JP2002196300A - Liquid crystal coating applicator - Google Patents

Liquid crystal coating applicator

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JP2002196300A
JP2002196300A JP2000398609A JP2000398609A JP2002196300A JP 2002196300 A JP2002196300 A JP 2002196300A JP 2000398609 A JP2000398609 A JP 2000398609A JP 2000398609 A JP2000398609 A JP 2000398609A JP 2002196300 A JP2002196300 A JP 2002196300A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
crystal coating
temperature
chuck table
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JP2000398609A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Umetani
雅規 梅谷
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably hold substrates to be coated with liquid crystals without the occurrence of uneven temperature and distortion with a liquid crystal coating applicator by a spin coating method. SOLUTION: A chucking table 12 of the liquid crystal coating applicator 10 has a substrate supporting surface 12A of the same shape and size as those of the substrate 16 to be coated and this substrate supporting surface 12A is provided with attraction holes 18 in the segments where outer periphery edges 16A of the substrate 16 are attracted. In addition, the substrate supporting surface 12A is formed as a flat surface and the substrate 16 is attracted and held by negative pressure only at the outer periphery edges 16A of the substrate in the tight contact state of the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置の
製造工程等において、液晶を基板に塗布するための液晶
塗布装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal coating apparatus for applying liquid crystal to a substrate in a manufacturing process of a liquid crystal display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶は、温度に敏感であり、均一な薄膜
を形成しても、塗布中の温度ムラなどによって完成した
液晶層の光学特性にムラが生じたりすることがある。
2. Description of the Related Art Liquid crystals are sensitive to temperature, and even when a uniform thin film is formed, the optical characteristics of a completed liquid crystal layer may become uneven due to temperature unevenness during coating.

【0003】これを詳細に説明する。[0003] This will be described in detail.

【0004】液晶材料は自己集積能力があり、自発的に
分子配列を規制する材料として知られている。一般に、
配向膜と呼ばれるポリイミド膜にラビング処理を施した
上に液晶液を塗布して薄膜としたとき、ポリイミド膜界
面近傍での液晶分子が、配向膜の配向力に従って配向さ
れ、液晶層全体に配向規制を得るようにしている。微視
的には、個々の液晶分子はある程度のばらつきをもって
いるが、液晶層全体で一様な分子配列を持つ液晶膜を形
成し、1つの光学素子としての特性を持つ膜が得られ
る。
[0004] Liquid crystal materials have a self-integrating ability and are known as materials that spontaneously regulate molecular arrangement. In general,
When a thin film is formed by applying a liquid crystal liquid after applying a rubbing treatment to a polyimide film called an alignment film, liquid crystal molecules near the polyimide film interface are aligned according to the alignment force of the alignment film, and alignment control is performed on the entire liquid crystal layer. I'm trying to get Microscopically, individual liquid crystal molecules have some degree of variation, but a liquid crystal film having a uniform molecular arrangement is formed in the entire liquid crystal layer, and a film having characteristics as one optical element is obtained.

【0005】液晶の光学素子としての光学的特性は、複
屈折性、円2色性などがあり、これらは液晶相の種類に
よって異なる。
The optical characteristics of a liquid crystal as an optical element include birefringence and circular dichroism, which differ depending on the type of liquid crystal phase.

【0006】上記のような特性は、規則的な液晶分子の
配列によって発現するが、膜厚、温度、配向膜の界面の
状態などによっては分子配列の乱れあるいは規則性の相
違が生起される。
The above characteristics are exhibited by the regular arrangement of liquid crystal molecules. However, depending on the film thickness, the temperature, the state of the interface of the alignment film, and the like, the molecular arrangement is disordered or the regularity is different.

【0007】例えば、ネマチック液晶を配向膜上に塗布
して薄膜とした場合に、膜厚のムラがあったり相に乱れ
があると、本来透明であるネマチック液晶膜が光を散乱
したり屈折率異方性が不均一になることがある。
For example, when a nematic liquid crystal is coated on an alignment film to form a thin film, if the film thickness is uneven or the phase is disturbed, the originally transparent nematic liquid crystal film scatters light or has a refractive index. Anisotropy may be non-uniform.

【0008】特に、コレステリック液晶は前述のように
温度に敏感な材料であり、基板に塗布するときの温度に
よって反射円偏光の波長領域が変化してしまう。
In particular, the cholesteric liquid crystal is a temperature-sensitive material as described above, and the wavelength region of the reflected circularly polarized light changes depending on the temperature when applied to the substrate.

【0009】液晶を、基板上に薄膜状に塗布して液晶層
を形成するスピンコーティング法が知られている。
A spin coating method is known in which a liquid crystal is applied on a substrate in a thin film to form a liquid crystal layer.

【0010】このスピンコーティング法は、基板を、チ
ャック台上に水平に保持して、水平面内で回転させつ
つ、液晶液を基板上に薄く均一に広げ、薄膜状態にする
ものである。
In this spin coating method, a liquid crystal liquid is spread thinly and uniformly on a substrate while the substrate is held horizontally on a chuck table and rotated in a horizontal plane to form a thin film.

【0011】上記のような、スピンコーティングのため
の液晶塗布装置を用いて基板上に液晶溶液を塗布する場
合、基板にはその回転によって表面での温度差が発生し
易い。
When a liquid crystal solution is applied to a substrate by using a liquid crystal coating device for spin coating as described above, a temperature difference on the surface of the substrate is likely to occur due to the rotation of the substrate.

【0012】例えば、基板を水平に保持するためのチャ
ック台が基板より小さい場合、基板の、チャック台から
はみ出した部分では空気を切って回転するため、基板上
の、チャック台に接している部分とはみ出している部分
とでは温度差が生じ、ここにコレステリック液晶を塗布
すると、薄膜形成後の反射円偏光の波長領域のムラ、即
ち色ムラが発生する。
For example, if the chuck table for holding the substrate horizontally is smaller than the substrate, the portion of the substrate that protrudes from the chuck table is rotated by cutting off the air. When a cholesteric liquid crystal is applied thereto, unevenness occurs in the wavelength region of the reflected circularly polarized light after the thin film is formed, that is, color unevenness occurs.

【0013】又、チャック台に負圧が印加される吸着孔
を設け、該負圧によって基板を吸着保持する場合には、
基板の、吸着孔に位置する部分の温度が低下し、従って
この吸着孔近傍部分だけ、コレステリック液晶の反射波
長領域が変化してしまう。
In the case where a suction hole to which a negative pressure is applied is provided on the chuck base and the substrate is suction-held by the negative pressure,
The temperature of the portion of the substrate located at the suction hole decreases, and therefore the reflection wavelength region of the cholesteric liquid crystal changes only in the portion near the suction hole.

【0014】上記のように発生したコレステリック液晶
の色(反射波長)の変化は、液晶分子の膜内の配列に起
因し、一旦色が変化した部分はコレステリック液晶が等
方相になる温度まで加熱しても、基板との界面付近は既
存の配向状態が解消されないため、液晶を、コレステリ
ック相を示す温度まで降下させても色ムラが解消しない
という問題点があった。
The change in the color (reflection wavelength) of the cholesteric liquid crystal generated as described above is caused by the arrangement of the liquid crystal molecules in the film. The portion where the color has changed once is heated to a temperature at which the cholesteric liquid crystal becomes isotropic. However, since the existing alignment state is not eliminated near the interface with the substrate, there is a problem that the color unevenness is not eliminated even when the liquid crystal is lowered to a temperature showing a cholesteric phase.

【0015】これに対して、例えば特開平5−3263
88号公報に開示されるように、回転塗布時の基板の温
度を均一にするために、チャック台とこのチャック台を
回転させるためのモータ軸との間に断熱層を用い、チャ
ック台のモータ軸と接する部分と他の部分との温度差が
生じないようにしたものがある。
On the other hand, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
As disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 88-88, in order to make the temperature of the substrate uniform during spin coating, a heat insulating layer is used between the chuck table and a motor shaft for rotating the chuck table. There is one in which a temperature difference between a portion in contact with the shaft and another portion is not generated.

【0016】又、吸着孔部分での温度低下を回避するた
めに、例えば特開平6−267836号公報に開示され
るように、基板をチャック台に埋め込むようにして支持
するものがある。
In order to avoid a decrease in temperature at the suction hole portion, there is an apparatus which supports a substrate by embedding it in a chuck table as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-267836.

【0017】更に又、基板を複数のピンにより下側から
支持するようにしたものがある。
Further, there is another type in which the substrate is supported from below by a plurality of pins.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平5−326388号公報に開示されるような、チャ
ック台とモータ軸との間に断熱層を設けても、吸着孔部
分やチャック台と基板との接触部分の熱変動が考慮され
ていないので、吸着した基板の温度ムラを抑制できない
という問題点がある。
However, even if a heat insulating layer is provided between the chuck base and the motor shaft as disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-326388, the suction hole portion and the chuck base and the substrate are not provided. Since the heat fluctuation of the contact portion with the substrate is not taken into consideration, there is a problem that the temperature unevenness of the sucked substrate cannot be suppressed.

【0019】又、前記特開平6−267836号公報に
開示される回転塗布装置は、吸着によらないで基板を保
持しているので、チャック台に基板が完全に密着しない
こともあり、この場合は、基板の、チャック台に接触し
ている部分とそうでない部分とで温度差が生じてしま
い、更には、基板が回転時に歪むときは塗布した液晶の
膜厚ムラが生じるという問題点がある。
In the spin coating apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-267836, the substrate is held without suction, so that the substrate may not completely adhere to the chuck table. However, there is a problem that a temperature difference occurs between a portion of the substrate that is in contact with the chuck table and a portion that is not, and further, when the substrate is distorted during rotation, the thickness of the applied liquid crystal becomes uneven. .

【0020】更に又、前記複数のピンにより基板を支持
するようにした回転塗布装置は、基板裏側は(ピンの先
端に接触している部分は除く)全体に温度が均一となる
が、基板が複数のピンの上に載っているだけであるため
に、基板が薄い場合、回転時に基板に歪みが生じ、塗布
された液晶の膜厚ムラが発生する恐れがある。又、回転
時に基板がチャック台から外れたり破損してしまう恐れ
もあるという問題点があった。
Further, in the spin coating apparatus in which the substrate is supported by the plurality of pins, the temperature on the entire back side of the substrate (excluding the portion in contact with the tips of the pins) becomes uniform, but the substrate is If the substrate is thin because it is only placed on a plurality of pins, the substrate may be distorted during rotation, and the thickness of the applied liquid crystal may be uneven. In addition, there is a problem that the substrate may be detached from the chuck table or damaged during rotation.

【0021】この発明は、上記従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、温度ムラが生じることなく吸着に
より基板を保持して液晶を均一に塗布することができる
ようにした回転塗布装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has a rotation coating apparatus capable of holding a substrate by suction and uniformly applying liquid crystal without causing temperature unevenness. The purpose is to provide.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】この発明は、水平の基板
支持面を備え、且つ、鉛直方向の回転中心廻りを回転自
在のチャック台を有してなり、前記基板支持面に基板を
保持した状態で、前記回転中心廻りに回転させて、前記
基板の上面に液晶を塗布する液晶塗布装置において、前
記チャック台の、前記基板支持面を、保持すべき基板と
同形状以上の大きさの平坦面としたことを特徴とする液
晶塗布装置により、上記目的を達成するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises a horizontal substrate supporting surface and a chuck base rotatable about a vertical rotation center, and holds the substrate on the substrate supporting surface. In the liquid crystal coating apparatus, in which the liquid crystal is applied to the upper surface of the substrate by rotating about the rotation center in the state, the substrate support surface of the chuck table is flat and has a size equal to or larger than that of the substrate to be held. The above object is achieved by a liquid crystal coating device having a surface.

【0023】又、前記液晶塗布装置において、前記基板
支持面における、前記保持すべき基板の外周縁部に相当
する部位に、該基板を吸着するための負圧が印加される
吸着孔を設けるようにしてもよい。
Further, in the liquid crystal coating apparatus, a suction hole to which a negative pressure for sucking the substrate is applied is provided in a portion of the substrate supporting surface corresponding to an outer peripheral portion of the substrate to be held. It may be.

【0024】更に、前記液晶塗布装置において、前記吸
着孔は、前記基板の外周端に相当する位置から内側に2
mm以内の範囲に配置するようにしてもよい。
Further, in the above-mentioned liquid crystal coating apparatus, the suction hole may be located inward from a position corresponding to an outer peripheral edge of the substrate.
It may be arranged in a range within mm.

【0025】この発明においては、基板を保持するチャ
ック台が基板と同形状又はこれ以上の大きさの形状であ
り、且つ、基板の支持面は平坦面とされているので、基
板の一部がチャック台からはみ出したり、チャック台に
不均一に接触することがない。
In the present invention, since the chuck table for holding the substrate has the same shape or a size larger than that of the substrate and the support surface of the substrate is a flat surface, a part of the substrate is formed. It does not protrude from the chuck table and does not contact the chuck table unevenly.

【0026】更に、基板の外周端縁部分のみを吸着して
いるため、吸着された基板に温度ムラが生じることがな
く、且つ吸着によって安定して固定しているため、液晶
を均一に、且つ安全に塗布することができる。
Furthermore, since only the outer peripheral edge portion of the substrate is adsorbed, there is no temperature unevenness on the adsorbed substrate, and the liquid crystal is uniformly and stably fixed by the adsorption. It can be applied safely.

【0027】又、通常のスピンコートの場合、基板の外
周縁部には液晶の液溜りが発生するため、膜厚が厚くな
り過ぎて不良部分となるが、本発明ではこの不良部分と
なる外周縁部を吸着孔により吸着しているので、負圧に
よって温度低下が生じても塗布された液晶の有効部分に
色ムラが発生することがない。
In addition, in the case of ordinary spin coating, liquid crystal pools are formed on the outer peripheral edge of the substrate, so that the film thickness becomes too thick and becomes a defective portion. Since the peripheral portion is sucked by the suction holes, color unevenness does not occur in the effective portion of the applied liquid crystal even when the temperature is reduced due to the negative pressure.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態の例を図
面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0029】図1に示されるように、この発明の実施の
形態の例に係る液晶塗布装置10は、水平の基板支持面
12Aを備え、且つ、鉛直方向のスピンドル14を中心
として水平面内で回転自在のチャック台12を有してな
り、前記基板支持面12Aに基板16を保持した状態
で、前記スピンドル14の中心軸である回転中心廻りを
回転させて、基板16の上面に液晶を塗布するようにし
たものである。
As shown in FIG. 1, a liquid crystal coating apparatus 10 according to an embodiment of the present invention has a horizontal substrate support surface 12A and rotates in a horizontal plane about a vertical spindle 14. A liquid crystal is applied to the upper surface of the substrate 16 by rotating around a rotation center which is the center axis of the spindle 14 while holding the substrate 16 on the substrate support surface 12A. It is like that.

【0030】前記チャック台12における基板支持面1
2Aは、基板16と同形状の大きさの平坦面とされ、更
に基板支持面12Aにおける外周縁13に沿って複数の
吸着孔18が形成されている。
The substrate support surface 1 of the chuck table 12
2A is a flat surface having the same size as the substrate 16, and a plurality of suction holes 18 are formed along the outer peripheral edge 13 of the substrate support surface 12A.

【0031】この複数の吸着孔18は、基板支持面12
A上に前記基板16を吸着したとき、該基板16の外周
縁部16Aを吸着できるようにされている。
The plurality of suction holes 18 are provided on the substrate support surface 12.
When the substrate 16 is sucked onto A, the outer peripheral portion 16A of the substrate 16 can be sucked.

【0032】具体的には、吸着孔18は、基板16の外
周端から内側に2mm以内の4角枠状の無効領域17を
吸着するように配置されている。
More specifically, the suction holes 18 are arranged so as to suck a rectangular frame-shaped invalid area 17 within 2 mm from the outer peripheral edge of the substrate 16.

【0033】この無効領域17とは、通常、スピンコー
ト法によって液晶を基板に塗布したとき、該液晶が基板
の回転によって外周部に流れて盛り上がり、有効な光学
的特性を得られない領域である。
The ineffective area 17 is an area in which, when a liquid crystal is applied to a substrate by a spin coating method, the liquid crystal flows to the outer peripheral portion by the rotation of the substrate and rises, so that effective optical characteristics cannot be obtained. .

【0034】図1、図2の符号20は前記吸着孔18に
負圧を供給するために、チャック台12内に形成された
負圧通路を示す。
A reference numeral 20 in FIGS. 1 and 2 denotes a negative pressure passage formed in the chuck base 12 for supplying a negative pressure to the suction hole 18.

【0035】上記のような液晶塗布装置によって基板1
6に液晶を塗布する場合は、基板16を基板支持面12
Aに、その形状が一致するように載置し、吸着孔18に
負圧通路20から負圧を印加する。
The substrate 1 is formed by the liquid crystal coating apparatus as described above.
When applying liquid crystal to the substrate 6, the substrate 16 is
A is placed on A so that its shape matches, and a negative pressure is applied to the suction hole 18 from the negative pressure passage 20.

【0036】これによって基板16は基板支持面12A
上に安定して保持され、保持された基板16の外周縁部
16Aは吸着孔18に負圧が印加されることによって温
度低下を生じるが、この部分は、前述のように、液晶の
膜厚が制御できない無効領域17であるために、温度低
下が生じても問題はない。
As a result, the substrate 16 is placed on the substrate support surface 12A.
The temperature of the outer peripheral edge 16A of the substrate 16 held stably is reduced by the application of a negative pressure to the suction hole 18, but this portion is, as described above, the film thickness of the liquid crystal. Is an invalid area 17 that cannot be controlled, so that there is no problem even if the temperature drops.

【0037】又、基板支持面12Aは平坦面であり、基
板16はこの基板支持面12Aに密着した状態で保持さ
れるので、両者の接触の不均一による温度ムラが発生す
ることがない。
Since the substrate support surface 12A is a flat surface and the substrate 16 is held in close contact with the substrate support surface 12A, there is no occurrence of temperature unevenness due to uneven contact between the two.

【0038】なお、上記実施の形態の例に係る液晶塗布
装置10は、基板支持面12Aが基板16と同形状の大
きさとされているが、本発明はこれに限定されるもので
なく、基板の外周縁部を負圧によって吸着し、且つ該基
板を基板支持面に密着できるものであればよい。
In the liquid crystal coating apparatus 10 according to the above embodiment, the substrate supporting surface 12A has the same size as the substrate 16, but the present invention is not limited to this. Any material can be used as long as it can adsorb the outer peripheral edge of the substrate by a negative pressure and can adhere the substrate to the substrate supporting surface.

【0039】従って、例えば図3に示されるように、吸
着すべき基板16よりも大きい形状の基板支持面22A
を備えたチャック台22を構成してもよい。
Accordingly, for example, as shown in FIG. 3, the substrate supporting surface 22A having a shape larger than the substrate 16 to be sucked.
May be constituted.

【0040】[0040]

【実施例】(実施例1)まず、図1に示した液晶塗布装
置におけると同様のチャック台を準備した。この本発明
のチャック台は100mm×100mm×0.7mmの
ガラス基板専用で、ガラス基板と同じ形状をしている。
吸着孔は基板外周部(端から内側2mm以内)に配置さ
れ、吸着孔以外の全てのガラス基板面はチャック台に密
着させることができる。
EXAMPLE (Example 1) First, a chuck base similar to that in the liquid crystal coating apparatus shown in FIG. 1 was prepared. The chuck base of the present invention is dedicated to a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 0.7 mm, and has the same shape as the glass substrate.
The suction holes are arranged on the outer peripheral portion of the substrate (within 2 mm from the end), and all the glass substrate surfaces other than the suction holes can be in close contact with the chuck table.

【0041】チャック台の材質はここではデルリンを使
用した。100mm×100mm×0.7mmのガラス
基板はコレステリック液晶を配向させるための配向膜を
設けてある。配向膜はポリイミドの薄膜をラビング処理
をしたもので、ポリイミド膜の膜厚は100nmであっ
た。
Here, Delrin was used as the material of the chuck table. A glass substrate of 100 mm × 100 mm × 0.7 mm is provided with an alignment film for aligning cholesteric liquid crystal. The alignment film was obtained by subjecting a polyimide thin film to a rubbing treatment, and the thickness of the polyimide film was 100 nm.

【0042】コレステリック液晶溶液は、コレステリッ
ク液晶をトルエンに溶解し、33wt%とした。コレス
テリック液晶には、ネマチック液晶モノマーにカイラル
剤を添加したものや、高分子コレステリック液晶など、
任意の温度でコレステリック相を有する液晶であればよ
い。
The cholesteric liquid crystal solution was prepared by dissolving the cholesteric liquid crystal in toluene to 33 wt%. Cholesteric liquid crystals include nematic liquid crystal monomers with a chiral agent added, and polymer cholesteric liquid crystals.
Any liquid crystal having a cholesteric phase at any temperature may be used.

【0043】前記チャック台に、前記ガラス基板を真空
吸着により固定した。ガラス基板はチャック台と同形状
をしており、チャック台とガラス基板裏側全面は密着し
た状態である。但し、外周部に位置した吸着孔では減圧
状態の空気が接している。次にコレステリック液晶溶液
を基板上に滴下し、チャック台を回転させた。回転塗布
条件は1000rpm×15secであった。
The glass substrate was fixed to the chuck table by vacuum suction. The glass substrate has the same shape as the chuck table, and the chuck table and the entire back surface of the glass substrate are in close contact with each other. However, the depressurized air is in contact with the suction holes located at the outer peripheral portion. Next, a cholesteric liquid crystal solution was dropped on the substrate, and the chuck table was rotated. The spin coating condition was 1000 rpm × 15 sec.

【0044】塗布後、ホットプレート上でガラス基板を
90℃に加熱し溶媒を完全にとばしたところ、外周部以
外(吸着孔以外)のガラス基板面に全て均一な反射色を
有するコレステリック液晶層を成膜することができた。
After the application, the glass substrate was heated to 90 ° C. on a hot plate to completely remove the solvent, and a cholesteric liquid crystal layer having a uniform reflection color was entirely formed on the surface of the glass substrate other than the outer peripheral portion (except for the adsorption holes). A film could be formed.

【0045】(比較例1)従来の液晶塗布装置との比較
実験を行った。この液晶塗布装置におけるチャック台1
は図4に示したように、基板サイズより小さい円形をし
ており、吸着孔2も基板支持面面全体に配置されてい
る。材質はデルリンである。このチャック台1を用いて
実施例1と同じコレステリック溶液、同じ回転条件、乾
燥条件でコレステリック液晶を成膜した。
Comparative Example 1 A comparative experiment was performed with a conventional liquid crystal coating apparatus. Chuck table 1 in this liquid crystal coating device
Has a circular shape smaller than the substrate size as shown in FIG. 4, and the suction holes 2 are also arranged on the entire substrate supporting surface. The material is Delrin. Using this chuck table 1, a cholesteric liquid crystal was formed under the same cholesteric solution as in Example 1, under the same rotation conditions and drying conditions.

【0046】その結果、実施例1で示した本発明による
液晶塗布装置で成膜した場合と異なり、チャック台の形
状と吸着孔の跡がはっきりと残ったコレステリック膜が
形成された。ガラス基板上で吸着孔があった部分とチャ
ック台に接していなかった部分は青緑色の反射色とな
り、本来の青色の反射色を示さなかった。
As a result, a cholesteric film was formed in which the shape of the chuck table and the trace of the suction hole were clearly left, unlike the case where the film was formed by the liquid crystal coating apparatus according to the present invention shown in Example 1. The portion of the glass substrate having the suction holes and the portion not in contact with the chuck table had a blue-green reflection color, and did not exhibit the original blue reflection color.

【0047】回転塗布前後でのガラス基板の温度分布を
非接触式温度計を用いて測定した結果を表1に示す。
Table 1 shows the results of measuring the temperature distribution of the glass substrate before and after spin coating using a non-contact type thermometer.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】塗布前は本発明のチャック台、従来のチャ
ック台共に基板中心部と端部(従来のチャック台の場合
で、ガラス基板とチャック台が接していない部分)の温
度は等しく21℃であった。次にコレステリック溶液を
滴下し、回転塗布した後に温度を測定したところ、本発
明の液晶塗布装置では、基板の温度が中心部、端部共に
20℃であり、温度は塗布前に比べ下がったものの基板
内の温度ムラは発生しなかった。一方、従来の液晶塗布
装置では、塗布後の基板の中心部が20℃であるのに対
し、ガラス基板がチャック台に接していない部分である
基板端部の温度は19℃であり、1℃の温度差が発生し
ていた。
Before the application, the temperature of the center part and the end part (the part where the glass substrate and the chuck base are not in contact with each other in the case of the conventional chuck base) of the chuck base of the present invention and the conventional chuck base are the same at 21 ° C. there were. Next, the cholesteric solution was dropped, and the temperature was measured after spin coating. In the liquid crystal coating apparatus of the present invention, the temperature of the substrate was 20 ° C. at both the center and the ends, and although the temperature was lower than before coating, No temperature unevenness occurred in the substrate. On the other hand, in the conventional liquid crystal coating apparatus, the temperature at the center of the substrate after coating is 20 ° C., whereas the temperature at the end of the substrate where the glass substrate is not in contact with the chuck base is 19 ° C. Temperature difference occurred.

【0050】(比較例2)更に、コレステリック溶液を
トルエン溶液ではなく、アセトン溶液で比較例1と同様
に実験を行ったところ、表2に示したように、本発明の
液晶塗布装置では温度差はできなかったが、従来の液晶
塗布装置では基板中心部は17℃、端部15℃となり、
更に温度差が大きくなった。
(Comparative Example 2) Further, when an experiment was conducted in the same manner as in Comparative Example 1 using an acetone solution instead of a toluene solution as a cholesteric solution, as shown in Table 2, the liquid crystal coating apparatus of the present invention showed a temperature difference. However, in the conventional liquid crystal coating apparatus, the center of the substrate was 17 ° C. and the end was 15 ° C.
Further, the temperature difference became large.

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】(実施例2)ネマチック液晶溶液は、ネマ
チック液晶をトルエンに溶解し20wt%とした。
Example 2 A nematic liquid crystal solution was prepared by dissolving a nematic liquid crystal in toluene to a concentration of 20 wt%.

【0053】回転塗布装置には、図1のチャック台を装
着し、前記ガラス基板を真空吸着により固定した。ガラ
ス基板はチャック台と同形状をしており、チャック台と
ガラス基板裏側全面は密着した状態である。但し、外周
部に位置した吸着孔は減圧状態の空気が接している。次
にネマチック液晶溶液を基板上に滴下し、チャック台を
回転させた。回転塗布条件は1000rpm×15se
cであった。
The chuck base shown in FIG. 1 was mounted on the spin coating apparatus, and the glass substrate was fixed by vacuum suction. The glass substrate has the same shape as the chuck table, and the chuck table and the entire back surface of the glass substrate are in close contact with each other. However, the depressurized air is in contact with the suction holes located on the outer peripheral portion. Next, a nematic liquid crystal solution was dropped on the substrate, and the chuck table was rotated. Spin coating condition is 1000rpm × 15se
c.

【0054】塗布後、ホットプレート上でガラス基板を
80℃に加熱し溶媒を完全にとばとしたところ、外周部
以外(吸着孔以外)のガラス基板面に光学的に均一なネ
マチック液晶層を成膜することができた。又、ディスコ
チック液晶、スメクチック液晶でも同様な結果が得られ
た。
After the application, the glass substrate was heated to 80 ° C. on a hot plate to completely blow off the solvent. An optically uniform nematic liquid crystal layer was formed on the surface of the glass substrate other than the outer peripheral portion (other than the adsorption holes). A film could be formed. Similar results were obtained with discotic liquid crystals and smectic liquid crystals.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、基
板を温度ムラや歪みが生じることなく確実に保持して回
転させつつ液晶を塗布することができるので、色ムラの
無い均一な液晶薄膜を得ることができるという優れた効
果を有する。
According to the present invention, liquid crystal can be applied while holding and rotating the substrate without causing temperature unevenness or distortion, so that a uniform liquid crystal without color unevenness can be obtained. It has an excellent effect that a thin film can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の例に係る液晶塗布装置を
示す一部断面とした斜視図
FIG. 1 is a perspective view showing a liquid crystal coating apparatus according to an embodiment of the present invention as a partial cross section.

【図2】同液晶塗布装置の基板支持面の一部を拡大して
示す平面図
FIG. 2 is an enlarged plan view showing a part of a substrate supporting surface of the liquid crystal coating apparatus.

【図3】他の実施の形態の例に係る液晶塗布装置を示す
斜視図
FIG. 3 is a perspective view showing a liquid crystal coating apparatus according to another embodiment.

【図4】従来の液晶塗布装置のチャック台の例を示す平
面図
FIG. 4 is a plan view showing an example of a chuck base of a conventional liquid crystal coating apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…液晶塗布装置 12、22…チャック台 12A、22A…基板支持面 13…外周縁 14…スピンドル 16…基板 16A…外周縁部 17…無効領域 18…吸着孔 20…負圧通路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid crystal coating device 12, 22 ... Chuck table 12A, 22A ... Substrate support surface 13 ... Outer edge 14 ... Spindle 16 ... Substrate 16A ... Outer edge 17 ... Invalid area 18 ... Suction hole 20 ... Negative pressure passage

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】水平の基板支持面を備え、且つ、鉛直方向
の回転中心廻りを回転自在のチャック台を有してなり、
前記基板支持面に基板を保持した状態で、前記回転中心
廻りに回転して、前記基板の上面に液晶を塗布する液晶
塗布装置において、 前記チャック台の、前記基板支持面を、保持すべき基板
と同形状以上の大きさの平坦面としたことを特徴とする
液晶塗布装置。
A chuck base having a horizontal substrate support surface and rotatable around a vertical rotation center;
In a liquid crystal coating apparatus that rotates around the rotation center while holding the substrate on the substrate support surface to apply liquid crystal to the upper surface of the substrate, the substrate of the chuck table that holds the substrate support surface A liquid crystal coating device characterized by having a flat surface having the same shape or larger size.
【請求項2】請求項1において、前記基板支持面におけ
る、前記保持すべき基板の外周縁部に相当する部位に、
該基板を吸着するための負圧が印加される吸着孔を設け
たことを特徴とする液晶塗布装置。
2. The method according to claim 1, wherein a portion of the substrate support surface corresponding to an outer peripheral edge of the substrate to be held is provided.
A liquid crystal coating apparatus, comprising: a suction hole to which a negative pressure for sucking the substrate is applied.
【請求項3】請求項2において、前記吸着孔は、前記基
板の外周端に相当する位置から内側に2mm以内の範囲
に配置されたことを特徴とする液晶塗布装置。
3. The liquid crystal applicator according to claim 2, wherein the suction holes are arranged within a range of 2 mm inward from a position corresponding to an outer peripheral end of the substrate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014216440A (en) * 2013-04-25 2014-11-17 富士電機株式会社 Chucking plate for semiconductor wafer process
JP2015053347A (en) * 2013-09-05 2015-03-19 株式会社村田製作所 Method for mounting component on aggregate substrate and aggregate substrate

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014216440A (en) * 2013-04-25 2014-11-17 富士電機株式会社 Chucking plate for semiconductor wafer process
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