JP2002201215A - Polyvinyl acetal resin for heat developing photosensitive material and heat developing photosensitive material - Google Patents

Polyvinyl acetal resin for heat developing photosensitive material and heat developing photosensitive material

Info

Publication number
JP2002201215A
JP2002201215A JP2001012016A JP2001012016A JP2002201215A JP 2002201215 A JP2002201215 A JP 2002201215A JP 2001012016 A JP2001012016 A JP 2001012016A JP 2001012016 A JP2001012016 A JP 2001012016A JP 2002201215 A JP2002201215 A JP 2002201215A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive material
heat
polyvinyl acetal
acetal resin
developable photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001012016A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3670970B2 (en
Inventor
Yoshitaka Miyake
祥隆 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2001012016A priority Critical patent/JP3670970B2/en
Publication of JP2002201215A publication Critical patent/JP2002201215A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3670970B2 publication Critical patent/JP3670970B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyvinyl acetal resin for a heat developing photosensitive material having excellent image properties without causing poor pot life of a coating solution, discoloration of the heat developing photosensitive material, fogging, poor gradation, and poor sensitivity of images, poor storage stability of green films and the like, and a heat developing photosensitive material. SOLUTION: The polyvinyl acetal resin for a heat developing photosensitive material is synthesized by the acetalization reaction of a polyvinyl alcohol with an aldehyde, has a degree of polymerization of 200-3,000, a ratio of the residual acetyl group of 0-25 mol% when an acetal group is counted as two acetalized hydroxy groups, a ratio of the residual hydroxy group of 17-35 mol%, a water content of <=2.5 wt.%, a residual aldehyde content of <=10 ppm and contains no antioxidant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像性感光材料
用ポリビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材料に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyvinyl acetal resin for a photothermographic material and a photothermographic material.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱現像性感光材料は、主に脂肪酸の銀
塩、有機還元剤、場合によっては少量の感光性ハロゲン
化銀を高分子バインダー中に分散して得られる組成物を
支持体上に塗工してなるものである。従来、汎用されて
いるハロゲン化銀は、写真特性が優れていることから高
品質の画像形成材料として利用されているが、現像及び
定着工程における作業が複雑であり、しかも上記の工程
がいずれも湿式処理であるため、煩瑣な処理作業に煩わ
されるだけでなく、多量の化学廃液を排出するという問
題があった。このような問題点を回避するために、現像
工程を湿式方式から熱現像方式で行うべく熱現像性感光
材料が開発され、一部実用に供されるに至っている。
2. Description of the Related Art A heat-developable photosensitive material mainly comprises a composition obtained by dispersing a silver salt of a fatty acid, an organic reducing agent, and, in some cases, a small amount of photosensitive silver halide in a polymer binder, on a support. It is made by coating. Conventionally, silver halide, which has been widely used, has been used as a high quality image forming material because of its excellent photographic properties.However, the work in the development and fixing steps is complicated, and all of the above-mentioned steps are difficult. Since it is a wet process, there is a problem that not only is it troublesome to perform complicated processing operations, but also a large amount of chemical waste liquid is discharged. In order to avoid such problems, a heat developable photosensitive material has been developed so that the development process is performed from a wet process to a heat development process, and some of the materials have been put to practical use.

【0003】例えば、特公昭43−4924号公報に
は、一群になって会合している銀イオンを分子中に有す
る有機銀塩と上記銀イオンに対して触媒的に接触してい
るハロゲン化銀と緩還元剤とからなる熱現像性感光性シ
ート材が開示されている。これらの有機銀塩、ハロゲン
化銀及び緩還元剤からなる感光材が、透明なそれ自体支
持体となるフィルム中若しくは結合剤の殆どない繊維製
品中に入れられて熱現像性感光性シート材が形成される
か、又は、例えば、ポリビニルブチラール、ポリメタク
リル酸メチル、酢酸セルローズ、ポリ酢酸ビニル、酢酸
プロピオン酸セルローズ、酪酸セルローズの如き造膜性
結合剤の塗布層中に入れられて、紙、プラスチックフィ
ルム、金属箔、ガラス板のごとき耐熱性支持体上に塗工
されて熱現像性感光性シート材が形成されることが上記
の公報中に記載され、上記造膜性結合剤として、ポリビ
ニルアセタール樹脂が最適のものとして使用されてい
る。
[0003] For example, Japanese Patent Publication No. 43-4924 discloses an organic silver salt having silver ions associated with each other in a molecule and a silver halide in catalytic contact with the silver ions. And a heat-developable photosensitive sheet material comprising a mild reducing agent. A photosensitive material comprising these organic silver salt, silver halide and a mild reducing agent is placed in a transparent film as a support itself or in a fiber product having almost no binder to form a heat-developable photosensitive sheet material. Paper or plastic, formed or placed in a coating layer of a film-forming binder such as, for example, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, cellulose acetate, polyvinyl acetate, cellulose acetate propionate, cellulose butyrate. It is described in the above-mentioned publication that a heat-developable photosensitive sheet material is formed by coating on a heat-resistant support such as a film, a metal foil, and a glass plate, and polyvinyl acetal is used as the film-forming binder. Resin is used as the optimal one.

【0004】しかしながら、従来のポリビニルアセター
ル樹脂は、製法上、微量の不純物を含んでおり、これら
不純物の影響により、造膜性結合剤自体が感光性を有
し、調製された造膜性結合剤の塗布層を無用に着色させ
たり、塗工後の画像に、かぶり、階調不良、感度不足、
画像形成前の感光性シート材の保存性不良等の欠点を生
じるおそれのあるものであった。また、ポリビニルアセ
タール樹脂のガラス転移温度によっては、熱現像時のフ
ィルムが熱変形を起こしたり、塗工した後の画像に、か
ぶり、階調不良、感度不足、またフィルムの取り扱い時
に割れ等が生じる場合があった。
However, the conventional polyvinyl acetal resin contains a small amount of impurities due to the production method, and the film forming binder itself has photosensitivity due to the influence of these impurities, and the prepared film forming binder is prepared. Unnecessarily colored coating layer, or fog, poor gradation, insufficient sensitivity,
This is likely to cause defects such as poor storage stability of the photosensitive sheet material before image formation. In addition, depending on the glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin, the film undergoes thermal deformation during thermal development, and the coated image has fog, poor gradation, insufficient sensitivity, and cracks during handling of the film. There was a case.

【0005】上記画像の特性を低下させる問題点を解決
する手段として、例えば、特開昭49−52626号公
報には、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び銀塩酸化剤を
含む感熱写真組成物において、銀塩酸化剤として一般式
で表されるチオン化合物を用いることによって、独立し
た安定化剤又は安定化剤プレカーサを存在せしめないで
安定な画像を形成しえることが記載されている。しかし
ながら、銀塩酸化剤として上記チオン化合物を用いるこ
とによって従来のポリビニルブチラールが有する上記の
問題点を解決し得るものではない。
As means for solving the problem of deteriorating the image characteristics, for example, JP-A-49-52626 discloses a thermosensitive photographic composition containing a photosensitive silver halide, a reducing agent and a silver salt oxidizing agent. Discloses that a stable image can be formed without using an independent stabilizer or a stabilizer precursor by using a thione compound represented by the general formula as a silver salt oxidizing agent. However, the use of the above-mentioned thione compound as a silver salt oxidizing agent cannot solve the above-mentioned problems of conventional polyvinyl butyral.

【0006】また、画像特性を向上させるために、脂肪
酸の銀塩、有機還元剤、感光性ハロゲン化銀等をより均
一に分散させることが必要とされているが、分散性を重
視するために重合度の低いポリビニルアセタール樹脂を
使用すると、得られた塗膜の強度が弱くなり、かぶり等
の問題が発生し、逆に塗膜強度を満足させるために重合
度の高いポリビニルアセタール樹脂を使用すると脂肪酸
の銀塩、有機還元剤、感光性ハロゲン化銀を均一に分散
させることが難しくなる。更に、熱現像性感光材料のう
ち熱現像性銀塩フィルムは、従来の湿式のゼラチンを使
用したX線感光フィルムに比べて、画像特性、特に画像
濃度、階調部の鮮明度が劣り、熱現像性銀塩フィルムの
これら画像特性の向上が強く求められており、そのため
には、加熱時の銀の核成長を厳しくコントロールする必
要がある。
Further, in order to improve image characteristics, it is necessary to disperse silver salt of fatty acid, organic reducing agent, photosensitive silver halide and the like more uniformly. When a polyvinyl acetal resin having a low degree of polymerization is used, the strength of the obtained coating film is weakened, problems such as fogging occur, and conversely, when a polyvinyl acetal resin having a high degree of polymerization is used to satisfy the coating film strength. It becomes difficult to uniformly disperse the silver salt of the fatty acid, the organic reducing agent, and the photosensitive silver halide. Further, among the heat-developable photosensitive materials, the heat-developable silver salt film is inferior in the image characteristics, particularly the image density and the sharpness of the gradation portion, to be inferior to the conventional X-ray sensitized film using the wet gelatin, and has a poor thermal property. There is a strong demand for improvement of these image characteristics of developable silver salt films, and for that purpose, it is necessary to strictly control silver nucleus growth during heating.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、塗工溶液のポットライフ、熱現像性感光材料の着色
や、かぶり、階調不良、感度不足、フィルムの生保存性
不良等の発生のない優れた画像特性を有する熱現像性感
光材料用ポリビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材
料を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, the present invention has been developed in view of the pot life of a coating solution, coloring and fogging of a heat developable photosensitive material, poor gradation, insufficient sensitivity, poor raw storage stability of a film, and the like. An object of the present invention is to provide a polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material and a heat developable photosensitive material having excellent image characteristics without generation.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリビニルア
ルコールとアルデヒドとのアセタール化反応により合成
されるポリビニルアセタール樹脂であって、重合度が2
00〜3000であり、アセタール基をアセタール化さ
れた2つの水酸基として数えた場合、残存アセチル基の
割合が0〜25モル%であり、残存水酸基の割合が17
〜35モル%であり、水分量が2.5重量%以下であ
り、残存アルデヒド含有量が10ppm以下であり、酸
化防止剤を含有しない熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂である。以下に本発明を詳述する。
The present invention relates to a polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and an aldehyde, the resin having a degree of polymerization of 2 or less.
When the number of acetal groups is counted as two acetalized hydroxyl groups, the ratio of residual acetyl groups is 0 to 25 mol%, and the ratio of residual hydroxyl groups is 17 to 25 mol%.
It is a polyvinyl acetal resin for a photothermographic material which does not contain an antioxidant and has a water content of 2.5% by weight or less, a residual aldehyde content of 10 ppm or less. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0009】本発明者は、ポリビニルアセタール樹脂を
用いる熱現像性感光材料の着色や、塗工後の画像に、か
ぶり、階調不良、感度不足等が発生する原因について鋭
意研究し、ポリビニルアセタール樹脂の構造や製造時に
夾雑する微量の不純物がその原因であること等を突き止
め、本発明を完成するに至った。第1の本発明の熱現像
性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニル
アルコールとアルデヒドとのアセタール化反応により合
成される。
The present inventors have conducted intensive studies on the coloring of a heat developable photosensitive material using a polyvinyl acetal resin, and on the causes of fogging, poor gradation, insufficient sensitivity, etc. on an image after coating. The inventors of the present invention have found out the structure and the fact that trace impurities contaminating during the production are the causes, and have completed the present invention. The polyvinyl acetal resin for a photothermographic material according to the first aspect of the present invention is synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and an aldehyde.

【0010】上記アセタール化反応としては特に限定さ
れず、例えば、水溶液、アルコール溶液、水/アルコー
ル混合溶液、ジメチルスルホキシド(DMSO)溶液等
の溶液中で、酸触媒を用いて行われる。上記ポリビニル
アルコールには、ケン化前のポリ酢酸ビニルも含まれ
る。
The above acetalization reaction is not particularly limited, and is carried out in a solution such as an aqueous solution, an alcohol solution, a mixed solution of water / alcohol, and a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution using an acid catalyst. The polyvinyl alcohol also includes polyvinyl acetate before saponification.

【0011】上記アルデヒドとしては特に限定されず、
例えば、ホルムアルデヒド(パラホルムアルデヒドを含
む)、アセトアルデヒド(パラアセトアルデヒドを含
む)、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミ
ルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒ
ド、2−エチルヘキシルアルデヒド、シクロヘキシルア
ルデヒド、フルフラール、グリオキザール、グルタルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、2−メチルベンズアルデ
ヒド、3−メチルベンズアルデヒド、4−メチルベンズ
アルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、β−フェニルプロピオンアルデヒド等が挙げられ
る。これらのアルデヒドは、単独で用いられてもよく、
2種以上が併用されてもよい。中でも、アセトアルデヒ
ドやブチルアルデヒドが好適に用いられる。
The aldehyde is not particularly limited,
For example, formaldehyde (including paraformaldehyde), acetaldehyde (including paraacetaldehyde), propionaldehyde, butyraldehyde, amylaldehyde, hexylaldehyde, heptylaldehyde, 2-ethylhexylaldehyde, cyclohexylaldehyde, furfural, glyoxal, glutaraldehyde, benzaldehyde, Examples thereof include 2-methylbenzaldehyde, 3-methylbenzaldehyde, 4-methylbenzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, m-hydroxybenzaldehyde, phenylacetaldehyde, and β-phenylpropionaldehyde. These aldehydes may be used alone,
Two or more kinds may be used in combination. Among them, acetaldehyde and butyraldehyde are preferably used.

【0012】上記酸触媒としては特に限定されず、例え
ば、酢酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸類;硝
酸、硫酸、塩酸等の無機酸類等が挙げられる。また、上
記アセタール化反応の停止剤としては特に限定されず、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニ
ア、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ中和剤;エチレンオキ
サイド等のアルキレンオキサイド類;エチレングリコー
ルジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類が挙
げられる。
The acid catalyst is not particularly limited, and includes, for example, organic acids such as acetic acid and p-toluenesulfonic acid; and inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid and hydrochloric acid. Further, the terminator for the acetalization reaction is not particularly limited,
For example, alkali neutralizers such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, sodium acetate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate; alkylene oxides such as ethylene oxide; glycidyl ethers such as ethylene glycol diglycidyl ether; No.

【0013】第1の本発明の熱現像性感光材料用ポリビ
ニルアセタール樹脂の重合度は200〜3000であ
る。200未満であると、得られる熱現像性感光材料の
塗膜強度が充分でなく、塗膜を曲げた際にクラック等が
入ることがあり、3000を超えると、熱現像性感光材
料に添加される銀塩の分散性が低下し、これらの熱現像
性感光材料成分を混合した熱現像性感光材料の塗工性が
低下することがあるので、これら熱現像性感光材料の諸
特性をバランスよく付与するために、上記範囲に限定さ
れる。
The polymerization degree of the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the first invention is from 200 to 3,000. If it is less than 200, the resulting photothermographic material will not have sufficient coating strength and cracks or the like may be formed when the coating is bent. If it exceeds 3000, it may be added to the photothermographic material. In some cases, the dispersibility of the silver salt is reduced, and the coating properties of the heat-developable photosensitive material obtained by mixing these components are reduced. To give, it is limited to the above range.

【0014】第2の本発明は、低分子量のポリビニルア
セタール樹脂と高分子量のポリビニルアセタール樹脂と
が混合されている熱現像性感光材料用ポリビニルアセタ
ール樹脂であって、少なくとも、重合度が300以上異
なる2種類のポリビニルアセタール樹脂を含有する熱現
像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂である。第2
の本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹
脂は、少なくとも、重合度が300以上異なる2種類の
ポリビニルアセタール樹脂を含有していればよく、更
に、他のポリビニルアセタール樹脂を含有していてもよ
い。
A second aspect of the present invention is a polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material in which a low molecular weight polyvinyl acetal resin and a high molecular weight polyvinyl acetal resin are mixed, wherein the degree of polymerization differs by at least 300 or more. It is a polyvinyl acetal resin for photothermographic materials containing two types of polyvinyl acetal resins. Second
The polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material of the present invention, at least, it is sufficient that the degree of polymerization contains at least two types of polyvinyl acetal resins differing by 300 or more, furthermore, may contain other polyvinyl acetal resin Good.

【0015】第2の本発明の熱現像性感光材料用ポリビ
ニルアセタール樹脂は、重合度が300以上異なる2種
類以上のポリビニルアセタール樹脂が混合されてなるも
のであってもよく、重合度が300以上異なる2種類以
上のポリビニルアルコールが混合された混合ポリビニル
アルコールがアセタール化されてなるものであってもよ
い。混合される2種類以上のポリビニルアセタール樹脂
又はポリビニルアルコールの重合度の差が300未満で
あると、熱現像性感光材料に添加される脂肪酸の銀塩や
感光性ハロゲン化銀の分散性が悪くなったり、塗膜の強
度が弱くなったりすることにより画像特性にカブリが発
生したり、階調が悪くなることがある。
The polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to the second aspect of the present invention may be a mixture of two or more kinds of polyvinyl acetal resins having different degrees of polymerization of 300 or more. A mixed polyvinyl alcohol obtained by mixing two or more different types of polyvinyl alcohols may be acetalized. If the difference in the degree of polymerization of the two or more kinds of polyvinyl acetal resins or polyvinyl alcohols to be mixed is less than 300, the dispersibility of the silver salt of a fatty acid and the photosensitive silver halide added to the heat developable photosensitive material becomes poor. In addition, fogging may occur in image characteristics or gradation may be deteriorated due to weakening of the strength of the coating film.

【0016】本明細書において、第2の本発明の熱現像
性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂の、重合度、残
存アセチル基の割合、及び、残存水酸基の割合は、それ
ぞれ見掛け上の値、即ち、単一の組成からなるものであ
ると見なした場合の値を意味し、例えば、2種類のポリ
ビニルアセタール樹脂A及びBからなる場合は、下記式
で表されるものである。 (A1+B1)logX=A1・logA2+B1・l
ogB2 X:ブレンドされたポリビニルアセタール樹脂の見掛け
上の重合度(見掛け上の残存水酸基量、見掛け上の残存
アセチル基量) A1:ポリビニルアセタール樹脂Aの重量 A2:ポリビニルアセタール樹脂Aの重合度(残存水酸
基量、残存アセチル基量) B1:ポリビニルアセタール樹脂Bの重量 B2:ポリビニルアセタール樹脂Bの重合度(残存水酸
基量、残存アセチル基量)
In the present specification, the degree of polymerization, the ratio of residual acetyl groups, and the ratio of residual hydroxyl groups of the polyvinyl acetal resin for a photothermographic material of the second invention are apparent values, that is, It means a value when it is considered to be composed of a single composition. For example, when it is composed of two types of polyvinyl acetal resins A and B, it is represented by the following formula. (A1 + B1) logX = A1 · logA2 + B1 · l
ogB2 X: Apparent polymerization degree of blended polyvinyl acetal resin (apparent residual hydroxyl group amount, apparent residual acetyl group amount) A1: Weight of polyvinyl acetal resin A A2: Degree of polymerization of polyvinyl acetal resin A (remaining) B1: Weight of polyvinyl acetal resin B B2: Degree of polymerization of polyvinyl acetal resin B (residual hydroxyl group, residual acetyl group)

【0017】第2の本発明の熱現像性感光材料用ポリビ
ニルアセタール樹脂の重合度は200〜1000であ
る。200未満であると、得られる塗膜強度が低くな
り、塗膜を曲げた際にクラック等が入ることがあり、1
000を超えると、脂肪酸の銀塩、感光性ハロゲン化銀
の分散性が悪くなることがあり、画像特性にカブリが発
生したり、階調が悪くなることがある。混合されるポリ
ビニルアセタール樹脂、又は、ポリビニルアルコールの
重合度としては特に限定されないが、重合度が200〜
3000のものが好ましい。
The degree of polymerization of the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to the second invention is from 200 to 1,000. When it is less than 200, the strength of the obtained coating film is low, and when the coating film is bent, cracks or the like may be caused.
If it exceeds 000, the dispersibility of the silver salt of a fatty acid and the photosensitive silver halide may be deteriorated, and fog may occur in image characteristics and gradation may be deteriorated. The polyvinyl acetal resin to be mixed, or the degree of polymerization of polyvinyl alcohol is not particularly limited, the degree of polymerization is 200 ~
3000 is preferred.

【0018】第2の本発明において、アセタール化反応
に用いられるアルデヒド、酸触媒や停止剤としては、第
1の本発明で用いられるものと同様のものが挙げられ
る。通常、アセタール化反応においては、反応系のアル
デヒドの酸化防止のため、又は、生成されたポリビニル
アセタール樹脂の酸化防止及び耐熱性の向上のために、
例えば、ヒンダードフェノール系、ビスフェノール系、
リン酸系等の酸化防止剤が反応系及び/又は生成系に添
加されるが、本発明においては酸化防止剤は使用され
ず、本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール
樹脂は酸化防止剤を含有しないものである。酸化防止剤
は、却って熱現像性感光材料の塗工溶液のポットライフ
を低下させ、塗工後の画像にかぶりが生じたり、階調部
の鮮明性を損うことがある。
In the second invention, the aldehyde, acid catalyst and terminator used in the acetalization reaction are the same as those used in the first invention. Usually, in the acetalization reaction, in order to prevent oxidation of the aldehyde of the reaction system, or to prevent oxidation of the generated polyvinyl acetal resin and improve heat resistance,
For example, hindered phenol, bisphenol,
Although an antioxidant such as a phosphoric acid type is added to the reaction system and / or the production system, the antioxidant is not used in the present invention, and the polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material of the present invention is an antioxidant. Is not contained. The antioxidant may rather reduce the pot life of the coating solution of the heat-developable photosensitive material, cause a fogged image after coating, or impair the sharpness of the gradation portion.

【0019】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂は特定のアセタール化度を有するものであ
る。本明細書において、アセタール化度は、ポリビニル
アセタール樹脂のアセタール基は2つの水酸基がアセタ
ール化されて形成されていることから、アセタール化さ
れた2つの水酸基として数える方法で計算される。
The polyvinyl acetal resin for a photothermographic material of the present invention has a specific acetalization degree. In the present specification, the degree of acetalization is calculated by a method of counting as two acetalized hydroxyl groups since the acetal group of the polyvinyl acetal resin is formed by acetalization of two hydroxyl groups.

【0020】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂の残存アセチル基の割合は0〜25モル%
である。25モル%を超えると、得られる熱現像性感光
材料フィルム同士のブロッキングが起き易くなり、ま
た、画像が鮮明でなくなるので上記範囲に限定される。
好ましくは0〜15モル%である。
The proportion of residual acetyl groups in the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the present invention is 0 to 25 mol%.
It is. If it exceeds 25 mol%, the resulting heat-developable photosensitive material films are likely to be blocked with each other, and the image is not clear, so that the content is limited to the above range.
Preferably it is 0 to 15 mol%.

【0021】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂の残存水酸基の割合は17〜35モル%で
ある。35モル%を超えると、熱現像性感光材料に添加
される銀塩の分散性が低下し、甚だしい場合は、上記銀
塩が凝集し、得られる熱現像性感光材料の感度が低下
し、また、得られる熱現像性感光材料が水分を吸着し易
くなり、熱現像性感光材料(塗工溶液)のポットライフ
が低下する。一方、17モル%未満であると、上記銀塩
の分散性が低下し、得られる熱現像性感光材料の感度が
低下するので上記範囲に限定される。好ましくは19〜
30モル%である。
The proportion of residual hydroxyl groups in the polyvinyl acetal resin for a photothermographic material of the present invention is 17 to 35 mol%. If it exceeds 35 mol%, the dispersibility of the silver salt added to the heat-developable photosensitive material decreases, and in extreme cases, the silver salt aggregates, and the sensitivity of the resulting heat-developable light-sensitive material decreases. The resulting heat-developable photosensitive material easily absorbs moisture, and the pot life of the heat-developable photosensitive material (coating solution) is reduced. On the other hand, if it is less than 17 mol%, the dispersibility of the silver salt is reduced, and the sensitivity of the resulting heat-developable photosensitive material is reduced. Preferably 19-
30 mol%.

【0022】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂の水分量は2.5重量%以下である。2.
5重量%を超えると、熱現像性感光材料(塗工溶液)の
ポットライフが低下し、更には、得られる熱現像性感光
材料塗膜を強化するために添加されるイソシアネート基
を含有する化合物等の架橋剤と反応し、所望の架橋によ
る塗膜の強化が不充分となったり、甚だしい場合には不
能になったりし、また、残存水分を除去するために架橋
剤の添加量を増やすと、かぶりの原因になる等、取扱性
が極めて悪くなるので、上記範囲に限定される。好まし
くは2.0重量%以下である。残存する水分量を2.5
重量%以下にする方法としては、水、水/アルコールの
混合溶液等による洗浄操作の後、熱風等による乾燥によ
り規定の量以下にまで水分を除去する方法等が挙げられ
る。
The water content of the polyvinyl acetal resin for a photothermographic material of the present invention is 2.5% by weight or less. 2.
When the amount exceeds 5% by weight, the pot life of the heat-developable photosensitive material (coating solution) decreases, and further, a compound containing an isocyanate group added to strengthen the resulting heat-developable photosensitive material coating film Reacts with a crosslinking agent such as, and strengthening of the coating film by the desired crosslinking becomes insufficient, or becomes impossible in severe cases, and when the added amount of the crosslinking agent is increased in order to remove residual moisture, Since the handling property becomes extremely poor, such as causing fogging, it is limited to the above range. Preferably it is 2.0% by weight or less. 2.5 remaining moisture
Examples of the method for reducing the content to less than the weight percent include a method of removing water to a specified amount or less by a washing operation using water, a mixed solution of water / alcohol, or the like, followed by drying with hot air or the like.

【0023】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂の残存アルデヒド含有量は10ppm以下
である。10ppmを超えると、熱現像性感光材料(塗
工溶液)のポットライフが低下し、塗工溶液中に含まれ
る還元剤によりアルデヒドが還元され、塗工溶液の保存
性が低下し、更には、かぶりの発生により画像特性が低
下するので、上記範囲に限定される。これらの現象は、
熱現像性感光材料(塗工溶液)中に夾雑する残存アルデ
ヒドが、還元剤で還元されることに起因するものと考え
られる。残存アルデヒド含有量は、好ましくは5ppm
以下である。上記ポリビニルアセタール樹脂に夾雑する
残存アルデヒドの除去手段としては特に限定されず、例
えば、水、水/アルコール混合溶液等により洗浄する方
法が挙げられる。
The residual aldehyde content of the polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material of the present invention is 10 ppm or less. If it exceeds 10 ppm, the pot life of the heat-developable photosensitive material (coating solution) is reduced, the aldehyde is reduced by a reducing agent contained in the coating solution, and the preservability of the coating solution is reduced. Since the image characteristics are degraded due to the occurrence of fog, it is limited to the above range. These phenomena are
It is considered that the residual aldehyde contaminated in the heat developable photosensitive material (coating solution) is reduced by a reducing agent. The residual aldehyde content is preferably 5 ppm
It is as follows. The means for removing the residual aldehyde contaminating the polyvinyl acetal resin is not particularly limited, and examples thereof include a method of washing with water, a mixed solution of water / alcohol, and the like.

【0024】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂のガラス転移温度は、55〜110℃であ
ることが好ましい。110℃を超えると、得られる塗膜
が硬くなり過ぎて取り扱い時に折り目や割れが発生した
り、熱現像性感光材料フィルムの画像にかぶり、階調不
足、感度不足が生じたりすることがあり、55℃未満で
あると、塗膜が柔らかくなり熱現像時の熱により熱変形
したり、取り扱い時に塗膜表面に傷が付いて、その傷が
原因となってカブリ等が発生することがある。より好ま
しくは55〜100℃である。
The polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the present invention preferably has a glass transition temperature of 55 to 110 ° C. If it exceeds 110 ° C., the resulting coating film will be too hard, causing folds and cracks during handling, fogging on the image of the heat-developable photosensitive material film, insufficient gradation, and insufficient sensitivity. If the temperature is lower than 55 ° C., the coating film becomes soft and may be thermally deformed by heat during thermal development, or the surface of the coating film may be damaged during handling, causing fog or the like due to the scratch. The temperature is more preferably 55 to 100 ° C.

【0025】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂を用いて熱現像性感光材料を製造すること
ができる。上記熱現像性感光材料は、本発明の熱現像性
感光材料用ポリビニルアセタール樹脂と、有機銀塩、還
元剤、必要に応じて少量の感光性ハロゲン化銀又はハロ
ゲン化銀形成成分、架橋剤、その他の添加剤とを配合し
てなるものである。上記熱現像性感光材料における本発
明の熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂の配
合量は、有機銀塩に対して重量比(ポリビニルアセター
ル樹脂:有機銀塩)で、好ましくは1:10〜10:1
であり、より好ましくは1:5〜5:1である。
A heat-developable photosensitive material can be produced using the polyvinyl acetal resin for a heat-developable light-sensitive material of the present invention. The photothermographic material is a polyvinyl acetal resin for the photothermographic material of the present invention, an organic silver salt, a reducing agent, a small amount of a photosensitive silver halide or a silver halide forming component, if necessary, a crosslinking agent, It is obtained by blending with other additives. The blending amount of the polyvinyl acetal resin for a heat developable light-sensitive material of the present invention in the above heat developable light-sensitive material is preferably a weight ratio to the organic silver salt (polyvinyl acetal resin: organic silver salt), preferably 1:10 to 10:10. : 1
And more preferably 1: 5 to 5: 1.

【0026】上記有機銀塩は、光に比較的安定な無色又
は白色の銀塩であり、感光したハロゲン化銀の存在下で
80℃以上に加熱された時に、還元剤と反応して金属銀
となるものである。上記有機銀塩としては、例えば、3
−メルカプト−4−フェニル−1,2,4−トリアゾー
ル、2−メルカプト−5−アミノチアゾール、1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラチアゾール、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、メルカプトオキサジアゾール、メ
ルカプトトリアジン等のメルカプタン類の銀塩;チオア
ミド、チオピリジン、S−2−アミノフェニルチオ硫酸
等のチオン化合物の銀塩;脂肪族カルボン酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘン酸、マレイン酸、フマル酸、酒石酸、フ
ロイン酸、リノール酸、オレイン酸、ヒドロキシステア
リン酸、アジピン酸、セバシン酸、こはく酸、酢酸、酪
酸、樟脳酸、ジチオ酢酸等のジチオカルボン酸、チオグ
リコール酸、芳香族カルボン酸、チオンカルボン酸、チ
オエーテル基を有する脂肪族カルボン酸等の有機カルボ
ン酸等の銀塩;2−メルカプトベンツイミダゾール等の
イミダゾール類の銀塩;ベンゾトリアゾール等のトリア
ゾール類の銀塩;テトラザインデンの銀塩;含銀金属ア
ミノアルコール、有機酸銀キレート化合物等が挙げられ
る。これらの有機銀塩のうち、脂肪族カルボン酸類の銀
塩が好ましく、ベヘン酸銀がより好適に用いられる。上
記有機銀塩の粒径は、好ましくは0.01〜10μm、
より好ましくは0.1〜5μmである。
The above-mentioned organic silver salt is a colorless or white silver salt which is relatively stable to light. When heated to 80 ° C. or more in the presence of a photosensitive silver halide, it reacts with a reducing agent to react with metallic silver. It is what becomes. Examples of the organic silver salt include 3
Mercaptans such as -mercapto-4-phenyl-1,2,4-triazole, 2-mercapto-5-aminothiazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrathiazole, 2-mercaptobenzothiazole, mercaptooxadiazole and mercaptotriazine Silver salts of thioamides such as thioamide, thiopyridine, S-2-aminophenylthiosulfate; aliphatic carboxylic acids, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, and maleic acid Dithiocarboxylic acid, thioglycolic acid, aromatic carboxylic acid, such as fumaric acid, tartaric acid, froinic acid, linoleic acid, oleic acid, hydroxystearic acid, adipic acid, sebacic acid, succinic acid, acetic acid, butyric acid, camphoric acid, dithioacetic acid Has acid, thione carboxylic acid and thioether groups Silver salts of organic carboxylic acids such as aliphatic carboxylic acids, etc .; silver salts of imidazoles such as 2-mercaptobenzimidazole; silver salts of triazoles such as benzotriazole; silver salts of tetrazaindene; silver-containing metal amino alcohols And organic acid silver chelate compounds. Among these organic silver salts, silver salts of aliphatic carboxylic acids are preferable, and silver behenate is more preferably used. The particle size of the organic silver salt is preferably 0.01 to 10 μm,
More preferably, it is 0.1 to 5 μm.

【0027】上記有機銀塩に対して、感光性ハロゲン化
銀が触媒的に接触してもよい。上記感光性ハロゲン化銀
を接触させる手段としては特に限定されず、例えば、予
め調製された有機銀塩の溶液若しくは分散液、又は、有
機銀塩を含むフィルムに、感光性ハロゲン化銀形成成分
を作用させて有機銀塩の一部をハロゲン化銀にする方法
等が挙げられる。
The above-mentioned organic silver salt may be brought into catalytic contact with a photosensitive silver halide. The means for contacting the photosensitive silver halide is not particularly limited.For example, a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance, or a film containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide forming component is added. A method in which a part of the organic silver salt is converted to silver halide by the action of the organic silver salt.

【0028】上記感光性ハロゲン化銀形成成分として
は、有機銀塩に作用してハロゲン化銀を形成するもので
あれば特に限定されるものではないが、ヨウ素イオンを
含むことが好ましい。上記ハロゲン化銀としては、例え
ば、臭化銀、ヨウ化銀、塩化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化
銀、塩ヨウ化銀等が挙げられる。上記感光性ハロゲン化
銀の添加量は、有機銀塩100重量部に対して、好まし
くは0.0005〜0.2重量部であり、より好ましく
は0.01〜0.2重量部である。
The photosensitive silver halide forming component is not particularly limited as long as it acts on an organic silver salt to form silver halide, but preferably contains iodide ions. Examples of the silver halide include silver bromide, silver iodide, silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, silver chloroiodide and the like. The amount of the photosensitive silver halide to be added is preferably 0.0005 to 0.2 part by weight, more preferably 0.01 to 0.2 part by weight, based on 100 parts by weight of the organic silver salt.

【0029】上記還元剤としては特に限定されず、用い
られる有機銀塩の種類等に応じて適宜選択されればよい
が、例えば、置換フェノール類、ビスフェノール類、ナ
フトール類、ビスナフトール類、ポリヒドロキシベンゼ
ン類、ジ又はポリヒドロキシナフトール類、ジ又はポリ
ヒドロキシナフタレン類、ハイドロキノン類、ハイドロ
キノンモノエーテル類、アスコルビン酸又はその誘導
体、還元性糖類、芳香族アミノ化合物、ヒドロキシアミ
ン類、ヒドラジン類、フェニドン類、ヒンダードフェノ
ール類等が挙げられる。中でも、光分解性の還元剤が好
適に用いられるが、熱分解性の還元剤も同様に好まし
い。より好ましくは、ヒンダードフェノール類である。
上記還元剤の添加量は、有機銀塩100重量部に対し
て、好ましくは0.0001〜3.0重量部、より好ま
しくは0.01〜1.0重量部である。更には、光分解
性の還元剤に光分解促進剤を併用したり、有機銀塩と還
元剤との反応を阻害するための被覆が施されたもの等の
使用によって、上記の各反応を制御することができる。
The reducing agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the kind of the organic silver salt used. Examples thereof include substituted phenols, bisphenols, naphthols, bisnaphthols, polyhydroxy Benzenes, di- or polyhydroxynaphthols, di- or polyhydroxynaphthalenes, hydroquinones, hydroquinone monoethers, ascorbic acid or derivatives thereof, reducing sugars, aromatic amino compounds, hydroxyamines, hydrazines, phenidones, Hindered phenols and the like. Among them, a photodecomposable reducing agent is suitably used, and a thermally decomposable reducing agent is also preferable. More preferably, they are hindered phenols.
The amount of the reducing agent to be added is preferably 0.0001 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.01 to 1.0 part by weight, based on 100 parts by weight of the organic silver salt. Furthermore, each of the above-mentioned reactions is controlled by using a photodegradable reducing agent in combination with a photodegradation accelerator, or by using a coating provided to inhibit the reaction between the organic silver salt and the reducing agent. can do.

【0030】本発明の熱現像性感光材料の製造方法とし
ては特に限定されず、例えば、本発明の熱現像性感光材
料用ポリビニルアセタール樹脂、有機銀塩、還元剤及び
溶剤をボールミルで混合・分散した後、ハロゲン化銀又
はハロゲン化銀形成成分、その他必要に応じて添加剤を
加え、更に分散し分散液を調製する方法等が挙げられ
る。
The method for producing the photothermographic material of the present invention is not particularly limited. For example, a polyvinyl acetal resin for a photothermographic material of the present invention, an organic silver salt, a reducing agent and a solvent are mixed and dispersed in a ball mill. After that, a method of adding a silver halide or a silver halide forming component, and other additives as necessary, and further dispersing to prepare a dispersion liquid may be mentioned.

【0031】上記溶剤としては、本発明の熱現像性感光
材料用ポリビニルアセタール樹脂を溶解することがで
き、更に、含有水分量が少ないものが好適に用いられ
る。これらの溶剤としては、例えば、ジエチルケトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステ
ル類等が挙げられる。
As the above-mentioned solvent, those which can dissolve the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the present invention and have a small water content are preferably used. These solvents include, for example, diethyl ketone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate;

【0032】次いで、得られた分散液を、有機銀塩が所
定の量となるように支持体上に塗布し、溶剤を蒸発させ
ることにより、熱現像性感光材料の塗膜が得られる。上
記熱現像性感光材料の塗膜は、上述のように本発明の熱
現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂、有機銀塩
及び還元剤を一括して配合し、支持体上に一層の熱現像
性感光材料の塗膜として形成されてもよいが、有機銀塩
と還元剤とを別々に本発明の熱現像性感光材料用ポリビ
ニルアセタール樹脂に添加し、2層の塗膜を形成し、然
る後両者を積層してもよい。また、支持体の片面のみに
塗膜が形成されてもよく、支持体の両面に塗膜が形成さ
れてもよい。
Next, the resulting dispersion is applied on a support so that the organic silver salt is in a predetermined amount, and the solvent is evaporated, whereby a coating film of a heat-developable photosensitive material is obtained. As described above, the coating film of the heat developable photosensitive material is prepared by blending the polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material of the present invention, an organic silver salt and a reducing agent all at once, and forming a layer of the heat developable photosensitive material on a support. Although it may be formed as a coating film of an optical material, an organic silver salt and a reducing agent are separately added to the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the present invention to form a two-layer coating film. Later, both may be laminated. Further, a coating film may be formed on only one surface of the support, or a coating film may be formed on both surfaces of the support.

【0033】上記支持体としては特に限定されず、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類;ポリビニルアセタール、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート等の
セルロースエステル類;ニトロセルロース、塩化ビニル
樹脂、塩素化ポリプロピレン等からなるプラスチックフ
ィルム、ガラス、紙、アルミニウム等からなる金属板等
が挙げられる。
The support is not particularly restricted but includes, for example, polyolefins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethylene and polypropylene; cellulose esters such as polyvinyl acetal, cellulose diacetate and cellulose triacetate; Examples include plastic films made of vinyl chloride resin, chlorinated polypropylene and the like, glass, paper, metal plates made of aluminum and the like.

【0034】上記熱現像性感光材料の塗膜中の銀の分散
量は、好ましくは0.1〜5.0g/mである。0.
1g/m未満であると、画像濃度が低下し、一定量を
超えて濃度を高めても画像濃度は飽和し、それ以上の向
上は認められず、一方、5.0g/mを超えて使用し
ても画像濃度の向上はみられない。より好ましくは0.
3〜3.0g/mである。このような熱現像性感光材
料もまた、本発明の1つである。本発明の熱現像性感光
材料を用いて、画像を形成する場合には、添加剤とし
て、色調剤が添加される。黒色画像を形成させるために
は、黒色色調剤が添加され、カラー画像を形成させるた
めには、カラーカプラー、ロイコ染料等が添加される。
更に、必要に応じてこれらの熱現像性感光材料に光増感
剤が添加されてもよい。
The amount of silver dispersed in the coating film of the heat developable photosensitive material is preferably from 0.1 to 5.0 g / m 2 . 0.
If it is less than 1 g / m 2 , the image density will decrease, and even if the density is increased beyond a certain amount, the image density will be saturated and no further improvement will be observed, while on the other hand it will exceed 5.0 g / m 2 . No improvement in image density is seen even when used. More preferably, 0.
It is a 3~3.0g / m 2. Such a heat developable photosensitive material is also one of the present invention. When an image is formed using the heat developable photosensitive material of the present invention, a color tone agent is added as an additive. To form a black image, a black toning agent is added, and to form a color image, a color coupler, a leuco dye and the like are added.
Further, if necessary, a photosensitizer may be added to these heat-developable photosensitive materials.

【0035】[0035]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0036】(実施例1) <ポリビニルアセタール樹脂の調製>重合度500、ケ
ン化度98モル%のポリビニルアルコール100gを7
00gの蒸留水に加熱溶解した後、20℃に保ち、これ
に35重量%塩酸29gを添加し、更にブチルアルデヒ
ド64gを加えた。アセタール化樹脂が析出し始めた
後、30分間この状態に保持し、その後、上記塩酸10
8gを追加して添加し、30℃に昇温して10時間反応
させた。反応終了後、固形分(樹脂)を蒸留水にて洗浄
し、水洗後の樹脂を蒸留水に再分散させ、得られた分散
液に水酸化ナトリウムを添加し、液のpHを7に調整し
た。この液を50℃に昇温し、10時間この状態に保持
した後、常温まで冷却した。再加温洗浄された樹脂を、
固形分に対し100倍量の蒸留水で水洗した。更に、水
洗された樹脂を蒸留水に再分散させ、50℃で5時間保
持した後、更に100倍量の蒸留水で水洗し、脱水した
後、乾燥してポリビニルアセタール樹脂を作製した。な
お、得られたポリビニルアセタール樹脂のガラス転移温
度は60℃であった。
(Example 1) <Preparation of polyvinyl acetal resin> 100 g of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 500 and a saponification degree of 98 mol% was added to 7
After heating and dissolving in 00 g of distilled water, the temperature was maintained at 20 ° C., and 29 g of 35% by weight hydrochloric acid was added thereto, followed by 64 g of butyraldehyde. After the acetalized resin starts to precipitate, it is kept in this state for 30 minutes.
An additional 8 g was added, the temperature was raised to 30 ° C., and the reaction was performed for 10 hours. After completion of the reaction, the solid content (resin) was washed with distilled water, the resin after the water washing was redispersed in distilled water, and sodium hydroxide was added to the obtained dispersion to adjust the pH of the solution to 7. . This liquid was heated to 50 ° C., kept in this state for 10 hours, and then cooled to room temperature. Reheated and washed resin,
The solid was washed with 100 times the volume of distilled water. Further, the washed resin was redispersed in distilled water, kept at 50 ° C. for 5 hours, further washed with 100 times the amount of distilled water, dehydrated, and dried to prepare a polyvinyl acetal resin. In addition, the glass transition temperature of the obtained polyvinyl acetal resin was 60 ° C.

【0037】得られたポリビニルアセタール樹脂の残存
アセチル基量、残存水酸基量、残存アルデヒド量及び水
分含有量、並びに、塗工溶液の保存性、熱現像性、現像
画像の保存性及び加熱安定性を、以下に示す方法で測定
した。測定結果は表1に示した。 1.残存アセチル基量:残存アセチル基量は、13C−
NMRを用いて測定した。 2.残存水酸基量:残存水酸基量は、13C−NMRを
用いて測定した。 3.残存アルデヒド量:ポリビニルアセタール樹脂を加
熱炉で熱抽出し、得られた抽出物についてガスクロマト
グラフィーを用いてアルデヒド量を測定した。 4.水分含有量:カールフィッシャー水分計を用いて測
定した。
The residual acetyl group content, residual hydroxyl group content, residual aldehyde content and water content of the obtained polyvinyl acetal resin, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image and the heat stability were evaluated. Was measured by the following method. The measurement results are shown in Table 1. 1. Residual acetyl group content: The residual acetyl group content is 13 C-
It was measured using NMR. 2. Residual hydroxyl group amount: The residual hydroxyl group amount was measured using 13 C-NMR. 3. Residual aldehyde amount: The polyvinyl acetal resin was heat-extracted in a heating furnace, and the amount of the aldehyde was measured for the obtained extract using gas chromatography. 4. Moisture content: Measured using a Karl Fischer moisture meter.

【0038】<熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液の
調製>上記ポリビニルブチラール樹脂5.0g、ベヘン
酸銀5.0g及びメチルエチルケトン40gをボールミ
ルで24時間混合し、更に、N−ラウリル−1−ヒドロ
キシ−2−ナフトアミド0.2gを加え、再びボールミ
ルで粉砕混合して塗工溶液を調製した。
<Preparation of Coating Solution for Heat-Developable Photosensitive Material Film> 5.0 g of the above polyvinyl butyral resin, 5.0 g of silver behenate and 40 g of methyl ethyl ketone were mixed for 24 hours in a ball mill, and further N-lauryl-1-. 0.2 g of hydroxy-2-naphthamide was added, and the mixture was pulverized and mixed again with a ball mill to prepare a coating solution.

【0039】<熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液の
保存性>得られた塗工溶液を、常温で3日間、室内の蛍
光灯下に置き、塗工溶液の着色の有無を観察した。蛍光
灯暴露の前後における塗工溶液の白色度に変化は認めら
れなかった。塗工溶液の保存性は、溶液の色の変化を目
視観察し、溶液の色が変化しなかったものを○、僅かに
着色したものを△、大きく着色したものを×と評価し
た。
<Preservability of Coating Solution for Thermally Developable Photosensitive Material Film> The obtained coating solution was placed under an indoor fluorescent lamp at room temperature for 3 days, and the presence or absence of coloring of the coating solution was observed. No change was observed in the whiteness of the coating solution before and after the fluorescent lamp exposure. The preservability of the coating solution was evaluated by visually observing a change in the color of the solution. A sample in which the color of the solution did not change was evaluated as ○, a slightly colored one was evaluated as Δ, and a greatly colored one was evaluated as ×.

【0040】<熱現像性感光材料フィルムの作製>上記
塗工溶液を、ポリエステルフィルムからなる支持体上に
乾燥後の厚みが10μmとなるように塗布し、乾燥し
た。塗工面上に、N,N−ジメチル−p−フェニレンジ
アミン・硫酸鉛0.5g、ポリビニルピロリドン2g及
びメタノール30mlからなる溶液を乾燥後の厚みが1
μmとなるように塗布し、乾燥した。このようにして熱
現像性感光材料フィルムを作製した。
<Preparation of heat-developable photosensitive material film> The above coating solution was applied on a support made of a polyester film so that the thickness after drying was 10 μm, and dried. On a coated surface, a solution comprising 0.5 g of N, N-dimethyl-p-phenylenediamine / lead sulfate, 2 g of polyvinylpyrrolidone and 30 ml of methanol has a thickness of 1 after drying.
It was applied to a thickness of μm and dried. Thus, a heat developable photosensitive material film was prepared.

【0041】<熱現像性感光材料フィルムの熱現像性>
得られた熱現像性感光材料フィルムの熱現像性を評価す
るため、階調パターンフィルムを通して250ワットの
高圧水銀灯を20cmの距離から、0.3mm秒間あて
て露光した後、120℃の熱板を用いて5秒間加熱して
現像し、シアン色の良好なパターン画像を得た。この
際、かぶりがなく鮮明度が良好なものを○、ややかぶり
が発生し鮮明度が劣るものを△、かぶりが多数発生し鮮
明度が悪いものを×と評価した。
<Heat developability of heat developable photosensitive material film>
In order to evaluate the heat developability of the obtained heat developable photosensitive material film, a 250-watt high-pressure mercury lamp was exposed through a gradation pattern film from a distance of 20 cm for 0.3 mm second, and then a hot plate at 120 ° C. was exposed. And developed by heating for 5 seconds to obtain a good cyan pattern image. At this time, those with no fog and good sharpness were rated as ○, those with some fog and poor sharpness were rated as Δ, and those with many fogs and poor sharpness were rated as x.

【0042】<現像画像の保存性>次いで、現像画像の
保存性を確認するため、白色光に24時間曝した。画像
パターンコントラストの乱れが認められなかったものを
○、僅かに画像パターンコントラストが乱れたものを
△、画像パターンコントラストが大きく乱れたものを×
と評価した。
<Storability of Developed Image> Next, to confirm the storability of the developed image, it was exposed to white light for 24 hours.も の indicates that no image pattern contrast disturbance was observed, △ indicates that the image pattern contrast was slightly disturbed, and X indicates that the image pattern contrast was significantly disturbed.
Was evaluated.

【0043】<加熱安定性>高さ1mm、幅1mm間隔
で凹凸を形成した100℃のステンレス板上に上記の如
くして得られた熱現像性感光材料フィルムをその塗膜が
ステンレス板側となるようにして載置した後、上記熱現
像性感光材料フィルムを上記ステンレス板側に向かって
100g/cmの圧力で5秒間押し付けた。続いて、
熱現像性感光材料フィルムを常温で冷却し、該熱現像性
感光材料フィルムの塗膜面を目視観察し、割れや変形が
ないものを○とし、割れ又は変形があったものを×と評
価した。
<Heat Stability> A heat-developable photosensitive material film obtained as described above was coated on a stainless steel plate at 100 ° C. having irregularities formed at intervals of 1 mm in height and 1 mm in width. After being placed as described above, the heat developable photosensitive material film was pressed against the stainless steel plate at a pressure of 100 g / cm 2 for 5 seconds. continue,
The heat-developable photosensitive material film was cooled at room temperature, and the coating surface of the heat-developable photosensitive material film was visually observed, and those having no cracks or deformation were evaluated as ○, and those having cracks or deformation were evaluated as x. .

【0044】(実施例2)重合度500、ケン化度88
モル%のポリビニルアルコールを用いたこと以外は、実
施例1と同様にしてポリビニルブチラール樹脂を調製
し、これを用いて熱現像性感光材料フィルムを作製し
た。なお、上記ポリビニルブチラール樹脂のガラス転移
温度は56℃であった。調製されたポリビニルブチラー
ル樹脂及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて
実施例1と同様に試験した。その結果、実施例1と同
様、塗工溶液の保存性、熱現像性、現像画像の保存性及
び加熱安定性は共に良好であった。試験結果等について
は表1に示した。
Example 2 Degree of polymerization: 500, degree of saponification: 88
A polyvinyl butyral resin was prepared in the same manner as in Example 1 except that mol% of polyvinyl alcohol was used, and a heat developable photosensitive material film was prepared using the same. The glass transition temperature of the polyvinyl butyral resin was 56 ° C. The prepared polyvinyl butyral resin and the obtained heat-developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image and the heating stability were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0045】(実施例3)重合度240、残存アセチル
基量1.5モル%、残存水酸基量27モル%、残存アル
デヒド量3ppm、含有水分量1.5重量%のポリビニ
ルブチラール樹脂を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして熱現像性感光材料フィルムを作製した。なお、
上記ポリビニルブチラール樹脂のガラス転移温度は62
℃であった。調製されたポリビニルブチラール樹脂及び
得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例1と
同様に試験した。その結果、実施例1と同様、塗工溶液
の保存性、熱現像性、現像画像の保存性及び加熱安定性
は共に良好であった。試験結果等については表1に示し
た。
Example 3 A polyvinyl butyral resin having a degree of polymerization of 240, a residual acetyl group content of 1.5 mol%, a residual hydroxyl group content of 27 mol%, a residual aldehyde content of 3 ppm and a water content of 1.5 wt% was used. Except for the above, a heat developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1. In addition,
The glass transition temperature of the polyvinyl butyral resin is 62
° C. The prepared polyvinyl butyral resin and the obtained heat-developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image and the heating stability were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0046】(実施例4)重合度300、ケン化度98
モル%のポリビニルアルコール132gを1600gの
蒸留水に加熱溶解した後、20℃に保ち、これに35重
量%塩酸110gを添加し、更にアセトアルデヒド30
gを加え、12℃まで冷却し、次に、ブチルアルデヒド
40gを加えた。アセタール化樹脂が析出し始めた後、
30分間この状態に保持し、その後、60℃に昇温して
4時間反応させた。反応終了後、固形分(樹脂)を蒸留
水にて洗浄し、水洗後の樹脂を蒸留水に再分散させ、得
られた分散液に炭酸水素ナトリウムを添加し、液のpH
を8に調整した。この液を60℃に昇温し、5時間この
状態に保持した後、常温まで冷却した。
(Example 4) Degree of polymerization: 300, degree of saponification: 98
After melt | dissolving 132 g of polyvinyl alcohol of mol% in 1600 g of distilled water by heating, it is kept at 20 degreeC, 110 g of 35 weight% hydrochloric acid is added thereto, and acetaldehyde 30g is further added.
g, cooled to 12 ° C., and then 40 g of butyraldehyde was added. After the acetalized resin starts to precipitate,
This state was maintained for 30 minutes, and then the temperature was raised to 60 ° C. and the reaction was performed for 4 hours. After completion of the reaction, the solid content (resin) is washed with distilled water, the washed resin is redispersed in distilled water, sodium hydrogen carbonate is added to the obtained dispersion, and the pH of the solution is adjusted.
Was adjusted to 8. This liquid was heated to 60 ° C., kept in this state for 5 hours, and then cooled to room temperature.

【0047】再加温洗浄された樹脂を、固形分に対し1
00倍量の蒸留水で水洗した。更に、水洗された樹脂を
蒸留水に再分散させ、50℃で5時間保持した後、更に
100倍量の蒸留水で水洗し、脱水した後、乾燥してポ
リビニルアセタール樹脂を調製した。なお、上記ポリビ
ニルアセタール樹脂のガラス転移温度は80℃であっ
た。調製されたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実
施例1と同様に熱現像性感光材料フィルムが作製され
た。得られたポリビニルアセタール樹脂及び得られた熱
現像性感光材料フィルムについて実施例1と同様に試験
した。その結果、実施例1と同様、塗工溶液の保存性、
熱現像性、現像画像の保存性及び加熱安定性は共に良好
であった。試験結果等については表1に示した。
The reheated and washed resin was added in an amount of 1
It was washed with 00 volumes of distilled water. Further, the resin washed with water was redispersed in distilled water, kept at 50 ° C. for 5 hours, washed with 100 times the amount of distilled water, dehydrated, and dried to prepare a polyvinyl acetal resin. The glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin was 80 ° C. A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1 using the prepared polyvinyl acetal resin. The obtained polyvinyl acetal resin and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution,
The heat developability, the storage stability of the developed image and the heat stability were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0048】(実施例5)重合度240、残存アセチル
基量11モル%、残存水酸基量21モル%、アセトアセ
タール化度35モル%、ブチラール化度33モル%、残
存アルデヒド量3ppm、含有水分量1.5重量%、ガ
ラス転移温度70℃のポリビニルアセタール樹脂を使用
したこと以外は、実施例1と同様にして熱現像性感光材
料フィルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹
脂及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施
例1と同様に試験した。その結果、実施例1と同様、塗
工溶液の保存性、熱現像性、現像画像の保存性及び加熱
安定性は共に良好であった。試験結果等については表1
に示した。
(Example 5) Degree of polymerization 240, residual acetyl group content 11 mol%, residual hydroxyl group content 21 mol%, acetoacetalization degree 35 mol%, butyralization degree 33 mol%, residual aldehyde content 3 ppm, water content A heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 70 ° C. and 1.5% by weight was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image and the heating stability were all good. See Table 1 for test results
It was shown to.

【0049】(実施例6)重合度240、残存アセチル
基量1モル%、残存水酸基量32モル%、アセトアセタ
ール化度35モル%、ブチラール化度32モル%、残存
アルデヒド量3ppm、含有水分量1.5重量%、ガラ
ス転移温度76℃のポリビニルアセタール樹脂を使用し
たこと以外は、実施例1と同様にして熱現像性感光材料
フィルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹脂
及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例
1と同様に試験した。その結果、実施例1と同様、塗工
溶液の保存性、熱現像性、現像画像の保存性及び加熱安
定性は共に良好であった。試験結果等については表1に
示した。
(Example 6) Degree of polymerization 240, residual acetyl group content 1 mol%, residual hydroxyl group content 32 mol%, acetoacetalization degree 35 mol%, butyralization degree 32 mol%, residual aldehyde content 3 ppm, water content A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1, except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 76 ° C. and 1.5% by weight was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image and the heating stability were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0050】(実施例7)重合度240、残存アセチル
基量1モル%、残存水酸基量25モル%、アセトアセタ
ール化度73モル%、ブチラール化度1モル%、残存ア
ルデヒド量3ppm、含有水分量1.5重量%、ガラス
転移温度103℃のポリビニルアセタール樹脂を使用し
たこと以外は、実施例1と同様にして熱現像性感光材料
フィルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹脂
及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例
1と同様に試験した。その結果、実施例1と同様、塗工
溶液の保存性、熱現像性、現像画像の保存性は共に良好
であった。試験結果等については表1に示した。
(Example 7) Degree of polymerization 240, residual acetyl group content 1 mol%, residual hydroxyl group content 25 mol%, acetoacetalization degree 73 mol%, butyralization degree 1 mol%, residual aldehyde content 3 ppm, water content A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1, except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 103 ° C and 1.5% by weight was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, and the preservability of the developed image were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0051】(実施例8)重合度240、残存アセチル
基量12モル%、残存水酸基量22モル%、アセトアセ
タール化度63モル%、ブチラール化度1モル%、残存
アルデヒド量3ppm、含有水分量1.5重量%、ガラ
ス転移温度93℃のポリビニルアセタール樹脂を使用し
たこと以外は、実施例1と同様にして熱現像性感光材料
フィルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹脂
及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例
1と同様に試験した。その結果、実施例1と同様、塗工
溶液の保存性、熱現像性、現像画像の保存性及び加熱安
定性は共に良好であった。試験結果等については表1に
示した。
(Example 8) Degree of polymerization 240, residual acetyl group content 12 mol%, residual hydroxyl group content 22 mol%, acetoacetalization degree 63 mol%, butyralization degree 1 mol%, residual aldehyde content 3 ppm, water content A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1, except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 93 ° C and 1.5% by weight was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, the heat developability, the preservability of the developed image, and the heating stability were all good. Table 1 shows the test results and the like.

【0052】(実施例9)重合度240、残存アセチル
基量1モル%、残存水酸基量24モル%、アセトアセタ
ール化度75モル%、残存アルデヒド量3ppm、含有
水分量1.5重量%、ガラス転移温度109℃のポリビ
ニルアセタール樹脂を使用したこと以外は、実施例1と
同様にして熱現像性感光材料フィルムを作製した。用い
たポリビニルアセタール樹脂及び得られた熱現像性感光
材料フィルムについて実施例1と同様に試験した。その
結果、実施例1と同様、塗工溶液の保存性、熱現像性、
現像画像の保存性及び加熱安定性は共に良好であった。
試験結果等については表1に示した。
Example 9 Polymerization degree 240, residual acetyl group content 1 mol%, residual hydroxyl group content 24 mol%, acetoacetalization degree 75 mol%, residual aldehyde content 3 ppm, water content 1.5 wt%, glass A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl acetal resin having a transition temperature of 109 ° C. was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. As a result, as in Example 1, the preservability of the coating solution, heat developability,
Both the storage stability and the heating stability of the developed image were good.
Table 1 shows the test results and the like.

【0053】(比較例1)含有水分量が5重量%である
こと以外は、実施例1と同じポリビニルアセタール樹脂
を使用し、実施例1と同様にして熱現像性感光材料フィ
ルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹脂及び
得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例1と
同様に試験した。塗工溶液は有機銀塩の分散性が悪く、
熱現像性感光材料フィルムの感光後の画像は、パターン
境界面が不鮮明であった。試験結果等については表2に
示した。
Comparative Example 1 A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyvinyl acetal resin used in Example 1 was used except that the water content was 5% by weight. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. Coating solution has poor dispersibility of organic silver salt,
In the image after exposure of the heat developable photosensitive material film, the pattern boundary surface was unclear. Table 2 shows the test results and the like.

【0054】(比較例2)実施例1と同じポリビニルア
セタール樹脂に酸化防止剤として、2,2’−メチレン
ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)を50
0ppm添加したこと以外は、実施例1と同様にして熱
現像性感光材料フィルムを作製した。用いたポリビニル
アセタール樹脂及び得られた熱現像性感光材料フィルム
について実施例1と同様に試験した。塗工溶液の着色が
著しく、熱現像性感光材料フィルムは感光後のかぶりが
多く発生した。試験結果等については表2に示した。
(Comparative Example 2) 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) was added as an antioxidant to the same polyvinyl acetal resin as in Example 1 for 50 days.
A heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0 ppm was added. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was remarkably colored, and the heat-developable photosensitive material film was frequently fogged after exposure. Table 2 shows the test results and the like.

【0055】(比較例3)重合度500、残存アセチル
基量1.5モル%、残存水酸基量38モル%、アセトア
セタール化度75モル%、残存アルデヒド量3ppm、
含有水分量1.5重量%、ガラス転移温度60℃のポリ
ビニルアセタール樹脂を使用したこと以外は、実施例1
と同様にして熱現像性感光材料フィルムを作製した。用
いたポリビニルアセタール樹脂及び得られた熱現像性感
光材料フィルムについて実施例1と同様に試験した。塗
工溶液の着色は認められなかったが、熱現像性感光材料
フィルムを重ねて保管したとき、35℃でブロッキング
を起こし、熱現像性感光材料フィルムの感光後の画像
は、パターン境界面が不鮮明であった。試験結果等につ
いては表2に示した。
Comparative Example 3 A polymerization degree of 500, a residual acetyl group content of 1.5 mol%, a residual hydroxyl group content of 38 mol%, an acetoacetalization degree of 75 mol%, a residual aldehyde content of 3 ppm,
Example 1 except that a polyvinyl acetal resin having a water content of 1.5% by weight and a glass transition temperature of 60 ° C. was used.
A heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as described above. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. No coloring of the coating solution was observed, but when the heat-developable photosensitive material film was stacked and stored, blocking occurred at 35 ° C., and the image after exposure of the heat-developable photosensitive material film had an unclear pattern boundary surface. Met. Table 2 shows the test results and the like.

【0056】(比較例4)含有水分量が5重量%である
こと以外は、実施例4と同じポリビニルアセタール樹脂
を使用し、実施例1と同様にして熱現像性感光材料フィ
ルムを作製した。用いたポリビニルアセタール樹脂及び
得られた熱現像性感光材料フィルムについて実施例1と
同様に試験した。塗工溶液は有機銀塩の分散性が悪く、
熱現像性感光材料フィルムの感光後の画像は、パターン
境界面が不鮮明であった。試験結果等については表2に
示した。
Comparative Example 4 A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1 except that the same polyvinyl acetal resin as in Example 4 was used except that the water content was 5% by weight. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. Coating solution has poor dispersibility of organic silver salt,
In the image after exposure of the heat developable photosensitive material film, the pattern boundary surface was unclear. Table 2 shows the test results and the like.

【0057】(比較例5)実施例4と同じポリビニルア
セタール樹脂に酸化防止剤として、2,2’−メチレン
ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)を50
0ppm添加したこと以外は、実施例1と同様にして熱
現像性感光材料フィルムを作製した。用いたポリビニル
アセタール樹脂及び得られた熱現像性感光材料フィルム
について実施例1と同様に試験した。塗工溶液の着色が
著しく、熱現像性感光材料フィルムは感光後のかぶりが
多く発生した。試験結果等については表2に示した。
(Comparative Example 5) 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) was added to the same polyvinyl acetal resin as in Example 4 as an antioxidant.
A heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0 ppm was added. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was remarkably colored, and the heat-developable photosensitive material film was frequently fogged after exposure. Table 2 shows the test results and the like.

【0058】(比較例6)残存水酸基量が38モル%で
あり、アセトアセタール化度が31モル%であり、ブチ
ラール化度が29.5モル%であること以外は、実施例
4と同じポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1
と同様にして熱現像性感光材料フィルムを作製した。用
いたポリビニルアセタール樹脂及び得られた熱現像性感
光材料フィルムについて実施例1と同様に試験した。塗
工溶液の着色は認められなかったが、熱現像性感光材料
フィルムを重ねて保管したとき、35℃でブロッキング
を起こし、熱現像性感光材料フィルムの感光後の画像
は、パターン境界面が不鮮明であった。試験結果等につ
いては表2に示した。
Comparative Example 6 The same polyvinyl alcohol as in Example 4 except that the residual hydroxyl group content was 38 mol%, the degree of acetoacetalization was 31 mol%, and the degree of butyralization was 29.5 mol%. Example 1 using acetal resin
A heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as described above. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. No coloring of the coating solution was observed, but when the heat-developable photosensitive material film was stacked and stored, blocking occurred at 35 ° C., and the image after exposure of the heat-developable photosensitive material film had an unclear pattern boundary surface. Met. Table 2 shows the test results and the like.

【0059】(比較例7)重合度500、残存アセチル
基量1.0モル%、残存水酸基量37モル%、ホルマー
ル化度62モル%、残存アルデヒド量3ppm、含有水
分量1.5重量%、ガラス転移温度130℃のポリビニ
ルアセタール樹脂を使用したこと以外は、実施例1と同
様にして熱現像性感光材料フィルムを作製した。用いた
ポリビニルアセタール樹脂及び得られた熱現像性感光材
料フィルムについて実施例1と同様に試験した。塗工溶
液は僅かに着色しており、得られた現像性感光材料フィ
ルムも感光後にはかぶりがやや発生した。また、加熱安
定性については塗膜表面に微細な割れが発生した。
Comparative Example 7 A polymerization degree of 500, a residual acetyl group content of 1.0 mol%, a residual hydroxyl group content of 37 mol%, a formalization degree of 62 mol%, a residual aldehyde content of 3 ppm, a water content of 1.5 wt%, A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 130 ° C. was used. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was slightly colored, and the resulting developable photosensitive material film slightly fogged after exposure. As for the heating stability, fine cracks occurred on the coating film surface.

【0060】(比較例8)重合度500、残存アセチル
基量1.0モル%、残存水酸基量37モル%、ヘキシル
アセタール化度62モル%、残存アルデヒド量3pp
m、含有水分量1.5重量%、ガラス転移温度50℃の
ポリビニルアセタール樹脂を使用したこと以外は、実施
例1と同様にして熱現像性感光材料フィルムを作製し
た。用いたポリビニルヘキシルアセタール樹脂及び得ら
れた熱現像性感光材料フィルムについて実施例1と同様
に試験した。塗工溶液は僅かに着色しており、得られた
現像性感光材料フィルムも感光後にはかぶりがやや発生
した。また、加熱安定性についてはその加熱により変形
が生じていた。
(Comparative Example 8) Degree of polymerization 500, residual acetyl group content 1.0 mol%, residual hydroxyl group content 37 mol%, hexyl acetalization degree 62 mol%, residual aldehyde content 3 pp
m, a heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a polyvinyl acetal resin having a glass transition temperature of 50 ° C. and a water content of 1.5% by weight was used. The polyvinyl hexyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was slightly colored, and the resulting developable photosensitive material film slightly fogged after exposure. In addition, the heating stability was deformed by the heating.

【0061】(比較例9)残存アルデヒド量が200p
pmであること以外は、実施例1と同じポリビニルアセ
タール樹脂を使用し、実施例1と同様にして熱現像性感
光材料フィルムを作製した。用いたポリビニルアセター
ル樹脂及び得られた熱現像性感光材料フィルムについて
実施例1と同様に試験した。塗工溶液は稍着色してお
り、熱現像性感光材料フィルムは、感光後にかぶりの発
生が認められた。試験結果等については表2に示した。
(Comparative Example 9) The residual aldehyde content was 200 p
A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1, except that the same polyvinyl acetal resin as in Example 1 was used except that the resin composition was pm. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was slightly colored, and the heat-developable photosensitive material film was found to have fogging after exposure. Table 2 shows the test results and the like.

【0062】(比較例10)残存アルデヒド量が200
ppmであること以外は、実施例4と同じポリビニルア
セタール樹脂を使用し、実施例1と同様にして熱現像性
感光材料フィルムを作製した。用いたポリビニルアセタ
ール樹脂及び得られた熱現像性感光材料フィルムについ
て実施例1と同様に試験した。塗工溶液は稍着色してお
り、熱現像性感光材料フィルムは、感光後にかぶりの発
生が認められた。試験結果等については表2に示した。
(Comparative Example 10) The amount of residual aldehyde was 200
A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 1, except that the same polyvinyl acetal resin as in Example 4 was used except that the content was ppm. The polyvinyl acetal resin used and the obtained heat developable photosensitive material film were tested in the same manner as in Example 1. The coating solution was slightly colored, and the heat-developable photosensitive material film was found to have fogging after exposure. Table 2 shows the test results and the like.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

【0065】(実施例10) <ポリビニルアセタール樹脂の調整>重合度300、ケ
ン化度98モル%のポリビニルアルコール100gを7
00gの蒸留水に加温溶解した後、20℃に保ち、これ
に35重量%塩酸29gを加え、更にブチルアルデヒド
64gを加えた。樹脂が析出した後、30分間保持し、
その後、上記塩酸108gを加え30℃に昇温して10
時間保った。反応終了後、蒸留水にて洗浄し、水洗後の
ポリビニルブチラール樹脂分散液に水酸化ナトリウムを
添加し溶液のpHを7に調整した。溶液を50℃で10
時間保持した後冷却した。次に、固形分に対し100倍
量の蒸留水により溶液を水洗した後、更に、溶液を50
℃で5時間保持した後100倍量の蒸留水で水洗し、脱
水した後に乾燥してポリビニルアセタール樹脂を得た。
次いで、重合度650、ケン化度98モル%のポリビニ
ルアルコール100gを700gの蒸留水に加温溶解し
た後、上記と同様にしてポリビニルアセタール樹脂を得
た。
(Example 10) <Preparation of polyvinyl acetal resin> 100 g of polyvinyl alcohol having a degree of polymerization of 300 and a degree of saponification of 98 mol% was added to 7
After heating and dissolving in 00 g of distilled water, the temperature was maintained at 20 ° C., and 29 g of 35% by weight hydrochloric acid was added thereto, and further 64 g of butyraldehyde was added. After the resin is deposited, hold for 30 minutes,
Thereafter, 108 g of the above hydrochloric acid was added, and the temperature was raised to 30 ° C.
Time kept. After the completion of the reaction, the resultant was washed with distilled water, and sodium hydroxide was added to the washed polyvinyl butyral resin dispersion to adjust the pH of the solution to 7. Solution at 50 ° C for 10
After holding for a while, the mixture was cooled. Next, the solution was washed with distilled water 100 times the solid content, and then the solution was further washed with 50 times.
After holding at 5 ° C. for 5 hours, it was washed with 100 times the volume of distilled water, dehydrated and dried to obtain a polyvinyl acetal resin.
Next, 100 g of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 650 and a saponification degree of 98 mol% was heated and dissolved in 700 g of distilled water, and a polyvinyl acetal resin was obtained in the same manner as described above.

【0066】<熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液の
調製>ベヘン酸銀5.0g、ポリビニルアセタール樹脂
5.0g、メチルエチルケトン40gをボールミルで2
4時間混合し、更に、N−ラウリル−1−ヒドロキシ−
2−ナフトアミド0.2gを加え、再びボールミルで粉
砕して塗工溶液を得た。ここで用いたポリビニルアセタ
ール樹脂は、重合度300と650のポリビニルアセタ
ール樹脂を重量比1:1でブレンドし見掛け上の重合度
440、見掛け上の水酸基量21モル%、見掛け上のア
セチル基量1.7モル%としたものを用いた。
<Preparation of Coating Solution for Photothermographic Material Film> 5.0 g of silver behenate, 5.0 g of polyvinyl acetal resin and 40 g of methyl ethyl ketone were ball milled.
Mix for 4 hours, then add N-lauryl-1-hydroxy-
0.2 g of 2-naphthamide was added, and the mixture was pulverized again with a ball mill to obtain a coating solution. The polyvinyl acetal resin used here was prepared by blending polyvinyl acetal resins having a degree of polymerization of 300 and 650 at a weight ratio of 1: 1 and an apparent degree of polymerization of 440, an apparent amount of hydroxyl groups of 21 mol%, and an apparent amount of acetyl groups of 1 0.7 mol% was used.

【0067】(実施例11〜16、比較例11〜14)
ポリビニルアセタール樹脂の重合度、ケン化度、アルデ
ヒドの種類、アセタール化度、水酸基量、ブレンド比を
表3に示す通りに変更した以外は、実施例10と同様の
方法により熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液を調製
した。
(Examples 11 to 16, Comparative Examples 11 to 14)
A heat developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 10 except that the degree of polymerization, degree of saponification, type of aldehyde, degree of acetalization, amount of hydroxyl group, and blend ratio of the polyvinyl acetal resin were changed as shown in Table 3. A coating solution was prepared.

【0068】(実施例17)重合度300、ケン化度9
8モル%のポリビニルアルコール50gと重合度65
0、ケン化度98モル%のポリビニルアルコール50g
を700gの蒸留水に加温溶解した後、実施例10と同
様にしてポリビニルアセタール樹脂を得た。次いで、得
られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例10
と同様に行って熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液を
調製した。
(Example 17) Degree of polymerization: 300, degree of saponification: 9
50 g of 8 mol% polyvinyl alcohol and a polymerization degree of 65
0, 50 g of polyvinyl alcohol having a saponification degree of 98 mol%
Was heated and dissolved in 700 g of distilled water, and a polyvinyl acetal resin was obtained in the same manner as in Example 10. Then, using the obtained polyvinyl acetal resin, Example 10
In the same manner as described above, a coating solution for a heat-developable photosensitive material film was prepared.

【0069】(実施例18〜23、比較例15〜16)
ポリビニルアルコール樹脂の重合度、ケン化度、アルデ
ヒドの種類、アセタール化度、水酸基量、ブレンド比を
表4に示す通りに変更した以外は実施例17と同様の方
法により、熱現像性感光材料フィルム用塗工溶液を調製
した。
(Examples 18 to 23, Comparative Examples 15 to 16)
A heat-developable photosensitive material film was produced in the same manner as in Example 17, except that the degree of polymerization, the degree of saponification, the type of aldehyde, the degree of acetalization, the amount of hydroxyl groups, and the blend ratio of the polyvinyl alcohol resin were changed as shown in Table 4. A coating solution was prepared.

【0070】実施例10〜23及び比較例11〜16で
得られたポリビニルアセタール樹脂の残存アセチル基
量、残存水酸基量、残存アルデヒド量及び水分含有量を
実施例1と同様にして測定及び評価し、その結果を実施
例10〜16及び比較例11〜14については表3に、
実施例17〜23及び比較例15、16については表4
に示した。
The amounts of residual acetyl groups, residual hydroxyl groups, residual aldehydes and water content of the polyvinyl acetal resins obtained in Examples 10 to 23 and Comparative Examples 11 to 16 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the results for Examples 10 to 16 and Comparative Examples 11 to 14,
Tables 4 for Examples 17 to 23 and Comparative Examples 15 and 16
It was shown to.

【0071】なお、ポ7リビニルアセタール樹脂の見掛
け上の重合度、見掛け上の水酸基量、見掛け上のアセチ
ル基量は以下の式で求めた。 (A1+B1)logX=A1・logA2+B1・l
ogB2 X:ブレンドされたポリビニルアセタール樹脂の見掛け
上の重合度(見掛け上の水酸基量、見掛け上のアセチル
基量) A1:ポリビニルアセタール樹脂Aの重量 A2:ポリビニルアセタール樹脂Aの重合度(水酸基
量、アセチル基量) B1:ポリビニルアセタール樹脂Bの重量 B2:ポリビニルアセタール樹脂Bの重合度(水酸基
量、アセチル基量)
The apparent degree of polymerization, the apparent amount of hydroxyl groups, and the apparent amount of acetyl groups of the polyvinyl acetal resin were determined by the following equations. (A1 + B1) logX = A1 · logA2 + B1 · l
ogB2 X: apparent polymerization degree of blended polyvinyl acetal resin (apparent hydroxyl group amount, apparent acetyl group amount) A1: weight of polyvinyl acetal resin A A2: polymerization degree of polyvinyl acetal resin A (hydroxyl group amount, (Acetyl group content) B1: Weight of polyvinyl acetal resin B B2: Degree of polymerization of polyvinyl acetal resin B (hydroxyl content, acetyl content)

【0072】また、実施例1と同様にして熱現像性感光
材料フィルム用塗工溶液の保存性を評価した。更に、実
施例1と同様にして熱現像性感光材料フィルムを作製
し、以下の評価を行い、その結果を実施例10〜16及
び比較例11〜14については表3に、実施例17〜2
3及び比較例15、16については表4に示した。
Further, in the same manner as in Example 1, the storage stability of the coating solution for a heat-developable photosensitive material film was evaluated. Further, a heat-developable photosensitive material film was prepared in the same manner as in Example 1, and the following evaluation was performed. The results are shown in Table 3 for Examples 10 to 16 and Comparative Examples 11 to 14, and Examples 17 to 2
Table 4 shows No. 3 and Comparative Examples 15 and 16.

【0073】<熱現像性感光材料フィルムの熱現像性>
得られた熱現像性感光材料フィルムの熱現像性を評価す
るため、階調パターンフィルムを通して250ワットの
高圧水銀灯を20cmの距離から、0.3秒間あてて露
光した後、110℃の熱板を用いて3秒間加熱して現像
し、シアン色の良好なパターン画像を得た。この際、か
ぶりがなく鮮明度が良好なものを○、ややかぶりが発生
し鮮明度が劣るものを△、かぶりが多数発生し鮮明度が
悪いものを×と評価した。
<Heat developability of heat developable photosensitive material film>
To evaluate the heat developability of the obtained heat developable photosensitive material film, a 250-watt high-pressure mercury lamp was exposed through a gradation pattern film from a distance of 20 cm for 0.3 seconds, and then a hot plate at 110 ° C was exposed. And developed by heating for 3 seconds to obtain a good pattern image of cyan color. At this time, those with no fog and good sharpness were rated as ○, those with some fog and poor sharpness were rated as Δ, and those with many fogs and poor sharpness were rated as x.

【0074】<現像画像の保存性>次いで、現像画像の
保存性を確認するため、白色光に24時間曝した。画像
パターンコントラストの乱れが認められなかったものを
○、僅かに画像パターンコントラストが乱れたものを
△、画像パターンコントラストが大きく乱れたものを×
と評価した。
<Preservation of Developed Image> Next, to confirm the preservation of the developed image, it was exposed to white light for 24 hours.も の indicates that no image pattern contrast disturbance was observed, △ indicates that the image pattern contrast was slightly disturbed, and X indicates that the image pattern contrast was significantly disturbed.
Was evaluated.

【0075】<加熱安定性>高さ1mm、幅1mm間隔
で凹凸を形成した100℃のステンレス板上に上記の如
くして得られた熱現像性感光材料フィルムをその塗膜が
ステンレス板側となるようにして載置した後、上記熱現
像性感光材料フィルムを上記ステンレス板側に向かって
150g/cmの圧力で5秒間押し付けた。続いて、
熱現像性感光材料フィルムを常温で冷却し、該熱現像性
感光材料フィルムの塗膜面を目視観察し、割れや変形が
ないものを○とし、割れ又は変形があったものを×と評
価した。
<Heat Stability> A heat-developable photosensitive material film obtained as described above was placed on a stainless steel plate at 100 ° C. having irregularities formed at intervals of 1 mm in height and 1 mm in width, and the coating was applied to the stainless steel plate side. After the mounting, the heat developable photosensitive material film was pressed against the stainless steel plate at a pressure of 150 g / cm 2 for 5 seconds. continue,
The heat-developable photosensitive material film was cooled at room temperature, and the coating surface of the heat-developable photosensitive material film was visually observed, and those having no cracks or deformation were evaluated as ○, and those having cracks or deformation were evaluated as x. .

【0076】[0076]

【表3】 [Table 3]

【0077】[0077]

【表4】 [Table 4]

【0078】比較例11のものは、ポリビニルアセター
ル樹脂中の含有水分量が多いために塗工溶液の有機銀塩
の分散性が悪く、結果として熱現像性、画像の保存性が
悪かった。比較例12のものは、ポリビニルアセタール
樹脂中に酸化防止剤が配合されていたために塗工溶液の
保存性が悪く、熱現像性も悪かった。比較例13のもの
は残存水酸基量が多いために分散性が悪く、また吸湿等
により画像の保存性も悪かった。比較例14〜16のも
のは、塗工溶液の保存性は良好なものの熱現像性、加熱
安定性が悪かった。一方、実施例10〜23のものは、
本発明の範囲で制御しているため、塗工溶液の保存性、
熱現像性、現像画像の保存性、加熱安定性のいずれにも
優れた熱現像性感光材料フィルムを得ることができた。
In the case of Comparative Example 11, the dispersibility of the organic silver salt in the coating solution was poor due to the large amount of water contained in the polyvinyl acetal resin, resulting in poor heat developability and image preservability. In Comparative Example 12, the storage stability of the coating solution was poor and the heat developability was poor because the antioxidant was blended in the polyvinyl acetal resin. Comparative Example 13 was poor in dispersibility due to a large amount of residual hydroxyl groups, and poor in image preservability due to moisture absorption and the like. In Comparative Examples 14 to 16, although the storage stability of the coating solution was good, the heat developability and the heat stability were poor. On the other hand, those of Examples 10 to 23
Because it is controlled within the scope of the present invention, the storage stability of the coating solution,
A heat developable photosensitive material film having excellent heat developability, preservability of a developed image, and heat stability was obtained.

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明は、上述の構成よりなるので、優
れた保存性を有し、且つ、画像特性にも極めて優れてお
り、更に、取り扱い時に塗膜に折り目や割れが発生した
りせず、熱現像時に熱変形したすることがない熱現像性
感光材料を提供することができる。
According to the present invention, since it has the above-mentioned structure, it has excellent preservability and extremely excellent image characteristics. Further, the coating film may be creased or cracked during handling. Therefore, it is possible to provide a heat-developable photosensitive material that does not thermally deform during heat development.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AC01 AD01 AD03 CB07 FA22 2H096 AA00 BA20 EA02 GA52 LA16 4J002 BE06W BE06X GP03 4J100 AD02P AF15P BA02H CA01 CA31 DA01 HA19 HA43 HA56 HC16 HC17 HC18 HC19 HC20 JA37 Continued on front page F-term (reference) 2H025 AA00 AC01 AD01 AD03 CB07 FA22 2H096 AA00 BA20 EA02 GA52 LA16 4J002 BE06W BE06X GP03 4J100 AD02P AF15P BA02H CA01 CA31 DA01 HA19 HA43 HA56 HC16 HC17 HC18 HC19 HC20 JA37

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリビニルアルコールとアルデヒドとの
アセタール化反応により合成されるポリビニルアセター
ル樹脂であって、重合度が200〜3000であり、ア
セタール基をアセタール化された2つの水酸基として数
えた場合、残存アセチル基の割合が0〜25モル%であ
り、残存水酸基の割合が17〜35モル%であり、水分
量が2.5重量%以下であり、残存アルデヒド含有量が
10ppm以下であり、酸化防止剤を含有しないことを
特徴とする熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹
脂。
1. A polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and an aldehyde, having a degree of polymerization of 200 to 3000, and remaining when the acetal group is counted as two acetalized hydroxyl groups. The ratio of acetyl groups is 0 to 25 mol%, the ratio of residual hydroxyl groups is 17 to 35 mol%, the water content is 2.5 wt% or less, the residual aldehyde content is 10 ppm or less, A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, characterized by containing no agent.
【請求項2】 少なくとも、重合度が300以上異なる
2種類のポリビニルアセタール樹脂を含有する熱現像性
感光材料用ポリビニルアセタール樹脂であって、見掛け
上の重合度が200〜1000であり、アセタール基を
アセタール化された2つの水酸基として数えた場合、見
掛け上の残存アセチル基の割合が0〜25モル%であ
り、見掛け上の残存水酸基の割合が17〜35モル%で
あり、水分量が2.5重量%以下であり、残存アルデヒ
ド含有量が10ppm以下であり、酸化防止剤を含有し
ないことを特徴とする熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂。
2. A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material containing at least two kinds of polyvinyl acetal resins having different degrees of polymerization by at least 300, wherein the apparent degree of polymerization is from 200 to 1,000, and an acetal group is contained. When counted as two acetalized hydroxyl groups, the ratio of apparent residual acetyl groups is 0 to 25 mol%, the ratio of apparent residual hydroxyl groups is 17 to 35 mol%, and the water content is 2. A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, which is 5% by weight or less, has a residual aldehyde content of 10 ppm or less, and does not contain an antioxidant.
【請求項3】 ガラス転移温度が55〜110℃である
ことを特徴とする請求項1又は2記載の熱現像性感光材
料用ポリビニルアセタール樹脂。
3. The polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to claim 1, wherein the glass transition temperature is 55 to 110 ° C.
【請求項4】 請求項1、2又は3記載の熱現像性感光
材料用ポリビニルアセタール樹脂を用いてなることを特
徴とする熱現像性感光材料。
4. A photothermographic material comprising the polyvinyl acetal resin for photothermographic material according to claim 1, 2 or 3.
JP2001012016A 2000-01-19 2001-01-19 Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material Expired - Fee Related JP3670970B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001012016A JP3670970B2 (en) 2000-01-19 2001-01-19 Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000010535 2000-01-19
JP2000113881 2000-04-14
JP2000-113881 2000-04-14
JP2000337893 2000-11-06
JP2000-10535 2000-11-06
JP2000-337893 2000-11-06
JP2001012016A JP3670970B2 (en) 2000-01-19 2001-01-19 Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002201215A true JP2002201215A (en) 2002-07-19
JP3670970B2 JP3670970B2 (en) 2005-07-13

Family

ID=27480935

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001012016A Expired - Fee Related JP3670970B2 (en) 2000-01-19 2001-01-19 Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3670970B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6992130B2 (en) 2002-07-23 2006-01-31 Kuraray Co., Ltd. Polyvinyl acetal and its use
JP2006047974A (en) * 2004-06-30 2006-02-16 Sekisui Chem Co Ltd Polyvinyl acetal resin for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP2008519871A (en) * 2004-11-11 2008-06-12 ワッカー ポリマー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディトゲゼルシャフト Low shear thinning polyvinyl acetal
JP2008214435A (en) * 2007-03-01 2008-09-18 Denki Kagaku Kogyo Kk Polyvinyl acetal resin and its manufacturing method
JP2008250119A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Kuraray Co Ltd Binder for heat developable photosensitive material
WO2008123150A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Kuraray Co., Ltd. Polyvinyl butyral resin pellet, and method for production thereof
JP2010185026A (en) * 2009-02-13 2010-08-26 Denki Kagaku Kogyo Kk Polyvinyl acetal and heat-developable photosensitive material
JP2016027179A (en) * 2015-11-11 2016-02-18 積水化学工業株式会社 Polyvinyl acetal resin

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6992130B2 (en) 2002-07-23 2006-01-31 Kuraray Co., Ltd. Polyvinyl acetal and its use
JP2006047974A (en) * 2004-06-30 2006-02-16 Sekisui Chem Co Ltd Polyvinyl acetal resin for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP2008519871A (en) * 2004-11-11 2008-06-12 ワッカー ポリマー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディトゲゼルシャフト Low shear thinning polyvinyl acetal
JP4838806B2 (en) * 2004-11-11 2011-12-14 クラレイ ユーロップ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Low shear thinning polyvinyl acetal
JP2008214435A (en) * 2007-03-01 2008-09-18 Denki Kagaku Kogyo Kk Polyvinyl acetal resin and its manufacturing method
JP2008250119A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Kuraray Co Ltd Binder for heat developable photosensitive material
WO2008123150A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Kuraray Co., Ltd. Polyvinyl butyral resin pellet, and method for production thereof
US8883052B2 (en) 2007-03-30 2014-11-11 Kuraray Co., Ltd. Polyvinyl butyral resin pellet, and method for producing the same
JP2010185026A (en) * 2009-02-13 2010-08-26 Denki Kagaku Kogyo Kk Polyvinyl acetal and heat-developable photosensitive material
JP2016027179A (en) * 2015-11-11 2016-02-18 積水化学工業株式会社 Polyvinyl acetal resin

Also Published As

Publication number Publication date
JP3670970B2 (en) 2005-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0261932B1 (en) Thermally processable element comprising an overcoat layer
US3874946A (en) Photothermographic element, composition and process
JPS597362A (en) Photothermographic sensitive laminate
US6730464B2 (en) Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material
JP3670970B2 (en) Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material
JP4791071B2 (en) Photothermographic material
JP3194266B2 (en) Polyvinyl acetal resin for photothermographic material, modified polyvinyl acetal resin for photothermographic material, and photothermographic material
DE2428125A1 (en) THERMAL DEVELOPMENT LIGHT SENSITIVE MATERIAL
JP3599666B2 (en) Polyvinyl acetal resin for photothermographic material, modified polyvinyl acetal resin for photothermographic material, and photothermographic material
JP2003147018A (en) Polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material
JP3582824B2 (en) Polyvinyl acetal resin for photothermographic material, modified polyvinyl acetal resin for photothermographic material, and photothermographic material
JP4927346B2 (en) Process for producing polyvinyl acetal resin for heat-developable photosensitive material
US9951154B2 (en) Polyvinylacetal resin for heat-developable photosensitive material and heat-developable photosensitive material
JP4832851B2 (en) Photothermographic material
JP2003213065A (en) Polyvinyl acetal resin composition for thermally developable photosensitive material
JP2006017877A (en) Modified polyvinyl acetal resin for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP2005024744A (en) Binder for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP2006030935A (en) Polyvinyl acetal resin for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP4452573B2 (en) Binder resin particles for photothermographic materials
JP2008250119A (en) Binder for heat developable photosensitive material
JP4420831B2 (en) Photothermographic material
JPS622302B2 (en)
JP2003215747A (en) Heat-developable photosensitive material containing polyvinyl acetal resin
JP2006017876A (en) Binder resin for heat developable photosensitive material and heat developable photosensitive material
JP2003015249A (en) Silver halide photographic material for heat development

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050111

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050329

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080422

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090422

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090422

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100422

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110422

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120422

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130422

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees