductor laser having a wavelength of 400 nm and NA = 0.
Using an optical head 20 having an objective lens of 85, a laser beam is incident from the light transmitting layer side to record information.
Playback was done.

【0076】レーザ光の記録パワーが変化させられなが
ら、案内溝間の平坦部に周波数5MHzの信号が記録さ
れC/N比が測定された。このとき、図15に示される
ように、記録パワー5mW以上で50dB以上のC/N比が
得られた。
While changing the recording power of the laser beam, a signal having a frequency of 5 MHz was recorded on the flat portion between the guide grooves, and the C / N ratio was measured. At this time, as shown in FIG. 15, a C / N ratio of 50 dB or more was obtained at a recording power of 5 mW or more.

【0077】上記実施例の比較として、厚さ1.1mm
のポリカーボネート基板1上に10nmのSi層2がス
パッタリングにより形成され、その後光透過層7とし
て、厚さ0.1mmのポリカーボネートフィルムが接着
された。こうして、図8に示される構造の光学情報記録
媒体が制作された。案内溝のピッチは0.35μm、溝
深さは40nmであった。本光学情報記録媒体が線速5
m/sで回転させられ、波長400nmの半導体レーザ
と、NA=0.85の対物レンズを有する光ヘッド20
を用いて、光透過層7側から記録層2にレーザ光を照射
することにより情報の記録・再生が行われた。
As a comparison with the above embodiment, a thickness of 1.1 mm
A 10 nm Si layer 2 was formed on the polycarbonate substrate 1 by sputtering, and then a polycarbonate film having a thickness of 0.1 mm was adhered as a light transmitting layer 7. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 8 was produced. The pitch of the guide grooves was 0.35 μm, and the groove depth was 40 nm. This optical information recording medium has a linear velocity of 5
Optical head 20 rotated at m / s and having a semiconductor laser with a wavelength of 400 nm and an objective lens with NA = 0.85
The recording / reproducing of information was performed by irradiating the recording layer 2 with laser light from the light transmitting layer 7 side using the above.

【0078】レーザ光の記録パワーが変化させられなが
ら、案内溝間の平坦部に周波数5MHzの信号が記録さ
れC/N比が測定された。このとき、上記実施例と同等
の信号振幅は得られたが、記録ノイズが高く、図15に
示されるように、45dB程度のC/N比しか得られな
かった。
While changing the recording power of the laser beam, a signal having a frequency of 5 MHz was recorded on the flat portion between the guide grooves, and the C / N ratio was measured. At this time, the same signal amplitude as in the above example was obtained, but the recording noise was high, and as shown in FIG. 15, a C / N ratio of only about 45 dB was obtained.

【0079】光透過層側からレーザ光を入射することに
より記録が行われる際に、熱変形抑止層8が必要になる
理由は次のように説明できる。光透過層7側からレーザ
光が入射される追記型光学情報記録媒体においては0.
1mmと非常に薄いフィルム7がレーザ光の入射面に位
置することになる。本発明に係る追記型光学情報記録媒
体では記録時に熱変形が生じるが、カバー層入射タイプ
では、カバー層7が非常に薄いので、熱変形がカバー層
表面にまで及んでしまい、ノイズを上昇させる原因とな
ってしまう。そこで、記録層2とカバー層7の間に熱伝
導率の高い誘電体層8(SiN、SiO2、Ta25
Al23、AlN、SiC、TiC等)、あるいは、金
属層8(Au,Ag等)を形成することによって、カバ
ー層表面の熱変形を抑制し、記録信号品質を高めること
ができる。
The reason why the thermal deformation suppressing layer 8 is required when recording is performed by irradiating a laser beam from the light transmitting layer side can be explained as follows. In a write-once optical information recording medium in which a laser beam is incident from the light transmitting layer 7 side, the optical recording medium has a thickness of 0.1.
The very thin film 7 having a thickness of 1 mm is located on the laser light incident surface. In the write-once optical information recording medium according to the present invention, thermal deformation occurs at the time of recording. However, in the case of the cover layer incident type, since the cover layer 7 is very thin, the thermal deformation reaches the surface of the cover layer, thereby increasing noise. Cause it. Therefore, a dielectric layer 8 (SiN, SiO 2 , Ta 2 O 5 ) having a high thermal conductivity is provided between the recording layer 2 and the cover layer 7.
Al 2 O 3, AlN, SiC , TiC , etc.), or by forming a metal layer 8 (Au, Ag, etc.), to suppress the thermal deformation of the cover layer surface, it is possible to increase the recording signal quality.

【0080】[実施例12]厚さ1.1mmのポリカーボ
ネート基板1上に10nmのSi層2と、150nmの
SiN層8とが順次スパッタリングにより形成され、そ
の後光透過層7として、厚さ0.1mmのポリカーボネ
ートフィルムが接着された。こうして、図9に示される
構造の光学情報記録媒体が制作された。案内溝のピッチ
は0.7μm、溝深さは40nmであった。本光学情報
記録媒体が線速5m/sで回転させられ、波長400n
mの半導体レーザと、NA=0.85の対物レンズを有
する光ヘッド20を用いて、光透過層7側から記録層2
にレーザ光を入射することにより情報の記録・再生が行
われた。
Example 12 A 10 nm Si layer 2 and a 150 nm SiN layer 8 were sequentially formed on a 1.1 mm thick polycarbonate substrate 1 by sputtering. A 1 mm polycarbonate film was adhered. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 9 was produced. The pitch of the guide grooves was 0.7 μm, and the groove depth was 40 nm. The optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 5 m / s, and the wavelength is 400 n.
m from the light transmitting layer 7 side using the optical head 20 having a semiconductor laser of m and an objective lens of NA = 0.85.
Recording / reproduction of information was performed by injecting a laser beam into the laser beam.

【0081】レーザ光の記録パワーが変化させながら、
周波数5MHzの信号が記録されC/N比が測定された。
この結果、案内溝間の平坦部および案内溝内部の両方に
おいて、記録パワー6mW以上で50dB以上のC/N
比が得られた。熱変形防止層8が付加された場合には、
案内溝内部で記録を行われた場合でも高いC/N比が得
られることが分かった。
While changing the recording power of the laser beam,
A signal with a frequency of 5 MHz was recorded and the C / N ratio was measured.
As a result, in both the flat portion between the guide grooves and the inside of the guide grooves, the C / N of 50 dB or more at the recording power of 6 mW or more.
A ratio was obtained. When the thermal deformation preventing layer 8 is added,
It was found that a high C / N ratio was obtained even when recording was performed inside the guide groove.

【0082】[実施例13]厚さ1.1mmのポリカーボ
ネート基板1上に10nmのGe層2と、10nmのA
u層8とが順次スパッタリングにより形成され、その後
光透過層7として、厚さ0.1mmのポリカーボネート
フィルムが接着された。こうして、図9に示される構造
の光学情報記録媒体が制作された。案内溝のピッチは
0.7μm、溝深さは40nmであった。本光学情報記
録媒体が線速5m/sで回転させられ、波長400nm
の半導体レーザと、NA=0.85の対物レンズを有す
る光ヘッド20を用いて、光透過層側から記録層2にレ
ーザ光を入射することにより情報の記録・再生が行われ
た。
Example 13 A 10 nm Ge layer 2 and a 10 nm A layer were formed on a 1.1 mm thick polycarbonate substrate 1.
The u layer 8 was sequentially formed by sputtering, and then a polycarbonate film having a thickness of 0.1 mm was adhered as the light transmitting layer 7. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 9 was produced. The pitch of the guide grooves was 0.7 μm, and the groove depth was 40 nm. The optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 5 m / s, and the wavelength is 400 nm.
Recording / reproduction of information was performed by injecting a laser beam into the recording layer 2 from the light transmission layer side using the semiconductor laser of No. 1 and an optical head 20 having an objective lens of NA = 0.85.

【0083】レーザ光の記録パワーが変化させられなが
ら、周波数5MHzの信号が記録され、C/N比が測定
された。その結果、記録パワー6.5mW以上で、案内
溝間の平坦部および案内溝内部の両方において50dB以
上のC/N比が得られた。
While changing the recording power of the laser beam, a signal having a frequency of 5 MHz was recorded, and the C / N ratio was measured. As a result, at a recording power of 6.5 mW or more, a C / N ratio of 50 dB or more was obtained in both the flat portion between the guide grooves and inside the guide grooves.

【0084】[実施例14]厚さ1.1mmのポリカーボ
ネート製のディスク型基板1上に10nmのGe層2
と、3〜20nmのAg層8とが順次スパッタリングに
より形成された。その後光透過層7として、厚さ0.1
mmのポリカーボネートフィルムが接着された。こうし
て、図9に示される構造の光学情報記録媒体が制作され
た。案内溝のピッチは0.7μm、溝深さは40nmで
あった。本光学情報記録媒体が線速5m/sで回転させ
られ、波長400nmの半導体レーザと、NA=0.8
5の対物レンズを有する光ヘッド20を用いて、光透過
層7側から記録層2にレーザ光を照射することにより情
報の記録・再生が行われた。
Example 14 A 10-nm thick Ge layer 2 was formed on a 1.1-mm-thick polycarbonate disk-type substrate 1.
And a 3 to 20 nm Ag layer 8 were sequentially formed by sputtering. Then, as the light transmitting layer 7, a thickness of 0.1
mm polycarbonate film was adhered. Thus, an optical information recording medium having the structure shown in FIG. 9 was produced. The pitch of the guide grooves was 0.7 μm, and the groove depth was 40 nm. This optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 5 m / s, and has a semiconductor laser having a wavelength of 400 nm and NA = 0.8.
Recording and reproduction of information were performed by irradiating the recording layer 2 with laser light from the light transmitting layer 7 side using an optical head 20 having an objective lens of No. 5.

【0085】周波数5MHzの信号が記録された後、光
学情報記録媒体が温度90℃、湿度90%の環境に10
0時間晒される環境試験が行われ、環境試験前後でのC
/N比の変化が調べられた。表8に示されるように、A
g層の膜厚として、5〜20nmが好適であることが確
認できた。
After a signal having a frequency of 5 MHz is recorded, the optical information recording medium is exposed to an environment having a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90%.
An environmental test is performed for 0 hours, and C before and after the environmental test
The change in the / N ratio was examined. As shown in Table 8, A
It was confirmed that the thickness of the g layer is preferably 5 to 20 nm.

【0086】[0086]

【表8】 なお、熱変形抑止層8が付加された場合には、記録層2
としてSiの酸化物あるいは窒化物、Geの酸化物ある
いは窒化物が用いられる場合、案内溝間の平坦部におい
ては50dB程度のC/N比が得られたが、案内溝内部
においては、40dB程度のC/N比しか得られなかっ
た。案内溝間の平坦部および案内溝内部に記録が行われ
る場合には、記録層2としてはSi層あるいはGe層が
好適である。
[Table 8] When the thermal deformation suppressing layer 8 is added, the recording layer 2
When oxides or nitrides of Si and oxides or nitrides of Ge are used, a C / N ratio of about 50 dB was obtained in the flat portion between the guide grooves, but about 40 dB inside the guide grooves. Only the C / N ratio of was obtained. When recording is performed in the flat portion between the guide grooves and inside the guide grooves, the recording layer 2 is preferably a Si layer or a Ge layer.

【0087】[0087]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学情報
記録媒体によれば、記録層として屈折率n、消衰係数k
が3.9<n<5.6、k>0.4を満足するSi、G
eやそれらの酸化物、窒化物等の材料が用いられ、波長
380〜430nmの光に対して適当な吸収率(20%
以上)、反射率(30〜70%)があり、さらに、熱伝
導率が0.5〜20W/mK程度の低い物質の層を記録
層として形成することにより、青紫色半導体レーザを用
いて1回だけ記録が可能な光学情報記録媒体を提供する
ことが可能となる。
As described above, according to the optical information recording medium of the present invention, the recording layer has a refractive index n and an extinction coefficient k.
Si, G satisfying 3.9 <n <5.6, k> 0.4
e and materials such as oxides and nitrides thereof, and have an appropriate absorption rate (20%) for light having a wavelength of 380 to 430 nm.
Above), a reflectance (30 to 70%), and a layer of a substance having a low thermal conductivity of about 0.5 to 20 W / mK is formed as a recording layer. It is possible to provide an optical information recording medium that can be recorded only once.

【0088】また、本発明にかかる光学情報記録媒体
は、波長400nm近傍において高反射率であるため、
再生専用型光学情報記録媒体との互換が容易となるとい
う効果もある。
The optical information recording medium according to the present invention has a high reflectance near a wavelength of 400 nm.
Another advantage is that compatibility with a read-only optical information recording medium is facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の構
成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a phase-change optical information recording medium of an optical information recording medium of the present invention when a laser beam is irradiated from a substrate side.

【図2】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when laser light is irradiated from the substrate side.

【図3】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when laser light is irradiated from the substrate side.

【図4】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when a laser beam is irradiated from the substrate side.

【図5】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when a laser beam is irradiated from the substrate side.

【図6】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when laser light is irradiated from the substrate side.

【図7】基板側からレーザ光が照射されるときの、本発
明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体の他
の構成を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention when a laser beam is irradiated from the substrate side.

【図8】光透過層側からレーザ光が照射されるときの、
本発明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体
の構成を示す断面図である。
FIG. 8 illustrates a case where laser light is irradiated from the light transmission layer side.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention.

【図9】光透過層側からレーザ光が照射されるときの、
本発明の光学情報記録媒体の相変化光光学情報記録媒体
の他の構成を示す断面図である。
FIG. 9 shows a case where laser light is irradiated from the light transmission layer side.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing another configuration of the phase-change optical information recording medium of the optical information recording medium of the present invention.

【図10】本発明の光学情報記録媒体の再生信号波形を
模式的に説明する図である。
FIG. 10 is a diagram schematically illustrating a reproduction signal waveform of the optical information recording medium of the present invention.

【図11】本発明の第1実施例に係る光学情報記録媒体
の記録パワーとC/Nの関係を示す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a relationship between recording power and C / N of the optical information recording medium according to the first example of the present invention.

【図12】本発明の第1実施例に係る光学情報記録媒体
のレーザ駆動波形を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a laser drive waveform of the optical information recording medium according to the first embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第4実施例に係る光学情報記録媒体
のPb/PwとC/Nの関係を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a relationship between Pb / Pw and C / N of an optical information recording medium according to a fourth embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第5実施例に係る光学情報記録媒体
のPbwとC/Nの関係を示す図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating a relationship between Pbw and C / N of an optical information recording medium according to a fifth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第11実施例に係る光学情報記録媒
体の記録パワーとC/Nの関係を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a relationship between recording power and C / N of an optical information recording medium according to an eleventh embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 記録層 3 紫外線硬化樹脂 4 基板 5 誘電体層 6 反射層 7 光透過層 8 熱変形抑止層 10 レーザ 12 受光部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Recording layer 3 Ultraviolet curing resin 4 Substrate 5 Dielectric layer 6 Reflection layer 7 Light transmission layer 8 Thermal deformation suppression layer 10 Laser 12 Light receiving part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535D 535H 538 538L B41M 5/26 7/004 Z G11B 7/004 7/0045 A 7/0045 7/007 7/007 7/26 531 7/26 531 B41M 5/26 X Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA43 FA23 FA25 FA28 FA29 FB04 FB05 FB25 FB29 5D029 JA01 JB21 JB35 JB47 JC02 JC03 JC05 JC12 LA13 LA14 LA16 LB01 LB02 LB07 LC08 LC16 NA13 NA14 5D090 AA01 BB03 CC03 CC12 CC14 DD01 EE02 FF08 GG01 GG10 KK03 KK06 5D121 AA01 EE03 EE16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535D 535H 538 538L B41M 5/26 7/004 Z G11B 7/004 7 / 0045 A 7/0045 7/007 7/007 7/26 531 7/26 531 B41M 5/26 X F term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA43 FA23 FA25 FA28 FA29 FB04 FB05 FB25 FB29 5D029 JA01 JB21 JB35 JB47 JC02 JC12 JC05 LA13 LA14 LA16 LB01 LB02 LB07 LC08 LC16 NA13 NA14 5D090 AA01 BB03 CC03 CC12 CC14 DD01 EE02 FF08 GG01 GG10 KK03 KK06 5D121 AA01 EE03 EE16

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板と、 前記基板上に形成された記録層とを具備し、 波長380nm〜430nmのレーザ光を用いて情報が
記録され、 前記記録層の屈折率n及び消衰係数kが、380〜43
0nmの波長のレーザー光に対して、3.9<n<5.
6、かつ、k>0.4の関係を満たす光学情報記録媒
体。
1. A substrate comprising: a substrate; and a recording layer formed on the substrate, wherein information is recorded by using a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm, and the recording layer has a refractive index n and an extinction coefficient k. 380-43
For a laser beam having a wavelength of 0 nm, 3.9 <n <5.
6. An optical information recording medium satisfying a relationship of k> 0.4.
【請求項2】基板と、 前記基板上に形成された記録層とを具備し、 波長380nm〜430nmのレーザ光を用いて情報が
記録され、 380〜430nmの前記波長の前記レーザ光に対する
前記記録層の吸収率が20%以上である光学情報記録媒
体。
2. A recording apparatus comprising: a substrate; and a recording layer formed on the substrate, wherein information is recorded using a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm, and the recording is performed on the laser beam having a wavelength of 380 to 430 nm. An optical information recording medium in which the layer has an absorptance of 20% or more.
【請求項3】前記記録層は、前記情報が記録される前に
第1反射率を有し、前記情報が記録された後、前記第1
反射率より高い第2反射率を持ち、再生専用型光学情報
記録媒体と互換性を有する請求項1又は2に記載の光学
情報記録媒体。
3. The recording layer has a first reflectance before the information is recorded, and has a first reflectivity after the information is recorded.
3. The optical information recording medium according to claim 1, having a second reflectance higher than the reflectance, and having compatibility with a read-only optical information recording medium.
【請求項4】前記記録層は、30〜70%の前記第1反
射率を有する請求項3に記載の光学情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 3, wherein said recording layer has said first reflectance of 30 to 70%.
【請求項5】前記記録層の膜厚が、10nm以上、30
nm以下である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の
光学情報記録媒体。
5. The recording layer according to claim 1, wherein said recording layer has a thickness of at least 10 nm and at least 30 nm.
The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical information recording medium has a thickness of not more than nm.
【請求項6】前記記録層の熱伝導率が、0.5W/mK
以上、20W/mK以下である請求項1乃至5のいずれ
か一項に記載の光学情報記録媒体。
6. The thermal conductivity of the recording layer is 0.5 W / mK.
The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 5, wherein the optical information recording medium has a power of 20 W / mK or less.
【請求項7】前記記録層が、Si、Ge、Siの酸化物
又は窒化物、及びGeの酸化物又は窒化物からなるグル
ープから選択される少なくとも1つを含む請求項1乃至
6のいずれか一項に記載の光学情報記録媒体。
7. The recording layer according to claim 1, wherein the recording layer includes at least one selected from the group consisting of Si, Ge, an oxide or nitride of Si, and an oxide or nitride of Ge. An optical information recording medium according to claim 1.
【請求項8】波長380nm〜430nmのレーザ光を
用いて情報が記録され、記録層が基板上に形成されてい
る光学情報記録媒体の製造方法であって、 前記記録層の熱伝導率が所望の値となるようにガス圧力
を調整するステップと、Si又はGeをターゲットとし
て、前記調整されたガス圧力でスパッタリング法により
前記記録層を前記基板上に形成するステップとを具備す
る光学情報記録媒体の製造方法。
8. A method for manufacturing an optical information recording medium in which information is recorded using a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm and a recording layer is formed on a substrate, wherein the recording layer has a desired thermal conductivity. An optical information recording medium comprising: adjusting a gas pressure so as to have a value of; and forming the recording layer on the substrate by sputtering with the adjusted gas pressure using Si or Ge as a target. Manufacturing method.
【請求項9】請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光
学情報記録媒体に情報を記録する方法であって、 前記レーザ光の記録パルスとしてマルチパルスを用い、
前記マルチパルスのレーザピークパワーをPw、前記マ
ルチパルスのレーザボトムパワーをPbw、前記記録パ
ルス間のバイアスパワーをPbとした時、0<Pbw<
0.5mW、かつ、0<Pb/Pw<0.33で前記情
報が記録される光学情報記録媒体の記録方法。
9. A method for recording information on an optical information recording medium according to claim 1, wherein a multi-pulse is used as a recording pulse of the laser beam,
When the laser peak power of the multi-pulse is Pw, the laser bottom power of the multi-pulse is Pbw, and the bias power between the recording pulses is Pb, 0 <Pbw <
A recording method for an optical information recording medium in which the information is recorded at 0.5 mW and 0 <Pb / Pw <0.33.
【請求項10】前記光学情報記録媒体は、前記基板に所
定の間隔で形成された案内溝を更に具備し、 隣り合う前記案内溝の間の平坦領域に前記情報が記録さ
れる請求項9記載の光学情報記録媒体の記録方法。
10. The optical information recording medium according to claim 9, further comprising guide grooves formed on the substrate at predetermined intervals, wherein the information is recorded in a flat area between the adjacent guide grooves. Recording method for an optical information recording medium.
【請求項11】請求項1乃至7のいずれか一項に記載の
光学情報記録媒体に情報を記録する方法であって、 前記レーザ光の記録パルスとして矩形波が用いられ、 前記光学情報記録媒体が線速10m/s以上で回転させら
れながら、前記情報が記録される光学情報記録媒体の記
録方法。
11. The method for recording information on an optical information recording medium according to claim 1, wherein a rectangular wave is used as a recording pulse of the laser light, and the optical information recording medium is a recording medium. A method for recording an optical information recording medium on which information is recorded while rotating at a linear velocity of 10 m / s or more.
【請求項12】基板と、 前記基板上に形成された記録層と、 前記記録層上に形成された光透過層と 前記記録層と前記光透過層との間に熱変形抑止層とを具
備し、 前記光透過層を介して前記記録層に照射される、380
nm〜430nmの波長のレーザ光を用いて情報が記録
される光学情報記録媒体。
12. A substrate, a recording layer formed on the substrate, a light transmitting layer formed on the recording layer, and a thermal deformation suppressing layer between the recording layer and the light transmitting layer. 380 irradiated to the recording layer via the light transmitting layer
An optical information recording medium on which information is recorded using a laser beam having a wavelength of nm to 430 nm.
【請求項13】前記熱変形抑止層は、SiN層、SiO
2層、Ta25層、Al23層、AlN層、SiC層、
及びTiC層からなるグループから選択された1つの層
または複数の層の積層である請求項12記載の光学情報
記録媒体。
13. The thermal deformation suppressing layer is a SiN layer, a SiO
2 layers, Ta 2 O 5 layer, Al 2 O 3 layer, AlN layer, SiC layer,
13. The optical information recording medium according to claim 12, wherein the optical information recording medium is a single layer or a stack of a plurality of layers selected from the group consisting of TiC layer and TiC layer.
【請求項14】前記熱変形抑止層が、AuまたはAgを
含む金属層であって、膜厚が5nm以上15nm以下で
ある請求項12記載の光学情報記録媒体。
14. The optical information recording medium according to claim 12, wherein said thermal deformation suppressing layer is a metal layer containing Au or Ag, and has a thickness of 5 nm or more and 15 nm or less.
【請求項15】前記記録層がSi層あるいはGe層であ
る請求項12乃至14のいずれか一項に記載の光学情報
記録媒体。
15. The optical information recording medium according to claim 12, wherein said recording layer is a Si layer or a Ge layer.
【請求項16】請求項12乃至15のいずれか一項に記
載の光学情報記録媒体に情報を記録する方法であって、 基板に形成された案内溝内および案内溝間の平坦部の両
方に前記情報が記録される光学情報の記録方法。
16. A method for recording information on an optical information recording medium according to any one of claims 12 to 15, wherein the method comprises the steps of: A recording method of optical information in which the information is recorded.
【請求項17】所定の間隔で形成された案内溝を有する
基板と、 前記基板上に形成された記録層とを具備し、 波長380nm〜430nmのレーザ光を用いて、隣り
合う前記案内溝の間の平坦領域に情報が記録される光学
情報記録媒体。
17. A substrate having guide grooves formed at a predetermined interval, and a recording layer formed on the substrate, wherein a laser beam having a wavelength of 380 nm to 430 nm is used to form adjacent guide grooves. An optical information recording medium on which information is recorded in a flat area between them.
【請求項18】前記案内溝内にも情報が記録される請求
項17に記載の光学情報記録媒体。
18. The optical information recording medium according to claim 17, wherein information is also recorded in said guide groove.
【請求項19】所定の間隔で形成された案内溝を有する
基板と、 前記基板上に形成された記録層とを具備し、 波長380nm〜430nmのレーザ光を用いて情報が
記録されるとき、前記情報が記録された部位に対応する
前記案内溝の深さは、前記情報の記録前より前記情報の
記録後に浅い光学情報記録媒体。
19. A recording medium comprising: a substrate having guide grooves formed at predetermined intervals; and a recording layer formed on the substrate, wherein information is recorded using laser light having a wavelength of 380 nm to 430 nm. An optical information recording medium, wherein a depth of the guide groove corresponding to a portion where the information is recorded is shallower after recording the information than before recording the information.
【請求項20】前記情報の記録前の反射率は、前記情報
の記録後の反射率より低い請求項19に記載の光学情報
記録媒体。
20. The optical information recording medium according to claim 19, wherein the reflectance before recording the information is lower than the reflectance after recording the information.
【請求項21】基板と、 前記基板上に形成された記録層とを具備し、 前記記録層と前記基板の間のレーザ光が照射される位置
に空間が形成されるように波長380nm〜430nm
の前記レーザ光を照射することにより情報が記録される
光学情報記録媒体。
21. A substrate comprising: a substrate; and a recording layer formed on the substrate, wherein a wavelength of 380 nm to 430 nm is formed so that a space is formed between the recording layer and the substrate at a position irradiated with the laser beam.
An optical information recording medium on which information is recorded by irradiating the laser light.
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