JP2002196124A - Color filter substrate, method for manufacturing color filter and liquid crystal device - Google Patents

Color filter substrate, method for manufacturing color filter and liquid crystal device

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JP2002196124A JP2000390417A JP2000390417A JP2002196124A JP 2002196124 A JP2002196124 A JP 2002196124A JP 2000390417 A JP2000390417 A JP 2000390417A JP 2000390417 A JP2000390417 A JP 2000390417A JP 2002196124 A JP2002196124 A JP 2002196124A
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color
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent irregular and widening bleeding of a protective film to the outside of a pixel-forming region, on the base surface of a color filter substrate. SOLUTION: The color filter substrate has a base material 2, a plurality of pixels 3 formed on the surface of the base material 2, a plurality of barrier walls 15 formed on the surface of the base material 2 and present on the outermost edge of the pixels 3 but extending farther to the outside, and a protective film 4 formed either among the plurality of pixels 3 or on the pixels or both of them. In the peripheral edge of the pixel forming region S, the protective film 4 is prevented from flowing out and bleeding to the outside by the effect of the barrier walls 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、R,G,B又は
C,M,Y等といった複数の色絵素を基材上に形成して
成るカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。ま
た、本発明は、そのカラーフィルタ基板を用いて構成さ
れる液晶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate formed by forming a plurality of color picture elements such as R, G, B or C, M, Y on a substrate, and a method of manufacturing the same. The invention also relates to a liquid crystal device formed using the color filter substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコ
ンピュータ等といった電子機器に液晶装置が広く用いら
れるようになってきている。また、カラーフィルタ基板
を用いてカラー表示を行う構造の液晶装置も広く用いら
れるようになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal devices have been widely used in electronic devices such as portable telephones and portable personal computers. In addition, liquid crystal devices having a structure in which color display is performed using a color filter substrate have been widely used.

【0003】カラーフィルタ基板として、従来、例えば
図22(a)に示すように、ガラス、プラスチック等に
よって形成された基材201の表面に、例えばR
(赤)、G(緑)、B(青)のそれぞれの色絵素202
を所定の配列、例えばストライプ配列、モザイク配列、
デルタ配列等に形成して成るものが知られている。色絵
素202に関しては、例えば図22(c)に示すよう
に、R色絵素202R、G色絵素202G、B色絵素2
02Bが互いに隣り合って形成される。そして、各色絵
素202の間にはブラックマスク203が形成され、さ
らに色絵素202の上にスピンコート等によって保護膜
204が形成される。なお、図22(a)では保護膜2
4の図示は省略してある。
Conventionally, as a color filter substrate, for example, as shown in FIG.
(Red), G (green), and B (blue) color picture elements 202
A predetermined arrangement, for example, stripe arrangement, mosaic arrangement,
There is known one formed in a delta arrangement or the like. As for the color picture elements 202, for example, as shown in FIG. 22C, an R color picture element 202R, a G color picture element 202G, a B color picture element 2
02B are formed adjacent to each other. Then, a black mask 203 is formed between the color picture elements 202, and a protective film 204 is formed on the color picture elements 202 by spin coating or the like. In FIG. 22A, the protective film 2
Illustration of 4 is omitted.

【0004】保護膜204を形成する理由はいくつか考
えられる。第1に、保護膜の形成によってカラーフィル
タ基板の表面を平坦化することにより、そのカラーフィ
ルタ基板の表面に電極が形成される際、その電極が切れ
ることを防止するためである。第2に、保護膜上の電極
の低抵抗化によって画素間のコントラスト比を向上させ
るためである。第3に、保護膜形成後に続いて行われる
工程においてカラーフィルタ基板内の画素が傷付くこと
を防止すること、すなわち保護機能を果たすためであ
る。第4に、カラーフィルタ基板が液晶装置に用いられ
る場合にセルギャップ内へ液晶が封入された後、カラー
フィルタ基板から液晶へ不純物が拡散することを防止す
るためである。
There are several possible reasons for forming the protective film 204. First, when the surface of the color filter substrate is flattened by forming a protective film, the electrode is prevented from being cut when the electrode is formed on the surface of the color filter substrate. Second, the contrast ratio between pixels is improved by lowering the resistance of the electrode on the protective film. Third, in order to prevent a pixel in the color filter substrate from being damaged in a step performed after formation of the protective film, that is, to perform a protective function. Fourth, when the color filter substrate is used in a liquid crystal device, after the liquid crystal is sealed in the cell gap, diffusion of impurities from the color filter substrate to the liquid crystal is prevented.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
カラーフィルタ基板200においては、図22(b)に
示すように、保護膜204が色絵素202の形成領域S
の外側の遠くまで流れて広がるという問題があった。ま
た、図22(c)に符号Wで示すように最外縁の色絵素
202の所で保護膜204に急峻な段差が形成されると
いう問題もあった。
However, in the conventional color filter substrate 200, as shown in FIG. 22B, the protective film 204 is formed in the region S where the color picture element 202 is formed.
There was a problem that it spreads far out of the outside. Further, there is also a problem that a steep step is formed on the protective film 204 at the outermost edge of the color picture element 202 as indicated by a symbol W in FIG.

【0006】ここで、カラーフィルタ基板200が液晶
装置の構成要素として用いられる場合を考えると、カラ
ーフィルタ基板200の表面には各色絵素202の上を
通過するようにITO(Indium Tin Oxide)等によって
透明電極205が形成され、さらにカラーフィルタ基板
200に対向基板を貼り合わせるためのシール材206
がカラーフィルタ基板200の周辺に形成又は接着され
る。
Here, considering the case where the color filter substrate 200 is used as a component of a liquid crystal device, an ITO (Indium Tin Oxide) or the like is provided on the surface of the color filter substrate 200 so as to pass over each color picture element 202. A transparent electrode 205 is formed, and a sealing material 206 for bonding an opposing substrate to the color filter substrate 200 is further formed.
Are formed or adhered around the color filter substrate 200.

【0007】従来のカラーフィルタ基板200において
上記のように保護膜204が色絵素202の形成領域S
の外側へ広く広がると、保護膜204がシール材206
の下へ入り込み、シール材206の剥がれ等といった支
障が生じるおそれがあった。また、上記のように保護膜
204の外縁に急峻な段差が発生すると、保護膜204
の上に形成される電極205がその段差部分で切断する
おそれがあった。
As described above, in the conventional color filter substrate 200, the protective film 204 is formed in the region S where the color picture element 202 is formed.
When the protective film 204 spreads widely to the outside of the
, There is a possibility that troubles such as peeling of the sealing material 206 may occur. Also, when a steep step occurs at the outer edge of the protective film 204 as described above,
There is a possibility that the electrode 205 formed on the substrate may be cut at the step.

【0008】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、カラーフィルタ基板の基材表面において
保護膜が色絵素形成領域の外側へ広く且つ無秩序に流れ
出ることを防止することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to prevent a protective film from flowing out of a color picture element forming region widely and randomly on a substrate surface of a color filter substrate. With the goal.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1)上記の目的を達成
するため,本発明に係る第1のカラーフィルタ基板は、
基材と、該基材の表面に形成された複数の色絵素と、そ
れらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び出
すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁と、前
記複数の色絵素の間及びそれらの上のいずれか一方又は
両方に形成された保護膜とを有することを特徴とする。
(1) To achieve the above object, a first color filter substrate according to the present invention comprises:
A base material, a plurality of color picture elements formed on the surface of the base material, and a plurality of partition walls formed on the surface of the base material so as to extend further to the outermost edge of the color picture elements. And a protective film formed between the plurality of color picture elements and on one or both of the color picture elements.

【0010】この第1のカラーフィルタ基板によれば、
複数の色絵素の間やそれらの上に供給された保護膜は前
記複数の隔壁同士の間にも入り込む。このとき、隔壁は
保護膜が色絵素形成領域の外側へ広く流れ出ることを防
止し、これにより、保護膜はその外縁が色絵素形成領域
の外縁に対してばらつくことなく均一な距離だけ離れた
所に止まるように形成される。この結果、例えば、保護
膜がシール材の下に入り込んでシール材のシール性が劣
化する等といった不都合を回避できる。
According to the first color filter substrate,
The protective film supplied between and between the plurality of color picture elements also enters between the plurality of partition walls. At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【0011】(2) 次に、本発明に係る第2のカラー
フィルタ基板は、基材と、該基材の表面に形成されて該
基材を複数の領域に区画する区画材と、前記複数の領域
内に形成された複数の色絵素と、それらの色絵素の最外
縁に在るもののさらに外側へ延び出すように前記基材の
表面に形成された複数の隔壁と、前記複数の色絵素の上
に形成された保護膜とを有することを特徴とする。
(2) Next, a second color filter substrate according to the present invention comprises: a base material; a partition member formed on a surface of the base material to partition the base material into a plurality of regions; A plurality of color picture elements formed in the region, a plurality of partition walls formed on the surface of the base material so as to extend to the outside even though they are at the outermost edges of the color picture elements, and the plurality of color picture elements And a protective film formed thereon.

【0012】この第2のカラーフィルタ基板が先の第1
のカラーフィルタ基板と異なる点は、基材の表面に区画
材が形成され、この区画材によって区画された複数の領
域内に色絵素が形成されることである。この第2のカラ
ーフィルタ基板によれば、複数の色絵素の間には区画材
が存在するので、保護膜は色絵素の間に形成されること
はなく、保護膜は色絵素の上に形成される。
The second color filter substrate is the first color filter substrate.
The difference from the color filter substrate is that a partition material is formed on the surface of the base material, and color picture elements are formed in a plurality of regions partitioned by the partition material. According to the second color filter substrate, since the partitioning material exists between the plurality of color picture elements, the protective film is not formed between the color picture elements, and the protective film is formed on the color picture elements. Is done.

【0013】この第2のカラーフィルタ基板によれば、
複数の色絵素の上に供給された保護膜は前記複数の隔壁
同士の間にも入り込む。このとき、隔壁は保護膜が色絵
素形成領域の外側へ広く流れ出ることを防止し、これに
より、保護膜はその外縁が色絵素形成領域の外縁に対し
てばらつくことなく均一な距離だけ離れた所に止まるよ
うに形成される。この結果、例えば、保護膜がシール材
の下に入り込んでシール材のシール性が劣化する等とい
った不都合を回避できる。
According to the second color filter substrate,
The protective film supplied on the plurality of color picture elements also enters between the plurality of partition walls. At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【0014】上記第1及び第2のカラーフィルタ基板に
おいて、前記隔壁はシール材形成領域の内側に在ること
が望ましい。ここで又はこれ以降、シール材とは、本カ
ラーフィルタ基板を他の1つの基板に貼り合わせること
によって例えば液晶装置を形成する場合に、それらの基
板の間に介在してそれらの基板を貼り合わせてそれらの
基板の間に外部から封止されたシール領域、すなわちセ
ルギャップを形成するための部材である。以上のように
隔壁をシール材形成領域の内側に存在させることにすれ
ば、保護膜がシール材の下側へ入り込むことを確実に防
止できる。
In the first and second color filter substrates, it is preferable that the partition is located inside a seal material forming region. Here or hereafter, a sealing material is used to attach the present color filter substrate to another substrate, for example, in the case of forming a liquid crystal device. And a member for forming a seal region sealed from the outside between the substrates, that is, a cell gap. As described above, by providing the partition wall inside the seal material forming region, it is possible to reliably prevent the protective film from entering the lower side of the seal material.

【0015】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板において、前記隔壁は電極配線形成領域以外の領域
に形成されることが望ましい。ここで又はこれ以降、電
極とは、本カラーフィルタ基板を他の1つの基板に貼り
合わせることによって例えば液晶装置を形成する場合
に、液晶装置の有効表示領域内に在って液晶に電圧を印
加するための電極である。また、電極配線とは、上記電
極につながっていて上記液晶装置の有効表示領域の外側
へ延び出る配線部分のことである。以上のように隔壁を
電極配線形成領域以外の領域に形成することにすれば、
電極配線は段差の緩やかな個所を通ることになるので、
電極配線の断線を確実に防止できる。
In the first and second color filter substrates, it is preferable that the partition is formed in a region other than the electrode wiring formation region. Here or thereafter, an electrode is a voltage applied to the liquid crystal within the effective display area of the liquid crystal device when, for example, a liquid crystal device is formed by bonding the present color filter substrate to another substrate. Electrode for The term “electrode wiring” refers to a wiring portion connected to the electrode and extending outside the effective display area of the liquid crystal device. If the partition is formed in a region other than the electrode wiring formation region as described above,
Since the electrode wiring will pass through the place where the step is gentle,
Disconnection of the electrode wiring can be reliably prevented.

【0016】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板において、前記隔壁は前記色絵素ごとに設けられる
ことが望ましい。つまり、隔壁は色絵素の1つごと、2
つごと、3つごと、あるいはそれ以上の数ごとに形成す
ることが望ましい。
In the first and second color filter substrates, it is preferable that the partition is provided for each color picture element. In other words, the partition is 2 for each color picture element.
It is desirable to form every three, every three or more.

【0017】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板において、前記隔壁は前記色絵素又は前記区画材と
同じ材料によって形成されることが望ましい。この構成
によれば、隔壁は色絵素と同時に形成することもできる
し、あるいは、区画材と同時に形成することもできる。
In the first and second color filter substrates, it is preferable that the partition is formed of the same material as the color picture element or the partitioning material. According to this configuration, the partition can be formed simultaneously with the color picture element, or can be formed simultaneously with the partitioning material.

【0018】(3) 次に、本発明に係る第1のカラー
フィルタ基板の製造方法は、基材上に複数の色絵素を形
成する色絵素形成工程と、それらの色絵素の最外縁に在
るもののさらに外側へ延び出すように前記基材上に複数
の隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁形成工程の
後に前記複数の色絵素の間及びそれらの上のいずれか一
方又は両方に保護膜を形成する保護膜形成工程とを有す
ることを特徴とする。
(3) Next, in the first method of manufacturing a color filter substrate according to the present invention, a color picture element forming step of forming a plurality of color picture elements on a base material, and a step of forming a color picture element at an outermost edge of the color picture elements. Forming a plurality of partitions on the base material so as to extend further to the outside, and protecting the plurality of color picture elements and / or one or both of the plurality of color picture elements after the partition formation process A protective film forming step of forming a film.

【0019】この第1のカラーフィルタ基板の製造方法
によれば、保護膜形成工程において複数の色絵素の間や
それらの上に供給された保護膜は、隔壁形成工程におい
て形成された前記複数の隔壁同士の間にも入り込む。こ
のとき、隔壁は保護膜が色絵素形成領域の外側へ広く流
れ出ることを防止し、これにより、保護膜はその外縁が
色絵素形成領域の外縁に対してばらつくことなく均一な
距離だけ離れた所に止まるように形成される。この結
果、例えば、保護膜がシール材の下に入り込んでシール
材のシール性が劣化する等といった不都合を回避でき
る。
According to the first method for manufacturing a color filter substrate, in the protective film forming step, the protective film supplied between and on the plurality of color picture elements is formed by the plurality of color pixels formed in the partition wall forming step. It enters between the partition walls. At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【0020】(4) 次に、本発明に係る第2のカラー
フィルタ基板の製造方法は、基材の表面を複数の領域に
区画する区画材を該基材上に形成する区画材形成工程
と、前記複数の領域に色絵素を形成する色絵素形成工程
と、それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ
延び出すように前記基材上に複数の隔壁を形成する隔壁
形成工程と、前記隔壁形成工程の後に前記複数の色絵素
の上に保護膜を形成する保護膜形成工程とを有すること
を特徴とする。
(4) Next, a second method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention includes a partitioning material forming step of forming a partitioning material for partitioning the surface of the base material into a plurality of regions on the base material. A color picture element forming step of forming a color picture element in the plurality of regions, and a partition wall forming step of forming a plurality of partition walls on the base material so as to extend further to the outermost edge of the color picture elements. And a protective film forming step of forming a protective film on the plurality of color picture elements after the partition wall forming step.

【0021】この第2のカラーフィルタ基板の製造方法
が先の第1のカラーフィルタ基板の製造方法と異なる点
は、区画材形成工程において基材の表面に区画材を形成
し、色絵素形成工程では区画材によって区画された複数
の領域内に色絵素を形成することである。この第2のカ
ラーフィルタ基板によれば、複数の色絵素の間には区画
材が存在するので、保護膜は色絵素の間に形成されるこ
とはなく、保護膜は色絵素の上に形成される。
The method for manufacturing the second color filter substrate is different from the method for manufacturing the first color filter substrate in that the partitioning material is formed on the surface of the base material in the partitioning material forming step, and the color picture element forming step is performed. Is to form a color picture element in a plurality of regions partitioned by the partitioning material. According to the second color filter substrate, since the partitioning material exists between the plurality of color picture elements, the protective film is not formed between the color picture elements, and the protective film is formed on the color picture elements. Is done.

【0022】この第2のカラーフィルタ基板の製造方法
によれば、保護膜形成工程において複数の色絵素の上に
供給された保護膜は、隔壁形成工程において形成された
前記複数の隔壁同士の間にも入り込む。このとき、隔壁
は保護膜が色絵素形成領域の外側へ広く流れ出ることを
防止し、これにより、保護膜はその外縁が色絵素形成領
域の外縁に対してばらつくことなく均一な距離だけ離れ
た所に止まるように形成される。この結果、例えば、保
護膜がシール材の下に入り込んでシール材のシール性が
劣化する等といった不都合を回避できる。
According to the second method for manufacturing a color filter substrate, the protective film supplied on the plurality of color picture elements in the protective film forming step is provided between the plurality of partition walls formed in the partition forming step. Also penetrate. At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【0023】上記第1又は第2のカラーフィルタ基板の
製造方法において、前記隔壁形成工程では前記隔壁はシ
ール材形成領域の内側に形成されることが望ましい。こ
うすれば、保護膜がシール材の下側へ入り込むことを確
実に防止できる。
In the first or second method for manufacturing a color filter substrate, it is preferable that in the step of forming a partition, the partition is formed inside a sealing material forming region. This can reliably prevent the protective film from entering the lower side of the sealing material.

【0024】また、上記第1又は第2のカラーフィルタ
基板の製造方法において、前記隔壁形成工程では前記隔
壁は電極配線形成領域以外の領域に形成されることが望
ましい。こうすれば、電極配線は段差の緩やかな個所を
通ることになるので、電極配線の断線を確実に防止でき
る。
In the first or second method for manufacturing a color filter substrate, it is preferable that in the step of forming the partition, the partition is formed in a region other than the electrode wiring forming region. In this case, since the electrode wiring passes through a portion having a gentle step, disconnection of the electrode wiring can be reliably prevented.

【0025】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板の製造方法において、前記隔壁形成工程では前記隔
壁は前記色絵素ごとに形成されることが望ましい。つま
り、隔壁は色絵素の1つごと、2つごと、3つごと、あ
るいはそれ以上の数ごとに形成することが望ましい。
In the first and second methods for manufacturing a color filter substrate, it is preferable that the partition is formed for each of the color picture elements in the partition forming step. That is, it is desirable that the partition walls be formed for every one, two, three, or more color picture elements.

【0026】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板の製造方法において、前記隔壁形成工程は前記色絵
素形成工程と同時に又は前記区画材形成工程と同時に行
われることが望ましい。これにより、隔壁を形成するた
めに特別な工程を設ける必要がなくなる。
In the first and second methods for manufacturing a color filter substrate, it is preferable that the partition forming step is performed simultaneously with the color picture element forming step or simultaneously with the partitioning material forming step. This eliminates the need to provide a special step for forming the partition.

【0027】また、上記第1及び第2のカラーフィルタ
基板の製造方法において、前記保護膜は液体であること
が望ましい。通常、保護膜はアクリル樹脂、エポキシ樹
脂、イミド系樹脂又はフッ素系樹脂等によって形成する
ことができる。本発明では、インクジェット法やスピン
コート法等によって保護膜を形成することが望ましく、
このため、保護膜は液体であることが望ましい。
In the first and second methods for manufacturing a color filter substrate, it is preferable that the protective film is a liquid. Usually, the protective film can be formed of an acrylic resin, an epoxy resin, an imide resin, a fluorine resin, or the like. In the present invention, it is desirable to form a protective film by an inkjet method, a spin coating method, or the like,
For this reason, the protective film is desirably a liquid.

【0028】(5) 次に、本発明に係る第1の液晶装
置は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方の
基板に形成されるカラーフィルタ基板とを有する液晶装
置において、前記カラーフィルタ基板は、基材と、該基
材の表面に形成された複数の色絵素と、それらの色絵素
の最外縁に在るもののさらに外側へ延び出すように前記
基材の表面に形成された複数の隔壁と、前記複数の色絵
素の間及びそれらの上のいずれか一方又は両方に形成さ
れた保護膜とを有することが望ましい。
(5) Next, a first liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device comprising: a pair of substrates sandwiching liquid crystal; and a color filter substrate formed on at least one of the substrates. The substrate has a base material, a plurality of color picture elements formed on the surface of the base material, and a plurality of color picture elements formed on the surface of the base material so as to extend further to the outermost edge of the color picture elements. And a protective film formed between the plurality of color picture elements and on one or both of the plurality of color picture elements.

【0029】この第1の液晶装置によれば、その構成要
素であるカラーフィルタ基板において、複数の色絵素の
間やそれらの上に供給された保護膜は前記複数の隔壁同
士の間にも入り込む。このとき、隔壁は保護膜が色絵素
形成領域の外側へ広く流れ出ることを防止し、これによ
り、保護膜はその外縁が色絵素形成領域の外縁に対して
ばらつくことなく均一な距離だけ離れた所に止まるよう
に形成される。この結果、例えば、保護膜がシール材の
下に入り込んでシール材のシール性が劣化する等といっ
た不都合を回避できる。この結果,液晶装置による表示
品質を長期間にわたって高く維持できる。
According to the first liquid crystal device, in the color filter substrate, which is a component of the first liquid crystal device, the protective film supplied between the plurality of color picture elements and over the plurality of color picture elements also enters between the plurality of partition walls. . At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated. As a result, the display quality of the liquid crystal device can be maintained high for a long period of time.

【0030】(6) 次に、本発明に係る第2の液晶装
置は、液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方の
基板に形成されるカラーフィルタ基板とを有する液晶装
置において、前記カラーフィルタ基板は、基材と、該基
材の表面に形成されて該基材を複数の領域に区画する区
画材と、前記複数の領域内に形成された複数の色絵素
と、それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ
延び出すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁
と、前記複数の色絵素の上に形成された保護膜とを有す
ることを特徴とする。
(6) A second liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device comprising a pair of substrates sandwiching liquid crystal and a color filter substrate formed on at least one of the substrates. The substrate is a base material, a partitioning material formed on the surface of the base material to partition the base material into a plurality of regions, a plurality of color picture elements formed in the plurality of areas, and a color picture element It is characterized by having a plurality of partition walls formed on the surface of the base material so as to extend further to the outside although located at the outermost edge, and a protective film formed on the plurality of color picture elements.

【0031】この第2の液晶装置が先の第1の液晶装置
と異なる点は、カラーフィルタ基板において、基材の表
面に区画材が形成され、この区画材によって区画された
複数の領域内に色絵素が形成されることである。この第
2の液晶装置によれば、カラーフィルタ基板において、
複数の色絵素の間には区画材が存在するので、保護膜は
色絵素の間に形成されることはなく、保護膜は色絵素の
上に形成される。
The second liquid crystal device is different from the first liquid crystal device in that a partitioning material is formed on the surface of a base material in a color filter substrate, and a plurality of regions are defined by the partitioning material. That is, a color picture element is formed. According to the second liquid crystal device, in the color filter substrate,
Since the partitioning material exists between the plurality of color picture elements, the protective film is not formed between the color picture elements, and the protective film is formed on the color picture elements.

【0032】この第2の液晶装置によれば、カラーフィ
ルタ基板において、複数の色絵素の上に供給された保護
膜は前記複数の隔壁同士の間にも入り込む。このとき、
隔壁は保護膜が色絵素形成領域の外側へ広く流れ出るこ
とを防止し、これにより、保護膜はその外縁が色絵素形
成領域の外縁に対してばらつくことなく均一な距離だけ
離れた所に止まるように形成される。この結果、例え
ば、保護膜がシール材の下に入り込んでシール材のシー
ル性が劣化する等といった不都合を回避できる。この結
果,液晶装置による表示品質を長期間にわたって高く維
持できる。
According to the second liquid crystal device, in the color filter substrate, the protective film supplied on the plurality of color picture elements enters between the plurality of partition walls. At this time,
The partition walls prevent the protective film from flowing out of the color pixel forming region widely, so that the protective film remains at a uniform distance from the outer edge of the color pixel forming region without variation. Formed. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated. As a result, the display quality of the liquid crystal device can be maintained high for a long period of time.

【0033】上記第1又は第2の液晶装置において、前
記隔壁はシール材形成領域の内側に在ることが望まし
い。こうすれば、保護膜がシール材の下側へ入り込むこ
とを確実に防止できる。
In the first or second liquid crystal device, it is preferable that the partition is located inside a seal material forming region. This can reliably prevent the protective film from entering the lower side of the sealing material.

【0034】また、上記第1又は第2の液晶装置におい
て、前記隔壁は電極配線形成領域以外の領域に形成され
ることが望ましい。こうすれば、電極配線は段差の緩や
かな個所を通ることになるので、電極配線の断線を確実
に防止できる。
In the first or second liquid crystal device, it is preferable that the partition is formed in a region other than the electrode wiring forming region. In this case, since the electrode wiring passes through a portion having a gentle step, disconnection of the electrode wiring can be reliably prevented.

【0035】また、上記第1又は第2の液晶装置におい
て、前記隔壁は前記色絵素ごとに設けられることが望ま
しい。つまり、隔壁は色絵素の1つごと、2つごと、3
つごと、あるいはそれ以上の数ごとに形成することが望
ましい。
In the first or second liquid crystal device, it is preferable that the partition is provided for each color picture element. In other words, the partition is every one of the color picture elements, every two,
It is desirable to form every one or more.

【0036】また、上記第1又は第2の液晶装置におい
て、前記隔壁は前記色絵素又は前記区画材と同じ材料に
よって形成されることが望ましい。この構成によれば、
隔壁は色絵素と同時に形成することもできるし、あるい
は、区画材と同時に形成することもできる。
In the first or second liquid crystal device, it is preferable that the partition is made of the same material as the color picture element or the partitioning material. According to this configuration,
The partition can be formed simultaneously with the color picture element, or can be formed simultaneously with the partitioning material.

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1(a)は本
発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態の平面構造
を示している。また、図2(b)は図1(a)における
矢印IIで示す部分を拡大して示している。また、図3
(a)は図2(b)におけるIII−III線に従った
断面構造を示している。
(First Embodiment) FIG. 1A shows a plan structure of a color filter substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 2B is an enlarged view of a portion indicated by an arrow II in FIG. FIG.
2A shows a cross-sectional structure along the line III-III in FIG.

【0038】本実施形態のカラーフィルタ基板1は、図
3(a)に示すように、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基材2と、その基材2の表面に形成された
ブラックマスク6と、そのブラックマスク6の上に形成
された区画材としてのバンク5と、そのバンク5によっ
て囲まれる領域に形成された複数の色絵素3と、同じく
バンク5によって囲まれる領域であって色絵素3の上に
重ねて形成された保護膜4とを有する。
As shown in FIG. 3A, the color filter substrate 1 of the present embodiment includes a substrate 2 formed of glass, plastic, or the like, and a black mask 6 formed on the surface of the substrate 2. A bank 5 as a partitioning material formed on the black mask 6, a plurality of color picture elements 3 formed in a region surrounded by the bank 5, and a color picture element 3 And a protective film 4 formed so as to overlap with the protective film 4.

【0039】バンク5及びその下層のブラックマスク6
は図1(a)において色絵素3及び保護膜4を形成する
部分を格子穴とする格子状に形成され、保護膜4及びそ
の下層の色絵素3はそれらの格子穴を埋めるように形成
される。これにより、複数の色絵素3は基材2の表面に
ドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス
状に形成される。
The bank 5 and its lower black mask 6
1A is formed in a lattice shape with a portion where the color picture element 3 and the protective film 4 are formed as lattice holes in FIG. 1A, and the protective film 4 and the color picture element 3 thereunder are formed so as to fill the lattice holes. You. Thus, the plurality of color picture elements 3 are formed on the surface of the base material 2 in a dot pattern shape, in this embodiment, in a dot matrix shape.

【0040】ブラックマスク6は透光性のない樹脂材料
によって形成される。バンク5は、ブラックマスク6を
別個に設ける場合には、透光性のない樹脂又は透光性の
ある樹脂のいずれかによって形成される。また、バンク
5を透光性のない樹脂によって形成する場合には、その
バンク5によってブラックマスクの機能を兼用すること
もできる。
The black mask 6 is formed of a non-translucent resin material. When the black mask 6 is separately provided, the bank 5 is formed of either a non-light-transmitting resin or a light-transmitting resin. When the bank 5 is formed of a non-translucent resin, the bank 5 can also serve as a black mask.

【0041】複数の色絵素3は、それぞれが、例えば、
R(赤)、G(緑)、B(青)のうちのいずれか1色の
色材によって形成され、それらの各色絵素3が所定の配
列に並べられている。図3(a)ではR色絵素を3R
で、G色絵素を3Gで、B色絵素を3Bで、それぞれ示
している。
Each of the plurality of color picture elements 3 is, for example,
It is formed of a color material of any one of R (red), G (green), and B (blue), and the respective color picture elements 3 are arranged in a predetermined arrangement. In FIG. 3A, the R color picture element is 3R.
The G color picture element is indicated by 3G, and the B color picture element is indicated by 3B.

【0042】各色絵素3R,3G,3Bの配列として
は、例えば、図4(a)に示すストライプ配列、図4
(b)に示すモザイク配列、図4(c)に示すデルタ配
列等が知られている。ストライプ配列は、マトリクスの
縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦
横の直線上に並んだ任意の3つの色絵素がR,G,Bの
3色となる配色である。そして、デルタ配列は、色絵素
の配置を段違いにし、任意の隣接する3つの色絵素が
R,G,Bの3色となる配色である。
As an arrangement of the color picture elements 3R, 3G, 3B, for example, a stripe arrangement shown in FIG.
A mosaic arrangement shown in FIG. 4B and a delta arrangement shown in FIG. 4C are known. The stripe arrangement is a color arrangement in which all columns of the matrix have the same color. The mosaic arrangement is a color scheme in which any three color picture elements arranged on a vertical and horizontal straight line have three colors of R, G, and B. The delta arrangement is a color arrangement in which the arrangement of the color picture elements is different, and any three adjacent color picture elements are three colors of R, G, and B.

【0043】図1(a)において、カラーフィルタ基板
1の大きさは、例えば、対角寸法が1.8インチであ
る。また、1個の色絵素3の大きさは、例えば、30μ
m×100μmである。また、各色絵素3の間の間隔、
いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、75μmであ
る。
In FIG. 1A, the size of the color filter substrate 1 is, for example, a diagonal dimension of 1.8 inches. The size of one color picture element 3 is, for example, 30 μm.
m × 100 μm. Also, the interval between each color picture element 3,
The so-called inter-element pitch is, for example, 75 μm.

【0044】本実施形態では、各色絵素3R,3G,3
Bの高さすなわち厚さは、図3(a)に示すように、バ
ンク5よりも薄く形成され、さらに各厚さはそれぞれ異
なっている。具体的には、G色絵素3Gが最も厚く、R
色絵素3Rがその次に厚く、B色絵素3Bが最も薄く形
成されている。このように各色絵素間で厚さが異なるの
は、主としては、観察者の希望に応じて特定色を強調し
たり又は弱めたりするためである。また、視覚的に解像
力に影響の大きいG色絵素3Gを他の色絵素よりも低く
形成する等といった厚さ制御が行われることもある。
In this embodiment, the color picture elements 3R, 3G, 3
As shown in FIG. 3A, the height, ie, the thickness, of B is formed to be thinner than that of the bank 5, and each thickness is different. Specifically, the G color picture element 3G is the thickest,
The color picture element 3R is formed second thickest, and the B color picture element 3B is formed thinnest. The reason why the thickness differs among the color picture elements is mainly to emphasize or weaken a specific color according to the wishes of the observer. Further, the thickness control may be performed such that the G color picture element 3G that visually affects the resolution is formed lower than other color picture elements.

【0045】また、色絵素3の上に重ねて形成される保
護膜4に関しては、G色絵素3Gに対応する保護膜4の
厚さは最も薄く、R色絵素3Rに対応する保護膜4はそ
の次に薄く、B色絵素3Bに対応する保護膜4は最も厚
く形成される。そして、そのような厚さ制御により、各
色絵素3に重ねて形成された保護膜4の頂面の高さはバ
ンク5の高さとほぼ等しくなっている。
As for the protective film 4 formed on the color picture element 3, the thickness of the protective film 4 corresponding to the G color picture element 3 G is the smallest, and the thickness of the protective film 4 corresponding to the R color picture element 3 R is small. Next, the protective film 4 corresponding to the B color picture element 3B is formed thickest. By such a thickness control, the height of the top surface of the protective film 4 formed on each color picture element 3 is substantially equal to the height of the bank 5.

【0046】この場合の「ほぼ等しい」とは、保護膜4
とバンク5の高さが物理的に完全に同一の場合を含むこ
とはもとより、製造上の誤差や製造上の不可避の理由に
より、それらの高さがわずかに違っている場合でも、保
護膜4が機能的に同様に作用できるときには、そのよう
な高さの違いも含む意味である。
In this case, “substantially equal” means that the protective film 4
In addition to the case where the heights of the bank 5 and the bank 5 are physically completely the same, even when the heights are slightly different due to manufacturing errors or unavoidable manufacturing, If the can function similarly, it is meant to include such a difference in height.

【0047】なお、保護膜4は必ずしもその高さがバン
ク5の高さとほぼ等しく形成されていなくても良い。こ
の場合でも、色絵素3の損傷を防止する保護機能や、液
晶への不純物の拡散防止等といった機能は保護膜4によ
って達成できる。
The height of the protective film 4 does not necessarily have to be substantially equal to the height of the bank 5. Also in this case, the protection film 4 can achieve a protection function for preventing the color picture element 3 from being damaged and a function for preventing diffusion of impurities into the liquid crystal.

【0048】本実施形態では、図1(a)に示すよう
に、複数の色絵素3の最外縁に在るもののさらに外側へ
延び出すように複数の隔壁15が基材2の表面に形成さ
れている。また、これらの隔壁15はシール材が形成さ
れる領域又はシール材が接着される領域(以下、シール
材形成領域という)Uの内側領域に止まるように形成さ
れる。本実施形態では隔壁15は、図3(a)及び図2
(b)に示すように、バンク5から一体に延び出るよう
に、つまりバンク5と同じ材料によって形成されてい
る。具体的には、例えば、バンク5をパターニングする
際に同時にパターニングされて形成される。
In this embodiment, as shown in FIG. 1A, a plurality of partition walls 15 are formed on the surface of the base material 2 so as to extend further to the outside of the outermost edge of the plurality of color picture elements 3. ing. Further, these partition walls 15 are formed so as to be stopped in a region where the sealing material is formed or a region where the sealing material is bonded (hereinafter referred to as a sealing material forming region) U. In the present embodiment, the partition 15 is formed as shown in FIGS.
As shown in FIG. 2B, it is formed so as to extend integrally from the bank 5, that is, by the same material as the bank 5. Specifically, for example, it is formed by patterning at the same time as patterning the bank 5.

【0049】また、保護膜4は、各色絵素3の上に重ね
て形成されることに加えて、隣り合う隔壁15の間にも
形成される。このような隔壁15間の保護膜4は、例え
ば、各色絵素3の上にスピンコート法を用いて保護膜4
を形成する場合には、そのスピンコート処理時に隔壁1
5間に供給される。他方、各色絵素3の上にインクジェ
ット法を用いて保護膜4を形成する場合には、各隔壁1
5間の保護膜4はそれらの隔壁15間を狙ってインクす
なわち保護膜材料をドット状のインク滴として所定量、
吐出することによって形成される。
The protection film 4 is formed so as to overlap on the color picture elements 3 and also between the adjacent partition walls 15. For example, the protective film 4 between the partition walls 15 is formed on each of the color picture elements 3 by a spin coating method.
Is formed, the partition wall 1 is formed during the spin coating process.
It is supplied between five. On the other hand, when the protective film 4 is formed on each color picture element 3 by using the ink jet method, each partition 1
The protective film 4 between 5 is provided between the partition walls 15 with a predetermined amount of ink, that is, the protective film material as dot-like ink droplets.
It is formed by discharging.

【0050】各隔壁15間に供給された保護膜材料によ
って形成された保護膜4は、図2(b)に示すように、
隔壁15との間の表面張力等に起因して外部への流出が
規制されて、図22(b)に符号204で示した従来の
保護膜で見られたような外側方向へ向かう無秩序な外縁
の広がりを呈することなく、比較的小さくて均一な広が
りを呈することになる。
As shown in FIG. 2B, the protective film 4 formed by the protective film material supplied between the partition walls 15 is
The outflow to the outside is regulated due to the surface tension between the partition wall 15 and the like, and the disordered outer edge directed outward as seen in the conventional protective film indicated by reference numeral 204 in FIG. This results in a relatively small and uniform spread without exhibiting the spread.

【0051】このため、例えば、本カラーフィルタ基板
1を液晶装置を構成する一方の基板として用いたとき
に、保護材4はその外縁がシール材形成領域Uまで広が
って流れることがなくなり、よって、シール材形成領域
等Uに形成されるシール材108の下層に保護膜4が流
れ込んでシール材108のシール性を劣化させる等とい
った不都合を解消できる。
For this reason, for example, when the present color filter substrate 1 is used as one of the substrates constituting a liquid crystal device, the outer edge of the protective material 4 does not spread to the seal material forming region U and does not flow. Inconveniences such as the protective film 4 flowing into the lower layer of the seal material 108 formed in the seal material forming region U or the like and the sealing property of the seal material 108 being deteriorated can be solved.

【0052】本実施形態のカラーフィルタ基板1を例え
ば液晶装置におけるカラーフィルタ基板として用いる場
合を考えれば、図3(a)において色絵素3の表面には
電極13が設けられる。このとき、色絵素3を形成した
カラーフィルタ基板1の表面に凹凸があると電極に段差
ができて、その電極が切断されるおそれがある。これに
対し、保護膜4を設けることにより表面が滑らかに形成
された本実施形態のカラーフィルタ基板1によれば、そ
のような電極の切断を確実に防止できる。
Considering the case where the color filter substrate 1 of the present embodiment is used, for example, as a color filter substrate in a liquid crystal device, an electrode 13 is provided on the surface of the color picture element 3 in FIG. At this time, if there are irregularities on the surface of the color filter substrate 1 on which the color picture elements 3 are formed, a step may be formed on the electrode, and the electrode may be cut. On the other hand, according to the color filter substrate 1 of the present embodiment in which the surface is formed smoothly by providing the protective film 4, such cutting of the electrodes can be reliably prevented.

【0053】また、隔壁15の間に供給された保護膜材
料によって形成された保護膜4は、それらの隔壁15が
在ることにより、図22(c)において符号204で示
した従来の保護膜の場合のように最外縁に在る色絵素2
02の所で急峻に段差を形成するのではなく、図3
(a)に符号Tで示すように、緩やかなテーパ状に形成
される。
The protective film 4 formed by the protective film material supplied between the partition walls 15 is different from the conventional protective film indicated by reference numeral 204 in FIG. Color picture element 2 at the outermost edge as in the case of
Instead of forming a steep step at the point 02, FIG.
As shown by the symbol T in FIG.

【0054】このため、例えば、本カラーフィルタ基板
1を液晶装置を構成する一方の基板として用いたとき
に、カラーフィルタ基板1の表面に形成される電極13
の配線部分が色絵素形成領域Sの外縁部で大きな曲率で
曲がることを回避でき、そのため、電極の切断を確実に
防止できる。
Therefore, for example, when the present color filter substrate 1 is used as one substrate constituting a liquid crystal device, the electrodes 13 formed on the surface of the color filter substrate 1
Can be prevented from being bent at a large curvature at the outer edge of the color picture element forming region S, and therefore, the disconnection of the electrode can be reliably prevented.

【0055】なお、図1(a)に示す実施形態では隔壁
15を縦方向(X方向)及び横方向(Y方向)のいずれ
に関しても色絵素3の1つごとに形成したが、これに代
えて、色絵素3の2つごと、あるいはそれ以上の数ごと
に形成しても良い。また、図2(b)において電極13
が配線となってシール材形成領域Uの外側へ引き出され
る側、図2(b)では左辺側、に在る隔壁15に関して
は、それらの隔壁15は電極13から延びる配線が形成
される領域以外の領域に形成されている。つまり、複数
の隔壁15は電極配線を避ける位置、換言すれば電極配
線を挟む位置に形成される。また、電極配線が形成され
ない側、図2(b)では下辺側、に在る隔壁15に関し
ては、それらの隔壁15を形成する位置は電極13とは
無関係である。
In the embodiment shown in FIG. 1A, the partition walls 15 are formed for each of the color picture elements 3 in both the vertical direction (X direction) and the horizontal direction (Y direction). Thus, the color picture elements 3 may be formed for every two or more than three. In addition, in FIG.
Are the wirings drawn out of the sealing material forming region U, that is, on the left side in FIG. 2B, the partition walls 15 are other than the region where the wiring extending from the electrode 13 is formed. Area. That is, the plurality of partition walls 15 are formed at positions avoiding the electrode wires, in other words, at positions sandwiching the electrode wires. In addition, regarding the partitions 15 on the side where the electrode wiring is not formed, that is, on the lower side in FIG. 2B, the positions where the partitions 15 are formed are irrelevant to the electrodes 13.

【0056】以上のような構成から成る本実施形態に係
るカラーフィルタ基板1をフルカラー表示のための光学
要素として用いる場合には、R,G,B3個の色絵素3
を1つのユニットとして1つの画素を形成し、1画素内
のR,G,Bのいずれか1つ又はそれらの組み合わせに
光を選択的に通過させることにより、フルカラー表示を
行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成さ
れたブラックマスク6は色絵素3以外の部分から光が漏
れるのを防止する。
When the color filter substrate 1 according to this embodiment having the above configuration is used as an optical element for full-color display, three color picture elements 3 of R, G, and B are used.
Are formed as one unit, and one pixel is formed, and light is selectively passed through any one of R, G, and B in one pixel or a combination thereof to perform full color display. At this time, the black mask 6 formed of a non-translucent resin material prevents light from leaking from portions other than the color picture elements 3.

【0057】図3(a)に示すカラーフィルタ基板1
は、例えば、図1(b)に示すような大面積のマザー基
材12から切り出される。具体的には、まず、マザー基
材12内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域1
1のそれぞれの表面にカラーフィルタ基板1の1個分の
パターンを形成し、さらにそれらのカラーフィルタ形成
領域11の周りに切断用の溝を形成し、さらにそれらの
溝に沿ってマザー基材12を切断することにより、個々
のカラーフィルタ基板1が形成される。
The color filter substrate 1 shown in FIG.
Is cut out from a mother substrate 12 having a large area as shown in FIG. 1B, for example. Specifically, first, a plurality of color filter forming regions 1 set in the mother base material 12 are set.
1, a pattern for one color filter substrate 1 is formed on each surface, grooves for cutting are formed around the color filter forming region 11, and a mother substrate 12 is formed along the grooves. Is cut to form individual color filter substrates 1.

【0058】以下、図1(a)に示すカラーフィルタ基
板1を製造する製造方法及びその製造装置について説明
する。
Hereinafter, a method and an apparatus for manufacturing the color filter substrate 1 shown in FIG. 1A will be described.

【0059】図5はカラーフィルタ基板1の製造方法を
工程順に模式的に示している。まず、ガラス、プラスチ
ック等によって形成されたマザー基材12の表面に透光
性のない樹脂材料、例えばCr(クロム)によってブラ
ックマスク6を矢印B方向から見て格子状パターンに形
成する。格子状パターンの格子穴の部分7は色絵素3が
形成される領域、すなわち色絵素形成領域である。この
ブラックマスク6によって形成される個々の色絵素形成
領域7の矢印B方向から見た場合の平面寸法は、例えば
30μm×100μm程度に形成される。
FIG. 5 schematically shows a method of manufacturing the color filter substrate 1 in the order of steps. First, a black mask 6 is formed in a lattice pattern on a surface of a mother base material 12 formed of glass, plastic, or the like by using a resin material having no translucency, for example, Cr (chromium) as viewed in the direction of arrow B. The portion 7 of the lattice hole of the lattice pattern is a region where the color picture element 3 is formed, that is, a color picture element formation area. The plane dimensions of the individual color picture element forming regions 7 formed by the black mask 6 when viewed from the direction of arrow B are, for example, about 30 μm × 100 μm.

【0060】ブラックマスク6は任意の成膜手法、例え
ばスパッタリングによって材料、例えばCr等を0.1
〜0.2μm程度の均一な厚さで一様に形成した後、適
宜のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法
によって格子状パターンに形成される(工程P1)。ブ
ラックマスク6の形成後、工程P2においてバンク5を
形成する。具体的には、望ましくは撥インク性の樹脂を
例えばスピンコート法を用いて所定の厚さに形成して、
さらに適宜のパターニング手法例えばフォトリソグラフ
ィー法を用いて所定の格子状に形成する。このバンク形
成の際、それと同時に色絵素形成領域Sの外縁部に複数
の隔壁15を互いに間隔を開けて形成する。
The black mask 6 is made of a material such as Cr by 0.1% by any film forming method, for example, sputtering.
After uniformly forming with a uniform thickness of about 0.2 μm, a lattice pattern is formed by an appropriate patterning method, for example, a photolithography method (step P1). After the formation of the black mask 6, the bank 5 is formed in a process P2. Specifically, desirably, an ink-repellent resin is formed to a predetermined thickness using, for example, a spin coating method,
Further, it is formed in a predetermined lattice shape by using an appropriate patterning method, for example, a photolithography method. At the time of this bank formation, a plurality of partitions 15 are formed at the same time at the outer edge of the color picture element formation region S at intervals.

【0061】その後、工程P3において、バンク5によ
って区画された各領域内にインクジェット法を用いて
R,G,Bの色絵素3を形成する。具体的には、インク
ジェットヘッド22によってマザー基材12の表面を走
査しながら、インクジェットヘッド22に設けたノズル
27から色絵素材料8を図4のいずれかに示す配列パタ
ーンに対応した所定のタイミングでインク滴として吐出
してマザー基材12上に付着させる。そして、焼成処理
又は紫外線照射処理により色絵素材料を固化して色絵素
3を形成する。この処理を各色絵素3R,3G,3Bご
とに繰り返すことによって希望の配列の色絵素パターン
を形成する。
Thereafter, in a process P3, R, G, and B color picture elements 3 are formed in each area defined by the bank 5 by using the ink jet method. Specifically, while the surface of the mother substrate 12 is scanned by the inkjet head 22, the color picture element material 8 is discharged from the nozzles 27 provided in the inkjet head 22 at a predetermined timing corresponding to the arrangement pattern shown in FIG. The ink droplets are ejected and adhere on the mother substrate 12. Then, the color picture element 3 is formed by solidifying the color picture element material by a baking treatment or an ultraviolet irradiation treatment. This process is repeated for each color picture element 3R, 3G, 3B to form a color picture element pattern of a desired arrangement.

【0062】その後、工程P4において、バンク5によ
って区画された各領域内であって色絵素3の上にインク
ジェット法を用いて保護膜4を形成する。具体的には、
色絵素3の場合と同様にして、インクジェットヘッド2
2によってマザー基材12の表面を走査しながら、イン
クジェットヘッド22に設けたノズル27から保護膜材
料10を図4のいずれかに示す配列パターンに対応した
所定のタイミングで図2(a)に示すようにインク滴1
0として吐出してマザー基材12上の各色絵素3の上に
供給する。このとき、保護膜材料10は複数の隔壁15
の間にも供給される。
Thereafter, in a process P4, the protective film 4 is formed on each of the color picture elements 3 in each area partitioned by the bank 5 by using the ink jet method. In particular,
In the same manner as in the case of the color picture element 3, the ink jet head 2
While scanning the surface of the mother base material 12 with the nozzle 2, the protective film material 10 is supplied from the nozzle 27 provided in the inkjet head 22 at a predetermined timing corresponding to the arrangement pattern shown in FIG. Ink drop 1
It is discharged as 0 and supplied onto each color picture element 3 on the mother substrate 12. At this time, the protective film material 10 includes a plurality of partition walls 15.
Is also supplied during.

【0063】そしてその後、例えば200℃、30分〜
60分の焼成処理により保護膜材料を固化して図2
(b)に示すように保護膜4を成膜する。なお、隔壁1
5の延び出し長さ及び高さは、保護膜4の材料の物性、
例えば粘度、表面張力等に応じて適切に設定される。
Thereafter, for example, at 200 ° C. for 30 minutes
FIG. 2 shows that the protective film material is solidified by a baking treatment for 60 minutes.
A protective film 4 is formed as shown in FIG. The partition 1
The extension length and height of 5 are the physical properties of the material of the protective film 4,
For example, it is set appropriately according to viscosity, surface tension and the like.

【0064】複数の隔壁15の間にも所定量の保護膜材
料10がインクドット状に供給されることにより、緩や
かにテーパ状に低くなりながら広がる保護膜4がその外
縁が大きく広がらない状態で色絵素形成領域Sの外縁部
に形成される。
By supplying a predetermined amount of the protective film material 10 between the plurality of partition walls 15 in the form of ink dots, the protective film 4 gently tapered and spreads while lowering, with its outer edge not greatly expanding. It is formed at the outer edge of the color picture element forming area S.

【0065】なお、色絵素形成工程P3におけるインク
ジェット処理では、色絵素3のR,G,B各色ごとにイ
ンクジェットヘッド22の走査を繰り返して色絵素を形
成するか、あるいは、1つのインクジェットヘッド22
にR,G,B3色のノズルを設備しておいて1回の走査
によってR,G,B3色を同時に形成することもでき
る。
In the ink jet processing in the color picture element forming step P3, the scanning of the ink jet head 22 is repeated for each of the R, G, and B colors of the color picture element 3 to form a color picture element.
It is also possible to equip three nozzles for R, G and B colors and to simultaneously form R, G and B colors by one scan.

【0066】一方、保護膜形成工程P4におけるインク
ジェット処理では、バンク5によって形成される複数の
格子状穴の全てへインクジェットヘッド22の1回の走
査期間中、場合によっては複数の走査期間中に所定量の
インク滴を供給する。但し、格子状穴の中に形成されて
いる色絵素3の厚さがR,G,Bの色ごとに異なってい
る場合には、ノズル27から吐出するインクの吐出量も
色ごとに適量に調節する。
On the other hand, in the inkjet processing in the protective film forming step P4, all of the plurality of grid holes formed by the banks 5 are located during one scanning period of the inkjet head 22, and sometimes during a plurality of scanning periods. Provides a fixed amount of ink drops. However, when the thickness of the color picture element 3 formed in the lattice hole differs for each of the colors R, G, and B, the ejection amount of the ink ejected from the nozzle 27 also becomes an appropriate amount for each color. Adjust.

【0067】色絵素形成工程P3で用いるインクジェッ
トヘッド22と保護膜形成工程P4で用いるインクジェ
ットヘッド22は同一のインクジェット装置に交換して
装着することにしても良いし、あるいは、それぞれを別
個のインクジェット装置に装着しておいてそれらのイン
クジェット装置を個別に使用することにしても良い。ま
た、場合によっては、インクジェットヘッド22及びそ
れを装着するインクジェット装置として同じものを使用
し、その同一のインクジェットヘッド22へ供給するイ
ンクを色絵素材料と保護膜材料との間で交換するような
方法も採用できる。
The ink jet head 22 used in the color picture element forming step P3 and the ink jet head 22 used in the protective film forming step P4 may be exchanged and mounted on the same ink jet device, or they may be separately mounted. , And these ink jet devices may be used individually. In some cases, the same ink jet head 22 and the same ink jet device to which the ink jet head is mounted are used, and the ink supplied to the same ink jet head 22 is exchanged between a color picture element material and a protective film material. Can also be adopted.

【0068】なお、色絵素形成工程P3及び保護膜形成
工程P4におけるインクジェットヘッド22によるマザ
ー基材12の走査方法は特別な方法に限定されるもので
なく種々に考えられる。例えば、複数のノズル27をマ
ザー基材12の一辺とほぼ同じ長さに並べてノズル列を
構成し、1回の走査によってマザー基材12の全面に絵
素材料8や保護膜材料10を供給する方法や、マザー基
材12の一辺よりも短い長さのノズル列を有するインク
ジェットヘッド22に関してインクを吐出するための主
走査及び主走査位置をずらせるための副走査を繰り返し
て行うことによってマザー基材12の全面にインクを供
給する方法等が考えられる。
The method of scanning the mother substrate 12 by the inkjet head 22 in the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4 is not limited to a special method, but may be variously considered. For example, a plurality of nozzles 27 are arranged at substantially the same length as one side of the mother substrate 12 to form a nozzle row, and the pixel material 8 and the protective film material 10 are supplied to the entire surface of the mother substrate 12 by one scan. A main scanning for ejecting ink and a sub-scanning for shifting a main scanning position with respect to the inkjet head 22 having a nozzle row having a length shorter than one side of the mother base material 12. A method of supplying ink to the entire surface of the material 12 or the like can be considered.

【0069】図6は、図5の色絵素形成工程P3及び保
護膜形成工程P4を実施するための装置の一例であるイ
ンクジェット装置の一実施形態を示している。このイン
クジェット装置16は色絵素材料又は保護膜材料をイン
クの液滴として、マザー基材12(図1(b)参照)内
の各カラーフィルタ形成領域11内の所定位置に吐出し
て付着させるための装置である。
FIG. 6 shows an embodiment of an ink jet apparatus which is an example of an apparatus for performing the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4 of FIG. This ink jet device 16 discharges and attaches a color picture element material or a protective film material as ink droplets to a predetermined position in each color filter forming area 11 in the mother base material 12 (see FIG. 1B). Device.

【0070】図6において、インクジェット装置16
は、インクジェットヘッド22を備えたヘッドユニット
26と、インクジェットヘッド22の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置17と、マザー基材12の位置を制御
する基板位置制御装置18と、インクジェットヘッド2
2をマザー基材12に対して主走査移動させる主走査駆
動装置19と、インクジェットヘッド22をマザー基材
12に対して副走査移動させる副走査駆動装置21と、
マザー基材12をインクジェット装置16内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置23と、そしてインクジ
ェット装置16の全般の制御を司るコントロール装置2
4とを有する。
In FIG. 6, the ink jet device 16
A head unit 26 having an inkjet head 22; a head position controller 17 for controlling the position of the inkjet head 22; a substrate position controller 18 for controlling the position of the mother substrate 12;
A main scanning drive device 19 that moves the inkjet head 22 in the main scanning direction with respect to the mother base material 12, a sub scanning driving device 21 that moves the inkjet head 22 in the sub scanning direction with respect to the mother base material 12,
A substrate supply device 23 for supplying the mother base material 12 to a predetermined working position in the inkjet device 16 and a control device 2 for controlling the overall control of the inkjet device 16
And 4.

【0071】ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装
置18、主走査駆動装置19、そして副走査駆動装置2
1の各装置はベース9の上に設置される。また、それら
の各装置は必要に応じてカバー14によって覆われる。
The head position control device 17, substrate position control device 18, main scanning driving device 19, and sub-scanning driving device 2
Each device of 1 is installed on the base 9. Each of those devices is covered with a cover 14 as needed.

【0072】インクジェットヘッド22は、例えば図8
(a)に示すように、複数、本実施形態では6個のヘッ
ド部20と、それらのヘッド部20を並べて支持する支
持手段としてのキャリッジ25とを有する。キャリッジ
25は、ヘッド部20を支持すべき位置にヘッド部20
よりも少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部2
0はそれらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤そ
の他の締結手段によって固定される。また、キャリッジ
25に対するヘッド部20の位置が正確に決められる場
合には、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入
によってヘッド部20を固定しても良い。
The ink jet head 22 is, for example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 1A, a plurality of, in this embodiment, six, head units 20 and a carriage 25 as a support means for supporting the head units 20 side by side are provided. The carriage 25 is located at a position where the head unit 20 is to be supported.
Each head portion 2 has a hole or recess slightly larger than
The O's are inserted into the holes and are fixed by screws, adhesives or other fastening means. When the position of the head unit 20 with respect to the carriage 25 is accurately determined, the head unit 20 may be fixed by simply press-fitting without using any special fastening means.

【0073】ヘッド部20は、図8(b)に示すよう
に、複数のノズル27を列状に並べることによって形成
されたノズル列28を有する。ノズル27の数は例えば
180個であり、ノズル27の穴径は例えば28μmで
あり、ノズル27間のノズルピッチは例えば141μm
である。図1(a)及び図1(b)において基材2及び
マザー基材12に対する主走査方向はX方向であり、そ
れに直交するY方向が副走査方向であり、それらのX方
向及びY方向は図8(a)においてインクジェットヘッ
ド22に対して図示の通りに設定される。
The head section 20 has a nozzle row 28 formed by arranging a plurality of nozzles 27 in a row as shown in FIG. 8B. The number of the nozzles 27 is, for example, 180, the hole diameter of the nozzles 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzles 27 is, for example, 141 μm.
It is. In FIGS. 1A and 1B, the main scanning direction with respect to the base material 2 and the mother base material 12 is the X direction, the Y direction orthogonal thereto is the sub-scanning direction, and the X direction and the Y direction are the same. In FIG. 8A, the ink jet head 22 is set as illustrated.

【0074】インクジェットヘッド22はX方向へ平行
移動することによりマザー基材12を主走査するが、こ
の主走査の間にインクとしての色絵素材料又は保護膜材
料を各ヘッド部20内の複数のノズル27から選択的に
吐出することにより、マザー基材12内の所定位置に色
絵素材料又は保護膜材料を付着させる。また、インクジ
ェットヘッド22は副走査方向Yへ所定距離、例えばノ
ズル列28の1列分の長さL又はその整数倍だけ平行移
動することにより、インクジェットヘッド22による主
走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
The ink jet head 22 performs main scanning on the mother substrate 12 by moving in parallel in the X direction. During this main scanning, a color picture element material or a protective film material as an ink By selectively discharging from the nozzle 27, a color pixel material or a protective film material is attached to a predetermined position in the mother base material 12. The main scanning position of the inkjet head 22 is shifted at a predetermined interval by moving the inkjet head 22 in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance, for example, the length L of one nozzle row 28 or an integral multiple thereof. Can be

【0075】各ヘッド部20のノズル列28は、各ヘッ
ド部20がキャリッジ25に取り付けられたときに一直
線Zに載るように設定される。また、隣り合う各ヘッド
部20の間隔Dは、隣り合う一対のヘッド部20のそれ
ぞれに属する最端位置のノズル27同士間の距離が個々
のヘッド部20内のノズル列28の長さLに等しくなる
ように設定される。ノズル列28に関するこのような配
置はインクジェットヘッド22に関するX方向の主走査
制御及びY方向に関する副走査制御を簡単にするための
措置であり、ノズル列28の配置形態すなわちヘッド部
20のキャリッジ25に対する配列形態は上記以外に任
意に設定可能である。
The nozzle row 28 of each head unit 20 is set so that each head unit 20 is mounted on a straight line Z when mounted on the carriage 25. The distance D between the adjacent head units 20 is such that the distance between the nozzles 27 at the extreme end positions belonging to each of the pair of adjacent head units 20 is equal to the length L of the nozzle row 28 in each head unit 20. Set to be equal. Such an arrangement with respect to the nozzle row 28 is a measure for simplifying the main scanning control in the X direction and the sub-scanning control in the Y direction with respect to the ink jet head 22. The arrangement form can be arbitrarily set in addition to the above.

【0076】個々のヘッド部20は、例えば、図10
(a)及び図10(b)に示す内部構造を有する。具体
的には、ヘッド部20は、例えばステンレス製のノズル
プレート29と、それに対向する振動板31と、それら
を互いに接合する複数の仕切部材32とを有する。ノズ
ルプレート29と振動板31との間には、仕切部材32
によって複数のインク室33と液溜り34とが形成され
る。複数のインク室33と液溜り34とは通路38を介
して互いに連通している。
The individual head units 20 are, for example, as shown in FIG.
It has the internal structure shown in FIG. 10A and FIG. Specifically, the head unit 20 includes, for example, a nozzle plate 29 made of stainless steel, a diaphragm 31 facing the nozzle plate 29, and a plurality of partition members 32 that join them together. A partition member 32 is provided between the nozzle plate 29 and the diaphragm 31.
Thus, a plurality of ink chambers 33 and a liquid pool 34 are formed. The plurality of ink chambers 33 and the liquid reservoir 34 communicate with each other via a passage 38.

【0077】振動板31の適所にはインク供給穴36が
形成され、このインク供給穴36にインク供給装置37
が接続される。このインク供給装置37は色絵素材料M
又は保護膜材料Mをインク供給穴36へ供給する。供給
された色絵素材料M又は保護膜材料Mは液溜り34に充
満し、さらに通路38を通ってインク室33に充満す
る。色絵素材料Mに関しては、インク供給装置37から
供給されるものはR,G,Bのいずれか1色であり、個
々の色に対してそれぞれ異なったヘッド部20が準備さ
れる。
An ink supply hole 36 is formed at an appropriate position on the vibration plate 31, and an ink supply device 37 is formed in the ink supply hole 36.
Is connected. The ink supply device 37 includes a color picture element material M
Alternatively, the protective film material M is supplied to the ink supply hole 36. The supplied color picture element material M or protective film material M fills the liquid reservoir 34 and further fills the ink chamber 33 through the passage 38. With respect to the color picture element material M, the one supplied from the ink supply device 37 is any one of R, G, and B, and a different head unit 20 is prepared for each color.

【0078】なお、色絵素材料MはR,G,Bの各色色
材を溶媒に分散させることによって形成される。また、
保護膜材料Mは、透光性を有する熱硬化型樹脂又は光硬
化型樹脂であって、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、イミド系樹脂又はフッ素系樹脂の少なくとも1つを
含んで形成できる。また、保護膜材料Mの粘度は望まし
くは10cps〜50cpsに設定される。これは、1
0cps未満では流動性が高過ぎて特定形状に形成する
ことが難しくなること及び50cpsを超える場合には
ノズル27から一定量を吐出することが難しくなるから
である。
The color picture element material M is formed by dispersing R, G, and B color materials in a solvent. Also,
The protective film material M is a translucent thermosetting resin or photocurable resin, and can be formed, for example, by including at least one of an acrylic resin, an epoxy resin, an imide-based resin, and a fluorine-based resin. Further, the viscosity of the protective film material M is desirably set to 10 cps to 50 cps. This is 1
If it is less than 0 cps, the fluidity is too high to form a specific shape, and if it is more than 50 cps, it becomes difficult to discharge a fixed amount from the nozzle 27.

【0079】ノズルプレート29には、インク室33か
ら色絵素材料M又は保護膜材料Mをジェット状に噴射す
るためのノズル27が設けられている。また、振動板3
1のインク室33を形成する面の裏面には、該インク室
33に対応させてインク加圧体39が取り付けられてい
る。このインク加圧体39は、図10(b)に示すよう
に、圧電素子41並びにこれを挟持する一対の電極42
a及び42bを有する。圧電素子41は電極42a及び
42bへの通電によって矢印Cで示す外側へ突出するよ
うに撓み変形し、これによりインク室33の容積が増大
する。すると、増大した容積分に相当する色絵素材料M
又は保護膜材料Mが液溜り34から通路38を通ってイ
ンク室33へ流入する。
The nozzle plate 29 is provided with nozzles 27 for jetting the color picture element material M or the protective film material M from the ink chamber 33 in a jet shape. Also, the diaphragm 3
On the back surface of the surface on which one ink chamber 33 is formed, an ink pressurizing body 39 is attached so as to correspond to the ink chamber 33. As shown in FIG. 10B, the ink pressurizing member 39 includes a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42 sandwiching the piezoelectric element 41.
a and 42b. The piezoelectric element 41 bends and deforms so as to protrude outward as indicated by the arrow C by energizing the electrodes 42a and 42b, thereby increasing the volume of the ink chamber 33. Then, the color picture element material M corresponding to the increased volume
Alternatively, the protective film material M flows from the liquid reservoir 34 into the ink chamber 33 through the passage 38.

【0080】次に、圧電素子41への通電を解除する
と、該圧電素子41と振動板31は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室33も元の容積に戻るためイ
ンク室33の内部にある色絵素材料M又は保護膜材料M
の圧力が上昇し、ノズル27からマザー基材12(図1
(b)参照)へ向けて色絵素材料M又は保護膜材料Mが
液滴8,10となって噴出する。なお、ノズル27の周
辺部には、液滴8,10の飛行曲がりやノズル27の穴
詰まり等を防止するために、例えばNi−テトラフルオ
ロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層43が設け
られる。
Next, when the current supply to the piezoelectric element 41 is released, both the piezoelectric element 41 and the diaphragm 31 return to their original shapes. As a result, the ink chamber 33 also returns to its original volume, so that the color picture element material M or the protective film material M inside the ink chamber 33 is removed.
Of the mother substrate 12 (FIG. 1)
The color picture element material M or the protective film material M is ejected as droplets 8 and 10 toward (b). In addition, an ink-repellent layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided on the periphery of the nozzle 27 in order to prevent the liquid droplets 8 and 10 from bending and flying or clogging the hole of the nozzle 27. .

【0081】図7において、ヘッド位置制御装置17
は、インクジェットヘッド22を面内回転させるαモー
タ44と、インクジェットヘッド22を副走査方向Yと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ46と、イン
クジェットヘッド22を主走査方向Xと平行な軸線回り
に揺動回転させるγモータ47と、そしてインクジェッ
トヘッド22を上下方向へ平行移動させるZモータ48
とを有する。
In FIG. 7, the head position controller 17
Is an α motor 44 for rotating the inkjet head 22 in a plane, a β motor 46 for swingingly rotating the inkjet head 22 about an axis parallel to the sub-scanning direction Y, and an axis parallel to the main scanning direction X. A γ motor 47 for swinging and rotating around, and a Z motor 48 for horizontally moving the inkjet head 22 in a vertical direction
And

【0082】図6に示した基板位置制御装置18は、図
7において、マザー基材12を載せるテーブル49と、
そのテーブル49を矢印θのように面内回転させるθモ
ータ51とを有する。また、図6に示した主走査駆動装
置19は、図7に示すように、主走査方向Xへ延びるガ
イドレール52と、パルス駆動されるリニアモータを内
蔵したスライダ53とを有する。スライダ53は内蔵す
るリニアモータが作動するときにガイドレール52に沿
って主走査方向へ平行移動する。
The board position control device 18 shown in FIG. 6 includes a table 49 on which the mother base material 12 is placed as shown in FIG.
And a θ motor 51 for rotating the table 49 in-plane as indicated by an arrow θ. Further, as shown in FIG. 7, the main scanning drive device 19 shown in FIG. 6 includes a guide rail 52 extending in the main scanning direction X and a slider 53 having a pulse-driven linear motor. The slider 53 translates in the main scanning direction along the guide rail 52 when the built-in linear motor operates.

【0083】また、図6に示した副走査駆動装置21
は、図7に示すように、副走査方向Yへ延びるガイドレ
ール54と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵した
スライダ56とを有する。スライダ56は内蔵するリニ
アモータが作動するときにガイドレール54に沿って副
走査方向Yへ平行移動する。
The sub-scanning driving device 21 shown in FIG.
Has a guide rail 54 extending in the sub-scanning direction Y and a slider 56 containing a pulse-driven linear motor, as shown in FIG. The slider 56 moves in the sub-scanning direction Y along the guide rail 54 when the built-in linear motor operates.

【0084】スライダ53やスライダ56内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ53に支持されたインクジ
ェットヘッド22の主走査方向X上の位置やテーブル4
9の副走査方向Y上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド22やテーブル49の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
The linear motor which is pulse-driven in the slider 53 or the slider 56 can precisely control the rotation angle of the output shaft by a pulse signal supplied to the motor. Therefore, the ink jet head supported by the slider 53 22 in the main scanning direction X and the table 4
9 can be controlled with high definition in the sub-scanning direction Y. The position control of the ink jet head 22 and the table 49 is not limited to the position control using a pulse motor, but can also be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.

【0085】図6に示した基板供給装置23は、マザー
基材12を収容する基板収容部57と、マザー基材12
を搬送するロボット58とを有する。ロボット58は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台59と、基台
59に対して昇降移動する昇降軸61と、昇降軸61を
中心として回転する第1アーム62と、第1アーム62
に対して回転する第2アーム63と、第2アーム63の
先端下面に設けられた吸着パッド64とを有する。吸着
パッド64は空気吸引等によってマザー基材12を吸着
できる。
The substrate supply device 23 shown in FIG. 6 includes a substrate accommodating portion 57 for accommodating the mother substrate 12 and a mother substrate 12.
And a robot 58 for transporting. The robot 58
A base 59 placed on an installation surface such as a floor, the ground, etc .; an elevating shaft 61 moving up and down with respect to the base 59; a first arm 62 rotating about the elevating shaft 61;
And a suction pad 64 provided on the lower surface of the distal end of the second arm 63. The suction pad 64 can suction the mother substrate 12 by air suction or the like.

【0086】図6において、主走査駆動装置19によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド22
の軌跡下であって副走査駆動装置21の一方の脇位置
に、キャッピング装置76及びクリーニング装置77が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤78が配設
される。クリーニング装置77はインクジェットヘッド
22を洗浄するための装置である。電子天秤78はイン
クジェットヘッド22内の個々のノズル27から吐出さ
れるインクの液滴の重量をノズルごとに測定する機器で
ある。そして、キャッピング装置76はインクジェット
ヘッド22が待機状態にあるときにノズル27の乾燥を
防止するための装置である。
In FIG. 6, the ink jet head 22 which is driven by the main scanning driving device 19 and moves in the main scanning.
A capping device 76 and a cleaning device 77 are disposed below the locus and at one side position of the sub-scanning driving device 21. An electronic balance 78 is provided at the other side position. The cleaning device 77 is a device for cleaning the inkjet head 22. The electronic balance 78 is a device that measures the weight of ink droplets ejected from the individual nozzles 27 in the inkjet head 22 for each nozzle. The capping device 76 is a device for preventing the nozzle 27 from drying when the inkjet head 22 is in a standby state.

【0087】インクジェットヘッド22の近傍には、そ
のインクジェットヘッド22と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ81が配設される。また、ベース9上に設
けた支持装置(図示せず)に支持された基板用カメラ8
2がマザー基材12を撮影できる位置に配置される。
A head camera 81 is provided near the ink jet head 22 so as to move integrally with the ink jet head 22. Further, the substrate camera 8 supported by a supporting device (not shown) provided on the base 9.
2 is arranged at a position where the mother substrate 12 can be photographed.

【0088】図6に示したコントロール装置24は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部66と、入力装
置としてのキーボード67と、表示装置としてのCRT
(Cathode Ray Tube)ディスプレイ68とを有する。上
記プロセッサは、図11に示すように、演算処理を行う
CPU(Central Processing Unit)69と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体71とを有す
る。
The control device 24 shown in FIG. 6 includes a computer main body 66 containing a processor, a keyboard 67 as an input device, and a CRT as a display device.
(Cathode Ray Tube) display 68. As shown in FIG. 11, the processor has a CPU (Central Processing Unit) 69 for performing arithmetic processing, and a memory for storing various information, that is, an information storage medium 71.

【0089】図6に示したヘッド位置制御装置17、基
板位置制御装置18、主走査駆動装置19、副走査駆動
装置21、そして、インクジェットヘッド22内の圧電
素子41(図10(b)参照)を駆動するヘッド駆動回
路72の各機器は、図11において、入出力インターフ
ェース73及びバス74を介してCPU69に接続され
る。また、基板供給装置23、入力装置67、ディスプ
レイ68、電子天秤78、クリーニング装置77及びキ
ャッピング装置76の各機器も入出力インターフェース
73及びバス74を介してCPU69に接続される。
The head position control device 17, substrate position control device 18, main scan drive device 19, sub-scan drive device 21, and piezoelectric element 41 in the ink jet head 22 shown in FIG. 6 (see FIG. 10B). 11 are connected to a CPU 69 via an input / output interface 73 and a bus 74 in FIG. Further, each device of the substrate supply device 23, the input device 67, the display 68, the electronic balance 78, the cleaning device 77, and the capping device 76 is also connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74.

【0090】メモリ71は、RAM(Random Access Me
mory)、ROM(Read Only Memory)等といった半導体
メモリや、ハードディスク、CD−ROM読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置16の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図7における主走査方向Xへのスライダ53
の主走査移動量及び副走査方向Yへのマザー基材12の
副走査移動量を記憶するための記憶領域や、CPU69
のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機
能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。
The memory 71 has a RAM (Random Access Me
mory), semiconductor memory such as ROM (Read Only Memory), hard disk, CD-ROM reader,
This is a concept including an external storage device such as a disk-type storage medium or the like. Functionally, the storage region stores program software in which a control procedure of the operation of the inkjet device 16 is described, and the storage region in the main scanning direction X in FIG. Slider 53
A storage area for storing the main scanning movement amount and the sub-scanning movement amount of the mother substrate 12 in the sub-scanning direction Y;
Area, which functions as a work area or a temporary file, and other various storage areas.

【0091】本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方
法では、図5の色絵素形成工程P3及び保護膜形成工程
P4の両方でインクジェット装置16が用いられる。こ
れらの工程で用いられるインクジェット装置16は機構
的にはほとんど同じ装置を用いることができる。
In the method of manufacturing a color filter substrate according to the present embodiment, the ink jet device 16 is used in both the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4 in FIG. The ink jet device 16 used in these steps can be almost the same mechanically.

【0092】また、色絵素形成工程P3で使用されるイ
ンクジェット装置16に備えられる図11のメモリ71
には、色絵素形成の全般の手順を規制するプログラムソ
フトと、図4の希望する色絵素配列を実現するR,G,
B形成位置データと、R,G,Bの各位置に各色材料を
どのくらいの量で供給するかを規定するR,G,B付着
量データ等が記憶される。このR,G,B付着量データ
は、色別で規定することもできるし、マザー基板12上
の座標位置との関連で規定することもできる。
The memory 71 shown in FIG. 11 provided in the ink jet device 16 used in the color picture element forming step P3.
Include program software that regulates the overall procedure of color picture element formation, and R, G, and R that realize the desired color picture element arrangement shown in FIG.
The B formation position data and the R, G, B adhesion amount data and the like which define how much each color material is supplied to each of the R, G, B positions are stored. The R, G, and B adhesion amount data can be specified for each color, or can be specified in relation to the coordinate position on the mother board 12.

【0093】色絵素形成用のインクジェット装置16に
関するCPU69は、R,G,B形成位置データ及び
R,G,B付着量データに基づいて、インクジェットヘ
ッド22の主走査中に複数のノズル27のいずれから、
いずれのタイミングでインク、すなわち色絵素材料を吐
出するかを演算する。
The CPU 69 relating to the ink jet device 16 for forming a color picture element determines which of the plurality of nozzles 27 during the main scanning of the ink jet head 22 based on the R, G, B formation position data and the R, G, B adhesion amount data. From
At which timing the ink, that is, the color picture element material is ejected, is calculated.

【0094】他方、保護膜形成工程P4で使用されるイ
ンクジェット装置16に備えられる図11のメモリ71
には、色絵素形成工程P3で使用されるインクジェット
装置16の場合と同様に、保護膜形成の全般の手順を規
制するプログラムソフトと、図4の希望する色絵素配列
を実現するR,G,B形成位置データと、R,G,Bの
各位置に各色材料をどのくらいの量で供給するかを規定
するR,G,B付着量データ等が記憶される。
On the other hand, the memory 71 shown in FIG. 11 provided in the ink jet device 16 used in the protection film forming step P4.
As in the case of the ink jet device 16 used in the color picture element formation step P3, there are program software for regulating the overall procedure of forming the protective film, and R, G, and R for realizing the desired color picture element arrangement shown in FIG. The B formation position data and the R, G, B adhesion amount data and the like which define how much each color material is supplied to each of the R, G, B positions are stored.

【0095】保護膜形成用のインクジェット装置16に
関するCPU69は、R,G,B形成位置データ及び
R,G,B付着量データに基づいて、インクジェットヘ
ッド22の主走査中に複数のノズル27のいずれから、
いずれのタイミングでインク、すなわち保護膜材料を吐
出するかを演算する。例えば、図3(a)に示すよう
に、保護膜4の頂面とバンク5の頂面とをほぼ等しくす
るように保護膜材料の吐出量を決める場合を考えれば、
CPU69はバンク5によって形成される格子状穴の容
積から色絵素3の容積を減算した容積を保護膜材料の吐
出量として算出する。
The CPU 69 for the ink jet device 16 for forming the protective film determines which of the plurality of nozzles 27 during the main scan of the ink jet head 22 based on the R, G, B formation position data and the R, G, B adhesion amount data. From
At which timing the ink, that is, the protective film material is ejected, is calculated. For example, as shown in FIG. 3A, when the discharge amount of the protective film material is determined so that the top surface of the protective film 4 and the top surface of the bank 5 are almost equal,
The CPU 69 calculates the volume obtained by subtracting the volume of the color picture element 3 from the volume of the lattice holes formed by the banks 5 as the discharge amount of the protective film material.

【0096】もちろん、保護膜形成用のインクジェット
装置16のためのメモリ71として、R,G,B付着量
データを記憶しておくことに代えて、R,G,Bの個々
の色絵素に対応させて具体的にどのくらいの量の保護膜
を吐出するかを直接的に記憶しておくことも可能であ
る。
Of course, instead of storing the R, G, and B adhesion amount data as the memory 71 for the ink-jet device 16 for forming the protective film, the memory 71 corresponds to each of the R, G, and B color picture elements. It is also possible to directly memorize the specific amount of the protective film to be discharged.

【0097】図11のCPU69は、メモリ71内に記
憶されたプログラムソフトに従って、マザー基材12の
表面の所定位置にインク、すなわち色絵素材料又は保護
膜材料を吐出するための制御を行うものであり、具体的
な機能実現部として、クリーニング処理を実現するため
の演算を行うクリーニング演算部と、キャッピング処理
を実現するためのキャッピング演算部と、電子天秤78
(図6参照)を用いた重量測定を実現するための演算を
行う重量測定演算部と、インクジェットによって色絵素
材料又は保護膜材料を描画するための演算を行う描画演
算部とを有する。
The CPU 69 in FIG. 11 performs control for discharging ink, that is, a color picture element material or a protective film material, to a predetermined position on the surface of the mother base material 12 in accordance with program software stored in the memory 71. Yes, as specific function realizing units, a cleaning calculating unit for performing a calculation for realizing a cleaning process, a capping calculating unit for performing a capping process, and an electronic balance 78
It has a weight measurement operation unit that performs an operation for realizing weight measurement using (see FIG. 6) and a drawing operation unit that performs an operation for drawing a color picture element material or a protective film material by inkjet.

【0098】また、描画演算部を詳しく分割すれば、イ
ンクジェットヘッド22を描画のための初期位置へセッ
トするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘ
ッド22を主走査方向Xへ所定の速度で走査移動させる
ための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基材
12を副走査方向Yへ所定の副走査量だけずらせるため
の制御を演算する副走査制御演算部と、そして、インク
ジェットヘッド22内の複数のノズル27のうちのいず
れを、どのタイミングで作動させてインクすなわち色絵
素材料又は保護膜材料を吐出するかを制御するための演
算を行うノズル吐出制御演算部等といった各種の機能演
算部を有する。
Further, if the drawing calculation section is divided in detail, a drawing start position calculation section for setting the ink jet head 22 to the initial position for drawing, and the ink jet head 22 can be scanned at a predetermined speed in the main scanning direction X. A main-scan control arithmetic unit for calculating control for moving, a sub-scan control arithmetic unit for calculating control for shifting the mother substrate 12 by a predetermined sub-scan amount in the sub-scan direction Y, and an inkjet head Various functions such as a nozzle discharge control calculation unit that performs a calculation for controlling which of the plurality of nozzles 27 in the nozzle 22 is to be operated at which timing to discharge the ink, that is, the color picture element material or the protective film material. It has a calculation unit.

【0099】なお、本実施形態では、上記の各機能をC
PU69を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がCPUを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
In this embodiment, each of the above functions is implemented by C
Although the software is realized by using the PU 69, when each of the above functions can be realized by a single electronic circuit without using the CPU, such an electronic circuit can be used.

【0100】以下、上記構成から成るインクジェット装
置16の動作を図12に示すフローチャートに基づいて
説明する。
Hereinafter, the operation of the ink jet apparatus 16 having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0101】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置16が作動すると、まず、ステップS1に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット26や基板供給装置23やコントロール装置24等
が予め決められた初期状態にセットされる。
When the ink-jet device 16 is operated by turning on the power supply by the operator, first, in step S1, initialization is executed. Specifically, the head unit 26, the substrate supply device 23, the control device 24, and the like are set to a predetermined initial state.

【0102】次に、重量測定タイミングが到来すれば
(ステップS2でYES)、図7のヘッドユニット26
を主走査駆動装置19によって図6の電子天秤78の所
まで移動させて(ステップS3)、ノズル27から吐出
されるインクの量を電子天秤78を用いて測定する(ス
テップS4)。そして、個々のノズル27のインク吐出
特性に合わせて、各ノズル27に対応する圧電素子41
に印加する電圧を調節する(ステップS5)。
Next, when the weight measurement timing comes (YES in step S2), the head unit 26 shown in FIG.
Is moved to the position of the electronic balance 78 in FIG. 6 by the main scanning drive device 19 (step S3), and the amount of ink ejected from the nozzle 27 is measured using the electronic balance 78 (step S4). The piezoelectric elements 41 corresponding to the respective nozzles 27 are adjusted in accordance with the ink ejection characteristics of the individual nozzles 27.
Is adjusted (step S5).

【0103】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば(ステップS6でYES)、ヘッドユニット26を主
走査駆動装置19によってクリーニング装置77の所ま
で移動させて(ステップS7)、そのクリーニング装置
77によってインクジェットヘッド22をクリーニング
する(ステップS8)。
Next, when the cleaning timing comes (YES in step S6), the head unit 26 is moved to the cleaning device 77 by the main scanning drive device 19 (step S7), and the ink jet head is moved by the cleaning device 77. 22 is cleaned (step S8).

【0104】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合(ステップS2及びS6でN
O)、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップS9において、図6の基板供給装置23を作動させ
てマザー基材12をテーブル49へ供給する。具体的に
は、基板収容部57内のマザー基材12を吸着パッド6
4によって吸引保持し、次に、昇降軸61、第1アーム
62及び第2アーム63を移動させてマザー基材12を
テーブル49まで搬送し、さらにテーブル49の適所に
予め設けてある位置決めピン50(図7参照)に押し付
ける。なお、テーブル49上におけるマザー基材12の
位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマ
ザー基材12をテーブル49に固定することが望まし
い。
When the weight measurement timing or the cleaning timing has not arrived (N in steps S2 and S6)
O) Or, when those processes are completed, the motherboard 12 is supplied to the table 49 by operating the substrate supply device 23 in FIG. Specifically, the mother base material 12 in the substrate accommodation portion 57 is
Then, the mother base material 12 is transported to the table 49 by moving the elevating shaft 61, the first arm 62 and the second arm 63, and the positioning pins 50 provided at appropriate places on the table 49 are provided in advance. (See FIG. 7). In order to prevent the mother substrate 12 from being displaced on the table 49, it is desirable to fix the mother substrate 12 to the table 49 by means such as air suction.

【0105】次に、図6の基板用カメラ82によってマ
ザー基材12を観察しながら、図7のθモータ51の出
力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル4
9を微小角度単位で面内回転させてマザー基材12を位
置決めする(ステップS10)。次に、図6のヘッド用
カメラ81によってマザー基材12を観察しながらイン
クジェットヘッド22によって描画を開始する位置を演
算によって決定し(ステップS11)、そして、主走査
駆動装置19及び副走査駆動装置21を適宜に作動させ
てインクジェットヘッド22を描画開始位置へ移動する
(ステップS12)。このとき、インクジェットヘッド
22は、図13に示すように、各ヘッド部20のノズル
列28の延在方向Zが主走査方向Xと直角の方向となる
ようにセットされる。
Next, while observing the mother base material 12 with the board camera 82 of FIG. 6, the output shaft of the θ motor 51 of FIG.
The mother substrate 12 is positioned by rotating the substrate 9 in a plane by a minute angle (step S10). Next, while observing the mother substrate 12 with the head camera 81 of FIG. 6, the position at which drawing is started by the inkjet head 22 is determined by calculation (step S11), and the main scanning driving device 19 and the sub-scanning driving device are determined. The inkjet head 22 is moved to the drawing start position by appropriately operating 21 (step S12). At this time, the inkjet head 22 is set such that the extending direction Z of the nozzle row 28 of each head unit 20 is perpendicular to the main scanning direction X, as shown in FIG.

【0106】図12のステップS12でインクジェット
ヘッド22が描画開始位置に置かれると、その後、ステ
ップS13でX方向への主走査が開始され、同時にイン
クの吐出が開始される。具体的には、図7の主走査駆動
装置19が作動してインクジェットヘッド22が図13
の主走査方向Xへ一定の速度で直線的に走査移動し、そ
の移動中、色絵素材料又は保護膜材料を吐出すべき領域
にノズル27が到達したときにそのノズル27からイン
クすなわち色絵素材料又は保護膜材料が吐出されて該領
域が埋められる。
When the ink jet head 22 is placed at the drawing start position in step S12 in FIG. 12, thereafter, in step S13, main scanning in the X direction is started, and at the same time, ink ejection is started. More specifically, the main scanning drive device 19 shown in FIG.
Scans linearly in the main scanning direction X at a constant speed, and during the movement, when the nozzle 27 reaches a region where the color picture element material or the protective film material is to be ejected, ink from the nozzle 27, that is, the color picture element material Alternatively, the protective film material is discharged to fill the area.

【0107】例えば、図5の色絵素形成工程P3を考え
れば、図3(a)においてR色絵素3Rの吐出量をV
、G色絵素3Gの吐出量をV 、B色絵素3Bの吐出
量をV としたとき、 V >V >V … … (1) の吐出量で各色絵素がそれぞれの色に対応したインクジ
ェット装置16を用いて形成される。
[0107] For example, given the color pixels forming step P3 in FIG. 5, V the discharge amount of the R color pixels 3R in Fig 3 (a) R
, The discharge amount of the G color picture element 3G is V G , and the discharge amount of the B color picture element 3B is V B , where V G > V R > V B. Is formed using an ink jet device 16 corresponding to.

【0108】他方、図5の保護膜形成工程P4を考えた
とき、既に上式(1)の状態で図3(a)に示すように
各色絵素3が形成されているものとすると、 B用保護膜材料>R用保護膜材料>G用保護膜材料 … … (2) の吐出量で保護膜4が1つのインクジェット装置16を
用いて形成される。図13(b)は上式(2)を満足す
るようにドット状の保護膜材料Mを各色絵素3R,3
G,3Bの量に適した量でそれらの上に吐出する状態を
示している。なお、このとき、図3(a)に示すよう
に、複数の隔壁15の間にも保護膜材料が液滴として供
給される。
On the other hand, considering the protective film forming step P4 in FIG. 5, if each of the color picture elements 3 is already formed as shown in FIG. Protective film material for R> Protective film material for R> Protective film material for G The protective film 4 is formed using one ink jet device 16 with the discharge amount of (2). FIG. 13B shows that the dot-shaped protective film material M is applied to each color picture element 3R, 3R so as to satisfy the above equation (2).
A state is shown in which the ink is discharged onto them in amounts suitable for the amounts of G and 3B. At this time, as shown in FIG. 3A, the protective film material is also supplied between the plurality of partition walls 15 as droplets.

【0109】図13において、インクジェットヘッド2
2がマザー基材12に対する1回の主走査を終了すると
(ステップS14でYES)、そのインクジェットヘッ
ド22は反転移動して初期位置へ復帰する(ステップS
15)。そしてさらに、インクジェットヘッド22は、
副走査駆動装置21によって駆動されて副走査方向Yへ
予め決められた副走査量、例えば、1個のヘッド部20
に属するノズル列28の1列分の長さ又はその整数倍だ
け移動する(ステップS16)。そして次に、主走査及
びインク吐出が繰り返して行われて、未だ色絵素3又は
保護膜4が形成されていない領域に色絵素3又は保護膜
4が形成される(ステップS13)。
In FIG. 13, the ink jet head 2
2 completes one main scan on the mother substrate 12 (YES in step S14), the inkjet head 22 reversely moves and returns to the initial position (step S14).
15). And further, the inkjet head 22
A predetermined sub-scanning amount in the sub-scanning direction Y driven by the sub-scanning driving device 21, for example, one head unit 20
(Step S16). Then, the main scanning and the ink ejection are repeatedly performed, and the color picture element 3 or the protection film 4 is formed in a region where the color picture element 3 or the protection film 4 has not been formed yet (step S13).

【0110】以上のようなインクジェットヘッド22に
よる色絵素3又は保護膜4の描画作業がマザー基材12
の全領域に対して完了すると(ステップS17でYE
S)、ステップS18で基板供給装置23によって又は
別の搬送機器によって、処理後のマザー基材12が外部
へ排出される。その後、オペレータによって処理終了の
指示がなされない限り(ステップS19でNO)、ステ
ップS2へ戻って別のマザー基材12に対する保護膜材
料の吐着作業を繰り返して行う。
The drawing operation of the color picture element 3 or the protective film 4 by the ink jet head 22 as described above is performed by the mother substrate 12.
Is completed for all areas (YE in step S17).
S), the processed mother substrate 12 is discharged to the outside by the substrate supply device 23 or another transport device in step S18. Thereafter, unless an operator gives an instruction to end the process (NO in step S19), the process returns to step S2, and the operation of depositing the protective film material on another mother substrate 12 is repeated.

【0111】オペレータから作業終了の指示があると
(ステップS19でYES)、CPU69は図6におい
てインクジェットヘッド22をキャッピング装置76の
所まで搬送して、そのキャッピング装置76によってイ
ンクジェットヘッド22に対してキャッピング処理を施
す(ステップS20)。
When the operator gives an instruction to end the work (YES in step S19), the CPU 69 conveys the ink jet head 22 to the capping device 76 in FIG. 6, and the capping device 76 caps the ink jet head 22. Processing is performed (step S20).

【0112】以上により、カラーフィルタ基板1を構成
する各色絵素3についてのパターニング又は保護膜4に
ついてのパターニングが終了する。保護膜4についての
パターニングが終了すれば、ストライプ配列等といった
希望のR,G,Bのドット配列を有するカラーフィルタ
基板1(図1(a))が複数個形成されたマザー基材1
2が製造される。このマザー基材12をカラーフィルタ
形成領域11ごとに切断することにより、1個のカラー
フィルタ基板1が複数個切り出される。
As described above, the patterning of each color picture element 3 constituting the color filter substrate 1 or the patterning of the protective film 4 is completed. When the patterning of the protective film 4 is completed, a mother substrate 1 on which a plurality of color filter substrates 1 (FIG. 1A) having a desired R, G, B dot arrangement such as a stripe arrangement is formed.
2 is manufactured. By cutting the mother substrate 12 for each color filter forming area 11, a plurality of one color filter substrates 1 are cut out.

【0113】なお、本カラーフィルタ基板1を液晶装置
のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフ
ィルタ基板1の表面にはさらに電極や配向膜等がさらに
積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜
等を積層する前にマザー基材12を切断して個々のカラ
ーフィルタ基板1を切り出してしまうと、その後の電極
等の形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような
場合には、マザー基材12上でカラーフィルタ基板1が
完成した後に、直ぐにマザー基材12を切断してしまう
のではなく、電極形成や配向膜形成等といった必要な付
加工程が終了した後にマザー基材12を切断することが
望ましい。
If the present color filter substrate 1 is used for color display of a liquid crystal device, electrodes, alignment films and the like are further laminated on the surface of the present color filter substrate 1. In such a case, if the mother substrate 12 is cut off before laminating the electrodes, the alignment films and the like, and the individual color filter substrates 1 are cut out, the subsequent steps of forming the electrodes and the like become very troublesome. Therefore, in such a case, after the color filter substrate 1 is completed on the mother substrate 12, the mother substrate 12 is not cut immediately, but necessary additional steps such as electrode formation and alignment film formation are performed. It is desirable to cut the mother substrate 12 after the completion of the above.

【0114】以上のように本実施形態に係るカラーフィ
ルタ基板及びその製造方法によれば、図3(a)におい
て、複数の色絵素3の上に供給された保護膜4の材料は
複数の隔壁15同士の間にも入り込む。このとき、隔壁
15は保護膜4の材料が色絵素3の形成領域の外側へ広
く流れ出ることを防止し、これにより、保護膜4はその
外縁が色絵素形成領域Sの外縁に対してばらつくことな
く均一な距離だけ離れた所に止まるように形成される。
この結果、例えば、保護膜4がシール材の下に入り込ん
でシール材のシール性が劣化する等といった不都合を回
避できる。
As described above, according to the color filter substrate and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, in FIG. 3A, the material of the protective film 4 supplied on the plurality of color picture elements 3 includes the plurality of partition walls. It also enters between the fifteen. At this time, the partition wall 15 prevents the material of the protective film 4 from widely flowing out of the region where the color picture element 3 is formed, whereby the outer edge of the protective film 4 varies with the outer edge of the color picture element forming area S. Instead, it is formed so as to stop at a uniform distance.
As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film 4 enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【0115】(第2実施形態)図3(b)は本発明に係
るカラーフィルタ基板の他の実施形態の主要部の断面を
示している。この図は、上述した実施形態のカラーフィ
ルタ基板における図3(a)に相当する構造を示してい
る。
(Second Embodiment) FIG. 3B shows a cross section of a main part of another embodiment of the color filter substrate according to the present invention. This figure shows a structure corresponding to FIG. 3A in the color filter substrate of the embodiment described above.

【0116】本実施形態のカラーフィルタ基板1が図3
(a)に示した実施形態と異なる点は、保護膜4の頂面
とバンク5の頂面とが等しい高さに設定されるのではな
く、保護膜4の頂面の方がバンク5の頂面よりも高い構
造、すなわち保護膜4がバンク5及び色絵素3の全てを
覆う構造になっていることである。
The color filter substrate 1 of the present embodiment is shown in FIG.
The difference from the embodiment shown in FIG. 7A is that the top surface of the protection film 4 and the top surface of the bank 5 are not set to the same height, but the top surface of the protection film 4 is This is a structure higher than the top surface, that is, a structure in which the protective film 4 covers all the banks 5 and the color picture elements 3.

【0117】この構造のカラーフィルタ基板1が図5に
示した製造方法によって形成できることは図3(a)の
実施形態の場合と同じである。また、その製造方法にお
ける色絵素形成工程P3及び保護膜形成工程P4の両方
をインクジェット法に基づく成膜方法によって達成でき
ることも同じである。但し、保護膜形成工程P4におい
てノズル27から吐出する保護膜材料の量は図3(b)
の実施形態の方が図3(a)の実施形態の場合よりも多
くなると考えられる。
The fact that the color filter substrate 1 having this structure can be formed by the manufacturing method shown in FIG. 5 is the same as that in the embodiment of FIG. 3A. It is also the same that both the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4 in the manufacturing method can be achieved by a film forming method based on an ink jet method. However, the amount of the protective film material discharged from the nozzle 27 in the protective film forming step P4 is shown in FIG.
It is considered that the number of the embodiments is larger than that of the embodiment of FIG.

【0118】本実施形態の場合でも、色絵素形成領域S
の外縁部には保護膜4が、シール材形成領域Uに到達す
るまでに大きく広がることなく、緩やかなテーパ状に傾
斜して形成される。従って、シール材のシール性が保護
膜4によって損なわれたり、カラーフィルタ基板1の表
面に形成される電極が色絵素形成領域Sの外縁部分にお
いて切断したりすることを確実に防止できる。
Also in the case of the present embodiment, the color picture element forming area S
The protective film 4 is formed on the outer edge portion of the outer peripheral portion of the protective film 4 so as not to be greatly expanded before reaching the seal material forming region U, but to be inclined in a gentle taper shape. Therefore, it is possible to reliably prevent the sealing property of the sealing material from being impaired by the protective film 4 and the electrode formed on the surface of the color filter substrate 1 from being cut at the outer edge of the color picture element forming region S.

【0119】(第3実施形態)図9は、図8(b)に示
すヘッド部20の改変例を示している。図8(b)に示
したヘッド部20においては、ノズル列28が主走査方
向Xに関して1列だけ設けられた。これに代えて、図9
に示すヘッド部20ではノズル列28が主走査方向Xに
関して複数列、本実施形態では2列設けられている。こ
のヘッド部20を用いれば、図8(a)のキャリッジ2
5がX方向へ主走査するときに、その主走査方向Xに並
んだ2個のノズル27によってインクを吐出できるの
で、色絵素材料及び保護膜材料の吐出量の制御の仕方を
多用化できる。
(Third Embodiment) FIG. 9 shows a modification of the head section 20 shown in FIG. 8B. In the head section 20 shown in FIG. 8B, only one nozzle row 28 is provided in the main scanning direction X. Instead of this, FIG.
In the head unit 20 shown in FIG. 2, a plurality of nozzle rows 28 are provided in the main scanning direction X, and two nozzle rows are provided in the present embodiment. If this head unit 20 is used, the carriage 2 shown in FIG.
Since the ink can be ejected by the two nozzles 27 arranged in the main scanning direction X when the main scanning 5 is performed in the X direction, the method of controlling the ejection amounts of the color picture element material and the protective film material can be increased.

【0120】(第4実施形態)図14は本発明に係るカ
ラーフィルタ基板の製造方法の他の実施形態の主要工程
を示しており、この工程は既に説明した先の実施形態に
おける図13で示した工程に代えて行われる。なお、本
実施形態に係る製造方法によって製造するカラーフィル
タ基板は図3(a)及び(b)に符号“1”で示すカラ
ーフィルタ基板とすることができる。また、カラーフィ
ルタ基板1は、図1(b)に示すマザー基材12から切
り出すことにより形成できる。
(Fourth Embodiment) FIG. 14 shows the main steps of another embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention. This step is shown in FIG. 13 in the previously described embodiment. Performed in place of the above steps. Note that the color filter substrate manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment can be a color filter substrate indicated by reference numeral “1” in FIGS. 3A and 3B. Further, the color filter substrate 1 can be formed by cutting out the mother base material 12 shown in FIG.

【0121】また、カラーフィルタ基板1に形成する色
絵素の配列は図4に示すストライプ配列等のような各種
配列とすることができる。また、カラーフィルタ基板1
を形成するための工程は、図5に工程P1〜P4で示す
工程を採用できる。また、色絵素形成工程P3及び保護
膜形成工程P4において使用するインクジェット装置は
図6に示す構造の装置を採用できる。
The arrangement of the color picture elements formed on the color filter substrate 1 can be various arrangements such as the stripe arrangement shown in FIG. Also, the color filter substrate 1
Can be employed as steps P1 to P4 in FIG. Further, as the ink jet device used in the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4, an apparatus having a structure shown in FIG. 6 can be employed.

【0122】図14に示す実施形態が先の実施形態と異
なる点は、図13と比較すれば明らかなように、インク
ジェットヘッド22をマザー基材12に対する初期位置
すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ25
の全体が副走査方向Yに対して角度θで傾斜することに
より、6個のノズル列28の延在方向Zが副走査方向Y
に対して角度θで傾斜することである。
The difference between the embodiment shown in FIG. 14 and the previous embodiment is that, when the ink jet head 22 is placed at the initial position with respect to the mother substrate 12, that is, the main scanning start position, as apparent from comparison with FIG. , Carriage 25
Are inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, so that the extending direction Z of the six nozzle rows 28 is
With respect to the angle θ.

【0123】本実施形態の構成によれば、各ヘッド部2
0は副走査方向Yに対して角度θの傾斜状態でX方向へ
主走査を行うので、各ヘッド部20に属する複数のノズ
ル27のノズル間ピッチをマザー基材12上の色絵素形
成領域の間隔及び保護膜形成領域の間隔、すなわちエレ
メント間ピッチに一致させることができる。このように
ノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何学的に一
致させれば、ノズル列28を副走査方向Yに関して位置
制御する必要がなくなるので好都合である。
According to the structure of this embodiment, each head 2
0 performs the main scanning in the X direction at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, so that the nozzle pitch of the plurality of nozzles 27 belonging to each head unit 20 is set to The interval and the interval between the protective film forming regions, that is, the pitch between the elements can be made to match. If the pitch between the nozzles and the pitch between the elements are geometrically matched in this manner, the position of the nozzle row 28 need not be controlled in the sub-scanning direction Y, which is advantageous.

【0124】(第5実施形態)図15は本発明に係るカ
ラーフィルタ基板の製造方法のさらに他の実施形態の主
要工程を示しており、この工程も既に説明した先の実施
形態における図13で示した工程に代えて行われる。な
お、本実施形態に係る製造方法によって製造するカラー
フィルタ基板は図3(a)及び(b)に符号“1”で示
すカラーフィルタ基板とすることができる。また、カラ
ーフィルタ基板1は、図1(b)に示すマザー基材12
から切り出すことにより形成できる。
(Fifth Embodiment) FIG. 15 shows the main steps of still another embodiment of the method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention. This step is also the same as that of FIG. It is performed instead of the steps shown. Note that the color filter substrate manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment can be a color filter substrate indicated by reference numeral “1” in FIGS. 3A and 3B. Further, the color filter substrate 1 is made of a mother substrate 12 shown in FIG.
It can be formed by cutting out from.

【0125】また、カラーフィルタ基板1に形成する色
絵素の配列は図4に示すストライプ配列等のような各種
配列とすることができる。また、カラーフィルタ基板1
を形成するための工程は、図5に工程P1〜P4で示す
工程を採用できる。また、色絵素形成工程P3及び保護
膜形成工程P4において使用するインクジェット装置は
図6に示す構造の装置を採用できる。
The arrangement of the color picture elements formed on the color filter substrate 1 can be various arrangements such as the stripe arrangement shown in FIG. Also, the color filter substrate 1
Can be employed as steps P1 to P4 in FIG. Further, as the ink jet device used in the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4, an apparatus having a structure shown in FIG. 6 can be employed.

【0126】図15に示す実施形態が先の実施形態と異
なる点は、図13と比較すれば明らかなように、インク
ジェットヘッド22をマザー基材12に対する初期位置
すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ25
の全体は副走査方向Yに対して傾斜することはないが、
6個のヘッド部20が個々に副走査方向Yに対して角度
θで傾斜することにより、各ノズル列28の延在方向Z
が副走査方向Yに対して角度θで傾斜することである。
The difference between the embodiment shown in FIG. 15 and the previous embodiment is that, when the ink jet head 22 is placed at the initial position with respect to the mother substrate 12, that is, at the main scanning start position, as apparent from comparison with FIG. , Carriage 25
Does not tilt with respect to the sub-scanning direction Y,
Since the six head units 20 are individually inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, the extending direction Z of each nozzle row 28 is
Is inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y.

【0127】本実施形態の構成によれば、各ノズル列2
8は副走査方向Yに対して角度θの傾斜状態でX方向へ
主走査を行うので、各ノズル列28に属する複数のノズ
ル27のノズル間ピッチをマザー基材12上の色絵素形
成領域の間隔及び保護膜形成領域の間隔、すなわちエレ
メント間ピッチに一致させることができる。このように
ノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何学的に一
致させれば、ノズル列28を副走査方向Yに関して位置
制御する必要がなくなるので好都合である。
According to the configuration of this embodiment, each nozzle row 2
8 performs main scanning in the X direction at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, so that the nozzle pitch of the plurality of nozzles 27 belonging to each nozzle row 28 is The interval and the interval between the protective film forming regions, that is, the pitch between the elements can be made to match. If the pitch between the nozzles and the pitch between the elements are geometrically matched in this manner, the position of the nozzle row 28 need not be controlled in the sub-scanning direction Y, which is advantageous.

【0128】また、本実施形態では図14のようにキャ
リッジ25の全体を傾斜させるのではなくて、個々のヘ
ッド部20を傾斜させるようにしてあるので、吐出対象
物であるマザー基材12に最も近いノズル27から最も
遠いノズル27までの距離が図14の場合に比べて著し
く小さくでき、それ故、X方向への主走査の時間を短縮
化できる。これにより、カラーフィルタ基板の製造時間
を短縮できる。
Further, in the present embodiment, the individual head portions 20 are inclined instead of inclining the entire carriage 25 as shown in FIG. The distance from the nearest nozzle 27 to the farthest nozzle 27 can be significantly reduced as compared with the case of FIG. 14, and therefore, the time of the main scanning in the X direction can be shortened. Thereby, the manufacturing time of the color filter substrate can be reduced.

【0129】(第6実施形態)図16(a)は本発明に
係るカラーフィルタ基板の他の実施形態を示している。
また、図17(b)は図16(a)において矢印IVで
示す部分を拡大して示している。また、図18(a)は
図17(b)におけるV−V線に従った断面構造を示し
ている。
(Sixth Embodiment) FIG. 16A shows another embodiment of the color filter substrate according to the present invention.
FIG. 17B is an enlarged view of a portion indicated by an arrow IV in FIG. FIG. 18A shows a cross-sectional structure taken along line VV in FIG. 17B.

【0130】ここに示すカラーフィルタ基板1は、図1
(a)に示したカラーフィルタ基板1と同様に、大面積
のマザー基材12内に設定された複数のカラーフィルタ
形成領域11内に必要なパターンを形成した後に、個々
のカラーフィルタ形成領域11を切断することによって
形成される。
The color filter substrate 1 shown in FIG.
As in the case of the color filter substrate 1 shown in (a), after forming necessary patterns in a plurality of color filter formation regions 11 set in a large-area mother substrate 12, individual color filter formation regions 11 are formed. Formed by cutting

【0131】図1(a)に示した先の実施形態では、図
3(a)に示したように、基材2上に形成されたバンク
5によって区画された領域に各色絵素3R,3G,3B
をインクジェット法によって供給した。これに対し、図
18(a)に示す本実施形態のカラーフィルタ基板1で
は、バンクは形成されず、各色絵素3R,3G,3Bが
周知のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法
によって互いに間隔を開けて所定の配列、例えば図4に
示すような各種の配列に形成される。そして、上記の各
色絵素3R,3G,3Bのパターニングの際に色絵素形
成領域Sの外縁部に複数の隔壁15が同時にパターニン
グされる。
In the previous embodiment shown in FIG. 1A, as shown in FIG. 3A, each of the color picture elements 3R and 3G is placed in a region defined by the bank 5 formed on the base material 2. , 3B
Was supplied by an inkjet method. On the other hand, in the color filter substrate 1 of this embodiment shown in FIG. 18A, no banks are formed, and the respective color picture elements 3R, 3G, 3B are spaced apart from each other by a known patterning method, for example, a photolithography method. To a predetermined arrangement, for example, various arrangements as shown in FIG. Then, at the time of patterning the color picture elements 3R, 3G, and 3B, a plurality of partition walls 15 are simultaneously patterned on the outer edge of the color picture element formation region S.

【0132】そしてその後、各色絵素3R,3G,3B
の間及び隔壁15同士の間に、例えば図17(a)に示
すように、インクジェット法によって液滴状すなわちド
ット状の保護膜材料10を供給し、さらに焼成処理又は
紫外線照射処理等を施す。これにより、図17(b)に
示すように、各色絵素3R,3G,3Bの間及び隔壁1
5同士の間に保護膜4が形成される。
Thereafter, each of the color picture elements 3R, 3G, 3B
For example, as shown in FIG. 17A, a droplet-shaped, ie, dot-shaped, protective film material 10 is supplied by an ink-jet method, and a baking treatment or an ultraviolet irradiation treatment is performed between the gaps and between the partition walls 15. Thereby, as shown in FIG. 17 (b), the space between the color picture elements 3R, 3G, 3B and the partition 1
The protective film 4 is formed between the layers 5.

【0133】本実施形態の場合でも、色絵素形成領域S
の外縁部に隔壁15を設けたので、該色絵素形成領域S
の外縁部には保護膜4が、シール材形成領域Uに到達す
るまでに大きく広がることなく、緩やかなテーパ状に傾
斜して形成される。従って、シール材のシール性が保護
膜4によって損なわれたり、カラーフィルタ基板1の表
面に形成される電極13が色絵素形成領域Sの外縁部分
において切断したりすることを確実に防止できる。
Even in the case of the present embodiment, the color picture element forming area S
Of the color picture element forming region S
The protective film 4 is formed on the outer edge portion of the outer peripheral portion of the protective film 4 so as not to be greatly expanded before reaching the seal material forming region U, but to be inclined in a gentle taper shape. Accordingly, it is possible to reliably prevent the sealing property of the sealing material from being impaired by the protective film 4 and the electrode 13 formed on the surface of the color filter substrate 1 from being cut at the outer edge of the color picture element forming region S.

【0134】図18(b)は図18(a)の実施形態の
改変例を示している。図18(a)に示した実施形態で
は保護膜4の頂面と各色絵素3の頂面とが等しく設定さ
れたが、図18(b)に示す実施形態では保護膜4の頂
面が各色絵素3の頂面よりも高く、すなわち保護膜4が
各色絵素3の全てを覆うようになっている。この場合に
は、保護膜4はスピンコートによっても形成できる。
FIG. 18 (b) shows a modification of the embodiment of FIG. 18 (a). In the embodiment shown in FIG. 18A, the top surface of the protective film 4 and the top surface of each color picture element 3 are set to be equal, but in the embodiment shown in FIG. The height is higher than the top surface of each color picture element 3, that is, the protective film 4 covers all of the color picture elements 3. In this case, the protective film 4 can also be formed by spin coating.

【0135】(第7実施形態)図19は本発明に係る液
晶装置の一実施形態を示している。また、図20は図1
9におけるX−X線に従った液晶装置の断面構造を示し
ている。なお、本実施形態の液晶装置は、単純マトリク
ス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装
置である。
(Seventh Embodiment) FIG. 19 shows an embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. FIG. 20 shows FIG.
9 illustrates a cross-sectional structure of the liquid crystal device taken along line XX in FIG. The liquid crystal device of the present embodiment is a transflective liquid crystal device that performs full-color display by a simple matrix method.

【0136】図19において、液晶装置101は、液晶
パネル102に半導体チップとしての液晶駆動用IC1
03a及び103bを実装し、配線接続要素としてのF
PC(Flexible Printed Circuit)104を液晶パネル
102に接続し、さらに液晶パネル102の裏面側に照
明装置106をバックライトとして設けることによって
形成される。
In FIG. 19, a liquid crystal device 101 includes a liquid crystal panel 102 on which a liquid crystal driving IC 1 as a semiconductor chip is mounted.
03a and 103b are mounted, and F
It is formed by connecting a PC (Flexible Printed Circuit) 104 to the liquid crystal panel 102 and providing an illumination device 106 as a backlight on the back side of the liquid crystal panel 102.

【0137】液晶パネル102は、第1基板107aと
第2基板107bとをシール材108によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材108は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第1基
板107a又は第2基板107bの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材10
8の内部には図20に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材109が分散状態で
含まれる。
The liquid crystal panel 102 is formed by bonding a first substrate 107a and a second substrate 107b with a sealing material. The sealing material 108 is formed by, for example, attaching an epoxy resin in an annular shape to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b by screen printing or the like. In addition, the sealing material 10
As shown in FIG. 20, a conductive material 109 formed in a spherical or cylindrical shape by a conductive material is included in the inside of the conductor 8 in a dispersed state.

【0138】図20において、第1基板107aは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111aを有する。この基材111aの内側
表面(図20の上側表面)には反射膜112が形成さ
れ、その上に絶縁膜113が積層され、その上に第1電
極114aが矢印D方向から見てストライプ状(図19
参照)に形成され、さらにその上に配向膜116aが形
成される。また、基材111aの外側表面(図20の下
側表面)には偏光板117aが貼着等によって装着され
る。
In FIG. 20, the first substrate 107a has a plate-like substrate 111a formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A reflection film 112 is formed on the inner surface (upper surface in FIG. 20) of the base material 111a, an insulating film 113 is laminated thereon, and a first electrode 114a is formed thereon in a stripe shape as viewed in the direction of arrow D (see FIG. FIG.
), And an alignment film 116a is further formed thereon. Further, a polarizing plate 117a is attached to the outer surface (the lower surface in FIG. 20) of the base material 111a by sticking or the like.

【0139】図19では第1電極114aの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第1電極114aの
本数が少なく描かれているが、実際には、第1電極11
4aはより多数本が基材111a上に形成される。
In FIG. 19, in order to clearly show the arrangement of the first electrodes 114a, the interval between the stripes of the first electrodes 114a is drawn much wider than the actual one. Therefore, the number of the first electrodes 114a is reduced. In practice, the first electrode 11
As for 4a, a larger number are formed on the base material 111a.

【0140】図20において、第2基板107bは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111bを有する。この基材111bの内側
表面(図20の下側表面)にはカラーフィルタ118が
形成され、その上に第2電極114bが上記第1電極1
14aと直交する方向へ矢印D方向から見てストライプ
状(図19参照)に形成され、さらにその上に配向膜1
16bが形成される。また、基材111bの外側表面
(図20の上側表面)には偏光板117bが貼着等によ
って装着される。
In FIG. 20, the second substrate 107b has a plate-like substrate 111b formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A color filter 118 is formed on the inner surface (the lower surface in FIG. 20) of the base material 111b, and the second electrode 114b is provided thereon with the first electrode 1b.
14a, is formed in a stripe shape (see FIG. 19) in a direction perpendicular to the direction of arrow 14a when viewed from the direction of arrow D, and furthermore the alignment film 1
16b are formed. A polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 20) of the base material 111b by bonding or the like.

【0141】図19では、第2電極114bの配列を分
かりやすく示すために、第1電極114aの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第2電極114bの本数が少なく描
かれているが、実際には、第2電極114bはより多数
本が基材111b上に形成される。
In FIG. 19, in order to clearly show the arrangement of the second electrodes 114b, as in the case of the first electrodes 114a, the spacing between the stripes of the second electrodes 114b is drawn much wider than the actual one. Although the number of the second electrodes 114b is small, in practice, a larger number of the second electrodes 114b are formed on the base material 111b.

【0142】図20において、第1基板107a、第2
基板107b及びシール材108によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばSTN
(SuperTwisted Nematic)液晶Lが封入されている。第
1基板107a又は第2基板107bの内側表面には微
小で球形のスペーサ119が多数分散され、これらのス
ペーサ119がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
In FIG. 20, the first substrate 107a and the second
In a gap surrounded by the substrate 107b and the sealing material 108, a so-called cell gap, a liquid crystal such as STN
(SuperTwisted Nematic) Liquid crystal L is sealed. A large number of minute and spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the thickness of the cell gap is kept uniform by the presence of these spacers 119 in the cell gap. .

【0143】第1電極114aと第2電極114bは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図20の矢
印D方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が1つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ118は、R
(赤)、G(緑)、B(青)の各色要素を矢印D方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の1つの絵素ピクセルはそ
れらR,G,Bの各1つずつに対応しており、そして
R,G,Bの3色絵素ピクセルが1つのユニットになっ
て1画素が構成される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged orthogonally to each other, and their intersections are arranged in a dot matrix when viewed from the direction of arrow D in FIG. Then, each intersection in the dot matrix forms one picture element pixel. The color filter 118
It is formed by arranging each color element of (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern as viewed in the direction of arrow D, for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, and a mosaic arrangement. The one picture element pixel corresponds to each of R, G, and B, and the three-color picture element pixels of R, G, and B form one unit to constitute one pixel.

【0144】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル102の第2基板107bの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図19及び
図20において矢印Vによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
By selectively emitting light from a plurality of picture element pixels arranged in a dot matrix, that is, pixels, an image such as a character or a number is displayed on the outside of the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102. . The area in which an image is displayed in this way is the effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by the arrow V in FIGS. 19 and 20 is the effective display area.

【0145】図20において、反射膜112はAPC合
金、Al(アルミニウム)等といった光反射性材料によ
って形成され、第1電極114aと第2電極114bと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口1
21が形成されている。結果的に、開口121は図20
の矢印D方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
In FIG. 20, the reflection film 112 is formed of a light-reflective material such as an APC alloy or Al (aluminum), and is located at a position corresponding to each pixel, which is an intersection between the first electrode 114a and the second electrode 114b. Opening 1
21 are formed. As a result, the opening 121 is
, Are arranged in the same dot matrix as the picture element pixels.

【0146】第1電極114a及び第2電極114b
は、例えば、透明導電材であるITOによって形成され
る。また、配向膜116a及び116bは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜116a及び116bがラビ
ング処理を受けることにより、第1基板107a及び第
2基板107bの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b
Is formed of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by attaching a polyimide resin to a film having a uniform thickness. By subjecting these alignment films 116a and 116b to the rubbing treatment, the initial alignment of the liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.

【0147】図19において、第1基板107aは第2
基板107bよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材108によって貼り合わせたとき、第
1基板107aは第2基板107bの外側へ張り出す基
板張出し部107cを有する。そして、この基板張出し
部107cには、第1電極114aから延び出る引出し
配線114c、シール材108の内部に存在する導通材
109(図20参照)を介して第2基板107b上の第
2電極114bと導通する引出し配線114d、液晶駆
動用IC103aの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線114e、そして液晶駆動用IC
103bの入力用バンプに接続される金属配線114f
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
In FIG. 19, the first substrate 107a is
The first substrate 107a has a larger area than the substrate 107b, and the first substrate 107a has a substrate overhang portion 107c that extends outside the second substrate 107b when these substrates are bonded to each other with the sealant 108. The substrate extension 107c is connected to the second electrode 114b on the second substrate 107b via a lead wiring 114c extending from the first electrode 114a and a conductive material 109 (see FIG. 20) existing inside the sealing material 108. A wiring 114d that is electrically connected to the IC, a bump for input of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to an input terminal, and a liquid crystal driving IC.
Metal wiring 114f connected to input bump 103b
And the like are formed in an appropriate pattern.

【0148】本実施形態では、第1電極114aから延
びる引出し配線114c及び第2電極114bに導通す
る引出し配線114dはそれらの電極と同じ材料である
ITO、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側の配
線である金属配線114e及び114fは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばAPC合金によって形成される。
APC合金は、主としてAgを含み、付随してPd及び
Cuを含む合金、例えば、Ag98%、Pd1%、Cu
1%から成る合金である。
In this embodiment, the lead wiring 114c extending from the first electrode 114a and the lead wiring 114d conducting to the second electrode 114b are formed of ITO, that is, a conductive oxide, which is the same material as those electrodes. The metal wires 114e and 114f, which are wires on the input side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b, are formed of a metal material having a low electric resistance value, for example, an APC alloy.
APC alloys are alloys that mainly contain Ag and concomitantly contain Pd and Cu, for example, 98% Ag, 1% Pd, Cu
1% alloy.

【0149】液晶駆動用IC103a及び液晶駆動用I
C103bは、ACF(Anisotropic Conductive Fil
m:異方性導電膜)122によって基板張出し部107
cの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるCOG(Chip On Glass)方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このCOG方式の実装構造に
おいては、ACF122の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側バ
ンプと金属配線114e及び114fとが導電接続さ
れ、液晶駆動用IC103a及び103bの出力側バン
プと引出し配線114c及び114dとが導電接続され
る。
Liquid crystal driving IC 103a and liquid crystal driving IC
C103b is an ACF (Anisotropic Conductive Fil)
m: anisotropic conductive film) 122
It is mounted by being adhered to the surface of c. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG type mounting structure, the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b and the metal wirings 114e and 114f are conductively connected by the conductive particles contained in the ACF 122, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wirings 114c and 114d are conductively connected.

【0150】図19において、FPC104は、可撓性
の樹脂フィルム123と、チップ部品124を含んで構
成された回路126と、金属配線端子127とを有す
る。回路126は樹脂フィルム123の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子127はAPC合金、Cr、Cuその
他の導電材料によって形成される。FPC104のうち
金属配線端子127が形成された部分は、第1基板10
7aのうち金属配線114e及び金属配線114fが形
成された部分にACF122によって接続される。そし
て、ACF122の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線114e及び114fとFPC側
の金属配線端子127とが導通する。
In FIG. 19, the FPC 104 has a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip component 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or another conductive connection method. The metal wiring terminals 127 are formed of an APC alloy, Cr, Cu, or another conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminals 127 are formed is the first substrate 10
The ACF 122 is connected to a portion of the wiring 7a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed. Then, due to the function of the conductive particles contained in the ACF 122, the metal wirings 114e and 114f on the substrate side and the metal wiring terminal 127 on the FPC side are conducted.

【0151】FPC104の反対側の辺端部には外部接
続端子131が形成され、この外部接続端子131が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用IC103a
及び103bが駆動され、第1電極114a及び第2電
極114bの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域V内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Lの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
An external connection terminal 131 is formed at the opposite side end of the FPC 104, and the external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, based on the signal transmitted from the external circuit, the liquid crystal driving IC 103a
And 103b are driven, and a scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and a data signal is supplied to the other. Thereby, the voltage of the pixel elements in the dot matrix arranged in the effective display area V is controlled for each pixel, and as a result, the orientation of the liquid crystal L is controlled for each pixel element.

【0152】図19において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置106は、図20に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体132と、そ
の導光体132の光出射面132bに設けられた拡散シ
ート133と、導光体132の光出射面132bの反対
面に設けられた反射シート134と、発光源としてのL
ED(Light Emitting Diode)136とを有する。
In FIG. 19, a lighting device 106 functioning as a so-called backlight is provided as shown in FIG.
A light guide 132 made of acrylic resin or the like, a diffusion sheet 133 provided on a light exit surface 132b of the light guide 132, and a reflection sheet provided on a surface opposite to the light exit surface 132b of the light guide 132 134 and L as a light source
ED (Light Emitting Diode) 136.

【0153】LED136はLED基板137に支持さ
れ、そのLED基板137は、例えば導光体132と一
体に形成された支持部(図示せず)に装着される。LE
D基板137が支持部の所定位置に装着されることによ
り、LED136が導光体132の側辺端面である光取
込み面132aに対向する位置に置かれる。なお、符号
138は液晶パネル102に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
The LED 136 is supported by an LED substrate 137, and the LED substrate 137 is mounted on, for example, a support (not shown) formed integrally with the light guide 132. LE
When the D substrate 137 is mounted at a predetermined position on the support, the LED 136 is placed at a position facing the light intake surface 132 a, which is a side end surface of the light guide 132. Reference numeral 138 denotes a cushioning material for buffering an impact applied to the liquid crystal panel 102.

【0154】LED136が発光すると、その光は光取
込み面132aから取り込まれて導光体132の内部へ
導かれ、反射シート134や導光体132の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面132bから拡散シート
133を通して外部へ平面光として出射する。
When the LED 136 emits light, the light is taken in from the light taking-in surface 132a and guided to the inside of the light guide 132, and is propagated while being reflected by the reflection sheet 134 and the wall surface of the light guide 132 while being propagated. The light is emitted from the surface 132b through the diffusion sheet 133 to the outside as plane light.

【0155】本実施形態の液晶装置101は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図20において、第2基板
107b側から外部光が液晶パネル102の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Lを通過した後に反射膜112で
反射して再び液晶Lへ供給される。液晶Lはこれを挟持
する電極114a及び114bによってR,G,Bの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶L
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板117bを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル102の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
Since the liquid crystal device 101 of this embodiment is configured as described above, if the external light such as sunlight or indoor light is sufficiently bright, the external light from the second substrate 107b in FIG. Is taken into the liquid crystal panel 102, the light passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflection film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The orientation of the liquid crystal L is controlled for each of the R, G, and B picture elements by the electrodes 114a and 114b sandwiching the liquid crystal L.
The light supplied to the liquid crystal panel 102 is modulated for each pixel pixel, and an image such as a character or a number is displayed outside the liquid crystal panel 102 by the light that passes through the polarizing plate 117b and the light that cannot pass through the modulation. Thus, a reflective display is performed.

【0156】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、LED136が発光して導光体132の光出射
面132bから平面光が出射され、その光が反射膜11
2に形成された開口121を通して液晶Lへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Lによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
On the other hand, when the amount of external light is not sufficient, the LED 136 emits light to emit plane light from the light emitting surface 132b of the light guide 132, and the light is
The liquid crystal L is supplied to the liquid crystal L through an opening 121 formed in the liquid crystal L. At this time, similarly to the reflection type display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, whereby an image is displayed outside. As a result, a transmissive display is performed.

【0157】上記構成の液晶装置101は、例えば、図
21に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程P1〜工程P6の一連の工程が第1基板
107aを形成する工程であり、工程P11〜工程P1
4の一連の工程が第2基板107bを形成する工程であ
る。第1基板形成工程と第2基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
The liquid crystal device 101 having the above configuration is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. In this manufacturing method, a series of steps P1 to P6 is a step of forming the first substrate 107a, and steps P11 to P1 are performed.
A series of steps 4 is a step of forming the second substrate 107b. Usually, each of the first substrate forming step and the second substrate forming step is independently performed.

【0158】まず、第1基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー基材の表面に液晶パネル102の
複数個分の反射膜112をフォトリソグラフィー法等を
用いて形成し、さらにその上に絶縁膜113を周知の成
膜法を用いて形成し(工程P1)、次に、フォトリソグ
ラフィー法等を用いて第1電極114a及び配線114
c,114d,114e,114fを形成する(工程P
2)。
First, the first substrate forming step will be described. A plurality of reflective films 112 of the liquid crystal panel 102 are formed on the surface of a large-area mother substrate formed of light-transmitting glass, light-transmitting plastic, or the like. The insulating film 113 is formed thereon by using a known film forming method (Step P1), and then the first electrode 114a and the wiring 114 are formed by using a photolithographic method or the like.
c, 114d, 114e and 114f are formed (step P
2).

【0159】次に、第1電極114aの上に塗布、印刷
等によって配向膜116aを形成し(工程P3)、さら
にその配向膜116aに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する(工程P4)。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材108を環状
に形成し(工程P5)、さらにその上に球状のスペーサ
119を分散する(工程P6)。以上により、液晶パネ
ル102の第1基板107a上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第1基板が形成される。
Next, an alignment film 116a is formed on the first electrode 114a by coating, printing, or the like (step P3), and rubbing is performed on the alignment film 116a to determine the initial alignment of the liquid crystal. (Step P4). next,
For example, the sealing material 108 is formed in a ring shape by screen printing or the like (Step P5), and the spherical spacers 119 are dispersed thereon (Step P6). As described above, a large-area mother first substrate having a plurality of panel patterns on the first substrate 107a of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0160】以上の第1基板形成工程とは別に、第2基
板形成工程(図21の工程P11〜工程P14)を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー基材を用意し、その表面
に液晶パネル102の複数個分のカラーフィルタ118
を形成する(工程P11)。このカラーフィルタの形成
工程は図5に示した製造方法を用いて行われ、その製造
方法中の色絵素形成工程P3及び保護膜形成工程P4は
図6のインクジェット装置16を用いて図13、図1
4、図15等に示したインクジェットヘッドの制御方法
に従って実行される。これらカラーフィルタの製造方法
及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明した内
容と同じであるので、それらの説明は省略する。
A second substrate forming step (steps P11 to P14 in FIG. 21) is performed separately from the above-described first substrate forming step. First, a large-area mother substrate made of a light-transmitting glass, a light-transmitting plastic, or the like is prepared, and a plurality of the color filters 118 of the liquid crystal panel 102 are provided on the surface thereof.
Is formed (Step P11). The process of forming the color filter is performed by using the manufacturing method shown in FIG. 5, and the color picture element forming step P3 and the protective film forming step P4 in the manufacturing method are performed by using the inkjet apparatus 16 of FIG. 1
4, executed according to the control method of the ink jet head shown in FIG. The method of manufacturing these color filters and the method of controlling the ink jet head are the same as those already described, and thus description thereof will be omitted.

【0161】図3(a)又は図3(b)に示すようにマ
ザー基材12の上にブラックマスク6、バンク5、色絵
素3及び保護膜4が形成されると、また、図18(a)
又は図18(b)に示すようにマザー基材12の上にブ
ラックマスク6、色絵素3及び保護膜4が形成される
と、次に、フォトリソグラフィー法によって第2電極1
14bが形成され(工程P12)、さらに塗布、印刷等
によって配向膜116bが形成され(工程P13)、さ
らにその配向膜116bに対してラビング処理が施され
て液晶の初期配向が決められる(工程P14)。以上に
より、液晶パネル102の第2基板107b上のパネル
パターンを複数個分有する大面積のマザー第2基板が形
成される。
When the black mask 6, the bank 5, the color picture element 3 and the protective film 4 are formed on the mother base material 12 as shown in FIG. 3A or FIG. a)
Alternatively, as shown in FIG. 18B, when the black mask 6, the color picture element 3, and the protective film 4 are formed on the mother base material 12, then the second electrode 1 is formed by photolithography.
14b (Step P12), an alignment film 116b is formed by coating, printing or the like (Step P13), and the alignment film 116b is subjected to a rubbing treatment to determine the initial alignment of the liquid crystal (Step P14). ). Thus, a large-area mother second substrate having a plurality of panel patterns on the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0162】以上により大面積のマザー第1基板及びマ
ザー第2基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材108を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる(工程P21)。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
After the mother first substrate and the mother second substrate having a large area are formed as described above, the mother substrates are aligned with each other with the sealing material 108 interposed therebetween, that is, the mother substrates are aligned with each other (Step P21). ). As a result, an empty panel structure including the panel portions for a plurality of liquid crystal panels and in which the liquid crystal is not yet sealed is formed.

【0163】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する(工程P22)。これにより、各
液晶パネル部分のシール材108の液晶注入用開口11
0(図19参照)が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
Next, a scribe groove, that is, a cutting groove is formed at a predetermined position of the completed empty panel structure, and the panel structure is broken, that is, cut based on the scribe groove (step P22). As a result, the liquid crystal injection opening 11 of the sealing material 108 of each liquid crystal panel portion is formed.
A so-called strip-shaped empty panel structure is formed in which 0 (see FIG. 19) is exposed to the outside.

【0164】その後、露出した液晶注入用開口110を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Lを注入し、さら
に各液晶注入口110を樹脂等によって封止する(工程
P23)。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程24において洗浄処理を受ける。
Thereafter, the liquid crystal L is injected into each liquid crystal panel through the exposed liquid crystal injection opening 110, and each liquid crystal injection port 110 is sealed with a resin or the like (step P23). In a normal liquid crystal injection process, for example, a liquid crystal is stored in a storage container, and the storage container storing the liquid crystal and a strip-shaped empty panel are placed in a chamber or the like, and the chamber or the like is evacuated, and then the chamber is evacuated. This is performed by immersing a strip-shaped empty panel in the liquid crystal inside the device, and then opening the chamber to atmospheric pressure. At this time, since the inside of the empty panel is in a vacuum state, the liquid crystal pressurized by the atmospheric pressure is introduced into the inside of the panel through the liquid crystal injection opening. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel structure after the liquid crystal injection, the strip-shaped panel after the liquid crystal injection processing is subjected to a cleaning process in step 24.

【0165】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される(工程P25)。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル102に対して図19に示すよう
に、液晶駆動用IC103a,103bを実装し、照明
装置106をバックライトとして装着し、さらにFPC
104を接続することにより、目標とする液晶装置10
1が完成する(工程P26)。
Thereafter, a scribe groove is formed again at a predetermined position on the strip-shaped mother panel after the liquid crystal injection and the washing are completed, and the strip-shaped panel is cut with reference to the scribe groove to obtain a plurality of pieces. The individual liquid crystal panels are cut out individually (step P25). As shown in FIG. 19, the individual liquid crystal panels 102 thus manufactured are mounted with liquid crystal driving ICs 103a and 103b, a lighting device 106 is mounted as a backlight, and an FPC
By connecting the liquid crystal device 104 to the target liquid crystal device 10
1 is completed (Step P26).

【0166】以上のように本実施形態に係る液晶装置に
関しては、特にカラーフィルタ基板118、111bに
おいて、図3(a)、図3(b)、図18(a)及び図
18(b)に示したように、複数の色絵素3の間やそれ
らの上に供給された保護膜4の材料は複数の隔壁15同
士の間にも入り込む。このとき、隔壁15は保護膜4の
材料が色絵素3の形成領域の外側へ広く流れ出ることを
防止し、これにより、保護膜4はその外縁が色絵素形成
領域Sの外縁に対してばらつくことなく均一な距離だけ
離れた所に止まるように形成される。この結果、例え
ば、保護膜4がシール材108の下に入り込んでシール
材108のシール性が劣化する等といった不都合を回避
できる。
As described above, in the liquid crystal device according to the present embodiment, in particular, in the case of the color filter substrates 118 and 111b, FIGS. 3 (a), 3 (b), 18 (a) and 18 (b) show. As shown, the material of the protective film 4 supplied between and between the plurality of color picture elements 3 enters between the plurality of partition walls 15 as well. At this time, the partition wall 15 prevents the material of the protective film 4 from widely flowing out of the region where the color picture element 3 is formed, whereby the outer edge of the protective film 4 varies with the outer edge of the color picture element forming area S. Instead, it is formed so as to stop at a uniform distance. As a result, for example, it is possible to avoid such inconvenience that the protective film 4 enters under the sealing material 108 and the sealing property of the sealing material 108 is deteriorated.

【0167】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications may be made within the scope of the invention described in the claims. Can be modified.

【0168】例えば、以上の説明では色絵素としてR,
G,Bを用いたが、R,G,Bに限定されることはな
く、例えばC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロ
ー)を採用してもかまわない。その場合にあっては、
R,G,Bの色絵素材料に代えて、C,M,Yの色を有
する色絵素材料を用いれば良い。
For example, in the above description, R,
Although G and B are used, the present invention is not limited to R, G and B. For example, C (cyan), M (magenta), and Y (yellow) may be employed. In that case,
Instead of the R, G and B color picture element materials, color picture element materials having C, M and Y colors may be used.

【0169】また、以上に説明した実施形態では、図8
等に示すようにインクジェットヘッド22の中に6個の
ヘッド部20を設けたが、ヘッド部20の数はより少な
く又はより多くすることができる。
In the embodiment described above, FIG.
Although six head units 20 are provided in the ink jet head 22 as shown in the drawings, the number of head units 20 can be reduced or increased.

【0170】また、図1(b)に示した実施形態では、
マザー基材12の中に複数列のカラーフィルタ形成領域
11が設定される場合を例示したが、マザー基材12の
中に1列のカラーフィルタ形成領域11が設定される場
合にも本発明を適用できる。また、マザー基板12とほ
ぼ同じ大きさの又はそれよりもかなり小さい1個のカラ
ーフィルタ形成領域11だけがそのマザー基材12の中
に設定される場合にも本発明を適用できる。
Also, in the embodiment shown in FIG.
Although the case where a plurality of rows of color filter forming regions 11 are set in the mother base material 12 is illustrated, the present invention is also applicable to the case where one row of color filter forming regions 11 is set in the mother base material 12. Applicable. In addition, the present invention can be applied to a case where only one color filter forming region 11 having substantially the same size as the mother substrate 12 or considerably smaller than the mother substrate 12 is set in the mother substrate 12.

【0171】また、図6及び図7に示したインクジェッ
ト装置16では、インクジェットヘッド22をX方向へ
移動させて基材12を主走査し、基材12を副走査駆動
装置21によってY方向へ移動させることによりインク
ジェットヘッド22によって基材12を副走査すること
にしたが、これとは逆に、基材12のY方向への移動に
よって主走査を実行し、インクジェットヘッド22のX
方向への移動によって副走査を実行することもできる。
In the ink jet apparatus 16 shown in FIGS. 6 and 7, the ink jet head 22 is moved in the X direction to perform main scanning on the base material 12, and the base material 12 is moved in the Y direction by the sub-scanning driving device 21. In this case, the base 12 is sub-scanned by the inkjet head 22. Conversely, the main scanning is performed by moving the base 12 in the Y direction, and the X-
Sub-scanning can also be performed by moving in the direction.

【0172】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。
Further, in the above-described embodiment, the ink jet head having a structure in which ink is ejected by utilizing the bending deformation of the piezoelectric element is used, but an ink jet head having any other structure may be used.

【0173】また、図1に示す実施形態では図1(a)
に示す通り、色絵素3の1つごとに隔壁15を1つずつ
形成したが、隔壁15は色絵素3の2つごと、3つご
と、あるいはそれ以上の数ごとに1つずつ形成すること
もできる。また、電極配線が通過しない辺に形成される
隔壁に関しては色絵素3の位置とは無関係に隔壁15を
形成することもできる。
In the embodiment shown in FIG. 1, FIG.
As shown in the figure, one partition 15 is formed for each one of the color picture elements 3, but one partition 15 is formed for every two, three, or more color picture elements 3. Can also. Further, regarding the partition formed on the side through which the electrode wiring does not pass, the partition 15 can be formed irrespective of the position of the color picture element 3.

【0174】[0174]

【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタ基板及びそ
の製造方法並びに液晶装置によれば、複数の色絵素の間
やそれらの上に供給された保護膜は前記複数の隔壁同士
の間にも入り込む。このとき、隔壁は保護膜が色絵素形
成領域の外側へ広く流れ出ることを防止し、これによ
り、保護膜はその外縁が色絵素形成領域の外縁に対して
ばらつくことなく均一な距離だけ離れた所に止まるよう
に形成される。この結果、例えば、保護膜がシール材の
下に入り込んでシール材のシール性が劣化する等といっ
た不都合を回避できる。
According to the color filter substrate, the method of manufacturing the same, and the liquid crystal device of the present invention, the protective film supplied between the plurality of color picture elements or on the plurality of color picture elements also enters between the plurality of partition walls. . At this time, the partition walls prevent the protective film from widely flowing to the outside of the color picture element forming region, whereby the protective film is formed at a position where the outer edge thereof is separated from the outer edge of the color picture element forming area by a uniform distance. It is formed so that it stops. As a result, for example, it is possible to avoid such a problem that the protective film enters under the sealing material and the sealing property of the sealing material is deteriorated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明に係るカラーフィルタ基板の一
実施形態の平面図を示し、(b)はそのカラーフィルタ
基板の基礎となるマザー基板の平面図を示している。
FIG. 1A is a plan view of an embodiment of a color filter substrate according to the present invention, and FIG. 1B is a plan view of a mother substrate which is a base of the color filter substrate.

【図2】図1(a)における矢印II部分の拡大平面図
である。
FIG. 2 is an enlarged plan view of an arrow II portion in FIG.

【図3】図2(b)におけるIII−III線に従った
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG. 2 (b).

【図4】カラーフィルタ基板の表面に形成される複数種
類の色絵素の配列形態の例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of an arrangement form of a plurality of types of color picture elements formed on the surface of a color filter substrate.

【図5】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の
一実施形態を示す工程図である。
FIG. 5 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention.

【図6】図5に示す製造方法の一工程で用いられるイン
クジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment of an ink jet device used in one step of the manufacturing method shown in FIG.

【図7】図6の装置の主要部を拡大して示す斜視図であ
る。
7 is an enlarged perspective view showing a main part of the apparatus of FIG. 6;

【図8】図7の装置で用いられるインクジェットヘッド
の一実施形態及びそのインクジェットヘッドに用いられ
るヘッド部の一実施形態を示す斜視図である。
8 is a perspective view showing an embodiment of an inkjet head used in the apparatus of FIG. 7 and an embodiment of a head unit used for the inkjet head.

【図9】インクジェットヘッドのヘッド部の改変例を示
す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a modified example of the head section of the inkjet head.

【図10】インクジェットヘッドのヘッド部の内部構造
を示す図であって、(a)は一部破断斜視図を示し、
(b)は(a)のJ−J線に従った断面構造を示す。
FIG. 10 is a diagram showing the internal structure of the head portion of the inkjet head, (a) showing a partially cutaway perspective view,
(B) shows a cross-sectional structure along the line JJ of (a).

【図11】図6のインクジェット装置に用いられる電気
制御系を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram showing an electric control system used in the ink jet apparatus of FIG.

【図12】図11の制御系によって実行される制御の流
れを示すフローチャートである。
FIG. 12 is a flowchart showing a flow of control executed by the control system of FIG. 11;

【図13】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一
実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
FIG. 13 is a plan view schematically showing main steps of one embodiment of a color filter manufacturing method according to the present invention.

【図14】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他
の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
FIG. 14 is a plan view schematically showing main steps of another embodiment of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図15】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさ
らに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
FIG. 15 is a plan view schematically showing main steps of still another embodiment of the color filter manufacturing method according to the present invention.

【図16】(a)は本発明に係るカラーフィルタ基板の
他の実施形態の平面図を示し、(b)はそのカラーフィ
ルタ基板の基礎となるマザー基板の平面図を示してい
る。
FIG. 16 (a) is a plan view of another embodiment of the color filter substrate according to the present invention, and FIG. 16 (b) is a plan view of a mother substrate on which the color filter substrate is based.

【図17】図16(a)における矢印IV部分の拡大平
面図である。
FIG. 17 is an enlarged plan view of an arrow IV part in FIG.

【図18】図17(b)におけるV−V線に従った断面
図である。
FIG. 18 is a sectional view taken along line VV in FIG. 17 (b).

【図19】本発明に係る液晶装置の一実施形態を分解状
態で示す斜視図である。
FIG. 19 is a perspective view showing an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention in an exploded state.

【図20】図19におけるX−X線に従って液晶装置の
断面構造を示す断面図である。
20 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to line XX in FIG.

【図21】図19に示す液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
21 is a process chart showing one embodiment of a method of manufacturing the liquid crystal device shown in FIG.

【図22】従来のカラーフィルタ基板の一例を示す図で
ある。
FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a conventional color filter substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カラーフィルタ基板 2 基材 3 色絵素 4 保護膜 5 バンク(区画材) 6 ブラックマスク 7 色絵素形成領域 8 色絵素材料 10 保護膜材料 11 カラーフィルタ形成領域 12 マザー基材 15 隔壁 16 インクジェット装置 17 ヘッド位置制御装置 18 基板位置制御装置 19 主走査駆動装置 20 ヘッド部 21 副走査駆動装置 22 インクジェットヘッド 25 キャリッジ 26 ヘッドユニット 27 ノズル 28 ノズル列 39 インク加圧体 41 圧電素子 49 テーブル 81 ヘッド用カメラ 82 基板用カメラ 101 液晶装置 102 液晶パネル 107a,107b 基板 111a,111b 基材 114a,114b 電極 118 カラーフィルタ L 液晶 M 色絵素材料、保護膜材料 S 色絵素形成領域 T テーパ形状 U シール材形成領域 W 段差部 X 主走査方向 Y 副走査方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Color filter substrate 2 Base material 3 Color picture element 4 Protective film 5 Bank (partition material) 6 Black mask 7 Color picture element forming area 8 Color picture element material 10 Protective film material 11 Color filter forming area 12 Mother base material 15 Partition 16 Ink jet device 17 Head position control device 18 Substrate position control device 19 Main scanning drive device 20 Head unit 21 Sub-scanning drive device 22 Inkjet head 25 Carriage 26 Head unit 27 Nozzle 28 Nozzle row 39 Ink pressurizing body 41 Piezoelectric element 49 Table 81 Head camera 82 Substrate camera 101 Liquid crystal device 102 Liquid crystal panel 107a, 107b Substrate 111a, 111b Base material 114a, 114b Electrode 118 Color filter L Liquid crystal M Color picture element material, protective film material S Color picture element formation area T Tapered shape U Sealing material Forming area W stepped portion X main scanning direction Y subscanning direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 達也 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 川瀬 智己 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA64 BB02 BB06 BB07 BB12 BB23 BB37 BB43 2H091 FA02Y GA01 GA16 5C094 AA31 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA07 EB02 ED03 ED20 GB10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tatsuya Ito 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Inside Seiko Epson Corporation (72) Inventor Tomoki Kawase 3-5-2-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko-Epson Incorporated F term (reference) 2H048 BA64 BB02 BB06 BB07 BB12 BB23 BB37 BB43 2H091 FA02Y GA01 GA16 5C094 AA31 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA07 EB02 ED03 ED20 GB10

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材と、 該基材の表面に形成された複数の色絵素と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁と、 前記複数の色絵素の間及びそれらの上のいずれか一方又
は両方に形成された保護膜とを有することを特徴とする
カラーフィルタ基板。
1. A base material, a plurality of color picture elements formed on the surface of the base material, and a color picture element formed on the surface of the base material so as to extend to the outside of the color picture elements at the outermost edge. A color filter substrate, comprising: a plurality of partition walls; and a protective film formed between and between the plurality of color picture elements and on one or both of the plurality of color picture elements.
【請求項2】 基材と、 該基材の表面に形成されて該基材を複数の領域に区画す
る区画材と、 前記複数の領域内に形成された複数の色絵素と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁と、 前記複数の色絵素の上に形成された保護膜とを有するこ
とを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. A base material; a partitioning material formed on the surface of the base material to partition the base material into a plurality of regions; a plurality of color picture elements formed in the plurality of regions; A plurality of partition walls formed on the surface of the base material so as to extend further out of the element located at the outermost edge of the element; and a protective film formed on the plurality of color picture elements. Color filter substrate.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記隔
壁はシール材形成領域の内側に在ることを特徴とするカ
ラーフィルタ基板。
3. The color filter substrate according to claim 1, wherein the partition wall is located inside a sealing material forming region.
【請求項4】 請求項1から請求項3の少なくともいず
れか1つにおいて、前記隔壁は電極配線形成領域以外の
領域に形成されることを特徴とするカラーフィルタ基
板。
4. The color filter substrate according to claim 1, wherein the partition is formed in a region other than the electrode wiring formation region.
【請求項5】 請求項1から請求項4の少なくともいず
れか1つにおいて、前記隔壁は前記色絵素ごとに設けら
れることを特徴とするカラーフィルタ基板。
5. The color filter substrate according to claim 1, wherein the partition is provided for each color picture element.
【請求項6】 請求項1から請求項4の少なくともいず
れか1つにおいて、前記隔壁は前記色絵素又は前記区画
材と同じ材料によって形成されること特徴とするカラー
フィルタ基板。
6. The color filter substrate according to claim 1, wherein the partition is made of the same material as the color picture element or the partitioning material.
【請求項7】 基材上に複数の色絵素を形成する色絵素
形成工程と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材上に複数の隔壁を形成する隔壁形成
工程と、 前記隔壁形成工程の後に前記複数の色絵素の間及びそれ
らの上のいずれか一方又は両方に保護膜を形成する保護
膜形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ
基板の製造方法。
7. A color picture element forming step of forming a plurality of color picture elements on a base material, and forming a plurality of partition walls on the base material so as to extend further to the outside of the color picture elements at the outermost edge. A color filter substrate, comprising: a partition wall forming step of forming a protective film between the plurality of color picture elements and / or above the plurality of color picture elements after the partition wall forming step. Manufacturing method.
【請求項8】 基材の表面を複数の領域に区画する区画
材を該基材上に形成する区画材形成工程と、 前記複数の領域に色絵素を形成する色絵素形成工程と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材上に複数の隔壁を形成する隔壁形成
工程と、 前記隔壁形成工程の後に前記複数の色絵素の上に保護膜
を形成する保護膜形成工程とを有することを特徴とする
カラーフィルタ基板の製造方法。
8. A partitioning material forming step of forming a partitioning material for partitioning the surface of the base material into a plurality of regions on the base material; a color picture element forming step of forming a color picture element in the plurality of regions; A partition forming step of forming a plurality of partitions on the base material so as to extend further outwardly from the outermost edge of the color picture element; and forming a protective film on the plurality of color picture elements after the partition formation step A method of manufacturing a color filter substrate, comprising:
【請求項9】 請求項7又は請求項8において、前記隔
壁形成工程では前記隔壁はシール材形成領域の内側に形
成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方
法。
9. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 7, wherein in the partition wall forming step, the partition walls are formed inside a seal material forming region.
【請求項10】 請求項7から請求項9の少なくともい
ずれか1つにおいて、前記隔壁形成工程では前記隔壁は
電極配線形成領域以外の領域に形成されることを特徴と
するカラーフィルタ基板の製造方法。
10. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 7, wherein the partition is formed in a region other than an electrode wiring formation region in the partition forming step. .
【請求項11】 請求項7から請求項10の少なくとも
いずれか1つにおいて、前記隔壁形成工程では前記隔壁
は前記色絵素ごとに形成されることを特徴とするカラー
フィルタ基板の製造方法。
11. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 7, wherein the partition is formed for each of the color picture elements in the partition forming step.
【請求項12】 請求項7から請求項11の少なくとも
いずれか1つにおいて、前記隔壁形成工程は前記色絵素
形成工程と同時に又は前記区画材形成工程と同時に行わ
れることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
12. The color filter substrate according to claim 7, wherein the partition wall forming step is performed simultaneously with the color picture element forming step or simultaneously with the partition material forming step. Manufacturing method.
【請求項13】 請求項7から請求項12の少なくとも
いずれか1つにおいて、前記保護膜は液体であることを
特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
13. The method for manufacturing a color filter substrate according to claim 7, wherein the protective film is a liquid.
【請求項14】 液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板に形成されるカラーフィルタ基板とを有
する液晶装置において、前記カラーフィルタ基板は、 基材と、 該基材の表面に形成された複数の色絵素と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁と、 前記複数の色絵素の間及びそれらの上のいずれか一方又
は両方に形成された保護膜とを有することを特徴とする
液晶装置。
14. A liquid crystal device having a pair of substrates sandwiching liquid crystal and a color filter substrate formed on at least one of the substrates, wherein the color filter substrate is formed on a surface of the substrate. A plurality of color picture elements, and a plurality of partition walls formed on the surface of the base material so as to extend further to the outside at the outermost edge of the color picture elements, between and on the plurality of color picture elements And a protective film formed on one or both of the above.
【請求項15】 液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板に形成されるカラーフィルタ基板とを有
する液晶装置において、前記カラーフィルタ基板は、 基材と、 該基材の表面に形成されて該基材を複数の領域に区画す
る区画材と、 前記複数の領域内に形成された複数の色絵素と、 それらの色絵素の最外縁に在るもののさらに外側へ延び
出すように前記基材の表面に形成された複数の隔壁と、 前記複数の色絵素の上に形成された保護膜とを有するこ
とを特徴とする液晶装置。
15. A liquid crystal device having a pair of substrates sandwiching liquid crystal and a color filter substrate formed on at least one of the substrates, wherein the color filter substrate is formed on a surface of the substrate. A partitioning material for partitioning the base material into a plurality of regions, a plurality of color picture elements formed in the plurality of regions, and a base material extending to the outside of the outermost edge of the color picture elements. A liquid crystal device comprising: a plurality of partition walls formed on a surface of a material; and a protective film formed on the plurality of color picture elements.
【請求項16】 請求項14又は請求項15において、
前記隔壁はシール材形成領域の内側に在ることを特徴と
する液晶装置。
16. The method according to claim 14, wherein
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the partition wall is located inside a sealing material forming region.
【請求項17】 請求項14から請求項16の少なくと
もいずれか1つにおいて、前記隔壁は電極配線形成領域
以外の領域に形成されることを特徴とする液晶装置。
17. The liquid crystal device according to claim 14, wherein the partition is formed in a region other than the electrode wiring formation region.
【請求項18】 請求項14から請求項17の少なくと
もいずれか1つにおいて、前記隔壁は前記色絵素ごとに
設けられることを特徴とする液晶装置。
18. The liquid crystal device according to at least one of claims 14 to 17, wherein the partition is provided for each of the color picture elements.
【請求項19】 請求項14から請求項18の少なくと
もいずれか1つにおいて、前記隔壁は前記色絵素又は前
記区画材と同じ材料によって形成されること特徴とする
液晶装置。
19. The liquid crystal device according to claim 14, wherein the partition is formed of the same material as the color picture element or the partitioning material.
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