JP2002202263A - Method for measuring element concentration and element concentration gradient in film in emission spectrochemical analysis - Google Patents

Method for measuring element concentration and element concentration gradient in film in emission spectrochemical analysis

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JP2002202263A
JP2002202263A JP2000403069A JP2000403069A JP2002202263A JP 2002202263 A JP2002202263 A JP 2002202263A JP 2000403069 A JP2000403069 A JP 2000403069A JP 2000403069 A JP2000403069 A JP 2000403069A JP 2002202263 A JP2002202263 A JP 2002202263A
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JP
Japan
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concentration
data
mesh
carbon
carbon concentration
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JP2000403069A
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Japanese (ja)
Inventor
Wataru Nagasawa
度 長沢
Tomonobu Yoshikawa
朋伸 吉川
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NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for measuring the concentration of an element and the concentration gradient of the element in a film for emission spectrochemical analysis, capable of simply measuring the concentration of an element and the concentration gradient of the element in a film obtained by modifying the surface of a carburized layer, or the like. SOLUTION: Tin concentration data and carbon concentration data are calculated from the intensity data of tin or carbon emission spectra generated when spark discharge within a discharge range 205 is applied J times to a test piece 200. A group of meshes 601 are obtained by equally dividing a virtual pixel group 600 corresponding to the discharge range 205 by J. The tin concentration data is allotted to the mesh group; the first one thereof to a mesh S (1, 1) on its upper end in the y-direction, the second one thereof to a mesh neighboring in the x-direction, and so on. The carbon concentration data sets are sequentially allotted ion order of carbon concentration; the first set to a mesh (ns+1, 1) in a row next to the row where the last tin concentration data set is allotted to a mesh S ns, m(ns)}, the second one to a mesh neighboring in the x-direction, and so on. The concentration and concentration gradient of carbon are calculated based on the maximum length in the y- direction of the group of meshes 601 to which the carbon concentration data sets are allotted and on the carbon concentration data allotted to the respective meshes 601 in an array 700 comprising meshes 601 presenting the maximum length.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光分光分析にお
ける皮膜の元素濃度及び元素濃度勾配測定方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring an element concentration and an element concentration gradient of a film in emission spectroscopy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、鋼製品の材質改善(特に表面の改
質)の1つの方法として鋼の浸炭及び浸炭窒化が知られ
ており、現在においてもガス浸炭、真空浸炭(窒化)等
の新規技術の開発が活発に行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, carburization and carbonitriding of steel have been known as one method of improving the quality (particularly, surface modification) of steel products, and even today, new methods such as gas carburizing and vacuum carburizing (nitriding) are known. Technology is being actively developed.

【0003】これら表面の改質によって得られる鋼製品
の浸炭層炭素(浸炭窒化層窒素)濃度及び表面から芯部
に向けての浸炭層炭素(浸炭窒化層窒素)濃度勾配を正
確に把握することが、表面の改質によって得られる製品
の処理条件や品質管理基準の確立だけでなく、浸炭(窒
化)反応や拡散現象の解明においても極めて重要なこと
である。
[0003] Accurate grasp of the carbonized carbon (carbonitriding nitrogen) concentration and the carbonitriding carbon (carbonitriding nitrogen) concentration gradient from the surface to the core of the steel product obtained by the surface modification. However, it is extremely important not only for establishing processing conditions and quality control standards for products obtained by surface modification, but also for elucidating carburizing (nitriding) reactions and diffusion phenomena.

【0004】従来、浸炭層の炭素濃度及び炭素濃度勾配
を把握する方法として発光分光分析装置とマイクロメー
タとを利用する測定方法が知られている。この測定方法
では、まず、鋼製品から切り出した測定試料の厚さを予
めマイクロメータで測定し、測定した測定試料を発光分
光分析装置で分析する。その後、測定試料の分析面を平
行研磨盤によって所定の量だけ研磨し、研磨した量をマ
イクロメータで測定した後、研磨した分析面を発光分光
分析装置で分析することを繰り返して浸炭層の炭素濃度
及び炭素濃度勾配を得る。すなわち、この測定方法では
浸炭層の深さを研磨前後の測定試料の厚さの差から求め
る(以下、この測定方法を「多段法」という。)。
Conventionally, as a method for grasping the carbon concentration and the carbon concentration gradient of a carburized layer, a measuring method using an emission spectrometer and a micrometer is known. In this measurement method, first, the thickness of a measurement sample cut out of a steel product is measured in advance by a micrometer, and the measured measurement sample is analyzed by an emission spectrometer. Thereafter, the analysis surface of the measurement sample is polished by a predetermined amount with a parallel polishing machine, the polished amount is measured by a micrometer, and the polished analysis surface is repeatedly analyzed by an emission spectrometer to repeat the carbonization of the carburized layer. Obtain concentration and carbon concentration gradients. That is, in this measurement method, the depth of the carburized layer is obtained from the difference in thickness of the measurement sample before and after polishing (hereinafter, this measurement method is referred to as “multi-stage method”).

【0005】この他にも浸炭層の炭素濃度及び炭素濃度
勾配を把握する方法、すなわち、浸炭層(浸炭窒化)若
しくはメッキ、元素表面拡散をした素材等の皮膜を有す
る測定試料の皮膜の膜厚測定方法は数多くのものが知ら
れているが、代表的なものとして蛍光X線を利用する膜
厚測定方法が知られている。この測定方法は皮膜を有す
る測定試料の皮膜面にX線を照射し、皮膜面から発生す
る蛍光X線の強度を測定し、測定した強度を換算して皮
膜の元素濃度を順次皮膜厚さ方向に求めるものであり、
また、X線マイクロアナライザ(EPMA)のライン分
析によって皮膜の元素濃度勾配を求めるものである。
[0005] In addition to this, a method for grasping the carbon concentration and the carbon concentration gradient of the carburized layer, that is, the film thickness of the film of the measurement sample having the film of the carburized layer (carbonitriding) or the plating, the element surface diffusion, etc. Many measurement methods are known, and a typical method is a film thickness measurement method using fluorescent X-rays. This measurement method irradiates the film surface of a measurement sample having a film with X-rays, measures the intensity of fluorescent X-rays generated from the film surface, converts the measured intensity, and sequentially determines the element concentration of the film in the film thickness direction. Is what you want
Further, the element concentration gradient of the film is determined by line analysis using an X-ray microanalyzer (EPMA).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記多
段法では、研磨と研磨した量の測定とを繰り返すため、
測定試料の前処理に長時間が必要であることに加え、厚
さの薄い測定試料では研磨が困難であるという問題があ
る。
However, in the above-mentioned multi-stage method, since the polishing and the measurement of the polished amount are repeated,
In addition to requiring a long time for pretreatment of the measurement sample, there is a problem that polishing is difficult with a measurement sample having a small thickness.

【0007】一方、蛍光X線を利用する膜厚測定方法で
は、浸炭(浸炭窒化)層等の皮膜が厚すぎる(約10μ
m以上)と測定が不可能となることに加え、EPMAの
ライン分析は長時間が必要であるという問題がある。
On the other hand, in a film thickness measuring method using fluorescent X-rays, a film such as a carburized (carbonitrided) layer is too thick (about 10 μm).
m or more) and the measurement becomes impossible, and the EPMA line analysis requires a long time.

【0008】本発明の目的は、浸炭層等の表面の改質に
よって得られた皮膜の元素濃度及び元素濃度勾配、並び
に素材に含有される特定元素の種類、その粒子の存在位
置及びその粒子の大きさ等の測定を簡易に行うことがで
きる発光分光分析における皮膜の元素濃度及び元素濃度
勾配測定方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an element concentration and an element concentration gradient of a film obtained by modifying the surface of a carburized layer, etc., the type of a specific element contained in a material, the location of the particles and the particle size. An object of the present invention is to provide a method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of a film in emission spectroscopy, which can easily measure the size and the like.

【0009】[0009]

【課題を解決する手段】上記目的を達成するため、請求
項1記載の発光分光分析における皮膜の元素濃度及び元
素濃度勾配測定方法は、第1の元素を含む層を表面に有
する測定試料の前記第1の元素の濃度及びその濃度勾配
を算出する発光分光分析における皮膜の元素濃度及び元
素濃度勾配測定方法において、前記層の切断面が露出す
るように前記測定試料が埋め込まれた第2の元素の部材
を有する試験片を準備する準備工程と、前記準備された
試験片における前記層と前記第2の元素の部材との境界
及び前記層の切断面を含む所定の範囲に対して所定の回
数だけ放電する放電工程と、前記所定の範囲を行列状の
メッシュ群で区分するメッシュ区分工程と、前記所定の
範囲に対して放電する度に発生する前記所定の回数分の
前記第1の元素又は第2の元素の発光スペクトルを検出
し、前記検出された発光スペクトルを前記メッシュ群の
各メッシュに割り当てるスペクトル割り当て工程と、前
記第1の元素の発光スペクトルが夫々割り当てられた複
数のメッシュにおける前記境界と垂直な方向の最大長さ
及び前記複数のメッシュの夫々に割り当てられた発光ス
ペクトルに基づいて前記第1の元素の濃度及びその濃度
勾配を算出する濃度勾配算出工程とを有することを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for measuring an element concentration and an element concentration gradient of a coating in emission spectroscopy, comprising the steps of: In the method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of a film in emission spectroscopy for calculating the concentration of the first element and the concentration gradient thereof, a second element in which the measurement sample is embedded so that a cut surface of the layer is exposed. A preparing step of preparing a test piece having the member described above, and a predetermined number of times for a predetermined range including a boundary between the layer and the member of the second element and a cut surface of the layer in the prepared test piece. A discharge step of discharging only the first element, a mesh dividing step of dividing the predetermined range by a matrix group of meshes, and the first element or the predetermined number of times generated each time the predetermined range is discharged. A spectrum assigning step of detecting an emission spectrum of a second element and assigning the detected emission spectrum to each mesh of the mesh group; and a step of assigning the emission spectrum of the first element to the plurality of meshes. And a concentration gradient calculating step of calculating a concentration of the first element and a concentration gradient thereof based on a maximum length in a direction perpendicular to the first direction and an emission spectrum assigned to each of the plurality of meshes. .

【0010】請求項1記載の発光分光分析における皮膜
の元素濃度及び元素濃度勾配測定方法によれば、第1の
元素を含む層の切断面が露出するように測定試料が埋め
込まれた第2の元素の部材を有する試験片を準備し、準
備された試験片における層と第2の元素の部材との境界
及び層の切断面を含む所定の範囲に対して所定の回数だ
け放電し、所定の範囲を行列状のメッシュ群で区分し、
所定の範囲に対して放電する度に発生する所定の回数分
の第1の元素又は第2の元素の発光スペクトルを検出
し、検出された発光スペクトルをメッシュ群の各メッシ
ュに割り当て、第1の元素の発光スペクトルが夫々割り
当てられた複数のメッシュにおける境界と垂直な方向の
最大長さ及び複数のメッシュの夫々に割り当てられた発
光スペクトルに基づいて第1の元素の濃度及びその濃度
勾配を算出するので、第1の元素の濃度及びその濃度勾
配の測定を簡易に行うことができ、第1の元素の濃度及
びその濃度勾配の分析業務の効率化を計ることができ
る。
[0010] According to the method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of the film in the emission spectroscopy according to the first aspect, the second sample in which the cut sample of the layer containing the first element is exposed is exposed. Prepare a test piece having a member of the element, discharge a predetermined number of times to a predetermined range including a boundary between the layer and the member of the second element and a cut surface of the layer in the prepared test piece, a predetermined number of times, The range is divided by a matrix-like mesh group,
A predetermined number of emission spectra of the first element or the second element, which are generated every time a predetermined range is discharged, are detected, and the detected emission spectrum is assigned to each mesh of the mesh group. The concentration of the first element and the concentration gradient of the first element are calculated based on the maximum length in the direction perpendicular to the boundary in the plurality of meshes to which the emission spectra of the elements are respectively assigned and the emission spectrum assigned to each of the plurality of meshes. Therefore, the concentration of the first element and the concentration gradient thereof can be easily measured, and the efficiency of the analysis of the concentration of the first element and the concentration gradient thereof can be improved.

【0011】より好ましくは、前記メッシュ区分工程で
は、前記所定の範囲を前記所定の回数に相当する数以下
のメッシュで構成されるメッシュ群で区分するのがよ
い。
[0011] More preferably, in the mesh division step, the predetermined range is divided into a mesh group composed of meshes equal to or less than the predetermined number of times.

【0012】例えば、前記所定の範囲を所定の回数に相
当する数以下のメッシュで構成されるメッシュ群で区分
するので、所定の範囲に対して放電する際に、同じ個所
に放電しても、メッシュに割り当てる発光スペクトルが
不足することを避けることができる。
[0012] For example, since the predetermined range is divided by a mesh group composed of meshes equal to or less than the number corresponding to the predetermined number of times, when discharging in the predetermined range, even if discharging to the same place, Insufficiency of the emission spectrum assigned to the mesh can be avoided.

【0013】また、好ましくは、前記スペクトル割り当
て工程では、前記行列状のメッシュ群の前記境界と垂直
方向に関する前記第2の元素の部材側の端のメッシュか
ら前記境界と平行な方向に前記第2の元素の発光スペク
トルを割り当て、最後の第2の元素の発光スペクトルが
割り当てられたメッシュの行の次の行のメッシュから前
記境界と平行な方向に前記第1の元素の発光スペクトル
を強度順に割り当てるのがよい。
[0013] Preferably, in the spectrum assigning step, the second element is moved in a direction parallel to the boundary from a mesh at an end of the matrix element group on the member side with respect to a direction perpendicular to the boundary. And the emission spectrum of the first element is assigned in order of intensity in a direction parallel to the boundary from the mesh in the row next to the row of the mesh to which the emission spectrum of the last second element is assigned. Is good.

【0014】例えば、行列状のメッシュ群の境界と垂直
方向に関する第2の元素の部材側の端のメッシュから境
界と平行な方向に第2の元素の発光スペクトルを割り当
て、最後の第2の元素の発光スペクトルが割り当てられ
たメッシュの行の次の行のメッシュから境界と平行な方
向に第1の元素の発光スペクトルを強度順に割り当てる
ので、所定の範囲における境界を正確に表現することが
できる。
For example, an emission spectrum of the second element is allocated in a direction parallel to the boundary from the mesh on the member side end of the second element in a direction perpendicular to the boundary of the matrix group of meshes, and the last second element is allocated. Since the emission spectrum of the first element is assigned in order of intensity in a direction parallel to the boundary from the mesh in the next row of the mesh to which the emission spectrum is assigned, the boundary in a predetermined range can be accurately represented.

【0015】さらに好ましくは、前記第1の元素の発光
スペクトルの数と前記第2の元素の発光スペクトルの数
との比に基づいて、前記範囲を前記第2の元素の部材側
の面積が前記第2の元素の発光スペクトルの数の比に対
応するように境界と平行な方向に分割する分割工程を有
し、前記メッシュ区分工程では、前記分割された範囲の
うち前記第1の元素の発光スペクトルの数の比に対応す
る範囲を前記第1の元素の発光スペクトルの数と同じ数
のメッシュで構成されるメッシュ群で区分し、前記スペ
クトル割り当て工程では、前記区分されたメッシュ群の
前記境界側のメッシュから前記境界と平行な方向に前記
第1の元素の発光スペクトルを強度順に割り当てるのが
よい。
[0015] More preferably, based on a ratio of the number of emission spectra of the first element to the number of emission spectra of the second element, the area is set such that the area of the second element on the member side is smaller than the area of the second element. A dividing step of dividing in a direction parallel to the boundary so as to correspond to a ratio of the number of emission spectra of the second element; and in the mesh dividing step, the emission of the first element in the divided range is performed. The range corresponding to the ratio of the number of spectra is divided by a mesh group composed of the same number of meshes as the number of emission spectra of the first element, and in the spectrum assignment step, the boundary of the divided mesh group is The emission spectrum of the first element is preferably assigned in order of intensity from the mesh on the side in a direction parallel to the boundary.

【0016】例えば、第1の元素の発光スペクトルの数
と第2の元素の発光スペクトルの数との比に基づいて、
範囲を第2の元素の部材側の面積が第2の元素の発光ス
ペクトルの数の比に対応するように境界と平行な方向に
分割し、分割された範囲のうち第1の元素の発光スペク
トルの数の比に対応する範囲を第1の元素の発光スペク
トルの数と同じ数のメッシュで構成されるメッシュ群で
区分し、区分されたメッシュ群の境界側のメッシュから
境界と平行な方向に第1の元素の発光スペクトルを強度
順に割り当てるので、メッシュ群に第2の元素の発光ス
ペクトルを割り当てる必要が無く、第1の元素の濃度及
びその濃度勾配の測定をより簡易に行うことができる。
For example, based on the ratio between the number of emission spectra of the first element and the number of emission spectra of the second element,
The range is divided in a direction parallel to the boundary so that the area of the second element on the member side corresponds to the ratio of the number of emission spectra of the second element, and the emission spectrum of the first element in the divided range The range corresponding to the ratio of the numbers is divided into mesh groups composed of the same number of meshes as the number of the emission spectra of the first element, and the meshes on the boundary side of the divided mesh group are moved in a direction parallel to the boundary. Since the emission spectrum of the first element is assigned in order of intensity, it is not necessary to assign the emission spectrum of the second element to the mesh group, and the measurement of the concentration of the first element and its concentration gradient can be performed more easily.

【0017】さらに好ましくは、前記放電工程において
発生する前記所定の回数分の前記第1又は第2の元素の
発光スペクトルを検出する際に、前記第1の元素の発光
スペクトルで構成される第1の配列及び前記第2の元素
の発光スペクトルで構成される第2の配列を作成し、且
つ前記第1の配列における前記第1の元素の発光スペク
トルを強度順に並べるスペクトル配列工程を有するのが
よい。
More preferably, when detecting the emission spectrum of the first or second element for the predetermined number of times generated in the discharging step, a first emission spectrum composed of the emission spectrum of the first element is used. It is preferable to have a spectrum arrangement step of creating a second arrangement composed of the arrangement of the first element and the emission spectrum of the second element, and arranging the emission spectrum of the first element in the first arrangement in order of intensity. .

【0018】例えば、所定の回数分の第1又は第2の元
素の発光スペクトルを検出する際に、第1の元素の発光
スペクトルで構成される第1の配列及び第2の元素の発
光スペクトルで構成される第2の配列を作成し、且つ第
1の配列における前記第1の元素の発光スペクトルを強
度順に並べるので、第1の元素の発光スペクトルの強度
順の割り当てを簡易に行うことができる。
For example, when the emission spectra of the first or second element for a predetermined number of times are detected, the first arrangement composed of the emission spectrum of the first element and the emission spectrum of the second element are used. Since the second arrangement is created and the emission spectra of the first elements in the first arrangement are arranged in the order of the intensity, the assignment of the emission spectra of the first elements in the order of the intensity can be easily performed. .

【0019】さらに好ましくは、予め作成した前記第1
の元素の発光スペクトルと前記第1の元素の濃度との関
係を表す検量線に基づいて前記第1の元素の発光スペク
トルを前記濃度に変換するのがよい。
More preferably, the first prepared first
Preferably, the emission spectrum of the first element is converted into the concentration based on a calibration curve representing the relationship between the emission spectrum of the element and the concentration of the first element.

【0020】例えば、予め作成した第1の元素の発光ス
ペクトルと第1の元素の濃度との関係を表す検量線に基
づいて第1の元素の発光スペクトルを濃度に変換するの
で、第1の元素の濃度を簡易に求めることができる。
For example, since the emission spectrum of the first element is converted into the concentration based on a calibration curve which represents the relationship between the emission spectrum of the first element and the concentration of the first element, the first element is converted into the concentration. Can be easily obtained.

【0021】さらに好ましくは、前記濃度勾配算出工程
では、前記境界と平行な方向のメッシュの配列における
各メッシュに割り当てられた前記第1の元素の発光スペ
クトルを変換した前記濃度の平均値に基づいて前記第1
の元素の濃度及びその濃度勾配を算出するのがよい。
More preferably, in the concentration gradient calculating step, based on the average value of the concentration obtained by converting the emission spectrum of the first element assigned to each mesh in the mesh array in a direction parallel to the boundary. The first
It is preferable to calculate the concentration of the element and its concentration gradient.

【0022】例えば、境界と平行な方向のメッシュの配
列における各メッシュに割り当てられた第1の元素の発
光スペクトルを変換した濃度の平均値に基づいて第1の
元素の濃度及びその濃度勾配を算出するので、第1の元
素の濃度及びその濃度勾配を正確に求めることができ
る。
For example, the concentration of the first element and the concentration gradient of the first element are calculated based on the average value of the concentration obtained by converting the emission spectrum of the first element assigned to each mesh in the mesh arrangement in the direction parallel to the boundary. Therefore, the concentration of the first element and its concentration gradient can be accurately obtained.

【0023】さらに好ましくは、前記第1の元素は炭素
であり、前記層は浸炭層であり、且つ前記第2の元素は
スズであるのがよい。
[0023] More preferably, said first element is carbon, said layer is a carburized layer, and said second element is tin.

【0024】例えば、第1の元素は炭素であり、且つ第
2の元素はスズであるので、第1の元素の発光スペクト
ルと第2の元素の発光スペクトルとを明確に区別するこ
とができる。
For example, since the first element is carbon and the second element is tin, the emission spectrum of the first element and the emission spectrum of the second element can be clearly distinguished.

【0025】さらに好ましくは、前記第1の元素は窒素
であり、前記層は浸炭窒化層であり、且つ前記第2の元
素はスズであるのがよい。
[0025] More preferably, said first element is nitrogen, said layer is a carbonitrided layer, and said second element is tin.

【0026】例えば、第1の元素は窒素であり、且つ第
2の元素はスズであるので、第1の元素の発光スペクト
ルと第2の元素の発光スペクトルとを明確に区別するこ
とができる。
For example, since the first element is nitrogen and the second element is tin, the emission spectrum of the first element and the emission spectrum of the second element can be clearly distinguished.

【0027】さらに好ましくは、前記発光分光分析にお
ける皮膜の元素濃度及び元素濃度勾配測定方法は発光分
光分析装置によって実行されるのがよい。
More preferably, the method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of the film in the emission spectral analysis is performed by an emission spectral analyzer.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
測定方法を図面を参照して詳述する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a measuring method according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0029】本発明の実施の形態に係る測定方法は鋼製
品の浸炭層の炭素濃度及び元素濃度勾配を測定する際
に、下記の発光分光分析装置によって実行される。
The measuring method according to the embodiment of the present invention is executed by the following emission spectrometer when measuring the carbon concentration and the element concentration gradient of the carburized layer of a steel product.

【0030】まず、本発明の実施の形態に係る測定方法
を実行する発光分光分析装置の概略構成を図面を用いて
説明する。
First, a schematic configuration of an emission spectrometer for executing the measuring method according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0031】図1は、本発明の実施の形態に係る測定方
法を実行する発光分光分析装置の概略構成を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an emission spectrometer for executing a measuring method according to an embodiment of the present invention.

【0032】図1において、発光分光分析装置100
は、発光部101と、後述する試験片を内包する発光ス
タンド102と、分光部103と、測光部104と、イ
ンタフェイス105と、データ処理部106と、データ
表示部107とによって構成される。
In FIG. 1, an emission spectrometer 100 is shown.
Is composed of a light-emitting unit 101, a light-emitting stand 102 containing a test piece described later, a spectroscopic unit 103, a photometric unit 104, an interface 105, a data processing unit 106, and a data display unit 107.

【0033】分光部103は入口スリット108及び複
数の出口スリット109を有する遮光板110と、凹面
回折格子111と、複数の光電子倍増管112と、油回
転ポンプ113とによって構成される。
The light splitting unit 103 includes a light shielding plate 110 having an entrance slit 108 and a plurality of exit slits 109, a concave diffraction grating 111, a plurality of photomultiplier tubes 112, and an oil rotary pump 113.

【0034】発光スタンド102は発光部101を介し
てインタフェイス105に接続され、同様に光電子倍増
管112は測光部104を介してインタフェイス105
に接続され、インタフェイス105はデータ処理部10
6を介してデータ表示部107に接続される。
The light emitting stand 102 is connected to the interface 105 via the light emitting unit 101, and the photomultiplier tube 112 is similarly connected to the interface 105 via the light measuring unit 104.
The interface 105 is connected to the data processing unit 10.
6 to the data display unit 107.

【0035】発光部101は、発光部101に内蔵され
る不図示の電極が発光スタンド102に内包された試験
片へスパーク放電114を行うことが可能な位置に配置
され、発光スタンド102は、入口スリット108と凹
面回折格子111との延長線上において分光部103の
表面上に配置されている。
The light emitting unit 101 is disposed at a position where an electrode (not shown) incorporated in the light emitting unit 101 can perform a spark discharge 114 on a test piece included in the light emitting stand 102. It is arranged on the surface of the light splitting unit 103 on an extension of the slit 108 and the concave diffraction grating 111.

【0036】遮光板110において、各出口スリット1
09は、入口スリット108と凹面回折格子111との
延長線から凹面回折格子111を中心として複数の元素
の各々に固有の回折角だけ回転した角度の延長線上に配
置され、各光電子倍増管112もその延長線上に配置さ
れる。
In the light shielding plate 110, each exit slit 1
09 is arranged on an extension line rotated by a diffraction angle specific to each of the plurality of elements around the concave diffraction grating 111 from the extension line of the entrance slit 108 and the concave diffraction grating 111, and each photomultiplier tube 112 is also disposed. It is arranged on its extension.

【0037】また、少なくとも発光部101と発光スタ
ンド102との間の空間には不活性ガス(例えば、アル
ゴンガス)が充填されている。
At least the space between the light emitting unit 101 and the light emitting stand 102 is filled with an inert gas (eg, argon gas).

【0038】発光部101の電極が発光スタンド102
に内包された試験片との間でスパーク放電し、スパーク
放電された試験片から複数の元素の情報を含んだ発光ス
ペクトルが入口スリット108を介して凹面回折格子1
11へ照射され、凹面回折格子111は照射された発光
スペクトルを各元素に固有の回折角を利用して分光し、
該分光された各発光スペクトルは各出口スリット109
を介して各光電子倍増管112へ入射される。このと
き、分光された各発光スペクトルは各々に固有の元素の
情報のみを含んだ発光スペクトルとなる。
The electrode of the light emitting section 101 is a light emitting stand 102
Spark discharge occurs between the test piece contained in the concave diffraction grating 1 and the emission spectrum containing information of a plurality of elements from the spark-discharged test piece through the entrance slit 108.
11, the concave diffraction grating 111 splits the emitted emission spectrum using a diffraction angle unique to each element,
Each of the split emission spectra is output to each exit slit 109.
, And is incident on each photomultiplier tube 112. At this time, each of the separated emission spectra becomes an emission spectrum containing only information of an element unique to each.

【0039】光電子倍増管112は、入射された発光ス
ペクトルを検知すると共に、該検知した発光スペクトル
の強度を電流値に変換し、該変換した電流値を測光部1
04へ送信し、測光部104は、送信された電流値をデ
ィジタル値へ変換し、該変換されたディジタル値をイン
タフェイス105を介してデータ処理部106へ送信す
る。また、発光部101及び発光スタンド102は、ス
パーク放電の回数及び試験片におけるスパーク放電を受
けた範囲をインタフェイス105を介してデータ処理部
106へ送信する。
The photomultiplier tube 112 detects the incident light emission spectrum, converts the intensity of the detected light emission spectrum into a current value, and converts the converted current value into the photometric unit 1.
04, the photometric unit 104 converts the transmitted current value into a digital value, and transmits the converted digital value to the data processing unit 106 via the interface 105. Further, the light emitting unit 101 and the light emitting stand 102 transmit the number of spark discharges and the range of the test piece that has undergone the spark discharge to the data processing unit 106 via the interface 105.

【0040】データ処理部106は、送信されたディジ
タル値、スパーク放電の回数及びスパーク放電を受けた
範囲に基づいて後述する図4の炭素濃度勾配算出処理を
実行して炭素濃度及び炭素濃度勾配を算出する。
The data processing unit 106 executes a carbon concentration gradient calculation process of FIG. 4 described below based on the transmitted digital value, the number of spark discharges, and the range in which the spark discharge has been received, and calculates the carbon concentration and the carbon concentration gradient. calculate.

【0041】データ表示部107はCRT又はプリンタ
であり、図4の炭素濃度勾配算出処理で得られた濃度勾
配又は各元素の発光スペクトルの分布等を表示する。
The data display unit 107 is a CRT or a printer, and displays the concentration gradient obtained by the carbon concentration gradient calculation processing of FIG. 4, the distribution of the emission spectrum of each element, and the like.

【0042】以下、図1の発光分光分析装置100によ
って実行される炭素濃度勾配算出処理について図面を用
いて説明する。
Hereinafter, the carbon concentration gradient calculation processing executed by the emission spectrometer 100 of FIG. 1 will be described with reference to the drawings.

【0043】図2は、図1の発光分光分析装置100に
よって実行される皮膜の炭素濃度勾配算出処理において
使用される試験片の概略構成の例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a test piece used in the process of calculating the carbon concentration gradient of a film performed by the emission spectrometer 100 of FIG.

【0044】図2において、試験片200は、リング2
01と、スズ部202(測定試料204の埋め込み材
料)と、浸炭層203を有する測定試料204とによっ
て構成される。
In FIG. 2, the test piece 200 is a ring 2
01, a tin portion 202 (embedded material of the measurement sample 204), and a measurement sample 204 having a carburized layer 203.

【0045】試験片200は、直径が60mm、厚さが
20mmの円盤状の試験片であり、測定試料204は、
浸炭層203に対して垂直方向に切断された切断面が露
出されるようにスズ部202に埋め込まれ、スズ部20
2はリング201によって囲繞される。
The test piece 200 is a disc-shaped test piece having a diameter of 60 mm and a thickness of 20 mm.
The tin portion 202 is embedded in the tin portion 202 such that a cut surface cut in a direction perpendicular to the carburized layer 203 is exposed.
2 is surrounded by a ring 201.

【0046】測定試料204は鋼製品300から浸炭層
203を含む様に切り出された試料であり(図3
(a))、その表面に浸炭層203を有する(図3
(b))。鋼製品300の組成化学成分を下記表1に示
す。
The measurement sample 204 is a sample cut out of the steel product 300 so as to include the carburized layer 203 (FIG. 3).
(A)), having a carburized layer 203 on its surface (FIG. 3)
(B)). The chemical composition of the steel product 300 is shown in Table 1 below.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】図4は、図1の発光分光分析装置100に
よって実行される炭素濃度勾配算出処理のフローチャー
トである。
FIG. 4 is a flowchart of the carbon concentration gradient calculation process executed by the emission spectrometer 100 of FIG.

【0049】図4において、まず、発光部101の電極
が発光スタンド102に内包された試験片200上の浸
炭層203とスズ部202とを含む5mmφの円状の放
電範囲205に対してスパーク放電をJ回行い、データ
処理部106は後述する図9の濃度データ算出処理を実
行してスパーク放電毎に得られる上記ディジタル値に基
づいてスズ又は炭素の発光スペクトル強度データを算出
し、さらに算出した発光スペクトル強度データのうち炭
素の発光スペクトル強度データを後述する図5の検量線
に基づいて炭素濃度データに変換する。このとき、スズ
部202のスズの純度は100%なので、得られた発光
スペクトル強度データのうちスズの発光スペクトル強度
データは全て100%のスズ濃度データとして変換され
る。
In FIG. 4, first, spark discharge is applied to a 5 mmφ circular discharge range 205 including the carburized layer 203 and the tin portion 202 on the test piece 200 in which the electrode of the light emitting portion 101 is included in the light emitting stand 102. Is performed J times, and the data processing unit 106 calculates the tin or carbon emission spectrum intensity data based on the digital value obtained for each spark discharge by executing the density data calculation process of FIG. The emission spectrum intensity data of carbon among the emission spectrum intensity data is converted into carbon concentration data based on a calibration curve of FIG. 5 described later. At this time, since the tin purity of the tin portion 202 is 100%, all the emission spectrum intensity data of tin in the obtained emission spectrum intensity data is converted as 100% tin concentration data.

【0050】これらの濃度データは全てスパーク放電順
にデータ配列I(i){i=1,2,…J}に格納され
る(ステップS900)。
These density data are all stored in the data array I (i) {i = 1, 2,... J} in the order of spark discharge (step S900).

【0051】図5は、図4のステップS900において
使用される検量線を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a calibration curve used in step S900 of FIG.

【0052】図5の検量線500は下記表2に示す組成
化学成分の炭素量の基準試験試料(試料1〜9)に基づ
いて予め求められる。
The calibration curve 500 shown in FIG. 5 is obtained in advance based on reference test samples (samples 1 to 9) of the carbon content of the chemical composition shown in Table 2 below.

【0053】[0053]

【表2】 [Table 2]

【0054】図4の処理に戻り、データ処理部106は
後述する図10の濃度データ分別処理を実行してデータ
配列I(i){i=1,2,…J}に格納された各濃度
データをスズ濃度データのデータ配列Sn(iS){i
S=1,2,…}と炭素濃度データのデータ配列C(i
F){iF=1,2,…}とに分別する(ステップS1
000)。
Returning to the processing of FIG. 4, the data processing unit 106 executes the density data classification processing of FIG. 10 to be described later and executes the density data stored in the data array I (i) {i = 1, 2,... J}. The data is represented by a data array Sn (iS) {i of tin concentration data.
S = 1, 2,...} And the data array C (i
F) {iF = 1, 2,...} (Step S1)
000).

【0055】iSmaxをスズ濃度データの数とし、iF
maxを炭素濃度データの数とすると、スズ濃度データの
データ配列はSn(iS){iS=1,2,…i
max}と表され、炭素濃度データのデータ配列はC
(iF){iF=1,2,…iFmax}と表される。こ
のとき、iSmaxとiFmaxとの合計はJとなる。
Let iS max be the number of tin concentration data and iF
When max is the number of carbon concentration data, the data array of tin concentration data is Sn (iS) {iS = 1, 2,.
S max }, and the data array of carbon concentration data is C
(IF) {iF = 1, 2,... IF max }. At this time, the sum of iS max and iF max is J.

【0056】次いで、データ処理部106は後述する図
11の炭素濃度データ整列処理を実行して炭素濃度デー
タのデータ配列C(iF){iF=1,2,…i
max}の各炭素濃度データを炭素濃度順に整列して炭
素濃度順データ配列Cmax(iFF){iFF=1,
2,…iFmax}を作成する(ステップS1100)。
Next, the data processing unit 106 executes a carbon concentration data alignment process shown in FIG. 11 to be described later to execute a data array C (iF) {iF = 1, 2,... I of carbon concentration data.
F max } are arranged in order of carbon concentration in order of carbon concentration, and the data array C max (iFF) {iFF = 1,
2,... IF max } are created (step S1100).

【0057】次いで、データ処理部106は後述する図
12のメッシュ作成処理を実行して、下記する図6の放
電範囲205の面積に相当する円状の仮想画素群600
を想定し、この仮想画素群を分割して下記する図6にお
ける正方形状のメッシュ601を不図示のメモリ上に作
成する(ステップS1200)。
Next, the data processing unit 106 executes a mesh creation process shown in FIG. 12 to be described later, and a circular virtual pixel group 600 corresponding to the area of the discharge range 205 shown in FIG.
, The virtual pixel group is divided, and a square mesh 601 in FIG. 6 described below is created on a memory (not shown) (step S1200).

【0058】図6は、図4のステップS1200で作成
されるメッシュを示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the mesh created in step S1200 of FIG.

【0059】図6において、図中x(行)方向は浸炭層
203とスズ部202との境界と平行な方向であり、図
中y(列)方向は上記境界と垂直な方向である。また、
nは仮想画素群600のy方向に関する上端(すなわ
ち、放電範囲205における上記境界と垂直な方向に関
するスズ部202側の端)からの行数であり、m(n)
は第n行におけるx方向に関する端からのメッシュ60
1の順番である。従って、各メッシュ601はメッシュ
S{n,m(n)}で表される。
In FIG. 6, the x (row) direction in the figure is a direction parallel to the boundary between the carburized layer 203 and the tin portion 202, and the y (column) direction in the figure is a direction perpendicular to the boundary. Also,
n is the number of rows from the upper end of the virtual pixel group 600 in the y direction (that is, the end on the tin portion 202 side in the direction perpendicular to the boundary in the discharge range 205), and m (n)
Is the mesh 60 from the end in the x direction in the nth row
This is the order of 1. Therefore, each mesh 601 is represented by a mesh S {n, m (n)}.

【0060】図4の処理に戻り、データ処理部106は
後述する図13のスズ濃度データ割当行数算出処理を実
行して仮想画素群600におけるスズ濃度データが割り
当てられる行数nsを算出し(ステップS1300)、
さらに後述する図14のスズ濃度データ割当処理を実行
してスズ濃度データのデータ配列Sn(iS){iS=
1,2,…iSmax}の各スズ濃度データを仮想画素群
600のy方向に関する上端のメッシュS(1,1)か
らx方向に割り当てていく(ステップS1400)。
Returning to the processing of FIG. 4, the data processing unit 106 executes the tin density data assigned row number calculation processing of FIG. 13 described later to calculate the number ns of rows in the virtual pixel group 600 to which tin density data is assigned ( Step S1300),
Further, a tin concentration data allocation process shown in FIG. 14 to be described later is executed, and a data array Sn (iS) {iS =
Each tin concentration data of 1, 2,... IS max } is allocated in the x direction from the mesh S (1, 1) at the upper end in the y direction of the virtual pixel group 600 (step S1400).

【0061】次いで、データ処理部106は後述する図
15の炭素濃度データ割当処理を実行して、スズ濃度デ
ータのデータ配列Sn(iS){iS=1,2,…iS
max}の最後のスズ濃度データをメッシュS{ns,m
(ns)}に割り当てた後、炭素濃度順データ配列C
max(iFF){iFF=1,2,…iFmax}の各炭素
濃度データを炭素濃度順にメッシュS(ns+1,1)
からx方向に割り当てていく(ステップS1500)。
Next, the data processing unit 106 executes a carbon concentration data allocation process shown in FIG. 15 to be described later, and a data array Sn (iS) {iS = 1, 2,.
max }, the last tin concentration data in mesh S {ns, m
(Ns)} and then arranged in carbon concentration order data array C
max (iFF) {iFF = 1, 2,..., iF max } is converted to a mesh S (ns + 1, 1) in order of carbon concentration.
Are assigned in the x direction (step S1500).

【0062】次いで、データ処理部106は炭素濃度順
データ配列Cmax(iFF){iFF=1,2,…iF
max}の全ての炭素濃度データをメッシュS{n,m
(n)}に割り当てた後、後述する図16の炭素濃度勾
配グラフ作成処理を実行して仮想画素群600における
第ns+1行における中央のメッシュ601からy方向
と反対の方向に並ぶメッシュ601によって構成された
配列700、すなわち炭素濃度データが割り当てられた
メッシュ601の群におけるy方向の長さが最大となる
配列700を作成し(図7)、配列700における各メ
ッシュ601の炭素濃度データと、第ns行と第ns+
1行との境界(すなわち、スズ部202と浸炭層203
との境界)から各メッシュ601までの距離とに基づい
て図8に示す炭素濃度と境界からの距離との関係を表す
炭素濃度勾配グラフを作成し(ステップS1600)、
本処理を終了する。
Next, the data processing unit 106 generates a data array C max (iFF) {iFF = 1, 2,.
max } of all carbon concentration data in mesh S {n, m
After (n)}, the virtual pixel group 600 is formed by a mesh 601 arranged in the direction opposite to the y direction from the central mesh 601 in the ns + 1st row in the virtual pixel group 600 by executing a carbon concentration gradient graph creation process of FIG. Array 700 in which the length in the y direction of the group of meshes 601 to which the carbon concentration data is assigned is maximized (FIG. 7), and the carbon concentration data of each mesh 601 in the array 700 and the ns row and ns +
The boundary with one line (that is, the tin portion 202 and the carburized layer 203)
Based on the distance from the boundary to the respective meshes 601, a carbon concentration gradient graph showing the relationship between the carbon concentration and the distance from the boundary shown in FIG. 8 is created (step S1600).
This processing ends.

【0063】図4の処理によれば、試験片200におけ
る放電範囲205に対してスパーク放電をJ回行ったと
きに発生するスズ又は炭素元素の発光スペクトル強度デ
ータからスズ濃度データ及び炭素濃度データを算出し
(ステップS900)、放電範囲205に相当する仮想
画素群600をJ等分して得られるメッシュ601の群
のy方向に関する上端のメッシュS(1,1)からx方
向にスズ濃度データを割り当て(ステップS140
0)、最後のスズ濃度データが割り当てられたメッシュ
S{ns,m(ns)}の行の次の行のメッシュS(n
s+1,1)から続けてx方向に炭素濃度データを炭素
濃度順に割り当て(ステップS1500)、炭素濃度デ
ータが割り当てられたメッシュ601の群のy方向の最
大長さ及びその最大長さを呈するメッシュ601によっ
て構成された配列700の各メッシュ601に割り当て
られた炭素濃度データに基づいて炭素濃度及び炭素濃度
勾配を算出する(ステップS1600)ので、浸炭層の
炭素濃度及び炭素濃度勾配の測定を簡易に行うことがで
き、浸炭層の炭素濃度及び炭素濃度勾配の分析業務の効
率化を計ることができる。
According to the processing of FIG. 4, tin concentration data and carbon concentration data are obtained from emission spectrum intensity data of tin or carbon element generated when J spark discharges are performed on the discharge range 205 of the test piece 200. The calculation is performed (step S900), and the tin concentration data is calculated in the x direction from the mesh S (1, 1) at the upper end in the y direction of the group of meshes 601 obtained by dividing the virtual pixel group 600 corresponding to the discharge range 205 into J equal parts. Assignment (step S140
0), the mesh S (n) in the row next to the row of the mesh S {ns, m (ns)} to which the last tin concentration data is assigned
s + 1, 1), the carbon concentration data is allocated in the x direction in the order of carbon concentration (step S1500), and the maximum length in the y direction of the group of meshes 601 to which the carbon concentration data is allocated and the mesh 601 exhibiting the maximum length The carbon concentration and the carbon concentration gradient are calculated based on the carbon concentration data assigned to each of the meshes 601 of the array 700 constituted by the steps (step S1600), so that the carbon concentration and the carbon concentration gradient of the carburized layer are easily measured. It is possible to improve the efficiency of the analysis of the carbon concentration and the carbon concentration gradient of the carburized layer.

【0064】以下、図4の処理の各ステップにおける処
理についてフローチャートを用いて説明する。
Hereinafter, the processing in each step of the processing in FIG. 4 will be described using a flowchart.

【0065】図9は、図4のステップS900における
濃度データ算出処理のフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart of the density data calculation processing in step S900 of FIG.

【0066】図9の濃度データ算出処理は、放電範囲2
05に対してスパーク放電をJ回行ったときに得られる
発光スペクトルに基づいてスズ濃度データ及び炭素濃度
データを併せてJ個算出するものである。
The density data calculation process shown in FIG.
J is calculated by combining J tin concentration data and carbon concentration data based on the emission spectrum obtained when the spark discharge is performed J times with respect to 05.

【0067】図9において、データ処理部106はスパ
ーク放電毎に得られる上記ディジタル値に基づいてスズ
又は炭素の発光スペクトル強度データを算出し(ステッ
プS901)、カウンタ数iを1にセットする(ステッ
プS902)。
In FIG. 9, the data processing unit 106 calculates tin or carbon emission spectrum intensity data based on the digital value obtained for each spark discharge (step S901), and sets the counter number i to 1 (step S901). S902).

【0068】さらに、算出した発光スペクトル強度デー
タのうち炭素の発光スペクトル強度データを図5の検量
線に基づいて炭素濃度データに変換するか、若しくは算
出した発光スペクトル強度データのうちスズの発光スペ
クトル強度データを全てスズ濃度データ(値は全て10
0%)に変換して、これらの濃度データを全てデータ配
列I(i){i=1,2,…J}にスパーク放電順に格
納し(ステップS903)、そのデータ配列I(i)
{i=1,2,…J}をメモリに記憶し(ステップS9
04)、その後カウンタ数iがスパーク放電の回数Jよ
り少ないか否かを判別する(ステップS905)。
Further, carbon emission spectrum intensity data among the calculated emission spectrum intensity data is converted into carbon concentration data based on the calibration curve of FIG. 5, or tin emission spectrum intensity is calculated from the calculated emission spectrum intensity data. All data are tin concentration data (all values are 10
0%), and all these density data are stored in the data array I (i) {i = 1, 2,... J} in the order of spark discharge (step S903), and the data array I (i)
{I = 1, 2,... J} are stored in the memory (step S9).
04) Then, it is determined whether or not the counter number i is smaller than the number J of spark discharges (step S905).

【0069】ステップS905の判別の結果、カウンタ
数iがスパーク放電の回数Jより少ないときは、カウン
タ数iに1を加算してステップS903に戻り、カウン
タ数iがスパーク放電の回数J以上のときは、本処理を
終了する。
If the result of determination in step S905 is that the counter number i is smaller than the number J of spark discharges, 1 is added to the counter number i and the process returns to step S903. Ends this processing.

【0070】図10は、図4のステップS1000にお
ける濃度データ分別処理のフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart of the density data classification processing in step S1000 of FIG.

【0071】図10の濃度データ分別処理は、スズ濃度
データと炭素濃度データを夫々、別のデータ配列に分別
するものである。
The concentration data sorting process shown in FIG. 10 separates tin concentration data and carbon concentration data into separate data arrays.

【0072】図10において、まず、スズ濃度データの
カウンタ数iS及び炭素濃度データのカウンタ数iFを
0にセットし(ステップS1001)、カウンタ数iを
1にセットし(ステップS1002)、データ配列I
(i){i=1,2,…J}の各濃度データがスズ濃度
データか否かを判別する(ステップS1003)。
In FIG. 10, first, the counter number iS of tin concentration data and the counter number iF of carbon concentration data are set to 0 (step S1001), the counter number i is set to 1 (step S1002), and the data array I
(I) It is determined whether or not each concentration data of {i = 1, 2,... J} is tin concentration data (step S1003).

【0073】ステップS1003の判別の結果、濃度デ
ータがスズ濃度データのときは、スズ濃度データのカウ
ンタ数iSに1を加算し(ステップS1004)、スズ
濃度データのデータ配列Sn(iS){iS=1,2,
…}に格納する(ステップS1005)。
If the result of determination in step S1003 is that the concentration data is tin concentration data, 1 is added to the counter number iS of tin concentration data (step S1004), and a data array of tin concentration data Sn (iS) {iS = 1,2,
.. (Step S1005).

【0074】ステップS1003の判別の結果、濃度デ
ータがスズ濃度データでないときは、炭素濃度データの
カウンタ数iFに1を加算し(ステップS1006)、
炭素濃度データのデータ配列C(iF){iF=1,
2,…}に格納する(ステップS1007)。
If the result of determination in step S1003 is that the concentration data is not tin concentration data, 1 is added to the counter number iF of the carbon concentration data (step S1006),
Data array of carbon concentration data C (iF) {iF = 1,
,... (Step S1007).

【0075】その後、カウンタ数iがスパーク放電の回
数Jより少ないか否かを判別する(ステップS100
8)。
Thereafter, it is determined whether or not the counter number i is smaller than the number J of spark discharges (step S100).
8).

【0076】ステップS1008判別の結果、カウンタ
数iがスパーク放電の回数Jより少ないときは、カウン
タ数iに1を加算してステップS1003に戻り、カウ
ンタ数iがスパーク放電の回数J以上のときは、スズ濃
度データのデータ配列Sn(iS){iS=1,2,
…}及び炭素濃度データのデータ配列C(iF){iF
=1,2,…}をメモリに記憶し、本処理を終了する。
If it is determined in step S1008 that the counter number i is smaller than the number of spark discharges J, 1 is added to the counter number i and the process returns to step S1003. If the counter number i is equal to or greater than the number of spark discharges J, , A data array of tin concentration data Sn (iS) {iS = 1, 2,
... and data array C (iF) {iF of carbon concentration data
= 1, 2,... Are stored in the memory, and the process is terminated.

【0077】図11は、図4のステップS1100にお
ける炭素濃度データ整列処理のフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart of the carbon concentration data alignment processing in step S1100 of FIG.

【0078】図11の炭素濃度データ整列処理は、炭素
濃度データのデータ配列C(iF){iF=1,2,
…}の炭素濃度データを炭素濃度順に整列するものであ
る。
In the carbon concentration data alignment process shown in FIG. 11, the data array C (iF) {iF = 1, 2,
.. Are arranged in order of carbon concentration.

【0079】図11において、まず、図10の処理終了
後のスズ濃度データのカウンタ数iS及び炭素濃度デー
タのカウンタ数iFの夫々をスズ濃度のデータ数iS
max及び炭素濃度のデータ数iFmaxとする(ステップS
1101)。
In FIG. 11, first, the counter number iS of the tin concentration data and the counter number iF of the carbon concentration data after the end of the processing of FIG.
max and the data number iF max of the carbon concentration (step S
1101).

【0080】次いで、カウンタ数iFFを1にセット
し、且つ炭素濃度順データCmax(iFF)を設定して
炭素濃度順データの初期値Cmax(1)を炭素濃度デー
タのデータ配列C(iF){iF=1,2,…i
max}の炭素濃度データC(1)にセットする(ステ
ップS1102)。
Next, the counter number iFF is set to 1, and the carbon concentration order data C max (iFF) is set, and the initial value C max (1) of the carbon concentration order data is set to the data array C (iF ) {IF = 1,2, ... i
F max炭素 is set to the carbon concentration data C (1) (step S1102).

【0081】次いで、カウンタ数iFを1にセットし
(ステップS1103)、炭素濃度順データCmax(i
FF)と炭素濃度データC(iF)との差C(iFF)
を算出した(ステップS1104)後、差C(iFF)
が0より大きい否かを判別する(ステップS110
5)。
Next, the counter number iF is set to 1 (step S1103), and the carbon concentration order data C max (i
FF) and the difference C (iFF) between the carbon concentration data C (iF)
Is calculated (step S1104), and the difference C (iFF) is calculated.
Is greater than 0 (step S110).
5).

【0082】ステップS1105の判別の結果、差C
(iFF)が0より大きいときは、炭素濃度順データC
max(iFF)をそのまま維持し(ステップS110
6)、差C(iFF)が0以下のときは、炭素濃度順デ
ータCmax(iFF)に炭素濃度データC(iF)を代
入する(ステップS1107)。
As a result of the determination in step S1105, the difference C
If (iFF) is greater than 0, the data C
max (iFF) is maintained as it is (step S110)
6) If the difference C (iFF) is 0 or less, the carbon concentration data C (iF) is substituted into the carbon concentration order data C max (iFF) (step S1107).

【0083】次いで、カウンタ数iFに1を加算した
(ステップS1108)後、カウンタ数iFが炭素濃度
のデータ数iFmax以下であるか否かを判別する(ステ
ップS1109)。
Next, after adding 1 to the counter number iF (step S1108), it is determined whether or not the counter number iF is equal to or smaller than the carbon concentration data number iF max (step S1109).

【0084】ステップS1109の判別の結果、カウン
タ数iFが炭素濃度のデータ数iF max以下であるとき
は、ステップS1104に戻り、カウンタ数iFが炭素
濃度のデータ数iFmaxより大きいときは、カウンタ数
iFFに1を加算し(ステップS1110)、炭素濃度
データC(iF)に0を代入して炭素濃度データのデー
タ配列C(iF){iF=1,2,…iFmax}へ戻し
た(ステップS1111)後、カウンタ数iFFが炭素
濃度のデータ数iFmax以下であるか否かを判別する
(ステップS1112)。
As a result of the determination in step S1109, the count
Data number iF is the data number iF of carbon concentration maxWhen
Returns to step S1104, and if the counter number iF is
Number of concentration data iFmaxIf greater, the number of counters
One is added to iFF (step S1110), and the carbon concentration is added.
Substituting 0 into data C (iF), the data of carbon concentration data
Array C (iF) {iF = 1, 2,... IFmaxReturn to}
(Step S1111), the counter number iFF becomes carbon
Number of concentration data iFmaxDetermine if
(Step S1112).

【0085】ステップS1112の判別の結果、カウン
タ数iFFが炭素濃度のデータ数iFmax以下であると
きは、ステップS1103に戻り、カウンタ数iFFが
炭素濃度のデータ数iFmaxより大きいときは、炭素濃
度順データ配列Cmax(iFF){iFF=1,2,…
iFmax}をメモリに記憶し、本処理を終了する。
[0085] If it is determined in the step S1112, when counter number iFF is less than the number of data iF max of carbon concentration, the process returns to step S1103, when counter number iFF data number iF max greater than the carbon concentration, the carbon concentration Order data array C max (iFF) {iFF = 1, 2,...
iF max } is stored in the memory, and the process ends.

【0086】図12は、図4のステップS1200にお
けるメッシュ作成処理のフローチャートである。
FIG. 12 is a flowchart of the mesh creation processing in step S1200 of FIG.

【0087】図12のメッシュ作成処理は、図6の放電
範囲205の面積に相当する円状の仮想画素群600を
分割して図6における正方形状のメッシュ601をメモ
リ上に作成するものである。
The mesh creation processing shown in FIG. 12 is to divide the circular virtual pixel group 600 corresponding to the area of the discharge range 205 shown in FIG. 6 and create a square mesh 601 shown in FIG. 6 on the memory. .

【0088】図12において、まず、データ処理部10
6は行数nを1にセットする(ステップS1201)。
In FIG. 12, first, the data processing unit 10
No. 6 sets the number n of rows to 1 (step S1201).

【0089】次いで、第n行のメッシュ601の配列の
長さL(n)及び第n行のメッシュ601の数m
max(n)が以下の手順で算出され(ステップS120
2)、メモリに記憶される。
Next, the length L (n) of the array of the mesh 601 in the n-th row and the number m of the mesh 601 in the n-th row
max (n) is calculated in the following procedure (step S120)
2) Stored in memory.

【0090】一般に半径R、中心座標(R,R)の円と
y=cとの交線の長さLは下記式(1)で表され、 L=2(c(2R−c))1/2 …(1) 第n行までのy方向に関する高さy(n)は、各正方形
状のメッシュ601の1辺の長さをtmmとすると、下
記式(2)で表される。
In general, the radius L, the length L of the line of intersection between the circle having the center coordinates (R, R) and y = c is represented by the following equation (1): L = 2 (c (2R−c)) 1 / 2 (1) The height y (n) in the y direction up to the n-th row is represented by the following equation (2), where the length of one side of each square mesh 601 is tmm.

【0091】 y(n)=2R−nt …(2) このとき、tmmは半径がRmmである放電範囲205
の面積をJ等分したときの面積に基づいて算出され、さ
らに2R/tが自然数となるように調整される。さら
に、上記式(1)のL及びcに、夫々L(n)及びy
(n)を代入するとL(n)を表す下記式(3)が得ら
れる。
Y (n) = 2R-nt (2) At this time, tmm is a discharge range 205 having a radius of Rmm.
Is calculated based on the area obtained by dividing the area of J by J, and further adjusted so that 2R / t is a natural number. Further, L (n) and y in L and c of the above formula (1), respectively.
By substituting (n), the following equation (3) representing L (n) is obtained.

【0092】 L(n)=2[(2R−nt){2R−(2R−nt)}]1/2 …(3) また、mmax(n)は下記式(4)で表される。L (n) = 2 [(2R−nt) {2R− (2R−nt)}] 1/2 (3) Further, m max (n) is represented by the following equation (4).

【0093】 mmax(n)=L(n)/t …(4) その後、下記式(5)で表される行数nの上限数k(整
数とする) k=2R/t …(5) に対して、行数nが小さいか否かを判別する(ステップ
S1203)。
M max (n) = L (n) / t (4) Then, the upper limit number k of rows n represented by the following equation (5) (assumed to be an integer) k = 2R / t (5) ), It is determined whether or not the number n of rows is small (step S1203).

【0094】ステップS1203の判別の結果、行数n
が上限数kより小さいときは、行数nに1を加算し(ス
テップS1204)、ステップS1202に戻り、行数
nが上限数k以上のときは、L(n)及びmmax(n)
をメモリに記憶する。
As a result of the determination in step S1203, the number of rows n
Is smaller than the upper limit number k, 1 is added to the row number n (step S1204), and the process returns to step S1202. If the row number n is equal to or larger than the upper limit number k, L (n) and m max (n)
Is stored in the memory.

【0095】その後、データ処理部106は、メモリに
記憶されたL(n)、mmax(n)に基づいて仮想画素
群600を分割して1辺がtmmである正方形状のメッ
シュ601をJ個作成して本処理を終了する。
After that, the data processing unit 106 divides the virtual pixel group 600 based on L (n) and m max (n) stored in the memory and converts the square mesh 601 having one side of tmm into J. This process is completed, and the process ends.

【0096】図13は、図4のステップS1300にお
けるスズ濃度データ割当行数算出処理のフローチャート
である。
FIG. 13 is a flowchart of the tin concentration data allocation row number calculation processing in step S1300 of FIG.

【0097】図13のスズ濃度データ割当行数算出処理
は、仮想画素群600におけるスズ濃度データを割り当
てる行数を算出するものである。
The process of calculating the number of rows of tin concentration data allocated in FIG. 13 is for calculating the number of rows of the virtual pixel group 600 to which tin concentration data is allocated.

【0098】図13において、まず、データ処理部10
6は行数nを1にセットする(ステップS1301)。
In FIG. 13, first, the data processing unit 10
No. 6 sets the number of rows n to 1 (step S1301).

【0099】次いで、第n行迄のmmax(n)の積算値
を算出した(ステップS1302)後、算出された積算
値がスズ濃度のデータ数iSmax以上であるか否かを判
別する(ステップS1303)。
Next, after calculating the integrated value of m max (n) up to the n-th row (step S1302), it is determined whether or not the calculated integrated value is equal to or larger than the number of tin concentration data iS max (step S1302). Step S1303).

【0100】ステップS1303の判別の結果、算出さ
れた積算値がスズ濃度のデータ数iSmaxより少ないと
きは、行数nに1を加算し(ステップS1304)、ス
テップS1302に戻り、算出された積算値がスズ濃度
のデータ数iSmax以上のときは、スズ濃度データが割
り当てられる行数nsに行数nを代入して(ステップS
1305)、本処理を終了する。
[0100] accumulated integration value result, calculated in the determination of step S1303 is time less than the data number iS max of tin concentration, which adds 1 to the line number n (step S1304), the process returns to step S1302, the calculated when the value is more than the number of data iS max of tin concentration, by substituting the number of lines n in the row number ns of tin concentration data is allocated (step S
1305), this process ends.

【0101】図14は、図4のステップS1400にお
けるスズ濃度データ割当処理のフローチャートである。
FIG. 14 is a flowchart of the tin concentration data allocating process in step S1400 of FIG.

【0102】図14のスズ濃度データ割当処理は、スズ
濃度データのデータ配列Sn(iS){iS=1,2,
…iSmax}の各スズ濃度データをメッシュS{n,m
(n)}に割り当てるものである。
The tin concentration data allocating process shown in FIG. 14 is performed in a data array Sn (iS) {iS = 1, 2,
... Each tin concentration data of iS max } is converted to mesh S {n, m
(N) is assigned to}.

【0103】図14において、まず、データ処理部10
6は行数n、順番m(n)及びカウンタ数iSを1にセ
ットし(ステップS1401)、スズ濃度データのデー
タ配列Sn(iS){iS=1,2,…iSmax}の各
スズ濃度データをメッシュS{n,m(n)}に割り当
てる。このとき、同一のn行では、各スズ濃度データを
x方向に割り当てていく(ステップS1402)。デー
タ処理部106は1つのスズ濃度データをメッシュS
{n,m(n)}に割り当てた後、割り当てたメッシュ
S{n,m(n)}の順番m(n)が第n行のm
max(n)より小さいか否かを判別する(ステップS1
403)。
In FIG. 14, first, the data processing unit 10
6 sets the number n of rows, the order m (n), and the number iS of counters to 1 (step S1401), and sets the tin concentration data Sn (iS) {iS = 1, 2,... IS max } for each tin concentration. Assign the data to mesh S {n, m (n)}. At this time, in the same n rows, each tin concentration data is assigned in the x direction (step S1402). The data processing unit 106 converts one tin concentration data into a mesh S
After assigning to {n, m (n)}, the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} is set to m in the n-th row.
It is determined whether it is smaller than max (n) (step S1).
403).

【0104】ステップS1403の判別の結果、割り当
てたメッシュS{n,m(n)}の順番m(n)が第n
行のmmax(n)より小さいときは、割り当てたメッシ
ュS{n,m(n)}の順番m(n)に1を加算した
(ステップS1404)後、カウンタ数iSがスズ濃度
のデータ数iSmaxより小さいか否かを判別する(ステ
ップS1405)。
As a result of the determination in step S1403, the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} is changed to the n-th
If it is smaller than m max (n) of the row, 1 is added to the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} (step S1404), and then the counter number iS becomes the data number of tin concentration. iS max smaller determines whether or not a (step S1405).

【0105】ステップS1405の判別の結果、カウン
タ数iSがスズ濃度のデータ数iS maxより小さいとき
は、カウンタ数iSに1を加算し(ステップS140
6)、ステップS1402に戻り、カウンタ数iSがス
ズ濃度のデータ数iSmax以上のときは、本処理を終了
する。
As a result of the determination in step S1405, the count
Is the number of tin concentration data iS maxWhen less than
Adds 1 to the counter number iS (step S140
6), the process returns to step S1402, and the counter number iS is
Data number iSmaxIn the case above, this processing is completed
I do.

【0106】ステップS1403の判別の結果、割り当
てたメッシュS{n,m(n)}の順番m(n)が第n
行のmmax(n)以上のときは、行数nに1を加算した
(ステップS1407)後、行数nがスズ濃度データが
割り当てられる行数ns以下か否かを判別する(ステッ
プS1408)。
As a result of the determination in step S1403, the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} is changed to the n-th
If the number of rows is equal to or greater than m max (n), 1 is added to the number of rows n (step S1407), and then it is determined whether or not the number of rows n is equal to or less than the number of rows ns to which tin concentration data is assigned (step S1408). .

【0107】ステップS1408の判別の結果、行数n
がスズ濃度データが割り当てられる行数ns以下のとき
は、順番m(n)を1にセットし(ステップS140
9)、カウンタ数iSに1を加算して(ステップS14
10)ステップS1402に戻り、行数nがスズ濃度デ
ータが割り当てられる行数nsより大きいときは、本処
理を終了する。
As a result of the determination in step S1408, the number of rows n
Is smaller than or equal to the number of rows ns to which tin concentration data is assigned, the order m (n) is set to 1 (step S140).
9), 1 is added to the counter number iS (step S14)
10) Returning to step S1402, if the number of rows n is greater than the number of rows ns to which the tin concentration data is assigned, the process ends.

【0108】図15は、図4のステップS1500にお
ける炭素濃度データ割当処理のフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart of the carbon concentration data allocating process in step S1500 of FIG.

【0109】図15の炭素濃度データ割当処理は、炭素
濃度データのデータ配列C(iFF){iFF=1,
2,…iFmax}の各炭素濃度データを炭素濃度順にメ
ッシュS{n,m(n)}に割り当てるものである。
The carbon concentration data allocating process shown in FIG. 15 is based on the data array C (iFF) {iFF = 1,
2,... IF max } are assigned to meshes S {n, m (n)} in order of carbon concentration.

【0110】図15において、まず、データ処理部10
6は行数nをns+1にセットし(ステップS150
1)、順番m(n)を1にセットし(ステップS150
2)、さらにカウンタ数iFFを1にセットする(ステ
ップS1503)。
In FIG. 15, first, the data processing unit 10
6 sets the number of rows n to ns + 1 (step S150)
1), the order m (n) is set to 1 (step S150)
2) Then, the counter number iFF is set to 1 (step S1503).

【0111】次いで、炭素濃度データのデータ配列C
(iFF){iFF=1,2,…iF max}の各炭素濃
度データを炭素濃度順にメッシュS{n,m(n)}に
割り当てる。このとき、同一のn行では、各炭素濃度デ
ータをx方向に割り当てていく(ステップS150
4)。データ処理部106は1つの炭素濃度データをメ
ッシュS{n,m(n)}に割り当てた後、割り当てた
メッシュS{n,m(n)}の順番m(n)が第n行の
max(n)より小さいか否かを判別する(ステップS
1505)。
Next, the data array C of the carbon concentration data
(IFF) {iFF = 1, 2,... IF max各 each carbon concentration
Degree data into mesh S {n, m (n)} in order of carbon concentration
assign. At this time, in the same n rows, each carbon concentration data
Data is allocated in the x direction (step S150)
4). The data processing unit 106 stores one piece of carbon concentration data
After assigning to the key S {n, m (n)}
The order m (n) of the mesh S {n, m (n)} is
mmax(N) It is determined whether it is smaller than (step S)
1505).

【0112】ステップS1505の判別の結果、割り当
てたメッシュS{n,m(n)}の順番m(n)が第n
行のmmax(n)より小さいときは、割り当てたメッシ
ュS{n,m(n)}の順番m(n)に1を加算した
(ステップS1506)後、カウンタ数iFFが炭素濃
度のデータ数iFmax以下か否かを判別する(ステップ
S1507)。
As a result of the determination in step S1505, the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} is changed to the n-th
If it is smaller than m max (n) of the row, 1 is added to the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} (step S1506), and the counter number iFF is equal to the number of data of the carbon concentration. iF max determines whether or not the following (step S1507).

【0113】ステップS1507の判別の結果、カウン
タ数iFFが炭素濃度のデータ数iFmax以下のとき
は、カウンタ数iFFに1を加算し(ステップS150
8)、ステップS1504に戻り、カウンタ数iFFが
炭素濃度のデータ数iFmaxより大きいときは、本処理
を終了する。
[0113] If it is determined in the step S1507, the counter number IFF is when the following number of data iF max carbon concentration, adds 1 to the counter number IFF (step S150
8), the process returns to step S1504, the counter number iFF is when the number of data iF max greater than the carbon concentration, the process ends.

【0114】ステップS1505の判別の結果、割り当
てたメッシュS{n,m(n)}の順番m(n)が第n
行のmmax(n)以上のときは、行数nに1を加算した
(ステップS1509)後、行数nが上限数k以下か否
かを判別する(ステップS1510)。
As a result of the determination in step S1505, the order m (n) of the assigned mesh S {n, m (n)} is changed to the n-th
If the number of rows is equal to or greater than m max (n), 1 is added to the number of rows n (step S1509), and it is determined whether or not the number of rows n is equal to or less than the upper limit number k (step S1510).

【0115】ステップS1510の判別の結果、行数n
が上限数k以下のときは、m(n)を1にセットし(ス
テップS1511)、カウンタ数iFFに1を加算して
(ステップS1512)ステップS1504に戻り、行
数nが上限数kより大きいときは、本処理を終了する。
As a result of the determination in step S1510, the number of rows n
Is smaller than or equal to the upper limit number k, m (n) is set to 1 (step S1511), 1 is added to the counter number iFF (step S1512), and the process returns to step S1504, where the row number n is larger than the upper limit number k. In this case, the process ends.

【0116】図16は、図4のステップS1600にお
ける炭素濃度勾配グラフ作成処理のフローチャートであ
る。
FIG. 16 is a flowchart of the carbon concentration gradient graph creation process in step S1600 of FIG.

【0117】図16の炭素濃度勾配グラフ作成処理は、
配列700の各メッシュCC(n,nc)の濃度データ
及び境界からの各メッシュCC(n,nc)までの距離
とに基づいて炭素濃度勾配グラフを作成するものであ
る。
[0117] The carbon concentration gradient graph creation processing of FIG.
A carbon concentration gradient graph is created based on the concentration data of each mesh CC (n, nc) in the array 700 and the distance from the boundary to each mesh CC (n, nc).

【0118】図16において、まず、データ処理部10
6は行数nをスズ濃度データが割り当てられる行数ns
に1を加算した数にセットし、配列700を設定した
(ステップS1601)後、下記式(6)で表される配
列700を構成するメッシュCC(n,nc)の順番n
cを算出する(ステップS1602)。
In FIG. 16, first, the data processing unit 10
6 is the number n of rows and the number ns of rows to which tin concentration data is assigned
Is set to the number obtained by adding 1 to the array 700, and the array 700 is set (step S1601). Then, the order n of the mesh CC (n, nc) constituting the array 700 represented by the following equation (6) is set.
c is calculated (step S1602).

【0119】 nc=mmax(n)/2 …(6) 次いで、メッシュS(n,nc)をメッシュCC(n,
nc)とし、該メッシュCC(n,nc)を配列700
に加えた(ステップS1603)後、行数nが上限値k
より小さいか否かを判別する(ステップS1604)。
Nc = m max (n) / 2 (6) Next, the mesh S (n, nc) is changed to the mesh CC (n,
nc), and the mesh CC (n, nc) is arranged in an array 700
(Step S1603), the number of rows n becomes the upper limit k
It is determined whether or not it is smaller (step S1604).

【0120】ステップS1604の判別の結果、行数n
が上限値kより小さいときは、行数nに1を加算し(ス
テップS1605)、ステップS1602に戻り、行数
nが上限値k以上であるときは、配列700の各メッシ
ュCC(n,nc)の濃度データ及び上記境界からの各
メッシュCC(n,nc)までの距離とに基づいて図8
の炭素濃度勾配グラフを作成し、作成した炭素濃度勾配
グラフをデータ表示部107に表示して、本処理を終了
する。
As a result of the determination in step S1604, the number of rows n
Is smaller than the upper limit k, 1 is added to the number of rows n (step S1605), and the process returns to step S1602. If the number of rows n is equal to or larger than the upper limit k, each mesh CC (n, nc) of the array 700 is 8) on the basis of the density data of FIG.
Is created, the created carbon concentration gradient graph is displayed on the data display unit 107, and the process ends.

【0121】また、図4のステップS1600における
炭素濃度勾配グラフ作成処理は第n行における各メッシ
ュS{n,m(n)}の炭素濃度データの平均値を利用
してもよい。
Further, the carbon concentration gradient graph creation processing in step S1600 of FIG. 4 may use the average value of the carbon concentration data of each mesh S {n, m (n)} in the n-th row.

【0122】図17は、図4のステップS1600にお
ける第n行の炭素濃度データの平均値を利用する炭素濃
度勾配グラフ作成処理のフローチャートである。
FIG. 17 is a flowchart of the carbon concentration gradient graph creation processing using the average value of the carbon concentration data in the n-th row in step S1600 in FIG.

【0123】図17の炭素濃度勾配グラフ作成処理は、
配列700の各メッシュCC(n,nc)に代入された
炭素濃度データの平均値CT(n)及び境界からの各メ
ッシュCC(n,nc)までの距離とに基づいて炭素濃
度勾配グラフを作成するものである。
The carbon concentration gradient graph creation processing of FIG.
A carbon concentration gradient graph is formed based on the average value C T (n) of the carbon concentration data substituted for each mesh CC (n, nc) of the array 700 and the distance from the boundary to each mesh CC (n, nc). To create.

【0124】図17において、まず、データ処理部10
6は行数nをスズ濃度データが割り当てられる行数ns
に1を加算した数にセットし、配列700を設定し、上
記式(6)の配列700を構成するメッシュCC(n,
nc)の順番ncを算出し、且つメッシュS(n,n
c)をメッシュCC(n,nc)とした(ステップS1
701)後、下記式(7)で表される第n行の炭素濃度
データの平均値CT(n)を算出する(ステップS17
02)。
In FIG. 17, first, the data processing unit 10
6 is the number n of rows and the number ns of rows to which tin concentration data is assigned
Is set to the number obtained by adding 1 to an array 700, and an array 700 is set. The mesh CC (n,
nc) is calculated, and the mesh S (n, n) is calculated.
c) is set as a mesh CC (n, nc) (step S1).
701) After that, the average value C T (n) of the carbon concentration data of the n-th row represented by the following equation (7) is calculated (step S17).
02).

【0125】[0125]

【数1】 (Equation 1)

【0126】次いで、メッシュCC(n,nc)の炭素
濃度データに炭素濃度データの平均値CT(n)を代入
し、メッシュCC(n,nc)を配列700に加えた
後、行数nが上限値kより小さいか否かを判別する(ス
テップS1703)。
Next, the average value C T (n) of the carbon concentration data is substituted for the carbon concentration data of the mesh CC (n, nc), and the mesh CC (n, nc) is added to the array 700. Is smaller than the upper limit value k (step S1703).

【0127】ステップS1703の判別の結果、行数n
が上限値kより小さいときは、行数nに1を加算し(ス
テップS1704)、ステップS1702に戻り、行数
nが上限値k以上のときは、配列700の各メッシュC
C(n,nc)の炭素濃度データの平均値CT(n)及
び上記境界からの各メッシュCC(n,nc)までの距
離とに基づいて図8の炭素濃度勾配グラフを作成し、作
成した炭素濃度勾配グラフをデータ表示部107に表示
して、本処理を終了する。
As a result of the determination in step S1703, the number of rows n
Is smaller than the upper limit k, 1 is added to the number n of rows (step S1704), and the process returns to step S1702. If the number n of rows is equal to or larger than the upper limit k, each mesh C of the array 700 is
The carbon concentration gradient graph of FIG. 8 is created based on the average value C T (n) of the carbon concentration data of C (n, nc) and the distance from the boundary to each mesh CC (n, nc). The obtained carbon concentration gradient graph is displayed on the data display unit 107, and this processing ends.

【0128】以上、測定試料204が上記表1に示す鋼
製品300から浸炭層を含む様に切り出された場合につ
いて説明したが、測定試料204を切り出すときに、下
記表3に示す組成化学成分を有する窒素の基準試験試料
を用いれば、測定試料204の浸炭窒化層における窒素
濃度及び窒素濃度勾配を、上述した図4の処理により浸
炭層を含む測定試料204の炭素濃度及び炭素濃度勾配
と同様に求めることができる。
The case where the measurement sample 204 is cut out from the steel product 300 shown in Table 1 so as to include a carburized layer has been described above. When the measurement sample 204 is cut out, the composition chemical components shown in Table 3 below are used. If the reference test sample of nitrogen having is used, the nitrogen concentration and the nitrogen concentration gradient in the carbonitrided layer of the measurement sample 204 are changed in the same manner as the carbon concentration and the carbon concentration gradient of the measurement sample 204 including the carburized layer by the processing of FIG. You can ask.

【0129】[0129]

【表3】 [Table 3]

【0130】[0130]

【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described specifically.

【0131】実施例1 表1の鋼製品300から図2に示す測定試料204を切
り出して図2に示す試験片200を作成し、作成した試
験片200における5mmφの円状の放電範囲205に
対してスパーク放電を1000回行った。さらに、放電
範囲205を1辺の長さが0.14mmの正方形状の1
000個のメッシュ601に分割し、上述した図4の処
理を実行して鋼製品300の炭素濃度勾配を0.5mm
の深さまで算出した。一方で比較のために多段法で同じ
鋼製品300の炭素濃度勾配を0.5mmの深さまで算
出した。
Example 1 A test sample 200 shown in FIG. 2 was cut out from a steel product 300 shown in Table 1 to prepare a test piece 200 shown in FIG. 2, and a 5 mmφ circular discharge range 205 of the test piece 200 was prepared. Spark discharge was performed 1000 times. Further, the discharge range 205 is defined as a square 1 having a side length of 0.14 mm.
000 meshes 601 and the process of FIG. 4 described above is performed to reduce the carbon concentration gradient of the steel product 300 by 0.5 mm.
The depth was calculated. On the other hand, for comparison, the carbon concentration gradient of the same steel product 300 was calculated to a depth of 0.5 mm by a multi-stage method.

【0132】図18は、図4の処理で算出した炭素濃度
勾配及び多段法で算出した炭素濃度勾配を比較する図で
ある。
FIG. 18 is a diagram comparing the carbon concentration gradient calculated by the processing of FIG. 4 with the carbon concentration gradient calculated by the multi-stage method.

【0133】図18の実線は図4の処理で算出した炭素
濃度勾配の発光分光分析値であり、破線は多段法で算出
した炭素濃度勾配の化学分析値である。図18に示す通
り、発光分光分析値と化学分析値とはよく一致すること
が認められ、本発明の実施の形態に係る測定方法は従来
の多段法と同等の検査精度を有することが分かった。
The solid line in FIG. 18 is the emission spectral analysis value of the carbon concentration gradient calculated by the processing of FIG. 4, and the broken line is the chemical analysis value of the carbon concentration gradient calculated by the multistage method. As shown in FIG. 18, it was recognized that the emission spectral analysis value and the chemical analysis value agreed well, and it was found that the measurement method according to the embodiment of the present invention had the same inspection accuracy as the conventional multistage method. .

【0134】実施例2 実施例1と同様に、表3の窒素の基準試験試料から図2
に示す測定試料204を切り出して図2に示す試験片2
00を作成し、作成した試験片200における5mmφ
の円状の放電範囲205に対してスパーク放電を100
0回行った。さらに、放電範囲205を1辺の長さが
0.14mmの正方形状の1000個のメッシュ601
に分割し、上述した図4の処理を実行して窒化炭素鋼の
窒素濃度勾配を0.5mmの深さまで算出した。一方で
比較のために多段法で同じ窒化炭素鋼の窒素濃度勾配を
0.5mmの深さまで算出した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, the nitrogen reference test sample shown in Table 3 was used as shown in FIG.
2 is cut out from the measurement sample 204 shown in FIG.
00 and 5 mmφ in the prepared test piece 200.
Spark discharge is performed for 100
Performed 0 times. Further, the discharge range 205 is divided into 1000 square meshes 601 having a side length of 0.14 mm.
And the above-described processing of FIG. 4 was executed to calculate the nitrogen concentration gradient of the carbon nitride steel to a depth of 0.5 mm. On the other hand, for comparison, the nitrogen concentration gradient of the same carbon nitride steel was calculated to a depth of 0.5 mm by a multi-step method.

【0135】図19は、図4の処理で算出した窒素濃度
勾配及び多段法で算出した窒素濃度勾配を比較する図で
ある。
FIG. 19 is a diagram for comparing the nitrogen concentration gradient calculated by the processing of FIG. 4 with the nitrogen concentration gradient calculated by the multi-stage method.

【0136】図19の実線は図4の処理で算出した窒素
濃度勾配の発光分光分析値であり、破線は多段法で算出
した窒素濃度勾配の化学分析値である。図19に示す通
り、ここでも発光分光分析値と化学分析値とはよく一致
することが認められ、本発明の実施の形態に係る測定方
法は従来の多段法と同等の検査精度を有することが分か
った。
The solid line in FIG. 19 is the emission spectral analysis value of the nitrogen concentration gradient calculated by the processing of FIG. 4, and the broken line is the chemical analysis value of the nitrogen concentration gradient calculated by the multistage method. As shown in FIG. 19, it is recognized that the emission spectral analysis value and the chemical analysis value also agree well, and that the measurement method according to the embodiment of the present invention has inspection accuracy equivalent to that of the conventional multistage method. Do you get it.

【0137】尚、本発明の実施の形態に係る測定方法で
は、スパーク放電の回数とメッシュ601の数とを同じ
にしたが、スパーク放電が放電範囲205における同一
個所に対して行われる可能性がある。従って、スパーク
放電の回数と作成するメッシュ601の数を夫々幾つに
するかは実験によって定めてもよく、若しくは予め作成
するメッシュ601のを数スパーク放電の回数より少な
く設定してもよい。
In the measuring method according to the embodiment of the present invention, the number of spark discharges and the number of meshes 601 are the same. However, there is a possibility that spark discharge is performed at the same location in discharge range 205. is there. Therefore, the number of spark discharges and the number of meshes 601 to be created may be determined by experiments, or the number of meshes 601 to be created in advance may be set to be smaller than the number of spark discharges.

【0138】また、本発明の実施の形態に係る測定方法
を実行して炭素濃度及び炭素濃度勾配又は窒素濃度及び
窒素濃度勾配を算出する場合について説明したが、本発
明の実施の形態に係る測定方法を実行して炭素層又は窒
化炭素層の膜厚のみを算出してもよく、さらに、鋼製品
300及び上記表3の窒化炭素鋼の他、表面の改質層に
おけるリン、若しくは硫黄の濃度及びリン、若しくは硫
黄の濃度勾配、又はメッキ層におけるクロム、ニッケ
ル、銅等の発光分光分析が可能な元素であり、且つ導電
性のある元素の濃度及びその濃度勾配を同様に算出する
ことができる。
Also, a case has been described in which the measuring method according to the embodiment of the present invention is executed to calculate the carbon concentration and the carbon concentration gradient or the nitrogen concentration and the nitrogen concentration gradient. However, the measuring method according to the embodiment of the present invention is described. The method may be performed to calculate only the film thickness of the carbon layer or the carbon nitride layer. Further, in addition to the steel product 300 and the carbon nitride steel of Table 3 above, the concentration of phosphorus or sulfur in the surface modified layer And the concentration gradient of phosphorus or sulfur, or an element capable of emission spectroscopy analysis of chromium, nickel, copper, etc. in the plating layer, and the concentration of the conductive element and the concentration gradient thereof can be similarly calculated. .

【0139】[0139]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項1記
載の発光分光分析における皮膜の元素濃度及び元素濃度
勾配測定方法によれば、第1の元素を含む層の切断面が
露出するように測定試料が埋め込まれた第2の元素の部
材を有する試験片を準備し、準備された試験片における
層と第2の元素の部材との境界及び層の切断面を含む所
定の範囲に対して所定の回数だけ放電し、所定の範囲を
行列状のメッシュ群で区分し、所定の範囲に対して放電
する度に発生する所定の回数分の第1の元素又は第2の
元素の発光スペクトルを検出し、検出された発光スペク
トルをメッシュ群の各メッシュに割り当て、第1の元素
の発光スペクトルが割り当てられた複数のメッシュの境
界と垂直な方向の最大長さ及び複数のメッシュの各メッ
シュに割り当てられた発光スペクトルに基づいて第1の
元素の濃度及びその濃度勾配を算出するので、第1の元
素の濃度及びその濃度勾配の測定を簡易に行うことがで
き、元素濃度及び元素濃度勾配の分析業務の効率化を計
ることができる。
As described above in detail, according to the method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of the film by the emission spectroscopy according to the first aspect, the cut surface of the layer containing the first element is exposed. Prepare a test piece having a member of the second element in which the measurement sample is embedded in a predetermined range including a cut surface of the layer and a boundary between the layer and the member of the second element in the prepared test piece. Discharges a predetermined number of times, divides a predetermined range into a matrix-like mesh group, and emits a predetermined number of emission spectra of the first element or the second element each time the predetermined range is discharged. Is detected, and the detected emission spectrum is assigned to each mesh of the mesh group. The maximum length in the direction perpendicular to the boundaries of the plurality of meshes to which the emission spectrum of the first element is assigned and each mesh of the plurality of meshes are assigned. Assigned The concentration of the first element and its concentration gradient are calculated based on the emission spectrum obtained, so that the concentration of the first element and its concentration gradient can be easily measured, and the analysis of the element concentration and the element concentration gradient can be performed. Efficiency can be measured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る測定方法を実行する
発光分光分析装置の概略構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an emission spectrometer that executes a measurement method according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の発光分光分析装置100によって実行さ
れる皮膜の炭素濃度勾配算出処理において使用される試
験片の概略構成の例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a test piece used in a carbon concentration gradient calculation process of a film performed by the emission spectrometer 100 of FIG.

【図3】図2における測定試料204の概略構成を示す
図であり、(a)は鋼製品300から浸炭層203を含
む様切り出される測定試料204の切り出し位置を示す
図であり、(b)は測定試料204における浸炭層20
3を示す図である。
3A and 3B are diagrams illustrating a schematic configuration of a measurement sample 204 in FIG. 2; FIG. 3A is a diagram illustrating a cutout position of the measurement sample 204 cut out from a steel product 300 so as to include a carburized layer 203; Is the carburized layer 20 in the measurement sample 204
FIG.

【図4】図1の発光分光分析装置100によって実行さ
れる炭素濃度勾配算出処理のフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart of a carbon concentration gradient calculation process executed by the emission spectrometer 100 of FIG. 1;

【図5】図4のステップS900において使用される検
量線を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a calibration curve used in step S900 of FIG. 4;

【図6】放電範囲205の面積に相当する円状の仮想画
素群600とメモリ上に作成されるメッシュ601との
関係を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between a circular virtual pixel group 600 corresponding to an area of a discharge range 205 and a mesh 601 created on a memory.

【図7】図6の炭素濃度データが割り当てられた前記メ
ッシュ601の群におけるy方向の長さが最大となる配
列700を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an array 700 in which the length in the y direction in the group of the meshes 601 to which the carbon concentration data of FIG.

【図8】図4の処理によって作成される炭素濃度と境界
からの距離との関係を表す炭素濃度勾配グラフを示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing a carbon concentration gradient graph representing the relationship between the carbon concentration and the distance from the boundary created by the processing of FIG. 4;

【図9】図4のステップS900における濃度データ算
出処理のフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart of a density data calculation process in step S900 of FIG. 4;

【図10】図4のステップS1000における濃度デー
タ分別処理のフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart of density data classification processing in step S1000 of FIG.

【図11】図4のステップS1100における炭素濃度
データ整列処理のフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart of a carbon concentration data alignment process in step S1100 of FIG.

【図12】図4のステップS1200におけるメッシュ
作成処理のフローチャートである。
FIG. 12 is a flowchart of a mesh creation process in step S1200 of FIG.

【図13】図4のステップS1300におけるスズ濃度
データ割当行数算出処理のフローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart of a tin concentration data allocation row number calculation process in step S1300 of FIG. 4;

【図14】図4のステップS1400におけるスズ濃度
データ割当処理のフローチャートである。
FIG. 14 is a flowchart of a tin concentration data assignment process in step S1400 of FIG.

【図15】図4のステップS1500における炭素濃度
データ割当処理のフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart of a carbon concentration data allocation process in step S1500 of FIG.

【図16】図4のステップS1600における炭素濃度
勾配グラフ作成処理のフローチャートである。
FIG. 16 is a flowchart of a carbon concentration gradient graph creation process in step S1600 of FIG.

【図17】図4のステップS1600における第n行の
炭素濃度データの平均値を利用する炭素濃度勾配グラフ
作成処理のフローチャートである。
FIG. 17 is a flowchart of a carbon concentration gradient graph creation process using an average value of the carbon concentration data in the n-th row in step S1600 of FIG.

【図18】図4の処理で算出した炭素濃度勾配及び多段
法で算出した炭素濃度勾配を比較する図である。
FIG. 18 is a diagram comparing the carbon concentration gradient calculated by the process of FIG. 4 with the carbon concentration gradient calculated by the multi-stage method.

【図19】図4の処理で算出した窒素濃度勾配及び多段
法で算出した窒素濃度勾配を比較する図である。
FIG. 19 is a diagram comparing the nitrogen concentration gradient calculated by the processing of FIG. 4 with the nitrogen concentration gradient calculated by the multi-stage method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 発光分光分析装置 101 発光部 102 発光スタンド 103 分光部 104 測光部 105 インタフェイス 106 データ処理部 107 データ表示部 108 入口スリット 109 出口スリット 110 遮光板 111 凹面回折格子 112 光電子倍増管 113 油回転ポンプ 114 スパーク放電 200 試験片 201 リング 202 スズ部 203 浸炭層 204 測定試料 205 放電範囲 300 鋼製品 600 仮想画素群 601 メッシュ 700 配列 REFERENCE SIGNS LIST 100 emission spectrometer 101 light emitting unit 102 light emitting stand 103 spectral unit 104 photometry unit 105 interface 106 data processing unit 107 data display unit 108 entrance slit 109 exit slit 110 light shielding plate 111 concave diffraction grating 112 photomultiplier tube 113 oil rotary pump 114 Spark discharge 200 test piece 201 ring 202 tin part 203 carburized layer 204 measurement sample 205 discharge range 300 steel product 600 virtual pixel group 601 mesh 700 array

フロントページの続き Fターム(参考) 2G043 AA01 AA03 BA01 BA07 CA05 CA07 DA01 EA09 GA08 GB21 JA04 LA02 NA01 NA06 NA11 2G055 AA03 AA07 BA16 CA05 CA09 CA10 CA11 CA22 CA29 EA01 EA08 FA02 FA06 Continued on the front page F term (reference) 2G043 AA01 AA03 BA01 BA07 CA05 CA07 DA01 EA09 GA08 GB21 JA04 LA02 NA01 NA06 NA11 2G055 AA03 AA07 BA16 CA05 CA09 CA10 CA11 CA22 CA29 EA01 EA08 FA02 FA06

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の元素を含む層を表面に有する測定
試料の前記第1の元素の濃度及びその濃度勾配を算出す
る発光分光分析における皮膜の元素濃度及び元素濃度勾
配測定方法において、前記層の切断面が露出するように
前記測定試料が埋め込まれた第2の元素の部材を有する
試験片を準備する準備工程と、前記準備された試験片に
おける前記層と前記第2の元素の部材との境界及び前記
層の切断面を含む所定の範囲に対して所定の回数だけ放
電する放電工程と、前記所定の範囲を行列状のメッシュ
群で区分するメッシュ区分工程と、前記所定の範囲に対
して放電する度に発生する前記所定の回数分の前記第1
の元素又は第2の元素の発光スペクトルを検出し、前記
検出された発光スペクトルを前記メッシュ群の各メッシ
ュに割り当てるスペクトル割り当て工程と、前記第1の
元素の発光スペクトルが夫々割り当てられた複数のメッ
シュにおける前記境界と垂直な方向の最大長さ及び前記
複数のメッシュの夫々に割り当てられた発光スペクトル
に基づいて前記第1の元素の濃度及びその濃度勾配を算
出する濃度勾配算出工程とを有することを特徴とする発
光分光分析における皮膜の元素濃度及び元素濃度勾配測
定方法。
1. A method for measuring an element concentration and an element concentration gradient of a film in emission spectroscopy for calculating a concentration of the first element and a concentration gradient of the first element in a measurement sample having a layer containing the first element on a surface thereof. A step of preparing a test piece having a member of the second element in which the measurement sample is embedded so that a cut surface of the layer is exposed; and a step of preparing the layer and the member of the second element in the prepared test piece. A discharge step of discharging a predetermined number of times to a predetermined range including a boundary of the layer and a cut surface of the layer, a mesh dividing step of dividing the predetermined range by a matrix group of meshes, The first predetermined number of times of the first
A spectrum assignment step of detecting an emission spectrum of the element or the second element and assigning the detected emission spectrum to each mesh of the mesh group, and a plurality of meshes to which the emission spectrum of the first element is assigned, respectively. A concentration gradient calculating step of calculating a concentration of the first element and a concentration gradient thereof based on a maximum length in a direction perpendicular to the boundary and an emission spectrum assigned to each of the plurality of meshes. A method for measuring the element concentration and the element concentration gradient of a film in a characteristic emission spectroscopic analysis.
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