JP3194266B2 - Polyvinyl acetal resin for photothermographic material, modified polyvinyl acetal resin for photothermographic material, and photothermographic material - Google Patents

Polyvinyl acetal resin for photothermographic material, modified polyvinyl acetal resin for photothermographic material, and photothermographic material

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JP3194266B2 JP13873099A JP13873099A JP3194266B2 JP 3194266 B2 JP3194266 B2 JP 3194266B2 JP 13873099 A JP13873099 A JP 13873099A JP 13873099 A JP13873099 A JP 13873099A JP 3194266 B2 JP3194266 B2 JP 3194266B2
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像性感光材
料、特に有機銀塩及び現像の為の還元剤を同一組成中に
含有する熱現像性感光材料に用いられる熱現像性感光材
料用ポリビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材料用
変性ポリビニルアセタール樹脂並びに熱現像性感光材料
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-developable light-sensitive material, particularly a polyvinyl for heat-developable light-sensitive material used in a heat-developable light-sensitive material containing an organic silver salt and a reducing agent for development in the same composition. The present invention relates to an acetal resin, a modified polyvinyl acetal resin for a photothermographic material, and a photothermographic material.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱現像性感光材料は、主に脂肪酸の銀
塩、有機還元剤、場合により少量の感光性ハロゲン化銀
を高分子バインダー中に分散して得られる組成物を支持
体上に塗工してなるものである。
2. Description of the Related Art A heat-developable photosensitive material is mainly composed of a composition obtained by dispersing a silver salt of a fatty acid, an organic reducing agent and, in some cases, a small amount of photosensitive silver halide in a polymer binder, on a support. It is made by coating.

【0003】従来から広範囲に用いられているハロゲン
化銀感光材料は、その優れた写真特性により、より広範
囲かつ高品質な素材として画像形成分野に利用されてい
るが、現像及び定着が複雑でしかも処理工程が湿式であ
るため、処理が煩雑かつ多量の化学廃液を排出するとい
う問題があった。その為、現在では現像工程を熱処理で
行う熱現像性感光材料が開発され、実用化されている。
Conventionally, silver halide light-sensitive materials that have been widely used have been used in the field of image formation as high-quality materials due to their excellent photographic characteristics. Since the treatment process is a wet process, there is a problem that the treatment is complicated and a large amount of chemical waste liquid is discharged. Therefore, at present, a heat developable photosensitive material in which a development process is performed by heat treatment has been developed and put into practical use.

【0004】例えば、特公昭43−4924号公報に
は、有機銀塩、還元剤及び有機銀イオンに対して触媒的
に接触しているハロゲン化銀からなる熱現像性感光材料
が開示されている。即ち、これら熱現像性感光材料は、
紙、プラスチックフイルム、金属箔、ガラス板等の支持
体上に、ポリビニルブチラール、ポリメタクリル酸メチ
ル、酢酸セルローズ、ポリ酢酸ビニル、酢酸プロピオン
酸セルローズ、酢酸酪酸セルローズ等の造膜性結合材を
用いて塗布して用いられることが記載されている。
For example, Japanese Patent Publication No. 43-4924 discloses a heat-developable photosensitive material comprising an organic silver salt, a reducing agent and silver halide in catalytic contact with organic silver ions. . That is, these heat developable photosensitive materials are:
Using a film-forming binder such as polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, cellulose acetate, polyvinyl acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate on a support such as paper, plastic film, metal foil, or glass plate. It is described that it is used after being applied.

【0005】上記造膜性結合材として、具体的にはポリ
ビニルブチラール樹脂が最適のものとして使用されてい
る。しかしながら、一般のポリビニルブチラール樹脂に
は種々の組成のものがあり、しかも製法上、微量の不純
物を含んでいるため、これら不純物の影響により、調製
したバインダー溶液が感光性を生じて着色したり、塗工
した後の画像特性に、かぶり、階調不良、感度不足、フ
イルムの生保存性不良等を生じる場合があった。
[0005] As the above-mentioned film-forming binder, specifically, polyvinyl butyral resin is most suitably used. However, general polyvinyl butyral resins have various compositions, and furthermore, contain a small amount of impurities in the production method, and due to the influence of these impurities, the prepared binder solution becomes photosensitive and colored, In some cases, fogging, poor gradation, insufficient sensitivity, poor storage stability of the film, and the like occur in the image characteristics after coating.

【0006】上記問題点を解決するために、銀塩、還元
性物質、添加剤等の改善が図られてきた。例えば、特開
昭49−52626号公報に開示されているように、独
立した安定化剤、安定化剤プレカーサ成分を含まず、チ
オン化合物の銀塩を用いることにより改善することが報
告され、バインダーとしてポリビニルブチラール樹脂も
用いられているが、用いられるバインダーの組成を特定
することにより問題解決を図った技術は開示されていな
い。
In order to solve the above problems, improvements have been made on silver salts, reducing substances, additives and the like. For example, as disclosed in JP-A-49-52626, it has been reported that an improvement is achieved by using a silver salt of a thione compound without using an independent stabilizer and a precursor component of a stabilizer. Although polyvinyl butyral resin is also used, there is no disclosure of a technique for solving the problem by specifying the composition of the binder to be used.

【0007】更に、熱現像性感光材料のうちの熱現像式
銀塩フイルムは、従来のウエット式のゼラチンを使用し
たX線感光フイルムに比べて画像特性、特に画像濃度、
画像/階調部の鮮明度がやや劣るためその向上が望まれ
ているが、その為には、加熱時の銀塩の核成長を厳しく
コントロールする必要があり、しかも、バインダー中に
分散させる銀塩の分散性を向上させる必要があった。
Further, among the heat-developable photosensitive materials, a heat-developable silver halide film has image characteristics, especially image density, which are lower than those of a conventional X-ray photosensitive film using a wet gelatin.
Since the sharpness of the image / gradation part is slightly inferior, its improvement is desired. For this purpose, it is necessary to strictly control the nucleus growth of the silver salt during heating, and furthermore, the silver dispersed in the binder It was necessary to improve the dispersibility of the salt.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するため、結合材として用いるポリビニルアセ
タール樹脂を特定の組成とすることで、塗工前溶液のポ
ットライフ、生フイルムの保存性、かぶり等を向上させ
ることができる、熱現像性感光材料用ポリビニルアセタ
ール樹脂及びそれを用いた熱現像性感光材料を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a polyvinyl acetal resin used as a binder having a specific composition, so that the pot life of a pre-coating solution and the preservation of raw film can be improved. It is an object of the present invention to provide a polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material and a heat-developable photosensitive material using the same, which can improve the properties and fog.

【0009】また、本発明は、結合材として用いるポリ
ビニルアセタール樹脂にアセトアセタール部分を導入す
るか、更には親水性基団からなる変性基を導入すること
で、銀塩の分散性を向上させ、熱溶融性、冷却硬化性等
をシャープにし、銀塩の核成長を精度良く制御すること
が可能であり、結果として画像濃度、画像/階調部の鮮
明度を向上させることができる熱現像性感光材料用ポリ
ビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材料用変性ポリ
ビニルアセタール樹脂並びにそれを用いた熱現像性感光
材料を提供することを目的とする。
Further, the present invention improves the dispersibility of a silver salt by introducing an acetoacetal moiety into a polyvinyl acetal resin used as a binder or further introducing a modifying group comprising a hydrophilic group. It is possible to sharpen the heat melting property, cooling hardening property, etc., and to precisely control the nucleus growth of the silver salt, thereby improving the image density and the sharpness of the image / gradation area. It is an object of the present invention to provide a polyvinyl acetal resin for an optical material, a modified polyvinyl acetal resin for a heat developable photosensitive material, and a heat developable photosensitive material using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1記載の発明では、ポリビニルアルコール
とアルデヒドとのアセタール化反応により合成されるポ
リビニルアセタール樹脂であって、重合度が200〜3
000の範囲にあり、残存アセチル基の割合が0〜25
モル%、残存水酸基の割合が17〜35モル%の範囲に
あり、酸化防止剤を含有せず、残存ハロゲン化物量が1
00ppm以下であることを特徴とする熱現像性感光材
料用ポリビニルアセタール樹脂が提供される。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction of a polyvinyl alcohol and an aldehyde, and having a degree of polymerization of 200. ~ 3
000, and the ratio of residual acetyl groups is 0 to 25.
Mol%, the proportion of residual hydroxyl groups is in the range of 17 to 35 mol%, the composition does not contain an antioxidant, and the residual halide amount is 1%.
There is provided a polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, wherein the content is not more than 00 ppm.

【0011】請求項2記載の発明では、ポリビニルアル
コールとブチルアルデヒドとのアセタール化反応により
合成されるポリビニルアセタール樹脂であって、重合度
が200〜3000の範囲にあり、残存アセチル基の割
合が0〜25モル%、残存水酸基の割合が17〜35モ
ル%の範囲にあり、酸化防止剤を含有せず、残存ハロゲ
ン化物量が100ppm以下であることを特徴とする熱
現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂が提供され
る。
The invention according to claim 2 is a polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction of polyvinyl alcohol and butyraldehyde, wherein the degree of polymerization is in the range of 200 to 3000 and the ratio of residual acetyl groups is 0. A polyvinyl acetal for a heat-developable photosensitive material, characterized in that the content of the residual hydroxyl group is in the range of 17 to 35 mol%, the antioxidant is not contained, and the amount of the residual halide is 100 ppm or less. A resin is provided.

【0012】請求項3記載の発明では、ポリビニルアル
コールとブチルアルデヒドとアセトアルデヒドとのアセ
タール化反応により合成されるポリビニルアセタール樹
脂であって、重合度が200〜3000の範囲にあり、
残存アセチル基の割合が0〜25モル%、残存水酸基の
割合が17〜35モル%、アセタール化された部分全体
におけるアセトアルデヒドによりアセタール化された部
分の割合が30〜100%の範囲にあり、酸化防止剤を
含有せず、残存ハロゲン化物量が100ppm以下であ
ることを特徴とする熱現像性感光材料用ポリビニルアセ
タール樹脂が提供される。
The invention according to claim 3 is a polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction of polyvinyl alcohol, butyraldehyde, and acetaldehyde, wherein the degree of polymerization is in the range of 200 to 3000,
The proportion of the residual acetyl group is 0 to 25 mol%, the proportion of the residual hydroxyl group is 17 to 35 mol%, and the proportion of the portion acetalized by acetaldehyde in the entire acetalized portion is in the range of 30 to 100%. The present invention provides a polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, which contains no inhibitor and has a residual halide content of 100 ppm or less.

【0013】請求項4に記載の発明では、ポリビニルア
ルコールとアルデヒドとのアセタール化反応により合成
され、側鎖に下記の変性基を有する変性ポリビニルアセ
タール樹脂であって、重合度が200〜3000の範囲
にあり、残存アセチル基の割合が0〜25モル%、残存
水酸基の割合が17〜35モル%の範囲にあり、変性基
の割合が0.1〜5モル%の範囲にあり、酸化防止剤を
含有せず、残存ハロゲン化物量が100ppm以下であ
ることを特徴とする熱現像性感光材料用変性ポリビニル
アセタール樹脂が提供される。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a modified polyvinyl acetal resin which is synthesized by an acetalization reaction of polyvinyl alcohol and an aldehyde and has the following modifying group in a side chain, and has a degree of polymerization of 200 to 3,000. Wherein the proportion of residual acetyl groups is in the range of 0 to 25 mol%, the proportion of residual hydroxyl groups is in the range of 17 to 35 mol%, the proportion of modifying groups is in the range of 0.1 to 5 mol%, and an antioxidant And a modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, characterized by having a residual halide content of not more than 100 ppm.

【0014】ここで、変性基は、−COOM、−CH2
COOM、−SO3 M、−OSO3M、−PO(OM)
2 、−P(=O)(R)(OM)、第三級アミン及び第
四級アンモニウム塩からなる群より選ばれる少なくとも
1種の親水性基団からなる(但し、Mは、H、Li、N
a又はKを表し、Rは水素原子又は炭素数1〜20のア
ルキル基を表す。)
Here, the modifying groups are -COOM, -CH 2
COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO (OM)
2 , -P (= O) (R) (OM), at least one hydrophilic group selected from the group consisting of tertiary amines and quaternary ammonium salts (where M is H, Li , N
represents a or K, and R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. )

【0015】請求項5記載の発明では、ポリビニルアセ
タール樹脂中の残存アルカリ性物質量が、0.01重量
%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
1項に記載の熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール
樹脂が提供される。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the thermal development method according to any one of the first to third aspects, wherein the amount of the remaining alkaline substance in the polyvinyl acetal resin is 0.01% by weight or less. There is provided a polyvinyl acetal resin for a photosensitive material.

【0016】請求項6記載の発明では、変性ポリビニル
アセタール樹脂中の残存アルカリ性物質量が、0.01
重量%以下であることを特徴とする請求項4に記載の熱
現像性感光材料用変性ポリビニルアセタール樹脂が提供
される。
In the invention according to claim 6, the amount of the residual alkaline substance in the modified polyvinyl acetal resin is 0.01%.
The modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to claim 4, wherein the amount is not more than% by weight.

【0017】請求項7記載の発明では、請求項1〜6の
いずれか1項に記載の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂又は熱現像性感光材料用変性ポリビニルア
セタール樹脂が用いられてなることを特徴とする熱現像
性感光材料が提供される。
According to a seventh aspect of the present invention, the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material or the modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to any one of the first to sixth aspects is used. A heat-developable photosensitive material is provided.

【0018】本発明に用いられるポリビニルアセタール
樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂は、重合度20
0〜3000のものが使用され、熱現像性感光材料に用
いられる銀塩の分散性、塗膜強度、塗工性等のバランス
を取り易い重合度300〜1000のものが好適に用い
られる。
The polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin used in the present invention has a polymerization degree of 20.
Those having a degree of polymerization of 300 to 1,000 are preferably used, in which the silver salt used in the heat-developable photosensitive material can be easily balanced in dispersibility, coating strength, coatability and the like.

【0019】また、上記ポリビニルアセタール樹脂又は
変性ポリビニルアセタール樹脂の残存アセチル基の量
は、0〜25モル%のものが使用される。残存アセチル
基の量が25モル%より多い場合は、得られる感光性フ
イルム同士のブロッキングが生じ、また画像が鮮明でな
くなる。より好ましくは、0〜15モル%である。
The amount of residual acetyl groups in the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin is from 0 to 25 mol%. If the amount of the residual acetyl group is more than 25 mol%, the resulting photosensitive films will be blocked from each other, and the image will not be clear. More preferably, it is 0 to 15 mol%.

【0020】更に、上記ポリビニルアセタール樹脂又は
変性ポリビニルアセタール樹脂の残存水酸基量は、17
〜35モル%とされ、好ましくは19〜30モル%であ
る。残存水酸基量が35モル%より多い場合は、熱現像
性感光材料に用いる銀塩の分散性が悪く、銀塩が凝集
し、得られるフイルムの感度が低下したり、水分を吸着
し易いため、塗工溶液のポットライフが低下する。残存
水酸基量が17モル%より少ない場合にも、銀塩の分散
性が低下し、感度の低下が生じる。
The residual hydroxyl group content of the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin is 17
To 35 mol%, preferably 19 to 30 mol%. When the amount of the residual hydroxyl group is more than 35 mol%, the dispersibility of the silver salt used in the photothermographic material is poor, the silver salt is aggregated, the sensitivity of the obtained film is lowered, and moisture is easily adsorbed. The pot life of the coating solution decreases. When the amount of the remaining hydroxyl groups is less than 17 mol%, the dispersibility of the silver salt is reduced, and the sensitivity is lowered.

【0021】本発明に用いられるポリビニルアセタール
樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニル
アルコールと各種アルデヒドとのアセタール化反応によ
り合成されるが、ブチルアルデヒド及び/又はアセトア
ルデヒドでアセタール化されたものが好ましい。特に、
ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化された部分の
うちアセトアルデヒドによりアセタール化された部分の
割合が、全アセタール化部分に対して30〜100%の
範囲にあることが好ましく、より好ましくは50〜10
0%である。アセトアルデヒドによりアセタール化され
た部分が30%より少ない場合は、得られるポリビニル
アセタール樹脂のガラス転移点が80℃以下となり、感
光性銀塩の核成長が進み過ぎ、且つ、銀塩の分散性も従
来のブチラールと何ら変わりなく、画像の解像度及び鮮
明度が従来のポリビニルブチラール樹脂と同等のままで
あることがある。
The polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin used in the present invention is synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and various aldehydes, and is preferably one acetalized with butyraldehyde and / or acetaldehyde. In particular,
The proportion of the acetalized portion of the acetalized portion of the polyvinyl acetal resin is preferably in the range of 30 to 100%, more preferably 50 to 10%, of the entire acetalized portion.
0%. When the portion acetalized by acetaldehyde is less than 30%, the glass transition point of the obtained polyvinyl acetal resin is 80 ° C. or less, the nucleus growth of the photosensitive silver salt proceeds too much, and the dispersibility of the silver salt is also low. And the resolution and sharpness of the image may remain the same as those of the conventional polyvinyl butyral resin.

【0022】本発明に用いられるポリビニルアセタール
樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂は、一般に、水
溶液中、アルコール溶液中、水/アルコール混合溶液
中、ジメチルスルホキシド(DMSO)溶液中等で、ポ
リビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールと各
種アルデヒドとを酸触媒を用いて反応させることにより
合成されるが、ポリ酢酸ビニル溶液又は変性ポリ酢酸ビ
ニルのアルコール溶液に酸触媒とアルデヒドとを添加す
ることによっても合成され得る。
The polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin used in the present invention is generally combined with polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol in an aqueous solution, an alcohol solution, a mixed solution of water / alcohol, a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution, or the like. It is synthesized by reacting various aldehydes with an acid catalyst, but can also be synthesized by adding an acid catalyst and an aldehyde to a polyvinyl acetate solution or an alcohol solution of modified polyvinyl acetate.

【0023】ここで、アルデヒドとしては、ホルムアル
デヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド、プロピ
ルアルデヒドなどアセタール化できるアルデヒドであれ
ばどのようなアルデヒドを用いてもよい。特に、ブチル
アルデヒドとアセトアルデヒドとをそれぞれ単独で用い
るか、或いはブチルアルデヒドとアセトアルデヒドとを
併用するのが好ましい。
As the aldehyde, any aldehyde can be used as long as it can be acetalized, such as formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde and propylaldehyde. In particular, it is preferable to use butyl aldehyde and acetaldehyde alone, or to use butyl aldehyde and acetaldehyde together.

【0024】上記酸触媒としては、特に限定されず、有
機酸、無機酸のどちらでも使用可能であり、例えば、酢
酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、硫酸、塩酸等が挙
げられる。また、上記合成反応を停止するために、通常
アルカリ中和を行うが、その際使用されるアルカリとし
ては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ア
ンモニア、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げ
られる。
The acid catalyst is not particularly limited, and any of an organic acid and an inorganic acid can be used. Examples thereof include acetic acid, paratoluenesulfonic acid, nitric acid, sulfuric acid, and hydrochloric acid. In order to stop the above synthesis reaction, alkali neutralization is usually performed. As the alkali used at this time, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, sodium acetate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, Potassium carbonate, potassium bicarbonate and the like can be mentioned.

【0025】本発明のポリビニルアセタール樹脂中又は
変性ポリビニルアセタール樹脂中に残存するハロゲン化
物量は100ppm以下が好ましく、より好ましくは5
0ppm以下である。残存ハロゲン化物量が100pp
mを越える場合は、感光性ハロゲン化銀の生成物質とな
り、塗工溶液の保存性を低下させ、フイルムの生保存性
低下、かぶり等の原因になることがある。残存ハロゲン
化物量を100ppm以下とする方法としては、例え
ば、アセタール化に使用する触媒として非ハロゲン性の
ものを選択するか、ハロゲン性の触媒を使用した場合に
は、水、水/アルコールの混合溶液等による洗浄操作に
て精製し、規定量以下まで除去する方法等が挙げられ
る。
The amount of halide remaining in the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin of the present invention is preferably 100 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.
It is 0 ppm or less. 100 pp residual halide
If it exceeds m, it becomes a substance producing photosensitive silver halide, lowers the preservability of the coating solution, and may cause deterioration of the raw preservability of the film and fogging. As a method for reducing the residual halide amount to 100 ppm or less, for example, a non-halogenous catalyst is selected as a catalyst used for acetalization, or when a halogenous catalyst is used, water, water / alcohol mixture is used. A method of purifying by a washing operation with a solution or the like, and removing it to a specified amount or less, and the like.

【0026】本発明において用いられるポリビニルアセ
タール樹脂中又は変性ポリビニルアセタール樹脂中に残
存するアルカリ性物質量は、0.01重量%以下が好ま
しく、より好ましくは0.005重量%以下である。残
存アルカリ性物質量が0.01重量%を越えると、塗工
溶液のポットライフが低下することがある他、フイルム
の生保存性の低下等を引き起こすことがある。残存アル
カリ性物質量を0.01重量%以下とする方法として
は、例えば、ポリビニルアセタール樹脂又は変性ポリビ
ニルアセタール樹脂の合成の際の中和後の過剰アルカリ
分を、水又は水/アルコールの混合溶液で洗浄する方法
等が挙げられ、揮発性のアルカリを用いる場合には、乾
燥により規定の量以下まで除去する方法等が挙げられ
る。
The amount of the alkaline substance remaining in the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin used in the present invention is preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less. If the amount of the remaining alkaline substance exceeds 0.01% by weight, the pot life of the coating solution may be reduced, and the raw preservability of the film may be reduced. As a method for adjusting the amount of the remaining alkaline substance to 0.01% by weight or less, for example, excess alkali after neutralization in the synthesis of a polyvinyl acetal resin or a modified polyvinyl acetal resin is mixed with water or a mixed solution of water / alcohol. A washing method and the like can be mentioned. When a volatile alkali is used, a method of removing to a prescribed amount or less by drying and the like can be mentioned.

【0027】ポリビニルアルコール又は変性ポリビニル
アルコールとアルデヒドとのアセタール化反応において
は、通常、アルデヒドの酸化防止のため、或いは得られ
る樹脂の酸化防止及び耐熱性向上のために、反応系或い
は樹脂系に酸化防止剤が添加されるが、本発明のポリビ
ニルアセタール樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂
の合成においては、通常、酸化防止剤として用いられる
ヒンダードフェノール系、ビスフェノール系、リン酸系
等の酸化防止剤を使用しない。このような酸化防止剤を
使用すると、これがポリビニルアセタール樹脂又は変性
ポリビニルアセタール樹脂中に残存し、塗工溶液のポッ
トライフの低下、生フイルムの生保存性の低下等を引き
起こし、かぶりや画像/階調部の鮮明性が損なわれるこ
とがある。
In the acetalization reaction of polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol with an aldehyde, usually, in order to prevent oxidation of the aldehyde or to prevent oxidation of the obtained resin and to improve heat resistance, the reaction system or the resin system is oxidized. Although an antioxidant is added, in the synthesis of the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin of the present invention, an antioxidant such as a hindered phenol type, a bisphenol type, or a phosphoric acid type which is usually used as an antioxidant is used. do not do. When such an antioxidant is used, it remains in the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin, causing a decrease in the pot life of the coating solution, a decrease in the raw preservability of the raw film, etc. The clarity of the tone may be impaired.

【0028】ポリビニルアセタール樹脂の側鎖に変性基
を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を用いる場合、
変性基としては、−COOM、−CH2 COOM、−S
3M、−OSO3 M、−PO(OM)2 、−P(=
O)(R)(OM)、第三級アミン及び第四級アンモニ
ウム塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性
基団が用いられる。但し、Mは、H、Li、Na又はK
を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基
を表す。カルボキシル基としては、アクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸等が挙げられる。アルキル基として
は、炭素数1〜10のものが好ましく、例えばメチル
基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル
基、シクロヘキシル基等が挙げられる。第三級アミンと
しては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリエタノールアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン等が挙げられる。
When using a modified polyvinyl acetal resin having a modifying group in the side chain of the polyvinyl acetal resin,
The modifying group, -COOM, -CH 2 COOM, -S
O 3 M, -OSO 3 M, -PO (OM) 2 , -P (=
O) (R) (OM), at least one hydrophilic group selected from the group consisting of tertiary amines and quaternary ammonium salts is used. Here, M is H, Li, Na or K
And R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the carboxyl group include acrylic acid, maleic acid, and itaconic acid. The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. As the tertiary amine, for example, trimethylamine, triethylamine,
Triethanolamine, tripropylamine, tributylamine and the like can be mentioned.

【0029】このような変成ポリビニルアセタール樹脂
を得る方法としては、例えば、特開平2−220221
号公報に開示されているように、予め親水性基団を有す
るユニットを主鎖の形成位置に共存させておく方法、及
び主鎖の形成後にアルコール型ユニットの水酸基を利用
して親水性基団を導入する方法等が採用される。
A method for obtaining such a modified polyvinyl acetal resin is described in, for example, JP-A-2-220221.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-205, a method in which a unit having a hydrophilic group is coexisted at a position where a main chain is formed in advance, and a hydrophilic group is formed using a hydroxyl group of an alcohol-type unit after formation of the main chain. Is adopted.

【0030】変性ポリビニルアセタール樹脂中の変性基
の割合は、0.1〜5モル%とされる。この変性基の割
合が0.01モル%未満では、上記親水性基団を導入し
た効果、即ち、有機銀塩の分散性向上の効果が得られな
い。逆に、この変性基の割合が5モル%を超えると、有
機銀塩の分散性向上の効果が飽和するだけでなく、アセ
タール化後の溶剤に対する溶解性が低下する。
The ratio of the modifying group in the modified polyvinyl acetal resin is 0.1 to 5 mol%. When the ratio of the modifying group is less than 0.01 mol%, the effect of introducing the hydrophilic group, that is, the effect of improving the dispersibility of the organic silver salt cannot be obtained. Conversely, when the proportion of the modifying group exceeds 5 mol%, not only the effect of improving the dispersibility of the organic silver salt is saturated, but also the solubility in the solvent after acetalization is reduced.

【0031】こうして、本発明の熱現像性感光材料用ポ
リビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材料用変性ポ
リビニルアセタール樹脂が得られる。このようなポリビ
ニルアセタール樹脂及び変性ポリビニルアセタール樹脂
を用いて熱現像性感光材料が製造される。熱現像性感光
材料の配合は、上述のポリビニルアセタール樹脂及び変
性ポリビニルアセタール樹脂を用いること以外は、従来
の熱現像性感光材料の配合と変わらない。例えば、上述
のポリビニルアセタール樹脂又は変性ポリビニルアセタ
ール樹脂に、有機銀塩、還元剤、必要に応じて少量の感
光性ハロゲン化銀或いはハロゲン化銀形成成分、その他
の添加剤が配合される。上述のポリビニルアセタール樹
脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂は、有機銀塩に対
して重量比で1:10〜10:1が好ましく、より好ま
しくは1:5〜5:1である。
Thus, the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material and the modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material of the present invention are obtained. A heat-developable photosensitive material is produced using such a polyvinyl acetal resin and a modified polyvinyl acetal resin. The composition of the heat developable photosensitive material is the same as that of the conventional heat developable photosensitive material except that the above-mentioned polyvinyl acetal resin and modified polyvinyl acetal resin are used. For example, an organic silver salt, a reducing agent, and if necessary, a small amount of a photosensitive silver halide or a silver halide forming component, and other additives are blended with the above-mentioned polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin. The weight ratio of the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin to the organic silver salt is preferably 1:10 to 10: 1, more preferably 1: 5 to 5: 1.

【0032】有機銀塩は、光に比較的安定な無色又は白
色の銀塩であり、感光したハロゲン化銀の存在下で80
℃以上に加熱された時に、還元剤と反応して銀を生ずる
ものであれば特に限定されない。
The organic silver salt is a colorless or white silver salt which is relatively stable to light, and is 80% in the presence of a light-sensitive silver halide.
There is no particular limitation as long as it reacts with a reducing agent to generate silver when heated to a temperature of not less than ° C.

【0033】上記有機銀塩としては、例えば、メルカプ
ト基、チオン基又はカルボキシル基を有する有機化合物
の銀塩、ベンゾトリアゾール銀等が挙げられる。具体的
には、メルカプト基又はチオン基を有する化合物の銀
塩、3−メルカプト−4−フェニル1,2,4−トリア
ゾールの銀塩、2−メルカプト−ベンツイミダゾールの
銀塩、2−メルカプト−5−アミノチアゾールの銀塩、
1−フェニル−5−メルカプトテトラチアゾールの銀
塩、2−メルカプトベンゾチアゾールの銀塩、チオグリ
コール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩のようなジチオカル
ボン酸の銀塩、チオアミド銀、チオピリジン銀塩ジチオ
ヒドロキシベンゾールの銀塩、メルカプトトリアジンの
銀塩、メルカプトオキサジアゾールの銀塩、脂肪族カル
ボン酸の銀塩:カプリン酸銀、ラウリン酸銀、ミリスチ
ン酸銀、パルミチン酸銀、ステアリン酸銀、ベヘン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、フロイン酸
銀、リノール酸銀、オレイン酸銀、ヒドロキシステアリ
ン酸銀、アジピン酸銀、セバシン酸銀、こはく酸銀、酢
酸銀、酪酸銀、樟脳酸銀等、芳香族カルボン酸銀、チオ
ンカルボン酸銀、チオエーテル基を有する脂肪族カルボ
ン酸銀、テトラザインデンの銀塩、S−2−アミノフェ
ニルチオ硫酸銀、含金属アミノアルコール、有機酸金属
キレートなどが挙げられる。
Examples of the organic silver salts include silver salts of organic compounds having a mercapto group, a thione group or a carboxyl group, and benzotriazole silver. Specifically, silver salts of compounds having a mercapto group or a thione group, silver salts of 3-mercapto-4-phenyl1,2,4-triazole, silver salts of 2-mercapto-benzimidazole, 2-mercapto-5 A silver salt of aminothiazole,
Silver salt of dithiocarboxylic acid such as silver salt of 1-phenyl-5-mercaptotetrathiazole, silver salt of 2-mercaptobenzothiazole, silver salt of thioglycolic acid, silver salt of dithioacetic acid, thioamide silver, silver thiopyridine Silver salt of dithiohydroxybenzol, silver salt of mercaptotriazine, silver salt of mercaptooxadiazole, silver salt of aliphatic carboxylic acid: silver caprate, silver laurate, silver myristate, silver palmitate, silver stearate, behen Silver acid, silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver furoate, silver linoleate, silver oleate, silver hydroxystearate, silver adipate, silver sebacate, silver succinate, silver acetate, silver butyrate, camphor Silver carboxylate, silver thionate carboxylate, aliphatic carboxylate having a thioether group, tetrazaine Down the silver salt, S-2-aminophenyl silver thiosulfate, metal-containing amino alcohol, and an organic acid metal chelate.

【0034】上記有機酸銀塩のうち、好ましくは脂肪族
カルボン酸の銀塩であり、より好ましくはベヘン酸銀で
ある。上記有機酸銀塩の粒子サイズは、直径0.01〜
10μmが好ましく、より好ましくは0.1〜5μmで
ある。
Of the above organic silver salts, silver salts of aliphatic carboxylic acids are preferred, and silver behenate is more preferred. The particle size of the organic acid silver salt has a diameter of 0.01 to
It is preferably 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.

【0035】上記有機酸銀塩に感光性ハロゲン化銀が触
媒的に接触させられる場合がある。この場合は、例え
ば、予め調製された有機銀塩の溶液若しくは分散液、又
は、有機銀塩を含むフイルム材料に、ハロゲン化銀形成
成分を作用させて有機銀の一部をハロゲン化銀に形成す
る方法等が挙げられる。
In some cases, photosensitive silver halide is brought into catalytic contact with the organic silver salt. In this case, for example, a part of the organic silver is formed into silver halide by applying a silver halide forming component to a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a film material containing the organic silver salt. And the like.

【0036】感光性ハロゲン化銀形成成分としては、有
機銀塩に作用してハロゲン化銀を形成するものであれば
特に限定されず、有機銀塩100重量部に対して感光性
ハロゲン化銀0.0005〜0.2重量部用いられるの
が好ましく、より好ましくは0.01〜0.2重量部で
ある。
The photosensitive silver halide forming component is not particularly limited as long as it acts on an organic silver salt to form a silver halide. It is preferably used in an amount of 0.0005 to 0.2 part by weight, more preferably 0.01 to 0.2 part by weight.

【0037】また、熱現像性感光材料には、上記有機銀
塩とともに、還元剤が利用される。このような還元剤
は、特に限定されず、併用される有機銀塩により適宜選
択され、例えば、置換フェノール類、ビスフェノール
類、ナフトール類、ビスナフトール類、ポリヒドロキシ
ベンゼン類、ジ又はポリヒドロキシナフタレン類、ハイ
ドロキノンモノエーテル類、アスコルビン酸又はその誘
導体、還元性糖類、芳香族アミノ化合物、ヒドロキシア
ミン類、ヒドラジン類等が挙げられる。中でも、光分解
性の還元剤が好ましく用いられるが、熱分解性の還元剤
も使用される。更には、光分解を促進する化合物を併用
することができるし、ハロゲン化銀と還元剤との反応を
阻害するための被覆剤を併用することもできる。
In the heat-developable photosensitive material, a reducing agent is used together with the organic silver salt. Such a reducing agent is not particularly limited and is appropriately selected depending on the organic silver salt used in combination. For example, substituted phenols, bisphenols, naphthols, bisnaphthols, polyhydroxybenzenes, di- or polyhydroxynaphthalenes , Hydroquinone monoethers, ascorbic acid or derivatives thereof, reducing saccharides, aromatic amino compounds, hydroxyamines, hydrazines and the like. Among them, a photodecomposable reducing agent is preferably used, and a thermally decomposable reducing agent is also used. Further, a compound which promotes photolysis can be used in combination, and a coating agent for inhibiting the reaction between silver halide and a reducing agent can be used in combination.

【0038】本発明のポリビニルアセタール樹脂又は変
性ポリビニルアセタール樹脂を用いて熱現像性感光材料
を調製する方法としては、例えば、ポリビニルアセター
ル樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂、有機銀塩、
還元剤及び溶剤をボールミルで分散させた後、必要に応
じて、更にハロゲン化銀或いはハロゲン化銀形成成分、
各種添加剤を加えボールミルで分散させて調製する方法
等が挙げられる。
As a method for preparing a heat-developable photosensitive material using the polyvinyl acetal resin or the modified polyvinyl acetal resin of the present invention, for example, a polyvinyl acetal resin or a modified polyvinyl acetal resin, an organic silver salt,
After dispersing the reducing agent and the solvent in a ball mill, if necessary, further silver halide or a silver halide forming component,
A method of adding various additives and dispersing them with a ball mill to prepare them may be used.

【0039】上記溶剤としては、ポリビニルアセタール
樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂を溶解し、水分
の含有量がほとんどないものが好適に用いられる。中で
も、ケトン、エステル類が好ましく、より好ましくは、
ジエチルケトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等で
ある。溶剤として、エタノール、ノルマルプロピルアル
コール、イソプロピルアルコール等を用いる場合には、
脱水したものを用いることが好ましい。上記得られた分
散液を支持体上に有機銀塩が規定の量となるように塗布
し、溶剤を蒸発させて、熱現像性感光材料を得る。な
お、上記有機銀塩と還元剤とは、これ等を一括してポリ
ビニルアセタール樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹
脂に配合し、これを支持体上に一層に形成してもよい
が、上記有機銀塩と還元剤とを各別にポリビニルアセタ
ール樹脂又は変性ポリビニルアセタール樹脂に配合し、
これ等を支持体上に各別に二層に形成してもよい。
As the above-mentioned solvent, those which dissolve a polyvinyl acetal resin or a modified polyvinyl acetal resin and have almost no water content are preferably used. Among them, ketones and esters are preferable, and more preferably,
Diethyl ketone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate and the like. When using ethanol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, etc. as the solvent,
It is preferable to use a dehydrated one. The obtained dispersion is applied onto a support so that the organic silver salt is in a specified amount, and the solvent is evaporated to obtain a heat developable photosensitive material. In addition, the organic silver salt and the reducing agent may be mixed together in a polyvinyl acetal resin or a modified polyvinyl acetal resin, and may be formed on a support in a single layer. The reducing agent and each separately blended in polyvinyl acetal resin or modified polyvinyl acetal resin,
These may be separately formed in two layers on the support.

【0040】支持体としては、例えば、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリ
ビニルアセタール、セルロースエステル、セルロースト
リアセテート、ニトロセルロース、ポリエチレンナフタ
レート等のプラスチックフイルム、ガラス、紙、アルミ
ニウム板等の金属板などが用いられる。
As the support, for example, a plastic film such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polyvinyl acetal, cellulose ester, cellulose triacetate, nitrocellulose, polyethylene naphthalate and the like, and a metal plate such as glass, paper and aluminum plate are used. Can be

【0041】上記支持体上に塗布される銀は、支持体1
2 あたり0.1〜5gとなるように用いられることが
好ましく、より好ましくは0.3〜3gである。0.1
gより少ないと画像濃度が低くくなることがあり、5g
以上使用しても画像濃度の向上はみられない。
The silver coated on the above-mentioned support was
It is preferably used in an amount of 0.1 to 5 g per m 2 , and more preferably 0.3 to 3 g. 0.1
g, the image density may be low,
No improvement in image density is observed with the above use.

【0042】本発明において、銀により黒色画像を形成
させる場合には、添加剤として、色調剤が添加されても
よい。また、カラー画像を形成させる場合には、カラー
カプラー、ロイコ染料等が添加されてもよい。更に、場
合により増感剤等が添加されてもよい。
In the present invention, when a black image is formed with silver, a color tone agent may be added as an additive. When a color image is formed, a color coupler, a leuco dye and the like may be added. Further, a sensitizer or the like may be added as the case requires.

【0043】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニルア
セタール樹脂及び熱現像性感光材料用変性ポリビニルア
セタール樹脂並びに熱現像性感光材料は、上述の構成と
されることにより、ハロゲン化物の発生による感光性の
増加、銀塩の異常成長反応が抑えられ、不純物による塗
工液のポットライフ低下、シートの生保存性の低下等が
抑えられる。
The polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, the modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable light-sensitive material, and the heat-developable photosensitive material of the present invention have the above-mentioned constitution, and thus, the photosensitive property due to the generation of halide is obtained. , An abnormal growth reaction of the silver salt is suppressed, and a decrease in the pot life of the coating solution due to impurities and a decrease in the raw storage stability of the sheet are suppressed.

【0044】また、アセトアセタール部分を導入したポ
リビニルアセタール樹脂を用いる場合は、銀塩の分散性
が向上し、熱溶融性、冷却硬化性等がシャープとなり、
銀塩の核成長を精度よく制御することが可能であり、結
果として画像及び階調部の鮮明度が向上する。更には、
変性ポリビニルアセタール樹脂を用いる場合は、親水性
基団からなる変性基の作用により銀塩の分散性がさらに
向上して、画像及び階調部の鮮明度が向する。
When a polyvinyl acetal resin into which an acetoacetal moiety is introduced is used, the dispersibility of the silver salt is improved, and the heat melting property, cooling curability, and the like become sharp.
It is possible to precisely control the nucleus growth of the silver salt, and as a result, the sharpness of the image and the gradation portion is improved. Furthermore,
When a modified polyvinyl acetal resin is used, the dispersibility of the silver salt is further improved by the action of the modifying group comprising a hydrophilic group, and the sharpness of an image and a gradation portion is improved.

【0045】[0045]

【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明は、下記実施例のみに限
定されるものではない。 (実施例1)重合度500、ケン化度98%のポリビニ
ルアルコール100gを700gの蒸留水に加温溶解し
た後、20℃に保ち、これに35%塩酸29gを加え、
更にブチルアルデヒド14gを添加した。次に、12℃
まで冷却し、ブチルアルデヒド64gを加えた。樹脂が
析出した後、30分間保持し、その後、塩酸108gを
加え30℃に昇温して10時間保った。反応終了後、蒸
留水にて洗浄し、水洗後のポリビニルブチラール樹脂分
散溶液に水酸化ナトリウムを添加し溶液のPHを7に調
整した。溶液を50℃で10時間保持した後冷却した。
このとき溶液のPHは6.7であった。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples. (Example 1) 100 g of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 500 and a saponification degree of 98% was heated and dissolved in 700 g of distilled water, kept at 20 ° C, and 29 g of 35% hydrochloric acid was added thereto.
Further, 14 g of butyraldehyde was added. Next, 12 ° C
Then, 64 g of butyraldehyde was added. After the resin was precipitated, the mixture was kept for 30 minutes, and then 108 g of hydrochloric acid was added, the temperature was raised to 30 ° C., and the mixture was kept for 10 hours. After the completion of the reaction, the solution was washed with distilled water, and sodium hydroxide was added to the water-washed polyvinyl butyral resin dispersion to adjust the pH of the solution to 7. The solution was kept at 50 ° C. for 10 hours and then cooled.
At this time, the pH of the solution was 6.7.

【0046】次に、固形分に対し100倍量の蒸留水に
より溶液を水洗した後、更に、溶液を50℃で5時間保
持した後10倍量の蒸留水で水洗し、脱水した後に乾燥
した。このようにして得られたポリビニルブチラール樹
脂の残存水酸基量は21モル%、残存アセチル基量は
1.7モル%であった。また、残存塩素化物量は50p
pm、残存アルカリ性物質量は0.002重量%であっ
た。
Next, the solution was washed with 100 times the amount of distilled water with respect to the solid content, then the solution was kept at 50 ° C. for 5 hours, washed with 10 times the amount of distilled water, dehydrated, and dried. . The polyvinyl butyral resin thus obtained had a residual hydroxyl group content of 21 mol% and a residual acetyl group content of 1.7 mol%. The residual chlorinated product amount is 50p
pm, the amount of residual alkaline substance was 0.002% by weight.

【0047】上記塩素イオンの残存量の測定は、下記の
方法により行った。前処理(パイロハイドロリシス
法):ポリビニルブチラール樹脂試料約0.3gを磁性
ボートに秤り取り、1250℃に加熱した管状電気炉内
の石英管に徐々に挿入し、水蒸気を通過した酸素ガス
(0.5L/分)を挿入して加熱した。発生したガスを
吸収液(2.25mM Na2 CO3 −2.8mM N
aHCO3)に吸収させる(約30分)。吸収液を10
0mlの定溶とし、イオンクロマトグラフ(DONEX
社製DX−500)で測定した。空試験は、磁性ボート
のみを用いて同様に操作した。
The measurement of the residual amount of chlorine ions was carried out by the following method. Pretreatment (pyrohydrolysis method): Approximately 0.3 g of a polyvinyl butyral resin sample was weighed into a magnetic boat, gradually inserted into a quartz tube in a tubular electric furnace heated to 1250 ° C., and oxygen gas passed through water vapor ( (0.5 L / min) and heated. The generated gas was absorbed into an absorbing solution (2.25 mM Na 2 CO 3 -2.8 mM N).
aHCO 3 ) (about 30 minutes). 10 absorption liquids
0 ml constant solution and ion chromatography (DONEX
DX-500). The blank test was similarly operated using only the magnetic boat.

【0048】上記残存アルカリ性物質量の測定は、中和
滴定法により行った。試料として、ポリビニルブチラー
ル樹脂1gを、共通すり合わせ三角フラスコに1mgの
桁まで正確に秤り取り、エタノール30mlを加えて溶
解した。溶解後の溶液にフェノールフタレイン溶液3滴
を加え、溶液に0.02モル/Lの塩酸溶液で微紅色が
消失するまで滴定した。試料に加えた塩酸の量と等量と
なる水酸化カリウムの量を樹脂重量に対して算出し、残
存アルカリ性物質量とした。
The amount of the residual alkaline substance was measured by a neutralization titration method. As a sample, 1 g of a polyvinyl butyral resin was accurately weighed to the order of 1 mg in a common ground Erlenmeyer flask, and dissolved by adding 30 ml of ethanol. Three drops of the phenolphthalein solution were added to the solution after dissolution, and the solution was titrated with a 0.02 mol / L hydrochloric acid solution until the red color disappeared. The amount of potassium hydroxide equivalent to the amount of hydrochloric acid added to the sample was calculated based on the weight of the resin, and the amount was defined as the amount of residual alkaline substance.

【0049】ベヘン酸銀5g、ポリビニルブチラール5
g、ジエチルケトン40gを24時間ボールミルで混合
し、更に、N−ラウリル−1−ヒドロキシ−2−ナフト
アミド0.2gを加え、再びボールミルで粉砕して塗工
溶液を得た。得られた塗工溶液を、常温で3日間室内の
蛍光灯下に置き溶液の着色を観察したところ、白色のま
まで変化は無かった。
5 g of silver behenate and 5 of polyvinyl butyral
g and 40 g of diethyl ketone were mixed in a ball mill for 24 hours, 0.2 g of N-lauryl-1-hydroxy-2-naphthamide was further added, and the mixture was pulverized again in a ball mill to obtain a coating solution. The obtained coating solution was placed under an indoor fluorescent lamp at room temperature for 3 days, and the coloring of the solution was observed. As a result, there was no change in white color.

【0050】上記塗工溶液を、ポリエステル基材上に乾
燥後の厚みが10μmとなるように塗布して乾燥した。
この塗工面上に、N,N−ジメチル−p−フェニレンジ
アミン・硫酸塩0.5g、ポリビニルピロリドン2g、
メタノール30mlからなる溶液を乾燥後の厚みが1μ
mとなるように塗布して乾燥した。
The above coating solution was applied on a polyester substrate so that the thickness after drying was 10 μm, and dried.
0.5 g of N, N-dimethyl-p-phenylenediamine sulfate, 2 g of polyvinylpyrrolidone,
Thickness after drying a solution consisting of 30 ml of methanol is 1μ
m and dried.

【0051】このようにして得られた感光性フイルムを
階調パターンフイルムを通して250ワットの高圧水銀
等で20cmの距離で0.3秒間露光後、120℃の熱
板を用いて5秒間加熱してシアン色の良好なパターン画
像を得た。得られた画像は、白色光に曝しても、パター
ンのコントラストの変化は殆どなかった。
The photosensitive film thus obtained was exposed through a gradation pattern film with high-pressure mercury of 250 watts at a distance of 20 cm for 0.3 seconds, and then heated for 5 seconds using a hot plate at 120 ° C. A good pattern image of cyan color was obtained. The resulting image showed little change in pattern contrast when exposed to white light.

【0052】(実施例2)残存ハロゲン化物量90pp
mのポリビニルブチラール樹脂を使用した以外は実施例
1と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイルムを作
製した。得られた塗工溶液の着色、及び、感光性フイル
ムの感光後のフイルムの画像変化等は殆ど起こらなかっ
た。
Example 2 Remaining halide amount 90 pp
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin of m was used to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change of the film after exposure of the photosensitive film hardly occurred.

【0053】(実施例3)残存アルカリ性物質量0.0
09%のポリビニルブチラール樹脂を使用した以外は実
施例1と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイルム
を作製した。得られた塗工溶液の着色、及び、感光性フ
イルムの感光後のフイルムの画像変化等は殆ど起こらな
かった。
(Example 3) Amount of residual alkaline substance 0.0
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a 09% polyvinyl butyral resin was used, and a photosensitive film was produced. Coloring of the obtained coating solution and image change of the film after exposure of the photosensitive film hardly occurred.

【0054】(実施例4)ブチラール化度69モル%の
ポリビニルブチラール樹脂を使用した以外は実施例1と
同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイルムを作製し
た。得られた塗工溶液の着色、及び、感光性フイルムの
感光後の画像変化等は殆ど起こらなかった。
Example 4 A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin having a butyralization degree of 69 mol% was used, to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred.

【0055】(実施例5)残存アセチル基量11モル
%、残存水酸基量21モル%のポリビニルブチラール樹
脂を使用した以外は実施例1と同様にして塗工溶液を調
製し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液の
着色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化等は殆
ど起こらなかった。
Example 5 A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin having a residual acetyl group content of 11 mol% and a residual hydroxyl group content of 21 mol% was used to prepare a photosensitive film. did. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred.

【0056】[0056]

【0057】(実施例7)重合度500、ケン化度98
%のポリビニルアルコール132gを1600gの蒸留
水に加温溶解した後、20℃に保ち、これに35%塩酸
110gを加え、更にアセトアルデヒド30gを添加し
た。次に、12℃まで冷却し、ブチルアルデヒド40g
を加えた。樹脂が析出した後、30分間保持し、その後
60℃に昇温して4時間保った。反応終了後、蒸留水に
て洗浄し、水洗後のビニルアセタール樹脂分散液に炭酸
水素ナトリウムを添加して溶液のPHを8に調整した。
溶液を70℃で5時間保持した後冷却した。このときの
溶液のPHは8であった。
(Example 7) Degree of polymerization 500, degree of saponification 98
132 g of polyvinyl alcohol was dissolved in 1600 g of distilled water by heating, and then kept at 20 ° C., 110 g of 35% hydrochloric acid was added, and 30 g of acetaldehyde was further added. Next, the mixture was cooled to 12 ° C., and 40 g of butyraldehyde was added.
Was added. After the resin was precipitated, the temperature was maintained for 30 minutes, and then the temperature was raised to 60 ° C. and maintained for 4 hours. After the completion of the reaction, the resultant was washed with distilled water, and the pH of the solution was adjusted to 8 by adding sodium bicarbonate to the washed vinyl acetal resin dispersion.
The solution was kept at 70 ° C. for 5 hours and then cooled. The pH of the solution at this time was 8.

【0058】溶液を固形分に対し100倍量の蒸留水に
より再び水洗した後、溶液を50℃にて5時間保持した
後10倍量の蒸留水で水洗し、脱水した後に乾燥した。
このようにして得られたポリビニルアセタール樹脂の残
存水酸基量は24モル%、残存アセチル基量は1.5モ
ル%、アセトアセタール化度は39モル%(全アセター
ル化部分における割合は52.3%)、ブチラール化度
は35.5モル%であった。また、残存塩素化物量は2
0ppm、残存アルカリ性物質量は0.002重量%で
あった。なお、得られた塗工溶液は白色のままであり、
得られた感光性フイルムにおける画像は、白色光に曝し
てもパターンのコントラストの変化が殆どなく、得られ
た階調パターンは、パターン原板と比べて、最薄色階調
部で4%程度濃度が濃くなっているのみであった。
After the solution was washed again with 100 times the volume of distilled water with respect to the solid content, the solution was kept at 50 ° C. for 5 hours, washed with 10 times the volume of distilled water, dehydrated, and dried.
The residual hydroxyl group content of the polyvinyl acetal resin thus obtained was 24 mol%, the residual acetyl group content was 1.5 mol%, and the degree of acetoacetalization was 39 mol% (the ratio in all acetalized portions was 52.3%. ) And the butyral degree was 35.5 mol%. The amount of residual chlorinated product is 2
0 ppm and the amount of residual alkaline substance was 0.002% by weight. In addition, the obtained coating solution remains white,
The resulting image on the photosensitive film has almost no change in pattern contrast even when exposed to white light, and the obtained gradation pattern has a density of about 4% in the thinnest color gradation part compared to the original pattern. Was only getting darker.

【0059】(実施例8)残存ハロゲン化物量80pp
mのポリビニルアセタール樹脂を使用した以外は実施例
7と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイルムを作
製した。得られた塗工溶液の着色、及び、感光性フイル
ムの感光後のフイルムの画像変化は殆ど起こらなかっ
た。また、得られた階調パターンは、最薄色階調部で5
%程度濃度が濃くなっているのみであった。
(Example 8) Amount of residual halide is 80 pp
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 7 except that a polyvinyl acetal resin of m was used, to prepare a photosensitive film. Coloring of the resulting coating solution and image change of the film after exposure of the photosensitive film hardly occurred. The obtained gradation pattern is 5 in the lightest color gradation part.
Only the concentration was increased by about%.

【0060】(実施例9)残存アルカリ性物質量0.0
09重量%のポリビニルアセタール樹脂を使用した以外
は実施例7と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイ
ルムを作製した。得られた塗工溶液の着色、及び、感光
性フイルムの感光後の画像変化は殆ど起こらなかった。
また、得られた階調パターンも最薄色階調部で5%程度
濃度が濃くなっているのみであった。
Example 9 Amount of residual alkaline substance 0.0
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 7, except that a 09% by weight polyvinyl acetal resin was used, to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred.
Further, the obtained tone pattern also had only a density of about 5% in the lightest color tone portion.

【0061】(実施例10)アセトアセタール化度74
モル%(全アセタール化部分に対するアセトアセタール
化部分の割合は100%)のポリビニルアセタール樹脂
を使用した以外は実施例7と同様にして塗工溶液を調製
し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液の着
色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化は殆ど起
こらなかった。また、得られた階調パターンは、鮮明度
が実施例7と同等以上であり、最薄色階調部の濃度はパ
ターン原板とほぼ同一であった。
Example 10 Degree of acetoacetalization 74
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 7 except that a polyvinyl acetal resin of mol% (the ratio of the acetoacetalized portion to the total acetalized portion was 100%) was used to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred. Further, the obtained gradation pattern had a sharpness equal to or higher than that of Example 7, and the density of the lightest color gradation part was almost the same as that of the pattern original plate.

【0062】(実施例11)残存アセチル基量11モル
%、残存水酸基量24モル%、アセトアセタール化度6
5モル%(全アセタール化部分に対するアセトアセター
ル化部分の割合は100%)のポリビニルアセタール樹
脂を使用した以外は実施例7と同様にして塗工溶液を調
製し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液の
着色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化は殆ど
起こらなかった。また、得られた階調パターンは、鮮明
度が実施例7と同等以上であり、最薄色階調部の濃度が
パターン原板とほぼ同等であった。
Example 11 Residual acetyl group content 11 mol%, residual hydroxyl group content 24 mol%, degree of acetoacetalization 6
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 7 except that a polyvinyl acetal resin of 5 mol% (the ratio of the acetoacetalized portion to the entire acetalized portion was 100%) was used to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred. Further, the obtained tone pattern had a sharpness equal to or higher than that of Example 7, and the density of the lightest color tone portion was almost equal to that of the pattern original plate.

【0063】(実施例12)重合度500、残存水酸基
量22モル%、残存アセチル基量1.5モル%、全アセ
タール化度76.5モル%、アセトアセタール化度20
モル%(全アセタール化部分に対するアセトアセタール
化部分の割合は26%)、ブチラール化度56.5モル
%、残存ハロゲン化物量20ppmのポリビニルブチラ
ール樹脂を使用した以外は実施例7と同様にして塗工溶
液を調製し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工
溶液の着色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化
は殆ど起こらなかった。また、得られた階調パターン
は、実施例7に比べて階調部の鮮明度がやや劣ってお
り、最薄色階調部の濃度がパターン原板より10%程度
濃くなっており、階調のパターン変化がやや大きくなっ
ていた。
(Example 12) Degree of polymerization: 500, residual hydroxyl group content: 22 mol%, residual acetyl group content: 1.5 mol%, total acetalization degree: 76.5 mol%, acetoacetalization degree: 20
Coating was carried out in the same manner as in Example 7 except that a polyvinyl butyral resin having a mol% (the ratio of the acetoacetalized portion to the entire acetalized portion was 26%), a butyralization degree of 56.5 mol%, and a residual halide amount of 20 ppm was used. A working solution was prepared to prepare a photosensitive film. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred. In the obtained gradation pattern, the sharpness of the gradation part is slightly inferior to that of the seventh embodiment, and the density of the lightest color gradation part is about 10% higher than that of the pattern original. The pattern change was slightly larger.

【0064】(実施例13)重合度500、ケン化度9
7%のイタコン酸変性ポリビニルアルコール132gを
1600gの蒸留水に加温溶解した後、20℃に保ち、
これに35%塩酸110gを加え、次に、12℃まで冷
却し、ブチルアルデヒド80gを添加した。樹脂が析出
した後、30分間保持し、その後、30℃に昇温して7
時間保った。反応終了後、蒸留水にて洗浄し、水洗後の
変性ポリビニルブチラール樹脂分散溶液に水酸化ナトリ
ウムを添加し溶液のPHを8に調整した。溶液を60℃
で5時間保持した後冷却した。このとき溶液のPHは8
であった。
(Example 13) Degree of polymerization: 500, degree of saponification: 9
After heating and dissolving 132 g of 7% itaconic acid-modified polyvinyl alcohol in 1600 g of distilled water, the temperature was maintained at 20 ° C.
To this, 110 g of 35% hydrochloric acid was added, then cooled to 12 ° C. and 80 g of butyraldehyde was added. After the resin is precipitated, the temperature is maintained for 30 minutes, and then the temperature is raised to 30 ° C. for 7 minutes.
Time kept. After completion of the reaction, the solution was washed with distilled water, and sodium hydroxide was added to the water-washed modified polyvinyl butyral resin dispersion to adjust the pH of the solution to 8. Solution at 60 ° C
And then cooled for 5 hours. At this time, the pH of the solution was 8
Met.

【0065】次に、固形分に対し100倍量の蒸留水に
より溶液を水洗した後、更に、溶液を50℃で5時間保
持した後10倍量の蒸留水で水洗し、脱水した後に乾燥
した。このようにして得られたイタコン酸変性ポリビニ
ルブチラール樹脂の残存水酸基量は21モル%、残存ア
セチル基量は1.5モル%、ブチラール化度は25.5
モル%であった。また、残存塩素化物量は20ppm、
残存アルカリ性物質量は0.002重量%であった。
Next, the solution was washed with distilled water 100 times the solid content, and then the solution was kept at 50 ° C. for 5 hours, washed with 10 times the volume of distilled water, dehydrated, and dried. . The amount of residual hydroxyl groups of the itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin thus obtained was 21 mol%, the amount of residual acetyl groups was 1.5 mol%, and the degree of butyralization was 25.5.
Mol%. In addition, the residual chlorinated product amount is 20 ppm,
The amount of the remaining alkaline substance was 0.002% by weight.

【0066】ベヘン酸銀5g、イタコン酸変性ポリビニ
ルブチラール5g、ジエチルケトン40gを24時間ボ
ールミルで混合し、更に、N−ラウリル−1−ヒドロキ
シ−2−ナフトアミド0.2gを加え、再びボールミル
で粉砕して塗工溶液を得た。得られた塗工溶液を、常温
で3日間室内の蛍光灯下に置き溶液の着色を観察したと
ころ、白色のままで変化は無かった。
5 g of silver behenate, 5 g of itaconic acid-modified polyvinyl butyral and 40 g of diethyl ketone were mixed in a ball mill for 24 hours, 0.2 g of N-lauryl-1-hydroxy-2-naphthamide was added, and the mixture was pulverized again in a ball mill. To obtain a coating solution. The obtained coating solution was placed under an indoor fluorescent lamp at room temperature for 3 days, and the coloring of the solution was observed. As a result, there was no change in white color.

【0067】上記塗工溶液を、ポリエステル基材上に乾
燥後の厚みが10μmとなるように塗布して乾燥した。
この塗工面上に、N,N−ジメチル−p−フェニレンジ
アミン・硫酸塩0.5g、ポリビニルピロリドン2g、
メタノール30mlからなる溶液を乾燥後の厚みが1μ
mとなるように塗布して乾燥した。
The above coating solution was applied on a polyester substrate so that the thickness after drying was 10 μm, and dried.
0.5 g of N, N-dimethyl-p-phenylenediamine sulfate, 2 g of polyvinylpyrrolidone,
Thickness after drying a solution consisting of 30 ml of methanol is 1μ
m and dried.

【0068】このようにして得られた感光性フイルムを
階調パターンフイルムを通して250ワットの高圧水銀
灯で20cmの距離で0.3秒間露光後、130℃の熱
板を用いて5秒間加熱してシアン色の良好なパターン画
像を得た。得られた画像は、白色光に曝しても、パター
ンのコントラストの変化は殆どなかった。また、最白色
階調部の濃度は原板より2%濃くなっているのみであっ
た。また、階調部の境界ははっきりしていた。
The photosensitive film thus obtained was exposed through a gradation pattern film with a 250-watt high-pressure mercury lamp at a distance of 20 cm for 0.3 seconds, and then heated for 5 seconds using a hot plate at 130 ° C. to obtain cyan. A good color pattern image was obtained. The resulting image showed little change in pattern contrast when exposed to white light. Further, the density of the whitest gradation part was only 2% higher than that of the original plate. Also, the boundary of the gradation part was clear.

【0069】(実施例14)残存ハロゲン化物量が80
ppmであること以外は実施例13と同様のイタコン酸
変性ポリビニルブチラール樹脂を使用した。それ以外
は、実施例13と同様にして塗工溶液を調製し、感光性
フイルムを作製した。得られた塗工溶液の着色、及び、
感光性フイルムの感光後のフイルムの画像変化等は殆ど
起こらなかった。また、得られた階調パターンも最薄色
階調部でパターン原板と比べて3%程度濃度が濃くなっ
ていた。
(Example 14) The amount of residual halide was 80
The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin as in Example 13 was used except that the content was ppm. Otherwise, the procedure of Example 13 was repeated to prepare a coating solution, and a photosensitive film was prepared. Coloring of the obtained coating solution, and
Image change of the film after exposure of the photosensitive film hardly occurred. The density of the obtained tone pattern was also about 3% higher than that of the pattern original in the lightest color tone portion.

【0070】(実施例15)残存アルカリ性物質量が
0.009%であること以外は実施例13と同様のイタ
コン酸変性ポリビニルブチラール樹脂を使用した。それ
以外は、実施例13と同様にして塗工溶液を調製し、感
光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液の着色、及
び、感光性フイルムの感光後のフイルムの画像変化等は
殆ど起こらなかった。また、階調パターンは実施例14
と同等であった。
Example 15 The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin as in Example 13 was used except that the amount of the remaining alkaline substance was 0.009%. Otherwise, the procedure of Example 13 was repeated to prepare a coating solution, and a photosensitive film was prepared. Coloring of the obtained coating solution and image change of the film after exposure of the photosensitive film hardly occurred. Further, the gradation pattern is the same as that of Example 14
Was equivalent to

【0071】(実施例16)アセトアセタール化度が7
4モル%(全アセタール化度に対するアセトアセタール
化部分の割合が100%)であること以外は実施例13
と同様のイタコン酸変性ポリビニルブチラール樹脂を使
用した。それ以外は、実施例13と同様にして塗工溶液
を調製し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶
液の着色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化等
は殆ど起こらなかった。また、階調部の鮮明度は実施例
13と同等以上で、階調パターンの最薄色階調部の濃度
はパターン原板とほぼ同じであった。
Example 16 The degree of acetoacetalization was 7
Example 13 except that it was 4 mol% (the ratio of the acetoacetalized portion to the total acetalization degree was 100%).
The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin was used. Otherwise, the procedure of Example 13 was repeated to prepare a coating solution, and a photosensitive film was prepared. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred. The sharpness of the gradation part was equal to or higher than that of Example 13, and the density of the lightest color gradation part of the gradation pattern was almost the same as that of the pattern original plate.

【0072】(実施例17)残存アセチル基が11モル
%、残存水酸基が24モル%、アセトアセタール化度6
5モル%(全アセタール化度に対するアセトアセタール
化部分の割合が100%)であること以外は実施例13
と同様のイタコン酸変性ポリビニルブチラール樹脂を使
用した。それ以外は、実施例13と同様にして塗工溶液
を調製し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶
液の着色、及び、感光性フイルムの感光後の画像変化等
は殆ど起こらなかった。また、階調パターンの画像も実
施例16と同じであった。
Example 17 Residual acetyl groups were 11 mol%, residual hydroxyl groups were 24 mol%, and acetoacetalization degree was 6
Example 13 except that it was 5 mol% (the ratio of the acetoacetalized portion to the total acetalization degree was 100%).
The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin was used. Otherwise, the procedure of Example 13 was repeated to prepare a coating solution, and a photosensitive film was prepared. Coloring of the obtained coating solution and image change after exposure of the photosensitive film hardly occurred. Further, the image of the gradation pattern was the same as that of Example 16.

【0073】(比較例1)残存ハロゲン化物量150p
pmのポリビニルブチラール樹脂を使用した以外は実施
例1と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイルムを
作製した。得られた塗工溶液は僅かに着色しており、得
られた感光性フイルムも感光後にはかぶりがやや発生し
た。
(Comparative Example 1) Amount of residual halide 150p
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin of pm was used to prepare a photosensitive film. The obtained coating solution was slightly colored, and the obtained photosensitive film also slightly fogged after exposure.

【0074】(比較例2)酸化防止剤として2,2’−
メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェ
ノール)を、ポリビニルブチラール樹脂中で500pp
mとなるように添加した以外は比較例1と同様の方法で
塗工溶液を調製し、感光性フイルムを作製した。得られ
た塗工溶液は大きく着色しており、得られた感光性フイ
ルムも感光後にはかぶりが多く発生した。
(Comparative Example 2) 2,2'-
Methylene bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) was converted to 500 pp in polyvinyl butyral resin.
A coating solution was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the addition was performed so as to obtain m, thereby preparing a photosensitive film. The obtained coating solution was greatly colored, and the obtained photosensitive film was also frequently fogged after exposure.

【0075】(比較例3)残存水酸基量37モル%、残
存アセチル基量1.5モル%のポリビニルブチラール樹
脂を用いた以外は実施例1と同様にして塗工溶液を調製
し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液はや
や着色しており、得られた感光性フイルムも感光後には
かぶりがやや発生した。
Comparative Example 3 A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin having a residual hydroxyl group content of 37 mol% and a residual acetyl group content of 1.5 mol% was used. Was prepared. The obtained coating solution was slightly colored, and the obtained photosensitive film was slightly fogged after exposure.

【0076】(比較例4)残存水酸基量10モル%、残
存アセチル基量30モル%のポリビニルブチラール樹脂
を用いた以外は実施例1と同様にして塗工溶液を調製
し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液に着
色はなかったが、得られた感光性フイルムを重ねて保管
しておいたところ、35℃でブロッキングを起こし、得
られた感光後の画像も境界面で鮮明さがなくなった。
Comparative Example 4 A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyvinyl butyral resin having a residual hydroxyl group content of 10 mol% and a residual acetyl group content of 30 mol% was used to prepare a photosensitive film. did. Although the obtained coating solution was not colored, when the obtained photosensitive film was layered and stored, blocking occurred at 35 ° C., and the resulting exposed image had sharpness at the boundary surface. lost.

【0077】(比較例5)酸化防止剤として2,2’−
メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェ
ノール)を、ポリビニルアセタール樹脂中に500pp
m添加した以外は実施例7と同様にして塗工溶液を調製
し、感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液は大
きく着色しており、感光性フイルムは感光後かぶりが多
く発生した。
(Comparative Example 5) 2,2'-
Methylene bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) was added to a polyvinyl acetal resin at 500 pp.
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 7, except that m was added, to prepare a photosensitive film. The obtained coating solution was greatly colored, and the photosensitive film was frequently fogged after exposure.

【0078】[0078]

【0079】(比較例) 酸化防止剤として2,2’−メチレンビス(4−エチル
−6−tert−ブチルフェノール)を、ポリビニルブ
チラール樹脂中で500ppmとなるように添加した。
それ以外は実施例13と同様にして塗工溶液を調製し、
感光性フイルムを作製した。得られた塗工溶液は大きく
着色しており、得られた感光性フイルムも感光後にはか
ぶりが多く発生した。
(Comparative Example 6 ) 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) was added as an antioxidant so as to be 500 ppm in a polyvinyl butyral resin.
Otherwise, a coating solution was prepared in the same manner as in Example 13,
A photosensitive film was produced. The obtained coating solution was greatly colored, and the obtained photosensitive film was also frequently fogged after exposure.

【0080】(比較例) 残存水酸基量が37モル%、残存アセチル基量が1.5
モル%であること以外は実施例13と同様のイタコン酸
変性ポリビニルブチラール樹脂を使用した。それ以外
は、実施例13と同様にして塗工溶液を調製し、感光性
フイルムを作製した。得られた塗工溶液はやや着色して
おり、得られた感光性フイルムも感光後にはかぶりがや
や発生した。
(Comparative Example 7 ) The amount of residual hydroxyl groups was 37 mol% and the amount of residual acetyl groups was 1.5
The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin as in Example 13 was used except that it was mol%. Otherwise, the procedure of Example 13 was repeated to prepare a coating solution, and a photosensitive film was prepared. The obtained coating solution was slightly colored, and the obtained photosensitive film was slightly fogged after exposure.

【0081】(比較例) 残存水酸基量が20モル%、残存アセチル基量が28モ
ル%であること以外は実施例13と同様のイタコン酸変
性ポリビニルブチラール樹脂を使用した。それ以外は、
実施例13と同様にして塗工溶液を調製し、感光性フイ
ルムを作製した。得られた塗工溶液は溶解性が不良であ
った。得られた感光性フイルムも感光後の画像も境界面
で鮮明さがなくなっていた。
(Comparative Example 8 ) The same itaconic acid-modified polyvinyl butyral resin as in Example 13 was used except that the residual hydroxyl group content was 20 mol% and the residual acetyl group content was 28 mol%. Other than that,
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 13 to prepare a photosensitive film. The obtained coating solution had poor solubility. Neither the obtained photosensitive film nor the image after exposure was sharp at the boundary.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明の熱現像性感光材料用ポリビニル
アセタール樹脂及び熱現像性感光材料用変性ポリビニル
アセタール樹脂並びに熱現像性感光材料は、上述の構成
とされることにより、塗工溶液の保存性に優れ、また生
フイルムの保存性にも優れ、しかも得られる感光性フイ
ルムの感光後の保存性が良好で、優れた画像特性を示
す。
According to the present invention, the polyvinyl acetal resin for a photothermographic material, the modified polyvinyl acetal resin for a photothermographic material and the photothermographic material according to the present invention have the above-mentioned constitution, and can be used to store a coating solution. In addition, the resulting photosensitive film has excellent storage stability after exposure, and has excellent image characteristics.

【0083】また、銀塩の分散性が向上し、熱溶融性、
冷却硬化性等がシャープとなり、銀塩の核成長を精度よ
く制御することが可能であり、結果として画像及び階調
部の鮮明度が向上する。
Further, the dispersibility of the silver salt is improved,
The cooling hardenability and the like become sharp, and the nucleus growth of the silver salt can be controlled with high accuracy. As a result, the sharpness of the image and the gradation portion is improved.

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ポリビニルアルコールとアルデヒドとの
アセタール化反応により合成されるポリビニルアセター
ル樹脂であって、重合度が200〜3000の範囲にあ
り、アセタール基を1つの側鎖として数えた場合、及
び、アセタール基をアセタール化された2つの水酸基と
して数えた場合、いずれにおいても、残存アセチル基の
割合が0〜25モル%、残存水酸基の割合が17〜35
モル%の範囲にあり、酸化防止剤を含有せず、残存ハロ
ゲン化物量が100ppm以下であることを特徴とする
熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂。
1. A polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and an aldehyde, wherein the degree of polymerization is in the range of 200 to 3000, and when the acetal group is counted as one side chain,
And the acetal group is replaced with two acetalized hydroxyl groups.
In all cases, the ratio of the residual acetyl group was 0 to 25 mol%, and the ratio of the residual hydroxyl group was 17 to 35.
A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, wherein the polyvinyl acetal resin contains no antioxidant and has a residual halide content of 100 ppm or less.
【請求項2】 ポリビニルアルコールとブチルアルデヒ
ドとのアセタール化反応により合成されるポリビニルア
セタール樹脂であって、重合度が200〜3000の範
囲にあり、アセタール基を1つの側鎖として数えた場
合、及び、アセタール基をアセタール化された2つの水
酸基として数えた場合、いずれにおいても、残存アセチ
ル基の割合が0〜25モル%、残存水酸基の割合が17
〜35モル%の範囲にあり、酸化防止剤を含有せず、残
存ハロゲン化物量が100ppm以下であることを特徴
とする熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂。
2. A polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and butyraldehyde, wherein the degree of polymerization is in the range of 200 to 3000 and the acetal group is counted as one side chain.
And two waters with acetalized acetal groups
When counted as an acid group, in each case, the ratio of the residual acetyl group was 0 to 25 mol%, and the ratio of the residual hydroxyl group was 17%.
A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, characterized by containing no antioxidant and having a residual halide content of 100 ppm or less.
【請求項3】 ポリビニルアルコールとブチルアルデヒ
ドとアセトアルデヒドとのアセタール化反応により合成
されるポリビニルアセタール樹脂であって、重合度が2
00〜3000の範囲にあり、アセタール基を1つの側
鎖として数えた場合、及び、アセタール基をアセタール
化された2つの水酸基として数えた場合、いずれにおい
ても、残存アセチル基の割合が0〜25モル%、残存水
酸基の割合が17〜35モル%、アセタール化された部
分全体におけるアセトアルデヒドによりアセタール化さ
れた部分の割合が30〜100%の範囲にあり、酸化防
止剤を含有せず、残存ハロゲン化物量が100ppm以
下であることを特徴とする熱現像性感光材料用ポリビニ
ルアセタール樹脂。
3. A polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction of polyvinyl alcohol, butyraldehyde and acetaldehyde, wherein the degree of polymerization is 2
In the range of 00 to 3000, with the acetal group on one side
When counted as a chain and when acetal group is acetal
If it is counted as two hydroxyl groups,
However, the proportion of the residual acetyl group is in the range of 0 to 25 mol%, the proportion of the residual hydroxyl group is in the range of 17 to 35 mol%, and the proportion of the portion acetalized by acetaldehyde in the entire acetalized portion is in the range of 30 to 100%. A polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, which does not contain an antioxidant and has a residual halide content of 100 ppm or less.
【請求項4】 ポリビニルアルコールとアルデヒドとの
アセタール化反応により合成され、側鎖に下記の変性基
を有する変性ポリビニルアセタール樹脂であって、重合
度が200〜3000の範囲にあり、アセタール基を1
つの側鎖として数えた場合、及び、アセタール基をアセ
タール化された2つの水酸基として数えた場合、いずれ
においても、残存アセチル基の割合が0〜25モル%、
残存水酸基の割合が17〜35モル%の範囲にあり、変
性基の割合が0.1〜5モル%の範囲にあり、酸化防止
剤を含有せず、残存ハロゲン化物量が100ppm以下
であることを特徴とする熱現像性感光材料用変性ポリビ
ニルアセタール樹脂。ここで、変性基は、−COOM、
−CH2 COOM、−SO3 M、−OSO3 M、−PO
(OM)2 、−P(=O)(R)(OM)、第三級アミ
ン及び第四級アンモニウム塩からなる群より選ばれる少
なくとも1種の親水性基団からなる(但し、Mは、H、
Li、Na又はKを表し、Rは水素原子又は炭素数1〜
20のアルキル基を表す。)
4. A modified polyvinyl acetal resin synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and an aldehyde and having the following modifying group in a side chain, wherein the degree of polymerization is in the range of 200 to 3000 and the acetal group is 1
When counted as two side chains, and the acetal group
When counted as two tarylated hydroxyl groups,
In the above, the ratio of the residual acetyl group is 0 to 25 mol%,
The ratio of residual hydroxyl groups is in the range of 17 to 35 mol%, the ratio of modifying groups is in the range of 0.1 to 5 mol%, does not contain an antioxidant, and the amount of residual halide is 100 ppm or less. A modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material, comprising: Here, the modifying group is -COOM,
-CH 2 COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO
(OM) 2 , -P (OO) (R) (OM), at least one hydrophilic group selected from the group consisting of tertiary amines and quaternary ammonium salts (where M is H,
Represents Li, Na or K, and R represents a hydrogen atom or a carbon number of 1 to
Represents 20 alkyl groups. )
【請求項5】 ポリビニルアセタール樹脂中の残存アル
カリ性物質量が、0.01重量%以下であることを特徴
とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱現像性感
光材料用ポリビニルアセタール樹脂。
5. The polyvinyl acetal for a heat-developable photosensitive material according to claim 1, wherein the amount of the remaining alkaline substance in the polyvinyl acetal resin is 0.01% by weight or less. resin.
【請求項6】 変性ポリビニルアセタール樹脂中の残存
アルカリ性物質量が、0.01重量%以下であることを
特徴とする請求項4に記載の熱現像性感光材料用変性ポ
リビニルアセタール樹脂。
6. The modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to claim 4, wherein the amount of residual alkaline substance in the modified polyvinyl acetal resin is 0.01% by weight or less.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱
現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂又は熱現像
性感光材料用変性ポリビニルアセタール樹脂が用いられ
てなることを特徴とする熱現像性感光材料。
7. A heat development method comprising using the polyvinyl acetal resin for a heat-developable photosensitive material according to claim 1 or a modified polyvinyl acetal resin for a heat-developable light-sensitive material. Photosensitive material.
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