JP2002042485A - Test apparatus for semiconductor memory - Google Patents
Test apparatus for semiconductor memoryInfo
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 50
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 50
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、DUT(被試験
半導体メモリデバイス)である半導体メモリに不良メモ
リセルを救済する予備のメモリセルが準備されているD
UTの試験をする装置で、不良救済解析部を有する半導
体メモリ試験装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device which is a DUT (semiconductor memory device under test) in which a spare memory cell for repairing a defective memory cell is prepared.
The present invention relates to a device for testing a UT, and a semiconductor memory test device having a defect repair analysis unit.
【0002】[0002]
【従来の技術】先ず、半導体メモリ試験装置の概略につ
いて説明する。図4に半導体メモリ試験装置の基本的な
ブロック図を示す。テストプロセッサ31は、装置全体
の制御を行い、テスタ・バスにより各ユニットに制御信
号を与える。パターン発生器32は、DUT(被試験半
導体メモリデバイス)30に与える印加パターンとパタ
ーン比較器37に与える期待値パターンを生成する。半
導体メモリ試験装置では一般的に、パターン発生器32
にALPG( Algorithmic Pattern Generator)を用いて
いる。ALPGとは、試験パターンを内部の演算機能を
持ったレジスタを用いて演算でパターンを発生するパタ
ーン発生器である。2. Description of the Related Art First, an outline of a semiconductor memory test apparatus will be described. FIG. 4 shows a basic block diagram of the semiconductor memory test apparatus. The test processor 31 controls the entire apparatus, and supplies a control signal to each unit via a tester bus. The pattern generator 32 generates an applied pattern to be applied to the DUT (semiconductor memory device under test) 30 and an expected value pattern to be applied to the pattern comparator 37. In a semiconductor memory test apparatus, a pattern generator 32 is generally used.
ALPG (Algorithmic Pattern Generator). The ALPG is a pattern generator that generates a test pattern by calculation using a register having an internal calculation function.
【0003】タイミング発生器33は、装置全体のテス
ト周期信号やテストタイミングをとるために、タイミン
グパルス信号を発生してパターン発生器32、波形整形
器34、コンパレータ36やパターン比較器37等に与
え、テストのタイミングをとる。波形整形器34は、パ
ターン発生器32からの印加パターンをテスト信号波形
に整形し、ドライバ35を経てDUT30にテスト信号
を与える。A timing generator 33 generates a timing pulse signal to obtain a test period signal and a test timing of the entire apparatus and supplies the timing pulse signal to a pattern generator 32, a waveform shaper 34, a comparator 36, a pattern comparator 37 and the like. Take the timing of the test. The waveform shaper 34 shapes the applied pattern from the pattern generator 32 into a test signal waveform, and supplies a test signal to the DUT 30 via the driver 35.
【0004】DUT30から読み出された応答信号は、
コンパレータ36で電圧比較され、その結果の論理信号
をパターン比較器37に与える。パターン比較器37
は、コンパレータ36からの試験結果の論理パターンと
パターン発生器32からの期待値パターンとを論理比較
して一致・不一致を検出し、DUT30のメモリセルの
良否判定を行う。試験結果のフェイル情報ははアドレス
フェイルメモリ(AFM)38に、パターン発生器32
からのアドレス情報に対応する格納位置へ記憶させる。[0004] The response signal read from the DUT 30 is:
The voltage is compared by the comparator 36, and the resulting logic signal is given to the pattern comparator 37. Pattern comparator 37
Performs a logical comparison between the logical pattern of the test result from the comparator 36 and the expected value pattern from the pattern generator 32 to detect a match / mismatch, and determines the quality of the memory cell of the DUT 30. The test result fail information is stored in an address fail memory (AFM) 38 in a pattern generator 32.
Is stored in the storage position corresponding to the address information from the server.
【0005】アドレスフェイルメモリ38は、DUT3
0のフェイルセルに対応したアドレスに“1”が書き込
まれる。つまり、DUT30と1対1のフェイルビット
マップになっている。[0005] The address fail memory 38 is a DUT 3
“1” is written to the address corresponding to the 0 fail cell. That is, it is a one-to-one fail bitmap with the DUT 30.
【0006】試験が終了すると、このフェイルメモリ3
8の情報は、図1に示すMRA用専用バスによって、不
良救済解析部(MRA:Memory Repair Analysis)10
のフェイルバッファメモリ(FBM)11に高速に転送
される。この不良救済解析部10のフェイルバッファメ
モリ11のデータ情報に基づいて不良救済解析部10の
CPU(電子計算器)で、あるいはパソコンで、又はワ
ークステーション(WS:Work Station)20などによ
って不良解析が行われる。本発明は、この不良救済解析
部10の不良解析に関するものである。When the test is completed, the fail memory 3
The information of 8 is sent to a defect repair analysis unit (MRA: Memory Repair Analysis) 10 by a dedicated bus for MRA shown in FIG.
Is transferred to the fail buffer memory (FBM) 11 at high speed. Based on the data information in the fail buffer memory 11 of the failure repair analysis unit 10, failure analysis can be performed by the CPU (electronic computer) of the failure repair analysis unit 10, by a personal computer, by a workstation (WS: Work Station) 20, or the like. Done. The present invention relates to a failure analysis of the failure repair analysis unit 10.
【0007】これらの不良解析を行うために、従来から
いわゆるビットマップデータ処理方法で行っている。こ
のビットマップデータ処理方法とは、フェイルバッファ
メモリ11の1セル毎に正常か不良かをチェックして不
良セル情報を読み出し処理する方法である。In order to perform these failure analysis, a so-called bitmap data processing method has been conventionally used. This bitmap data processing method is a method of checking whether each cell of the fail buffer memory 11 is normal or defective and reading out defective cell information.
【0008】図5にビットマップデータの概念図を示
す。フェイルバッファメモリ11のワード(Word)構成
は、DUT30の構成に合わせて4ビット構成、8ビッ
ト構成、16ビット構成…等々があり、各ビット毎にメ
モリカードを有している。この明細書では4ビット構成
で説明する。ワード構成とは、DUTの同一アドレスに
メモリされている複数のビット構成をいう。図5のよう
にメモリカードのメモリセルは2次元のアレイ状になっ
ており、列(ロウ: Row)アドレスと、行(カラム:Co
lumn)アドレスとで指定される。行(C)および列
(R)の数が共に1〜nとすると、メモリセルはRiC
i(i=1〜n)で指定される。このメモリカードを各
ビット毎に設け、ビット0メモリ40、ビット1メモリ
41、ビット2メモリ42およびビット3メモリ43の
4枚とする。32ビット構成の場合には32枚のメモリ
カードを有する。そして、それぞれのメモリカードの各
セルに不良の場合には“1”が、正常の場合には“0”
が書き込まれている。FIG. 5 is a conceptual diagram of bitmap data. The word configuration of the fail buffer memory 11 includes a 4-bit configuration, an 8-bit configuration, a 16-bit configuration, and the like in accordance with the configuration of the DUT 30, and has a memory card for each bit. In this specification, description will be made with a 4-bit configuration. The word configuration refers to a plurality of bit configurations stored at the same address of the DUT. As shown in FIG. 5, the memory cells of the memory card are arranged in a two-dimensional array, and have a column (Row) address and a row (Column: Co).
lumn) address and specified. Assuming that the number of rows (C) and the number of columns (R) are 1 to n, the memory cell is RiC
i (i = 1 to n). This memory card is provided for each bit, and the four cards are a bit 0 memory 40, a bit 1 memory 41, a bit 2 memory 42, and a bit 3 memory 43. In the case of a 32-bit configuration, there are 32 memory cards. Then, if each cell of each memory card is defective, “1” is set, and if it is normal, “0” is set.
Is written.
【0009】図6に不良ビット記載の一例の状況を示
す。ビット0メモリ40には R1,C1、R2,C2…と、ビッ
ト1メモリ41には R1,C2、 R2,C3…と、ビット2メモ
リ42には R1,C3、 R2,C4…と、ビット3メモリ43に
は R1,C1、 R2,C5…とそれぞれアドレスnまでの不良ビ
ットに“1”が書き込まれている。FIG. 6 shows an example of a description of a defective bit. The bit 0 memory 40 has R1, C1, R2, C2..., The bit 1 memory 41 has R1, C2, R2, C3, and so on, the bit 2 memory 42 has R1, C3, R2, C4. In the memory 43, R1, C1, R2, C5,... And “1” are written in defective bits up to the address n.
【0010】開発部門の試験では、不良メモリセルが不
規則に発生する場合があるので、不良発生原因を解明
し、不良メモリセルの根絶を目指している。製造部門で
は、開発部門で完成した半導体メモリデバイスを製造し
試験するのであるから、製造工程での不良メモリセルの
発生であり、1ビット毎の不良メモリセルや、行アドレ
スラインの不良メモリセルや列アドレスラインの不良メ
モリセルなどが多い。そこでこのDUT30の試験を製
造過程のウエハ( Wafer)の段階で行ない、一部不良のチ
ップを救済して良品の半導体メモリデバイスにする。[0010] In the test of the development department, since defective memory cells may occur irregularly, the cause of the defective occurrence is clarified and the aim is to eradicate the defective memory cells. Since the manufacturing department manufactures and tests the semiconductor memory device completed by the development department, defective memory cells are generated in the manufacturing process, and a defective memory cell for each bit, a defective memory cell of a row address line, There are many defective memory cells in the column address line. Therefore, the test of the DUT 30 is performed at the wafer stage in the manufacturing process, and a partially defective chip is rescued to make a good semiconductor memory device.
【0011】図7に、製造過程のウエハ( Wafer)での不
良救済の説明図を示す。図7(A)は、列(R)アドレ
スの不良メモリセルが多い場合の救済処置である。不良
メモリセルには×印を示している。この不良メモリアド
レスが有るRiアドレスを良品のスペア行の予備メモリ
セルに置換する。図7(B)は、行(C)アドレスの不
良メモリセルが多い場合の救済処置である。この不良メ
モリアドレスが有るCiアドレスをスペア列の予備メモ
リセルに置換する。FIG. 7 is a diagram for explaining the remedy of a defect in a wafer in a manufacturing process. FIG. 7A shows a remedy when there are many defective memory cells at the column (R) address. Defective memory cells are indicated by x. The Ri address having the defective memory address is replaced with a spare memory cell in a non-defective spare row. FIG. 7B shows a remedy when there are many defective memory cells at the row (C) address. The Ci address having the defective memory address is replaced with a spare memory cell in a spare column.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】製造過程のウエハの段
階で行うDUT30の試験は、従来装置で充分に試験し
不良救済解析をすることができる。しかしながら、上記
のビットマップデータ処理方法は、データをフェイルバ
ッファメモリ11から各アドレス毎の各ビット毎に読み
出して、CPUで不良メモリセルであるかどうかをチェ
ックし、演算して不良救済解析をしているので時間がか
かるという欠点がある。The test of the DUT 30 performed at the stage of the wafer in the manufacturing process can be sufficiently performed by the conventional apparatus to perform the defect repair analysis. However, in the above-described bitmap data processing method, data is read out from the fail buffer memory 11 for each bit at each address, and the CPU checks whether or not the memory cell is defective, performs an operation, and performs a defect repair analysis. There is a drawback that it takes a long time.
【0013】例えば、8Mワードで8ビットの64Mビ
ットのDUTで、フェイル数が1%の場合の読み出し時
間、書き込み時間を含めた転送時間が400msかかる
という計算結果もある。この発明は、DUTである半導
体メモリデバイスの不良救済解析の時間を短縮すること
を目的とする。For example, there is a calculation result that a transfer time including a read time and a write time when the number of failures is 1% is 400 ms in a DUT of 8 M words and 8 bits of 64 M bits. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to reduce the time required for defect repair analysis of a semiconductor memory device as a DUT.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、不良救済解析部に有するフェイルバッ
ファメモリの記憶方法をDUTメモリの従来のビットマ
ップ方式から、DUTの不良メモリセルを有するアドレ
スとその同一アドレスに存在する複数ビットの良・不良
とを記述する所定のフォーマットで記憶させる方法とす
る。アドレスおよび良・不良ビットは、“0”と“1”
とで記述する。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for storing a fail buffer memory included in a defect repair analysis unit from a conventional bit map system of a DUT memory to a defective memory cell of the DUT. In this method, the address is stored in a predetermined format that describes the good and bad of a plurality of bits existing at the same address. Address and good / bad bits are “0” and “1”
Described as
【0015】この所定のフォーマット・データをフェイ
ルメモリのハードで生成し、フェイルメモリから不良救
済解析部のフェイルバッファメモリに、次にフェイルバ
ッファメモリからCPUに転送して不良救済解析を行
う。高速動作にするためである。読み出し時間書き込み
時間を含めた転送時間は、64Mビット(8M×8ビッ
ト)のDUTで一定条件の基で計算すると、2.25m
sと従来の約1/180倍に短縮できるという計算例が
ある。更に、不良救済解析時間も従来より短縮できよ
う。The predetermined format data is generated by the hardware of the fail memory, and is transferred from the fail memory to the fail buffer memory of the failure repair analysis unit and then from the fail buffer memory to the CPU to perform the failure repair analysis. This is for high-speed operation. The transfer time including the read time and the write time is 2.25 m when calculated under a constant condition using a 64 Mbit (8 M × 8 bit) DUT.
There is a calculation example in which s can be reduced to about 1/180 times the conventional value. Further, the defect repair analysis time can be reduced as compared with the conventional case.
【0016】更に、高速演算を得るために不良救済解析
部の演算部に新たに不良救済演算手段を設け、上記の所
定のフォーマット・データで動作するようにする。ま
た、必要に応じて上記の所定のフォーマット・データで
不良救済演算を行うように、不良救済解析部の制御部に
新たに不良救済制御手段を設けてもよい。次に、この発
明の構成について述べる。Further, in order to obtain a high-speed operation, a new defect repair operation means is provided in the operation section of the defect repair analysis section so as to operate with the above-mentioned predetermined format data. Further, a defect repair control means may be newly provided in the control unit of the defect repair analysis unit so as to perform the defect repair operation using the above-mentioned predetermined format data as required. Next, the configuration of the present invention will be described.
【0017】第1発明は、不良救済解析で用いるデータ
を従来のビットマップ方式から新たにハードで生成する
所定のフォーマット・データにした発明である。つま
り、DUTにテスト信号を印加し、DUTからの応答
信号の論理パターンとパターン発生器からの期待値パタ
ーンとをパターン比較器で論理比較し、その結果をアド
レスフェイルメモリのフェイルメモリに一時記憶して不
良救済解析部のフェイルバッファメモリに転送し、不良
救済解析部でDUTの不良メモリセルを解析し、不良メ
モリセルを予備メモリセルに置換させる解析を行う半導
体メモリ試験装置であって、DUTの不良メモリセル
を有するアドレスと該同一アドレスに存在する複数ビッ
トの良・不良とを記述した所定のフォーマットで不良救
済解析部のフェイルバッファメモリに転送するアドレス
フェイルメモリのフェイルメモリと、所定のフォーマ
ット・データを記憶する不良救済解析部のフェイルバッ
ファメモリとを具備する半導体メモリ試験装置である。The first invention is an invention in which data used for defect repair analysis is converted into a predetermined format data which is newly generated by hardware from a conventional bitmap system. That is, a test signal is applied to the DUT, a logical pattern of a response signal from the DUT and an expected value pattern from the pattern generator are logically compared by a pattern comparator, and the result is temporarily stored in a fail memory of an address fail memory. A semiconductor memory test apparatus for performing a transfer to a fail buffer memory of a failure repair analysis unit, a failure memory analysis of the DUT by the failure repair analysis unit, and an analysis for replacing the defective memory cell with a spare memory cell. A fail memory of an address fail memory for transferring to a fail buffer memory of a failure repair analysis unit in a predetermined format describing an address having a defective memory cell and a plurality of bits of good / bad present at the same address; A failure buffer memory of a defect repair analysis unit for storing data That is a semiconductor memory test equipment.
【0018】第2発明は、新たな所定のフォーマット・
データを取り扱う最適な構成である。つまりDUTに
テスト信号を印加し、DUTからの応答信号の論理パタ
ーンとパターン発生器からの期待値パターンとをパター
ン比較器で論理比較し、その結果をアドレスフェイルメ
モリのフェイルメモリに一時記憶して不良救済解析部の
フェイルバッファメモリに転送し、不良救済解析部でD
UTの不良メモリセルを解析し、不良メモリセルを予備
メモリセルに置換させる解析を行う半導体メモリ試験装
置であって、不良救済解析部のフェイルバッファメモ
リに記憶されている不良メモリセルを有するアドレスと
該同一アドレスに存在する複数ビットの良・不良とを記
述した所定のフォーマット・データでもって不良救済解
析を行う不良救済解析手段を内蔵する演算部を具備する
半導体メモリ試験装置である。The second invention is a new predetermined format.
This is the optimal configuration for handling data. That is, the test signal is applied to the DUT, the logical pattern of the response signal from the DUT and the expected value pattern from the pattern generator are logically compared by the pattern comparator, and the result is temporarily stored in the fail memory of the address fail memory. The data is transferred to the fail buffer memory of the defect repair analysis unit,
A semiconductor memory test apparatus for analyzing a defective memory cell of a UT and performing an analysis for replacing a defective memory cell with a spare memory cell, comprising: an address having a defective memory cell stored in a fail buffer memory of a defect repair analysis unit; A semiconductor memory test apparatus including a calculation unit having a built-in defect repair analysis unit for performing a defect repair analysis using predetermined format data describing a plurality of bits of good or bad existing at the same address.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を実施例に基づ
き図面を参照して説明する。図1に本発明の一実施例の
構成図を、図2に本発明実施例のDUTにおける不良ア
ドレスと不良メモリセルの状況図を、図3にこの発明で
用いた所定のフォーマット・データの実施例図を示す。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described based on embodiments with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the status of a defective address and a defective memory cell in a DUT of the present invention, and FIG. 3 is an implementation of predetermined format data used in the present invention. An example diagram is shown.
【0020】始めに図2および図3を用いて、不良メモ
リセルの記述について説明する。理解し易いように説明
するため、ここでも4ビット構成のデータで説明する。
32ビット構成の場合は、ビット数が32ビットにな
る。図2は、図6の各ビット毎の不良ビットを記載した
ものを、DUT30のアドレス毎に不良ビットの有るア
ドレスにまとめて記載した状況図である。First, a description of a defective memory cell will be described with reference to FIGS. In order to make the description easy to understand, the description will be made using 4-bit data.
In the case of a 32-bit configuration, the number of bits is 32 bits. FIG. 2 is a situation diagram in which the defective bits for each bit shown in FIG. 6 are collectively described for each address of the DUT 30 at the address having the defective bit.
【0021】図3は、図2のDUT30のアドレス毎に
不良ビットの有るアドレスにまとめた状況図を、所定の
フォーマット・データにした実施例図である。つまり、
DUT30の不良メモリセルを有するアドレスとその同
一アドレスに存在する複数ビットの良・不良とを記述
し、所定のフォーマット・データにしている。この発明
は、従来のビットマップ方式から、この所定のフォーマ
ット・データを用いてフォーマット・データを転送し、
それを用いて演算する。FIG. 3 is a diagram showing an embodiment in which the situation diagram in which the addresses of the DUT 30 in FIG. That is,
An address having a defective memory cell of the DUT 30 and a plurality of bits of good or bad present at the same address are described, and the data is formed into predetermined format data. The present invention transfers format data using the predetermined format data from the conventional bitmap system,
The calculation is performed using it.
【0022】図1に本発明の一実施例を示す。図4と共
通する部分には同一符号を付す。パターン比較器37
は、DUT30からの応答論理パターンとパターン発生
器32からの期待値パターンとを論理比較してその良否
結果をフェイルメモリ38に与えている。DUT30の
同一アドレスのメモリセルの数は、例えば4ビットや3
2ビットなど複数あり、同時に出力される。そこでパタ
ーン比較器37も複数有り、同時に平行して論理比較し
ている。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. 4 are denoted by the same reference numerals. Pattern comparator 37
Logically compares the response logic pattern from the DUT 30 with the expected value pattern from the pattern generator 32, and gives the result of the pass / fail to the fail memory 38. The number of memory cells at the same address of the DUT 30 is, for example, 4 bits or 3 bits.
There are two or more such as two bits, which are output simultaneously. Therefore, there are also a plurality of pattern comparators 37, and logic comparison is performed simultaneously in parallel.
【0023】フェイルメモリ38は、パターン比較器3
7からのテスト結果の良否データを受け、パターン発生
器からのアドレス情報等の各種情報と共に記憶する。こ
の発明は、同一アドレスの半導体メモリセルに不良メモ
リセルが有るもののみのデータを、ハードでもって所定
のフォーマットで記憶し、不良救済解析部10のフェイ
ルバッファメモリ11に転送し記憶させる。The fail memory 38 includes the pattern comparator 3
7, and stores the data along with various information such as address information from the pattern generator. According to the present invention, only data having a defective memory cell in a semiconductor memory cell at the same address is stored in a predetermined format by hardware, and is transferred to and stored in the fail buffer memory 11 of the defect repair analysis unit 10.
【0024】つまり、この半導体メモリ試験装置では、
新規の所定のフォーマット・データをアドレスフェイル
メモリのフェイルメモリ38のハードで生成し、この生
成した所定のフォーマット・データを不良救済解析部1
0のフェイルバッファメモリ11に転送し、フェイルバ
ッファメモリ11は、この所定のフォーマット・データ
形式で記憶する。第1発明である。That is, in this semiconductor memory test apparatus,
New predetermined format data is generated by the hardware of the fail memory 38 of the address fail memory, and the generated predetermined format data is sent to the defect repair analysis unit 1.
0 to the fail buffer memory 11, and the fail buffer memory 11 stores the data in the predetermined format / data format. This is the first invention.
【0025】フェイルバッファメモリ11に記憶されて
いる所定のフォーマット・データでもって、効率よく高
速に不良救済解析を行うために、不良救済解析部10の
演算部12に新規に不良救済解析手段13を設ける。第
2発明である。制御部14に新たに不良救済制御手段1
5を設けると、制御が容易になるので設けた方が望まし
い。In order to efficiently and quickly perform defect repair analysis using predetermined format data stored in the fail buffer memory 11, a new defect repair analysis means 13 is added to the operation unit 12 of the defect repair analysis unit 10. Provide. This is the second invention. The defect repair control means 1 is newly added to the control unit 14.
When 5 is provided, it is desirable to provide 5 because control becomes easy.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上詳細に説明してきたように、この発
明は、従来のビットマップ処理方法から不良メモリセル
を有するアドレスと該同一アドレスに存在する複数ビッ
トの良・不良とを記述した新規の所定のフォーマット・
データで処理する方法とした。そして、その実現として
ソフトを利用せずハードで解決して処理時間の短縮をす
ることができた。更に、演算速度を高めるために、不良
救済解析部10の演算部12に新たに不良救済解析手段
13を設けた半導体メモリ試験装置である。As has been described in detail above, the present invention provides a new bitmap processing method which describes an address having a defective memory cell and a plurality of bits of good or defective at the same address. Predefined format
It is a method of processing with data. In order to realize this, it was possible to reduce the processing time by solving the problem with hardware without using software. The semiconductor memory test apparatus further includes a defect repair analysis unit 13 newly provided in the operation unit 12 of the defect repair analysis unit 10 in order to increase the operation speed.
【0027】DUTが64Mビット(8M×8ビット)
で、例えばフェイル数が1%などの一定の条件で、読み
出し時間書き込み時間を含む転送時間を計算すると、従
来のビットマップデータ処理方法と比べると、前述した
ように、約1/180倍と短縮され高速処理ができる。
条件により高速度比は左右されるが、DUTがより高集
積度のものでビット数が32ビットのものであれば、更
に転送時間は短縮されよう。このように、この発明は不
良救済解析時間を非常に短縮することができるので、実
用に際してその技術的効果は大である。DUT is 64M bits (8M × 8 bits)
Then, when the transfer time including the read time and the write time is calculated under a certain condition such as the number of failures of 1%, for example, it is reduced to about 1/180 times as compared with the conventional bitmap data processing method as described above. High-speed processing.
Although the high speed ratio depends on the conditions, if the DUT has a higher degree of integration and has 32 bits, the transfer time will be further reduced. As described above, since the present invention can greatly reduce the time required for the defect repair analysis, the technical effect is large in practical use.
【図1】本発明の一実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.
【図2】本発明実施例のDUTにおける不良アドレスと
不良メモリセル(ビット)の状況図である。FIG. 2 is a diagram showing a state of a defective address and a defective memory cell (bit) in a DUT according to an embodiment of the present invention.
【図3】本発明で用いた所定のフォーマット・データの
実施例図である。FIG. 3 is an embodiment diagram of predetermined format data used in the present invention.
【図4】半導体メモリ試験装置のブロック構成図であ
る。FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor memory test apparatus.
【図5】ビットマップデータの概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram of bitmap data.
【図6】不良ビット記載の一例の状況図である。FIG. 6 is a situation diagram showing an example of a description of a defective bit;
【図7】製造過程のウエハでの不良救済の説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory diagram of remedy for a wafer in a manufacturing process.
10 不良救済解析部(MRA:Memory Repair Anal
ysis) 11 フェイルバッファメモリ(FBM:Failure Bu
ffer Memory) 12 演算部 13 不良救済解析手段 14 制御部 15 不良救済制御手段 16 I/O(インプット/アウトプット) 20 ワークステーション(WS:Work Station) 23 記憶部 30 DUT(被試験半導体メモリデバイス) 31 テストプロセッサ 32 パターン発生器 33 タイミング発生器 34 波形整形器 35 ドライバ 36 コンパレータ 37 パターン比較器 38 フェイルメモリ(Failure Memory) 40 ビット0メモリ 41 ビット1メモリ 42 ビット2メモリ 43 ビット3メモリ10 Defective repair analysis unit (MRA: Memory Repair Anal
ysis) 11 Fail buffer memory (FBM: Failure Bu
ffer Memory) 12 operation unit 13 defect repair analysis means 14 control unit 15 defect relief control means 16 I / O (input / output) 20 workstation (WS: Work Station) 23 storage unit 30 DUT (semiconductor memory device under test) 31 Test Processor 32 Pattern Generator 33 Timing Generator 34 Waveform Shaper 35 Driver 36 Comparator 37 Pattern Comparator 38 Fail Memory (Failure Memory) 40 Bit 0 Memory 41 Bit 1 Memory 42 Bit 2 Memory 43 Bit 3 Memory
Claims (2)
らの応答信号の論理パターンとパターン発生器からの期
待値パターンとをパターン比較器で論理比較し、その結
果をアドレスフェイルメモリのフェイルメモリに一時記
憶して不良救済解析部のフェイルバッファメモリに転送
し、該不良救済解析部でDUTの不良メモリセルを解析
し、不良メモリセルを予備メモリセルに置換させる解析
を行う半導体メモリ試験装置において、 DUTの不良メモリセルを有するアドレスと該同一アド
レスに存在する複数ビットの良・不良とを記述した所定
のフォーマットで上記不良救済解析部のフェイルバッフ
ァメモリに転送するアドレスフェイルメモリのフェイル
メモリと、 該所定のフォーマット・データを記憶する不良救済解析
部のフェイルバッファメモリと、 を具備することを特徴とする半導体メモリ試験装置。A test signal is applied to a DUT, a logical pattern of a response signal from the DUT and an expected value pattern from a pattern generator are logically compared by a pattern comparator, and the result is stored in a fail memory of an address fail memory. In a semiconductor memory test apparatus for temporarily storing and transferring the data to a fail buffer memory of a defect repair analysis unit, analyzing the defective memory cell of the DUT by the defect repair analysis unit, and replacing the defective memory cell with a spare memory cell, A fail memory of an address fail memory for transferring to a fail buffer memory of the defect repair analysis unit in a predetermined format describing an address having a defective memory cell of the DUT and a plurality of bits of good / bad present at the same address; Failure buffer of failure repair analysis unit that stores specified format data The semiconductor memory test apparatus characterized by comprising memory and, the.
らの応答信号の論理パターンとパターン発生器からの期
待値パターンとをパターン比較器で論理比較し、その結
果をアドレスフェイルメモリのフェイルメモリに一時記
憶して不良救済解析部のフェイルバッファメモリに転送
し、該不良救済解析部でDUTの不良メモリセルを解析
し、不良メモリセルを予備メモリセルに置換させる解析
を行う半導体メモリ試験装置において、 上記不良救済解析部のフェイルバッファメモリに記憶さ
れている不良メモリセルを有するアドレスと該同一アド
レスに存在する複数ビットの良・不良とを記述した所定
のフォーマット・データでもって不良救済解析を行う不
良救済解析手段を内蔵する演算部を具備することを特徴
とする半導体メモリ試験装置。2. A test signal is applied to a DUT, a logical pattern of a response signal from the DUT and an expected value pattern from a pattern generator are logically compared by a pattern comparator, and the result is stored in a fail memory of an address fail memory. In a semiconductor memory test apparatus for temporarily storing and transferring the data to a fail buffer memory of a defect repair analysis unit, analyzing the defective memory cell of the DUT by the defect repair analysis unit, and replacing the defective memory cell with a spare memory cell, A defect for performing a defect remedy analysis using predetermined format data describing an address having a defective memory cell stored in a fail buffer memory of the defect remedy analysis unit and a plurality of bits of good / bad present at the same address. A semiconductor memory test apparatus, comprising: an arithmetic unit having a built-in repair analysis unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2002042485A true JP2002042485A (en) | 2002-02-08 |
Family
ID=18720983
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000227557A Withdrawn JP2002042485A (en) | 2000-07-24 | 2000-07-24 | Test apparatus for semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2002042485A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007257684A (en) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Yokogawa Electric Corp | Memory testing device |
JP2008192227A (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Yokogawa Electric Corp | IC test apparatus and IC test method |
JP2010071863A (en) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Yokogawa Electric Corp | Ic tester |
CN105957559A (en) * | 2015-08-17 | 2016-09-21 | 株式会社爱德万测试 | Test system and testing device |
-
2000
- 2000-07-24 JP JP2000227557A patent/JP2002042485A/en not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007257684A (en) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Yokogawa Electric Corp | Memory testing device |
JP2008192227A (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Yokogawa Electric Corp | IC test apparatus and IC test method |
JP2010071863A (en) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Yokogawa Electric Corp | Ic tester |
CN105957559A (en) * | 2015-08-17 | 2016-09-21 | 株式会社爱德万测试 | Test system and testing device |
JP2017040639A (en) * | 2015-08-17 | 2017-02-23 | 株式会社アドバンテスト | Test system, test equipment |
KR101731209B1 (en) | 2015-08-17 | 2017-04-27 | 가부시키가이샤 어드밴티스트 | Test system and test apparatus |
CN105957559B (en) * | 2015-08-17 | 2018-12-14 | 株式会社爱德万测试 | Test macro, experimental rig |
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