JP2002202595A - Photopolymerizable planographic printing plate - Google Patents

Photopolymerizable planographic printing plate

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JP2002202595A
JP2002202595A JP2000401467A JP2000401467A JP2002202595A JP 2002202595 A JP2002202595 A JP 2002202595A JP 2000401467 A JP2000401467 A JP 2000401467A JP 2000401467 A JP2000401467 A JP 2000401467A JP 2002202595 A JP2002202595 A JP 2002202595A
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JP
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bis
phenyl
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difluoro
titanium
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Application number
JP2000401467A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuto Kunida
一人 國田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable planographic printing plate having high sensitivity, good handleability in a light room and good shelf stability. SOLUTION: A photopolymerizable composition containing a halogen- containing photopolymerization initiator is dissolved in three or more solvents, applied on a base and dried at 120-170 deg.C to form a photosensitive layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性平版印刷
版に関し、詳細には、高感度で明室取り扱い性、保存安
定性も良好な光重合性平版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photopolymerizable lithographic printing plate, and more particularly to a photopolymerizable lithographic printing plate having a high sensitivity, a light room handling property and a good storage stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性平版印刷版の分野において波長3
00nm〜1200nmの紫外光、可視光、赤外光を放
射する固体レーザ及び半導体レーザ、ガスレーザは高出
力かつ小型のものが容易に入手できるようになってお
り、これらのレーザはコンピュータ等のデジタルデータ
から直接製版する際の記録光源として、非常に有用であ
る。これら各種レーザ光に感応する感光性平版印刷版
(以下単に記録材料ともいう)については種々研究され
ており、代表的なものとして、第一に、感光波長760
nm以上の赤外線レーザで記録可能な材料としては米国
特許第4708925号記載のポジ型記録材料、特開平
8−276558号公報に記載されている酸触媒架橋型
のネガ型記録材料等が、第二に、300nm〜700n
mの紫外光または可視光レーザ対応型の記録材料として
は米国特許2850445号及び特公昭44−2018
9号公報に記載されているラジカル重合型のネガ型記録
材料等が多数ある。
2. Description of the Related Art In the field of photosensitive lithographic printing plates, wavelength 3
Solid-state lasers, semiconductor lasers, and gas lasers that emit ultraviolet light, visible light, and infrared light with a wavelength of 00 nm to 1200 nm are easily available in high-output and small-sized lasers. It is very useful as a recording light source when making a plate directly from a plate. Various studies have been made on photosensitive lithographic printing plates (hereinafter also simply referred to as recording materials) that are sensitive to these various laser beams.
Examples of the material recordable with an infrared laser of nm or more include a positive recording material described in U.S. Pat. No. 4,708,925 and an acid-catalyzed cross-linkable negative recording material described in JP-A-8-276558. 300nm to 700n
US Pat. No. 2,850,445 and JP-B-44-2018 are examples of recording materials compatible with ultraviolet or visible light lasers of m.
There are many radical polymerization type negative recording materials and the like described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-99.

【0003】この中でもラジカル光重合系のものは高感
度であり、コンピューターから各種レーザーにより、従
来のリスフィルムを介さずに直接版上に画像様に露光す
るいわゆるダイレクト印刷版に有利である。既に上記ダ
イレクト印刷版の分野においては、488nm、532
nmといった可視光レーザー光源と光重合系平版印刷版
の組み合わせが実用化されているが、より高生産性の追
求としての描画速度向上に対応すべく、さらなる高感度
化が必要であるばかりでなく、作業性の点で暗室ではな
く黄色灯や白色灯下での取り扱い性(明室化)の要求も
高まっている。さらに、上記高感度化のために光重合開
始剤あるいは光重合開始系の設計開発がなされており、
高感度な光重合開始剤として注目されるのが、各種ハロ
ゲン原子を含有する光重合開始剤である。このようなハ
ロゲン原子を含有する光重合開始剤は可視光に吸収のな
いものが多く、これを含有する感光性組成物は、波長3
00nm〜450nmの紫外−紫色レーザ及び800〜
1200nmの赤外レーザーといった露光方式との組み
合わせにより、明室化も可能となってきている。
Among them, radical photopolymerization type is highly sensitive and is advantageous for a so-called direct printing plate in which the image is exposed directly to the plate by a computer from various lasers without using a conventional lith film. In the field of the direct printing plate, 488 nm, 532
The combination of a visible light laser light source such as nm and a photopolymerizable lithographic printing plate has been put to practical use, but in addition to the need for higher sensitivity in order to respond to the increase in drawing speed in pursuit of higher productivity, In terms of workability, the demand for handling (light room) under a yellow light or white light instead of a dark room is increasing. Furthermore, the design and development of a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiation system have been made to increase the sensitivity.
Attention has been paid to high-sensitivity photopolymerization initiators that contain various halogen atoms. Many of such photopolymerization initiators containing a halogen atom do not absorb visible light, and a photosensitive composition containing the same has a wavelength of 3 nm.
UV-violet laser of 00 nm to 450 nm and 800 to
Combination with an exposure method such as an infrared laser of 1200 nm has enabled a bright room.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、残念ながら、
ハロゲン原子を含有する光重合開始剤は光重合性平版印
刷版(感材)の製造時の塗布工程での高温によりハロゲ
ンラジカルを発生しやすく、熱による暗重合と考えられ
る全面硬化により現像不良となる、塗布乾燥カブリとい
う現象を生じ易いため、沸点100℃以下の低沸点溶媒
との組み合わせにより乾燥温度を低下させる必要性があ
った。しかし低沸点溶媒の場合、製造時の爆発による危
険性や、乾燥が部分的におこる塗布ムラが発生しやすく
安定製造が難しいだけでなく、高温による熱的平衡状態
を経ていないため、保存時に変化する安定性の悪い感材
となっていた。したがって、本発明は上記の問題点を克
服し、高感度で、明室取り扱い性が良好で、さらには、
保存安定性も良好な光重合性平版印刷版を提供しようと
するものである。
However, unfortunately,
Photopolymerization initiators containing halogen atoms tend to generate halogen radicals due to high temperatures in the coating process during the production of photopolymerizable lithographic printing plates (light-sensitive materials), and may cause poor development due to thermal curing, which is considered to be dark polymerization by heat. Therefore, there is a need to lower the drying temperature by a combination with a low-boiling solvent having a boiling point of 100 ° C. or less, since the phenomenon of coating and drying fog tends to occur. However, in the case of low boiling solvents, there is a danger of explosion during production, coating unevenness that occurs due to partial drying, and stable production is difficult.In addition, it does not undergo thermal equilibrium due to high temperature, so it changes during storage. It was a sensitive material with poor stability. Therefore, the present invention overcomes the above-mentioned problems, is highly sensitive, has good light room handling properties, and furthermore,
An object of the present invention is to provide a photopolymerizable lithographic printing plate having good storage stability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、ハロゲン原子含有光重合開始材を用いた光重合
性平版印刷版の感光層の形成において、特定の溶剤を用
いることにより、上記目的を達成することを見いだし
た。即ち、本発明は、以下の構成を有する。 (1)支持体上に、ハロゲン原子含有光重合開始剤を含
有する光重合性組成物を3種以上の溶剤に溶解して塗布
した後、120℃〜170℃で乾燥して感光層を形成し
たことを特徴とする光重合性平版印刷版。 (2)前記光重合性平版印刷版を、波長300nm〜4
50nmのレーザーを用いて露光することを特徴とする
平版印刷版の製版方法。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that a specific solvent is used in forming a photosensitive layer of a photopolymerizable lithographic printing plate using a halogen atom-containing photopolymerization initiator. We have found that we achieve the above objectives. That is, the present invention has the following configuration. (1) A photopolymerizable composition containing a halogen atom-containing photopolymerization initiator is applied on a support by dissolving it in three or more solvents, and then dried at 120 to 170 ° C to form a photosensitive layer. A photopolymerizable lithographic printing plate characterized in that: (2) The photopolymerizable lithographic printing plate is applied at a wavelength of 300 nm to 4 nm.
A method for making a lithographic printing plate, comprising exposing with a 50 nm laser.

【0006】本発明の光重合性平版印刷版は、感光層を
形成する際に、ハロゲン原子含有光重合開始剤を含有す
る光重合性組成物を、3種以上の混合溶剤に溶解して塗
布することで、塗布乾燥カブリを生じずに、120℃以
上の高温乾燥が可能になり、保存安定性についても向上
させることができた。
[0006] The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention is formed by dissolving a photopolymerizable composition containing a halogen atom-containing photopolymerization initiator in a mixed solvent of three or more kinds when forming a photosensitive layer. By doing so, drying at a high temperature of 120 ° C. or more was possible without causing coating and drying fog, and storage stability was able to be improved.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の光重合性平版印刷版の感
光層を形成するために用いられる光重合性組成物に含ま
れるハロゲン原子含有光重合開始剤(以下単に、光重合
開始剤または開始剤ともいう)について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A halogen-containing photopolymerization initiator (hereinafter simply referred to as a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiator) contained in a photopolymerizable composition used for forming a photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention. (Also referred to as an initiator).

【0008】本発明における好ましい光重合開始剤とし
ては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩化
合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)
ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ボレート
化合物、(g)メタロセン化合物、(h)炭素ハロゲン
結合を有する化合物等でハロゲン原子を含有するものが
挙げられる。
Preferred photopolymerization initiators in the present invention include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, and (e)
Hexaarylbiimidazole compounds, (f) borate compounds, (g) metallocene compounds, (h) compounds having a carbon-halogen bond, and the like, containing halogen atoms.

【0009】(a)芳香族ケトン類の好ましい例として
は、「RADIATION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHN
OLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77〜117記
載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有
する化合物中で、例えば
Preferred examples of (a) aromatic ketones include “RADIATION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHN”.
OLOGY '' JPFOUASSIER JFRABEK (1993), p77-117 described in the compound having a benzophenone skeleton or thioxanthone skeleton, for example,

【0010】[0010]

【化1】 Embedded image

【0011】等が挙げられる。より好ましい(a)芳香
族ケトン類の例としては、特公昭47−6416記載の
α−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981
号記載のベンゾインエーテル化合物の中で、例えば
And the like. More preferred examples of (a) aromatic ketones include α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416 and JP-B-47-3981.
Among the benzoin ether compounds described in

【0012】[0012]

【化2】 Embedded image

【0013】特公昭47−22326号記載のα−置換
ベンゾイン化合物中で、例えば
Among the α-substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326, for example,

【0014】[0014]

【化3】 Embedded image

【0015】等を挙げることができる。また、別の例で
ある(b)芳香族オニウム塩としては、周期律表の第
V、VIおよびVII族の元素、具体的にはN、P、As、
Sb、Bi、O、S、Se、Te、またはIの芳香族オ
ニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩の例
としては、特公昭52−14277号、特公昭52−1
4278号、特公昭52−14279号に示されている
化合物を挙げることができる。具体的には、
And the like. Further, as another example of (b) the aromatic onium salt, elements of Groups V, VI and VII of the periodic table, specifically N, P, As,
Includes aromatic onium salts of Sb, Bi, O, S, Se, Te, or I. Examples of such aromatic onium salts include JP-B No. 52-14277 and JP-B No. 52-1.
No. 4278 and JP-B No. 52-14279. In particular,

【0016】[0016]

【化4】 Embedded image

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】[0019]

【化7】 Embedded image

【0020】を挙げることができる。さらに以下のジア
ゾニウム塩も挙げることができる。
The following can be mentioned. Further, the following diazonium salts can be mentioned.

【0021】[0021]

【化8】 Embedded image

【0022】[0022]

【化9】 Embedded image

【0023】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である(c)「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その中の例としては、2,4−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイドがある。
[0023] Another example of the photopolymerization initiator used in the present invention, (c) "organic peroxide" includes oxygen-
Almost all organic compounds having one or more oxygen bonds are included, examples of which include 2,4-dichlorobenzoyl peroxide.

【0024】本発明で使用される光重合開始剤としての
(d)チオ化合物は、下記一般式〔I〕で示される。
The thio compound (d) as a photopolymerization initiator used in the present invention is represented by the following general formula [I].

【0025】[0025]

【化10】 Embedded image

【0026】(ここで、R20はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、R21は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、R20とR21は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。)
(Where R 20 represents an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 20 and R 21 are bonded to each other to form oxygen, sulfur and Non-metallic atoms necessary for forming a 5- to 7-membered ring which may contain a heteroatom selected from nitrogen atoms are shown.)

【0027】上記一般式〔I〕におけるアルキル基とし
ては炭素原子数1〜4個のものが好ましい。またアリー
ル基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6
〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては、
上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原
子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキ
シ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれ
る。R21は、好ましくは炭素原子数1〜4個のアルキル
基である。一般式〔I〕で示されるチオ化合物中の具体
例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
The alkyl group in the above formula (I) is preferably one having 1 to 4 carbon atoms. The aryl group has 6 carbon atoms such as phenyl and naphthyl.
10 to 10 are preferable, and as the substituted aryl group,
The above aryl groups include those substituted with a halogen atom such as a chlorine atom, an alkyl group such as a methyl group, or an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group. R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the thio compound represented by the general formula [I] include the following compounds.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である(e)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、
特公昭45−37377号、特公昭44−86516号
記載のロフィンダイマー類の中で、例えば2,2′−ビ
ス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テト
ラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロ
モフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビ
イミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイ
ミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール
等が挙げられる。
As another example of the photopolymerization initiator used in the present invention, (e) hexaarylbiimidazole includes:
Among the lophin dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, for example, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2, 2'-bis (o-trifluorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-Tetraphenylbiimidazole and the like.

【0030】本発明における光重合開始剤の他の例であ
る(f)ボレート塩の例としては下記一般式[II] で表
わされる化合物を挙げることができる。
Examples of (f) borate salts which are other examples of the photopolymerization initiator in the present invention include compounds represented by the following general formula [II].

【0031】[0031]

【化11】 Embedded image

【0032】(ここで、R22、R23、R24およびR25
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、R22、R23、R24およびR25はその2個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
22、R23、R24およびR25のうち少なくとも1つは置
換もしくは非置換のアルキル基である。Z+はアルカリ
金属カチオンまたは第4級アンモニウムカチオンを示
す)。上記R22〜R25のアルキル基としては、直鎖、分
枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが
好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上
記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例えば−C
l、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリール基
(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、
(Wherein R 22 , R 23 , R 24 and R 25 may be the same or different from each other and each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted An alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein R 22 , R 23 , R 24 and R 25 form a cyclic structure by bonding of two or more of the groups; You can, however,
At least one of R 22 , R 23 , R 24 and R 25 is a substituted or unsubstituted alkyl group. Z + represents an alkali metal cation or a quaternary ammonium cation). The alkyl group of R 22 to R 25 includes linear, branched and cyclic alkyl groups, and preferably has 1 to 18 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, stearyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like. Further, as the substituted alkyl group, a halogen atom (for example, -C
l, -Br etc.), a cyano group, a nitro group, an aryl group (preferably a phenyl group), a hydroxy group,

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】(ここでR26、R27は独立して水素原子、
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示
す。)、−COOR28(ここでR28は水素原子、炭素数
1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−
OCOR29又は−OR30(ここでR29、R30は炭素数1
〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)を置換
基として有するものが含まれる。上記R22〜R25のアリ
ール基としては、フェニル基、ナフチル基などの1〜3
環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上
記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基
又は、炭素数1〜14のアルキル基を有するものが含ま
れる。上記R22〜R25のアルケニル基としては、炭素数
2〜18の直鎖、分枝、環状のものが含まれ、置換アル
ケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。上記R22〜R25のア
ルキニル基としては、炭素数2〜28の直鎖又は分枝の
ものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれ
る。また、上記R22〜R25の複素環基としてはN、Sお
よびOの少なくとも1つを含む5員環以上、好ましくは
5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮
合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置
換アリール基の置換基として挙げたものを有していても
よい。一般式[II] で示される化合物例としては具体的
には米国特許3,567,453号、同4,343,8
91号、ヨーロッパ特許109,772号、同109,
773号に記載されている化合物および以下に示すもの
が挙げられる。
(Wherein R 26 and R 27 are independently a hydrogen atom,
It represents an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or an aryl group. ), -COOR 28 (where R 28 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, or an aryl group),-
OCOR 29 or -OR 30 (where R 29 and R 30 each have 1 carbon atom)
And 14 to 14 alkyl groups or aryl groups. ) As a substituent. Examples of the aryl group of R 22 to R 25 include a phenyl group and a naphthyl group.
A cyclic aryl group is included, and examples of the substituted aryl group include those having a substituent of the above-described substituted alkyl group or an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms in the above-described aryl group. Examples of the alkenyl group of R 22 to R 25 include straight-chain, branched and cyclic ones having 2 to 18 carbon atoms. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the substituents of the above-mentioned substituted alkyl group. Are included. Examples of the alkynyl group of R 22 to R 25 include straight-chain or branched ones having 2 to 28 carbon atoms. Examples of the substituent of the substituted alkynyl group include those described above as the substituent of the substituted alkyl group. included. The heterocyclic group of the R 22 ~R 25 N, 5-membered ring or more, including at least one of S and O, preferably include heterocyclic groups 5- to 7-membered ring, this heterocyclic group May contain a fused ring. Further, it may have the substituents described above as the substituents of the substituted aryl group. Specific examples of the compound represented by the general formula [II] include US Pat. Nos. 3,567,453 and 4,343,8.
No. 91, European Patent Nos. 109,772 and 109,772.
No. 773 and the compounds shown below.

【0035】[0035]

【化13】 Embedded image

【0036】光重合開始剤の他の例である(g)メタロ
セン化合物の例としては、特開昭59−152396
号、特開昭61−151197号、特開昭63−414
84号、特開平2−249号、特開平2−4705号記
載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−30445
3号、特開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯
体を挙げることができる。
Another example of the metallocene compound (g) which is another example of the photopolymerization initiator is described in JP-A-59-152396.
JP-A-61-151197, JP-A-63-414
No. 84, JP-A-2-249, JP-A-2-4705 and the titanocene compounds described in JP-A-1-30445.
No. 3 and JP-A-1-152109.

【0037】上記チタノセン化合物の具体例としては、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,
6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフル
オロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジフル
オロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−
メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,
6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフ
ェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス
(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニ
ル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミド)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイル−
アミノ)フェニル〕チタン、
Specific examples of the titanocene compound include:
Di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-
Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5
6-pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-T
i-bis-2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-T
i-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, di-
Methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,
4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5
6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3 -(Pyri-1-yl) phenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (methylsulfonamide)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbiaroyl-
Amino) phenyl] titanium,

【0038】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−メチルアセチルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチルプロピオ
ニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチル
−(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2,2−ジメチルブ
タノイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−
ペンチル−(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル)−(2,
2−ジメチルブタノイル)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−メチルブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−メチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enil)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (2,2-dimethylbuta Noyl) amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N-butyl- (2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-
Pentyl- (2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl)-(2,
2-dimethylbutanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-methylbutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-methylpentanoylamino) phenyl] titanium,

【0039】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルシクロヘキシルカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチ
ルイソブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−エチルアセチルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(2,2,5,5−テトラメチル−1,2,5−ア
ザジシロリジニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(オクチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(4−トリルスルホンアミド)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(4−ドデシルフェニルスルホニルアミ
ド)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-ethylcyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylisobutyrylamino) phenyl] titanium, bis ( Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (2,2,5,5-tetramethyl-1,2,5-azadisirolidin-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (octylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-tolylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 6-difluoro-3- (4-dodecylphenylsulfonylamido) phenyl] titanium,

【0040】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(4−(1−ペンチルヘプチル)
フェニルスルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(エチルスルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−((4−ブロモフェニル)−スルホニルアミド)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2−ナフチルスルホニル
アミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ヘキサデシルス
ルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−メ
チル−(4−ドデシルフェニル)スルホニルアミド)フ
ェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (4- (1-pentylheptyl)
Phenylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (ethylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((4-bromophenyl) -sulfonylamide)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-naphthylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- ( Hexadecylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methyl- (4-dodecylphenyl) sulfonylamido) phenyl] titanium,

【0041】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−メチル−4−(1−ペンチ
ルヘプチル)フェニル)スルホニルアミド)〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−ヘキシル−(4−トリル)−スルホニル
アミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ピロリジン−
2,5−ジオニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(3,4−ジメチル−3−ピロリジン−2,5−ジ
オニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フタル
イミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−イソブトキシカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(エトキシ
カルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−((2
−クロロエトキシ)−カルボニルアミノ)フェニル〕チ
タン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-methyl-4- (1-pentylheptyl) phenyl) sulfonylamide)] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-tolyl) -sulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3- (pyrrolidine-
2,5-dion-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (3,4-dimethyl-3-pyrrolidin-2,5-dion-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phthalimido) phenyl] titanium , Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-isobutoxycarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (ethoxycarbonylamino) phenyl ] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((2
-Chloroethoxy) -carbonylamino) phenyl] titanium,

【0042】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(フェノキシカルボニルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルチオウレイ
ド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルチオウレ
イド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルウ
レイド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルウレ
イド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N,N−ジアセ
チルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジ
メチルウレイド)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (phenoxycarbonylamino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylthioureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (3-butylthioureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylureido) phenyl] titanium, bis ( Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-butylureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N, N-diacetylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3,3-dimethylureido) phenyl] titanium,

【0043】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(アセチルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(ブチリルアミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(デカノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(オクタデカノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(イソブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(2−エチルヘキサノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(2−メチルブタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(ピバロイルアミノ)フェニル〕
チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (acetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butyrylamino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (decanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (octadecanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (isobutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 6-difluoro-
3- (2-ethylhexanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-methylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) Screw [2
6-difluoro-3- (pivaloylamino) phenyl]
Titanium,

【0044】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルブタノイルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2−エチル−2
−メチルヘプタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(シクロヘキシルカルボニルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパ
ノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェ
ニルプロパノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(2−クロロメチル−2−メチル−3−クロロプロパノ
イルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethyl-2)
-Methylheptanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (cyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentane Dienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylpropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoylamino) phenyl] titanium,

【0045】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(3,4−キシロイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(4−エチルベンゾイルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,4,6−メ
シチルカルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロピル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−イソブチル−(4−トルイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (3,4-xyloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-ethylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclo Pentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,4,6-mesitylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(Benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(3-phenylpropyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl)-
2,2-dimethylpentanoylamino] phenyltitanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enil)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0046】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルピバ
ロイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(オ
クソラニ−2−イルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−
2,2−ジメチルブタノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−フェニルプロピル−(4−ト
ルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−
(オクソラニ−2−イルメチル)−(4−トルイル)ア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−トル
イルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethylpivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (oxolan-2-ylmethyl) benzoylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl)-
2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-
(Oxolani-2-ylmethyl)-(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-toluylmethyl) benzoylamino) phenyl] Titanium,

【0047】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(4−トルイルメチル)−
(4−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチルベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(N−ブチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2,
4−ジメチルペンチル)−2,2−ジメチルブタノイル
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,4−ジメチ
ルペンチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (4-toluylmethyl)-
(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) ) Screw [2
6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2,
4-dimethylpentyl) -2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,4-dimethylpentyl) -2,2-dimethyl Pentanoylamino)
Phenyl) titanium,

【0048】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−((4−トルイル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルペンタ
ノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,2−
ジメチル−3−エトキシプロパノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−アリル
オキシプロパノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−アリルアセチルアミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−エチルブタノイルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルベンゾイル
アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3-((4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-
Dimethyl-3-ethoxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-allyloxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-allylacetylamino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl) Methylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0049】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(4−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−(2−エチルヘキシル)ベンゾイルアミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピルベンゾ
イルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−
フェニルプロピル)−2,2−ジメチルペンタノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシルベ
ンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シ
クロヘキシルメチル−2,2−ジメチルペンタノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N- (2-ethylhexyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) Bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-
Phenylpropyl) -2,2-dimethylpentanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-cyclohexylmethyl-2,2-dimethylpentanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0050】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2−エチルヘキシル)−
2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペン
タノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イ
ソプロピル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロ
ピル)ピバロイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチ
ル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl)-
2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N- (3-phenylpropyl) pivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-butyl-2,2-dimethylpentanoylamino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) benzoylamino) phenyl] titanium,

【0051】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ベンジルベンゾイルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジル−(4
−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(2−メトキシエチル)−(4−トルイル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−メチルフェニ
ルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチ
ル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(2−エチル−2−メチルヘプタノイル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-benzylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl- (4
-Toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(2-methoxyethyl)-(4-toluyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(2-ethyl-2-methylheptanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0052】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−クロロベン
ゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘ
キシル−(2−エチル−2−メチルブタノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル
−2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチ
ル)−2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル−(4−ク
ロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−シクロヘキシル−(2−クロロベンゾイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメチル−
2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (2-ethyl- 2-methylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl-2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N- (oxolan-2-ylmethyl) -2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-cyclohexyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-cyclohexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (3,3-dimethyl-
2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium,

【0053】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4
−トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4
-Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-
Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0054】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロパノイ
ル)−2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)ア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキ
シルメチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノ
イル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイ
ル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2−
クロロメチル−2−メチル−3−クロロプロパノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ブチルチオカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フェニル
チオカルボニルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3- (N-cyclohexylmethyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- ( 2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (2-
Chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (Phenylthiocarbonylamino) phenyl] titanium,

【0055】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4
−トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロパノイル)−2,2−ジメチル−
3−クロロプロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4
-Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-
Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-
3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0056】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−
(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2−クロロメチ
ル−2−メチル−3−クロロプロパノイル)アミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(ブチルチオカルボニルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フェニルチオカ
ルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(メチルシク
ロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−2,2−ジメチルブタノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl-
(2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-butyl- (2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (Butylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phenylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3-
(N-hexyl-2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0057】ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−
ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフル
オロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルプロピオニルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(トリメチルシリルペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチ
ル−2,2−ジメチルプロパノイルアミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチル)−トリ
メチルシリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−エチル−(1,1,2,−トリメ
チルプロピル)ジメチルシリルアミノ)フェニル〕チタ
ン、
Bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl-2,2-
Dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (trimethylsilylpentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl-2,2-dimethylpropanoylamino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) -trimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-Butylhexyldimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (1,1,2, -trimethylpropyl) dimethylsilylamino) phenyl] Titanium,

【0058】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(3−エトキシメチル−3−メチ
ル−2−アゼチオジノニ−1−イル)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(3−アリルオキシメチル−3−メチル−
2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(3−クロロメチル−3−メチル−2−アゼチジノ
ニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベン
ジル−2,2−ジメチルプロパノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(5,5−ジメチル−2−ピロリ
ジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(6,
6−ジフェニル−2−ピペリジノニ−1−イル)フェニ
ル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (3-ethoxymethyl-3-methyl-2-azethiodinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-allyloxy) Methyl-3-methyl-
2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (3-chloromethyl-3-methyl-2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl-2,2- Dimethylpropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (5,5-dimethyl-2-pyrrolidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (6,
6-diphenyl-2-piperidinoni-1-yl) phenyl] titanium,

【0059】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2,3−ジヒドロ−1,
2−ベンジソチアゾロ−3−オン(1,1−ジオキシ
ド)−2−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘ
キシル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(2−クロロベンゾ
イル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
プロピル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(4−メチルフェニルメチ
ル)−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−(4−メチルフェニルメチル)−
(2−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (2,3-dihydro-1,
2-benzisothiazolo-3-one (1,1-dioxide) -2-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-chlorobenzoyl) ) Amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N-hexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl- (4-chlorobenzoyl) amino] ) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl)-(4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- ( 4-methylphenylmethyl)-
(2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium,

【0060】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−クロロベン
ゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベ
ンジル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2−エチルヘキシル)−
4−トリル−スルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−(3−オキサヘプチル)ベンゾイルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオ
キサデシル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(トリフルオロメチルスルホニル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロアセチルア
ミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl-2,2-dimethyl) Pentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl)-
4-tolyl-sulfonyl) amino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-oxaheptyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoromethylsulfonyl) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoroacetylamino) phenyl] titanium,

【0061】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2−クロロベンゾイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(4−クロロベンゾイ
ル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,
6−ジオキサデシル)−2,2−ジメチルペンタノイル
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,7−
ジメチル−7−メトキシオクチル)ベンゾイルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができ
る。
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,
6-dioxadecyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,7-
Dimethyl-7-methoxyoctyl) benzoylamino)
Phenyl] titanium and bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylbenzoylamino) phenyl] titanium.

【0062】光重合開始剤の一例である(h)炭素ハロ
ゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一
般式〔III〕から[IX] のものを挙げることができる。
Preferred examples of the compound having a carbon-halogen bond (h), which is an example of a photopolymerization initiator, include those represented by the following general formulas [III] to [IX].

【0063】[0063]

【化14】 Embedded image

【0064】(式中、X2はハロゲン原子を表す。Y2
−C(X23、−NH2、−NHR32、−NR32、−O
32を表す。ここでR32はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表す。またR31は−
C(X23、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基又は置換アルケニル基を表す。)で
表される化合物。
(Wherein, X 2 represents a halogen atom. Y 2 represents —C (X 2 ) 3 , —NH 2 , —NHR 32 , —NR 32 , —O
Representing the R 32. Here, R 32 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. R 31 is-
C (X 2 ) 3 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group or a substituted alkenyl group. ).

【0065】[0065]

【化15】 Embedded image

【0066】(ただし、R33は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X3
はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で
表される化合物。
(Where R 33 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxyl group, a nitro group or a cyano group; Three
Is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3. ).

【0067】[0067]

【化16】 Embedded image

【0068】(ただし、R34は、アリール基又は置換ア
リール基であり、R35
(Where R 34 is an aryl group or a substituted aryl group, and R 35 is

【0069】[0069]

【化17】 Embedded image

【0070】又はハロゲンであり、Z2は−C(=O)
−、−C(=S)−又は−SO2−であり、R36、R37
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R
38は一般式〔III] 中のR32と同じであり、X3はハロゲ
ン原子であり、mは1又は2である。)で表される化合
物。
Or Z 2 is —C (= O)
—, —C (= S) — or —SO 2 —, and R 36 , R 37
Is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group or a substituted aryl group;
38 is the same as R 32 in formula [III], X 3 is a halogen atom, and m is 1 or 2. ).

【0071】[0071]

【化18】 Embedded image

【0072】ただし、式中、R39は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、R40は炭素原子1
〜3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、pは1、2又は3である。
In the formula, R 39 is an optionally substituted aryl group or a heterocyclic group, and R 40 is carbon atom 1
A trihaloalkyl or trihaloalkenyl group having up to 3; and p is 1, 2 or 3.

【0073】[0073]

【化19】 Embedded image

【0074】(ただし、Lは水素原子又は式:CO−
(R41q(C(X43rの置換基であり、Qはイオ
ウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アル
ケン−1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又はN
−R基であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又は
アルケニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基で
あり、R42はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ
アルキル基であり、R41は炭素環式又は複素環式の2価
の芳香族基であり、X4は塩素、臭素またはヨウ素原子
であり、q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=
1又は2である。)で表される、トリハロゲノメチル基
を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。
(Where L is a hydrogen atom or a compound of the formula: CO—
(R 41 ) q (C (X 4 ) 3 ) a substituent of r , wherein Q is a sulfur, selenium or oxygen atom, a dialkylmethylene group, an alkene-1,2-ylene group, a 1,2-phenylene group or N
-R group, M is a substituted or unsubstituted alkylene group or alkenylene group, or a 1,2-arylene group, R 42 is an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group, and R 41 is X 4 is a carbocyclic or heterocyclic divalent aromatic group, X 4 is a chlorine, bromine or iodine atom, and q = 0 and r = 1, or q = 1 and r =
1 or 2. And a carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group.

【0075】[0075]

【化20】 Embedded image

【0076】(ただし、X5はハロゲン原子であり、t
は1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R43
は水素原子又はCH3-t5 t基であり、R44はs価の置
換されていてもよい不飽和有機基である)で表される、
4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オ
キサゾール誘導体。
(Where X 5 is a halogen atom, t
Is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, R 43
Is a hydrogen atom or a CH 3-t X 5 t group, and R 44 is an s-valent, optionally substituted unsaturated organic group).
4-halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivatives.

【0077】[0077]

【化21】 Embedded image

【0078】(ただし、X6はハロゲン原子であり、v
は1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R45
は水素原子又はCH3-v6 v基であり、R46はu価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。)で表され
る、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。
(Where X 6 is a halogen atom;
Is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, R 45
Is a hydrogen atom or a CH 3-v X 6 v group, R 46 is an unsaturated organic group which may be substituted for u-valent. A) 2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivative.

【0079】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、例えば、若林ら著、Bull. Che
m. Soc. Japan,42、2924(1969)記載の化合物、例え
ば、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロル
エチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン等が挙げられる。
Specific examples of such a compound having a carbon-halogen bond include, for example, Wakabayashi et al., Bull.
m. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(P-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl)-
S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichlor Methyl) -S-triazine and the like.

【0080】その他、英国特許1388492号明細書
記載の化合物、例えば、2−スチリル−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
チルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン等、特開昭53−13342
8号記載の化合物、例えば、2−(4−メトキシ−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S
−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジ
ン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−
イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリア
ジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジ
ン)、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−
トリクロルメチル−S−トリアジン等、独国特許333
7024号明細書記載の化合物、例えば、
Other compounds described in British Patent No. 1388492, for example, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis ( Trichloromethyl)-
S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(P-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine and the like;
No. 8, for example, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S
-Triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-.
Yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl)
-4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine), 2- (acenaphth-5-yl) -4,6-bis-
German Patent 333, such as trichloromethyl-S-triazine
No. 7024, for example,

【0081】[0081]

【化22】 Embedded image

【0082】[0082]

【化23】 Embedded image

【0083】等を挙げることができる。また、F. C. Sc
haefer等によるJ. Org. Chem. 29、1527(1964)記載の化
合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス(トリブロム
メチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリ
ブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス
(ジブロムメチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4
−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジン、2
−メトキシ−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−
トリアジン等を挙げることができる。さらに特開昭62
−58241号記載の化合物、例えば、
And the like. Also, FC Sc
Compounds described in J. Org. Chem. 29, 1527 (1964) by Haefer et al., for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) ) -S-Triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4
-Methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2
-Methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-
Triazine and the like can be mentioned. Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 62
-58241 compound, for example,

【0084】[0084]

【化24】 Embedded image

【0085】[0085]

【化25】 Embedded image

【0086】等を挙げることができる。更に特開平5−
281728号記載の化合物、例えば、
And the like. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-
No. 281,728, for example,

【0087】[0087]

【化26】 Embedded image

【0088】等を挙げることができる。あるいはさらに
M. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL.M. Herbel著「Jou
rnalof Heterocyclic chemistry」第7巻(No.3)、第5
11頁以降(1970年)に記載されている合成方法に準じ
て、当業者が容易に合成することができる次のような化
合物群
And the like. Or even
Jou by MP Hutt, EF Elslager and LM Herbel
rnalof Heterocyclic chemistry ”Vol.7 (No.3), Vol.5
The following compounds that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described on page 11 and thereafter (1970)

【0089】[0089]

【化27】 Embedded image

【0090】[0090]

【化28】 Embedded image

【0091】[0091]

【化29】 Embedded image

【0092】[0092]

【化30】 Embedded image

【0093】[0093]

【化31】 Embedded image

【0094】[0094]

【化32】 Embedded image

【0095】あるいは、ドイツ特許第2641100号
に記載されているような化合物、例えば、4−(4−メ
トキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプ
ロペニル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリ
メトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第3333450号に記載さ
れている化合物、例えば、
Alternatively, compounds such as those described in German Patent No. 2641100, such as 4- (4-methoxy-styryl) -6- (3,3,3-trichloropropenyl) -2-pyrone and 4- (3,4,5-trimethoxy-styryl) -6-trichloromethyl-2-pyrone or the compounds described in DE 3333450, for example,

【0096】[0096]

【化33】 Embedded image

【0097】式中、R41はベンゼン環を、R42はアルキ
ル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基を表
す。
In the formula, R 41 represents a benzene ring, and R 42 represents an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group.

【0098】[0098]

【表2】 [Table 2]

【0099】あるいはドイツ特許第3021590号に
記載の化合物群、
Alternatively, a group of compounds described in German Patent No. 3021590,

【0100】[0100]

【化34】 Embedded image

【0101】[0101]

【化35】 Embedded image

【0102】あるいはドイツ特許第3021599号に
記載の化合物群、例えば、
Alternatively, a group of compounds described in German Patent No. 3021599, for example,

【0103】[0103]

【化36】 Embedded image

【0104】を挙げることができる。本発明における光
重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の
(b)芳香族オニウム塩、(e)ヘキサアリールビイミ
ダゾール、(g)メタロセン化合物、(h)炭素ハロゲ
ン結合を有する化合物を挙げることができ、さらに最も
好ましい例としては、(e)ヘキサアリールビイミダゾ
ール、(h)炭素ハロゲン結合を有する化合物を挙げる
ことができる。本発明における光重合開始剤は単独もし
くは2種以上の併用によって好適に用いられる。
The following can be mentioned. Even more preferred examples of the photopolymerization initiator in the present invention include the above-mentioned (b) aromatic onium salt, (e) hexaarylbiimidazole, (g) metallocene compound, and (h) compound having a carbon-halogen bond. The most preferred examples include (e) hexaarylbiimidazole and (h) a compound having a carbon-halogen bond. The photopolymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.

【0105】本発明における組成物中の光重合開始剤の
使用量は光重合性組成物の全成分の重量に対し、0.01〜
60重量%、より好ましくは0.05〜30重量%である。な
お、本発明における光重合開始剤は、その単独、または
後述の増感色素の混合物をもって光重合開始系と総称す
ることができる。
The amount of the photopolymerization initiator used in the composition of the present invention is from 0.01 to 0.01 based on the weight of all components of the photopolymerizable composition.
It is 60% by weight, more preferably 0.05 to 30% by weight. The photopolymerization initiator in the present invention can be referred to as a photopolymerization initiator alone or as a mixture of sensitizing dyes described below.

【0106】本発明に用いる光重合性組成物には上記重
合開始剤の他以下のものが含まれる。 [増感色素]また本発明の光重合性組成物には上記の光重
合開始剤と併用して増感色素が含有されていてもよい。
本発明の光重合性組成物の1成分となり得る増感色素と
しては、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始
剤と相互作用する染料あるいは顔料があげられる。好ま
しい分光増感色素または染料としては多核芳香族類(例
えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン) キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、
エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカル
ボシアニン) メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン) チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トル
イジンブルー) アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフ
ラビン、アクリフラビン) フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフ
タロシアニン) ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリ
ン、中心金属置換ポルフィリン) クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリ
ン、中心金属置換クロロフィル) 金属錯体、例えば
The photopolymerizable composition used in the present invention contains the following in addition to the above-mentioned polymerization initiator. [Sensitizing Dye] The photopolymerizable composition of the present invention may contain a sensitizing dye in combination with the above photopolymerization initiator.
The sensitizing dye that can be a component of the photopolymerizable composition of the present invention includes a spectral sensitizing dye, and a dye or pigment that absorbs light from a light source and interacts with a photopolymerization initiator. Preferred spectral sensitizing dyes or dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene) and xanthenes (eg, fluorescein, eosin,
Erythrosine, rhodamine B, rose bengal cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine) merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine) thiazines (eg, thionin, methylene blue, toluidine blue) acridines (eg, acridine orange, Chloroflavin, acriflavin) phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine) porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin) chlorophylls (eg, chlorophyll, chlorophyllin, central metal-substituted chlorophyll) metal complexes, eg,

【0107】[0107]

【化37】 Embedded image

【0108】アントラキノン類、例えば(アントラキノ
ン) スクアリウム類、例えば(スクアリウム) 等が挙げられる。より好ましい分光増感色素又は染料の
例としては特公平37−13034号記載のスチリル系
色素、例えば、
Anthraquinones, for example, (anthraquinone) squariums, for example, (squarium). Examples of more preferred spectral sensitizing dyes or dyes are styryl dyes described in JP-B-37-13034, for example,

【0109】[0109]

【化38】 Embedded image

【0110】特開昭62−143044号記載の陽イオ
ン染料、例えば、
Cationic dyes described in JP-A-62-143044, for example,

【0111】[0111]

【化39】 Embedded image

【0112】特公昭59−24147号記載のキノキサ
リニウム塩、例えば、
The quinoxalinium salts described in JP-B-59-24147, for example,

【0113】[0113]

【化40】 Embedded image

【0114】特開昭64−33104号記載の新メチレ
ンブルー化合物、例えば、
A new methylene blue compound described in JP-A-64-33104, for example,

【0115】[0115]

【化41】 Embedded image

【0116】特開昭64−56767号記載のアントラ
キノン類、例えば
Anthraquinones described in JP-A-64-56767, for example,

【0117】[0117]

【化42】 Embedded image

【0118】特開平2−1714号記載のベンゾキサン
テン染料。特開平2−226148号及び特開平2−2
26149号記載のアクリジン類、例えば、
Benzoxanthene dyes described in JP-A-2-1714. JP-A-2-226148 and JP-A-2-2-2
No. 26149, acridines, for example,

【0119】[0119]

【化43】 Embedded image

【0120】特公昭40−28499号記載のピリリウ
ム塩類、例えば
Pyrylium salts described in JP-B-40-28499, for example,

【0121】[0121]

【化44】 Embedded image

【0122】特公昭46−42363号記載のシアニン
類、例えば
Cyanines described in JP-B-46-43363, for example,

【0123】[0123]

【化45】 Embedded image

【0124】特開平2−63053号記載のベンゾフラ
ン色素、例えば
Benzofuran dyes described in JP-A-2-63053, for example,

【0125】[0125]

【化46】 Embedded image

【0126】特開平2−85858号、特開平2−21
6154号の共役ケトン色素、例えば
JP-A-2-85858, JP-A-2-21
No. 6154 conjugated ketone dyes, for example

【0127】[0127]

【化47】 Embedded image

【0128】特開昭57−10605号記載の色素。特
公平2−30321号記載のアゾシンナミリデン誘導
体、例えば、
Dyes described in JP-A-57-10605. Azocinnamylidene derivatives described in JP-B-2-30321, for example,

【0129】[0129]

【化48】 Embedded image

【0130】特開平1−287105号記載のシアニン
系色素、例えば、
Cyanine dyes described in JP-A-1-287105, for example,

【0131】[0131]

【化49】 Embedded image

【0132】特開昭62−31844号、特開昭62−
31848号、特開昭62−143043号記載のキサ
ンテン系色素、例えば、
JP-A-62-31844, JP-A-62-31844
No. 31848, Xanthene dyes described in JP-A-62-143043, for example,

【0133】[0133]

【化50】 Embedded image

【0134】特公昭59−28325号記載のアミノス
チリルケトン、例えば
An aminostyryl ketone described in JP-B-59-28325, for example,

【0135】[0135]

【化51】 Embedded image

【0136】特公昭61−9621号記載の以下の一般
式〔1〕〜〔8〕で表されるメロシアニン色素、例え
ば、
Merocyanine dyes represented by the following general formulas [1] to [8] described in JP-B-61-9621, for example,

【0137】[0137]

【化52】 Embedded image

【0138】一般式〔3〕ないし〔8〕において、X8
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、
アラルキル基又はハロゲン原子を表わす。一般式〔2〕
においてPhはフェニル基を表わす。一般式〔1〕ない
し〔8〕において、R48、R49およびR50はそれぞれア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール
基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、互いに
等しくても異なってもよい。特開平2−179643号
記載の以下の一般式
In the general formulas [3] to [8], X 8
Is a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted aryl group, an aryloxy group,
Represents an aralkyl group or a halogen atom. General formula [2]
In the above, Ph represents a phenyl group. In the general formulas [1] to [8], R 48 , R 49 and R 50 each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. Good. The following general formula described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H2-179643

〔9〕〜〔11〕で表わされる色
素、例えば
Dyes represented by [9] to [11], for example,

【0139】[0139]

【化53】 Embedded image

【0140】A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、
テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子
またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。 Y3:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。 R51、R52:水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、
もしくは置換基として、R53O−、
A: oxygen atom, sulfur atom, selenium atom,
Represents a tellurium atom, an alkyl or aryl substituted nitrogen atom or a dialkyl substituted carbon atom. Y 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an aralkyl group, an acyl group, or a substituted alkoxycarbonyl group. R 51 and R 52 : a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
Alternatively, as a substituent, R 53 O—,

【0141】[0141]

【化54】 Embedded image

【0142】−(CH2CH2O)w−R53、ハロゲン原
子(F、Cl、Br、I)を有する炭素数1〜18の置
換アルキル基。但し、R53は水素原子又は炭素数1〜1
0のアルキル基を表わし、Bは、ジアルキルアミノ基、
水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
わす。wは0〜4の整数、xは1〜20の整数を表わ
す。特開平2−244050号記載の以下の一般式〔1
2〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
-(CH 2 CH 2 O) w-R 53 , a substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and having a halogen atom (F, Cl, Br, I). However, R 53 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 1.
0 represents an alkyl group, B represents a dialkylamino group,
Represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a halogen atom, and a nitro group. w represents an integer of 0 to 4; x represents an integer of 1 to 20; The following general formula [1] described in JP-A-2-244050
2) a merocyanine dye represented by, for example,

【0143】[0143]

【化55】 Embedded image

【0144】(式中R54およびR55は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル
基を表わす。A2は酸素原子、イオウ原子、セレン原
子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された
窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わ
す。X9は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非
金属原子群を表わす。Y4は置換フェニル基、無置換な
いし置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換
されたヘテロ芳香環を表わす。Z3は水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表わし、Y4と互いに結合して環を形成
していてもよい。好ましい具体例としては
(Wherein R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. A 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom , A selenium atom, a tellurium atom, an alkyl- or aryl-substituted nitrogen atom, or a dialkyl-substituted carbon atom, and X 9 represents a group of non-metallic atoms necessary to form a nitrogen-containing 5-membered hetero ring. 4 represents a substituted phenyl group, an unsubstituted or substituted polynuclear aromatic ring, or an unsubstituted or substituted heteroaromatic ring, and Z 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
Represents an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a substituted amino group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group, which may be mutually bonded to Y 4 to form a ring. Preferred specific examples are

【0145】[0145]

【化56】 Embedded image

【0146】特公昭59−28326号記載の以下の一
般式〔13〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
A merocyanine dye represented by the following formula [13] described in JP-B-59-28326, for example,

【0147】[0147]

【化57】 Embedded image

【0148】上式において、R56およびR57はそれぞれ
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは
互いに等しくても異ってもよい。X10はハメット(Hamm
ett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5までの
範囲内の置換基を表わす。特開昭59−89303号記
載の以下の一般式〔14〕で表されるメロシアニン色
素、例えば、
In the above formula, R 56 and R 57 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group,
Represents a substituted aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different from each other. X 10 is Hammett (Hamm
ett) represents a substituent within the range of -0.9 to +0.5. A merocyanine dye represented by the following general formula [14] described in JP-A-59-89303, for example,

【0149】[0149]

【化58】 Embedded image

【0150】(式中R58およびR59は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基またはアラルキル基を表わす。X11はハメッ
ト(Hammett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.
5までの範囲内の置換基を表わす。Y5は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。)好ましい具体例としては、
(Wherein R 58 and R 59 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. X 11 is Hammett's sigma (σ)) Values from -0.9 to +0.
Represents up to 5 substituents. Y 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an aralkyl group, an acyl group or an alkoxycarbonyl group. As a preferred specific example,

【0151】[0151]

【化59】 Embedded image

【0152】特開平8−129257号記載の以下の一
般式〔15〕で表されるメロシアニン色素、例えば
A merocyanine dye represented by the following general formula [15] described in JP-A-8-129257, for example,

【0153】[0153]

【化60】 [Of 60]

【0154】(式中、R60、R61、R62、R63、R68
69、R70、R71はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メル
カプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換
カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィ
ニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ
基、ニトロ基を表すか、もしくは、R60とR61、R61
62、R62とR63、R68とR69、R69とR70、R70とR
71が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していて
も良く、R64は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、又は置換アリール基を表し、R65は置
換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もし
くは無置換のアルキニルアルキル基を表し、R66、R67
はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
置換カルボニル基を表す)好ましい具体例としては
(Wherein R 60 , R 61 , R 62 , R 63 , R 68 ,
R 69 , R 70 and R 71 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group,
Substituted aryl group, hydroxyl group, substituted oxy group, mercapto group, substituted thio group, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, sulfo group, sulfonato group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, phosphono group, substituted phosphono group, phosphonato group, a substituted phosphonato group, a cyano group, or a nitro group, or, R 60 and R 61, R 61 and R 62, R 62 and R 63, R 68 and R 69, R 69 and R 70, R 70 And R
71 may combine with each other to form an aliphatic or aromatic ring, R 64 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group; R 65 represents a substituted or unsubstituted group; substituted alkenyl group, or a substituted or unsubstituted alkynyl group, R 66, R 67
Are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
Preferred examples of the substituted carbonyl group)

【0155】[0155]

【化61】 Embedded image

【0156】特開平8−334897号記載の以下の一
般式〔16〕で表されるベンゾピラン系色素、例えば
Benzopyran dyes represented by the following general formula [16] described in JP-A-8-334897, for example,

【0157】[0157]

【化62】 Embedded image

【0158】(式中、R72〜R75は互いに独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸
基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またR72〜R75
はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子か
ら成る環を形成していても良い。R76は水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。R77
はR76で表される基または−Z−R76であり、Zはカル
ボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリー
レンジカルボニル基を表す。またR76及びR77は共に非
金属原子から成る環を形成しても良い。AはO原子、S
原子、NHまたは置換基を有するN原子を表す。BはO
原子、または=C(G1)(G2)の基を表す。G1、G2
は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但
し、G1、G2は同時に水素原子となることはない。また
G1及びG2は炭素原子と共に非金属原子からなる環を形
成していても良い)。等を挙げることができる。
(Wherein, R 72 to R 75 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group or an amino group; and R 72 to R 75
May form a ring composed of non-metallic atoms together with the carbon atoms to which they can each be attached. R 76 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a carboxy group or an alkenyl group. R 77
Is a group represented by R 76 or —Z—R 76 , and Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or an arylenedicarbonyl group. R 76 and R 77 may together form a ring composed of a non-metallic atom. A is O atom, S
Represents an atom, NH or an N atom having a substituent. B is O
Represents an atom or a group of = C (G1) (G2). G1, G2
May be the same or different, and represent a hydrogen atom, a cyano group,
Represents an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a fluorosulfonyl group. However, G1 and G2 are not simultaneously hydrogen atoms. G1 and G2 may form a ring composed of a nonmetallic atom together with the carbon atom). And the like.

【0159】その他、増感色素として特に以下の赤外線
吸収剤(染料或いは顔料)も好適に使用される。好まし
い前記染料としては、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号公報等に記載され
ているシアニン染料、英国特許434,875号明細書
記載のシアニン染料等を挙げることができる。
In addition, the following infrared absorbers (dyes or pigments) are particularly preferably used as sensitizing dyes. Preferred examples of the dye include, for example, JP-A-58-12524.
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202
No. 829, JP-A-60-78787 and the like, and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0160】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さら
に、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号(米国特許第4,327,169
号)公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
58−181051号、同58−220143号、同5
9−41363号、同59−84248号、同59−8
4249号、同59−146063号、同59−146
061号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭59
−216146号公報に記載のシアニン色素、米国特許
第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や、特公平5−13514号、同5−
19702号公報に記載されているピリリウム化合物も
好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and further, the substituted sensitizer described in US Pat. No. 3,881,924 is used. Arylbenzo (thio) pyrylium salts described in JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169).
No. 5) Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, and JP-A-58-220143.
Nos. 9-41363, 59-84248 and 59-8
No. 4249, No. 59-146063, No. 59-146
No. 061, JP-A-5961
Cyanine dyes described in JP-A-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos.
Pyrylium compounds described in 19702 are also preferably used.

【0161】また、米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料、EP916513A2号明細書に記載のフタ
ロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることがで
きる。
Also preferred are near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993 and phthalocyanine dyes described in EP 916 513 A2. It can be mentioned as.

【0162】さらに、特願平10−79912号明細書
に記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用するこ
とができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤
外線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニ
オン構造を有するものを示す。例えば、(c1)アニオ
ン性金属錯体、(c2)アニオン性カーボンブラック、
(c3)アニオン性フタロシアニン、さらに(c4)下
記一般式(X)で表される化合物などが挙げられる。こ
れらのアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロト
ンを含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンであ
る。
Further, the anionic infrared absorber described in Japanese Patent Application No. 10-79912 can also be suitably used. The anionic infrared absorbing agent refers to a dye that substantially has no anionic structure in the mother nucleus of a dye that absorbs infrared light and has an anionic structure. For example, (c1) an anionic metal complex, (c2) anionic carbon black,
(C3) an anionic phthalocyanine, and (c4) a compound represented by the following general formula (X). The counter cation of these anionic infrared absorbers is a monovalent cation containing a proton or a polyvalent cation.

【0163】[0163]

【化63】 Embedded image

【0164】ここで、(c1)アニオン性金属錯体と
は、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位
子全体でアニオンとなるものを示す。
Here, the (c1) anionic metal complex refers to an anion in which the central metal and the ligand in the complex part which substantially absorbs light become anions.

【0165】(c2)アニオン性カーボンブラックは、
置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等
のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版(カーボンブラック協会
編、1995年4月5日、カーボンブラック協会発行)
第12頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。
(C2) The anionic carbon black is
Examples of the substituent include carbon black to which an anionic group such as a sulfonic acid, a carboxylic acid, and a phosphonic acid group is bonded. To introduce these groups into carbon black,
Carbon Black Handbook Third Edition (edited by The Carbon Black Association, April 5, 1995)
As described on page 12, means such as oxidation of carbon black with a predetermined acid may be employed.

【0166】(c3)アニオン性フタロシアニンは、フ
タロシアニン骨格に、置換基として、先に(c2)の説
明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニ
オンとなっているものを示す。
(C3) Anionic phthalocyanine refers to an anionic phthalocyanine in which the anion group described in (c2) above is bonded as a substituent to the phthalocyanine skeleton to form an anion as a whole.

【0167】次に、前記(c4)一般式(X)で表され
る化合物について、詳細に説明する。前記一般式6中、
a -はアニオン性置換基を表し、Gbは中性の置換基を
表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオンを表
し、mは1ないし6の整数を表す。Mは共役鎖を表し、
この共役鎖Mは置換基や環構造を有していてもよい。共
役鎖Mは、下記式で表すことができる。
Next, the compound (c4) represented by formula (X) will be described in detail. In the general formula 6,
G a - represents an anionic substituent, G b represents a neutral substituent. X m + represents a cation having 1 to m valences including a proton, and m represents an integer of 1 to 6. M represents a conjugated chain,
This conjugated chain M may have a substituent or a ring structure. The conjugated chain M can be represented by the following formula.

【0168】[0168]

【化64】 Embedded image

【0169】前記式中、R1、R2,R3はそれぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル
基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を
形成していてもよい。nは、1〜8の整数を表す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group,
It represents an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group, and these may be linked to each other to form a ring structure. n represents an integer of 1 to 8.

【0170】前記一般式(X)で表されるアニオン性赤
外線吸収剤のうち、以下のA−1〜A−5のものが、好
ましく用いられる。
Of the anionic infrared absorbers represented by the general formula (X), the following A-1 to A-5 are preferably used.

【0171】[0171]

【化65】 Embedded image

【0172】また、以下のCA−1〜CA−44に示す
カチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
Also, cationic infrared absorbers represented by the following CA-1 to CA-44 can be preferably used.

【0173】[0173]

【化66】 Embedded image

【0174】[0174]

【化67】 Embedded image

【0175】[0175]

【化68】 Embedded image

【0176】[0176]

【化69】 Embedded image

【0177】[0177]

【化70】 Embedded image

【0178】[0178]

【化71】 Embedded image

【0179】[0179]

【化72】 Embedded image

【0180】[0180]

【化73】 Embedded image

【0181】[0181]

【化74】 Embedded image

【0182】[0182]

【化75】 [Of 75]

【0183】[0183]

【化76】 Embedded image

【0184】[0184]

【化77】 Embedded image

【0185】[0185]

【化78】 Embedded image

【0186】[0186]

【化79】 Embedded image

【0187】[0187]

【化80】 Embedded image

【0188】前記構造式中、T-は、1価の対アニオン
を表し、好ましくは、ハロゲンアニオン(F-,Cl-
Br-、I-)、ルイス酸アニオン(BF4 -、PF6 -、S
bCl6 -、ClO4 -)、アルキルスルホン酸アニオン、
アリールスルホン酸アニオンである。
In the above structural formula, T represents a monovalent counter anion, preferably a halogen anion (F , Cl ,
Br -, I -), a Lewis acid anion (BF 4 -, PF 6 - , S
bCl 6 , ClO 4 ), an alkylsulfonic acid anion,
Aryl sulfonate anion.

【0189】前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、
炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、又は環
状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12
までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環
状のアルキル基がより好ましい。
The alkyl of the alkyl sulfonic acid is
A linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group , Octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl,
Isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, 2-methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 2-norbornyl be able to. Among these, straight-chains having 1 to 12 carbon atoms, 3 to 12 carbon atoms.
And a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferred.

【0190】また前記アリールスルホン酸のアリールと
は、1個のベンゼン環からなるもの、2又は3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽
和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、
フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリ
ル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル
基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル
基、ナフチル基がより好ましい。
The aryl of the above-mentioned arylsulfonic acid includes one consisting of one benzene ring, two or three benzene rings forming a condensed ring, and a benzene ring and a five-membered unsaturated ring forming a condensed ring. The specific example is,
Examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group. Of these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferred.

【0191】また、以下のNA−1〜NA−12に示す
非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
Further, the following non-ionic infrared absorbers represented by NA-1 to NA-12 can also be preferably used.

【0192】[0192]

【化81】 Embedded image

【0193】[0193]

【化82】 Embedded image

【0194】[0194]

【化83】 Embedded image

【0195】[0195]

【化84】 Embedded image

【0196】上記例示化合物中、特に好ましいアニオン
性赤外線吸収剤としてはA−1が、カチオン性赤外線吸
収剤としてはCA−7、CA−30、CA−40、およ
びCA−42が、非イオン性赤外線吸収剤としてはNA
−11が挙げられる。
Among the above exemplified compounds, A-1 is particularly preferable as the anionic infrared absorber, CA-7, CA-30, CA-40 and CA-42 are preferable as the cationic infrared absorber. NA as infrared absorber
-11.

【0197】他の染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、ジインモニウム染料、アミニウム染
料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等の染料
が挙げられる。
Examples of other dyes include commercially available dyes and, for example, “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970).
And the like can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, diimmonium dyes, aminium dyes, squalilium dyes, metal thiolate complexes and the like Is mentioned.

【0198】また、増感色素として、他の顔料として
は、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。例えば、顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。
As other sensitizing dyes, commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977)
Annual Publication), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986)
Pigments described in "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984). For example, the types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0199】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The surface treatment method is described in "Properties and Applications of Metal Soap" (Koshobo)
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0200】顔料の粒径は0.01μm〜10μmであ
るのが好ましく、0.05μm〜1μmであるのがさら
に好ましく、特に0.1μm〜1μmであるのが特に好
ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは、分散
物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、ま
た、10μmを越えると感光層の均一性の点で好ましく
ない。
The particle size of the pigment is preferably from 0.01 μm to 10 μm, more preferably from 0.05 μm to 1 μm, particularly preferably from 0.1 μm to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, the uniformity of the photosensitive layer is not preferred.

【0201】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0202】本発明における増感色素のさらにより好ま
しい例としては、上述の特公昭61−9621号記載の
メロシアニン色素、特開平2−179643号記載のメ
ロシアニン色素、特開平2−244050号記載のメロ
シアニン色素、特公昭59−28326号記載のメロシ
アニン色素、特開昭59−89303号記載のメロシア
ニン色素、特開平8−129257号記載のメロシアニ
ン色素及び特開平8−334897号記載のベンゾピラ
ン系色素を挙げることができる。及び上述の特開平11-2
09001号記載の赤外線吸収剤を挙げることができる。本
発明における増感色素も単独もしくは2種以上の併用に
よって好適に用いられる。さらに本発明の光重合性組成
物には、感度を一層向上させる、あるいは酸素による重
合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増
感剤として加えても良い。
More preferred examples of the sensitizing dye in the present invention include the merocyanine dye described in JP-B-61-9621, the merocyanine dye described in JP-A-2-179463, and the merocyanine described in JP-A-2-244050. Dyes, merocyanine dyes described in JP-B-59-28326, merocyanine dyes described in JP-A-59-89303, merocyanine dyes described in JP-A-8-129257, and benzopyran-based dyes described in JP-A-8-334897 are listed. Can be. And the above-mentioned JP-A-11-2
The infrared absorber described in No. 09001 can be mentioned. The sensitizing dye in the present invention is also preferably used alone or in combination of two or more. Further, a known compound having an action of further improving sensitivity or suppressing polymerization inhibition by oxygen may be added to the photopolymerizable composition of the present invention as a cosensitizer.

【0203】この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−
20189号、特開昭51−82102号、特開昭52
−134692号、特開昭59−138205、特開昭
60−84305号、特開昭62−18537号、特開
昭64−33104号、Research Disclosure 3382
5号記載の化合物、等があげられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチ
オジメチルアニリン、等があげられる。
Examples of such co-sensitizers include amines, for example, “Journal of Polymer Soc” by MR Sander et al.
Society, Vol. 10, p. 3173 (1972);
No. 20189, JP-A-51-82102, JP-A-52
-134692, JP-A-59-138205, JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, Research Disclosure 3382
No. 5 and the like, and specific examples include triethanolamine, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.

【0204】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭53−702号、特公昭
55−500806号、特開平5−142772号記載
のチオール化合物、特開昭56−75643号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
ト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。
Other examples of the co-sensitizer include thiols and sulfides, for example, thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, and JP-A-5-142772; No. 75643, specifically, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercaptonaphthalene, and the like. Is raised.

【0205】また別の例としては、アミノ酸化合物
(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−429
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特開平6−308727号記載のイオウ化合物
(例、トリチアン等)、特開平6−250389号記載
のリン化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−
191605号記載のSi−H、Ge−H化合物等があ
げられる。
Further examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine, etc.) and JP-B-48-429.
No. 65, organometallic compounds (eg, tributyltin acetate, etc.), hydrogen donors described in JP-B-55-34414, sulfur compounds described in JP-A-6-308727 (eg, trithiane, etc.), JP-A-6-250389. No. 6 (Diethyl phosphite, etc.)
191605, Si-H and Ge-H compounds.

【0206】また、本発明において増感色素を用いる場
合、光重合性組成物中の光重合開始剤と増感色素のモル
比は100:0〜1:99であり、より好ましくは、9
0:10〜10:90であり、最も好ましくは80:2
0〜20:80である。上記共増感剤を使用する場合に
は光重合開始剤1重量部に対して、0.01〜50重量
部使用するのが適当であり、より好ましくは0.02〜
20重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部であ
る。
When a sensitizing dye is used in the present invention, the molar ratio of the photopolymerization initiator to the sensitizing dye in the photopolymerizable composition is from 100: 0 to 1:99, and more preferably 9:99.
0:10 to 10:90, most preferably 80: 2
0:20:80. When the co-sensitizer is used, it is suitably used in an amount of 0.01 to 50 parts by weight, more preferably 0.02 to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the photopolymerization initiator.
20 parts by weight, most preferably 0.05 to 10 parts by weight.

【0207】[付加重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物]本発明の光重合性組成物には、上記の光
重合開始剤及び増感色素の他、付加重合可能なエチレン
性不飽和結合を有する化合物を含有する。付加重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例え
ば、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、上記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド等があげられる。
[Compound Having an Addition-Polymerizable Ethylenic Unsaturated Bond] The photopolymerizable composition of the present invention contains, in addition to the photopolymerization initiator and sensitizing dye, an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond. A compound having the formula: Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of addition polymerization include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds And amides of the above unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.

【0208】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate Acrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetra Acrylate, SO Bi penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0209】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)
フェニル〕ジメチルメタン等がある。イタコン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオ
ールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコ
ネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペ
ンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテト
ライタコネート等がある。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3 -Methacryloxy-2-h Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (acryloxy ethoxy)
Phenyl] dimethylmethane. Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, and pentaerythritol diitaconate. And sorbitol tetritaconate.

【0210】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不
飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例として
は、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス−アクリ
ルアミド、1,6−へキサメチレンビス−メタクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キ
シリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリ
ルアミド等がある。
Examples of crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate. Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned. Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, and 1,6-hexane. Examples include methylenebis-methacrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide.

【0211】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレー卜類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号公報に記載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌vol.20、No.7、300〜308ぺージ(19
84年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。本発明におい
て、これらのモノマーはプレポリマー、すなわち2量
体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態で使用しう
る。
Another example is described in JP-B-48-417.
JP-A-08-208, in which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule. Vinyl urethane compounds containing the above polymerizable vinyl groups are exemplified. CH 2 CC (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (A) (where R and R ′ represent H or CH 3 ). Further, as described in JP-A-51-37193. Urethane acrylates, JP-A-48-64183
No., JP-B-49-43191, JP-B-52-3049
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in Japanese Patent Publication No. 0 are mentioned. Furthermore, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol.20, No. 7, pages 300 to 308 (19
(1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In the present invention, these monomers may be used in a chemical form such as a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.

【0212】その他、特願平11−268842号明細
書記載の一般式(I)で表される構造を有するα−ヘテ
ロ型モノマーも好適に利用できる。以下にα−ヘテロ型
モノマーの具体例を示す。
In addition, α-hetero type monomers having a structure represented by the general formula (I) described in Japanese Patent Application No. 11-268842 can also be suitably used. Hereinafter, specific examples of the α-hetero type monomer will be shown.

【0213】[0213]

【表3】 [Table 3]

【0214】[0214]

【表4】 [Table 4]

【0215】[0215]

【表5】 [Table 5]

【0216】[0216]

【表6】 [Table 6]

【0217】[0219]

【表7】 [Table 7]

【0218】[0218]

【表8】 [Table 8]

【0219】[0219]

【表9】 [Table 9]

【0220】[0220]

【表10】 [Table 10]

【0221】[0221]

【表11】 [Table 11]

【0222】[0222]

【表12】 [Table 12]

【0223】[0223]

【表13】 [Table 13]

【0224】[0224]

【表14】 [Table 14]

【0225】[0225]

【表15】 [Table 15]

【0226】[0226]

【表16】 [Table 16]

【0227】[0227]

【表17】 [Table 17]

【0228】[0228]

【表18】 [Table 18]

【0229】[0229]

【化85】 Embedded image

【0230】[0230]

【化86】 Embedded image

【0231】[0231]

【化87】 Embedded image

【0232】[0232]

【化88】 Embedded image

【0233】[0233]

【化89】 Embedded image

【0234】[0234]

【化90】 Embedded image

【0235】[0235]

【化91】 Embedded image

【0236】[0236]

【化92】 Embedded image

【0237】全ての重合性基含有化合物の使用量は光重
合性組成物の全成分の重量に対して、通常1〜99.9
9%、好ましくは5〜90.0%、更に好ましくは10
〜70%の量が使用される。(ここで言う%は重量%で
ある)。
The amount of all the polymerizable group-containing compounds used is usually 1 to 99.9 based on the weight of all components of the photopolymerizable composition.
9%, preferably 5 to 90.0%, more preferably 10%
An amount of 7070% is used. (The percentages here are weight percentages).

【0238】[線状有機高分子重合体]本発明の光重合
性組成物には、バインダーとしての線状有機高分子重合
体を含有させることが好ましい。このような「線状有機
高分子重合体」としては、光重合可能なエチレン性不飽
和化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合体で
ある限り、どれを使用しても構わない。好ましくは水現
像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱ア
ルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機高分子重合
体が選択される。線状有機高分子重合体は、該組成物の
皮膜形成剤としてだけでなく、現像剤として水、弱アル
カリ水或いは有機溶剤のいずれが使用されるかに応じて
適宜選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合
体を用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高
分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加
重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54
−34327号、特公昭58−12577号、特公昭5
4−25957号、特開昭54−92723号、特開昭
59−53836号、特開昭59−71048号に記載
されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を
有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を
有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなど
が有用である。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)ア
クリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好
適である。この他に水溶性線状有機高分子として、ポリ
ビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用で
ある。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可
溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル
等も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組
成中に任意な量を混和させることができる。しかし組成
物の全成分の重量に対して90重量%を超える場合には
形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。
好ましくは30〜85%である。また光重合可能なエチ
レン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜5/5である。
[Linear Organic High Polymer] The photopolymerizable composition of the present invention preferably contains a linear organic high polymer as a binder. As such a “linear organic high molecular polymer”, any linear organic high molecular polymer having compatibility with the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound may be used. Absent. Preferably, a water- or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic polymer is appropriately selected and used depending on whether water, weakly alkaline water or an organic solvent is used as a developer as well as a film-forming agent of the composition. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high-molecular polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in a side chain, such as JP-A-59-44615 and JP-B-54.
-34327, JP-B-58-12577, JP-B-5
Nos. 4,25,957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itacone There are acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally And other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymers. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, an alcohol-soluble polyamide, a polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be mixed in any amount in the entire composition. However, if the amount exceeds 90% by weight based on the weight of all components of the composition, no favorable result is obtained in terms of the strength of the formed image and the like.
Preferably it is 30 to 85%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferred range is 3/7 to 5/5.

【0239】重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に光重合性
組成物製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p
−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜
約10重量%が好ましい。
Polymerization Inhibitor In the present invention, unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond which can be polymerized during the production or storage of the photopolymerizable composition in addition to the above basic components is prevented. For this purpose, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p
-Methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxyamine, and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is about 0.01 to the weight of the whole composition.
% By weight to about 5% by weight is preferred. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative to be added is about 0.5% by weight of the total composition.
About 10% by weight is preferred.

【0240】着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させることができる。着色剤としては、多くの
染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色
剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例として
は例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料お
よび顔料の添加量は全組成物の約0.5重量%〜約5重
量%が好ましい。
Colorant, etc. Further, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. This makes it possible to improve the so-called plate inspection, such as the visibility of the printing plate after plate making and the suitability for an image density measuring device. As many colorants, pigments are particularly preferable because many dyes lower the sensitivity of the photopolymerizable photosensitive layer. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of the dye or pigment added is preferably about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.

【0241】その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリ
アセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との
合計重量に対し10重量%以下添加することができる。
Other Additives In order to improve the physical properties of the cured film, known additives such as inorganic fillers, other plasticizers, and oil-sensitizing agents capable of improving the ink adhesion on the surface of the photosensitive layer are used. May be added. Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like.When a binder is used,
It can be added in an amount of 10% by weight or less based on the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

【0242】また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設けること
を可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合
物や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用
を有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上
し、耐刷性を高めることが可能であり、一方ポリアクリ
ル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加
や下塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の
向上が可能となる。
Further, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, and the like can be added to enhance the effects of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later. In addition, it is possible to provide an additive and an intermediate layer for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and for improving the development and removability of the unexposed photosensitive layer. For example, by adding or undercoating a compound having a relatively strong interaction with the substrate, such as a compound having a diazonium structure or a phosphone compound, the adhesion can be improved and the printing durability can be increased. Addition of an acid or a hydrophilic polymer such as polysulfonic acid or undercoating improves the developability of the non-image area and improves the stainability.

【0243】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には、3種以上の有機溶剤に溶かして使用に供さ
れる。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレン
ジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセト
ン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノー
ル、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシ
プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチルなどがある。特にプロピレングリコール
モノメチルエーテル、メチルエチルケトンの高沸点混合
溶媒系に、さらに低沸点のアルコールを混合した3成分
混合溶媒が好ましい。上記の3種以上の溶媒を用いて塗
布した光重合性組成物(感光層)は120〜170℃で
乾燥させることができる。そして、塗布溶液中の固形分
の濃度は、2〜50重量%が適当である。
When the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a support, it is used after dissolving it in three or more kinds of organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether,
Diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide,
Examples include dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, and ethyl lactate. Particularly, a three-component mixed solvent in which a low-boiling alcohol is further mixed with a high-boiling mixed solvent system of propylene glycol monomethyl ether and methyl ethyl ketone is preferable. The photopolymerizable composition (photosensitive layer) applied using the above three or more solvents can be dried at 120 to 170 ° C. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 2 to 50% by weight.

【0244】感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の
感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版と
しては、その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約
10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜
5g/m2である。
The amount of the photosensitive layer to be coated on the support mainly affects the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, and the strength and printing durability of the exposed film, and is desirably appropriately selected depending on the application. If the coating amount is too small, the printing durability will be insufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, the exposure takes time, and the developing process requires a longer time, which is not preferable. As is the principal object lithographic printing plate for scan exposure of the present invention, the coating amount in the range of about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after drying is suitable. More preferably 0.5 to
It is 5 g / m 2 .

【0245】「支持体」本発明の光重合性平版印刷版を
得るには上記感光層を、表面が親水性の支持体上に設け
る。親水性の支持体としては、従来公知の、平版印刷版
に使用される親水性支持体を限定無く使用することがで
きる。使用される支持体は寸度的に安定な板状物である
ことが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラ
ミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、上記のような金属がラミネート
もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等
が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付
与や、強度向上、等の目的で適切な公知の物理的、化学
的処理を施しても良い。
"Support" In order to obtain the photopolymerizable lithographic printing plate of the invention, the photosensitive layer is provided on a support having a hydrophilic surface. As the hydrophilic support, a conventionally known hydrophilic support used for a lithographic printing plate can be used without limitation. The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, plastic (eg,
Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) on which polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc. are laminated; Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Known physical and chemical treatments may be performed for the purpose of imparting, improving the strength, and the like.

【0246】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に
応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提
供できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭
48−18327号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結
合された複合体シートも好ましい。
Particularly preferred examples of the support include paper, polyester film and aluminum plate. Among them, the dimensional stability is good, the cost is relatively low, and the hydrophilicity and strength are excellent by surface treatment as required. Aluminum plates that can provide a surface are particularly preferred. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable.

【0247】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまた
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好
ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2
mm〜0.3mmである。
Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.4 mm.
mm to 0.3 mm.

【0248】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化(砂目立て)処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。アルミニウム板の表面の
粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、
機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面
化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方法に
より行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブ
ラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ、磨法等の公知の方
法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法
としては塩酸、硝酸等の電解液中で交流または直流によ
り行う方法がある。また、特開昭54−63902号に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることができる。また、アルミニウム板を粗面化するに
先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するために、
例えば、界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液
等による脱脂処理が行われる。
In the case of a support having a metal surface, particularly an aluminum surface, a roughening (graining) treatment, an immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodic oxidation Preferably, a surface treatment such as a treatment is performed. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example,
It is performed by a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buffing method and a polishing method can be used. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in an electrolytic solution such as hydrochloric acid or nitric acid. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902. Also, prior to roughening the aluminum plate, if desired, to remove rolling oil on the surface,
For example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed.

【0249】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭47−5125号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
Further, an aluminum plate which has been roughened and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate can be preferably used. As described in JP-B-47-5125, an aluminum plate which is anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment is performed, for example, in an electrolytic solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of a salt thereof alone or in combination of two or more. This is performed by flowing a current using an aluminum plate as an anode.

【0250】また、米国特許第3658662号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。さら
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よび珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。
Also, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is effective. Furthermore, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5860.
No. 2, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503, and a surface treatment obtained by combining the support subjected to electrolytic graining with the above anodic oxidation treatment and sodium silicate treatment are also useful.
It is also preferable to sequentially perform mechanical roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodizing treatment, and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-56-28893.

【0251】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに
特開平7−159983号に開示されているようなラジ
カルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合さ
せたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
Further, after these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, and water-soluble metal salts (eg, zinc borate) ) Or those undercoated with a yellow dye, an amine salt or the like are also suitable. Furthermore, a sol-gel treated substrate having a functional group capable of causing an addition reaction by a radical covalently disclosed in JP-A-7-159983 is also preferably used.

【0252】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げる
ことができる。このような表面層としては例えばUS3
055295号や、特開昭56−13168号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号
記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。これらの親水化処理
は、支持体の表面を親水性とするために施される以外
に、その上に設けられる光重合性組成物の有害な反応を
防ぐため、かつ感光層の密着性の向上等のために施され
るものである。
As other preferred examples, there can be mentioned those in which a water-resistant hydrophilic layer is provided as a surface layer on an arbitrary support. As such a surface layer, for example, US3
No. 055295, a layer composed of an inorganic pigment and a binder described in JP-A-56-13168, a hydrophilic swelling layer described in JP-A-9-80744, a titanium oxide and a polyvinyl oxide described in JP-A-8-507727. A sol-gel film made of alcohol or silicic acid can be used. These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions of the photopolymerizable composition provided thereon and to improve the adhesion of the photosensitive layer. Etc.

【0253】「保護層」本発明の光重合性平版印刷版
は、通常露光を大気中で行うため、感光層の上に、さら
に、保護層を有している。保護層は、感光層中で露光に
より生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する塩
基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防止し、
大気中での露光を可能とする。従って、このような保護
層に望まれる特性は、低分子化合物の透過性が低いこと
であり、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せ
ず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程
で容易に除去できることが望ましい。このような、保護
層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第
3,458,311号、特開昭55−49729号に詳
しく記載されている。保護層に使用できる材料としては
例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物
(水溶性ポリマーともいう)を用いることがよく、具体
的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリ
アクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られている
が、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として
用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特
性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用する
ポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を
有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する
限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで
置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合
成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体
例としては71〜100モル%加水分解され、分子量が
重量平均分子量で300から2400の範囲のものを挙
げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のP
VA−105、PVA−110、PVA−117、PV
A−117H、PVA−120、PVA−124、PV
A−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA
−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−2
05、PVA−210、PVA−217、PVA−22
0、PVA−224、PVA−217EE、PVA−2
17E、PVA−220E、PVA−224E、PVA
−405、PVA−420、PVA−613、L−8等
が挙げられる。
"Protective Layer" The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention further has a protective layer on the photosensitive layer since the exposure is usually performed in the air. The protective layer prevents contamination of the photosensitive layer with low-molecular compounds such as basic substances present in the air that inhibit an image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer,
Enables exposure in the atmosphere. Therefore, the property desired for such a protective layer is that the low molecular compound has low permeability, and further, does not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, has excellent adhesion to the photosensitive layer, and Desirably, it can be easily removed in a developing step after exposure. Such a device for the protective layer has been conventionally devised and described in detail in U.S. Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound (also referred to as a water-soluble polymer) which is relatively excellent in crystallinity is preferably used, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and acidic celluloses Water-soluble polymers such as gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid are known. Of these, use of polyvinyl alcohol as a main component is most fundamental in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removal properties. Gives good results. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for obtaining necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, a part thereof may have another copolymer component. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis of 71 to 100 mol% and a molecular weight in the range of 300 to 2400 in weight average molecular weight. Specifically, Kuraray's P
VA-105, PVA-110, PVA-117, PV
A-117H, PVA-120, PVA-124, PV
A-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA
-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-2
05, PVA-210, PVA-217, PVA-22
0, PVA-224, PVA-217EE, PVA-2
17E, PVA-220E, PVA-224E, PVA
-405, PVA-420, PVA-613, L-8 and the like.

【0254】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、低分子物質遮断性・現像除去性の
他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層
中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚
が厚い程低分子物質遮断性が高くなり、感度の点で有利
である。しかしながら、極端に低分子物質遮断性を高め
ると、製造時、生保存時に不要な重合反応が生じたり、
また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じた
りという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐
傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性
ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層す
ると、接着力不足による膜剥離が発生しやすい。これに
対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案が
なされている。例えば米国特許第292501号、米国
特許第44563号には、主にポリビニルアルコールか
らなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンま
たは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重
合体などを20〜60重量%混合し、重合層の上に積層
することにより、十分な接着性が得られることが記載さ
れている。本発明における保護層に対しては、これらの
公知の技術をいずれも適用することができる。このよう
な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,
458,311号、特開昭55−49729号に詳しく
記載されている。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, etc. are selected in consideration of fogging properties, adhesion and scratch resistance in addition to low molecular substance blocking properties and development removability. .
Generally, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the barrier properties of low molecular substances, which is advantageous in terms of sensitivity. . However, if the low-molecular substance blocking property is extremely increased, an unnecessary polymerization reaction occurs during production or raw storage,
Further, at the time of image exposure, there is a problem that unnecessary fogging and thickening of image lines occur. Further, the adhesion to the image area and the scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesive strength tends to occur. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesiveness between these two layers. For example, U.S. Pat. No. 2,925,501 and U.S. Pat. No. 44,563 disclose mixing an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol in an amount of 20 to 60% by weight. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by laminating on a polymer layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Regarding the method of applying such a protective layer, for example, US Pat.
458, 311 and JP-A-55-49729.

【0255】さらに保護層には他の機能を付与すること
もできる。例えば、光源としてレーザー光を使用する場
合、感光性組成物としてはその光源波長での感光性には
優れるが、他の波長では感光してほしくない場合があ
る。例えば、光源が750nm以上の赤外領域のもので
あれば、実質上明室で使用することができるが、実際に
は蛍光灯の光など短波の光でも感光する場合がある。そ
の場合には、光源の光透過性に優れ、かつ700nm未
満の波長光を効率良く吸収しうる着色剤(水溶性染料
等)の添加が好ましい。また、別の例として光源が45
0nm以下の紫外領域のものであれば、実質上セーフラ
イト下で使用することができる。しかし実際には、50
0nm以上の可視光により感光する場合がある。その場
合には、光源の光透過性に優れ、かつ500nm以上の
光を効率良く吸収しうる、着色剤(水溶性染料等)の添
加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適
性をさらに高めることができる。なお保護層を形成する
際には、保護層に必要な成分を適当な水溶性溶媒に溶解
して塗布液とし、感光層上に塗布乾燥を行うものであ
る。この際の乾燥においても、前述の感光層と同様に1
20〜170℃の範囲で行うことができる。
Further, other functions can be imparted to the protective layer. For example, when a laser beam is used as a light source, the photosensitive composition may have excellent photosensitivity at the wavelength of the light source, but may not want to be exposed at other wavelengths. For example, if the light source is in the infrared region of 750 nm or more, the light source can be used substantially in a bright room, but in practice, it may be exposed to short-wave light such as light from a fluorescent lamp. In this case, it is preferable to add a colorant (a water-soluble dye or the like) which is excellent in light transmittance of the light source and can efficiently absorb light having a wavelength of less than 700 nm. As another example, the light source is 45
If it is in the ultraviolet region of 0 nm or less, it can be used substantially under safelight. But in fact, 50
It may be exposed to visible light of 0 nm or more. In this case, the addition of a colorant (such as a water-soluble dye), which is excellent in light transmittance of the light source and can efficiently absorb light of 500 nm or more, further enhances safe light suitability without lowering sensitivity. be able to. When forming the protective layer, components necessary for the protective layer are dissolved in an appropriate water-soluble solvent to form a coating solution, and the coating is dried on the photosensitive layer. In the drying at this time, as in the above-described photosensitive layer, 1-
It can be performed in the range of 20 to 170 ° C.

【0256】本発明の光重合性平版印刷版は、通常、画
像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、
画像を得る。これらの光重合性平版印刷版から平版印刷
版の製版に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液が挙
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加さ
れる。
The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention is usually subjected to image exposure and then removing the unexposed portions of the photosensitive layer with a developing solution.
Get an image. Preferable developers for use in the preparation of lithographic printing plates from these photopolymerizable lithographic printing plates include those described in JP-B-57-7427, such as sodium silicate and silicate. Potassium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. An aqueous solution of such an inorganic alkali agent or an organic alkali agent such as monoethanolamine or diethanolamine is suitable. The alkaline solution is added so that the concentration of the alkaline solution is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.

【0257】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。
In addition, such an alkaline aqueous solution includes:
If necessary, a small amount of a surfactant or an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol or 2-butoxyethanol can be contained. For example, those described in U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480 can be mentioned. Further, Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 0-26601, No. 58-54341, Tokubo Sho56
The developing solutions described in JP-A-39464 and JP-A-56-42860 are also excellent.

【0258】その他、本発明の光重合性平版印刷版から
の平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露
光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱し
ても良い。このような加熱により、感光層中の画像形成
反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化
といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の
向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱も
しくは、全面露光を行うことも有効である。通常現像前
の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好まし
い。温度が高すぎると、非画像部までがかぶってしまう
等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を
利用する。通常は200〜500℃の範囲である。温度
が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合
には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じ
る。本発明による走査露光平版印刷版の露光方法は、公
知の方法を制限なく用いることができる。光源としては
レーザが好ましく。例えば、350〜450nmの波長の
入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用する
ことができる。
In the plate making process of the lithographic printing plate from the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, the whole surface may be heated before exposure, during exposure, or between exposure and development, if necessary. . By such heating, an image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement of sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity can be brought about. Further, for the purpose of improving image strength and printing durability, it is also effective to post-heat or expose the entire surface of the developed image. Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, there arises a problem that a non-image portion is covered. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is too low, a sufficient image strengthening effect cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur. Known methods can be used for the exposure method of the scanning exposure planographic printing plate according to the present invention without any limitation. A laser is preferred as the light source. For example, as an available laser light source having a wavelength of 350 to 450 nm, the following can be used.

【0259】ガスレーザーとして、Arイオンレーザー
(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレ
ーザー(356nm,351nm,10mW〜1W)、He−
Cdレーザー(441nm,325nm,1mW〜100m
W)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)と
SHG結晶×2回の組み合わせ(355mm、5mW〜1
W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(4
30nm,10mW)、半導体レーザー系として、KNbO
3、リング共振器(430nm,30mW)、導波型波長変
換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わ
せ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型
波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の
組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、
AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW) その他、パルスレーザーとしてN2レーザー(337n
m、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パ
ルス10〜250mJ)
As a gas laser, an Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), He-
Cd laser (441nm, 325nm, 1mW ~ 100m
W), a combination of Nd: YAG (YVO 4 ) and SHG crystal × 2 times (355 mm, 5 mW to 1
W), Cr: Combination of LiSAF and SHG crystal (4
30nm, 10mW), KNbO as a semiconductor laser system
3. Ring resonator (430 nm, 30 mW), combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs or InGaAs semiconductor (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaInP, AlGaAs semiconductor (300 nm to 350nm, 5mW ~ 100mW),
AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW) Other pulsed laser as a N 2 laser (337N
m, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ)

【0260】特にこの中でAlGaInN半導体レーザ
ー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410n
m、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。そ
の他、450nm〜700nmの入手可能な光源として
はAr+レーザ−(488nm)、YAG−SHGレーザ
ー(532nm)、He−Neレーザー(633n
m)、He―Cdレーザー、赤色半導体レーザー(65
0〜690nm)、及び700nm〜1200nmの入
手可能な光源としては半導体レーザ(800〜850n
m)、Nd−YAGレーザ(1064nm)が好適に利
用できる。
Particularly, among these, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN semiconductor laser 400 to 410 n
m, 5 to 30 mW) is preferable in terms of wavelength characteristics and cost. In addition, available light sources of 450 nm to 700 nm include Ar + laser (488 nm), YAG-SHG laser (532 nm), and He-Ne laser (633 n).
m), He-Cd laser, red semiconductor laser (65
Semiconductor lasers (800 to 850 nm) as available light sources of 700 nm to 1200 nm.
m), Nd-YAG laser (1064 nm) can be suitably used.

【0261】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ(ArFエ
キシマレーザー、KrFエキシマレーザーなど)、放射
線としては電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の350nm以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。また、露光機構は内面ドラ
ム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいず
れでもよい。また本発明の感光層成分は高い水溶性のも
のを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可溶と
することもできるが、このような構成の平版印刷版は印
刷機上に装填後、機上で露光-現像といった方式を行う
こともできる。
In addition, ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, ultraviolet laser lamps (ArF excimer laser, KrF excimer laser, etc.) Although rays, X-rays, ion beams, far-infrared rays, etc. can be used, the above-mentioned laser light source having a wavelength of 350 nm or more is particularly preferable in terms of inexpensiveness. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flat bed type, and the like. The photosensitive layer component of the present invention can be made soluble in neutral water or weakly alkaline water by using a highly water-soluble one.However, a lithographic printing plate having such a configuration can be used on a printing press. After loading, a system such as exposure-development can be performed on the machine.

【0262】[0262]

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 (支持体の調製)厚さ0.3mmのアルミニウム板を10
重量%水酸化ナトリウムに60℃で25秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後20重量%硝酸で中和洗
浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を
用いて1重量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1
重量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬
後30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒
間デスマット処理した後、20重量%硫酸水溶液中、電
流密度2A/dm2において、陽極酸化皮膜の厚さが2.
7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。その表
面粗さを測定したところ、0.3μm(JIS B06
01によるRa表示)であった。このように処理された
基板の裏面に下記のゾル−ゲル反応液をバーコーターで
塗布し100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が70
mg/m2のバックコート層を設けた支持体を作成した。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples. (Preparation of support) An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm
After etching by immersion in 60% by weight of sodium hydroxide at 60 ° C for 25 seconds, it was washed with running water, neutralized and washed with 20% by weight nitric acid, and then washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% by weight nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode electricity of 300 coulomb / dm 2 . Followed by 1
After immersion in a 30% by weight aqueous solution of sulfuric acid at 40 ° C. for 5 seconds, immersion in a 30% by weight aqueous solution of sulfuric acid and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, a current density of 2 A / dm 2 in a 20% by weight aqueous solution of sulfuric acid 1. The thickness of the anodic oxide film is 2.
Anodizing treatment was performed for 2 minutes so as to obtain 7 g / m 2 . The surface roughness was measured to be 0.3 μm (JIS B06
Ra display of 01). The following sol-gel reaction solution was coated on the back surface of the substrate treated in this manner with a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute.
A support having a back coat layer of mg / m 2 was prepared.

【0263】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50重量部 水 20重量部 メタノール 15重量部 リン酸 0.05重量部Sol-gel reaction liquid Tetraethyl silicate 50 parts by weight Water 20 parts by weight Methanol 15 parts by weight Phosphoric acid 0.05 parts by weight

【0264】上記成分を混合、撹拌すると約5分で発熱
が開始した。60分間反応させた後以下に示す液を加え
ることによりバックコート塗布液を調製した。
When the above components were mixed and stirred, exotherm started in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, the following solution was added to prepare a back coat coating solution.

【0265】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂(分子量2000) 4重量部 ジメチルフタレート 5重量部 フッ素系界面活性剤(N−ブチルペルフルオロオクタン 0.7重量部 スルホンアミドエチルアクリレート/ポリオキシエチレン アクリレート共重合体:分子量2万) メタノールシリカゾル(日産化学工業(株)製、メタノール30重量%) 50重量部 メタノール 800重量部Pyrogallol formaldehyde condensation resin (molecular weight: 2000) 4 parts by weight Dimethyl phthalate 5 parts by weight Fluorinated surfactant (N-butyl perfluorooctane 0.7 parts by weight) Sulfonamidoethyl acrylate / polyoxyethylene acrylate copolymer: molecular weight 2 10,000) Methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., methanol 30% by weight) 50 parts by weight Methanol 800 parts by weight

【0266】(感光層の調製)このように処理されたア
ルミニウム板上に下記組成の感光層形成溶液を乾燥塗布
量が1.5g/m2となるように塗布し、130℃で1
分間乾燥させ感光層を形成させた。
(Preparation of Photosensitive Layer) A solution for forming a photosensitive layer having the following composition was applied onto the aluminum plate thus treated so that the dry coating amount was 1.5 g / m 2 ,
After drying for a minute, a photosensitive layer was formed.

【0267】 (感光層形成溶液) 下記表−7の光重合開始剤[X] 0.2 g 下記表−7の増感色素[Y] 0.2 g 下記表−7の高分子バインダー[Z] 2.0 g 下記表−7の重合性化合物[R] 1.5 g 下記表−7の添加剤[S] 0.3 g フッ素系界面活性剤 0.03g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) 熱重合禁止剤 N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミシアルミニウム塩 0.01g 顔料分散物 2.0 g 顔料分散物の組成 Pigment Blue 15:6 15重量部 アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 10重量部 (共重合モル比/83/17) シクロヘキサノン 15重量部 メトキシプロピルアセテート 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 40重量部 メチルエチルケトン 15 g プロピレングリコール 15 g 下表−7の低沸点アルコール〔Q〕 10 g (Sensitive layer forming solution) 0.2 g of photopolymerization initiator [X] in Table 7 below 0.2 g of sensitizing dye [Y] in Table 7 below 0.2 g of polymer binder [Z] of Table 7 below 2.0 g Polymerizable compound [R] in Table 7 below 1.5 g Additive [S] in Table 7 below 0.3 g Fluorosurfactant 0.03 g (Mechanical Fac F-177: Large Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.) Thermal polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamici aluminum salt 0.01 g Pigment dispersion 2.0 g Composition of pigment dispersion Pigment Blue 15: 6 15 parts by weight Allyl methacrylate / methacrylic acid Copolymer 10 parts by weight (copolymer molar ratio / 83/17) cyclohexanone 15 parts by weight methoxypropyl acetate 20 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight methyl ethyl ketone 15 g pro A low-boiling alcohol of glycol 15 g below -7 [Q] 10 g

【0268】(保護層の調整)上述の感光層上に、ポリ
ビニルアルコール(ケン化度98%、重合度550)3
重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2g/m2となるよう
に塗布、100℃で2分間乾燥し、下記表−7の光重合
性平版印刷版(感材)を作製した。
(Adjustment of Protective Layer) Polyvinyl alcohol (degree of saponification 98%, degree of polymerization 550)
A 10% by weight aqueous solution was applied so as to have a dry coating weight of 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes to produce a photopolymerizable lithographic printing plate (sensitive material) shown in Table 7 below.

【0269】[0269]

【表19】 [Table 19]

【0270】なお、感光層に用いる光重合開始剤
〔X〕、増感色素〔Y〕、高分子バインダー〔Z〕、重
合性化合物〔R〕、添加剤〔S〕を以下に示す。
The photopolymerization initiator [X], sensitizing dye [Y], polymer binder [Z], polymerizable compound [R], and additive [S] used in the photosensitive layer are shown below.

【0271】[0271]

【化93】 Embedded image

【0272】[0272]

【化94】 Embedded image

【0273】[0273]

【化95】 Embedded image

【0274】(感度の評価)このように得られた感材
は、上記表−7に示す露光波長に応じてそれぞれ異なる
光源を利用し、感度評価を行った。たとえば、400n
mの半導体レーザー、532nmのFD−YAGレーザ
ー、830nmの半導体レーザーをそれぞれ用い大気中
で露光した。下記組成の現像液に25℃、10秒間浸漬
し、現像を行い、画像ができるその最小露光量からそれ
ぞれの露光条件での感度をmJ/cm2単位で算出した。この
数値が小さい方が高感度である。但し、光源波長が違う
と光子1つ当たりが有するエネルギー量が異なるため、
単純に考えても通常は短波になるほど上述の露光量が少
なくても感光することが可能となり、短波の方が高感度
となる。従って、表−8は、異なる露光条件間での感度
比較には意味がなく、あくまでも同一露光条件での実施
例と比較例での差をみるためのものである。結果を下記
表−8に示す。
(Evaluation of Sensitivity) The light-sensitive materials thus obtained were subjected to sensitivity evaluation using different light sources according to the exposure wavelengths shown in Table 7 above. For example, 400n
Exposure was performed in the air using a semiconductor laser of 532 nm, an FD-YAG laser of 532 nm, and a semiconductor laser of 830 nm. The film was immersed in a developer having the following composition at 25 ° C. for 10 seconds, developed, and the sensitivity under each exposure condition was calculated in mJ / cm 2 from the minimum exposure amount at which an image could be formed. The smaller the value, the higher the sensitivity. However, if the light source wavelength is different, the amount of energy per photon is different.
Even if it is simply considered, usually, the shorter the wavelength, the smaller the amount of exposure described above, the more the photosensitivity becomes possible, and the shorter the wavelength, the higher the sensitivity. Therefore, Table 8 is meaningless for comparing the sensitivity between different exposure conditions, and is merely for observing the difference between the example and the comparative example under the same exposure condition. The results are shown in Table 8 below.

【0275】 (現像液の組成) DP−4(富士写真フイルム社製) 65.0g 水 880.0g リポミンLA(20%水溶液、ライオン(株)社製) 50.0g(Composition of Developer) DP-4 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) 65.0 g Water 880.0 g Lipomin LA (20% aqueous solution, manufactured by Lion Corporation) 50.0 g

【0276】(保存安定性の評価)レーザ露光前の上記
感光材料を高温条件下(60℃)に7日間放置し、その
後この保存後の感材を前記と同様にレーザ露光し記録に
必要なエネルギー量を算出し、高温保存前後のエネルギ
ー比(高温保存後のエネルギー/高温保存前のエネルギ
ー)を求めた。このエネルギー比が1.1以下であるこ
とが製造上好ましく保存安定性においても良好といえ
る。この評価結果も下記表−8に示す。
(Evaluation of Storage Stability) The above-mentioned photosensitive material before laser exposure was left under high-temperature conditions (60 ° C.) for 7 days, and thereafter, the photosensitive material after storage was exposed to laser in the same manner as described above to perform recording. The amount of energy was calculated, and the energy ratio before and after high-temperature storage (energy after high-temperature storage / energy before high-temperature storage) was determined. It is preferable in terms of production that the energy ratio is 1.1 or less, and it can be said that storage stability is also good. The evaluation results are also shown in Table 8 below.

【0277】(明室安定性)上述の塗布感材を蛍光灯に
OD6以上で450nm以下をカットできるフィルター
をつけた黄色または黄橙色光に200ルクスで、30分
間曝した後に感度評価を行う。感度変化が感度比で1.
0〜1.1倍までのものを許容とする。結果を下記表−
8に示す。
(Brightroom Stability) Sensitivity is evaluated after exposing the above-mentioned coated sensitizing material to yellow or yellow-orange light having a filter capable of cutting OD 6 or more and 450 nm or less at 200 lux for 30 minutes. The change in sensitivity is 1.
A range of 0 to 1.1 times is allowable. The results are shown in the following table.
FIG.

【0278】[0278]

【表20】 [Table 20]

【0279】表−8より本発明の光重合性平版印刷版は
高感度であり、かつ保存安定性が非常に良好であること
がわかる。特に保存安定性試験は、60℃の高温条件下
に7日間放置したものであり、このような試験において
許容されるものは、夏場や熱帯地域などの厳しい条件下
でも安定であるといえる。また、400nm及び830
nm露光系では、さらに明室化も良好である。
Table 8 shows that the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention has high sensitivity and very good storage stability. In particular, in the storage stability test, the storage stability test was allowed to stand for 7 days at a high temperature of 60 ° C., and those which are acceptable in such a test can be said to be stable even under severe conditions such as summer and tropical regions. 400 nm and 830
In the case of the nm exposure system, the bright room is further improved.

【0280】[0280]

【発明の効果】本発明の光重合性平版印刷版は、感光層
を形成する際に、ハロゲン原子含有光重合開始剤を含有
する光重合性組成物を、3種以上の混合溶剤に溶解して
支持体上に塗布することで、塗布乾燥カブリを生じず
に、120℃以上の高温乾燥が可能になり、保存安定性
についても向上させることができた。よって、本発明の
光重合性平版印刷版は、高感度で、明室取り扱い性及び
保存安定性が良好になった。
The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention is prepared by dissolving a photopolymerizable composition containing a halogen atom-containing photopolymerization initiator in a mixture of three or more solvents when forming a photosensitive layer. By coating on the support by heating, drying at a high temperature of 120 ° C. or higher was possible without causing coating and drying fog, and the storage stability was also improved. Therefore, the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention was high in sensitivity, light room handling property and storage stability were good.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、ハロゲン原子含有光重合開
始剤を含有する光重合性組成物を3種以上の溶剤に溶解
して塗布した後、120℃〜170℃で乾燥して感光層
を形成したことを特徴とする光重合性平版印刷版。
1. A photosensitive layer containing a photopolymerizable composition containing a halogen atom-containing photopolymerization initiator dissolved and dissolved in at least three kinds of solvents on a support, and dried at 120 ° C. to 170 ° C. A photopolymerizable lithographic printing plate, characterized by forming:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003295426A (en) * 2002-03-28 2003-10-15 Agfa Gevaert Nv Photopolymerizable composition sensitized for wavelength range from 300 to 450 nm
US7041429B2 (en) * 2003-02-07 2006-05-09 Konica Minolta Holdings, Inc. Light sensitive composition and light sensitive planographic printing plate material
US8110337B2 (en) * 2002-12-18 2012-02-07 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor

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