JP2002184837A - 半導体チップ移送方法及び半導体チップ収納帯状体、並びにダイスピック装置及びバンプボンド装置及びフリップチップボンド装置 - Google Patents

半導体チップ移送方法及び半導体チップ収納帯状体、並びにダイスピック装置及びバンプボンド装置及びフリップチップボンド装置

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JP2002184837A
JP2002184837A JP2000383632A JP2000383632A JP2002184837A JP 2002184837 A JP2002184837 A JP 2002184837A JP 2000383632 A JP2000383632 A JP 2000383632A JP 2000383632 A JP2000383632 A JP 2000383632A JP 2002184837 A JP2002184837 A JP 2002184837A
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隆弘 米澤
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Tatsuo Sasaoka
達雄 笹岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄型の半導体チップを各工程間で搬送する間
に損傷を発生する恐れを無くすことができる半導体チッ
プ移送方法を提供する。 【解決手段】 ある程度の反り・曲げを作用させても割
れが発生しない厚みを有する薄型の半導体チップ1を、
ダイシングしたウエハから平坦な帯状薄板7上に等間隔
で連続的に載置し、帯状薄板7上に薄いフィルム13を
被せ、それらの両側で平面同士で結合して半導体チップ
1を挟み込み、半導体チップ1を収容保持した帯状体を
形成し、この帯状体を円筒状の収納リール16に巻き取
る。この収納リール16を次工程に搬送して収納リール
16から帯状体を繰り出しながらフィルム13を剥がす
ことで半導体チップ1を取り出すようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄型半導体を取り
扱う半導体実装設備において、ウエハから半導体チップ
を取り出した後、各工程の設備間で半導体チップを搬送
する方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、形態電話をはじめとするモバイル
機器の高機能化、ICカードの薄型化に対応して、これ
ら商品に搭載される半導体チップも益々薄型化、積層実
装化が進んでおり、薄型半導体チップの実装技術が重要
になってきている。半導体チップの厚みは0.3〜0.
4mmから0.05〜0.1mmまで薄型化が進んでい
る。
【0003】従来、半導体チップをダイボンダ、バンプ
ボンダ、フリップチップボンダなどの半導体実装設備に
供給する手段としては、2インチや4インチのワッフル
トレーを用いることが多い。
【0004】従来の導電性接着材をバンプに転写してフ
リップチップボンドするスタッドバンプボンディング
(SBB)工法による実装設備における半導体チップの
流れを図7(a)〜(c)に示す。
【0005】図7(a)において、1は半導体チップ、
2はエキスパンドシート、3はXYテーブル、4は突き
上げピン、5は移載アーム、40はワッフルトレーであ
り、図7(b)において、19は超音波ホーン、20は
加熱ステージ、21はレベリングステージ、22はレベ
リングプレートであり、図7(c)において、23は装
着ヘッド、24は反転ヘッド、25は基板、26は基板
ステージ、27は転写ユニット、28は導電性接着材で
ある。
【0006】図7(a)のダイスピック工程では、エキ
スパンドシート2上で個片にダイシングされた半導体チ
ップ1を突き上げピン4で順次突き上げ、移載アーム5
にて格子状に区切られたワッフルトレー40のポケット
に移載する。ワッフルトレー40のポケットの大きさは
今後半導体チップ1を取り出したり収納したりする必要
があるため、半導体チップ1の大きさより1割から2割
程度大きいのが一般的である。また、ポケットの深さも
ワッフルトレー40を上下に重ねて使用することと半導
体チップ1の回路面が損傷しないようにする必要から半
導体チップ1の厚みより0.2mm程深いのが一般的で
ある。このようなワッフルトレー40は何枚も用意さ
れ、各設備間の半導体チップの搬送に随時使用される。
ダイスピック工程で半導体チップ1を満載したワッフル
トレー40を作業者が図7(b)の次工程のバンプボン
ド工程に供給する。
【0007】バンプボンド工程では、ワッフルトレー4
0から移載アーム5で半導体チップ1を加熱ステージ2
0に移載し、超音波ホーン19を用いて半導体チップ1
の電極にバンプボンドする。次に、半導体チップ1を移
載アーム5で加熱ステージ20から取り出してレベリン
グステージ21に移載し、レベリングプレート22にて
上から押圧してバンプの頭頂を平坦にする。半導体チッ
プ1は再び移載アーム5で取り出し、ワッフルトレー4
0に収納する。バンプボンド工程で半導体チップ1を満
載したワッフルトレー40を作業者が図7(c)の次工
程のフリップチップボンド工程に供給する。
【0008】フリップチップボンド工程では、ワッフル
トレー40から半導体チップ1を反転ヘッド24で取り
出した後、その表裏が逆になるように反転ヘッド24が
上下に180°反転する。装着ヘッド23は反転ヘッド
24上の半導体チップ1を取り出し、転写ユニット27
で導電性接着材28を転写した後、基板ステージ26上
に位置決め固定された基板25上に移動し、認識により
位置ずれを補正して基板25上に装着する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように半導体チップ1の装置間での移送にワッフルトレ
ー40を用いる方法では、その半導体チップ1が0.1
mm以下のように非常に薄い場合において、ワッフルト
レー40のポケットと半導体チップ1の大きさや深さと
厚みの違いがあるため、作業者がワッフルトレー40を
搬送する間に、振動によって半導体チップ1がポケット
内で動き、衝撃で半導体チップ1が割れたり、コーナー
が欠けたりすることが多くなる。
【0010】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、薄型
の半導体チップを各工程間で搬送する間に損傷を発生す
る恐れを無くすことができる半導体チップ移送方法及び
半導体チップ収納帯状体、並びにダイスピック装置及び
バンプボンド装置及びフリップチップボンド装置を提供
することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体チップ移
送方法は、ある程度の反り・曲げを作用させても割れが
発生しない厚みを有する薄型の半導体チップを平坦な帯
状薄板上に等間隔で連続的に載置し、これら帯状薄板及
び半導体チップ上を薄いフィルムで覆ってその両側部を
平面同士で帯状薄板に結合して半導体チップを収納した
帯状体を形成し、この帯状体を移送するものであり、こ
のような構成により搬送中の振動で半導体チップの動き
が生じないために、衝撃で半導体チップが割れたり、コ
ーナーが欠けたりすることが無くなる。
【0012】また、ある程度の反り・曲げを作用させて
も割れが発生しない厚みを有する薄型の半導体チップ
を、ダイシングしたウエハから平坦な帯状薄板上に等間
隔で連続的に載置する工程と、帯状薄板上を薄いフィル
ムで覆ってその両側部を平面同士で帯状薄板に結合して
半導体チップを挟み込み、半導体チップを収納保持した
帯状体を形成する工程と、帯状体を円筒状のリールに巻
き取る工程と、リールを次工程に搬送する工程と、リー
ルから帯状体を繰り出しながらフィルムを剥がすことで
半導体チップを取り出す工程とを有すると、例えば厚み
が0.1mm以下で、大きさが10mm角程度の半導体
チップでは、帯状薄板をリールに巻き取って収納しても
自らの弾性変形でその曲率に馴染むことができ、割れな
どの損傷を起こすこともなく、半導体チップの収納量が
多くなれば、ワッフルトレーを重ねて収納する場合に比
べて取扱いも楽になる。
【0013】また、帯状薄板上の半導体チップの載置と
フィルムを被せる工程を、ダイシングしたウエハの表面
を真空雰囲気中でプラズマ洗浄した後その雰囲気中で行
うと、プラズマ洗浄により半導体チップ表面の不純物を
除去した後直ちにこの半導体チップを帯状薄板とフィル
ムによって挟み込んで外気に触れること無く真空パック
することができ、ワイヤボンドやバンプボンドする直前
にフィルムを剥がして、その工程に供給することにより
半導体チップ表面の不純物を非常に少なくできるためボ
ンディングの接合性を高めることができる。
【0014】また、金属製で長手方向に等間隔に穴を形
成した帯状薄板における各穴の上に半導体チップを載置
し、バンプボンド工程において、半導体チップを穴を通
じて吸着保持するとともに帯状薄板上で加熱し、またバ
ンプボンド済みの半導体チップを、帯状薄板を一定量送
ることで上下に対向する加圧手段の隙間に供給し、隙間
を狭めてバンプの頭頂を平坦にするレベリング工程を行
うと、バンプボンド工程において、半導体チップを供給
部から加熱ステージへ、また加熱ステージからレベリン
グステージへ移載アームを用いずに移載して連続生産す
ることができ、移載アームにて半導体チップを取り出す
際の半導体チップの損傷を無くすことができる。
【0015】また、半導体チップをフリップチップボン
ドする工程において、フィルムが下側になるようにリー
ルを設置し、半導体チップを下向きに取り出すと、半導
体チップを表裏反転して供給できるので、半導体チップ
を表裏反転する機構を不要とすることができ、装着ヘッ
ドにて直接半導体チップを取り出して装着することがで
き、反転ヘッドで半導体チップを取り出す際に生じる損
傷の機会を無くすことができ、またフリップチップボン
ド設備のコストダウンやコンパクト化も図ることができ
る。
【0016】また、本発明の半導体チップ収納帯状体
は、平坦な帯状薄板上に、ある程度の反り・曲げを作用
させても割れが発生しない厚みを有する薄型の半導体チ
ップを等間隔で連続的に配置し、帯状薄板及び半導体チ
ップの上を薄いフィルムで覆うとともにその両側部を平
面同士で帯状薄板に結合し、半導体チップを収納保持し
た帯状体を構成したものであり、上記移送方法を実施し
てその効果を奏することができる。
【0017】また、帯状薄板とフィルムを、フィルムの
両側部に塗布したUV光の照射にて粘着性が変化する接
着剤にて結合すると、半導体チップの取り出し時にUV
光を照射するだけでフィルムを微弱な力で剥離できるよ
うにすることができる。
【0018】また、帯状薄板が金属板から成り、その半
導体チップ配置位置に吸着用の穴を形成すると、上記の
ように帯状薄板上で半導体チップを吸着してバンプボン
ド等の処理を行うことができ、また帯状薄板上に載置し
たまま半導体チップを工程間で移動させることができ
る。
【0019】また、本発明のダイスピック装置は、半導
体チップの供給部と、平坦な帯状薄板を巻回した供給リ
ールから帯状薄板を引き出して所定の移動経路に沿って
所定ピッチ間隔で間欠移動させて収納リールに巻き取る
帯状薄板送り手段と、供給部から帯状薄板上に半導体チ
ップを載置する移載手段と、帯状薄板上を覆うように薄
いフィルムを供給してその両側部を帯状薄板に結合させ
るフィルム被覆手段とを備えたものであり、上記半導体
チップ収納帯状体を製造することができる。
【0020】また、帯状薄板の移動経路に、半導体チッ
プの表面をプラズマ洗浄するプラズマ発生装置を配設し
た真空チャンバを配設すると、上記のように半導体チッ
プの表面を洗浄できてボンディングの接合性を高めるこ
とができる。
【0021】また、真空チャンバ内にフィルム被覆手段
を配設すると、真空チャンバから出るとフィルムにて半
導体チップが拘束されてその移動を確実に防止できると
ともに、外気に触れること無く移送することができて半
導体チップ表面の不純物を非常に少なくできる。
【0022】また、本発明のバンプボンド装置は、半導
体チップを帯状薄板上に載置しフィルムで覆って成る半
導体チップ収納帯状体を供給リールから引き出して所定
の移動経路に沿って所定ピッチ間隔で間欠移動させ収納
リールに巻き取る帯状体送り手段と、半導体チップ上に
バンプを形成するバンプ形成手段と、帯状体送り手段の
移動経路上でフィルムを剥がす手段と、帯状薄板上の半
導体チップを取り出してバンプ形成手段に移載し、バン
プボンド処理の完了した半導体チップを帯状薄板上に載
置する移載手段と、帯状体送り手段の移動経路上でフィ
ルムを被覆する手段とを備えたものであり、半導体チッ
プに割れや欠けを生じることなくバンプボンドして次工
程に供給することができる。
【0023】また、半導体チップを帯状薄板上に載置し
フィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リ
ールから引き出して所定の移動経路に沿って所定ピッチ
間隔で間欠移動させ収納リールに巻き取る帯状体送り手
段と、半導体チップ上に帯状体送り手段の移動経路上で
フィルムを剥がす手段と、帯状体送り手段の移動経路上
で帯状薄板上の半導体チップ上にバンプを形成するバン
プ形成手段と、帯状体送り手段の移動経路上でフィルム
を被覆する手段とを備えると、半導体チップを移載する
ことなく、さらに半導体チップに割れや欠けを生じるこ
となくバンプボンドして次工程に供給することができ
る。
【0024】また、帯状薄板に半導体チップを吸着する
ための穴を設け、バンプ形成手段のステージには帯状薄
板に形成された穴に対応して吸着源に接続された吸着経
路を設けると、半導体チップを帯状薄板上に載置したま
ま、半導体チップに割れや欠けを生じることなく、かつ
効率的にバンプボンドして次工程に供給することができ
る。
【0025】また、バンプ形成手段は、帯状薄板を支持
する加熱ステージとバンプを形成する超音波ホーン、及
び帯状薄板を支持するレベリングステージとバンプの頭
頂を押圧して平坦にするレベリングプレートとを備えて
いると、頭頂が平坦なバンプを効率的に形成することが
できる。
【0026】また、本発明のフリップチップボンド装置
は、半導体チップを帯状薄板上に載置しフィルムで覆っ
て成る半導体チップ収納帯状体を供給リールから引き出
して所定の移動経路に沿って所定ピッチ間隔で間欠移動
させ収納リールに巻き取る帯状体送り手段と、帯状体送
り手段の移動経路上でフィルムを剥がす手段と、帯状薄
板上の半導体チップを取り出して上下を反転させる反転
ヘッドと、反転ヘッド上の半導体チップを取り出して基
板上に装着する装着ヘッドとを備えたものであり、半導
体チップに割れや欠けを生じることなく、基板に半導体
チップを装着することができる。
【0027】また、半導体チップを帯状薄板上に載置し
フィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リ
ールからフィルムを下側にして引き出して所定の移動経
路に沿って所定ピッチ間隔で間欠移動させる帯状体送り
手段と、帯状薄板とフィルムを剥離して移動経路の上方
に配設された収納リールに帯状薄板を巻き取る手段と、
フィルムをさらに水平に移動させた後巻き取る手段と、
フィルム上の半導体チップを取り出して基板上に装着す
る装着ヘッドとを備えると、半導体チップを反転ヘッド
で反転させる動作無しで基板に半導体チップを装着する
ことができ、さらに半導体チップに割れや欠けを生じる
のを少なくできるとともに、コストダウン及びコンパク
ト化を図ることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体チップの移
送方法及び及び半導体チップ集合体、並びにダイスピッ
ク装置及びバンプボンド装置及びフリップチップボンド
装置の各実施形態について、図1〜図6を参照して説明
する。尚、図7を参照して説明した構成要素と同一の構
成要素については、同一参照符号を付して説明を省略す
る。
【0029】(第1の実施形態)図1〜図3は、本発明
の半導体チップの移送方法を、半導体チップのバンプに
導電性接着材を転写してフリップチップボンドするスタ
ッドバンプボンディング(SBB)工法に適用した実施
形態を示す。
【0030】図1は、ダイスピック装置を示す。図1に
おいて、6は供給リール、7は帯状薄板、8は真空チャ
ンバ、9a、9bは真空チャンバ8の入口と出口のド
ア、10は真空ポンプ、11はバルブ、12はプラズマ
発生装置、13はフィルム、14はフィルム13を帯状
薄板7に結合する圧着ローラ、15は送り用のスプロケ
ット、16は収納リール、17は供給リールモータ、1
8は収納リールモータであり、30は半導体チップ収納
帯状体である。
【0031】エキスパンドシート2上に貼り付けられ、
個片にダイシングされた半導体チップ1は、ダイスピッ
ク装置に供給され、XY方向に移動可能なXYテーブル
3で突き上げピン4の上に移動し、突き上げピン4が上
昇してエキスパンドシート2と半導体チップ1の裏面と
を分離する。移載アーム5がこの半導体チップ1をエキ
スパンドシート2から取り出し、帯状薄板7の所定の移
載位置に載置する。
【0032】帯状薄板7は、厚みが均一で平坦な1本の
帯材であり、厚みが0.1mm程度で幅が約30mmの
ステンレス鋼板にて構成されている。また、ピッチ送り
可能なように両側にスプロケット15の歯と噛み合うよ
うに等間隔に送り穴35(図5参照)が形成されていて
送り量はスプロケット15の回転量で制御される。帯状
薄板7は供給リール6から半導体チップ1の移載位置を
通り、真空チャンバ8内のプラズマ発生装置12による
プラズマ洗浄位置を通って収納リール16に巻き取られ
ていく。帯状薄板7は半導体チップ1の移載が完了する
度に、モータ17で回転量が制御された供給リール6か
ら一定量引き出され、その分だけ同様にモータ18で回
転量が制御された収納リール16が巻き取って収納して
いく。
【0033】移載アーム5が帯状薄板7上に半導体チッ
プ1を載置すると、スプロケット15が一定量回転し、
次の半導体チップ1の載置を可能にする。この一連の動
きで半導体チップ1は帯状薄板7とともに真空チャンバ
8内に引き込まれる。真空チャンバ8の入口と出口のド
ア9a、9bは、内部の真空を保つために帯状薄板7の
搬送動作と連動して開閉される。真空チャンバ8の入
口、出口とドア9a、9bの間には帯状薄板7の厚み分
の隙間が設けられている。帯状薄板7を送る時には、バ
ルブ11が開いて真空チャンバ8内の圧力が大気圧に戻
され、ドア9a、9bが開放されると、半導体チップ1
が載置された帯状薄板7を真空チャンバ8内に引き込む
ように構成されている。
【0034】真空チャンバ8内ではプラズマ発生装置1
2によるプラズマ洗浄にて半導体チップ1上の有機性の
不純物を除去し、次工程でのバンプボンドやワイヤボン
ドなどの金属間接合の強度を高め、不着の不良を無くし
ている。
【0035】こうして帯状薄板7は一定量づつ順次送ら
れていき、両側にUV接着剤を塗布したフィルム13を
圧着ローラ14によって押圧して帯状薄板7に貼り付
け、半導体チップ1を帯状薄板7とフィルム13にて挟
み込む。このとき、圧着ローラ14の形状は、半導体チ
ップ1を押圧しないようにその厚み分だけ中央部の直径
が小さく、UV接着剤を塗布した部分のみが押圧できる
ように両端部の直径が大きくなっている。こうして半導
体チップ収納帯状体30が形成される。
【0036】この半導体チップ収納帯状体30が真空チ
ャンバ8の出口のドア9bを通過すると、帯状薄板7と
フィルム13との隙間は真空が残留しているので、フィ
ルム13は半導体チップ1の外形に倣うように変形し、
その表面張力によって半導体チップ1が振動などで帯状
薄板7上で動いたり、飛び跳ねたりするのを防ぐ。
【0037】最後に、帯状薄板7とフィルム13によっ
て半導体チップ1を保持した半導体チップ収納帯状体3
0が収納リール16に巻き取られていく。このとき薄型
の半導体チップ1が反りによって割れないような曲率に
するため、収納リール16の直径は約400mm以上に
する。収納リール16が半径方向に潰れないようにする
ためと、巻き取り時にリールの軸方向にずれないように
するために、収納リール16の両端にはフランジを取り
付けられている。
【0038】半導体チップ収納帯状体30が全て収納リ
ール16に巻き取られると、これをダイスピック設備か
ら取り外し、上記と同様な帯状薄板7の一定量送り機構
を備えた次工程のバンプボンド装置に供給する。
【0039】図2にバンプボンド装置を示す。図2にお
いて、29はUVランプである。バンプボンドするため
に半導体チップ1を帯状薄板7から取り出す際、UV接
着剤でフィルム13が結合している部分にUV光を照射
するとその粘着性が失われ、帯状薄板7からフィルム1
3を微弱な力で引き剥がすことができる。フィルム13
を除去された帯状薄板7上に置かれている半導体チップ
1を移載アーム5にて取り出し、加熱ステージ20に移
載し、超音波ホーン19にてバンプボンドが行われる。
バンプボンドが完了した半導体チップ1は移載アーム5
でレベリングステージ21に移載され、移載アーム5は
退避してレベリングプレート22で半導体チップ1を上
から押圧してバンプの頭頂を平坦にする。
【0040】半導体チップ1は再び移載アーム5で取り
出され、当初半導体チップ1を取り出した位置から数ピ
ッチ先の帯状薄板7上に載置される。この後、ダイスピ
ック装置と同様な方法でフィルム13を半導体チップ1
上から覆い被せて収納リール16に巻き取って行く。た
だし、この工程でフィルム13を押圧する圧着ローラ1
4の中央部の直径は、半導体チップ1の厚みに加えバン
プの高さ分小さくする必要がある。また、フィルム13
の材質は、その表面張力によってバンプが変形しないよ
うに軟質の材料を選定する。
【0041】帯状薄板7が全て収納リール16に巻き取
られると、これをバンプボンド装置から取り外し、上記
と同様な帯状薄板7の一定量送り機構を備えた次工程の
フリップチップボンド装置に供給する。
【0042】図3にフリップチップボンド装置を示す。
図3において、フリップチップボンド工程では、帯状薄
板7から半導体チップ1を反転ヘッド24で取り出した
後、これの表裏が逆になるように反転ヘッド24が上下
に180°反転する。装着ヘッド23は反転ヘッド24
上の半導体チップ1を取り出し、転写ユニット27で導
電性接着剤28を転写すると基板ステージ26上に位置
決め固定されている基板25上に移動し、認識により位
置ずれを補正して基板25上に装着する。
【0043】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態におけるバンプボンド装置について、図4、図
5を参照して説明する。
【0044】本実施形態においては、図4に示すよう
に、帯状薄板7の流れとバンプボンドを行う加熱ステー
ジ20とレベリングステージ21が同一線上に配置され
ている。第1の実施形態と同様の方法で供給される帯状
薄板7に、図5に示すように、予め半導体チップ1を吸
着保持するのに必要な数だけ小径の穴31(31a、3
1b)が開けられている。この穴31はエッチングなど
の方法によりバリやかえりの無いものが得られ、精度良
く連続的に加工できる。帯状薄板7の穴31の配置は、
図5に示すように、半導体チップ1の中心に対して対角
方向に放射状に複数の穴31a、31bを配置するのが
良い。
【0045】また、加熱ステージ20やレベリングステ
ージ21には、帯状薄板7の穴31(31a、31b)
に対応して吸着溝32(32a、32b)が設けられ、
それぞれ吸引経路33(33a、33b)に接続され、
かつ品種切替えなどで半導体チップ1の大きさが変われ
ば吸引経路33a、33bをバルブ34の切替えにて任
意に選択できるように構成されている。例えば、10m
m角の半導体チップ1であれば、13mm角に設けられ
た吸着溝32aを用いず、8mm角に設けられた吸着溝
32bと帯状薄板7にこれと対応して配置された穴31
bを通じて半導体チップ1を吸着保持する。図5中、3
5は送り穴である。
【0046】供給リール6から引き出された帯状薄板7
は、第1の実施形態と同様の方法でフイルム13を引き
剥がした後、そのまま加熱ステージ20上に半導体チッ
プ1を供給する。帯状薄板7を通して半導体チップ1は
加熱され、さらには加熱ステージ20に設けられた吸着
溝32と穴31を通して吸着保持されるので、帯状薄板
7上でのバンプボンドが可能になる。
【0047】バンプボンドが完了すると、スプロケット
15によって帯状薄板7は一定量送られ、この一連の動
きで半導体チップ1はレベリングステージ21上に供給
される。加熱ステージ20と同様に半導体チップ1を吸
着保持し、レベリングプレート22を下降させてバンプ
頭頂を所定の高さに平坦にそろえる。帯状薄板7は非常
に薄く、厚みを均一に製作できるので、頭頂高さがばら
ついたり、傾くことは少ない。
【0048】さらに、帯状薄板7が送られると、第1の
実施形態と同様にフィルム13が被された後収納リール
16に巻き取られ、フリップチップボンド装置に供給さ
れる。このような方法によれば、品種切替え時に生じる
帯状薄板7や加熱ステージ20、レベリングステージ2
1の交換作業を不要にできる。
【0049】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態におけるフリップチップボンド装置について、
図6を参照して説明する。
【0050】本実施形態のフリップチップボンド装置に
おいては、図6に示すように、帯状薄板7の供給リール
6からの引き出し方法が第1の実施形態とは異なり、フ
ィルム13が帯状薄板7の下側になるように供給リール
6が設置される。UVランプ29で帯状薄板7の下側か
らUV光を照射してフィルム13と分離し、上方に配置
された収納リール16で帯状薄板7を巻き取り、フィル
ム13を水平方向に引き出し、スプロケット15にて送
ってフィルム収納リール36で巻き取っていくことで、
このフィルム13上に回路面を下側に向けて半導体チッ
プ1を受けて取り出し位置に供給する。
【0051】このような場合はフィルム13側にもピッ
チ送りが可能なように両側にスプロケット15の歯と噛
み合うように等間隔に送り穴を開けておき、送り量をス
プロケット15の回転量で制御する。
【0052】このように供給された半導体チップ1は装
着ヘッド23により取り出されて基板25上に実装され
る。
【0053】
【発明の効果】本発明によれば、以上のようにある程度
の反り・曲げを作用させても割れが発生しない厚みを有
する薄型の半導体チップを平坦な帯状薄板上に等間隔で
連続的に載置し、これら帯状薄板及び半導体チップ上を
薄いフィルムで覆ってその両側部を平面同士で帯状薄板
に結合して半導体チップを収納した帯状体を形成し、こ
の帯状体を移送するので、移送中の振動で半導体チップ
の動きが生じないために、衝撃で半導体チップが割れた
り、コーナーが欠けたりすることが無くなり、また半導
体チップの収納量が多くなっても従来のワッフルトレー
の場合に比べて取扱いも楽になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体チップ移送方
法を適用したダイスピック装置の概略構成図である。
【図2】同実施形態の半導体チップ移送方法を適用した
バンプボンド装置の概略構成図である。
【図3】同実施形態の半導体チップ移送方法を適用した
フリップチップボンド装置の概略構成図である。
【図4】本発明の第2の実施形態の半導体チップ移送方
法を適用したバンプボンド装置の概略構成図である。
【図5】同実施形態の半導体チップ移送方法を適用した
バンプボンド装置における要部の詳細を示し、(a)は
平面図、(b)は正面図である。
【図6】本発明の第3の実施形態の半導体チップ移送方
法を適用したフリップチップボンド装置の概略構成図で
ある。
【図7】従来例の半導体チップ移送方法を適用した半導
体実装設備を示し、(a)はダイスピック工程の概略構
成図、(b)はバンプボンド工程の概略構成図、(c)
はフリップチップボンド工程の概略構成図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ 5 移載アーム 6 供給リール 7 帯状薄板 8 真空チャンバ 12 プラズマ発生装置 13 フィルム 14 圧着ローラ 15 スプロケット 16 収納リール 19 超音波ホーン 20 加熱ステージ 21 レベリングステージ 22 レベリングプレート 23 装着ヘッド 24 反転ヘッド 25 基板 30 半導体チップ収納帯状体 31 穴 32 吸着溝 33 吸引経路 36 フィルム収納リール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳永 哲也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 笹岡 達雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3E067 AA11 AB41 AC18 BA31A BB11A EA04 EE46 FA09 GD08 5F031 CA13 DA15 DA20 EA01 EA14 FA03 FA05 FA09 FA11 FA21 FA22 GA23 MA23 MA35 MA37 MA38 MA39 MA40 NA05 NA07 PA20

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ある程度の反り・曲げを作用させても割
    れが発生しない厚みを有する薄型の半導体チップを平坦
    な帯状薄板上に等間隔で連続的に載置し、これら帯状薄
    板及び半導体チップ上を薄いフィルムで覆ってその両側
    部を平面同士で帯状薄板に結合して半導体チップを収納
    した帯状体を形成し、この帯状体を移送することを特徴
    とする半導体チップ移送方法。
  2. 【請求項2】 ある程度の反り・曲げを作用させても割
    れが発生しない厚みを有する薄型の半導体チップを、ダ
    イシングしたウエハから平坦な帯状薄板上に等間隔で連
    続的に載置する工程と、帯状薄板上を薄いフィルムで覆
    ってその両側部を平面同士で帯状薄板に結合して半導体
    チップを挟み込み、半導体チップを収納保持した帯状体
    を形成する工程と、帯状体を円筒状のリールに巻き取る
    工程と、リールを次工程に搬送する工程と、リールから
    帯状体を繰り出しながらフィルムを剥がすことで半導体
    チップを取り出す工程とを有することを特徴とする半導
    体チップ移送方法。
  3. 【請求項3】 帯状薄板上の半導体チップの載置とフィ
    ルムを被せる工程を、ダイシングしたウエハの表面を真
    空雰囲気中でプラズマ洗浄した後その雰囲気中で行うこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載の半導体チップ移送
    方法。
  4. 【請求項4】 金属製で長手方向に等間隔に穴を形成し
    た帯状薄板における各穴の上に半導体チップを載置し、
    バンプボンド工程において、半導体チップを穴を通じて
    吸着保持するとともに帯状薄板上で加熱することを特徴
    とする請求項1〜3の何れかに記載の半導体チップ移送
    方法。
  5. 【請求項5】 バンプボンド済みの半導体チップを、帯
    状薄板を一定量送ることで上下に対向する加圧手段の隙
    間に供給し、隙間を狭めてバンプの頭頂を平坦にするレ
    ベリング工程を行うことを特徴とする請求項4記載の半
    導体チップ移送方法。
  6. 【請求項6】 半導体チップをフリップチップボンドす
    る工程において、フィルムが下側になるようにリールを
    設置し、半導体チップを下向きに取り出すことを特徴と
    する請求項1〜5の何れかに記載の半導体チップ移送方
    法。
  7. 【請求項7】 平坦な帯状薄板上に、ある程度の反り・
    曲げを作用させても割れが発生しない厚みを有する薄型
    の半導体チップを等間隔で連続的に配置し、帯状薄板及
    び半導体チップの上を薄いフィルムで覆うとともにその
    両側部を平面同士で帯状薄板に結合し、半導体チップを
    収納保持した帯状体を構成したことを特徴とする半導体
    チップ収納帯状体。
  8. 【請求項8】 帯状薄板とフィルムは、フィルムの両側
    部に塗布したUV光の照射にて粘着性が変化する接着剤
    にて結合したことを特徴とする請求項7記載の半導体チ
    ップ収納帯状体。
  9. 【請求項9】 帯状薄板が金属板から成り、その半導体
    チップ配置位置に吸着用の穴を形成したことを特徴とす
    る請求項7又は8記載の半導体チップ収納帯状体。
  10. 【請求項10】 半導体チップの供給部と、平坦な帯状
    薄板を巻回した供給リールから帯状薄板を引き出して所
    定の移動経路に沿って所定ピッチ間隔で間欠移動させて
    収納リールに巻き取る帯状薄板送り手段と、供給部から
    帯状薄板上に半導体チップを載置する移載手段と、帯状
    薄板上を覆うように薄いフィルムを供給してその両側部
    を帯状薄板に結合させるフィルム被覆手段とを備えたこ
    とを特徴とするダイスピック装置。
  11. 【請求項11】 帯状薄板の移動経路に、半導体チップ
    の表面をプラズマ洗浄するプラズマ発生装置を配設した
    真空チャンバを配設したことを特徴とする請求項10記
    載のダイスピック装置。
  12. 【請求項12】 真空チャンバ内にフィルム被覆手段を
    配設したことを特徴とする請求項11記載のダイスピッ
    ク装置。
  13. 【請求項13】 半導体チップを帯状薄板上に載置しフ
    ィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リー
    ルから引き出して所定の移動経路に沿って所定ピッチ間
    隔で間欠移動させ収納リールに巻き取る帯状体送り手段
    と、半導体チップ上にバンプを形成するバンプ形成手段
    と、帯状体送り手段の移動経路上でフィルムを剥がす手
    段と、帯状薄板上の半導体チップを取り出してバンプ形
    成手段に移載し、バンプボンド処理の完了した半導体チ
    ップを帯状薄板上に載置する移載手段と、帯状体送り手
    段の移動経路上でフィルムを被覆する手段とを備えたこ
    とを特徴とするバンプボンド装置。
  14. 【請求項14】 半導体チップを帯状薄板上に載置しフ
    ィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リー
    ルから引き出して所定の移動経路に沿って所定ピッチ間
    隔で間欠移動させ収納リールに巻き取る帯状体送り手段
    と、半導体チップ上に帯状体送り手段の移動経路上でフ
    ィルムを剥がす手段と、帯状体送り手段の移動経路上で
    帯状薄板上の半導体チップ上にバンプを形成するバンプ
    形成手段と、帯状体送り手段の移動経路上でフィルムを
    被覆する手段とを備えたことを特徴とするバンプボンド
    装置。
  15. 【請求項15】 帯状薄板に半導体チップを吸着するた
    めの穴を設け、バンプ形成手段のステージには帯状薄板
    に形成された穴に対応して吸着源に接続された吸着経路
    を設けたことを特徴とすることを特徴とする請求項14
    記載のバンプボンド装置。
  16. 【請求項16】 バンプ形成手段は、帯状薄板を支持す
    る加熱ステージとバンプを形成する超音波ホーン、及び
    帯状薄板を支持するレベリングステージとバンプの頭頂
    を押圧して平坦にするレベリングプレートとを備えてい
    ることを特徴とする請求項14又は15記載のバンプボ
    ンド装置。
  17. 【請求項17】 半導体チップを帯状薄板上に載置しフ
    ィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リー
    ルから引き出して所定の移動経路に沿って所定ピッチ間
    隔で間欠移動させ収納リールに巻き取る帯状体送り手段
    と、帯状体送り手段の移動経路上でフィルムを剥がす手
    段と、帯状薄板上の半導体チップを取り出して上下を反
    転させる反転ヘッドと、反転ヘッド上の半導体チップを
    取り出して基板上に装着する装着ヘッドとを備えたこと
    を特徴とするフリップチップボンド装置。
  18. 【請求項18】 半導体チップを帯状薄板上に載置しフ
    ィルムで覆って成る半導体チップ収納帯状体を供給リー
    ルからフィルムを下側にして引き出して所定の移動経路
    に沿って所定ピッチ間隔で間欠移動させる帯状体送り手
    段と、帯状薄板とフィルムを剥離して移動経路の上方に
    配設された収納リールに帯状薄板を巻き取る手段と、フ
    ィルムをさらに水平に移動させた後巻き取る手段と、フ
    ィルム上の半導体チップを取り出して基板上に装着する
    装着ヘッドとを備えたことを特徴とするフリップチップ
    ボンド装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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