JP2002201046A - Reclaiming method of glass substrate, production method of dry plate and reclaiming apparatus of glass substrate - Google Patents

Reclaiming method of glass substrate, production method of dry plate and reclaiming apparatus of glass substrate

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JP2002201046A
JP2002201046A JP2000398267A JP2000398267A JP2002201046A JP 2002201046 A JP2002201046 A JP 2002201046A JP 2000398267 A JP2000398267 A JP 2000398267A JP 2000398267 A JP2000398267 A JP 2000398267A JP 2002201046 A JP2002201046 A JP 2002201046A
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JP
Japan
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glass substrate
glass
treatment
dry plate
layer
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JP2000398267A
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Japanese (ja)
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Toshiichi Sato
敏一 佐藤
Hiroshi Nakamura
浩 中村
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Fujifilm Holdings Corp
Sano Fuji Koki Co Ltd
Original Assignee
Sano Fuji Koki Co Ltd
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075Cleaning of glass

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  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the cost of a glass substrate for a dry plate reducing waste materials by reusing the reclaimed glass substrate as a glass dry plate, according to reclaiming a used glass substrate or a defective glass substrate having a photosensitive emulsion layer or an undercoating layer, during producing process or after producing. SOLUTION: The glass substrate having at least one layer of a photosensitive emulsion layer, an antihalation layer or an undercoating layer is uncoating processed by the solution containing at least one kind of alkali compounds or at least two kinds of acid compounds, and the glass substrate is reclaimed by cleaning or inactivating if necessary.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、写真乾板に用いる
ガラス基板(ガラス支持体)の再生方法、それを用いた
写真乾板の製造方法及びガラス基板再生装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for regenerating a glass substrate (glass support) used for a photographic plate, a method for manufacturing a photographic plate using the same, and a glass substrate reproducing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス基板上にハロゲン化銀写真乳剤層
を有するガラス乾板は寸法安定性に優れるため、精密度
が要求されるIC用のフォトマスクやCRTのシャドウ
マスク、リードフレーム、各種ディスプレイ、積層基板
関係のフォトマスクとして用いられている。かかるガラ
ス乾板は微細パターンを焼き付けて原画パターンを形成
し、それをマスクとして別のガラス乾板に密着露光して
パターンを複製したり、あるいはフォトレジスト層を有
する基板に密着露光して原画パターンを転写して多数枚
のフォトレジストパターンを得るために使用される。
2. Description of the Related Art A glass dry plate having a silver halide photographic emulsion layer on a glass substrate is excellent in dimensional stability. It is used as a photomask for laminated substrates. Such a glass dry plate is used to bake a fine pattern to form an original pattern, and then use the mask as a mask to contact and expose another glass dry plate to duplicate the pattern, or to transfer the original pattern by contact exposure to a substrate having a photoresist layer. To obtain a large number of photoresist patterns.

【0003】このようにガラス乾板には高い精密度が要
求されているため、その支持体として用いられるガラス
基板は、ガラスメーカーでの特別な選別を経た後、乾板
メーカーにて更に検査をしており、ガラス気泡、ガラス
中異物、擦り傷等の非常に少ない、高品質のガラス基板
のみを使用している。
[0003] As described above, since high precision is required for a glass dry plate, a glass substrate used as a support is subjected to special screening by a glass maker, and further inspected by a dry plate maker. Only high-quality glass substrates with very few glass bubbles, foreign substances in glass, scratches, etc. are used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような特別検査
を実施した高品質、高価格のガラス板を用いているにも
かかわらず、従来、ガラス乾板の製造工程や製造後の保
存状態での有効期限切れその他の理由で不良となったガ
ラス基板やユーザーで使用済みとなったガラス乾板は、
そのまま廃棄処分とされていた。
In spite of using a high quality and high price glass plate which has been subjected to the special inspection as described above, conventionally, the glass dry plate has not been used in the manufacturing process or in a storage state after manufacturing. Glass substrates that have become defective due to expiration or other reasons, or that have been used by a user,
It was just disposed of.

【0005】従って本発明の目的は、感光性乳剤層や下
塗り層を有する、製造工程中または製造後に不良品扱い
となったガラス基板や使用済みのガラス基板を再生し、
ガラス乾板として再使用することのできる方法を提供す
ることにある。これにより、廃棄材料(ガラス)を削減
できるとともに、乾板用ガラス基板のコストダウンを達
成できる。
Accordingly, an object of the present invention is to recycle a glass substrate having a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer, which has become a defective product during or after the manufacturing process or a used glass substrate,
An object of the present invention is to provide a method which can be reused as a glass plate. As a result, waste material (glass) can be reduced, and the cost of the glass substrate for a dry plate can be reduced.

【0006】本発明の更なる目的は、再生したガラス基
板を用いても十分に高品質のガラス乾板を製造できる方
法を提供することにある。
It is a further object of the present invention to provide a method for producing a sufficiently high quality glass dry plate using a recycled glass substrate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは種々検討を
重ねた結果、製造工程中または製造後に不良品扱いとな
ったガラス乾板や使用済みのガラス乾板、すなわち感光
性乳剤層や下塗り層を有するガラス基板を、少なくとも
1種のアルカリ化合物を含有する水溶液か、または少な
くとも2種の酸化合物を含有する水溶液で処理すること
により、該層を除去(以下「脱膜」とも称する)するこ
とができ、ガラス基板を再生できることを見出したもの
である。すなわち、本発明は下記の構成によりなるもの
である。
As a result of various studies, the present inventors have found that a glass dry plate or a used glass dry plate that has been treated as a defective product during or after the manufacturing process, that is, a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer. By treating the glass substrate having the above with an aqueous solution containing at least one alkali compound or an aqueous solution containing at least two acid compounds (hereinafter also referred to as “film removal”). And found that the glass substrate can be recycled. That is, the present invention has the following configuration.

【0008】(1)感光性乳剤層、ハレーション防止層
および下塗り層のうちの少なくとも一層を有するガラス
基板を、少なくとも1種のアルカリ化合物、または少な
くとも2種の酸化合物を含有する水溶液を用いて脱膜処
理することを特徴とするガラス基板の再生方法。 (2)上記(1)記載の方法により処理したガラス基板
を少なくとも1回洗浄処理することを特徴とするガラス
基板の再生方法。
(1) A glass substrate having at least one of a photosensitive emulsion layer, an antihalation layer and an undercoat layer is removed using an aqueous solution containing at least one alkali compound or at least two acid compounds. A method for reclaiming a glass substrate, comprising performing a film treatment. (2) A method for regenerating a glass substrate, wherein the glass substrate treated by the method described in (1) is washed at least once.

【0009】(3)上記(1)または(2)記載の方法
により処理したガラス基板を、界面活性剤、水溶性高分
子及び有機酸から選択される少なくとも1種の化合物を
含有する水溶液を用いて不活性化処理することを特徴と
するガラス基板の再生方法。 (4)脱膜処理に用いた水溶液を回収することを特徴と
する上記(1)〜(3)のいずれかに記載のガラス基板
の再生方法。
(3) A glass substrate treated by the method described in (1) or (2) above is treated with an aqueous solution containing at least one compound selected from a surfactant, a water-soluble polymer and an organic acid. A method of regenerating a glass substrate, wherein the glass substrate is subjected to a passivation treatment. (4) The method for recycling a glass substrate according to any one of the above (1) to (3), wherein the aqueous solution used for the film removal treatment is collected.

【0010】(5)上記(1)〜(4)のいずれかに記
載の方法で再生したガラス基板を非接触保存することを
特徴とするガラス基板の再生方法。 (6)上記(1)〜(5)のいずれかに記載の方法で再
生したガラス基板に、感光性乳剤層または下塗り層を塗
布することを特徴とする乾板の製造方法。
(5) A method for regenerating a glass substrate, wherein the glass substrate regenerated by the method according to any one of (1) to (4) is stored in a non-contact manner. (6) A method for producing a dry plate, comprising applying a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer to a glass substrate regenerated by the method according to any one of (1) to (5).

【0011】(7)感光性乳剤層または下塗り層の塗布
前に、再生したガラス基板上に付着した異物を除去する
ことを特徴とする上記(6)に記載の乾板の製造方法。 (8)ガラス基板の再生終了時から、感光性乳剤層また
は下塗り層の塗布開始までの時間を適正化することを特
徴とする上記(6)または(7)に記載の乾板の製造方
法。
(7) The method for producing a dry plate as described in the above item (6), wherein, before coating the photosensitive emulsion layer or the undercoat layer, foreign substances adhering to the recycled glass substrate are removed. (8) The method for producing a dry plate as described in (6) or (7) above, wherein the time from the end of regeneration of the glass substrate to the start of application of the photosensitive emulsion layer or the undercoat layer is optimized.

【0012】(9)ガラス基板上の感光性乳剤層又は下
塗り層を除去する脱離処理槽、脱離処理したガラス基板
を洗浄する洗浄槽、脱離洗浄処理したガラス基板を不活
性化処理する不活性化処理槽、及び脱離処理槽中の脱離
液を回収する回収槽を含有することからなるガラス基板
の再生装置。
(9) A desorption treatment tank for removing the photosensitive emulsion layer or the undercoat layer on the glass substrate, a cleaning tank for cleaning the desorption-treated glass substrate, and a deactivation treatment for the desorption-cleaned glass substrate. An apparatus for regenerating a glass substrate, comprising a deactivation treatment tank and a collection tank for collecting a desorbed liquid in the desorption treatment tank.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明を更に詳述する。本
発明におけるガラス基板(支持体)は、ガラス組成にお
いて特に制限はないが、ソーダ石灰ガラスやソーダ石灰
アルミガラス、ソーダライムガラス、ホワイトクラウン
ガラス、低膨張ガラス、無アルカリガラス、合成石英ガ
ラス、低アルカリガラス等が好ましい。フロートガラス
を使用する場合はフロートガラス製造時に付着するスズ
や断裁時に付着するガラスカレットがガラス面上に残っ
ているとパターン形成時に欠陥となるため、前処理で除
去したものが好ましい。また、親水性コロイド層用塗布
液の塗布の前に予め表面が脱グリースされ、親水性を改
善する前処理がなされていることが好ましい。また、支
持体の端面は研磨されたものが取扱い上好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The glass substrate (support) in the present invention is not particularly limited in glass composition, but may be soda lime glass, soda lime aluminum glass, soda lime glass, white crown glass, low expansion glass, alkali-free glass, synthetic quartz glass, Alkali glass and the like are preferred. If float glass is used, tin adhered during float glass production or glass cullet adhered during cutting remains on the glass surface, which becomes a defect during pattern formation, and is preferably removed by pretreatment. In addition, it is preferable that the surface is degreased in advance before the application of the coating liquid for a hydrophilic colloid layer, and a pretreatment for improving hydrophilicity is performed. The end face of the support is preferably polished for handling.

【0014】本発明に用いられるガラス基板は、感光性
乳剤層や必要に応じて乳剤層の上に保護層、乳剤層の下
に下塗り層(下引層)等の種々の親水性コロイド層を有
するものである。また、基板裏面にハレーション防止層
を設けたものでもよい。具体的には、ハイレゾリューシ
ョン、リス、ラス、明室乾板等の乾板が挙げられる。本
発明の感光性乳剤層としては、本分野で通常用いられる
ハロゲン化銀乳剤層を用いることができる。その他本分
野で通常用いられる種々の写真添加剤(増感色素、硬膜
剤、可塑剤など)を乳剤層その他の親水性コロイド層に
含有していてもよい。
The glass substrate used in the present invention comprises various hydrophilic colloid layers such as a protective layer above the photosensitive emulsion layer and, if necessary, an undercoat layer (undercoat layer) below the emulsion layer. Have Further, a substrate provided with an antihalation layer on the back surface of the substrate may be used. Specific examples include high resolution, squirrel, lath, and dry plates such as bright room dry plates. As the photosensitive emulsion layer of the present invention, a silver halide emulsion layer usually used in this field can be used. In addition, various photographic additives (sensitizing dyes, hardeners, plasticizers, etc.) usually used in this field may be contained in the emulsion layer and other hydrophilic colloid layers.

【0015】本発明では、かかる感光性乳剤層等を有す
るガラス基板を、少なくとも1種のアルカリ化合物、ま
たは少なくとも2種の酸化合物を含有する水溶液(以
下、脱膜液と称することもある)に浸漬することによ
り、乳剤層等を溶出し、ガラス基板から除去することが
できる。
In the present invention, a glass substrate having such a photosensitive emulsion layer or the like is converted into an aqueous solution containing at least one kind of alkali compound or at least two kinds of acid compounds (hereinafter, also referred to as a film removing solution). By immersion, the emulsion layer and the like can be eluted and removed from the glass substrate.

【0016】アルカリ化合物としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、次亜鉛素酸ナトリウム等を挙げる
ことができる。アルカリ化合物を含有する水溶液のpH
は、好ましくは12〜14、より好ましくは14であ
り、液温度は好ましくは50〜80℃、より好ましくは
70〜80℃であり、濃度は好ましくは5〜20%、よ
り好ましくは10〜15%である。この範囲において、
安定してガラス基板の脱膜処理を行うことができる。少
なくとも2種の酸化合物を含有する混酸液としては、オ
ゾン硫酸、硫酸と硝酸の混合液、硫酸と硝酸カリウムと
の混合液等を挙げることができる。液温度は好ましくは
50から90℃、より好ましくは70〜90℃である。
pHは1程度、原液を用いることが好ましい。
Examples of the alkali compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hypochlorite and the like. PH of aqueous solution containing alkali compound
Is preferably 12 to 14, more preferably 14, the liquid temperature is preferably 50 to 80 ° C, more preferably 70 to 80 ° C, and the concentration is preferably 5 to 20%, more preferably 10 to 15%. %. In this range,
The glass substrate can be stably removed. Examples of the mixed acid solution containing at least two kinds of acid compounds include ozone sulfuric acid, a mixed solution of sulfuric acid and nitric acid, and a mixed solution of sulfuric acid and potassium nitrate. The liquid temperature is preferably from 50 to 90C, more preferably from 70 to 90C.
It is preferable to use a stock solution having a pH of about 1.

【0017】脱離液の濃度管理は中和滴定で行うことが
できる。また、必要に応じて、脱膜効率を向上させるた
めに、攪拌操作や超音波操作を行ってもよい。具体的に
は、空気又は窒素ガスによるバブリング、超音波及び回
転羽根による攪拌等が挙げられる。
The concentration of the desorbed solution can be controlled by neutralization titration. If necessary, a stirring operation or an ultrasonic operation may be performed to improve the film removal efficiency. Specific examples include bubbling with air or nitrogen gas, stirring with ultrasonic waves and rotating blades, and the like.

【0018】乳剤層等を溶出した脱離液には、銀が溶解
しており、多数枚のガラス基板を処理するに従い、銀と
親水性コロイド(ゼラチン等)が固形物として浮遊する
ため、この脱離液を回収し、濾過等により脱離液から固
形物を取り除くことが好ましい。これにより、ガラス基
板への異物付着による故障を未然に防止するとともに、
銀を有効に回収することができる。回収方法としては、
耐アルカリ、耐酸性のカートリッジフィルターによる濾
過回収等が挙げられる。この場合、濾過圧力を管理する
ことにより、回収の頻度を適宜設定することができる。
濾過回収物とフィルターを燃焼することにより銀を回収
することができる。
Silver is dissolved in the desorbed solution eluted from the emulsion layer and the like, and silver and a hydrophilic colloid (such as gelatin) float as a solid as many glass substrates are processed. It is preferable to collect the desorbed liquid and remove solids from the desorbed liquid by filtration or the like. This prevents failures due to foreign substances adhering to the glass substrate,
Silver can be recovered effectively. As a collection method,
Filtration and recovery using an alkali-resistant or acid-resistant cartridge filter can be used. In this case, the frequency of collection can be appropriately set by controlling the filtration pressure.
Silver can be recovered by burning the filter and the filter.

【0019】本発明では、更に脱離処理したガラス基板
を少なくとも1回洗浄処理することが好ましい。これに
より、ガラス基板表面に付着残存し得る脱離液中の固形
物を洗浄することができる。洗浄水としては、通常の水
道水でよいが、更に好ましくは、酸性またはアルカリ性
処理液で洗浄することにより、上記脱離処理によりアル
カリ性または酸性となったガラス基板表面を中和するこ
とが好ましい。洗浄処理は、例えば、1つの槽を複数に
区切り、仕切板により逆流しないようにした多段水洗
(感光材料の現像処理で汎用されているもの)としても
よい。
In the present invention, it is preferable that the glass substrate further subjected to the desorption treatment is washed at least once. This makes it possible to wash solids in the desorbing liquid that may adhere to and remain on the glass substrate surface. As the washing water, ordinary tap water may be used, but it is more preferable to neutralize the alkali or acidic glass substrate surface by the desorption treatment by washing with an acidic or alkaline treating solution. The washing treatment may be, for example, a multi-stage washing (commonly used in the development of photosensitive materials) in which one tank is divided into a plurality of sections and a backflow is prevented by a partition plate.

【0020】本発明では、上記脱離処理したガラス基板
を、更に、界面活性剤、水溶性高分子及び有機酸から選
択される少なくとも1種の化合物を含有する水溶液(以
下、不活性化液とも称する)を用いて不活性化処理する
ことが好ましい。
In the present invention, the desorbed glass substrate is further treated with an aqueous solution containing at least one compound selected from a surfactant, a water-soluble polymer and an organic acid (hereinafter referred to as an inactivating liquid). ) Is preferably used.

【0021】本発明に従い脱離液で乳剤層及び/又は下
塗り層を除去されたガラス基板表面は、ガラスの表面部
分もごく僅かにエッチングされるため、ガラス表面が活
性の高い状態となる。このため、乳剤の残査等がガラス
表面に付着し易く、そのまま一定期間経過すると、再洗
浄してもこれらの残査が除去できなくなる事態が生じ得
ることが判明した。また、ガラス表面が活性であるた
め、不純物を含んだ水で洗浄したまま乾燥した場合で
も、水染み斑(水焼け)が生じ、後に乳剤等を塗布して
もハジキが発生したり、接着不良の原因となることが判
明した。上記界面活性剤等を含有する水溶液で処理する
ことにより、ガラス基板表面を再除去可能な有機物の膜
で覆い、ガラス表面を不活性化することができ、脱膜処
理後一定期間経過しても、十分に再生可能な表面状態を
確保できることが判った。また、かかる不活性化処理
は、脱離液中の固形物がガラス表面に付着することによ
り生じた異物の洗浄効果もある。
According to the present invention, the surface of the glass substrate from which the emulsion layer and / or the undercoat layer has been removed by the elimination liquid is very slightly etched, so that the glass surface is in a highly active state. For this reason, it has been found that residues of the emulsion and the like easily adhere to the glass surface, and after a certain period of time, a situation may occur in which the residues cannot be removed even after rewashing. In addition, since the glass surface is active, even if the glass is dried while being washed with water containing impurities, spots of water spots (water scorch) occur, and repelling or poor adhesion occurs even when an emulsion or the like is applied later. Turned out to be the cause. By treating with an aqueous solution containing the above surfactant and the like, the surface of the glass substrate is covered with a removable organic film, and the glass surface can be inactivated. It was found that a sufficiently reproducible surface state could be secured. Further, such an inactivating treatment also has an effect of cleaning foreign substances generated by the solid matter in the desorbed liquid adhering to the glass surface.

【0022】不活性化液の有効成分としては、界面活性
剤(好ましくは、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリ
エチレンノニルフェニルエーテル、ノニオン性界面活性
剤、例えば写真用水切り剤ドライウェル溶液等)、水溶
性高分子(例えばポリビニルアルコール、ポリエチレン
グリコール等)、有機酸(例えば蓚酸、酪酸、グリコー
ル酸、グリセリン酸等)を挙げることができる。濃度は
特に限定的ではないが、0.3〜5%程度である。温度
は18〜30℃が好ましい。
As the active ingredient of the deactivating liquid, a surfactant (preferably, an alkylbenzene sulfonate, polyethylene nonylphenyl ether, a nonionic surfactant such as a photographic drainer drywell solution, etc.) Examples include molecules (eg, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol, etc.) and organic acids (eg, oxalic acid, butyric acid, glycolic acid, glyceric acid, etc.). The concentration is not particularly limited, but is about 0.3 to 5%. The temperature is preferably from 18 to 30C.

【0023】一方、本発明では、上記脱離処理したガラ
ス基板を、非接触保存することが好ましい。通常ガラス
を保存する場合、ガラス同士の接触による擦傷等の発生
を防ぐため、合紙を挟んで保存するが、脱離処理して活
性が高くなっている本発明のガラス基板を合紙に挟んで
保存すると、合紙に含まれる樹脂成分等がガラスに転写
し白濁して、いわゆるガラス焼けが生じることが判っ
た。従って、本発明の脱離処理したガラス基板は、非接
触保存することが好ましい。具体的には、ガラス基板両
端にスペーサー等を付けて、ガラス面を接触しない様に
保存することができる。
On the other hand, in the present invention, the glass substrate subjected to the desorption treatment is preferably stored in a non-contact manner. Normally, when storing glass, in order to prevent the occurrence of scratches and the like due to contact between the glasses, the glass sheet is stored with interleaving paper interposed therebetween. , The resin component and the like contained in the slip sheet were transferred to glass and became cloudy, so-called glass burning occurred. Therefore, the glass substrate subjected to the desorption treatment of the present invention is preferably stored in a non-contact manner. Specifically, a spacer or the like can be attached to both ends of the glass substrate, and the glass substrate can be stored so as not to contact the glass surface.

【0024】本発明により再生されたガラス基板は、通
常のガラス基板と全く同様にして、感光性乳剤層等を塗
布することにより、写真乾板を製造することができる。
乳剤層等の塗布前に、ガラス基板上に付着した異物を除
去することが好ましい。具体的には、化学的洗浄法、物
理的洗浄法等の方法を、単独又は組み合わせて行うこと
ができる。
A photographic dry plate can be produced by applying a photosensitive emulsion layer and the like to the glass substrate regenerated according to the present invention in exactly the same manner as a normal glass substrate.
Before coating the emulsion layer or the like, it is preferable to remove foreign substances adhering to the glass substrate. Specifically, methods such as a chemical cleaning method and a physical cleaning method can be performed alone or in combination.

【0025】本発明においては、用いる脱離処理、不活
性化処理の条件(液の種類、液温度、処理時間)等によ
り、ガラス基板表面の活性度を調整することができる。
特に、上記処理条件に応じて、再生処理終了時から乳剤
塗布開始までの待機期間(再投入インターバル)を適正
化することにより、より品質の高い乾板を製造すること
ができる。通常待機期間は、処理条件にもよるが、不活
性化処理を行わない場合にはガラス乾板表面が乾燥する
前、具体的には3日以内、より好ましくは2日以内が好
ましく、不活性化処理を行った場合には28日以内、よ
り好ましくは18日間以内が好ましい。この範囲におい
て、水シミやガラス焼け等の影響を生じることなく、高
品質の乾板を再生することができる。また、待機時間を
実質的になくして、ガラス基板の再生工程とガラス乾板
の製造工程を連続して行うこともできる。
In the present invention, the activity of the surface of the glass substrate can be adjusted by the conditions of the desorption treatment and the inactivation treatment (the type of the liquid, the liquid temperature and the processing time).
In particular, by optimizing the waiting period (re-injection interval) from the end of the regenerating process to the start of emulsion coating according to the above-mentioned processing conditions, it is possible to manufacture a higher quality dry plate. The normal waiting period depends on the processing conditions, but when the inactivation treatment is not performed, it is preferably before the surface of the glass plate is dried, specifically, within 3 days, more preferably within 2 days. When the treatment is performed, it is preferably within 28 days, more preferably within 18 days. Within this range, a high-quality dry plate can be regenerated without causing the effects of water spots, burnt glass, and the like. Further, the step of regenerating the glass substrate and the step of manufacturing the glass dry plate can be performed continuously without substantially eliminating the waiting time.

【0026】更に、本発明のガラス基板の再生方法を実
施するための装置について説明する。本発明のガラス基
板再生装置は、本質的に脱膜槽を有すればよいが、最も
好適なガラス基板再生装置は、図1に示すように、ガラ
ス基板上の感光性乳剤層又は下塗り層を除去する脱離処
理槽11、脱膜処理槽11から持ち出された脱離液を回
収し、高濃度の脱離液を流出させないための回収槽1
3、脱離処理したガラス基板を洗浄する洗浄槽15(1
5a及び15b)及び、脱離洗浄処理したガラス基板を
不活性化処理する不活性化処理槽(仕上槽)17からな
る。更に、再生したガラスを非接触保存するターミナル
(ロードアンロード)19を有することが好ましい。各
槽は、それぞれ本発明の上記処理を行うための槽であっ
て、各種処理条件(温度、濃度、処理量、処理時間等)
の調整手段及びガラス基板の搬送手段を有する。脱膜処
理工程はクローズド方式を採用することが好ましい。ま
た、洗浄槽は、2槽以上の多段構成とすることが好まし
く、より好ましくは洗浄槽15bにて給水し、洗浄槽1
5aから排水する多段階水洗方式を採用することが好ま
しい。
Further, an apparatus for carrying out the glass substrate recycling method of the present invention will be described. Although the glass substrate regenerating apparatus of the present invention may essentially have a film-removing tank, the most preferred glass substrate regenerating apparatus includes a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer on a glass substrate as shown in FIG. A desorption treatment tank 11 to be removed, a desorption liquid taken out of the desorption treatment tank 11, and a recovery tank 1 for preventing a high concentration desorption liquid from flowing out.
3. A cleaning tank 15 (1) for cleaning the desorbed glass substrate
5a and 15b) and an inactivation treatment tank (finishing tank) 17 for inactivating the glass substrate subjected to the desorption cleaning treatment. Further, it is preferable to have a terminal (load / unload) 19 for non-contact storage of the regenerated glass. Each tank is a tank for performing the above-described processing of the present invention, and various processing conditions (temperature, concentration, processing amount, processing time, etc.)
And means for transporting the glass substrate. It is preferable to adopt a closed system in the film removing process. Further, it is preferable that the washing tank has a multi-stage structure of two or more tanks, and more preferably water is supplied in the washing tank 15b.
It is preferable to employ a multi-stage washing method of draining water from 5a.

【0027】[0027]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

【0028】実施例1 ガラス乾板として、ソーダライムでハイレゾリューショ
ンと明室乾板を用い、脱膜処理液として、水酸化ナトリ
ウム水溶液を用いて脱膜処理を行った。水酸化ナトリウ
ム濃度(6.25〜25%)、脱膜処理温度(40〜8
0℃)及び脱膜処理時間(5分〜25分)を、表1に示
す通りに種々変更させて、ガラス基板の再生処理を行っ
た。なお、脱膜処理槽では、マグネティックスターラー
600rpmで攪拌した。その脱離結果を表1に併記す
る。
Example 1 A high-resolution soda lime and a light room dry plate were used as a glass dry plate, and a film removing treatment was performed using a sodium hydroxide aqueous solution as a film removing treatment solution. Sodium hydroxide concentration (6.25 to 25%), temperature for membrane removal (40 to 8)
(0 ° C.) and the film removal time (5 to 25 minutes) were variously changed as shown in Table 1, and the glass substrate was subjected to a regeneration treatment. In addition, in the film removal treatment tank, stirring was performed with a magnetic stirrer at 600 rpm. The desorption results are also shown in Table 1.

【0029】なお、脱膜の確認は、脱膜処理した膜面に
針で格子模様に傷を入れ、光学顕微鏡にて観察し、乳剤
膜の有無を確認する方法と、脱膜処理した表面を照明の
光源に変えて観察し、乳剤膜が残っている場合に観察さ
れる干渉色により脱膜度合いを判定する方法の2つを行
い、以下の通りに評価した。以下の実施例においても同
様である。 ・下塗り層未剥離(脱離せず) ×、 ・下塗り層剥離残査僅かにあり △、 ・乳剤層及び下塗り層剥離完了(脱離済み)○
It should be noted that the removal of the film was confirmed by scratching the lattice pattern with a needle on the surface of the removed film and observing it with an optical microscope to confirm the presence or absence of the emulsion film. Observation was performed using a different light source for illumination, and two methods of determining the degree of film removal based on the interference color observed when the emulsion film remained were evaluated as follows. The same applies to the following embodiments. -Undercoat layer not peeled off (no detachment) x-Undercoat layer peeling residue slightly present △,-Emulsion layer and undercoat layer peeling completed (released)-

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】水酸化ナトリウム水溶液を用いることによ
り、ガラス基板から乳剤層及び下塗り層を剥離(脱膜)
することができることがわかる。
The emulsion layer and the undercoat layer are peeled from the glass substrate by using an aqueous solution of sodium hydroxide (film removal).
You can see that it can be done.

【0032】実施例2 ガラス基板上に乳剤を塗布してからの日数と脱膜性につ
いて調べた。すなわち、実施例1と同様にして、但し、
処理するガラス乾板として、表2及び表3に示すとおり
に、ガラス基板上に乳剤層を塗布してからの日数が異な
るものを、種々の脱離条件下(水酸化ナトリウム濃度、
脱離温度及び脱離時間)で脱離処理した。なお、用いた
ガラス乾板は、ハイレゾリューション、リス、明室乾板
であり、脱離処理槽での攪拌は行わなかった。表2に
は、乳剤塗布後0日から2日経時したの生乾板(未処理
乾板)の脱膜結果を、表3には、乳剤塗布後10日から
3年経時した生乾板(未処理乾板)と現像処理済み乾板
の脱膜結果を示す。
Example 2 The number of days after coating the emulsion on a glass substrate and the film-removing property were examined. That is, in the same manner as in Example 1, except that
As shown in Tables 2 and 3, as a glass dry plate to be treated, a glass dry plate having a different number of days since the application of the emulsion layer on the glass substrate was used under various desorption conditions (sodium hydroxide concentration,
(Desorption temperature and desorption time). The glass plates used were high resolution, squirrel, and bright room plates, and were not stirred in the desorption tank. Table 2 shows the results of the film removal of the raw dry plate (untreated dry plate) aged 0 to 2 days after the application of the emulsion, and Table 3 shows the raw dry plate (untreated dry plate) aged 3 years from the 10 days after the emulsion coating. ) And the result of film removal of the developed dry plate.

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】上記の結果から、乳剤塗布後すぐの生乾板
や、乳剤塗布後3年経過した現像処理済み乾板のいずれ
においても、良好に脱膜することがわかる。
From the above results, it can be seen that the film can be satisfactorily removed from either a raw dry plate immediately after the emulsion coating or a developed dry plate three years after the emulsion coating.

【0036】実施例3 洗浄処理、不活性化処理、及び非接触保存の有無のそれ
ぞれについて、表4に示す通りの再生処理を行った。ま
た、脱膜処理条件(脱膜液として水酸化ナトリウム水溶
液を使用)及び脱膜結果及び水染み結果について表4に
示す。なお、表4における水染みは、すべて経時により
発生した水染みである。この水染みが生じていると、下
塗り及び乳剤は弾かれて塗布できないか、塗布できたと
しても密着不良や面状不良が発生する。
Example 3 A regeneration treatment as shown in Table 4 was performed for each of the washing treatment, the inactivation treatment, and the presence or absence of non-contact storage. Table 4 shows the conditions for the film removal treatment (using an aqueous solution of sodium hydroxide as the film removal solution), the results of film removal and the results of water stain. The water stains in Table 4 are all water stains generated over time. When this water stain occurs, the undercoat and the emulsion are repelled and cannot be applied, or even if they can be applied, poor adhesion or poor surface condition occurs.

【0037】[0037]

【表4】 [Table 4]

【0038】上記の結果から、不活性化処理、非接触保
存が水染み発生防止に効果的であることがわかる。
From the above results, it can be seen that the inactivation treatment and the non-contact storage are effective in preventing the occurrence of water stain.

【0039】実施例4 脱膜処理液として、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用い
た以外は実施例1と同様にして処理した。その脱膜結果
を表5に示す。ここで、表5に記載される乾板の種類は
全て富士写真フイルム(株)製のガラス乾板の商品名で
あり、UMはハイレゾリューション乾板、AKは明室乾
板、PF・KOはリス乾板、YAはラス乾板を表す。
Example 4 A treatment was carried out in the same manner as in Example 1 except that an aqueous solution of sodium hypochlorite was used as a film removing treatment solution. Table 5 shows the results of the film removal. Here, all the types of the dry plates described in Table 5 are trade names of glass dry plates manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., UM is a high-resolution dry plate, AK is a bright room dry plate, PF / KO is a squirrel dry plate, YA represents a lath dry plate.

【0040】[0040]

【表5】 [Table 5]

【0041】上記の結果から、次亜塩素酸ナトリウム水
溶液を用いても十分に脱膜されることがわかる。
From the above results, it can be seen that the film can be sufficiently removed even when an aqueous solution of sodium hypochlorite is used.

【0042】実施例5 実施例4において脱膜処理したNo.4−4、4−5、4
−6、4−12及び4−13のガラス基板について、そ
れぞれ相当するUM、PF、AK乾板用の乳剤を再塗布
した。また、実施例4において脱膜処理したNo.4−7
については、それを挟み紙にて保存し25日経時した
後、上記と同様にして乳剤を再塗布した。それらの結果
を表6に示す。ここで、写真性の評価は、ウェッジを通
して露光、現像処理を行い、その特性曲線を求めること
で行い、密着性の評価は、処理済みの乾板の乳剤膜に格
子状にキズを入れ、水洗で乳剤膜が濡れている状態で表
面を擦る方法と、処理後乾燥した状態で格子状にキズを
入れ、粘着テープを貼り付けこれを剥がした時の乳剤膜
の剥がれの状態を評価することで行った。それぞれ、○
は通常品に塗布した場合と同等であることを示す。
Example 5 Nos. 4-4, 4-5, and 4 which were subjected to film removal processing in Example 4
On -6, 4-12 and 4-13 glass substrates, the corresponding emulsions for UM, PF and AK plates were recoated. In addition, No. 4-7 which was subjected to the film removal treatment in Example 4
Was stored for 25 days, and the emulsion was recoated in the same manner as described above. Table 6 shows the results. Here, the evaluation of photographic properties is performed by exposing and developing through a wedge, and calculating its characteristic curve. This method is performed by rubbing the surface while the emulsion film is wet, or by scratching it in a lattice in a dry state after processing, attaching an adhesive tape, and evaluating the state of peeling of the emulsion film when this is peeled off. Was. Each ○
Indicates that it is equivalent to the case where it is applied to a normal product.

【0043】[0043]

【表6】 [Table 6]

【0044】上記の結果から、脱膜結果が不十分な場
合、乳剤を再塗布してガラス基板を再利用すると、密着
性が低下することがわかる。また、焼けが発生すると密
着性が低下し、下塗り及び乳剤の塗布時に塗布液を弾き
やすい。
From the above results, it can be seen that when the result of film removal is insufficient, the adhesion is reduced when the emulsion is recoated and the glass substrate is reused. In addition, when burning occurs, the adhesiveness is reduced, and the coating liquid is easily repelled at the time of undercoating and emulsion coating.

【0045】実施例6 図1に示すような脱離処理槽11、回収槽13、洗浄槽
15a及び15b、不活性化処理槽(仕上槽)17並び
に再生したガラスを非接触保存するターミナル(ロード
アンロード)19を有する再生装置を用いて以下の操作
を行った。ガラス基板の搬送は、ステンレス製のカセッ
トに10〜20枚のガラス乾板(ハイレゾリューショ
ン、リス、ラス、明室乾板であって、ガラス基板上に乳
剤層及び下塗り層を有するもの)をセットし、専用の搬
送装置にて、予めプログラムされた自動制御によって、
各処理槽に搬送することで行った。ガラス基板の最大処
理サイズは1000×1600mm、最大荷重は250
kgである。
Example 6 As shown in FIG. 1, a desorption treatment tank 11, a recovery tank 13, cleaning tanks 15a and 15b, an inactivation treatment tank (finishing tank) 17, and a terminal (load) for non-contact storage of regenerated glass The following operation was performed using a playback device having (unload) 19. For transport of the glass substrate, 10 to 20 glass plates (high resolution, squirrel, lath, and bright room plates having an emulsion layer and an undercoat layer on a glass substrate) are set in a stainless steel cassette. , In a dedicated transport device, by automatic control programmed in advance,
It carried out by carrying to each processing tank. Maximum processing size of glass substrate is 1000 × 1600mm, maximum load is 250
kg.

【0046】脱離処理槽11は、容量約1500リット
ルであり、ポンプ循環により脱膜残査を濾過し、エアー
攪拌による脱離効率アップ機能を有する。脱離処理槽1
1における処理液及び処理条件については、後述する。
The desorption treatment tank 11 has a capacity of about 1500 liters, and has a function of increasing the desorption efficiency by agitating air by filtering the delamination residue by pump circulation. Desorption treatment tank 1
The processing liquid and processing conditions in 1 will be described later.

【0047】回収槽13は、脱膜処理槽11から持ち出
された脱離液を回収し、高濃度の脱離液を流出させない
ための工程である。濾過水を使用し、室温にて15秒間
処理した。エアー攪拌によって効率アップした。洗浄槽
15は、図1では、第1槽(15a)及び第2槽(15
b)の二つの槽で構成されているが、本実施例では下記
に示す通り三つの槽で構成しており、脱膜されたガラス
の洗浄を行う。第3洗浄槽から給水された洗浄水が第2
洗浄槽に導入され、洗浄水を効率的に使用するように設
計されている。洗浄水として濾過水を使用し、常温にて
各15秒ずつ処理した。エアー攪拌により効率アップし
た。仕上槽17では、脱膜洗浄されたガラス基板を不活
性化液によりガラス基板表面を不活性化する。不活性化
液として、0.3〜0.5%の写真用水切り剤ドライウ
ェル溶液を用い、室温で15秒間処理した。エアー攪拌
により効率アップした。下記表7に示す処理条件でガラ
ス乾板の再生処理を行ったところ、良好なガラス基板が
再生できた。
The recovery tank 13 is a step for recovering the desorbed liquid taken out of the film removal processing tank 11 so as to prevent a high-concentration desorbed liquid from flowing out. Treatment was performed at room temperature for 15 seconds using filtered water. The efficiency was improved by air stirring. In FIG. 1, the cleaning tank 15 includes a first tank (15a) and a second tank (15).
In the present embodiment, the tank is composed of three tanks as shown below, and the degassed glass is washed. The washing water supplied from the third washing tank is the second
It is designed to be introduced into the washing tank and use washing water efficiently. Filtration water was used as washing water, and each treatment was performed at room temperature for 15 seconds. The efficiency was improved by air stirring. In the finishing tank 17, the surface of the glass substrate that has been subjected to film removal and cleaning is inactivated with an inactivating liquid. As an inactivating liquid, a dry well solution of a photographic drainer of 0.3 to 0.5% was used and treated at room temperature for 15 seconds. The efficiency was improved by air stirring. When the glass dry plate was regenerated under the processing conditions shown in Table 7 below, a good glass substrate could be regenerated.

【0048】[0048]

【表7】 [Table 7]

【0049】実施例7 実施例6と同様の装置及び処理条件において、不活性化
処理の有無、及び脱膜処理後の乳剤塗布までの日数を種
々変えてガラス乾板の再生処理を行い、その写真性、密
着性及び水染みの有無について評価した。それらの結果
を表8に示す。
Example 7 A glass dry plate was regenerated under the same apparatus and processing conditions as in Example 6, with various changes in the presence or absence of the inactivation treatment and the number of days until the emulsion coating after the film removal treatment. The properties, adhesion and the presence or absence of water stain were evaluated. Table 8 shows the results.

【0050】[0050]

【表8】 [Table 8]

【0051】上記の結果から、不活性化処理を行わない
場合には、脱膜処理後3日以内、好ましくは2日以内
に、不活性化処理を行う場合には、脱膜処理後28日以
内、好ましくは18日以内に、乳剤層等を塗布すること
が好ましい。
From the above results, when the inactivation treatment is not carried out, within 3 days, preferably 2 days after the film removal treatment, and when the inactivation treatment is carried out, 28 days after the film removal treatment It is preferable to apply the emulsion layer and the like within, preferably within 18 days.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明に従い、脱膜処理液でガラス乾板
を処理することにより、乳剤や下塗り層が有効に除去で
き、該脱膜処理したガラス基板を、通常のガラス基板と
同様に再利用することができる。すなわち、通常品と同
様に乳剤を塗布することにより、通常品と同様の品質の
ガラス乾板を得ることができる。
According to the present invention, the emulsion and the undercoat layer can be effectively removed by treating the glass dry plate with the film removal treatment solution according to the present invention, and the glass substrate subjected to the film removal treatment can be reused in the same manner as a normal glass substrate. can do. That is, a glass dry plate having the same quality as that of the normal product can be obtained by coating the emulsion in the same manner as the normal product.

【0053】また、上記脱離液を回収し、濾過等により
脱離液から固形物を取り除くことにより、脱離液中に溶
解浮遊する銀や親水性コロイド(ゼラチン等)等の固形
物のガラス基板への付着による故障を未然に防止すると
ともに、銀を有効に回収することができる。
Further, by collecting the above-mentioned elimination liquid and removing solids from the elimination liquid by filtration or the like, a solid glass such as silver or a hydrophilic colloid (such as gelatin) dissolved and suspended in the elimination liquid is obtained. Failure can be prevented beforehand due to adhesion to the substrate, and silver can be effectively recovered.

【0054】更に、脱膜処理したガラス基板を洗浄処理
することにより、ガラス基板表面に付着残存し得る脱離
液中の固形物を洗浄除去することができる。また、脱膜
処理したガラス基板を、不活性化処理することにより、
ガラス基板表面を再除去可能な有機物の膜で覆い、脱膜
処理後一定期間経過しても、十分に再生可能な表面状態
を確保できるとともに、上記と同様の異物の洗浄効果も
ある。
Further, by subjecting the glass substrate subjected to the film removal treatment to a washing treatment, it is possible to wash and remove solids in the detachment liquid that may adhere to and remain on the surface of the glass substrate. In addition, by deactivating the glass substrate that has undergone film removal,
The surface of the glass substrate is covered with a film of an organic substance that can be removed again, so that even if a certain period of time has passed after the film removal treatment, a sufficiently reproducible surface state can be ensured, and the same foreign substance cleaning effect as described above can be obtained.

【0055】更に、上記脱膜処理したガラス基板は、非
接触保存することにより、ガラスやけの発生を有効に防
止するとともに、ガラス乾板の連続再生処理が可能とな
る。
Further, the glass substrate subjected to the film removal treatment is stored in a non-contact manner, whereby the occurrence of glass burn is effectively prevented and the glass dry plate can be continuously regenerated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明のガラス再生方法を実施するた
めの装置の概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus for performing a glass recycling method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 脱膜処理槽 13 回収処理槽 15 洗浄処理槽 17 不活性化処理槽(仕上槽) 19 ロード 11 Decoating treatment tank 13 Recovery treatment tank 15 Cleaning treatment tank 17 Inactivation treatment tank (finishing tank) 19 Load

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 浩 栃木県佐野市小中町700番地 佐野富士光 機株式会社内 Fターム(参考) 2H095 BB19 BB31 BC27 4G059 AA01 AA11 AB01 AC30  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Nakamura 700, Konakacho, Sano City, Tochigi Pref.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性乳剤層、ハレーション防止層およ
び下塗り層のうちの少なくとも一層を有するガラス基板
を、少なくとも1種のアルカリ化合物、または少なくと
も2種の酸化合物を含有する水溶液を用いて脱膜処理す
ることを特徴とするガラス基板の再生方法。
A glass substrate having at least one of a photosensitive emulsion layer, an antihalation layer and an undercoat layer is removed using an aqueous solution containing at least one alkali compound or at least two acid compounds. A method for regenerating a glass substrate, comprising: performing a treatment.
【請求項2】 請求項1記載の方法により処理したガラ
ス基板を少なくとも1回洗浄処理することを特徴とする
ガラス基板の再生方法。
2. A method for regenerating a glass substrate, wherein the glass substrate treated by the method according to claim 1 is washed at least once.
【請求項3】 請求項1または2記載の方法により処理
したガラス基板を、界面活性剤、水溶性高分子及び有機
酸から選択される少なくとも1種の化合物を含有する水
溶液を用いて不活性化処理することを特徴とするガラス
基板の再生方法。
3. A glass substrate treated by the method according to claim 1 or 2 is deactivated using an aqueous solution containing at least one compound selected from a surfactant, a water-soluble polymer and an organic acid. A method for regenerating a glass substrate, comprising: performing a treatment.
【請求項4】 脱膜処理に用いた水溶液を回収すること
を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガラス基
板の再生方法。
4. The method for reclaiming a glass substrate according to claim 1, wherein the aqueous solution used for the film removal treatment is recovered.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の方法で
再生したガラス基板を非接触保存することを特徴とする
ガラス基板の再生方法。
5. A method for regenerating a glass substrate, wherein the glass substrate regenerated by the method according to claim 1 is stored in a non-contact manner.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の方法で
再生したガラス基板に、感光性乳剤層または下塗り層を
塗布することを特徴とする乾板の製造方法。
6. A method for producing a dry plate, comprising applying a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer to a glass substrate regenerated by the method according to claim 1.
【請求項7】 感光性乳剤層または下塗り層の塗布前
に、再生したガラス基板上に付着した異物を除去するこ
とを特徴とする請求項6記載の乾板の製造方法。
7. The method for producing a dry plate according to claim 6, wherein foreign matters adhering on the recycled glass substrate are removed before coating the photosensitive emulsion layer or the undercoat layer.
【請求項8】 ガラス基板の再生終了時から、感光性乳
剤層または下塗り層の塗布開始までの時間を適正化する
ことを特徴とする請求項6又は7に記載の乾板の製造方
法。
8. The method for producing a dry plate according to claim 6, wherein the time from the end of regeneration of the glass substrate to the start of application of the photosensitive emulsion layer or the undercoat layer is optimized.
【請求項9】 ガラス基板上の感光性乳剤層又は下塗り
層を除去する脱離処理槽、脱離処理したガラス基板を洗
浄する洗浄槽、脱離洗浄処理したガラス基板を不活性化
処理する不活性化処理槽、及び脱離処理槽中の脱離液を
回収する回収槽を含有することからなるガラス基板の再
生装置。
9. A desorption treatment tank for removing a photosensitive emulsion layer or an undercoat layer on a glass substrate, a cleaning tank for cleaning the desorption-treated glass substrate, and an inactivation treatment for the desorption-cleaned glass substrate. An apparatus for regenerating a glass substrate, comprising an activation treatment tank and a collection tank for collecting a desorbed liquid in the desorption treatment tank.
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