JP2002197897A - Semiconductor memory and its discriminating method - Google Patents

Semiconductor memory and its discriminating method

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JP2002197897A
JP2002197897A JP2000394801A JP2000394801A JP2002197897A JP 2002197897 A JP2002197897 A JP 2002197897A JP 2000394801 A JP2000394801 A JP 2000394801A JP 2000394801 A JP2000394801 A JP 2000394801A JP 2002197897 A JP2002197897 A JP 2002197897A
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semiconductor memory
memory device
fuse
circuit
test signal
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JP2000394801A
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Japanese (ja)
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Teruyuki Iwashita
輝幸 岩下
Toru Arimori
亨 有森
Koichi Goto
浩一 後藤
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Renesas Micro Systems Co Ltd
Original Assignee
Renesas Micro Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory which can perform discrimination by manufacturing conditions and its discriminating method. SOLUTION: In a semiconductor memory 1206, a discriminating circuit 1208 and a test signal are provided in the part of a data output circuit 1207, the discriminating circuit outputs a result in which an internal address signal is compared with fuse information to an external terminal by turning on a test signal. Therefore, the discriminated result can be outputted to the external terminal without damaging the characteristics of a product by turning on the test signal and scanning the address. Also, as the information of the discriminating circuit is successively outputted and only an external terminal of at least one pin is additionally required, the number of terminals can be saved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置及
びその識別方法に関し、特に、製造条件による識別を行
うことが可能な半導体記憶装置及びその識別方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a method of identifying the same, and more particularly, to a semiconductor memory device capable of performing identification according to manufacturing conditions and a method of identifying the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路は、集積回路のパ
ターンが描かれたマスクを使用して、半導体基板(以
下、ウエハと呼ぶ)上にパターンを焼き付けて製造され
る。通常、このマスク上には複数個の半導体集積回路の
パターンが描かれている。このマスクによって作られた
各チップは、ウエハより切り離され、パッケージ封入さ
れて、製品化される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor integrated circuit is manufactured by printing a pattern on a semiconductor substrate (hereinafter, referred to as a wafer) using a mask on which a pattern of the integrated circuit is drawn. Usually, a plurality of semiconductor integrated circuit patterns are drawn on this mask. Each chip made by this mask is separated from the wafer, packaged, and commercialized.

【0003】製品化されたあとに、試験や評価で不良が
発見された場合に、その不良の原因がチップ製造上の拡
散工程で起きた不良であるか否かを、ウエハ上の位置情
報から判断することが出来る。すなわち、不良の分布に
規則性がある場合は、拡散時の露光ムラや多面付けレチ
クルの傷などの疑いが出てくる。
When a defect is found in a test or evaluation after the product is commercialized, it is determined from the positional information on the wafer whether or not the defect is caused by a diffusion process in a chip manufacturing process. You can judge. In other words, if the distribution of defects has regularity, suspicions such as exposure unevenness during diffusion and scratches on the multi-faced reticle appear.

【0004】よって、過去の技術ではパッケージを破壊
して中のチップを取り出し、識別するための回路もしく
は表示により判断していた。この従来技術の改良とし
て、パッケージを破壊せず、不良方法を識別する第2の
従来技術が、例えば、特開平10−209384号公報
(引用文献1)に公開されている。
Therefore, in the past technology, the package was destroyed, the chip inside was taken out, and the judgment was made by a circuit or display for identification. As an improvement of this conventional technique, a second conventional technique for identifying a defective method without destroying a package is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-209384 (Cited Document 1).

【0005】図11に、この第2の従来技術のブロック
図を示す。図11を参照すると、この第2の従来技術
は、ウエハ上の位置に対応して切断したヒューズ110
3で構成された識別回路1102を外部端子に装着し、
その外部端子に特定の電圧を印可すると特定の電流特性
を示す。これにより、特定の電流値を示した端子の組合
せから、ウエハ上の位置を識別する回路構成1101に
し、パッケージ封入後、そのチップがウエハ上のどの位
置にあったものであるかを判断できる。
FIG. 11 shows a block diagram of the second prior art. Referring to FIG. 11, this second prior art employs a blown fuse 110 corresponding to a position on a wafer.
3 is mounted on an external terminal,
When a specific voltage is applied to the external terminal, a specific current characteristic is exhibited. As a result, a circuit configuration 1101 for identifying a position on the wafer can be determined from a combination of terminals indicating a specific current value, and it is possible to determine where the chip is located on the wafer after enclosing the package.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この引
用文献1に記載された識別回路を接続する構成では、入
出力端子PADの近くに、識別回路が集中して配置さ
れ、チップの集積化が進んでいる今日において、ウエハ
上のチップの数が多くなれば外部端子が少ない製品にお
いては、チップの数と端子の割当てが不足し対応できな
い問題があった。
However, in the configuration for connecting the identification circuits described in Patent Document 1, the identification circuits are intensively arranged near the input / output terminal PAD, and the integration of the chip is advanced. In today's product, if the number of chips on a wafer is large, the number of external terminals is small.

【0007】例えば、ウエハ上の256個(16進=F
F)の全チップを識別させたい場合は、外部端子が8本
以上必要であるため7本以下の製品には適用不可であ
る。
For example, 256 (hexadecimal = F)
If it is desired to identify all the chips in F), eight or more external terminals are required, so that this is not applicable to products with seven or less.

【0008】さらにまた、近年、半導体記憶装置は動作
周波数が高速化の傾向であり、複数の外部端子に通常動
作に必要とされない識別回路を接続する構成は入出力端
子の負荷が増大し、製品の入力レベル感知能力の低下に
より、高周波動作に悪影響を与えてしまう問題もあっ
た。
Furthermore, in recent years, the operating frequency of semiconductor memory devices has tended to increase, and the configuration in which an identification circuit not required for normal operation is connected to a plurality of external terminals increases the load on input / output terminals, resulting in an increase in the number of products. However, there is also a problem that the lowering of the input level sensing capability adversely affects the high frequency operation.

【0009】本発明が関する半導体記憶装置とその識別
方法は、特にパッケージに封入された状態で、半導体記
憶装置のウエハ上の位置を特定できるようにするのが目
的である。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device and a method for identifying the semiconductor memory device, in particular, to be able to specify a position of a semiconductor memory device on a wafer in a state of being enclosed in a package.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、データ入力回路と、データー出力回路と、メモリセ
ル群と、行セレクタ・列セレクタからなる半導体記憶装
置であって、前記データ出力回路の部分に識別回路とテ
スト信号を設け、前記識別回路は、前記半導体記憶装置
の内部アドレス信号と前記半導体記憶装置の半導体基板
上の位置に対応する識別回路内ヒューズ情報とを比較
し、その比較結果を前記テスト信号をオンすることによ
り外部端子へ出力する構成である。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising a data input circuit, a data output circuit, a memory cell group, and a row selector / column selector. The identification circuit compares the internal address signal of the semiconductor memory device with the fuse information in the identification circuit corresponding to the position on the semiconductor substrate of the semiconductor memory device. The result is output to an external terminal by turning on the test signal.

【0011】また、本発明の半導体記憶装置は、前記半
導体記憶装置をICパッケージに封入された状態で、前
記テスト信号をオンすることで、外部端子へ識別結果を
出力する構成である。
Further, the semiconductor memory device of the present invention has a configuration in which the identification signal is output to an external terminal by turning on the test signal in a state where the semiconductor memory device is sealed in an IC package.

【0012】さらに、本発明の半導体記憶装置は、前記
内部アドレス信号をスキャンすることで前記半導体基板
上の位置の識別をする構成であり、前記識別回路内ヒュ
ーズ情報は、前記ヒューズの切断によりハイレベルまた
はロウレベルを発生し、前記ヒューズの切断方法は、前
記半導体基板上の位置より他と重複しない一の番号で決
められる構成とすることもできる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, a position on the semiconductor substrate is identified by scanning the internal address signal, and the fuse information in the identification circuit becomes high by cutting the fuse. A level or low level may be generated, and the method of cutting the fuse may be determined by a single number that does not overlap with the position on the semiconductor substrate.

【0013】さらに、本発明の半導体記憶装置の識別方
法は、データ出力回路の部分に識別回路とテスト信号を
設け、前記識別回路で前記半導体記憶装置の内部アドレ
ス信号と前記半導体記憶装置の半導体基板上の位置に対
応する識別回路内ヒューズ情報とを比較する比較工程
と、その比較結果を前記テスト信号をオンするテスト信
号オン工程と、前記テスト信号を外部端子へ出力する出
力工程とを有する構成とすることもできる。
Further, in the method for identifying a semiconductor memory device according to the present invention, an identification circuit and a test signal are provided in a data output circuit, and the internal address signal of the semiconductor memory device and a semiconductor substrate of the semiconductor memory device are provided by the identification circuit. A configuration including a comparison step of comparing fuse information in the identification circuit corresponding to the upper position, a test signal on step of turning on the test signal based on the comparison result, and an output step of outputting the test signal to an external terminal It can also be.

【0014】さらに、本発明の半導体記憶装置の識別方
法は、前記内部アドレス信号をスキャンすることで前記
半導体基板上の位置の識別をする識別工程を有する構成
であり、前記識別回路内ヒューズ情報は、前記ヒューズ
の切断によりハイレベルまたはロウレベルを発生するレ
ベル発生工程と、前記半導体基板上の位置より他と重複
しない一の番号で決められるヒューズ切断工程とを有す
る構成とすることもできる。
Further, the method for identifying a semiconductor memory device according to the present invention comprises an identification step of identifying a position on the semiconductor substrate by scanning the internal address signal. And a level generating step of generating a high level or a low level by cutting the fuse, and a fuse cutting step determined by a number which does not overlap with the other from the position on the semiconductor substrate.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明は、製造条件による識別を
行うことが可能な半導体記憶装置及びその識別方法に関
するものであり、パッケージに封入された状態で、半導
体記憶装置のウエハ上の位置を特定できるようにする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a semiconductor memory device capable of performing identification based on manufacturing conditions and a method for identifying the same. Be identified.

【0016】データ出力回路の部分に識別回路とテスト
信号を設け、識別回路は内部アドレス信号とヒューズ情
報と比較した結果を、テスト信号をオンすることにより
外部端子へ出力されることを特徴としている。
An identification circuit and a test signal are provided in the data output circuit, and the identification circuit outputs the result of comparison between the internal address signal and the fuse information to an external terminal by turning on the test signal. .

【0017】すなわち、アドレス表現については、行=
X、列=Yとし、行アドレス=内部Xアドレス(ロー
アドレス)= 行セレクタとしている。また、列アドレ
ス=内部Yアドレス(カラム アドレス)= 列セレクタ
としている。言い換えると、ウエハー上のチップを任意
に割り振った位置アドレス(インデックス)に従い切断し
たヒューズと、デバイスのRAMの番地を選択する内部
アドレスとを比較するようにした回路である。
That is, for the address expression, the line =
X, column = Y, row address = internal X address (row
Address) = row selector. Also, column address = internal Y address (column address) = column selector. In other words, this circuit compares a fuse blown according to a position address (index) to which a chip on a wafer is arbitrarily allocated, and an internal address for selecting a RAM address of a device.

【0018】図12に、本発明による半導体記憶装置の
構成図を示す。本発明による半導体記憶装置は、データ
入力回路1204と、データー出力回路1207と、メ
モリセル群と1206、行セレクタ・列セレクタ120
5からなる一般的な記憶装置の構成に対して、本発明に
従って、識別回路1208とテスト信号TESTをデー
ター出力回路1207へ追加した構成である。
FIG. 12 shows a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention. The semiconductor memory device according to the present invention includes a data input circuit 1204, a data output circuit 1207, a memory cell group and 1206, a row selector / column selector 120.
5 is a configuration in which an identification circuit 1208 and a test signal TEST are added to a data output circuit 1207 in accordance with the present invention, in contrast to the configuration of a general storage device composed of five.

【0019】この半導体記憶装置の識別回路1208
は、ウエハ上の位置より他のチップと重複しない組合せ
で切断したヒューズ群とRAMのアクセス番地を決定す
る内部アドレス信号で構成されており、内部アドレスを
スキャンすることにより内部アドレスとヒューズ情報を
比較して、あらかじめウエハー上の位置により切断され
た組合わせに一致すると、他の番地と異なるデータが出
力される。
The identification circuit 1208 of the semiconductor memory device
Is composed of a fuse group cut in a combination that does not overlap with other chips from the position on the wafer and an internal address signal that determines the access address of the RAM. The internal address is compared with the fuse information by scanning the internal address. Then, if it matches the combination cut in advance by the position on the wafer, data different from other addresses is output.

【0020】従って、実行結果の異なるデーターから、
ウエハー上の位置が識別できる。外部端子のPAD付近
に識別回路を接続しない構成であるため、入出力端子の
負荷の増大が全くないので、入力レベル感度低下による
高速動作に影響がない。
Therefore, from the data having different execution results,
The position on the wafer can be identified. Since the discriminating circuit is not connected near the external terminal PAD, there is no increase in the load on the input / output terminals, and there is no effect on the high-speed operation due to the decrease in input level sensitivity.

【0021】また、内部CLKに同期して識別回路12
08の情報を順次出力していく。したがって、最低1ピ
ン以上の外部端子があればよいので、外部端子の少ない
製品にも適応可能という効果が得られる。
The identification circuit 12 is synchronized with the internal CLK.
08 information is sequentially output. Therefore, since there is only one external terminal having at least one pin, it is possible to obtain an effect of being applicable to a product having a small number of external terminals.

【0022】次に、本発明の第1の実施の形態の半導体
記憶装置について説明する。
Next, a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention will be described.

【0023】図2、図3、図4は、本発明の半導体記憶
装置のヒューズ単体付近の回路構成を示すものであり、
ヒューズ切断するか、しないかにより、ハイまたはロウ
が出力される回路例(a)とその真理値表(b)であ
る。
FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 4 show a circuit configuration in the vicinity of a single fuse of the semiconductor memory device of the present invention.
5A is a circuit example (a) in which high or low is output depending on whether a fuse is blown or not, and a truth table (b) thereof.

【0024】図2は、クロックCLKがハイレベルのと
きにヒューズ222が切断されていなければ出力y1が
ロウレベルとなる回路であり、図3は、クロックCLK
がハイレベルでセレクタ信号selがハイレベルのとき
に、ヒューズ322が切断されていなければ出力y2が
ロウレベルとなる回路である。
FIG. 2 is a circuit in which the output y1 goes low unless the fuse 222 is blown when the clock CLK is high, and FIG.
Is a high level, and when the selector signal sel is at a high level, the output y2 is at a low level unless the fuse 322 is blown.

【0025】図4は、反転セット信号set_bをロウ
レベルのパルス信号により、出力y3が確定され、ヒュ
ーズ422が切断されていれば出力y3がロウレベルと
なる回路である。
FIG. 4 shows a circuit in which the output y3 is determined by a low-level pulse signal of the inverted set signal set_b, and the output y3 becomes low if the fuse 422 is cut.

【0026】本発明の第1の実施の形態の半導体記憶装
置の識別回路を図1に示す。
FIG. 1 shows an identification circuit of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【0027】図1を参照すると、本発明の第1の実施の
形態の半導体記憶装置の識別回路は、列セレクタ信号
(YP0T〜YPnT)、行セレクタ信号(XP0T〜
XPnT)とTEST信号と基準クロックCLKとで駆
動される図2に示す複数個のヒューズ回路を有する。
Referring to FIG. 1, the identification circuit of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention includes a column selector signal (YP0T to YPnT) and a row selector signal (XP0T to YP0T).
XPnT), the TEST signal, and the reference clock CLK.

【0028】これらのヒューズ回路は、行セレクタ信号
(XP0T〜XPnT)に関連するものは、トランジス
タ(121−0,121−1,・・・121−n)とヒ
ューズ(122−0,122−1,・・・122−n)
とを具備し、行セレクタ信号(XP0T〜XPnT)に
対応して、EXOR(123−0,123−1,・・・
123−n)を具備している。
In these fuse circuits, those related to the row selector signals (XP0T to XPnT) include transistors (121-0, 121-1,... 121-n) and fuses (122-0, 122-1). , ... 122-n)
, EXOR (123-0, 123-1,...) Corresponding to the row selector signals (XP0T to XPnT).
123-n).

【0029】また、これらのヒューズ回路は、列セレク
タ信号(YP0T〜YPnT)に関連するものは、トラ
ンジスタ(125−0,125−1,・・・125−
n)とヒューズ(126−0,126−1,・・・12
6−n)とを具備し、列セレクタ信号(YP0T〜YP
nT)に対応して、EXOR(127−0,127−
1,・・・127−n)を具備する構成である。
The fuse circuits related to the column selector signals (YP0T to YPnT) include transistors (125-0, 125-1,... 125-
n) and fuses (126-0, 126-1,... 12)
6-n), and the column selector signals (YP0T to YP0
nT), and EXOR (127-0, 127-
1,... 127-n).

【0030】さらに、これらのヒューズ回路は、EXO
R(123−0,123−1,・・・123−n)の出
力信号を受けるNAND124と、EXOR(127−
0,127−1,・・・127−n)の出力信号を受け
るNAND128を具備し、NAND124とNAND
128の出力を受けるNOR130を具備する。
Further, these fuse circuits are provided by EXO
R- (123-0, 123-1,..., 123-n) and the EXOR (127-n).
0, 127-1,... 127-n).
It has a NOR 130 that receives 128 outputs.

【0031】そして、識別回路は、NOR130の出力
を基準クロックCLKでラッチするラッチ回路131を
具備し、このラッチ回路131の出力を識別回路の外部
に出力する構成である。
The identification circuit has a latch circuit 131 for latching the output of the NOR 130 with the reference clock CLK, and outputs the output of the latch circuit 131 to the outside of the identification circuit.

【0032】列セレクタ信号(YP0T〜YPnT)及
び行セレクタ信号(XP0T〜XPnT)はRAMをア
クセスするためのアドレス信号である。TEST信号は
識別回路の活性及びリードバス切り替えの動作をしてい
る。
The column selector signals (YP0T to YPnT) and the row selector signals (XP0T to XPnT) are address signals for accessing the RAM. The TEST signal activates the identification circuit and switches the read bus.

【0033】ヒューズ切断方法は、図9(c)のウエハ
ーマップに示すように、それぞれのチップに他のチップ
と重複しないマトリクス上の列番地、行番地に設定し、
図9(d)の表から”1”は切断する、”0”は切断し
ないように決定する。
As shown in the wafer map of FIG. 9C, the fuse cutting method sets a column address and a row address on a matrix which do not overlap with other chips for each chip.
From the table of FIG. 9D, it is determined that “1” is disconnected and “0” is not disconnected.

【0034】その際、ヒューズはRAMのアドレスに対
応させて、MSB側のヒューズは内部セレクタの上位ア
ドレス、LSBは内部セレクタの下位アドレスに対応さ
せている。この行セレクタ及び列セレクタ信号は、図2
に示すヒューズ側の出力とそれぞれ比較される。
At this time, the fuse corresponds to the address of the RAM, the fuse on the MSB side corresponds to the upper address of the internal selector, and the LSB corresponds to the lower address of the internal selector. The row selector and column selector signals are shown in FIG.
Are compared with the outputs on the fuse side shown in FIG.

【0035】その結果の出力は、テスト信号TESTに
よりデーターバスへ出力が可能になる。出力データーは
行セレクタ信号(XP0T〜XPnT)と列セレクタ信
号(YP0T〜YPnT)のヒューズのビットが全て一
致したときに、外部端子へ異なるデーターが出力され
る。
The resulting output can be output to the data bus by the test signal TEST. Different output data is output to an external terminal when all the bits of the fuses of the row selector signals (XP0T to XPnT) and the column selector signals (YP0T to YPnT) match.

【0036】図1のデーター出力回路及び行・列セレク
タ発生手段は、当業者にとってよく知られており、また
本発明とは直接関係しないので、その詳細な構成の説明
は省略する。
The data output circuit and the row / column selector generating means shown in FIG. 1 are well known to those skilled in the art and are not directly related to the present invention, so that the detailed description of the structures will be omitted.

【0037】次に、本発明の第1の実施の形態の半導体
記憶装置の動作を説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention will be described.

【0038】まず、図1の識別回路の動作ついて図10
(c)のタイミング図を参照して説明する。
First, the operation of the identification circuit of FIG. 1 will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0039】テスト信号TESTをハイにすることによ
り、識別回路内へ基準クロックCLKが取り入れられる
ので、ヒューズ回路が動作可能になり、また外部出力端
子DOUTiはリードバス情報から識別回路情報が出力
可能になる。
By making the test signal TEST high, the reference clock CLK is taken into the identification circuit, so that the fuse circuit becomes operable, and the external output terminal DOUTi can output the identification circuit information from the read bus information. Become.

【0040】基準クロックCLKがハイのとき、列セレ
クタ信号(YP0T〜YPnT)、行セレクタ信号(X
P0T〜XPnT)とそれに対応するヒューズの(LS
B〜MSB)の情報と同時に比較され結果が出力され、
さらに前記結果の全ての比較結果が一致のときのみ異な
るデータが次段のラッチ回路131へ転送される。ラッ
チ回路131は、基準クロックCLKがハイのときスル
ー、ローのときラッチする。
When the reference clock CLK is high, the column selector signal (YP0T to YPnT) and the row selector signal (X
(P0T to XPnT) and the corresponding fuse (LS)
B to MSB) and the result is output simultaneously.
Further, different data is transferred to the next-stage latch circuit 131 only when all the comparison results match. The latch circuit 131 latches through when the reference clock CLK is high and latches when the reference clock CLK is low.

【0041】このように、基準クロックCLKに同期し
て内部アドレスをスキャンさせることにより順次比較結
果を出力していく。
As described above, the comparison results are sequentially output by scanning the internal addresses in synchronization with the reference clock CLK.

【0042】図1の識別回路の動作ついて、より詳細
に、図10(c)のタイミング図を参照して説明する。
The operation of the identification circuit of FIG. 1 will be described in more detail with reference to the timing chart of FIG.

【0043】まず、時刻t01で、内部アドレス(x,
y)=(0,0)を入力する。そして、テスト信号TE
STをハイにすることにより、NAND111がオン
し、基準クロックCLKによる動作可能が可能となる。
First, at time t01, the internal address (x,
y) = (0,0) is input. Then, the test signal TE
By setting ST to high, the NAND 111 is turned on, and operation by the reference clock CLK becomes possible.

【0044】すなわち、NAND134がオフし、NA
ND133がオンし、識別回路の出力が可能となる。こ
のとき、ラッチ回路131のリセット解除(CLK=H
でスルー、CLK=Lでラッチ)がされる。
That is, the NAND 134 turns off and the NA
The ND 133 turns on, and the output of the identification circuit becomes possible. At this time, the reset release of the latch circuit 131 (CLK = H
Through, and latched when CLK = L).

【0045】基準クロックCLKがハイであるので、X
側ヒューズのLSB〜MSBとX内部アドレスとが比較
される。比較結果が一致なら、NAND124はロウレ
ベルを出力する。
Since the reference clock CLK is high, X
The LSB-MSB of the side fuse is compared with the X internal address. If the comparison results match, the NAND 124 outputs a low level.

【0046】また、Y側ヒューズのLSB〜MSBとY
内部アドレスとが比較される。比較結果が一致なら、N
AND128はロウレベルを出力する。
Also, the LSB-MSB of the Y-side fuse and Y
The internal address is compared. If the comparison results match, N
AND 128 outputs a low level.

【0047】ラッチ回路131は、NAND124,1
28のNORのため、前記X,Yアドレス比較結果が
(L,L)のときHを取り込む。つまり、X,Yのそれ
ぞれLSB〜MSBのすべての比較結果が一致のとき
外部端子へ出力される。
The latch circuit 131 includes NANDs 124, 1
Because of the NOR of 28, H is taken in when the X, Y address comparison result is (L, L). That is, when all the comparison results of LSB to MSB of X and Y are the same.
Output to external terminal.

【0048】基準クロックCLKがロウになっても ラ
ッチ回路131の出力は、次のサイクルまで保持され
る。
Even if the reference clock CLK goes low, the output of the latch circuit 131 is held until the next cycle.

【0049】また、図中の表現で、(XFuse0 A
ND YFuse0)は、X側内部アドレス=0とヒュ
ーズの比較結果と、Y側内部アドレス=0の比較結果の
AND出力を表わす。
In the expression in the figure, (XFuse0 A
ND YFuse0) represents an AND output of a comparison result between the X-side internal address = 0 and the fuse and a comparison result between the Y-side internal address = 0.

【0050】次に、時刻t02では、時刻t01と同様
の動作をするが、内部番地が異なっているだけである。
すなわち、内部アドレス(x,y)=(1,0)が入力
される。
Next, at time t02, the same operation as at time t01 is performed, except that the internal address is different.
That is, the internal address (x, y) = (1, 0) is input.

【0051】同じように時刻t03も時刻t01と同様
の動作をし、内部番地が内部アドレス(x,y)=
(2,0)が入力され、時刻t04も時刻t01と同様
の動作をし、内部番地が内部アドレス(x,y)=
(1,1)が入力され、時刻t05も時刻t01と同様
の動作をし、内部番地が内部アドレス(x,y)=
(1,2)が入力される。本発明の第1の実施の形態の
半導体記憶装置は、ウエハ上の行インデックス、列イン
デックスにデバイスの内部アドレスを対応させて、ヒュ
ーズを切断しているので、デバイス内アドレスと、ウエ
ハ上のインデックスが一致したときに他のアドレスと異
なる結果であるハイレベルが出力される。
Similarly, at time t03, the same operation as at time t01 is performed, and the internal address is the internal address (x, y) =
(2, 0) is input, and the operation at time t04 is the same as at time t01, and the internal address is the internal address (x, y) =
(1, 1) is input, and the operation at time t05 is the same as at time t01, and the internal address is the internal address (x, y) =
(1, 2) is input. In the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, the fuse is blown by making the internal address of the device correspond to the row index and the column index on the wafer. When a match occurs, a high level, which is a result different from other addresses, is output.

【0052】DRAMの不良解析ツールで頻繁に利用さ
れるFAIL MAPなどと併用すると物理的位置が確
認しやすい。例えば、ウエハ上の位置(X=6,Y=
5)に設定してヒューズ切断したチップを調査した場
合、期待値ロウにてFAIL MAPで見た場合、図1
3(b)のように内部アドレスのX=6,Y=5の1箇
所のみFAILする。
When used in combination with FAIL MAP, which is frequently used in a DRAM failure analysis tool, the physical position can be easily confirmed. For example, the position on the wafer (X = 6, Y =
FIG. 1 shows a case where the chip blown with the fuse set at 5) is inspected, and the FAIL MAP is viewed at the expected value row.
As shown in FIG. 3 (b), only one of the internal addresses X = 6 and Y = 5 is failed.

【0053】次に、本発明の第2の実施の形態の半導体
記憶装置について説明する。本発明の第2の実施の形態
の半導体記憶装置の識別回路を図5に示す。
Next, a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 shows an identification circuit of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【0054】図5を参照すると、本発明の第2の実施の
形態の半導体記憶装置の識別回路は、列セレクタ信号
(YP0T〜YPnT)、行セレクタ信号(XP0T〜
XPnT)とTEST信号と基準クロックCLKとで駆
動される図3に示す複数個のヒューズ回路を有する。
Referring to FIG. 5, the identification circuit of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention includes a column selector signal (YP0T to YPnT) and a row selector signal (XP0T to XP0T).
XPnT), the TEST signal, and the reference clock CLK.

【0055】これらのヒューズ回路は、行セレクタ信号
(XP0T〜XPnT)に関連するものは、ヒューズ
(522−0T,522−0n,522−1T,522
−1n,・・・522−nT,522−nn)と、行セ
レクタ信号(XP0T〜XPnT)に対応して、トラン
ジスタ(524−0T,524−0n,524−1T,
524−1n,・・・524−nT,524−nn)と
を具備している。
In these fuse circuits, those related to the row selector signals (XP0T to XPnT) include the fuses (522-0T, 522-0n, 522-1T, 522).
-1n,... 522-nT, 522-nn) and the row selector signals (XP0T to XPnT), the transistors (524-0T, 524-0n, 524-1T,
524-1n,... 524-nT, 524-nn).

【0056】また、これらのヒューズ回路は、列セレク
タ信号(YP0T〜YPnT)に関連するものは、ヒュ
ーズ(525−0T,525−0n,525−1T,5
25−1n,・・・525−nT,525−nn)と、
列セレクタ信号(YP0T〜YPnT)に対応して、ト
ランジスタ(527−0T,527−0n,527−1
T,527−1n,・・・527−nT,527−n
n)とを具備する構成である。
The fuse circuits related to the column selector signals (YP0T to YPnT) include fuses (525-0T, 525-0n, 525-1T, 5).
25-1n,... 525-nT, 525-nn),
In response to the column selector signals (YP0T to YPnT), the transistors (527-0T, 527-0n, 527-1)
T, 527-1n, ... 527-nT, 527-n
n).

【0057】そして、識別回路は、トランジスタ521
の出力を基準クロックCLKでラッチするラッチ回路5
31を具備し、このラッチ回路531の出力を識別回路
の外部に出力する構成である。
Then, the discrimination circuit includes the transistor 521
Circuit 5 for latching the output of the latch with reference clock CLK
31 and outputs the output of the latch circuit 531 to the outside of the identification circuit.

【0058】列セレクタ信号(YP0T〜YPnT)及
び行セレクタ信号(XP0T〜XPnT)はRAMをア
クセスするためのアドレス信号である。TEST信号は
識別回路の活性及びリードバス切り替えの動作をしてい
る。
The column selector signals (YP0T to YPnT) and the row selector signals (XP0T to XPnT) are address signals for accessing the RAM. The TEST signal activates the identification circuit and switches the read bus.

【0059】ヒューズ切断方法は、MSB側のヒューズ
は内部セレクタの上位アドレス、LSBは内部セレクタ
の下位アドレスに対応させて、図9(c)のウエハーマ
ップに示すように他と重複しないマトリクス上の列番
地、行番地に設定し、図9(d)の表から”1”は、各
セレクタ信号側(T)に対応するヒューズを切断す
る。”0”は、各セレクタ信号の反転側(N)切断する
ように設定する。
The fuse cutting method is such that the fuse on the MSB side is associated with the upper address of the internal selector, and the LSB is associated with the lower address of the internal selector, and as shown in the wafer map of FIG. The column address and the row address are set, and “1” in the table of FIG. 9D cuts the fuse corresponding to each selector signal side (T). "0" is set so that each selector signal is disconnected on the inversion side (N).

【0060】例えば、X=8番地にヒューズを設定した
場合、アドレスXP0Tの反転側(N)のヒューズカッ
ト、アドレスXP1Tの反転側(N)のヒューズカッ
ト、アドレスXP2Tの反転側(N)のヒューズカッ
ト、アドレスXP3T側(T)のヒューズカット、アド
レスXP4Tの反転側(N)のヒューズカット、・・
・、アドレスXPnTの反転側(N)のヒューズカット
をする。
For example, when a fuse is set at address X = 8, a fuse cut on the inversion side (N) of the address XP0T, a fuse cut on the inversion side (N) of the address XP1T, and a fuse cut on the inversion side (N) of the address XP2T. Cut, fuse cut on address XP3T side (T), fuse cut on inverted side (N) of address XP4T,.
・ A fuse is cut on the inversion side (N) of the address XPnT.

【0061】つまりこの回路では、ショートさせた出力
y2は8番地のみロウレベルに出来ないことになる。よ
って、テスト信号TESTをハイで、基準クロックCL
Kに同期してアドレスをスキャンすると出力端子には、
他の番地のときに出力されるデータと異なるため、識別
が可能になる。
That is, in this circuit, the short-circuited output y2 cannot be set to the low level only at address 8. Therefore, when the test signal TEST is set high and the reference clock CL
When the address is scanned in synchronization with K, the output terminal
Since the data is different from the data output at other addresses, identification becomes possible.

【0062】本発明の第2の実施の形態の半導体記憶装
置の動作タイミングは、本発明の第1の実施の形態の半
導体記憶装置と同じであるので、その詳細な説明は、省
略する。
Since the operation timing of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention is the same as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

【0063】次に、本発明の第3の実施の形態の半導体
記憶装置について説明する。
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described.

【0064】図6を参照すると、本発明の第3の実施の
形態の半導体記憶装置の識別回路は、本発明の第2の実
施の形態の半導体記憶装置の行セレクタ側の出力と列セ
レクタ側の出力を論理ORとして構成し、OR回路63
0を有する回路である。
Referring to FIG. 6, the identification circuit of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention comprises a row selector output and a column selector side of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. Is configured as a logical OR, and an OR circuit 63
It is a circuit having 0.

【0065】本発明の第3の実施の形態の半導体記憶装
置動作タイミングは、図10(b)に示すように、出力
データは、行セレクタ側の比較結果と列セレクタ側の比
較結果の論理ORで出力される。
The operation timing of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention is, as shown in FIG. 10B, the output data is a logical OR of the comparison result on the row selector side and the comparison result on the column selector side. Is output.

【0066】例えばX=6,Y=5でした場合、FAI
L MAPで見た場合、図13(c)のように縦横にそ
れぞれ1本FAILし、そのFAIL交点がウエハ上の
場所を示している。
For example, if X = 6 and Y = 5, FAI
When viewed from L MAP, as shown in FIG. 13 (c), one FAIL in each of the vertical and horizontal directions, and the FAIL intersection indicates a location on the wafer.

【0067】この回路では、行セレクタ信号(XP0T
〜XPnT)側の比較結果と、列セレクタ信号(YP0
T〜YPnT)側の比較結果のORであるので、アドレ
スは全番地スキャンの必要はない。
In this circuit, the row selector signal (XP0T)
To XPnT) and the column selector signal (YP0).
Since it is the OR of the comparison result on the (T to YPnT) side, it is not necessary to scan all addresses.

【0068】Y=0固定でXを全スキャン、X=0固定
でYを全スキャンすれば行位置、列位置が識別できる。
If Y is fixed at 0 and X is all scanned, and X is fixed at 0 and Y is all scanned, the row position and the column position can be identified.

【0069】次に、本発明の第4の実施の形態の半導体
記憶装置について説明する。
Next, a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention will be described.

【0070】図7を参照すると、本発明の第4の実施の
形態の半導体記憶装置は、本発明の第2の実施の形態の
半導体記憶装置の行セレクタ側のみから構成した回路で
ある。また、本発明の第2の実施の形態の半導体記憶装
置の列セレクタのみを使用しても構成できることは言う
までもない。
Referring to FIG. 7, the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention is a circuit configured only from the row selector side of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. Needless to say, the configuration can be made using only the column selector of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【0071】本発明の第4の実施の形態の半導体記憶装
置のヒューズ切断方法は、MSB側のヒューズは内部セ
レクタの上位アドレス、LSBは内部セレクタの下位ア
ドレスに対応させて、図9(a)の図に示すように、他
と重複しないシリアル番地に設定し、図9(b)の表か
ら”1”は、セレクタ信号側(T)に対応するヒューズ
を切断する。”0”の場合は、セレクタ信号の反転側
(N)を切断するように設定する。
The fuse cutting method of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention is shown in FIG. 9 (a) in which the fuse on the MSB side corresponds to the upper address of the internal selector and the LSB corresponds to the lower address of the internal selector. As shown in FIG. 9, a serial address which does not overlap with the others is set, and "1" in the table of FIG. 9B cuts the fuse corresponding to the selector signal side (T). In the case of "0", it is set so that the inverting side (N) of the selector signal is disconnected.

【0072】例えば、6番地に設定した場合、FAIL
MAPで見た場合図13(a)のようにX=6番地の
みFAIL、そのFAIL番地からウエハ上の場所を識
別できる。
For example, if address 6 is set, FAIL
When viewed from the MAP, as shown in FIG. 13A, only the address X = 6 is FAIL, and the location on the wafer can be identified from the FAIL address.

【0073】動作タイミングは図10(a)に示すよう
に、基準クロックCLKに同期して内部アドレスをスキ
ャンさせることにより順次比較結果を出力していく。
As for the operation timing, as shown in FIG. 10A, the comparison result is sequentially output by scanning the internal address in synchronization with the reference clock CLK.

【0074】次に、本発明の第5の実施の形態の半導体
記憶装置について説明する。
Next, a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention will be described.

【0075】図8を参照すると、本発明の第5の実施の
形態の半導体記憶装置は、図4のヒューズ回路を使用し
て構成した回路である。
Referring to FIG. 8, the semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention is a circuit configured using the fuse circuit of FIG.

【0076】ヒューズ切断方法は、本発明の第1の実施
の形態の半導体記憶装置と同様である。
The fuse cutting method is the same as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【0077】動作タイミングは図10(d)に示すよう
に、電源投入時に ワンショットのLOWパルス信号を
発生させ、DRAM等では電源投入時のリセット信号と
して使用されるパワーオン バー信号PONBのロウパ
ルスを識別作業前に入力させヒューズレベルを確定させ
る。出力の期待値は、本発明の第1の実施の形態の半導
体記憶装置と同じである。
As shown in FIG. 10D, a one-shot LOW pulse signal is generated when the power is turned on, and a low pulse of the power-on bar signal PONB used as a reset signal when the power is turned on in a DRAM or the like. Input before the identification work to determine the fuse level. The expected value of the output is the same as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、TES
T信号をオンしアドレスをスキャンすることで任意の端
子から識別回路のデーターを順次出力することにより、
製品の特性を損なわずに識別を行う方法を提供できる。
As described above, the present invention provides a TES
By turning on the T signal and scanning the address, the data of the identification circuit is sequentially output from any terminal,
It is possible to provide a method of performing identification without impairing the characteristics of a product.

【0079】本発明は外部端子のPAD近くへ識別回路
を接続しない構成であるため、入出力端子の負荷の増大
がない。かつ、識別回路の情報を順次出力していくの
で、最低1ピン以上の外部端子があればよいので外部端
子数の少ない製品に適応可能である。
In the present invention, since the identification circuit is not connected near the external terminal PAD, the load on the input / output terminal does not increase. In addition, since the information of the identification circuit is sequentially output, it is only necessary to provide an external terminal of at least one pin, so that the present invention can be applied to a product having a small number of external terminals.

【0080】したがって、パッケージを開封または破壊
せずにチップの識別を容易にし、外部端子数や入出力負
荷、及び識別数の限度を気にせずに利用出来る為、SD
RAMやRDRAMに代表されるような半導体記憶装置
全般に利用可能である。
Therefore, the chip can be easily identified without opening or destroying the package, and the package can be used without concern for the number of external terminals, input / output load, and the limit of the number of identifications.
The present invention can be used for all semiconductor memory devices represented by RAM and RDRAM.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体記憶装置の
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態の半導体記憶装置に使用す
るヒューズ回路の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a fuse circuit used in the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態の半導体記憶装置に使用す
る他のヒューズ回路の回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of another fuse circuit used in the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention;

【図4】本発明の実施の形態の半導体記憶装置に使用す
る別の他のヒューズ回路の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of another fuse circuit used in the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention;

【図5】本発明の第2の実施の形態の半導体記憶装置の
ブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施の形態の半導体記憶装置の
ブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施の形態の半導体記憶装置の
ブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5実施の形態の半導体記憶装置のブ
ロック図である。
FIG. 8 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の半導体記憶装置のウエハー位置とヒュ
ーズ回路図である。
FIG. 9 is a diagram showing a wafer position and a fuse circuit diagram of the semiconductor memory device of the present invention.

【図10】本発明の第1の実施の形態の半導体記憶装置
及びその識別方法の通常動作を説明するタイムチャート
である。
FIG. 10 is a time chart for explaining a normal operation of the semiconductor memory device and the identification method thereof according to the first embodiment of the present invention;

【図11】従来の半導体記憶装置ブロック図である。FIG. 11 is a block diagram of a conventional semiconductor memory device.

【図12】本発明の半導体記憶装置ブロック図である。FIG. 12 is a block diagram of a semiconductor memory device of the present invention.

【図13】半導体記憶装置のウエハー位置を示すウェハ
ーマップ図である。
FIG. 13 is a wafer map diagram showing a wafer position of the semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

111 NAND回路 121−j(j=1〜n),125−j(j=1〜n)
トランジスタ 122−j(j=1〜n),126−j(j=1〜n)
ヒューズ 123−j(j=1〜n),127−j(j=1〜n)
EXOR 222,322,422 ヒューズ 131,531 ラッチ回路 1102 識別回路 1103 ヒューズ 1104,1204 データ入力回路 1105,1205 列セレクタ・行セレクタ 1106,1206 メモリ・セル群 1107,1207 データ出力回路 1208 識別回路
111 NAND circuit 121-j (j = 1 to n), 125-j (j = 1 to n)
Transistors 122-j (j = 1 to n), 126-j (j = 1 to n)
Fuse 123-j (j = 1 to n), 127-j (j = 1 to n)
EXOR 222, 322, 422 Fuse 131, 531 Latch circuit 1102 Identification circuit 1103 Fuse 1104, 1204 Data input circuit 1105, 1205 Column selector / row selector 1106, 1206 Memory cell group 1107, 1207 Data output circuit 1208 Identification circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/04 G11C 11/34 371A 5L106 21/822 H01L 27/04 T 27/10 491 (72)発明者 有森 亨 神奈川県川崎市中原区小杉町一丁目403番 53 日本電気アイシーマイコンシステム株 式会社内 (72)発明者 後藤 浩一 神奈川県川崎市中原区小杉町一丁目403番 53 日本電気アイシーマイコンシステム株 式会社内 Fターム(参考) 2G132 AA08 AC03 AD06 AG08 AL12 4M106 AA04 CA26 DA15 DJ21 DJ38 5B024 AA15 BA29 CA07 EA01 EA04 5F038 AV15 DT03 DT06 DT12 DT13 DT16 EZ20 5F083 AD00 GA27 LA10 ZA20 5L106 AA01 DD12 GG07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 27/04 G11C 11/34 371A 5L106 21/822 H01L 27/04 T 27/10 491 (72) Inventor Tohru Arimori 1-403 53 Kosugi-cho, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Within the NEC Icy Microcomputer System Co., Ltd. F-term within the company (reference) 2G132 AA08 AC03 AD06 AG08 AL12 4M106 AA04 CA26 DA15 DJ21 DJ38 5B024 AA15 BA29 CA07 EA01 EA04 5F038 AV15 DT03 DT06 DT12 DT13 DT16 EZ20 5F083 AD00 GA27 LA10 ZA20 5L106A

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 データ入力回路と、データー出力回路
と、メモリセル群と、行セレクタ・列セレクタからなる
半導体記憶装置であって、前記データ出力回路の部分に
識別回路とテスト信号を設け、前記識別回路は、前記半
導体記憶装置の内部アドレス信号と前記半導体記憶装置
の半導体基板上の位置に対応する識別回路内ヒューズ情
報とを比較し、その比較結果を前記テスト信号をオンす
ることにより外部端子へ出力することを特徴とする半導
体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a data input circuit, a data output circuit, a memory cell group, and a row selector / column selector, wherein an identification circuit and a test signal are provided in a part of the data output circuit. The identification circuit compares the internal address signal of the semiconductor memory device with the fuse information in the identification circuit corresponding to the position of the semiconductor memory device on the semiconductor substrate, and turns on the test signal to determine the external terminal. A semiconductor memory device for outputting the data to a memory device.
【請求項2】 前記半導体記憶装置をICパッケージに
封入された状態で、前記テスト信号をオンすることで、
外部端子へ識別結果を出力する請求項1記載の半導体記
憶装置。
2. The test signal is turned on in a state where the semiconductor memory device is sealed in an IC package.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the identification result is output to an external terminal.
【請求項3】 前記内部アドレス信号をスキャンするこ
とで前記半導体基板上の位置の識別をする請求項1また
は2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a position on said semiconductor substrate is identified by scanning said internal address signal.
【請求項4】 前記識別回路内ヒューズ情報は、前記ヒ
ューズの切断によりハイレベルまたはロウレベルを発生
し、前記ヒューズの切断方法は、前記半導体基板上の位
置より他と重複しない一の番号で決められる請求項1記
載の半導体記憶装置。
4. The fuse information in the identification circuit generates a high level or a low level by cutting the fuse, and the method of cutting the fuse is determined by a number that does not overlap with another from a position on the semiconductor substrate. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項5】 データ出力回路の部分に識別回路とテス
ト信号を設け、前記識別回路で前記半導体記憶装置の内
部アドレス信号と前記半導体記憶装置の半導体基板上の
位置に対応する識別回路内ヒューズ情報とを比較する比
較工程と、その比較結果を前記テスト信号をオンするテ
スト信号オン工程と、前記テスト信号を外部端子へ出力
する出力工程とを有することを特徴とする半導体記憶装
置の識別方法。
5. An identification circuit and a test signal are provided in a data output circuit, and the identification circuit fuse information corresponding to an internal address signal of the semiconductor memory device and a position of the semiconductor memory device on a semiconductor substrate in the identification circuit. A test signal on step of turning on the test signal based on the result of the comparison, and an output step of outputting the test signal to an external terminal.
【請求項6】 前記内部アドレス信号をスキャンするこ
とで前記半導体基板上の位置の識別をする識別工程を有
する請求項5記載の半導体記憶装置の識別方法。
6. The method according to claim 5, further comprising an identification step of identifying a position on the semiconductor substrate by scanning the internal address signal.
【請求項7】 前記識別回路内ヒューズ情報は、前記ヒ
ューズの切断によりハイレベルまたはロウレベルを発生
するレベル発生工程と、前記半導体基板上の位置より他
と重複しない一の番号で決められるヒューズ切断工程と
を有する請求項5または6記載の半導体記憶装置の識別
方法。
7. A level generating step of generating a high level or a low level by cutting off the fuse, and a fuse cutting step determined by a number that does not overlap with another from a position on the semiconductor substrate. 7. The method for identifying a semiconductor memory device according to claim 5, comprising:
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