JP2002192460A - Grinding device - Google Patents

Grinding device

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JP2002192460A
JP2002192460A JP2000392594A JP2000392594A JP2002192460A JP 2002192460 A JP2002192460 A JP 2002192460A JP 2000392594 A JP2000392594 A JP 2000392594A JP 2000392594 A JP2000392594 A JP 2000392594A JP 2002192460 A JP2002192460 A JP 2002192460A
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JP
Japan
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holding surface
chuck table
suction holding
grinding
suction
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000392594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Koma
豊 狛
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grinding device that can grind a workpiece to a uniform thickness. SOLUTION: The grinding device comprises a rotatably constructed chuck table 33 having a suction holding surface 351 on which the sheetlike workpiece W is placed, a spindle unit having a rotary shaft arranged parallel to the suction holding surface 351 of the chuck table 33, and a disklike grinding wheel 54 mounted on the rotary shaft 53 of the spindle unit. The suction holding surface 351 of the chuck table is formed into a cone with the vertex on the rotational axis, and the grinding wheel is relatively moved parallel to the suction holding surface in a grinding region.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエーハ等
の薄板状の被加工物を研削するための研削装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a grinding apparatus for grinding a thin workpiece such as a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】当業者には周知の如く、半導体デバイス
製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハ
を所定の厚さに形成するために、半導体ウエーハの表面
を研削している。このような半導体ウエーハの表面を研
削する表面研削装置は、被加工物を載置する吸着保持面
を備え回転可能に構成されたチャックテーブルと、該チ
ャックテーブルの回転軸線方向に配設された回転軸を備
えたスピンドルユニットと、該スピンドルユニットの回
転軸の下端に装着されたカップ状の砥石とからなり、該
砥石を回転しつつその端面を該チャックテーブルの吸着
保持面に吸着保持された被加工物に接触させ、所定の切
り込み深さを与えて研削するようにした研削装置が一般
に用いられている。
2. Description of the Related Art As is well known to those skilled in the art, in a semiconductor device manufacturing process, the surface of a semiconductor wafer is ground to form a substantially disk-shaped semiconductor wafer to a predetermined thickness. Such a surface grinding apparatus for grinding the surface of a semiconductor wafer includes a rotatable chuck table having a suction holding surface on which a workpiece is placed, and a rotating table arranged in the rotation axis direction of the chuck table. A spindle unit having a spindle, and a cup-shaped grindstone attached to the lower end of the rotating shaft of the spindle unit. The end surface of which is held by suction on the suction holding surface of the chuck table while rotating the grindstone. 2. Description of the Related Art Grinding apparatuses that are brought into contact with a workpiece and provided with a predetermined depth of cut for grinding are generally used.

【0003】然るに、上述した研削装置によって半導体
ウエーハ等の薄板状の被加工物を研削すると、次のよう
な問題が生ずる。 (1)スピンドルユニットがチャックテーブルに対して
垂直に配設されているため、スピンドルユニットに熱膨
張が生じるとカップ状の砥石の切り込み深さに直接影響
し、被加工物を所望の厚さに研削することが難しい。 (2)カップ状の砥石と被加工物との接触面積が大きい
ので、研削荷重が大きくなるため、高い剛性が必要とな
って装置全体が大型となる。 (3)被加工物の表面に対して垂直に配設されたスピン
ドルユニットを軸方向(被加工物の表面に対して垂直方
向)に切り込み送りするため、スピンドルの歪みの影響
を直接受け切り込み制御が難しく、従って、被加工物の
厚さを接触式のセンサーによって実測しながら切り込み
送りを制御しなければならず、この結果被加工物の表面
に傷が付く。 (4)切削荷重が大きいことからチャックテーブルやス
ピンドルユニット等を構成する各部材に歪が生じるの
で、この歪の影響を少なくして被加工物の研削精度を高
めるためには切り込み送りを止め、所謂スパーアウトお
よび逃げ研削をしなければならず、生産性が悪い。 (5)チャックテーブルやスピンドルユニット等を構成
する各部材の歪の影響を低減させるためには各部材の剛
性が必要となり、研削装置が大型となる。
However, when a thin plate-like workpiece such as a semiconductor wafer is ground by the above-described grinding apparatus, the following problems occur. (1) Since the spindle unit is disposed perpendicular to the chuck table, when thermal expansion occurs in the spindle unit, it directly affects the cutting depth of the cup-shaped grindstone, and the work piece has a desired thickness. Difficult to grind. (2) Since the contact area between the cup-shaped grindstone and the workpiece is large, the grinding load is large, so that high rigidity is required and the entire apparatus becomes large. (3) Since the spindle unit arranged perpendicular to the surface of the work is cut and fed in the axial direction (perpendicular to the surface of the work), the cutting control is directly affected by the distortion of the spindle. Therefore, the cutting feed must be controlled while the thickness of the workpiece is actually measured by a contact-type sensor, and as a result, the surface of the workpiece is damaged. (4) Since the cutting load is large, each member constituting the chuck table, the spindle unit, and the like is distorted. In order to reduce the influence of this distortion and increase the grinding accuracy of the workpiece, the cutting feed is stopped. So-called spar-out and relief grinding must be performed, resulting in poor productivity. (5) In order to reduce the influence of the distortion of each member constituting the chuck table, the spindle unit and the like, the rigidity of each member is required, and the grinding device becomes large.

【0004】上述した問題を解消するものとして、薄板
状の被加工物を載置する吸着保持面を備え回転可能に構
成されたチャックテーブルと、該チャックテーブルの該
吸着保持面と平行に配設された回転軸を備えたスピンド
ルユニットと、該スピンドルユニットの回転軸に装着さ
れた円盤状の砥石(ストレート砥石)とからなり、該砥
石を回転しその外周面をチャックテーブルの吸着保持面
に吸着保持された被加工物の研削領域において接触しつ
つ、砥石と被加工物とを研削送り方向に相対移動するよ
うに構成した研削装置が例えば特開昭61ー16477
3号公報に開示されている。
In order to solve the above-mentioned problem, a rotatable chuck table having a suction holding surface on which a thin plate-shaped workpiece is placed, and a chuck table arranged in parallel with the suction holding surface of the chuck table are provided. A spindle unit provided with a rotating shaft, and a disk-shaped grindstone (straight grindstone) mounted on the rotating shaft of the spindle unit. The grindstone is rotated and its outer peripheral surface is attracted to a suction holding surface of a chuck table. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-16477 discloses a grinding device configured to relatively move a grindstone and a workpiece in a grinding feed direction while making contact with the held workpiece in a grinding area.
No. 3 discloses this.

【発明が解決しようとする課題】而して、上記公報に開
示された研削装置においては、薄板状の被加工物はチャ
ックテーブルの吸着保持面に沿って支持されるため、チ
ャックテーブルの吸着保持面が回転軸線に対して垂直な
平面に形成されていないと、均一な厚さに研削すること
ができない。しかるに、チャックテーブルの吸着保持面
は、完全な平面に形成することは難しく、外周部より中
央部が窪んだり、或いは外周部より中央部が突出して形
成される。外周部より中央部が窪んいる吸着保持面に被
加工物を吸着保持して研削した場合には、外周部で切り
込み深さを決めて研削すると、中央部が研削されない。
一方、外周部より中央部が突出している吸着保持面に被
加工物を吸着保持して研削した場合には、外周部で切り
込み深さを決めて研削すると、中央部が必要以上に研削
され過ぎて薄くなるという問題がある。
However, in the grinding apparatus disclosed in the above publication, the thin plate-shaped workpiece is supported along the suction holding surface of the chuck table. If the surface is not formed in a plane perpendicular to the rotation axis, it cannot be ground to a uniform thickness. However, it is difficult to form the suction holding surface of the chuck table in a perfect plane, and the central portion is depressed from the outer peripheral portion or the central portion protrudes from the outer peripheral portion. In the case where the workpiece is suction-held on the suction-holding surface whose central portion is depressed from the outer peripheral portion and ground, if the cutting depth is determined at the outer peripheral portion and the grinding is performed, the central portion is not ground.
On the other hand, if the workpiece is sucked and held on the suction holding surface whose central part protrudes from the outer peripheral part and is ground, if the cutting depth is determined at the outer peripheral part and the grinding is performed, the central part is excessively ground more than necessary. There is a problem that it becomes thin.

【0005】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、その主たる技術課題は、被加工物を均一な厚さに
研削することができ研削装置を提供することにある。
[0005] The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and a main technical problem thereof is to provide a grinding apparatus capable of grinding a workpiece to a uniform thickness.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記主たる技術課題を解
決するため、本発明によれば、薄板状の被加工物を載置
する吸着保持面を備え回転可能に構成されたチャックテ
ーブルと、該チャックテーブルの該吸着保持面と平行に
配設された回転軸を備えたスピンドルユニットと、該ス
ピンドルユニットの回転軸に装着された円盤状の砥石と
からなり、該砥石を回転しその外周面を該チャックテー
ブルの吸着保持面に吸着保持された被加工物に接触しつ
つ、該砥石と該チャックテーブルとを研削送り方向に相
対移動するように構成した研削装置において、該チャッ
クテーブルの吸着保持面を回転軸芯上を頂点とした円錐
形に形成するとともに、該砥石を研削領域における該吸
着保持面と平行に相対移動するように構成した、ことを
特徴とする研削装置が提供される。
According to the present invention, there is provided, in accordance with the present invention, a rotatable chuck table having a suction holding surface on which a thin plate-like workpiece is placed. A spindle unit having a rotating shaft disposed in parallel with the suction holding surface of the chuck table, and a disk-shaped grindstone mounted on the rotating shaft of the spindle unit, and rotating the grindstone to rotate the outer peripheral surface thereof. In a grinding apparatus configured to relatively move the grindstone and the chuck table in a grinding feed direction while being in contact with a workpiece suction-held on the suction holding surface of the chuck table, the suction holding surface of the chuck table is provided. Characterized in that the grinding wheel is formed in a conical shape having an apex on the rotation axis and the grindstone is relatively moved in parallel with the suction holding surface in a grinding area. There is provided.

【0007】上記円錐形に形成された吸着保持面は、勾
配が0.001〜0.00001に設定されていること
が望ましい。
It is desirable that the slope of the suction holding surface formed in the conical shape is set to 0.001 to 0.00001.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明に従って構成された
研削装置の一実施形態について、添付図面を参照して詳
細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a grinding machine constituted according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0009】図1には、本発明に従って構成された研削
装置の要部が示されている。図示の実施形態における研
削装置は、静止基台2と、該静止基台2に矢印Xで示す
方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャック
テーブル機構3と、静止基台2に研削送り方向である矢
印Yで示す方向に移動可能に配設されたスピンドル支持
機構4と、該スピンドル支持機構4に切り込み方向であ
る矢印Zで示す方向に移動可能に配設されたスピンドル
ユニット5とを具備している。
FIG. 1 shows a main part of a grinding apparatus constructed according to the present invention. The grinding device in the illustrated embodiment includes a stationary base 2, a chuck table mechanism 3 movably disposed in a direction indicated by an arrow X on the stationary base 2 to hold a workpiece, and a stationary base 2. A spindle support mechanism 4 movably disposed in a direction indicated by an arrow Y which is a grinding feed direction, and a spindle unit 5 movably disposed in a direction indicated by an arrow Z which is a cutting direction in the spindle support mechanism 4 Is provided.

【0010】上記チャックテーブル機構3は、静止基台
2上に矢印Xで示す方向に沿って平行に配設された2本
の案内レール31、32と、該案内レール31、32上
に矢印Xで示す方向に移動可能に配設されたチャックテ
ーブル33を具備している。このチャックテーブル33
は、案内レール31、32上に移動可能に配設された吸
着チャック支持台34と、該吸着チャック支持台34上
に装着された吸着チャック35を具備しており、該吸着
チャック35の表面である吸着保持面351に被加工物
である例えば円盤状の半導体ウエーハWを図示しない吸
引手段によって保持するようになっている。また、チャ
ックテーブル3は、図示しない回転駆動機構によって矢
印で示す方向に回動駆動せしめられるようになってい
る。上記吸着チャック35は、図示の実施形態において
はポーラスなセラミック材によって構成されており、そ
の吸着保持面351が図2に示すように回転軸芯OA上
を頂点とした円錐形に形成されている。この円錐形に形
成された吸着保持面351は、その半径をRとし頂点の
高さをHとすると、勾配(H/R)が0.00001〜
0.001に設定されている。
The chuck table mechanism 3 includes two guide rails 31 and 32 disposed in parallel on the stationary base 2 along a direction indicated by an arrow X, and an arrow X on the guide rails 31 and 32. The chuck table 33 is provided so as to be movable in the direction shown by the arrow. This chuck table 33
Has a suction chuck support 34 movably disposed on the guide rails 31 and 32, and a suction chuck 35 mounted on the suction chuck support 34. The surface of the suction chuck 35 For example, a disc-shaped semiconductor wafer W, which is a workpiece, is held on a certain suction holding surface 351 by suction means (not shown). The chuck table 3 is driven to rotate in a direction indicated by an arrow by a rotation drive mechanism (not shown). In the illustrated embodiment, the suction chuck 35 is made of a porous ceramic material, and its suction holding surface 351 is formed in a conical shape with the vertex on the rotation axis OA as shown in FIG. . The slope (H / R) of the suction holding surface 351 formed in this conical shape is 0.00001-
It is set to 0.001.

【0011】また、チャックテーブル機構3は、チャッ
クテーブル33を2本の案内レール31、32に沿って
矢印Xで示す方向に移動させるための駆動手段36を具
備している。駆動手段36は、上記2本の案内レール3
1と32の間に平行に配設された雄ねじロッド361
と、該雄ねじロッド361を回転駆動するためのパルス
モータ362等の駆動源を含んでいる。雄ねじロッド3
41は、その一端が上記静止基台2に固定された図示し
ない軸受ブロックに回転自在に支持されており、その他
端が上記パルスモータ362の出力軸に図示しない減速
装置を介して伝動連結されている。なお、雄ねじロッド
361は、チャックテーブル33を構成する吸着チャッ
ク支持台34の中央部下面に突出して設けられた図示し
ない雌ねじブロックに形成された貫通雌ねじ穴に螺合さ
れている。従って、パルスモータ362によって雄ねじ
ロッド361を正転および逆転駆動することにより、チ
ャックテーブル33は案内レール31、32に沿って矢
印Xで示す方向に図1において2点差線で示す被加工物
供給位置と実戦で示す加工位置の間を移動せしめられ
る。
Further, the chuck table mechanism 3 includes a driving means 36 for moving the chuck table 33 along the two guide rails 31 and 32 in the direction indicated by the arrow X. The driving means 36 is provided with the two guide rails 3.
Male thread rod 361 disposed in parallel between 1 and 32
And a drive source such as a pulse motor 362 for rotationally driving the male screw rod 361. Male thread rod 3
41 is rotatably supported at one end by a bearing block (not shown) fixed to the stationary base 2, and the other end thereof is operatively connected to the output shaft of the pulse motor 362 via a speed reducer (not shown). I have. The male screw rod 361 is screwed into a female screw hole (not shown) formed in a female screw block (not shown) protruding from the lower surface of the central part of the suction chuck support 34 constituting the chuck table 33. Accordingly, by driving the male screw rod 361 to rotate forward and reverse by the pulse motor 362, the chuck table 33 moves along the guide rails 31, 32 in the direction indicated by the arrow X in FIG. And the processing position shown in the actual battle.

【0012】上記スピンドル支持機構4は、静止基台2
上に平行に配設された2本の案内レール41、42と、
該案内レール41、42上に矢印Yで示す方向に移動可
能に配設された可動支持基台43を具備している。この
可動支持基台43は、案内レール41、42上に移動可
能に配設された移動支持部431と、該移動支持部43
1に取り付けられたスピンドル装着部432とからなっ
ている。スピンドル装着部432には、矢印Zで示す方
向に延びる2本の案内レール432a、432aが平行
に設けられている。なお、スピンドル支持機構4は、可
動支持基台43を2本の案内レール41、42に沿って
矢印Yで示す方向に移動させるための駆動手段44を具
備している。駆動手段44は、上記2本の案内レール4
1、42の間に平行に配設された雄ねじロッド441
と、該雄ねじロッド441を回転駆動するためのパルス
モータ442等の駆動源を含んでいる。雄ねじロッド4
41は、その一端が上記静止基台2に固定された軸受ブ
ロック443に回転自在に支持されており、その他端が
上記パルスモータ442の出力軸に図示しない減速装置
を介して伝動連結されている。なお、雄ねじロッド44
1は、可動支持基台43を構成する移動支持部431の
中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ねじブロ
ックに形成された貫通雌ねじ穴に螺合されている。従っ
て、パルスモータ442によって雄ねじロッド441を
正転および逆転駆動することにより、可動支持基台43
は案内レール41、42に沿って矢印Yで示す方向に移
動せしめられる。
The spindle support mechanism 4 includes a stationary base 2
Two guide rails 41 and 42 arranged in parallel on the top,
A movable support base 43 is provided on the guide rails 41 and 42 so as to be movable in a direction indicated by an arrow Y. The movable support base 43 includes a movable support portion 431 movably disposed on the guide rails 41 and 42, and the movable support portion 43.
1 and a spindle mounting section 432 attached to the spindle motor 1. The spindle mounting portion 432 is provided with two guide rails 432a and 432a extending in the direction indicated by the arrow Z in parallel. The spindle support mechanism 4 includes a driving unit 44 for moving the movable support base 43 along the two guide rails 41 and 42 in the direction indicated by the arrow Y. The driving means 44 is provided with the two guide rails 4.
Male thread rod 441 disposed in parallel between 1, 42
And a drive source such as a pulse motor 442 for rotationally driving the male screw rod 441. Male thread rod 4
One end of 41 is rotatably supported by a bearing block 443 fixed to the stationary base 2, and the other end is operatively connected to the output shaft of the pulse motor 442 via a speed reducer (not shown). . The male screw rod 44
1 is screwed into a through female screw hole formed in a female screw block (not shown) protrudingly provided on the lower surface of the central portion of the movable support portion 431 constituting the movable support base 43. Accordingly, by driving the male screw rod 441 to rotate forward and reverse by the pulse motor 442, the movable support base 43 is rotated.
Is moved along the guide rails 41 and 42 in the direction indicated by the arrow Y.

【0013】上記スピンドルユニット5は、スピンドル
ホルダ51と、該スピンドルホルダ51に取り付けられ
たスピンドルハウジング52を具備している。スピンド
ルホルダ51には上記スピンドル支持機構4のスピンド
ル装着部432に設けられた2本の案内レール432
a、432aに摺動可能に嵌合する2本の被案内レール
51a、51aが設けられており、この被案内レール5
1a、51aを上記案内レール432a、432aに嵌
合することにより、スピンドルホルダ51は矢印Zで示
す方向に移動可能に支持される。スピンドルハウジング
52には図2に示すように上記吸着チャック35の研削
領域Gにおける吸着保持面351と平行に回転軸53が
回転自在に支持されており、この回転軸53はスピンド
ルハウジング52内に配設された図示しない回転駆動機
構によって回転駆動せしめられるようになっている。回
転軸53の先端部には円盤状の砥石54が装着されてい
る。この砥石54は、回転しつつ外周面を上記チャック
テーブル33を構成する吸着チャック35の吸着保持面
351に保持された被加工物に接触することにより、被
加工物を研削する。
The spindle unit 5 includes a spindle holder 51 and a spindle housing 52 attached to the spindle holder 51. The spindle holder 51 has two guide rails 432 provided on the spindle mounting portion 432 of the spindle support mechanism 4.
a and 432a, two guided rails 51a, 51a slidably fitted to each other are provided.
By fitting the guide rails 1a and 51a to the guide rails 432a and 432a, the spindle holder 51 is supported so as to be movable in the direction indicated by the arrow Z. As shown in FIG. 2, a rotary shaft 53 is rotatably supported on the spindle housing 52 in parallel with the suction holding surface 351 in the grinding area G of the suction chuck 35. The rotary shaft 53 is disposed inside the spindle housing 52. It is designed to be driven to rotate by a provided rotation drive mechanism (not shown). A disk-shaped grindstone 54 is attached to the tip of the rotating shaft 53. The grindstone 54 grinds the workpiece by rotating and contacting the outer peripheral surface with the workpiece held on the suction holding surface 351 of the suction chuck 35 constituting the chuck table 33.

【0014】なお、スピンドルユニット5は、スピンド
ルホルダ51を2本の案内レール432a、432aに
沿って矢印Zで示す方向に移動させるための駆動手段5
5を具備している。駆動手段55は、上記駆動手段36
および44と同様に案内レール432a、432aの間
に配設された雄ねじロッド(図示せず)と、該雄ねじロ
ッドを回転駆動するためのパルスモータ552等の駆動
源を含んでおり、パルスモータ552によって図示しな
い雄ねじロッドを正転および逆転駆動することにより、
スピンドルユニット5を案内レール432a、432a
に沿って矢印Zで示す方向に移動せしめる。
The spindle unit 5 includes a driving unit 5 for moving the spindle holder 51 in the direction indicated by the arrow Z along the two guide rails 432a and 432a.
5 is provided. The driving means 55 is provided with the driving means 36.
And 44, a male screw rod (not shown) disposed between the guide rails 432a and 432a, and a drive source such as a pulse motor 552 for rotationally driving the male screw rod. By driving the male screw rod (not shown) in forward and reverse directions,
Connect the spindle unit 5 to the guide rails 432a, 432a.
Along the direction indicated by arrow Z.

【0015】ここで、上記チャックテーブル33を構成
する吸着チャック35の円錐形に形成された吸着保持面
351と、砥石54の研削送り方向である矢印Y方向へ
の移動について説明する。図2に示すように例えば半径
100mmで回転軸芯OA部が10μm程度盛り上がっ
た円錐形に形成された吸着保持面351上に薄板状の被
加工物Wを吸着保持すると、被加工物Wは吸着保持面3
51の円錐形の勾配が極僅かである故に吸着保持面35
1に沿った形状となる。従って、吸着保持面351上に
吸着保持された被加工物Wは、吸着保持面351と同様
に円錐形状となる。図2に示す実施形態においては、チ
ャックテーブル33がその回転軸芯OAを吸着保持面3
51の勾配に対応する角度だけ傾斜して配設され、砥石
54を装着した回転軸53が水平に配設されており、砥
石54が研削領域Gにおける吸着保持面351と平行に
矢印Y方向に移動せしめられるように構成されている。
即ち、砥石5は研削領域Gにおける吸着保持面351と
平行に相対移動するように構成されている。従って、チ
ャックテーブル33を回転し、砥石54を回転しつつ被
加工物Wの外周部において砥石54に所定の切り込み量
を与え、吸着保持面351の回転軸芯OAに向けて矢印
Y方向へ移動することにより、砥石54が上記回転軸芯
OAに達した時点で被加工物Wの全面を研削することが
できる。そして、砥石54は上記回転軸芯OAを通過す
ると被加工物Wの表面から離隔するので、研削作用は生
じない。このように、図示の実施形態における研削装置
は、チャックテーブル33を構成する吸着チャック35
の吸着保持面351を円錐形に形成し、砥石54を研削
領域Gにおける吸着保持面351と平行に相対移動する
ようにしたので、上記吸着保持面351上に吸着保持さ
れた被加工物Wを均一な厚さに研削することができる。
Here, the conical suction holding surface 351 of the suction chuck 35 constituting the chuck table 33 and the movement of the grindstone 54 in the direction of the arrow Y which is the grinding feed direction will be described. As shown in FIG. 2, for example, when a thin plate-shaped workpiece W is suction-held on a suction holding surface 351 formed in a conical shape with a radius of 100 mm and a rotation axis OA section raised by about 10 μm, the workpiece W is sucked. Holding surface 3
Since the slope of the cone of 51 is very small, the suction holding surface 35
1. Therefore, the workpiece W sucked and held on the suction holding surface 351 has a conical shape like the suction holding surface 351. In the embodiment shown in FIG. 2, the chuck table 33 connects the rotation axis OA to the suction holding surface 3.
The rotating shaft 53 provided with the grindstone 54 is horizontally disposed, and the grindstone 54 is parallel to the suction holding surface 351 in the grinding area G in the arrow Y direction. It is configured to be moved.
That is, the grindstone 5 is configured to relatively move in parallel with the suction holding surface 351 in the grinding area G. Accordingly, the chuck table 33 is rotated, and while the grindstone 54 is being rotated, a predetermined cutting amount is given to the grindstone 54 on the outer peripheral portion of the workpiece W, and the grindstone 54 moves in the direction of the arrow Y toward the rotation axis OA of the suction holding surface 351. By doing so, the entire surface of the workpiece W can be ground when the grindstone 54 reaches the rotation axis OA. When the grinding stone 54 passes through the rotation axis OA, it is separated from the surface of the workpiece W, so that the grinding action does not occur. As described above, the grinding device in the illustrated embodiment uses the suction chuck 35 that forms the chuck table 33.
The suction holding surface 351 is formed in a conical shape, and the grindstone 54 is relatively moved in parallel with the suction holding surface 351 in the grinding area G. Therefore, the workpiece W sucked and held on the suction holding surface 351 is removed. It can be ground to a uniform thickness.

【0016】以上、本発明を図示の実施形態に基づいて
説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるもので
はなく、本発明の技術思想の範囲で種々の変形は可能で
ある。例えば、図示の実施形態においてはチャックテー
ブル33の回転軸芯OAを吸着保持面351の勾配に対
応する角度だけ傾斜して配設した例を示したが、砥石5
4を装着した回転軸53を水平に対して吸着保持面35
1の勾配に対応する角度だけ傾斜せしめてもよい。ま
た、図示の実施形態においては砥石54を矢印Y方向に
移動して研削送りを実行した例を示したが、チャックテ
ーブル33を矢印Y方向に移動するように構成してもよ
い。
As described above, the present invention has been described based on the illustrated embodiments. However, the present invention is not limited to only the embodiments, and various modifications can be made within the technical idea of the present invention. For example, in the illustrated embodiment, an example is shown in which the rotation axis OA of the chuck table 33 is arranged at an angle corresponding to the inclination of the suction holding surface 351.
4 is attached to the suction holding surface 35 with respect to the horizontal.
It may be inclined by an angle corresponding to one gradient. In the illustrated embodiment, the grinding wheel 54 is moved in the arrow Y direction to execute the grinding feed. However, the chuck table 33 may be moved in the arrow Y direction.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明による研削装置は以上のように構
成されているので、次の作用効果を奏する。
Since the grinding apparatus according to the present invention is constructed as described above, the following effects are obtained.

【0018】即ち、本発明によれば、チャックテーブル
の吸着保持面を回転軸芯上を頂点とした円錐形に形成す
るとともに、砥石を研削領域における吸着保持面と平行
に相対移動するように構成されているので、吸着保持面
上に吸着保持された被加工物を均一な厚さに研削するこ
とができる。
That is, according to the present invention, the chucking and holding surface of the chuck table is formed in a conical shape having the vertex on the rotation axis, and the grindstone is relatively moved in parallel with the suction and holding surface in the grinding area. Therefore, the workpiece sucked and held on the suction holding surface can be ground to a uniform thickness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に従って構成された研削装置の要部斜視
図。
FIG. 1 is a perspective view of a main part of a grinding device configured according to the present invention.

【図2】図1の研削装置におけるチャックテーブルの吸
着保持面と砥石の研削送り方向との関係を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a relationship between a suction holding surface of a chuck table and a grinding feed direction of a grindstone in the grinding device of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2:静止基台 3:チャックテーブル機構 31、32:チャックテーブル機構の案内レール 33:チャックテーブル 34:チャックテーブルの吸着チャック支持台 35:チャックテーブルの吸着チャック 351:チャックテーブルの吸着保持面 36:チャックテーブル機構の駆動手段 4:スピンドル支持機構 41、42:スピンドル支持機構の案内レール 43:スピンドル支持機構の可動支持基台 431:可動支持基台の移動支持部 432:可動支持基台のスピンドル装着部 44:スピンドル支持機構の駆動手段 5:スピンドルユニット 51:スピンドルユニットのスピンドルホルダ 52:スピンドルユニットのスピンドルハウジング 53:スピンドルユニットの回転軸 54:砥石 55:スピンドルユニットの駆動手段 2: Stationary base 3: Chuck table mechanism 31, 32: Guide rail of chuck table mechanism 33: Chuck table 34: Suction chuck support base of chuck table 35: Suction chuck of chuck table 351: Suction holding surface of chuck table 36: Drive means for chuck table mechanism 4: Spindle support mechanism 41, 42: Guide rail of spindle support mechanism 43: Movable support base of spindle support mechanism 431: Moving support section of movable support base 432: Spindle mounting of movable support base Part 44: Driving means of spindle support mechanism 5: Spindle unit 51: Spindle holder of spindle unit 52: Spindle housing of spindle unit 53: Rotation axis of spindle unit 54: Grinding wheel 55: Driving means of spindle unit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄板状の被加工物を載置する吸着保持面
を備え回転可能に構成されたチャックテーブルと、該チ
ャックテーブルの該吸着保持面と平行に配設された回転
軸を備えたスピンドルユニットと、該スピンドルユニッ
トの該回転軸に装着された円盤状の砥石とからなり、該
砥石を回転しその外周面を該チャックテーブルの吸着保
持面に吸着保持された被加工物に接触しつつ、該砥石と
該チャックテーブルとを研削送り方向に相対移動するよ
うに構成した研削装置において、 該チャックテーブルの吸着保持面を回転軸芯上を頂点と
した円錐形に形成するとともに、該砥石を研削領域にお
ける該吸着保持面と平行に相対移動するように構成し
た、 ことを特徴とする研削装置。
A chuck table configured to be rotatable and provided with a suction holding surface on which a thin plate-shaped workpiece is placed; and a rotary shaft disposed in parallel with the suction holding surface of the chuck table. A spindle unit and a disk-shaped grindstone mounted on the rotating shaft of the spindle unit. The grindstone is rotated, and its outer peripheral surface is brought into contact with the workpiece held by suction on the suction holding surface of the chuck table. A grinding apparatus configured to relatively move the grindstone and the chuck table in a grinding feed direction, wherein the suction holding surface of the chuck table is formed in a conical shape having a vertex on a rotation axis, and the grindstone is formed. Characterized in that it is configured to relatively move in parallel with the suction holding surface in the grinding area.
【請求項2】 円錐形に形成された該吸着保持面は、勾
配が0.00001〜0.001に設定されている請求
項1記載の研削装置。
2. The grinding apparatus according to claim 1, wherein the suction holding surface formed in a conical shape has a gradient set to 0.00001 to 0.001.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017112226A (en) * 2015-12-16 2017-06-22 株式会社ディスコ Processing method of multilayer substrate
JP2019005865A (en) * 2017-06-26 2019-01-17 株式会社ディスコ Workpiece processing method

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