JP2002184572A - 有機ｅｌ素子の製造方法、及び該方法を用いて製造した有機ｅｌ素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機ＥＬ素子の耐久性を向上させる。 【解決手段】 有機ＥＬ素子は、透明支持体１の表面に
有機物を含む紫外線吸収層５を形成し、この上に陽極層
２、単数または複数層の有機化合物層３、及び陰極層４
を順に積層して構成される。上記の紫外線吸収層５を備
えることにより、有機化合物層３の劣化を防ぐことがで
き、これにより有機ＥＬ素子の耐久性を向上さえること
がでる。紫外線吸収層３としては、Ｎ−１置換アニリン
誘導体を含む紫外線吸収層を形成することにより高い耐
久性が得られる。このような紫外線吸収層５は、透明支
持体１と陽極層２の間に設けてもよく、また透明支持体
１における陽極層２の反対側に設けてもよい。また紫外
線吸収層５の材料で、各電極部を封止する封止層５'を
形成してもよく、また紫外線吸収層５にさらに保護層を
形成してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ素子の製
造方法及び該方法によって製造された有機ＥＬ素子、よ
り詳細には、透明支持体上に陽極及び陰極とこれらの間
に挟持された単層または複数層の有機化合物層より構成
される有機ＥＬ素子に有機物を含む紫外線吸収層を設け
た有機ＥＬ素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報機器の多様化及び省スペース
化に伴い、ＣＲＴよりも低消費電力で空間占有面積の小
さい平面表示素子へのニーズが高まってきている。この
ような平面表示装置としては、液晶やプラズマディスプ
レイ等があるが、特に最近は自己発光型で表示が鮮明
な、また、直流低電圧駆動が可能な有機ＥＬ素子への期
待が高まっている。

【０００３】有機ＥＬ素子の素子構造としては、これま
で２層構造（陽極と陰極の間にホール注入輸送層と発光
層が形成された構造（ＳＨ−Ａ構造）（特開昭５９−１
９４３９３号公報、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５
１，９１３（１９８７））、または、陽極と陰極の間に
発光層と電子注入輸送層が形成された構造（ＳＨ−Ｂ構
造）（ＵＳＰＮｏ．５０８５９４７、特開平２−２５０
９２号公報、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５５，１
４８９（１９８９））、あるいは３層構造（陽極と陰極
の間にホール注入輸送層／発光層／電子注入輸送層が形
成された構造（ＤＨ構造）（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅ
ｔｔ．５７，５３１（１９９０））等の積層型の素子構
造が報告されている。

【０００４】さらに最近では２層以上のホール注入輸送
層もしくは電子注入輸送層から構成されたＥＬ素子構造
が報告されている（特開平５−９４８８０号公報、ＵＳ
Ｐ４７２０４３２号）。上記陽極としては、ＡｕやＩＴ
Ｏ（インジウム−スズ酸化物）などの様な仕事関数の大
きな電極材料を用い、陰極としてはＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等
及びそれらの合金等の仕事関数の小さな電極材料を用い
る。

【０００５】また、現在まで、上記ホール注入輸送層、
発光層、電子注入輸送層に使用可能な材料として様々な
有機化合物が報告されている。これらに使用される有機
材料としては、例えば、ホール注入輸送層としては芳香
族第３級アミン、フタロシアニン類等が、また発光層材
料としてはアルミニウムトリスオキシン（特開昭５９−
１９４３９３号公報、特開昭６３−２９５６９５号公
報）、スチリルアミン誘導体、スチリルベンゼン誘導体
（特開平２−２０９９８８号公報）、アミノピレン誘導
体等が、また、電子注入輸送層としてはオキサジアゾー
ル誘導体（日本化学会誌Ｎｏ.１１、１５４０（１９９
１）、特開平４−３６３８９４号公報、特開平５−２０
２０１１号公報）等が報告されている。

【０００６】現在まで様々な素子構造及び有機材料を用
いることにより、初期的には１０００ｃｄ／ｍ²以上の
高輝度発光、駆動電圧１０Ｖ以下のＥＬ素子が得られて
いる。さらに有機材料の特徴であるが、分子設計等によ
り様々な新規材料が発明され、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色の発
光も盛んに研究されている。

【０００７】しかし上記のような有機ＥＬ素子は、酸
化、湿気、紫外線により劣化して発光素子としての機能
を損ないやすい。そのため有機ＥＬ構造体をガラスや金
属等で覆い封止している。さらに水蒸気による酸化防止
のため吸湿剤を配置する方法（特開平５−４１２８１号
公報）、不活性液体を充填する方法（特開平８−７８１
５９号公報）、ゲル被覆体を充填する方法（特開平９−
２０４９８１号公報）、さらには有機ＥＬ素子上に光硬
化樹脂を塗布する方法（特開平４−２６７０９７号公
報）などが知られている。しかしながらいずれも封止効
果は不十分で素子の劣化を抑えられず素子寿命を延ばす
ことは困難であった。

【０００８】有機ＥＬ素子の劣化を抑えられない原因の
一つとして透明支持体側からの紫外線による光劣化があ
げられる。通常用いられる支持体であるアクリルガラス
は３００ｎｍ以上の波長の紫外線を通すため、透明支持
体側からの紫外線により有機化合物層が劣化を起こす。
このような劣化を防ぐため金属酸化物を含む層を透明支
持体に形成して紫外線を遮断する方法が知られている
（特開平４−３３４８９５号公報）。

【０００９】しかしながら上述の方法は、金属酸化物層
を用いるため透明性に問題があり実用的でなかった。ま
た、有機化合物層との接着性、屈折率の違いによる視認
性、及び金属酸化物層での反射による視認性に問題があ
り、さらに塗布に手間がかかり実用的でなかった。それ
ゆえ透明支持体及び有機化合物層との接着性、視認性、
塗布の容易性に優れている有機物からなる紫外線吸収層
の形成方法について実現が望まれている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のごと
き実情に鑑みてなされたもので、透明支持体上に陽極及
び陰極とこれらの間に挟持された単層または複数層の有
機化合物層より構成される有機ＥＬ素子に有機物を含む
紫外線吸収層を設けた有機ＥＬ素子の製造方法及び該方
法により製造された有機ＥＬ素子を提供することを目的
とするものである。

【００１１】また、本発明は、透明支持体上に陽極及び
陰極とこれらの間に挟持された単層または複数層の有機
化合物層より構成される有機ＥＬ素子にＮ−１置換アニ
リン誘導体を含む紫外線吸収層を設けることにより、耐
久性を向上させた有機ＥＬ素子の製造方法及び該方法を
用いた有機ＥＬ素子を提供することを目的とするもので
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、透明
支持体上に陽極、陰極及び該陽極と陰極との間に挟持さ
れた単層または複数層の有機化合物層が設けられた構成
を少なくとも有する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記透明支持体の表面に有機物を含む紫外線吸収層を形
成するステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極層、
前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層するステ
ップとを有することを特徴としたものである。

【００１３】請求項２の発明は、透明支持体上に陽極、
陰極及び該陽極と陰極との間に挟持された単層または複
数層の有機化合物層が設けられた構成を少なくとも有す
る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持体上
に有機物を含む紫外線吸収層を形成するステップと、前
記透明支持体における該紫外線吸収層の形成面とは反対
側の表面に前記陽極層、前記有機化合物層、及び陰極層
を順に積層するステップとを有することを特徴としたも
のである。

【００１４】請求項３の発明は、透明支持体上に陽極、
陰極及び該陽極と陰極との間に挟持された単層または複
数層の有機化合物層が設けられた構成を少なくとも有す
る有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持体上
に有機物を含む紫外線吸収層を形成するステップと、前
記紫外線吸収層の上に保護層を設けるステップと、前記
透明支持体における該紫外線吸収層の形成面とは反対側
の表面に前記陽極層、前記有機化合物層、及び前記陰極
層を順に積層するステップとを有することを特徴とした
ものである。

【００１５】請求項４の発明は、請求項１ないし３のい
ずれか１の発明において、前記紫外線吸収層を形成した
材料によって前記陽極層、前記有機化合物層、及び前記
陰極層よりなる積層体を封止する封止層を形成するステ
ップをさらに有することを特徴としたものである。

【００１６】請求項５の発明は、請求項３の発明におい
て、前記紫外線吸収層を形成した材料または前記保護層
を形成した材料によって前記陽極層、前記有機化合物
層、及び前記陰極層よりなる積層体を封止する封止層を
形成するステップをさらに有することを特徴としたもの
である。

【００１７】請求項６の発明は、請求項４の発明におい
て、前記紫外線吸収層上及び前記封止層のそれぞれの上
に保護層を形成することを特徴としたものである。

【００１８】請求項７の発明は、請求項１ないし６のい
ずれか１の発明において、前記紫外吸収層に酸化防止剤
を添加することを特徴としたものである。

【００１９】請求項８の発明は、請求項７の発明におい
て、前記酸化防止剤は、少なくともヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤を含むことを特徴としたものである。

【００２０】請求項９の発明は、請求項１ないし８のい
ずれか１の発明において、前記透明支持体は、アクリル
ガラスであることを特徴としたものである。

【００２１】請求項１０の発明は、請求項１ないし８の
いずれか１の発明において、前記透明支持体は、透明樹
脂フイルムであることを特徴としたものである。

【００２２】請求項１１の発明は、透明支持体上に陽
極、陰極及び該陽極と陰極との間に挟持された単層また
は複数層の有機化合物層が設けられた構成を少なくとも
有する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持
体の表面に一般式

【数３】 で示されるＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収
層を設けるステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極
層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層する
ステップとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製
造方法。（ここでＲ₁は枝分かれしていてもよいアルキ
ル基またはアルケニル基、Ｒ₂〜Ｒ ₆はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アルキルチオ基アリ
ールチオ基を示す。あるいは隣接部位と共に連結されて
環を形成しても良い）

【００２３】請求項１２の発明は、透明支持体上に陽
極、陰極及び該陽極と陰極との間に挟持された単層また
は複数層の有機化合物層が設けられた構成を少なくとも
有する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持
体における該紫外線吸収層の形成面とは反対側の表面に
一般式

【数４】 で示されるＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収
層を設けるステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極
層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層する
ステップとを有することを特徴としたものである。（こ
こでＲ₁は枝分かれしていてもよいアルキル基またはア
ルケニル基、Ｒ₂〜Ｒ ₆はそれぞれ独立に水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アルキルチオ基アリールチオ基を示
す。あるいは隣接部位と共に連結されて環を形成しても
良い）

【００２４】請求項１３の発明は、請求項１１または１
２の発明において、前記紫外線吸収層は、酸化防止剤を
含むことを特徴としたものである。

【００２５】請求項１４の発明は、請求項１３の発明に
おいて、前記酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系酸
化防止剤であることを特徴としたものである。

【００２６】請求項１５の発明は、請求項１１ないし１
４のいずれか１の発明において、前記Ｎ−１置換アニリ
ン誘導体のＲ₁の窒素に隣接する炭素が第２級であるこ
とを特徴としたものである。

【００２７】請求項１６の発明は、請求項１１ないし１
５のいずれか１の発明において、前記アニリン誘導体
は、Ｎ−ｉｓｏ−ブチルアニリンであることを特徴とし
たものである。

【００２８】請求項１７の発明は、請求項１１ないし１
６のいずれか１の発明において、前記紫外線吸収層を形
成した材料によって前記陽極層、前記有機化合物層、及
び前記陰極層よりなる積層体を封止する封止層を形成す
るステップをさらに含むことを特徴としたものである。

【００２９】請求項１８の発明は、請求項１７の発明に
おいて、前記紫外線吸収層上に保護層を形成するステッ
プをさらに含むことを特徴としたものである。

【００３０】請求項１９の発明は、請求項１８の発明に
おいて、前記保護層は、蛍光増白剤を含むことを特徴と
したものである。

【００３１】請求項２０の発明は、請求項１１ないし１
９のいずれか１の発明において、前記透明支持体は、ア
クリルガラスであることを特徴としたものである。

【００３２】請求項２１の発明は、請求項１１ないし１
９のいずれか１の発明において、前記透明支持体は、透
明樹脂フイルムであることを特徴としたものである。

【００３３】請求項２２の発明は、請求項１１ないし２
１のいずれか１の発明において、該有機ＥＬ素子を製品
形態で遮光かつ防湿能を有する袋中に密閉するステップ
をさらに有することを特徴としたものである。

【００３４】請求項２３の発明は、請求項１ないし２２
のいずれか１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法にて製造
されたことを特徴としたものである。

【００３５】

【発明の実施の形態】〔実施形態１〕図１は、本発明の
有機ＥＬ表示素子の一例を説明するための概略構成図
で、図中、１は透明支持体、２は陽極、３は有機化合物
層、４は陰極、５は紫外線吸収層である。本発明の有機
ＥＬ素子の製造においては、まず透明支持体１上に紫外
線吸収層５を形成する。透明支持体１としては透明なガ
ラスまたはポリエチレンテレフタラート、ポリエチレン
ナフタレートのような透明樹脂フイルムを用いて、この
片面に樹脂溶解液等を用いて紫外線吸収層５を形成す
る。紫外線吸収層５の形成方法は特に限定されることは
なく、従来公知の方法を用いることができ、例えば溶媒
塗布法（キャスト法、スピンコート法、ブレードコート
法、ディッピング法等）やワイヤーバーを用いる方法が
あげられる。

【００３６】紫外線吸収層５を形成するための樹脂とし
ては、透明性の観点から樹脂の屈折率が透明支持体の屈
折率との比で０.８〜１.２の範囲に入る材料を用いるの
が好ましい。樹脂の具体例として、ポリ（メタ）アクリ
ル酸エステル樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル
系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、
ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が
あげられる。

【００３７】樹脂と共に架橋剤を用いてもよい。架橋剤
の具体例としてはイソシアナート化合物、エポキシ化合
物等、従来から公知の化合物を使用することができる。
イソシアナート化合物の具体例としてはトルイレンジイ
ソシアナート、その２量体、ジフェニルメタンジイソシ
アナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、
ヘキサメチレンジイソシアナート、ポリイソシアナート
及びこれらの誘導体等分子中にイソシアナート基を２個
以上有する化合物が挙げられる。またエポキシ化合物の
具体例としてはエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ブチルグリシジルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、エポキシアクリレート等が挙
げられる。さらに高分子型紫外線吸収剤を樹脂として用
いることもできる。

【００３８】また本発明で使用する有機紫外線吸収剤と
しては公知の種々の化合物を使用でき、例えば、ベンゾ
フェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤、ベンゾエート系紫外線安定剤、ヒンダードアミ
ン系光安定剤が挙げられ、少なくとも一種類のものを用
いる。上記のベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては公
知の種々の化合物を使用でき、例えば、２，４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジメトキシベンゾフェノン等がある。

【００３９】また上記のベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤としては公知の種々の化合物を使用でき、例えば、
２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５
−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５−ｔ−
ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（５−ｔ−オクチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。

【００４０】光安定剤としては、ベンゾエート系化合
物、例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，
４−ジ−ｔ−ペンチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエートなどがげられる。ベン
ゼン環の２位にヒドロキシ置換基を持つサリチル酸、及
びそのエステル骨格を有していても良い。

【００４１】ヒンダードアミン系光安定剤としては、例
えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）セバケート、２−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）２−ｎ−
ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）、４−ベンゾイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、等が挙げられる
が、ピペリジル骨格を有しているならばこれらに限定さ
れるものではない。

【００４２】さらに紫外線吸収層に酸化防止剤を添加す
ることにより、より素子の劣化を防ぐことができること
を見出した。本発明で用いられる酸化防止剤としては公
知の種々の化合物を使用でき、例えば、Ｌ−アスコルビ
ン酸及びそのエステル、Ｄ−アスコルビン酸及びそのエ
ステル、α−トコフェロール、セザモール等がある。勿
論、これらに限定されるものではなく、また二種以上併
用することもできる。

【００４３】特に効果の高い酸化防止剤としてはヒンダ
ードフェノール系酸化防止剤であり、具体例としては、
２−メチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、
２，４，６−トリメチルフェノール、２，６−ジメチル
−４−オクチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノー
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，４，６−
トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−オクチルフェノール、トリエチレングリコールビ
ス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プピオネート］、１，６−ヘキサンジオー
ルビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オ
クチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタ
エリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，
２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オク
タデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシ
ンナマイド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルフォスフォネートジエチルエステル、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、２，４−ビス［（オクチルチ
オ）メチル］−ｏ−クレゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニル］ヒドラジン等があげられる。

【００４４】透明支持体１に形成した紫外線吸収層５の
上には、ＩＴＯや酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛
アルミニウム等の透明導電性物質を真空蒸着やスパッタ
リンク法等で被覆し、この被覆膜を所望のパターンにエ
ッチング処理して陽極２とする。そして、この陽極２の
上にホール注入輸送層、発光層、電子注入輸送層等を含
む有機化合物層３を積層させる。

【００４５】ここで、有機化合物層３は、（ａ）発光層
単層型、（ｂ）少なくとも１層以上から構成されるホー
ル注入輸送層／発光層型、（ｃ）発光層／少なくとも１
層以上から構成される電子注入輸送層型、（ｄ）少なく
とも１層以上から構成されるホール注入輸送層／発光層
型の少なくとも１層以上から構成される電子注入輸送層
型等から構成されている。積層方法は蒸着により形成し
てもよいし、必要に応じて高分子結着剤を用いた任意の
溶媒塗布法により形成してもよい。

【００４６】上記のホール注入輸送層材料としては従来
公知のものが用いられ、例えば図５示した化合物があげ
られる。また、上記の発光層材料としては従来公知のも
のが用いられ、例えば図６に示した化合物があげられ
る。また、上記の電子注入輸送層材料としては従来公知
のものが用いられ、例えば図７に示した化合物があげら
れる。

【００４７】次に陰極４を有機化合物層３の上に形成す
る。陰極４の材料としては仕事関数の小さい金属、例え
ば、Ｌｉ，Ｎａ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ａｌ，Ａｇ，Ｉ
ｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｚｒ等の金属元素単体あるいはこれら
の合金が用いられる。形成方法としては抵抗加熱法、電
子ビーム法による共蒸着や、あるいは合金ターゲットを
使用したスパッタリング法を用いてもよい。

【００４８】ホール注入輸送層の厚さ、発光層の厚さ、
電子注入輸送層の厚さは特に制限されるものではなく、
形成方法や各層を構成しているものによっても異なる
が、通常５〜５００ｎｍ程度、特に１０〜３００ｎｍと
することが望ましい。

【００４９】さらに必要に応じて、有機化合物、電極の
酸化を防ぐため素子上にＳｉＯ₂などの酸化物やＭｇＦ₃
などの沸化物、もしくはＧｅＳやＳｎＳ等の硫化物等に
よる封止層を設けてもよい。また図２に示すように、紫
外線吸収層５を背面電極側の外表面に設けて封止層５'
として併用してもよい。さらに背面電極側に設けた紫外
線吸収層５の上に封止層をさらに重ねてもよい。また、
必要に応じて紫外線吸収層５に保護層を設けてもよい。
保護層としては従来公知の疎水性樹脂、紫外線硬化樹脂
や電子線硬化性樹脂を用いることができるが紫外線吸収
層と同じ樹脂を用いるのが好ましい。

【００５０】また必要に応じて各種の耐光助剤、たとえ
ば前記紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を用いてもよい。蛍
光増白剤の具体例としては、例えばピラゾリン誘導体、
クマリン誘導体、スチルベン誘導体などがあり、これら
を単独、あるいは２種類以上混合して用いることができ
る。あるいは以上の各耐光助剤の骨格をペンダントした
高分子をバインダーとして単独、あるいは他の樹脂と併
用することもできる。

【００５１】保護層、紫外線吸収層では必要に応じて充
填剤を使用してよい。具体例としてはホスフェートファ
イバー、チタン酸カリウム、針状水酸化マグネシウム、
ウィスカー、タルク、マイカ、ガラスフレーク、炭酸カ
ルシウム、板状炭カル、水酸化アルミニウム、板状水酸
化アルミニウム、シリカ、クレー、カオリン、タルク、
焼成クレー、ハイドロタルイサイト等の無機フィラーや
架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素−ホルマリン共重合体
粒子、シリコーン樹脂粒子、架橋ポリメタクリル酸メチ
ルアクリレート樹脂粒子、グアナミンーホルムアルデヒ
ド共重合体粒子、メラミンーホルムアルデヒド共重合体
粒子等の有機フィラーが挙げられる。

【００５２】図３及び図４は、それぞれ本発明のＥＬ素
子の別の実施形態を示す概略構成図である。これらは、
透明支持体１における紫外線吸収層５の形成面とは反対
側の表面に、陽極２、有機化合物層３、陰極４を順に形
成したもので、図３は紫外線吸収層における封止層のな
い構成を示し、また図４は上記の紫外吸収層５と同材料
による封止層５'を設けた構成を示している。

【００５３】以下に本発明の第１の実施形態に係わる具
体的な実施例を説明する。 （実施例１−１）まず透明支持体として厚さ１.１ｍｍ
のアクリルガラスを用いた。次に１０％ポリビニルアセ
トアセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエチルケトン
（以下ＭＥＫ））：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキ
シベンゾフェノン：ＭＥＫ＝３３：２：６５の重量比で
混ぜ合わせ、ボールミルで粒子径０.３μｍまで粉砕・分
散し、ガラス基板状に１μｍの紫外線吸収層を形成し
た。これにＩＴＯを１２００Å、ホール注入輸送層とし
て前記化合物ＨＴＭ−１を１００Å、発光層として前記
化合物ＥＭ−１を１５０Å、第二電子注入輸送層及び第
一電子注入輸送層としてＥＴＭ−５、ＥＴＭ−１１をそ
れぞれ２００Å、２５０Å蒸着した。さらに基板上にマ
スクをセットし、Ｍｇ：Ａｇ＝１０：１の蒸着速度比で
陰極合金を２０００Å形成して２×２ｍｍの有機ＥＬ素
子を作製した。

【００５４】（実施例１−２）実施例１−１で透明支持
体上に紫外線吸収層を形成した後、紫外線吸収層にある
面と反対側の面にＩＴＯ、有機化合物層、陰極を実施例
１−１と同じ方法で形成し有機ＥＬ素子を作製した。

【００５５】（実施例１−３）実施例１−２と同じ方法
で紫外線吸収層を形成した後、シリカ粉末：１０％ポリ
ビニルアセトアセタール樹脂溶解液（溶媒：ＭＥＫ）：
シリコン変成ポリビニルブチラール（固形分１２.５
％）：ＭＥＫ＝５.５：５.５：２１：６８の重量比で調
整した保護層溶液をボールミルで粒子径０.３μｍまで
粉砕・分散し、紫外線吸収層上に１μｍの保護層を形成
した以外実施例２と同じ方法で有機ＥＬ素子を作成し
た。

【００５６】（実施例１−４）実施例１−１で作製した
有機ＥＬ素子の背面電極側にも紫外線吸収層を形成し
た。

【００５７】（実施例１−５）実施例１−２で作製した
有機ＥＬ素子の背面電極側にも紫外線吸収層を形成し
た。

【００５８】（実施例１−６）実施例１−３で作製した
有機ＥＬ素子の背面電極側にも紫外線吸収層、保護層を
形成した。

【００５９】（実施例１−７）１０％ポリビニルアセト
アセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエチルケトン（以
下ＭＥＫ））：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン：α−トコフェロール：ＭＥＫ＝３３：
２：１：６５の重量比で紫外線吸収層を形成した以外実
施例６と同じ方法で有機ＥＬ素子を形成した。

【００６０】（実施例１−８）１０％ポリビニルアセト
アセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエチルケトン（以
下ＭＥＫ））：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン：ペンタエリスリチルテトラキス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］：ＭＥＫ＝３３：２：１：６５の重量
比で紫外線吸収層を形成した以外実施例６と同じ方法で
有機ＥＬ素子を形成した。

【００６１】（比較例１−１）紫外線吸収層５を形成し
なかった以外は、実施例１−１と同じ方法で有機ＥＬ素
子を形成した。

【００６２】実施例１−１ないし１−８、及び比較例１
−１で作製した有機ＥＬ素子がそれぞれ直流３０ｍＡ／
ｃｍ²の電流密度で駆動すると３００ｃｄ／ｍ²以上の輝
度があることを確認した後、大気中で透明支持体面を上
にして晴天の日に太陽光に露光した後、電流を流し発光
するかどうか複数の露光時間で複数の人間が黙視で確認
し５段階で評価した。結果を以下の表１に示す。

【００６３】

【表１】

【００６４】上記表１より、本発明の有機アミンを含む
紫外線吸収層を有機ＥＬ素子に形成することにより、耐
久性に優れた有機ＥＬ素子を提供することができること
がわかる。

【００６５】〔実施形態２〕次に透明支持体上に陽極及
び陰極とこれらの間に挟持された単層または複数層の有
機化合物層より構成される有機ＥＬ素子にＮ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層を設けた有機ＥＬ素子
の製造方法及び該方法を用いた有機ＥＬ素子について説
明する。

【００６６】本発明によれば、透明支持体上に陽極及び
陰極とこれらの間に挟持された単層または複数層の有機
化合物層より構成される有機ＥＬ素子において陽極と透
明支持体間もしくは透明支持体の陽極とは反対の面に下
記一般式（１）で示されるＮ−１置換アニリン誘導体を
含む紫外線吸収層を設けることを特徴とする有機ＥＬ素
子が提供される。

【００６７】

【数５】

【００６８】（ここでＲ₁は枝分かれしていてもよいア
ルキル基またはアルケニル基、Ｒ₂〜Ｒ ₆はそれぞれ独立
に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルチオ基ア
リールチオ基を示す。あるいは隣接部位と共に連結され
て環を形成しても良い）

【００６９】一般的な脂肪族アミン化合物は塩基性が高
いため、塗布液の増粘や凝集が起こり易く、紫外線吸収
層の形成が困難であった。そのような変化が起きないも
のでも、耐光性の寿命は短い。ジフェニルアミン化合物
やトリフェニルアミン類はそのような増粘は起きないが
耐光性の効果は小さい。Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリンは
少量での効果は大きいが同時に耐熱性の低下が著しい。
ところが、一般式（１）で示されるＮ−１置換アニリン
誘導体はそのような弊害が少なく、紫外線吸収層の形成
が容易かつ少量で大きな耐光性の効果が得られる。

【００７０】本発明におけるＮ−１置換アニリン誘導体
は、窒素上にアリール基、アルキル基、水素原子が１つ
づつ置換した２級アミンである。アルキル鎖の長さが短
いと反応活性があり、また安全の面からも好ましくな
い。また、あまり長くなると耐光性への効果が発現しな
くなる。したがってアルキル鎖を構成する炭素原子は４
〜２２であることが好ましい。直鎖アルキル基としては
ブチン、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデ
シル、テトラデシル、オクタデシル、エイコシル、ベヘ
ニルなどがあげられる。枝分かれしたものではｉｓｏ-
ブチル、tert-ブチル、２―エチルヘキシル、tert-テト
ラデシルなどが挙げられる。

【００７１】また、上記アルキル基に対してさらに置換
基があっても良く、たとえばハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基等の置換基を有していてもよい。本発明のＮ−１
置換アニリンの具体例としてはＮ−ｎ−ブチルアニリ
ン、Ｎ−ｉｓｏ−ブチルアニリン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアニリン、Ｎ−ｎ−ペンチルアニリン、Ｎ−ヘキシル
アニリン、Ｎ−オクチルアニリン、Ｎ−デシルアニリ
ン、Ｎ−ドデシルアニリン、Ｎ−オクタデシルアニリ
ン、Ｎ−ベヘニルアニリン等が挙げられる。こられの化
合物のうち、Ｒ１における窒素原子に隣接した炭素が３
級以上であると、立体障害で効果が若干薄れるため２級
であることが好ましく、特にそれらの中でもＮ−ｉｓｏ
―ブチルアニリンが最も好ましい。

【００７２】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を、
前述の例と同様に図１を参照して説明する。本実施の形
態は、第１の実施の形態において、紫外線吸収層５とし
て、Ｎ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収層を形
成したことを特徴とするものである。まず図１に示すよ
うに、透明支持体（１）上にＮ−１置換アニリン誘導体
を含む紫外線吸収層（６）を形成する。透明支持体とし
ては透明なガラスまたはポリエチレンテレフタラート、
ポリエチレンナフタレートのような透明樹脂フイルムを
用いる。

【００７３】上記透明樹脂フィルムの片面にＮ−１置換
アニリン誘導体を含有する樹脂溶解液等を用いてＮ−１
置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収層を形成する。Ｎ
−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収層の形成方法
は特に制限はなく従来公知の方法で形成でき、たとえば
溶媒塗布法（キャスト法、スピンコート法、ブレードコ
ート法、ディッピング法等）やワイヤーバーを用いた方
法があげられる。

【００７４】上記樹脂溶解液に用いる樹脂としては、透
明性の観点から樹脂の屈折率が透明支持体の屈折率との
比で０.８〜１.２の範囲に入る材料を用いるのが好まし
い。樹脂の具体例としてポリ（メタ）アクリル酸エステ
ル樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等がある。また樹
脂と共に架橋剤を用いてもよい。

【００７５】架橋剤の具体例としては、イソシアナート
化合物、エポキシ化合物等、従来から公知の化合物を使
用することができる。イソシアナート化合物の具体例と
してはトルイレンジイソシアナート、その２量体、ジフ
ェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェ
ニルイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、ポリイソシアナート及びこれらの誘導体等分子中に
イソシアナート基を２個以上有する化合物が挙げられ
る。またエポキシ化合物の具体例としてはエチレングリ
コールジグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エ
ポキシアクリレート等が挙げられる。さらに高分子型紫
外線吸収剤を樹脂として用いることもできる。

【００７６】さらにＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫
外線吸収層に酸化防止剤を添加することにより、より素
子の劣化を防ぐことができることを見出した。本発明で
用いられる酸化防止剤としては公知の種々の化合物を使
用でき、例えば、Ｌ−アスコルビン酸及びそのエステ
ル、Ｄ−アスコルビン酸及びそのエステル、α−トコフ
ェロール、セザモール等がある。勿論、これらに限定さ
れるものではなく、また二種以上併用することもでき
る。

【００７７】特に効果の高い酸化防止剤としては、ヒン
ダードフェノール系酸化防止剤があり、具体例として
は、２−メチルフェノール、２，６−ジメチルフェノー
ル、２，４，６−トリメチルフェノール、２，６−ジメ
チル−４−オクチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノ
ール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，４，６
−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−オクチルフェノール、トリエチレングリコール
ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プピオネート］、１，６−ヘキサンジオ
ールビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−
オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペン
タエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサ
メチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シシンナマイド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルフォスフォネートジエチルエステル、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、２，４−ビス［（オクチ
ルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス
［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニル］ヒドラジン等が挙げられる。

【００７８】また、Ｎ−１置換アニリン誘導体を含む紫
外線吸収層にさらにベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外
線安定剤、ヒンダードアミン系光安定剤の中から少なく
とも１種を添加するとさらに劣化が抑えられることを見
出した。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては公知の
種々の化合物を使用でき、例えば、２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベン
ゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−
ジメトキシベンゾフェノン等がある。

【００７９】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、公知の種々の化合物を使用でき、２−（５−メチル
−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル
−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（５−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５−ｔ−
オクチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、等が挙げられるが、これに限ったものではない。

【００８０】光安定剤としてはベンゾエート系化合物、
例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−
ジ−ｔ−ペンチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエートなどがげられる。ベンゼン
環の２位にヒドロキシ置換基を持つサリチル酸、及びそ
のエステル骨格を有していても良い。ヒンダードアミン
系光安定剤としては、例えば、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、４−ベ
ンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン、等が挙げられるが、ピペリジル骨格を有している
ならばこれに限ったものではない。

【００８１】図１に戻って有機ＥＬ表示素子について説
明を続ける。Ｎ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸
収層の上にＩＴＯや酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜
鉛アルミニウム等の透明導電性物質を真空蒸着やスパッ
タリング法等で被覆して陽極２とする。次に陽極を所望
のパターンにエッチング処理した後ホール注入輸送層、
発光層、電子注入輸送層等を含む有機化合物層３を積層
させる。ここで、有機化合物層は、（ａ）発光層単層
型、（ｂ）少なくとも１層以上から構成されるホール注
入輸送層／発光層型、（ｃ）発光層／少なくとも１層以
上から構成される電子注入輸送層型、（ｄ）少なくとも
１層以上から構成されるホール注入輸送層／発光層型の
少なくとも１層以上から構成される電子注入輸送層型等
から構成されている。積層方法は蒸着により形成しても
よいし、必要に応じて高分子結着剤をもちいた任意の溶
媒塗布法により形成してもよい。

【００８２】上記のホール注入輸送層材料としては従来
公知のものが用いられ、例えば前述した図５に示した化
合物があげられる。また上記の発光層材料としては従来
公知のものが用いられ、例えば前述した図６に示した化
合物があげられる。また上記の電子注入輸送層材料とし
ては従来公知のものが用いられ、例えば前述した図７に
示した化合物があげられる。

【００８３】そして陰極４を有機化合物層の上に形成す
る。陰極４の材料としては仕事関数の小さい金属、例え
ば、Ｌｉ，Ｎａ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ａｌ，Ａｇ，Ｉ
ｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｚｒ等の金属元素単体あるいはこれら
の合金が用いられる。形成方法としては抵抗加熱法、電
子ビーム法による共蒸着や、あるいは合金ターゲットを
使用したスパッタリング法を用いてもよい。

【００８４】ホール注入輸送層の厚さ、発光層の厚さ、
電子注入輸送層の厚さは特に制限されるものではなく、
形成方法や各層を構成しているものによっても異なる
が、通常５〜５００ｎｍ程度、特に１０〜３００ｎｍと
することが望ましい。

【００８５】さらに必要に応じて有機化合物層３、電極
の酸化を防ぐため素子上にＳｉＯ₂などの酸化物やＭｇ
Ｆ₃などの沸化物、ＧｅＳやＳｎＳ等の硫化物等による
封止層を設けてもよい。また図２に示すように、紫外線
吸収層５を背面電極側の外表面に設け封止層５'として
併用してもよい。さらに背面電極側に設けた紫外線吸収
層５の上に封止層をさらに重ねてもよい。また、必要に
応じて紫外線吸収層５に保護層を設けてもよい。

【００８６】保護層としては、従来公知の疎水性樹脂、
紫外線硬化樹脂や電子線硬化性樹脂を用いることができ
るが、紫外線吸収層と同じ樹脂を用いるのが好ましい。
必要に応じて各種の耐光助剤、たとえば前記紫外線吸収
剤、蛍光増白剤等を用いてもよい。蛍光増白剤の具体例
としては、例えばピラゾリン誘導体、クマリン誘導体、
スチルベン誘導体などがあり、これらを単独、あるいは
２種類以上混合して用いることができる。あるいは以上
の各耐光助剤の骨格をペンダントした高分子をバインダ
ーとして単独、あるいは他の樹脂と併用することもでき
る。

【００８７】保護層、紫外線吸収層では必要に応じて充
填剤を使用するとよい。具体例としてはホスフェートフ
ァイバー、チタン酸カリウム、針状水酸化マグネシウ
ム、ウィスカー、タルク、マイカ、ガラスフレーク、炭
酸カルシウム、板状炭カル、水酸化アルミニウム、板状
水酸化アルミニウム、シリカ、クレー、カオリン、タル
ク、焼成クレー、ハイドロタルイサイト等の無機フィラ
ーや架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素−ホルマリン共重
合体粒子、シリコーン樹脂粒子、架橋ポリメタクリル酸
メチルアクリレート樹脂粒子、グアナミンーホルムアル
デヒド共重合体粒子、メラミンーホルムアルデヒド共重
合体粒子等の有機フィラーが挙げられる。

【００８８】また、第１の実施の形態と同様に、本発明
の別の形態として図３、４に示すような透明支持体にお
けるＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収層の形
成面とは反対側に、陽極２、有機化合物層３、陰極４を
順に形成してもよい。

【００８９】（実施例２−１）まず透明支持体として厚
さ１.１ｍｍのアクリルガラスを用いた。次に１０％ポ
リビニルアセトアセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエ
チルケトン（以下ＭＥＫ））：Ｎ−ｉｓｏ―ブチルアニ
リン（窒素に隣接の炭素は２級）：ＭＥＫ＝３３：２：
６５の重量比で混ぜ合わせ、ボールミルで粒子径0.２μ
ｍまで粉砕・分散し、ガラス基板状に１μｍの紫外線吸
収層を形成した。

【００９０】これに紫外線吸収層と反対側にＩＴＯを１
２００Å、ホール注入輸送層として前記化合物ＨＴＭ−
１を１００Å、発光層として前記化合物ＥＭ−１を１５
０Å、第二電子注入輸送層及び第一電子注入輸送層とし
てＥＴＭ−５、ＥＴＭ−１１をそれぞれ２００Å、２５
０Å蒸着した。さらに基板上にマスクをセットし、Ｍ
ｇ：Ａｇ＝１０：１の蒸着速度比で陰極合金を２０００
Å形成し２×２ｍｍの有機ＥＬ素子を作製した。

【００９１】（実施例２−２）実施例２−１でＮ−ｉｓ
ｏ−ブチルアニリンの代わりにＮ−ｔｅｒｔ−ブチルア
ニリン（窒素に隣接の炭素は４級）を使用した以外は、
上記実施例２−１と同じ方法で有機ＥＬ素子作成した。

【００９２】（実施例２−３）実施例２−１でＮ−ｉｓ
ｏ−ブチルアニリンの代わりにＮ−ドデシルアニリン
（窒素に隣接の炭素は２級）を使用した以外は、上記実
施例１と同じ方法で有機ＥＬ素子作成した。

【００９３】（実施例２−４）実施例２−１で透明支持
体上に紫外線吸収層を形成した後、紫外線吸収層上にＩ
ＴＯ、有機化合物層、陰極を実施例２−１と同じ方法で
形成して有機ＥＬ素子を作製した。

【００９４】（実施例２−５）上記実施例２−１と同じ
方法で紫外線吸収層を形成した後、シリカ粉末：１０％
ポリビニルアセトアセタール樹脂溶解液（溶媒：ＭＥ
Ｋ）：シリコン変成ポリビニルブチラール（固形分１
２.５％）：ＭＥＫ＝５.５：５.５：２１：６８の重量
比で調整した保護層溶液をボールミルで粒子径０.３μ
ｍまで粉砕・分散し、紫外線吸収層上に１μｍの保護層
を形成した以外は、実施例２−２と同じ方法で有機ＥＬ
素子を作成した。

【００９５】（実施例２−６）１０％ポリビニルアセト
アセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエチルケトン（以
下ＭＥＫ））：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン：α―トコフェロール：ＭＥＫ＝３３：
２：１：６５の重量比で紫外線吸収層を形成した以外
は、上記実施例５と同じ方法で有機ＥＬ素子を形成し
た。

【００９６】（実施例２−７）１０％ポリビニルアセト
アセタール樹脂溶解液（溶媒：メチルエチルケトン（以
下ＭＥＫ））：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン：ペンタエリスリチルテトラキス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］：ＭＥＫ＝３３：２：１：６５の重量
比で紫外線吸収層を形成した以外は、実施例２−５と同
じ方法で有機ＥＬ素子を形成した。

【００９７】（実施例２−８）シリカ粉末：１０％ポリ
ビニルアセトアセタール樹脂溶解液（溶媒：ＭＥＫ）：
シリコン変成ポリビニルブチラール（固形分１２.５
％）：クマリン：ＭＥＫ＝５．５：５．５：２１：５：
６８の重量比で保護層を形成した以外実施例２−７と同
じ方法で有機ＥＬ素子を作成した。

【００９８】（実施例２−９）実施例２−８で作製した
有機ＥＬ素子の背面電極側にも保護層を形成した。

【００９９】（比較例２−１）紫外線吸収層を形成しな
かった以外は、上記実施例２−１と同じ方法で有機ＥＬ
素子を形成した。

【０１００】（比較例２−２）紫外線吸収層を１０％ポ
リビニルアセトアセタール樹脂溶解液（溶媒：ＭＥ
Ｋ）：Ｎ−ｉｓｏ―ブチルアニリン：ＭＥＫ＝３３：
２：６５の重量比で混ぜ合わせたものを用いた以外は、
実施例１と同じ方法で有機ＥＬ素子を作成した。

【０１０１】実施例２−１ないし２−８、及び比較例２
−１、２−２で作製した有機ＥＬ素子がそれぞれ直流３
０ｍＡ／ｃｍ²の電流密度で駆動すると３００ｃｄ／ｍ²
以上の輝度があることを確認した後、大気中で透明支持
体面を上にして晴天の日に太陽光に露光した後、電流を
流して発光するかどうか複数の露光時間で複数の人間が
黙視で確認し５段階で評価した。この結果を表２に示
す。

【０１０２】

【表２】

【０１０３】（実施例２−１０）上記実施例２−９で作
成した有機ＥＬ素子をアルミ蒸着防湿袋（Ｆｉｎｅラミ
ジップ：ポリエステル−アルミニウム−ポリエチレン積
層）に入れて密封した後５,０００ルクス照射下２週間
放置したところ光照射前と同じ輝度の発光が得られた。

【０１０４】表２より本発明の有機アミンを含む紫外線
吸収層を有機ＥＬ素子に形成することにより耐久性に優
れた有機ＥＬ素子を提供することができることがわか
る。

【０１０５】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、有機物を含む
紫外線吸収層を形成することにより有機化合物層の劣化
を防ぐことができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させる
ことができる。

【０１０６】請求項２の発明によれば、有機物を含む紫
外線吸収層を形成することにより有機化合物層の劣化を
防ぐことができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させるこ
とができる。

【０１０７】請求項３の発明によれば、有機物を含む紫
外線吸収層、及び該紫外線吸収層に対して保護層を形成
することにより有機化合物層の劣化を防ぐことができ、
有機ＥＬ素子の耐久性を向上させることができる。

【０１０８】請求項４の発明によれば、有機物を含む紫
外線吸収層を形成し、さらに封止層として使用すること
により有機化合物層の劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ
素子の耐久性を向上させることができる。

【０１０９】請求項５の発明によれば、有機物を含む紫
外線吸収層、および該紫外線吸収層に対して保護層を形
成し、これらの少なくとも一方を封止層として使用する
ことにより有機化合物層の劣化を防ぐことができ、有機
ＥＬ素子の耐久性を向上させることができる。

【０１１０】請求項６の発明によれば、有機物を含む紫
外線吸収層を形成し、さらに封止層として使用して、さ
らに保護層を設けることにより有機化合物層の劣化を防
ぐことができ有機ＥＬ素子の耐久性を向上させることが
できる。

【０１１１】請求項７の発明によれば、酸化防止剤を含
む有機物を含む紫外線吸収層を形成することにより有機
化合物層の劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ素子の耐久
性を向上させることができる。

【０１１２】請求項８の発明によれば、ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤を含む有機物を含む紫外線吸収層を
形成することにより有機化合物層の劣化を防ぐことがで
き、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させることができる。

【０１１３】請求項９の発明によれば、透明支持体にア
クリルガラスを使用することにより可視光を遮断せず色
認識の高い有機ＥＬ素子を提供することができる。

【０１１４】請求項１０の発明によれば、透明支持体に
透明樹脂フイルムを使用することにより可視光を遮断せ
ず色認識の高い有機ＥＬ素子を提供することができる。

【０１１５】請求項１１の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層を形成することにより
有機化合物層の光劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ素子
の耐久性を向上させることができる。

【０１１６】請求項１２の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体含む紫外線吸収層を形成することにより有
機化合物層の光劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ素子の
耐久性を向上させることができる。

【０１１７】請求項１３の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層が酸化防止剤を含むこ
とにより有機化合物層の光劣化を防ぐことができ有機Ｅ
Ｌ素子の耐久性を向上させることができる。

【０１１８】請求項１４の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層がヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤を含むことにより有機化合物層の光劣化
を防ぐことができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させる
ことができる。

【０１１９】請求項１５の発明によれば、窒素に隣接す
る炭素が第２級であるＮ−１置換アニリン誘導体を含む
紫外線吸収層を形成することにより有機化合物層の光劣
化を防ぐことができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させ
ることができる。

【０１２０】請求項１６の発明によれば、Ｎ−ｉｓｏ-
ブチルアニリン含む紫外線吸収層を形成することにより
有機化合物層の光劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ素子
の耐久性を向上させることができる。

【０１２１】請求項１７の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層を形成し、さらに封止
層として使用することにより有機化合物層の劣化を防ぐ
ことができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させることが
できる。

【０１２２】請求項１８の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層が保護層を持つことに
より有機化合物層の光劣化を防ぐことができ、有機ＥＬ
素子の耐久性を向上させることができる。

【０１２３】請求項１９の発明によれば、Ｎ−１置換ア
ニリン誘導体を含む紫外線吸収層が蛍光増白剤を含む保
護層を持つことにより有機化合物層の光劣化を防ぐこと
ができ、有機ＥＬ素子の耐久性を向上させることができ
る。

【０１２４】請求項２０の発明によれば、透明支持体に
アクリルガラスを使用することにより可視光を遮断せず
色認識の高い有機ＥＬ材料を提供できる。

【０１２５】請求項２１の発明によれば、透明支持体に
透明樹脂フイルムを使用することにより可視光を遮断せ
ず色認識の高い有機ＥＬ材料を提供できる。

【０１２６】請求項２２の発明によれば、遮光かつ防湿
能を有する袋中に密閉することにより、有機ＥＬ素子の
保存を可能とする。

【０１２７】請求項２３の発明によれば、紫外線吸収層
を用いた耐久性の高い有機ＥＬ素子を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の有機ＥＬ素子の一例を説明するため
の概略構成図である。

【図２】 本発明の有機ＥＬ素子の他の例を説明するた
めの概略構成図である。

【図３】 本発明の有機ＥＬ素子の更に他の例を説明す
るための概略構成図である。

【図４】 本発明の有機ＥＬ素子の更に他の例を説明す
るための概略構成図である。

【図５】 本発明に適用して好適なホール注入輸送層材
料の例を示す図である。

【図６】 本発明に適用して好適な発光層材料の例を示
す図である。

【図７】 本発明に適用して好適な電子注入輸送層材料
の例を示す図である。

【符号の説明】

１…透明支持体、２…陽極、３…有機化合物層、４…陰
極、５…紫外線吸収層、５'…封止層。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｚ

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極と
   陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合物
   層が設けられた構成を少なくとも有する有機ＥＬ素子の
   製造方法において、前記透明支持体の表面に有機物を含
   む紫外線吸収層を形成するステップと、該紫外線吸収層
   の上に前記陽極層、前記有機化合物層、及び前記陰極層
   を順に積層するステップとを有することを特徴とする有
   機ＥＬ素子の製造方法。
2. 【請求項２】 透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極と
   陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合物
   層が設けられた構成を少なくとも有する有機ＥＬ素子の
   製造方法において、前記透明支持体上に有機物を含む紫
   外線吸収層を形成するステップと、前記透明支持体にお
   ける該紫外線吸収層の形成面とは反対側の表面に前記陽
   極層、前記有機化合物層、及び陰極層を順に積層するス
   テップとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造
   方法。
3. 【請求項３】 透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極と
   陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合物
   層が設けられた構成を少なくとも有する有機ＥＬ素子の
   製造方法において、前記透明支持体上に有機物を含む紫
   外線吸収層を形成するステップと、前記紫外線吸収層の
   上に保護層を設けるステップと、前記透明支持体におけ
   る該紫外線吸収層の形成面とは反対側の表面に前記陽極
   層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層する
   ステップとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製
   造方法。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１に記載の
   ＥＬ素子の製造方法において、前記紫外線吸収層を形成
   した材料によって前記陽極層、前記有機化合物層、及び
   前記陰極層よりなる積層体を封止する封止層を形成する
   ステップをさらに有することを特徴とする有機ＥＬ素
   子。
5. 【請求項５】 請求項３に記載のＥＬ素子の製造方法に
   おいて、前記紫外線吸収層を形成した材料または前記保
   護層を形成した材料によって前記陽極層、前記有機化合
   物層、及び前記陰極層よりなる積層体を封止する封止層
   を形成するステップをさらに有することを特徴とする有
   機ＥＬ素子。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方
   法において、前記紫外線吸収層上及び前記封止層のそれ
   ぞれの上に保護層を形成することを特徴とする有機ＥＬ
   素子の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれか１に記載の
   有機ＥＬ素子において、前記紫外吸収層に酸化防止剤を
   添加することを特徴とする有機ＥＬ素子。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の有機ＥＬ素子におい
   て、前記酸化防止剤は、少なくともヒンダードフェノー
   ル系酸化防止剤を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。
9. 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれか１に記載の
   有機ＥＬ素子において、前記透明支持体は、アクリルガ
   ラスであることを特徴とする有機ＥＬ素子。
10. 【請求項１０】 請求項１ないし８のいずれか１に記載
    の有機ＥＬ素子において、前記透明支持体は、透明樹脂
    フイルムであることを特徴とする有機ＥＬ素子。
11. 【請求項１１】 透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極
    と陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合
    物層が設けられた構成を少なくとも有する有機ＥＬ素子
    の製造方法において、前記透明支持体の表面に一般式 【数１】 で示されるＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収
    層を設けるステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極
    層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層する
    ステップとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製
    造方法。
12. 【請求項１２】 透明支持体上に陽極、陰極及び該陽極
    と陰極との間に挟持された単層または複数層の有機化合
    物層が設けられた構成を少なくとも有する有機ＥＬ素子
    の製造方法において、前記透明支持体における該紫外線
    吸収層の形成面とは反対側の表面に一般式 【数２】 で示されるＮ−１置換アニリン誘導体を含む紫外線吸収
    層を設けるステップと、該紫外線吸収層の上に前記陽極
    層、前記有機化合物層、及び前記陰極層を順に積層する
    ステップとを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製
    造方法。
13. 【請求項１３】 請求項１１または１２に記載の有機Ｅ
    Ｌ素子の製造方法において、前記紫外線吸収層は、酸化
    防止剤を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方
    法。
14. 【請求項１４】 請求項１３に記載の有機ＥＬ素子の製
    造方法において、前記酸化防止剤は、ヒンダードフェノ
    ール系酸化防止剤であることを特徴とする有機ＥＬ素子
    の製造方法。
15. 【請求項１５】 請求項１１ないし１４のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記Ｎ−１置
    換アニリン誘導体のＲ₁の窒素に隣接する炭素が第２級
    であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１１ないし１５のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記アニリン
    誘導体は、Ｎ−ｉｓｏ−ブチルアニリンであることを特
    徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項１１ないし１６のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記紫外線吸
    収層を形成した材料によって前記陽極層、前記有機化合
    物層、及び前記陰極層よりなる積層体を封止する封止層
    を形成するステップをさらに含むことを特徴とする有機
    ＥＬ素子の製造方法。
18. 【請求項１８】 請求項１７に記載の有機ＥＬ素子の製
    造方法において、前記紫外線吸収層上に保護層を形成す
    るステップをさらに含むことを特徴とする有機ＥＬ素子
    の製造方法。
19. 【請求項１９】 請求項１８に記載の有機ＥＬ素子の製
    造方法において、前記保護層は、蛍光増白剤を含むこと
    を特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
20. 【請求項２０】 請求項１１ないし１９のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持
    体は、アクリルガラスであることを特徴とする有機ＥＬ
    素子の製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１１ないし１９のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、前記透明支持
    体は、透明樹脂フイルムであることを特徴とする有機Ｅ
    Ｌ素子の製造方法。
22. 【請求項２２】 請求項１１ないし２１のいずれか１に
    記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、該有機ＥＬ素
    子を製品形態で遮光かつ防湿能を有する袋中に密閉する
    ステップをさらに有することを特徴とする有機ＥＬ素子
    の製造方法。
23. 【請求項２３】 請求項１ないし２２のいずれか１に記
    載の有機ＥＬ素子の製造方法にて製造されたことを特徴
    とする有機ＥＬ素子。