JP2002175064A - Liquid crystal display and its drive method - Google Patents

Liquid crystal display and its drive method

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JP2002175064A
JP2002175064A JP2001296224A JP2001296224A JP2002175064A JP 2002175064 A JP2002175064 A JP 2002175064A JP 2001296224 A JP2001296224 A JP 2001296224A JP 2001296224 A JP2001296224 A JP 2001296224A JP 2002175064 A JP2002175064 A JP 2002175064A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the response time of a liquid crystal and the scanning time of a scanning line, when color display is conducted by a field sequential system. SOLUTION: (1) The signals of signal lines are written, in the order starting from the pixel TFT of a pixel having a long liquid crystal response time; (2) the signal of a signal line is written to a pixel TFT which displays the same gradation among pixel TFTs connected to one signal line; and the (3) the signal of a signal line is written to pixel TFTs displaying the same or approximate gradations among pixel TFTs connected to one signal line at the same time. Then, a regular signal voltage is applied to the pixel electrodes of the pixel TFTs displaying the approximate gradations.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その駆動方法に関する。液晶表示装置とは、基板間に狭
持された液晶層に印加した電圧により、液晶層を通過す
る光の偏光状態、散乱状態又は波長特性が変わることを
利用して、明暗の表示を行うものである。
The present invention relates to a liquid crystal display device and a driving method thereof. A liquid crystal display device displays light and dark by utilizing the fact that the polarization state, scattering state, or wavelength characteristics of light passing through the liquid crystal layer is changed by the voltage applied to the liquid crystal layer held between the substrates. It is.

【0002】本明細書において、薄膜トランジスタ(T
FT)とは半導体層、ゲート電極、ソース電極及びドレ
イン電極を有する半導体素子を示す。
In this specification, a thin film transistor (T
FT) indicates a semiconductor element having a semiconductor layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode.

【0003】[0003]

【従来の技術】液晶表示装置は、軽量、低消費電力の点
で携帯用途、パーソナルコンピュータ用途に広く用いら
れている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are widely used in portable applications and personal computers because of their light weight and low power consumption.

【0004】液晶表示装置において、三原色である赤、
緑、青の光源を順次点灯させて、カラー表示を行うフィ
ールドシーケンシャル方式が注目されている。フィール
ドシーケンシャル方式は、カラーフィルターが不用とな
るため、高精細な表示が期待される。
In a liquid crystal display, three primary colors, red,
A field sequential system in which green and blue light sources are sequentially turned on to perform color display has attracted attention. Since the field sequential method does not require a color filter, high definition display is expected.

【0005】フィールドシーケンシャル方式には、光源
を順次、発光色を変えて連続的に点灯する方式が提案さ
れている(月刊 FPD Intelligence プレスジャー
ナル1999.2 p66-69)。この方式においては、光源の
発光色が切り替わるときに、画面全体を黒レベルにし
て、それぞれの画素において、光源の混色を防止する必
要がある。
As a field sequential system, there has been proposed a system in which a light source is sequentially turned on while changing the emission color (Monthly FPD Intelligence Press Journal 1999.2, pp. 66-69). In this method, when the light emission color of the light source is switched, it is necessary to set the entire screen to a black level to prevent color mixture of the light source in each pixel.

【0006】また、フィールドシーケンシャル方式に
は、液晶の応答が画面内で完了したのちに光源を点灯さ
せる方式(小林駿介編著 カラー液晶ディスプレイ 産
業図書日本 p127)が提案されている。この方式は、
光源が間欠的に点灯するので、光源が非点灯のときに、
完全な黒が達成できる。このため、CRT(cathoderay
tube)の駆動方式であるインパルス方式が液晶表示装
置においても達成でき、液晶表示装置に特有の残像を防
止する手段として期待されている。
As a field sequential system, there has been proposed a system in which a light source is turned on after a response of a liquid crystal is completed in a screen (edited by Shunsuke Kobayashi, Color Liquid Crystal Display, Sangyo Tosho Nihon p127). This method is
Since the light source lights intermittently, when the light source is off,
Perfect black can be achieved. For this reason, CRT (cathoderay
An impulse method, which is a driving method of a tube, can also be achieved in a liquid crystal display device, and is expected as a means for preventing an afterimage unique to a liquid crystal display device.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】発明が解決しようとす
る課題を以下に示す。
Problems to be solved by the invention will be described below.

【0008】なお、本明細書において、画素部に設けら
れたTFTを画素TFTという。
In this specification, a TFT provided in a pixel portion is called a pixel TFT.

【0009】また本明細書において、画素部にはS1〜
Smのアドレスを有する信号線と、G1〜Gnのアドレ
スを有する走査線と、信号線と走査線の交点近傍に配置
された画素が設けられている。各画素は画素TFTを有
し、画素TFTはそのゲート電極が走査線に接続されて
おり、そのソース電極が信号線に接続されている。各画
素のアドレスは画素TFTのソース電極が接続されてい
る信号線のアドレスと、ゲート電極が接続されている走
査線のアドレスとで示される。例えば、画素TFTがi
列目の信号線とj行目の走査線に接続されているとき
は、この画素TFTを有する画素のアドレスは(i,
j)となる。
Further, in this specification, the pixels S1 to S1
A signal line having an address of Sm, a scanning line having an address of G1 to Gn, and pixels arranged near an intersection of the signal line and the scanning line are provided. Each pixel has a pixel TFT. The pixel TFT has a gate electrode connected to a scanning line and a source electrode connected to a signal line. The address of each pixel is indicated by the address of the signal line to which the source electrode of the pixel TFT is connected and the address of the scanning line to which the gate electrode is connected. For example, if the pixel TFT is i
When connected to the signal line in the column and the scanning line in the j-th row, the address of the pixel having this pixel TFT is (i,
j).

【0010】また、画素TFTのドレイン電極と接続し
て画素電極が設けられており、画素電極と対向して対向
電極がある。画素電極と対向電極との間には配向膜を介
して液晶が挟まれており、画素電極と対向電極との電位
差に応じて液晶がスイッチングをする。
A pixel electrode is provided in connection with the drain electrode of the pixel TFT, and there is a counter electrode facing the pixel electrode. Liquid crystal is sandwiched between the pixel electrode and the counter electrode via an alignment film, and the liquid crystal switches according to a potential difference between the pixel electrode and the counter electrode.

【0011】また、点順次駆動において、1行目の走査
線を選択してからn行目の走査線を選択するまでにかか
る時間を「走査線の走査期間」という。また、半導体層を
活性化するために、走査線に所定の電位例えば、+8V
〜+11Vの電位を与えることを「走査線を選択する」と
いう。走査線を選択する期間を「走査線選択期間」とい
う。
In the dot sequential driving, the time required from the selection of the first scanning line to the selection of the nth scanning line is referred to as a "scanning line scanning period". Further, in order to activate the semiconductor layer, a predetermined potential, for example, +8 V is applied to the scanning line.
Giving a potential of ~ + 11V is referred to as "selecting a scanning line". A period for selecting a scanning line is referred to as a “scanning line selection period”.

【0012】すなわち、「走査線の走査期間」とは1行目
の走査線の選択を始めてからn行目の走査線の選択が終
わるまでにかかる時間である。また、「走査線を選択す
る」とは、走査線に接続されている画素TFTにゲート
パルスを与えて、走査線に接続されている画素TFTの
ソースおよびドレイン間を導通状態にすることである。
また、走査線の選択期間とは1行の走査線を選択する期
間であり、走査線の選択期間をn倍にしたものが「走査
線の走査期間」である。
That is, the "scanning period of the scanning line" is the time required from the start of the selection of the first scanning line to the end of the selection of the nth scanning line. Further, "selecting a scanning line" means to apply a gate pulse to a pixel TFT connected to the scanning line to make the source and drain of the pixel TFT connected to the scanning line conductive. .
The scanning line selection period is a period for selecting one row of scanning lines, and the “scanning line scanning period” is obtained by multiplying the scanning line selection period by n times.

【0013】また、信号線を選択するとは、信号線に信
号電圧を与え、さらに信号線に接続した画素TFTに信
号線の電位を与えることをいう。
[0013] Selecting a signal line means applying a signal voltage to the signal line and applying a potential of the signal line to a pixel TFT connected to the signal line.

【0014】また、(1,1)のアドレスを有する画素
TFTの画素電極に画像表示に必要な電位を与えること
から始まり、一つの単色の画像を形成するまでの期間を
「サブフレーム期間」という。また、(1,1)のアドレ
スを有する画素TFTの画素電極に画像表示に必要な電
位を与えることから始まり、一つのカラー表示された画
像を形成するまでの期間を「フレーム期間」という。
A period starting from applying a potential required for image display to the pixel electrode of the pixel TFT having the address of (1, 1) to forming one single-color image is referred to as a “sub-frame period”. . Further, a period from applying a potential necessary for image display to a pixel electrode of a pixel TFT having an address of (1, 1) to forming one color-displayed image is referred to as a “frame period”.

【0015】フィールドシーケンシャル方式では、カラ
ー表示された画像が形成されるフレーム期間は赤色の画
像を形成するサブフレーム期間と、青色の画像を形成す
るサブフレーム期間と、緑色の画像を形成するサブフレ
ーム期間とからなる。
In the field sequential system, a frame period in which a color-displayed image is formed includes a sub-frame period for forming a red image, a sub-frame period for forming a blue image, and a sub-frame period for forming a green image. Period.

【0016】光源を間欠的に点灯するフィールドシーケ
ンシャル方式の、タイミングチャートを図7に示す。フ
ィールドシーケンシャル方式において1フレーム期間の
周期(T)は16.6msec、サブフレーム期間の周
期(T/3)は5.5msecである。
FIG. 7 shows a timing chart of the field sequential system in which the light source is intermittently turned on. In the field sequential system, the period (T) of one frame period is 16.6 msec, and the period (T / 3) of the sub-frame period is 5.5 msec.

【0017】点順次駆動では、一本の走査線を選択し
て、ソースドライバーのシフトレジスターにより順次信
号線を選択していくことで、選択された走査線に接続し
た画素TFTの画素電極に信号線の電位を付与する。サ
ブフレーム期間は待機期間301、走査線選択期間30
2、液晶応答期間303、光源の点灯期間304の四つ
に分けられる。待機期間は1フレーム期間が始まってか
ら画素TFTに接続した走査線が選択されるまでの期間
である。液晶応答期間は液晶が画素電極の電位に応じて
応答する期間である。走査線選択期間を走査線の本数n
で乗じたものが走査線の走査期間308である。
In the dot sequential driving, one scanning line is selected, and a signal line is sequentially selected by a shift register of a source driver, so that a signal is applied to a pixel electrode of a pixel TFT connected to the selected scanning line. The potential of the line is applied. The sub-frame period includes a standby period 301 and a scanning line selection period 30
2, a liquid crystal response period 303 and a light source lighting period 304. The standby period is a period from the start of one frame period to the selection of the scanning line connected to the pixel TFT. The liquid crystal response period is a period in which the liquid crystal responds according to the potential of the pixel electrode. The scanning line selection period is set to the number of scanning lines n
The scanning period 308 of the scanning line is obtained by multiplying by.

【0018】走査線選択期間302に走査線が選択され
て、走査線に接続した画素TFTの画素電極に順次、所
望の階調に応じて信号線の電位を与える。液晶応答期間
303に、液晶の光学応答が終了する。光源の点灯期間
304に、光源が間欠的に点灯し、第1の発光色30
5、第2の発光色306、第3の発光色307が順次、
液晶表示装置に入射する。例えば、第1の発光色として
赤色、第2の発光色として緑色、第3の発光色として青
色を用いることができる。しかし、このように、間欠的
に光源を点灯させたときに、一行目の走査線に接続した
画素TFTと、n行目の走査線に接続した画素TFTと
で液晶応答期間303が、当然、異なる。そこで、液晶
の応答に時間がかかるときや、走査線の走査期間308
が長いときは、液晶の応答が完了してから光源を点灯さ
せようとすると光源の点灯期間304が短くなり明るさ
が低下する。
A scanning line is selected during a scanning line selection period 302, and a potential of a signal line is sequentially applied to a pixel electrode of a pixel TFT connected to the scanning line in accordance with a desired gradation. In the liquid crystal response period 303, the optical response of the liquid crystal ends. During the light source lighting period 304, the light source is turned on intermittently, and the first emission color 30
5, the second emission color 306, and the third emission color 307 are sequentially
The light enters the liquid crystal display device. For example, red can be used as the first emission color, green can be used as the second emission color, and blue can be used as the third emission color. However, as described above, when the light source is intermittently turned on, the liquid crystal response period 303 of the pixel TFT connected to the first scanning line and the pixel TFT connected to the nth scanning line naturally increases. different. Therefore, when the response of the liquid crystal takes a long time, or when the scanning period 308 of the scanning line is used.
When the light source is long, if the light source is turned on after the response of the liquid crystal is completed, the lighting period 304 of the light source becomes short and the brightness decreases.

【0019】つまり、フィールドシーケンシャル方式
で、重要な要素の一つとして挙げられるのが、液晶の応
答時間である。液晶の応答時間が早いほど、光源の点灯
期間を長くして、明るい表示をすることができる。
That is, in the field sequential system, one of the important factors is the response time of the liquid crystal. The quicker the response time of the liquid crystal, the longer the lighting period of the light source and the brighter the display.

【0020】さらに、フィールドシーケンシャル方式
で、重要な要素として挙げられるのが走査線の走査期間
である。走査線が1行〜n行まであるとすると、走査期
間が長くなると、走査線がn行目に近づくにつれて、画
素電極に信号線の電位を与えてから光源が点灯するまで
の時間が短くなり、液晶が応答しきらないうちに、光源
が点灯することになる。階調レベルは光源が点灯してい
るときに液晶の示す明るさの積分値で決まるため、液晶
が応答しきらないうちに、光源が点灯すると、画面を表
示するときの階調レベルが変わってしまう。逆に、液晶
が応答してから光源を点灯させるとなると、光源の点灯
期間が短くなり、表示が暗くなる。
Further, in the field sequential system, an important factor is a scanning period of a scanning line. Assuming that the number of scanning lines is 1 to n, if the scanning period becomes longer, the time from applying the potential of the signal line to the pixel electrode to turning on the light source becomes shorter as the scanning line approaches the n-th line. The light source is turned on before the liquid crystal has responded. Since the gradation level is determined by the integrated value of the brightness of the liquid crystal when the light source is on, if the light source is turned on before the liquid crystal has responded, the gradation level when displaying the screen changes. I will. Conversely, if the light source is turned on after the liquid crystal responds, the lighting period of the light source is shortened and the display becomes dark.

【0021】また、走査線数が多いXGA(横1024
画素×縦768画素)、SXGA(横1280画素×縦
1024画素)の液晶表示装置では、走査線の走査期間
がサブフレーム期間に占める割合が無視できない。SX
GAの液晶表示装置において点順次駆動をするときに、
1画素への信号の書き込み時間を0.75〜1.5ns
ecとしても、走査線の走査期間は1〜2msecと見
積もられた。よって、サブフレーム期間(5.5mse
c)から走査線の走査期間を除くと、3.5〜4.5m
secの時間しか残されていず、この時間で液晶を所望
の明るさを示すまで応答させ、次いで光源を点灯させる
とすると、光源の点灯時間はかなり短くなり、明るい表
示が困難になる。
XGA (1024 horizontal pixels) having a large number of scanning lines
In a liquid crystal display device of PXGA (1280 pixels × 1024 pixels) and SXGA (pixels × 768 pixels), the ratio of the scanning period of the scanning line to the sub-frame period cannot be ignored. SX
When performing dot sequential driving in a GA liquid crystal display device,
Write time of signal to one pixel is 0.75 to 1.5 ns
ec, the scanning period of the scanning line was estimated to be 1 to 2 msec. Therefore, the subframe period (5.5 mse
Excluding the scanning period of the scanning line from c), 3.5 to 4.5 m
Only the time of sec is left, and when the liquid crystal is made to respond until the desired brightness is exhibited at this time and then the light source is turned on, the lighting time of the light source becomes considerably short, and it becomes difficult to display brightly.

【0022】本明細書では、フィールドシーケンシャル
方式による液晶表示装置の駆動にさいし、液晶の光学応
答をより速く終了させることを課題とする。また、走査
線の走査期間を短縮し、待機期間301がサブフレーム
期間に占める割合を減少することを課題とする。
In the present specification, it is an object of the present invention to drive a liquid crystal display device by a field sequential method to end the optical response of the liquid crystal more quickly. Another object is to shorten the scanning period of the scanning line and reduce the ratio of the standby period 301 to the subframe period.

【0023】すなわち、本明細書ではフィールドシーケ
ンシャル方式において、待機期間301と液晶応答期間
303の和を短縮し、光源の点灯期間304を長くし、
明るい表示をすることを課題とする。
That is, in this specification, in the field sequential system, the sum of the standby period 301 and the liquid crystal response period 303 is shortened, and the lighting period 304 of the light source is lengthened,
An object is to provide a bright display.

【0024】[0024]

【課題を解決する手段】本発明は、第1のサブフレーム
期間において第1の信号電圧の電位を有する画素電極が
第2のサブフレーム期間において第2の信号電圧の電位
を有するときに、第1の信号電圧から第2の信号電圧へ
と電圧値が変化するときの液晶の応答時間を演算し、第
2のサブフレーム期間において演算した液晶の応答時間
の長い画素から順に、画素の画素電極に第2の信号電圧
の電位を与えることを特徴とする。
According to the present invention, when a pixel electrode having a potential of a first signal voltage in a first sub-frame period has a potential of a second signal voltage in a second sub-frame period, the present invention relates to The response time of the liquid crystal when the voltage value changes from the first signal voltage to the second signal voltage is calculated, and the pixel electrodes of the pixels are sequentially arranged in order from the pixel having the longer liquid crystal response time calculated in the second sub-frame period. And a potential of the second signal voltage.

【0025】本発明は、その回路構成に第1のサブフレ
ーム期間において画素電極に与える第1の信号電圧の電
位を記憶する第1の手段と、第2のサブフレーム期間に
おいて画素電極に与える第2の信号電圧の電位を記憶す
る第2の手段と、第1の信号電圧から第2の信号電圧へ
と電圧値が変わるときの液晶の応答時間を演算する第3
の手段と、演算した液晶の応答時間の長い画素の順に、
画素の画素電極に第2の信号電圧を与える第4の手段と
を有する。
According to the present invention, a first means for storing the potential of a first signal voltage applied to a pixel electrode in a first sub-frame period in a circuit configuration thereof, and a first means for applying a potential to a pixel electrode in a second sub-frame period A second means for storing the potential of the second signal voltage; and a third means for calculating a response time of the liquid crystal when the voltage value changes from the first signal voltage to the second signal voltage.
Means, and in the order of the pixels of the calculated response time of the liquid crystal,
Fourth means for applying a second signal voltage to the pixel electrode of the pixel.

【0026】フィールドシーケンシャル方式において
は、単色の画像を形成する期間であるサブフレーム期間
と、サブフレーム期間を連続的に三つ組み合わせてカラ
ー化された画像を形成する期間であるフレーム期間とか
らなる。上記構成はこのフィールドシーケンシャル方式
に適用できる。また、上記サブフレーム期間をフレーム
期間と置き換えることで本発明を、フィールドシーケン
シャル方式に限らず、液晶表示装置及びその駆動方法に
広く適用することも可能である。
In the field sequential system, a sub-frame period is a period for forming a monochromatic image, and a frame period is a period for forming a colorized image by continuously combining three sub-frame periods. . The above configuration can be applied to this field sequential system. Further, by substituting the above-described sub-frame period with a frame period, the present invention is not limited to the field sequential method, and can be widely applied to a liquid crystal display device and a driving method thereof.

【0027】点順次駆動では、一行列目の走査線に接続
した画素TFTに接続した画素電極からn行目の走査線
に接続した画素TFTを有する画素へと、順次画素を選
択する。このため、n行目の走査線に接続した画素にお
いて液晶の応答時間が長いと、フィールドシーケンシャ
ル方式において、光源が点灯するまでに液晶が応答しき
らないときがあった。しかし、本発明によれば、第1の
サブフレーム期間から第2のサブフレーム期間へと画像
が変わり、液晶が応答するときに、液晶の応答時間がか
かる画素を優先的に選択するため、図7のフィールドシ
ーケンシャル方式のタイミングチャートにおいて、液晶
の応答期間303が長い画素では待機期間301が短く
なり、待機期間301と液晶応答期間303の和を短縮
できる。すなわち、光源の点灯期間304を長くでき、
明るい表示が可能となる。
In the dot sequential driving, pixels are sequentially selected from the pixel electrode connected to the pixel TFT connected to the first matrix scanning line to the pixel having the pixel TFT connected to the nth scanning line. For this reason, if the response time of the liquid crystal in the pixel connected to the n-th scanning line is long, the liquid crystal may not respond completely until the light source is turned on in the field sequential method. However, according to the present invention, the image changes from the first sub-frame period to the second sub-frame period, and when the liquid crystal responds, the pixels that take the response time of the liquid crystal are preferentially selected. In the field sequential timing chart of FIG. 7, the standby period 301 is shortened for a pixel having a long liquid crystal response period 303, and the sum of the standby period 301 and the liquid crystal response period 303 can be shortened. That is, the lighting period 304 of the light source can be lengthened,
Bright display becomes possible.

【0028】また、本発明は、同一の信号線に接続した
同一の階調を表示する複数の画素の画素電極に同時に、
同一の信号電圧の電位を与えることを特徴とする。複数
の画素を同時に選択することにより、走査線の走査時間
を短縮することができる。
Further, according to the present invention, the pixel electrodes of a plurality of pixels connected to the same signal line and displaying the same gradation are simultaneously
It is characterized in that the same signal voltage potential is applied. By simultaneously selecting a plurality of pixels, the scanning time of a scanning line can be reduced.

【0029】また、本発明は、信号線及び第1の走査線
に接続した第1の画素TFTに接続して設けられた第1
の画素電極と、信号線及び第2の走査線に接続した第2
の画素TFTに接続して設けられた第2の画素電極と
に、第1の信号電圧の電位を与える第1段階を有する。
Further, according to the present invention, a first pixel TFT connected to a first pixel TFT connected to a signal line and a first scanning line is provided.
Pixel electrode, and a second electrode connected to the signal line and the second scanning line.
And a second pixel electrode provided in connection with the pixel TFT.

【0030】そして、信号線及び第2の走査線を選択し
第2の画素電極に第1の信号電圧との絶対値の差が0V
より大きく0.5Vより小さい第2の信号電圧の電位を
与える第2段階を有する。
Then, the signal line and the second scanning line are selected, and the difference between the absolute value of the second pixel electrode and the first signal voltage is 0 V.
A second step of applying a potential of a second signal voltage larger than 0.5V.

【0031】このようにして、第1段階で、第2の画素
TFTのドレイン電極に接続した第2の画素電極に第1
の信号電圧の電位を与えてあらかじめ液晶を応答させて
おく。第2の画素電極は、第1の画素電極と近似した階
調を表示する画素電極とする。近似した階調とは目安と
して第1の画素電極に与える電圧の絶対値に対し、0V
より大きく0.5Vより小さい電圧の絶対値により表示
される階調をいう。そして、第2段階で、第2の画素電
極に、第2の信号電圧を与えて、正規の階調を表示する
ように液晶を応答させる。こうして液晶をあらかじめ応
答させておくことで、第2の画素電極に第2の信号電圧
の電位を与えたときに、表示画像の階調に応答するまで
の応答時間を短縮できる。
As described above, in the first stage, the first pixel electrode is connected to the second pixel electrode connected to the drain electrode of the second pixel TFT.
The liquid crystal is made to respond in advance by giving the potential of the signal voltage. The second pixel electrode is a pixel electrode that displays a gradation similar to that of the first pixel electrode. Approximate gray scale is defined as 0 V relative to the absolute value of the voltage applied to the first pixel electrode.
It means a gray scale displayed by an absolute value of a voltage larger than 0.5 V. Then, in the second stage, a second signal voltage is applied to the second pixel electrode to cause the liquid crystal to respond so as to display a normal gradation. By causing the liquid crystal to respond in advance in this way, it is possible to reduce the response time required for responding to the gradation of the display image when the potential of the second signal voltage is applied to the second pixel electrode.

【0032】もちろん液晶の焼付きを防止するために、
同時に信号線の信号を書き込む第1の画素TFTと第2
の画素TFTとは、あらかじめ極性が同じ電圧を書き込
む予定の画素TFTとしても良い。
Of course, in order to prevent the seizure of the liquid crystal,
At the same time, the first pixel TFT and the second pixel
May be a pixel TFT to which a voltage having the same polarity is to be written in advance.

【0033】以上に示した各発明は液晶表示装置および
その駆動方法として広く用いることができるが、特に光
源が間欠的に点灯するフィールドシーケンシャル方式に
おいて有効である。光源が間欠的に点灯するため、画素
TFTに信号電圧を書き込む順序がランダムであって
も、信号電圧を画素TFTに書き込む間は光源が非点灯
のため、このランダムな書き込みがユーザーには視認さ
れないためである。
Each of the inventions described above can be widely used as a liquid crystal display device and a driving method thereof, but is particularly effective in a field sequential system in which a light source is intermittently turned on. Since the light source is turned on intermittently, even if the order of writing the signal voltage to the pixel TFT is random, the light source is not turned on while the signal voltage is being written to the pixel TFT, so this random writing is not visible to the user. That's why.

【0034】また上記発明を組み合わせて用いることも
可能であれば、フィールドシーケンシャル方式だけでな
く、公知の液晶の駆動方式に広く応用することも可能で
ある。
If the above inventions can be used in combination, the invention can be widely applied not only to the field sequential system but also to a known liquid crystal driving system.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】[実施形態1]本発明の回路構成を
図1を用いて説明する。図1は本実施形態の画素と駆動
回路とを示す。図1はm列×n行にマトリクス状に配置
された画素を有する画素部において、i番目の列、及び
j番目の行に配置されている画素のアドレスを(i、
j)(iは1以上n以下の整数、jは1以上m以下の整
数)と記載している。
[Embodiment 1] The circuit configuration of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows a pixel and a drive circuit of the present embodiment. FIG. 1 shows that in a pixel portion having pixels arranged in a matrix in m columns × n rows, addresses of pixels arranged in an i-th column and a j-th row are represented by (i,
j) (i is an integer of 1 or more and n or less, j is an integer of 1 or more and m or less).

【0036】1フレーム期間は第1のサブフレーム期間
〜第3のサブフレーム期間からなる。第1のサブフレー
ム期間〜第3のサブフレーム期間の映像信号130、及
び映像信号を入力する画素のアドレスはスイッチング回
路131の指定に応じて第1の手段または第2の手段に
入力される。
One frame period includes a first sub-frame period to a third sub-frame period. The video signal 130 in the first to third sub-frame periods and the address of the pixel to which the video signal is input are input to the first means or the second means in accordance with the designation of the switching circuit 131.

【0037】なお、映像信号130はアナログ信号でも
デジタル信号でもよい。ただし、映像信号を精度良く記
憶するためには、映像信号130がアナログ信号である
場合は、第1の手段または第2の手段に映像信号を入力
する前に、アナログデジタルコンバーター(ADコンバ
ーター)を用いてデジタル信号に変換するとよい。
The video signal 130 may be an analog signal or a digital signal. However, in order to store the video signal with high accuracy, if the video signal 130 is an analog signal, an analog-to-digital converter (AD converter) must be provided before the video signal is input to the first means or the second means. It may be converted to a digital signal by using this.

【0038】第1のサブフレーム期間において画素電極
に与える第1の信号電圧の電位を記憶する第1の手段が
ある。第1の手段をその機能から第1の記憶手段101
と称する。かつ、第2のサブフレーム期間において画素
電極に与える第2の信号電圧の電位を記憶する第2の手
段がある。第2の手段をその機能から第2の記憶手段1
02と称する。
There is a first means for storing the potential of the first signal voltage applied to the pixel electrode during the first sub-frame period. The first means is changed from its function to the first storage means 101.
Called. In addition, there is a second means for storing the potential of the second signal voltage applied to the pixel electrode during the second sub-frame period. The second means is changed from its function to the second storage means 1
02.

【0039】そして、同一の画素TFTにおいて、第1
の信号電圧から第2の信号電圧へと電圧値が変わるとき
の液晶の応答時間を演算する第3の手段がある。第3の
手段をその機能から比較演算手段103と称する。液晶
の応答時間の演算は、液晶の回転粘性係数、弾性定数、
誘電率異方性等の物性定数から応答時間の理論値を計算
すると良い。また、液晶の応答時間と駆動電圧の関係を
事前に比較演算手段に入力し、そのデータを参照しても
良い。そして、演算された液晶の応答時間に従って、第
2のサブフレーム期間で画素TFTに信号線の信号を書
き込む順序を決定する。
Then, in the same pixel TFT, the first
There is a third means for calculating the response time of the liquid crystal when the voltage value changes from the first signal voltage to the second signal voltage. The third means is referred to as a comparison operation means 103 because of its function. The calculation of the response time of the liquid crystal is based on the rotational viscosity coefficient, elastic constant,
The theoretical value of the response time may be calculated from physical constants such as dielectric anisotropy. Alternatively, the relationship between the response time of the liquid crystal and the drive voltage may be input to the comparison operation means in advance, and the data may be referred to. Then, the order in which the signal of the signal line is written to the pixel TFT in the second sub-frame period is determined according to the calculated response time of the liquid crystal.

【0040】まず、第1の信号電圧から第2の信号電圧
へと信号電圧が変化するときの、液晶の応答時間を演算
する。全ての画素においてその演算を行ったときの液晶
の応答時間が、(2、2)のアドレスの画素で一番長
く、(2、1)、(1、1)、(1、2)のアドレスの
画素の順に応答時間が短くなるとする。つまり、4個の
画素のうち(1、2)のアドレスの画素が第1の信号電
圧から第2の信号電圧へと信号電圧が変わるときの液晶
の応答時間が一番短いとする。この場合は、第2のサブ
フレーム期間の画像を表示するときに、画素TFTに信
号線の信号を書き込む順序は、(2、2)、(2、
1)、(1、1)、(1、2)のアドレスの順にする。
つまり、液晶の応答時間の長い画素の画素TFTから順
に、第2のサブフレーム期間において、信号線の信号を
書き込むことにする。便宜的に、4個の画素で説明をし
たが、n×m個の画素においても同じで、第1の信号電
圧から第2の信号電圧へと信号電圧が変化するときの、
液晶の応答時間が長い画素の画素TFTから順に信号線
の信号を書き込むようにする。複数の画素において液晶
の応答時間が同じであるときは、駆動回路の負担を低減
するために、画素が近接する順に画素TFTに信号線の
信号を書き込む。
First, the response time of the liquid crystal when the signal voltage changes from the first signal voltage to the second signal voltage is calculated. The response time of the liquid crystal when the calculation is performed in all the pixels is the longest in the pixel of the address of (2, 2), and the response time of (2, 1), (1, 1), and (1, 2) It is assumed that the response time becomes shorter in the order of the pixels. That is, it is assumed that the response time of the liquid crystal when the pixel at the address (1, 2) of the four pixels changes the signal voltage from the first signal voltage to the second signal voltage is the shortest. In this case, when displaying an image in the second sub-frame period, the order of writing the signal of the signal line to the pixel TFT is (2, 2), (2,
1), (1, 1) and (1, 2) in this order.
That is, the signal of the signal line is written in the second sub-frame period in order from the pixel TFT of the pixel having the longer response time of the liquid crystal. For convenience, the description has been made with four pixels. However, the same applies to n × m pixels. When the signal voltage changes from the first signal voltage to the second signal voltage,
A signal of a signal line is written in order from a pixel TFT of a pixel having a long response time of liquid crystal. When the response time of the liquid crystal is the same in a plurality of pixels, the signal of the signal line is written to the pixel TFT in order of approaching the pixels in order to reduce the load on the driving circuit.

【0041】そして、第1のサブフレーム期間の間に、
比較演算データ記憶手段104に、第2のサブフレーム
期間において画素TFTに信号線の信号を書き込む順序
を記憶する。
Then, during the first sub-frame period,
The order in which the signal of the signal line is written to the pixel TFT in the second sub-frame period is stored in the comparison operation data storage unit 104.

【0042】そして、演算した液晶の応答時間の長い画
素の順に、画素の画素電極に第2の信号電圧を与える第
4の手段がある。本実施形態では、第4の手段は、Xア
ドレスデコーダー106、Xアドレスデコーダーに接続
した映像信号出力手段108とを有するXアドレス書き
込み制御手段110と、Yアドレスデコーダー105、
Yアドレスデコーダーに接続したレベルシフタ−107
とを有するYアドレス書き込み制御手段109とからな
る。
Then, there is a fourth means for applying a second signal voltage to the pixel electrode of the pixel in the order of the pixels having the longest calculated response time of the liquid crystal. In the present embodiment, the fourth means is an X address write control means 110 having an X address decoder 106, a video signal output means 108 connected to the X address decoder, a Y address decoder 105,
Level shifter 107 connected to Y address decoder
And a Y address writing control means 109 having

【0043】第4の手段のうち、Xアドレスデコーダー
106と映像信号出力手段108とを有するXアドレス
書き込み制御手段110は、比較演算データ記憶手段1
04から出力されるXアドレスデータに基づいて、画素
TFTに接続した信号線を選択する機能がある。また、
Yアドレスデコーダー105とレベルシフタ−107と
を有するYアドレス書き込み制御手段109は、比較演
算データ記憶手段104から出力されるYアドレスデー
タに基づいて、画素TFTに接続した走査線を選択する
機能がある。
Among the fourth means, the X-address writing control means 110 having the X-address decoder 106 and the video signal output means 108 is the comparison operation data storage means 1
There is a function of selecting a signal line connected to the pixel TFT based on the X address data output from the pixel 04. Also,
The Y address writing control unit 109 having the Y address decoder 105 and the level shifter 107 has a function of selecting a scanning line connected to the pixel TFT based on the Y address data output from the comparison operation data storage unit 104.

【0044】比較演算データ記憶手段104から出力さ
れるYアドレスデータに基づいて、Yアドレスデコーダ
ー105により、信号線の信号を書き込む画素TFTの
走査線のアドレスが指定される。SXGA(横1280
×縦1024)の画素数のときは、Yアドレスデコーダ
ーの入力端子を画素数に合わせて10本にすれば210
走査線を任意に選択できる。Yアドレスデコーダーの出
力端子のうち、Yアドレスデータにより指定されたYア
ドレスを有する出力端子から、出力パルスが出力され
る。そして、レベルシフタ−107により、出力パルス
の電圧が増幅されて、指定されたYアドレスを有する走
査線にゲートパルスが出力される。
Based on the Y address data output from the comparison operation data storage means 104, the address of the scanning line of the pixel TFT to which the signal of the signal line is written is designated by the Y address decoder 105. SXGA (1280 horizontal)
In the case of the number of pixels of (× 1024), if the number of input terminals of the Y address decoder is set to 10 in accordance with the number of pixels, 2 10 scanning lines can be arbitrarily selected. An output pulse is output from an output terminal having a Y address designated by the Y address data among output terminals of the Y address decoder. Then, the voltage of the output pulse is amplified by the level shifter 107, and a gate pulse is output to the scanning line having the designated Y address.

【0045】また、Xアドレスデコーダー106により
信号電圧の電位を与える信号線が指定される。SXGA
(横1280×縦1024)の画素数のときは、Xアド
レスデコーダーの入力端子を画素数に合わせて11本に
すれば良い。Xアドレスデコーダー106によって指定
されたXアドレスの出力端子から出力パルスが出力し
て、映像信号出力手段108に入力する。そして、指定
されたXアドレスの信号線に映像信号(信号電圧)を入
力し、信号線に信号電圧を与える。映像信号119に関
しては、外部回路(比較演算データ記憶手段104)に
より映像信号が画素TFTに書き込まれる順序が決定さ
れて、映像信号出力手段108に入力する。
The X address decoder 106 specifies a signal line for applying a signal voltage potential. SXGA
When the number of pixels is (1280 horizontal × 1024 vertical), the number of input terminals of the X address decoder may be 11 in accordance with the number of pixels. An output pulse is output from the output terminal of the X address specified by the X address decoder 106 and input to the video signal output means 108. Then, a video signal (signal voltage) is input to the signal line of the designated X address, and a signal voltage is applied to the signal line. With respect to the video signal 119, the order in which the video signal is written to the pixel TFT is determined by an external circuit (comparison operation data storage unit 104), and is input to the video signal output unit 108.

【0046】なお、映像信号出力手段に入力された映像
信号がデジタル信号である場合は、デジタルアナログコ
ンバーター(DAコンバーター)を映像信号出力手段に
内蔵してアナログ信号に変換する。
If the video signal input to the video signal output means is a digital signal, a digital-to-analog converter (DA converter) is built in the video signal output means and converted to an analog signal.

【0047】こうして、比較演算データ記憶手段104
によって記憶された順序に従って、画素TFT118に
順次信号線の信号を書き込み、第2のサブフレーム期間
の画像を形成する。
Thus, the comparison operation data storage means 104
The signals of the signal lines are sequentially written to the pixel TFTs 118 in accordance with the order stored in the step (b) to form an image in the second sub-frame period.

【0048】図2を用いて、回路の動作を説明する。第
1のサブフレーム期間〜第3のサブフレーム期間におい
て表示された画像を合わせることで、カラー表示された
画像が第1のフレーム期間916において表示される。
準備期間912には、まず、第1の記憶手段に第1のサ
ブフレーム期間の画素TFTのアドレスとその画素TF
Tに書き込む第1の信号電圧を記憶させる第1の期間9
00がある。次に、比較演算手段において、第1のサブ
フレーム期間の画像を形成するときに、それぞれの画素
における液晶の応答時間を算出する第2の期間901が
ある。最後に、比較演算手段のデータを比較演算データ
記憶手段に移動する第3の期間902がある。
The operation of the circuit will be described with reference to FIG. By combining the images displayed in the first to third sub-frame periods, a color-displayed image is displayed in the first frame period 916.
In the preparation period 912, first, the address of the pixel TFT and the pixel TF thereof in the first subframe period are stored in the first storage means.
First period 9 for storing first signal voltage to be written to T
00. Next, there is a second period 901 for calculating the response time of the liquid crystal in each pixel when the image of the first sub-frame period is formed by the comparison operation means. Finally, there is a third period 902 during which the data of the comparison operation means is moved to the comparison operation data storage means.

【0049】第1のサブフレーム期間913において
は、信号線の信号を画素TFTに書き込む期間903が
ある。次に、書き込まれた第1の信号電圧に応じて液晶
が応答する液晶応答期間904がある。そして、光源が
点灯する光源の点灯期間905がある。第1のサブフレ
ーム期間において光源が発光する第1の発光色は加法混
色の三原色のうち例えば赤色とすることが可能である。
In the first sub-frame period 913, there is a period 903 in which a signal of a signal line is written to the pixel TFT. Next, there is a liquid crystal response period 904 in which the liquid crystal responds according to the written first signal voltage. Then, there is a lighting period 905 of the light source where the light source is turned on. The first light emission color emitted by the light source in the first sub-frame period can be, for example, red among the three primary colors of the additive color mixture.

【0050】第1のサブフレーム期間913において、
並列して、第2のサブフレーム期間の画像を形成するた
めに、画素TFTに第2の信号電圧を書き込む順序を決
定する。第1の記憶手段にはすでに第1のサブフレーム
期間のそれぞれのXアドレス、Yアドレスの画素におけ
る第1の信号電圧を記憶しているため、第4の期間90
6において、第2の記憶手段に第2のサブフレーム期間
のそれぞれのXアドレス、Yアドレスの画素における第
2の信号電圧を記憶する。次に、第5の期間907にお
いて、比較演算手段において、第1の信号電圧から、第
2の信号電圧へと信号電圧が変わるときの液晶の応答時
間を演算し、その演算結果から画素を選択する順序を決
定する。そして、第6の期間908において、比較演算
手段のデータを比較演算データ記憶手段に移動する。
In the first sub-frame period 913,
In parallel, in order to form an image in the second sub-frame period, the order in which the second signal voltage is written to the pixel TFT is determined. Since the first storage means has already stored the first signal voltage of the pixel at each of the X address and the Y address in the first subframe period, the fourth period 90
At 6, the second signal voltage in the pixel at the X address and the Y address in the second sub-frame period is stored in the second storage means. Next, in the fifth period 907, the comparison operation means calculates the response time of the liquid crystal when the signal voltage changes from the first signal voltage to the second signal voltage, and selects a pixel from the calculation result. Determine the order to do. Then, in the sixth period 908, the data of the comparison operation means is moved to the comparison operation data storage means.

【0051】次いで、第2のサブフレーム期間914に
おいて、比較演算データ記憶手段の画素データを画素に
書き込む。第2のサブフレーム期間はの画素データの書
き込み期間909、液晶応答期間910、光源が点灯す
る期間911がある。光源が発光する第2の発光色は例
えば緑色とすることが可能である。
Next, in the second sub-frame period 914, the pixel data of the comparison operation data storage means is written to the pixel. The second sub-frame period includes a pixel data writing period 909, a liquid crystal response period 910, and a period 911 during which a light source is turned on. The second emission color emitted by the light source can be, for example, green.

【0052】第2のサブフレーム期間に準じた回路動作
で、第3のサブフレーム期間の画像を形成する。第3の
サブフレーム期間915において、光源が発光する第3
の発光色は例えば青色とすることが可能である。こうし
て第1フレーム期間においてカラー表示する画像が形成
される。以上の操作を連続して繰り返すことにより、カ
ラー化された画像からなる動画表示ができる。
An image in the third sub-frame period is formed by the circuit operation according to the second sub-frame period. In the third sub-frame period 915, the third light emission of the light source is performed.
Can be, for example, blue. Thus, an image to be displayed in color in the first frame period is formed. By repeatedly performing the above operations, a moving image display made of a colorized image can be displayed.

【0053】つまり、図7のフィールドシーケンシャル
方式のタイミングチャートを用いて説明すると、本発明
により、液晶の応答期間303の長い画素は待機期間3
01を短くできるため、従来に比べて、待機期間301
と液晶応答期間303との和を短くすることができる。
これにより光源の点灯期間304を長くすることができ
る。また、光源が間欠的に点灯するフィールドシーケン
シャル方式のカラー表示の方法と本実施形態を組み合わ
せて用いているためと、画素を選択する順番がランダム
であっても、液晶が応答する期間は光源が非点灯のため
このランダムな書き込みがユーザーに認識されないです
む。
That is, with reference to the timing chart of the field sequential system shown in FIG. 7, according to the present invention, a pixel having a long response period 303 of the liquid crystal is placed in the standby period 3
01 can be shortened, so that the waiting period 301
And the liquid crystal response period 303 can be shortened.
Thereby, the lighting period 304 of the light source can be lengthened. In addition, since the present embodiment is used in combination with the field sequential color display method in which the light source is intermittently lit, the light source remains in the period in which the liquid crystal responds even if the order of selecting pixels is random. This random writing does not need to be recognized by the user because of non-lighting.

【0054】図3に、Yアドレス書き込み制御手段10
9のタイミングチャートを示す。レベルシフタ−とYア
ドレスデコーダーとを有する駆動回路をYアドレス書き
込み制御手段と称する。Yアドレス書き込み制御手段は
画素TFTに接続した走査線を選択する手段である。
FIG. 3 shows the Y address write control means 10.
9 shows a timing chart. A drive circuit having a level shifter and a Y address decoder is referred to as a Y address write control means. The Y address writing control means is a means for selecting a scanning line connected to the pixel TFT.

【0055】Yアドレス書き込み制御手段のタイミング
チャートを説明すると、まず、複数のYアドレスデータ
111がYアドレスデコーダーの入力端子に入力する。
例えば、走査線が1024本あるときは、この1024
本の走査線のいずれか一つを選択するためにXアドレス
データは10個あり、それぞれのXアドレスデータは
「0」または「1」の情報を有する。そして、Yアドレスデ
ータが指定したYアドレスを有するYアドレスデコーダ
ーの出力端子から、出力パルス112が出力される。出
力パルス112はレベルシフタ−により電圧値が増幅さ
れて、ゲートパルス117に変換される。そして、ゲー
トパルスは指定されたYアドレスの走査線に出力され
る。こうして液晶の応答時間が長くかかる画素の画素T
FTに接続した走査線が優先的に選択される。第1のサ
ブフレーム期間において、第1の信号電圧を書き込む画
素TFTの順序に従って、出力パルス112〜116が
指定されたYアドレスに順次出力される。出力パルスは
シフトレジスターによりゲートパルス117〜121に
変換され、走査線が選択される。第2のサブフレーム期
間133では、第1のサブフレーム期間132と同様
に、出力パルスがゲートパルスに変換され、始めに、液
晶の応答時間が長くかかる画素の画素TFTに接続した
走査線が選択される。以降、これに準じたタイミングで
画像の形成を繰り返す。
The timing chart of the Y address writing control means will be described. First, a plurality of Y address data 111 are input to the input terminal of the Y address decoder.
For example, if there are 1024 scanning lines,
There are ten pieces of X address data for selecting any one of the scanning lines, and each piece of X address data has information of “0” or “1”. Then, an output pulse 112 is output from the output terminal of the Y address decoder having the Y address specified by the Y address data. The voltage value of the output pulse 112 is amplified by the level shifter and converted into a gate pulse 117. Then, the gate pulse is output to the scanning line of the designated Y address. Thus, the pixel T of the pixel which takes a long response time of the liquid crystal
The scanning line connected to the FT is preferentially selected. In the first sub-frame period, output pulses 112 to 116 are sequentially output to the designated Y address in accordance with the order of the pixel TFTs for writing the first signal voltage. The output pulse is converted into gate pulses 117 to 121 by the shift register, and a scanning line is selected. In the second sub-frame period 133, as in the first sub-frame period 132, the output pulse is converted into a gate pulse, and first, the scanning line connected to the pixel TFT of the pixel that requires a long liquid crystal response time is selected. Is done. Thereafter, image formation is repeated at a timing according to this.

【0056】例えば、VGA(横640画素×縦480
画素)の表示装置であって、液晶の応答時間の遅い画素
は、順に、(1、5)、(6、2)、(150、4)…
(60、3)、(200、300)であったとする。つ
まり、(1、5)の画素で液晶の応答時間が一番長く、
(200、300)の画素で液晶の応答時間が一番短い
とする。この場合は、G5のアドレスを有する走査線へ
とゲートパルス117が出力され、G2のアドレスを有
する走査線へとゲートパルス118が出力され、G4の
アドレスを有する走査線へとゲートパルス119が出力
される。そして、G3のアドレスを有する走査線へとゲ
ートパルス120が出力され、最後にG300のアドレ
スを有する走査線へとゲートパルス121が出力され
る。
For example, VGA (640 horizontal pixels × 480 vertical pixels)
Pixel), the pixels having the slower response time of the liquid crystal are (1, 5), (6, 2), (150, 4),.
(60, 3) and (200, 300). That is, the response time of the liquid crystal is the longest in the pixels (1, 5),
It is assumed that the response time of the liquid crystal is the shortest in the (200, 300) pixel. In this case, the gate pulse 117 is output to the scanning line having the address of G5, the gate pulse 118 is output to the scanning line having the address of G2, and the gate pulse 119 is output to the scanning line having the address of G4. Is done. Then, the gate pulse 120 is output to the scanning line having the address of G3, and finally the gate pulse 121 is output to the scanning line having the address of G300.

【0057】図4に、Xアドレス書き込み制御手段11
0のタイミングチャートを示す。Xアドレスデコーダー
と映像信号出力回路からなる駆動回路をXアドレス書き
込み制御手段と称する。Xアドレス書き込み制御手段は
画素TFTに接続した信号線を選択する手段である。
FIG. 4 shows the X address write control means 11.
0 shows a timing chart. The driving circuit including the X address decoder and the video signal output circuit is referred to as X address writing control means. The X address writing control means is a means for selecting a signal line connected to the pixel TFT.

【0058】Xアドレス書き込み制御手段のタイミング
チャートを説明すると、まず、信号線を選択する順序を
示すXアドレスデータ122がXアドレスデコーダーの
入力端子に入力される。例えば信号線が1240本ある
ときは、この1240本の信号線のいずれか一つを選択
するためにはYアドレスデータは11個あり、それぞれ
のYアドレスデータは「0」または「1」の情報を有する。
そして、出力パルス123〜127が、Xアドレスデコ
ーダーの出力端子のうち、Xアドレスデータ122によ
り指定されたXアドレスの出力端子から、出力される。
指定されたXアドレスの信号線に映像信号129が入力
されて、信号線に信号電圧の電位を与える。第2のサブ
フレーム期間においても第1のサブフレーム期間と同様
に、液晶の応答時間が一番長い画素の画素TFTに接続
した信号線を優先的に選択する。以降、これに準じたタ
イミングで画像の形成を繰り返す。
The timing chart of the X address write control means will be described. First, X address data 122 indicating the order of selecting signal lines is input to the input terminal of the X address decoder. For example, when there are 1240 signal lines, there are 11 Y address data in order to select any one of the 1240 signal lines, and each Y address data is information of “0” or “1”. Having.
Then, the output pulses 123 to 127 are output from the output terminal of the X address specified by the X address data 122 among the output terminals of the X address decoder.
The video signal 129 is input to the signal line of the designated X address, and a signal voltage potential is applied to the signal line. In the second sub-frame period, similarly to the first sub-frame period, the signal line connected to the pixel TFT of the pixel having the longest liquid crystal response time is preferentially selected. Thereafter, image formation is repeated at a timing according to this.

【0059】例えば、VGA(横640画素×縦480
画素)の表示装置であって、液晶の応答時間の遅い画素
は、順に、(1、5)、(6、2)、(150、4)…
(60、3)、(200、300)であったとする。つ
まり、(1、5)の画素で液晶の応答時間が一番長く、
(200、300)の画素で液晶の応答時間が一番短い
とする。この場合は、S1のアドレスを有する信号線で
出力パルス123が出力された後に、S6のアドレスを
有する信号線で出力パルス124が出力され、S150
のアドレスを有する信号線で出力パルス125が出力さ
れる。そして、S60のアドレスを有する信号線に出力
パルス126が出力され、最後にS200のアドレスを
有する信号線に出力パルス127が出力される。
For example, VGA (640 horizontal pixels × 480 vertical pixels)
Pixel), the pixels having the slower response time of the liquid crystal are (1, 5), (6, 2), (150, 4),.
(60, 3) and (200, 300). That is, the response time of the liquid crystal is the longest in the pixels (1, 5),
It is assumed that the response time of the liquid crystal is the shortest in the (200, 300) pixel. In this case, after the output pulse 123 is output on the signal line having the address of S1, the output pulse 124 is output on the signal line having the address of S6.
The output pulse 125 is output on the signal line having the address of. Then, the output pulse 126 is output to the signal line having the address of S60, and finally, the output pulse 127 is output to the signal line having the address of S200.

【0060】なお、XアドレスデコーダーとYアドレス
デコーダーとから出力される出力パルスのパルス幅はそ
れぞれ同じである。m列×n行にマトリクス状に配置さ
れた画素を有する画素部においてXアドレスデコーダー
とYアドレスデコーダーとから出力される出力パルスの
数はそれぞれm×n個であり、応答時間の長い画素から
順に画素毎にデータが書き込まれる。
The pulse widths of the output pulses output from the X address decoder and the Y address decoder are the same. In a pixel portion having pixels arranged in a matrix in m columns × n rows, the number of output pulses output from the X address decoder and the Y address decoder is m × n, and the pixels having the longest response time are in order. Data is written for each pixel.

【0061】[実施形態2]本発明の実施の形態を図5に
示す。図5において特徴的なことは、複数のアドレスデ
コーダーつまり、第1のYアドレスデコーダー及び第2
のYアドレスデコーダーを設けていることである。図5
はi番目の列、及びj番目の行に配置されている画素の
アドレスを(i、j)(iは1以上n以下の整数、jは
1以上m以下の整数)と記載している。
[Embodiment 2] FIG. 5 shows an embodiment of the present invention. 5 is characterized by a plurality of address decoders, namely, a first Y address decoder and a second Y address decoder.
Is provided. FIG.
Describes the address of the pixel arranged in the i-th column and the j-th row as (i, j) (i is an integer of 1 to n, and j is an integer of 1 to m).

【0062】まず、記憶手段201に第1のサブフレー
ム期間のXアドレス、Yアドレスにおける映像信号(信
号電圧)200のデータを記憶する。Yアドレスは信号
線のアドレスを示す。Xアドレスは走査線のアドレスを
示す。
First, the data of the video signal (signal voltage) 200 at the X address and the Y address in the first sub-frame period is stored in the storage means 201. The Y address indicates the address of the signal line. The X address indicates the address of the scanning line.

【0063】すなわち、記憶手段201に映像信号と、
映像信号が入力される画素のアドレスが記憶される。
That is, the video signal is stored in the storage means 201,
The address of the pixel to which the video signal is input is stored.

【0064】そして、同一の信号線に接続した同一の階
調を表示する画素を検出する第1の手段は、同一のXア
ドレスの信号線に接続した複数の画素TFT210にお
いて、同じ信号電圧で表示をする画素の画素TFTに、
同時に信号線の信号を書き込むようにプログラムが組ま
れている。本実施形態では、第1の手段をその機能から
比較手段202と称する。例えば、第1フレーム期間に
おいて、Xアドレスが1の信号線に接続した画素TFT
のうち、Yアドレスが1、10及びnの画素が同じ信号
電圧で表示を行うとき、(1、1)、(1、10)及び
(1、n)のアドレスの画素TFTが比較手段により検
出される。本実施形態では、説明を簡便にするため、最
大二つの画素TFTに同時に同一の信号電圧を書き込む
こととする。また、(1、1)のアドレスの画素TFT
と同時に、信号線の信号を書き込む画素TFTは、残り
二つの画素((1、10)と(1、n))のうち、Yア
ドレスがより大きい(1、n)のアドレスの画素TFT
とする。点順次駆動において、Yアドレスの値が大きな
画素TFTほど、画素TFTに信号線の信号を書き込む
時間が遅くなりフィールドシーケンシャル方式におい
て、図7の待機時間301が長くなる傾向があるため、
Yアドレスの値が大きな画素TFTを優先的に選択する
方がよいためである。もちろん、二つの画素TFTに同
時に信号線の信号を書き込むだけでなく、3つの画素T
FTに同時に信号線の信号を書き込むことも、駆動回路
の設計を変更することで可能となる。
The first means for detecting a pixel connected to the same signal line and displaying the same gray scale is provided by a plurality of pixel TFTs 210 connected to the signal line of the same X address and displaying the same signal voltage. To the pixel TFT of the pixel
At the same time, a program is written to write the signal of the signal line. In the present embodiment, the first unit is referred to as a comparison unit 202 because of its function. For example, in a first frame period, a pixel TFT connected to a signal line having an X address of 1
When the pixels having Y addresses of 1, 10 and n perform display with the same signal voltage, the pixel TFTs of the addresses (1, 1), (1, 10) and (1, n) are detected by the comparing means. Is done. In the present embodiment, to simplify the description, the same signal voltage is simultaneously written to a maximum of two pixel TFTs. Also, the pixel TFT at the address of (1, 1)
At the same time, the pixel TFT to which the signal of the signal line is written is a pixel TFT of the address (1, n) having the larger Y address among the remaining two pixels ((1, 10) and (1, n)).
And In the dot sequential driving, a pixel TFT having a larger Y address value has a longer time for writing a signal of a signal line to the pixel TFT, and a standby time 301 in FIG. 7 tends to be longer in a field sequential method.
This is because it is better to preferentially select a pixel TFT having a large Y address value. Of course, not only can the signals of the signal lines be simultaneously written into the two pixel TFTs, but also the three pixels T
The signal of the signal line can be simultaneously written to the FT by changing the design of the driver circuit.

【0065】次に、比較データ記憶手段203に、比較
手段202で決定した、画素に信号線の信号を書き込む
順序を記憶させる。
Next, the order in which the signals of the signal lines are written to the pixels, determined by the comparing means 202, is stored in the comparison data storing means 203.

【0066】複数の画素TFTの画素電極に同時に信号
電圧の電位を与える第2の手段がある。第2の手段は、
本実施形態において、Xアドレスデコーダー204、映
像信号出力手段205、第1のYアドレスデコーダー2
06及び第2のYアドレスデコーダー208、第1のレ
ベルシフタ−207及び第2のレベルシフタ−209か
らなる。
There is a second means for simultaneously applying a signal voltage potential to the pixel electrodes of a plurality of pixel TFTs. The second means is
In the present embodiment, the X address decoder 204, the video signal output means 205, the first Y address decoder 2
06, a second Y address decoder 208, a first level shifter 207 and a second level shifter 209.

【0067】Xアドレスデコーダー204は比較データ
記憶手段から出力されるXアドレスデータに基づいて、
信号線のアドレスを選択する手段である。第1のYアド
レスデコーダー206及び第2のYアドレスデコーダー
208は比較データ記憶手段から出力されるYアドレス
データに基づいて、走査線のアドレスを選択する手段で
ある。
The X address decoder 204 is based on the X address data output from the comparison data storage means.
This is a means for selecting the address of the signal line. The first Y address decoder 206 and the second Y address decoder 208 are means for selecting a scan line address based on the Y address data output from the comparison data storage means.

【0068】Xアドレスデコーダー204は、比較デー
タ記憶手段203から出力されたXアドレスデータをも
とに、Xアドレスデコーダーの指定されたXアドレスの
出力端子に出力パルスを出力する。図示してはいない
が、SXGAの画素数である液晶表示手段のときは、X
アドレスデコーダーの入力端子は11本であり、出力端
子は1280本である。Xアドレスデコーダーより信号
電圧の電位を与える信号線のXアドレスが指定される。
ここでXアドレスとして1を指定することとする。
The X address decoder 204 outputs an output pulse to the designated X address output terminal of the X address decoder based on the X address data output from the comparison data storage means 203. Although not shown, in the case of the liquid crystal display means which is the number of pixels of SXGA, X
The address decoder has 11 input terminals and 1280 output terminals. The X address of the signal line which gives the potential of the signal voltage is designated by the X address decoder.
Here, 1 is designated as the X address.

【0069】映像信号出力手段205は、Xアドレスデ
ータが指定したXアドレスの信号線に映像信号を供給す
る。映像信号211は、外部回路(比較データ記憶手段
203)により、映像信号の順序が決定され、その順序
に従って映像信号出力手段に入力される。
The video signal output means 205 supplies a video signal to the signal line of the X address specified by the X address data. The order of the video signal 211 is determined by an external circuit (comparison data storage means 203), and is input to the video signal output means in accordance with the order.

【0070】第1のYアドレスデコーダー206は、比
較データ記憶手段203から出力されたYアドレスデー
タをもとに、指定されたYアドレスの出力端子から出力
パルスを出力する。図示してはいないが、SXGAの画
素数である液晶表示手段のときは、Yアドレスデコーダ
ーの入力端子は10本であり、出力端子は1024本で
ある。第1のYアドレスデコーダーのYアドレスが1で
ある出力端子から、出力パルスが出力されるとする。第
2のYアドレスデコーダー208のYアドレスがnであ
る出力端子から出力パルスが出力されるとする。
The first Y address decoder 206 outputs an output pulse from the output terminal of the designated Y address based on the Y address data output from the comparison data storage means 203. Although not shown, in the case of a liquid crystal display unit having the number of pixels of SXGA, the Y address decoder has ten input terminals and 1024 output terminals. It is assumed that an output pulse is output from an output terminal of the first Y address decoder whose Y address is 1. It is assumed that an output pulse is output from an output terminal of the second Y address decoder 208 whose Y address is n.

【0071】第1のYアドレスデコーダーに接続した第
1のレベルシフタ−207及び第2のYアドレスデコー
ダーに接続した第2のレベルシフタ−209は出力パル
スの電圧を増幅して、ゲート電圧を有するゲートパルス
にする。
The first level shifter 207 connected to the first Y address decoder and the second level shifter 209 connected to the second Y address decoder amplify the voltage of the output pulse to generate a gate pulse having a gate voltage. To

【0072】第1のYアドレスデコーダー、第2のYア
ドレスデコーダー、Xアドレスデコーダーにより指定さ
れたアドレスの走査線及び信号線が選択されることによ
り、画素TFT210のうち、(1、1)及び(1、
n)のアドレスを有する画素TFTが選択され、信号線
の信号が書き込まれる。こうして、順次画素TFTのア
ドレスを指定して、画素TFTに信号線の信号を書き込
む。本実施形態では、最大2つの画素TFTに同時に信
号線の信号を書き込むことができるため、画素TFTに
信号線の信号を与える時間の総和、つまり、走査線の走
査時間を短縮することができる。
By selecting the scanning line and the signal line of the address specified by the first Y address decoder, the second Y address decoder and the X address decoder, (1, 1) and ( 1,
The pixel TFT having the address n) is selected, and the signal of the signal line is written. Thus, the address of the pixel TFT is sequentially designated, and the signal of the signal line is written to the pixel TFT. In the present embodiment, the signal of the signal line can be written to a maximum of two pixel TFTs at the same time, so that the total time for providing the signal of the signal line to the pixel TFT, that is, the scanning time of the scanning line can be reduced.

【0073】図2を用いて、回路の動作を説明する。準
備期間912において、記憶手段に第1フレーム期間の
Xアドレス、Yアドレスにおける信号電圧のデータを入
力する第1の期間900がある。そして、比較手段にお
いて、同一の信号線に接続した画素TFTおいて、同じ
信号電圧を書き込む画素TFTを検出して、それらの画
素TFTのYアドレスを確認する第2の期間901があ
る。比較手段で決定した画素TFTに信号線の信号を与
える順序を比較データ記憶手段に書き込む第3の期間9
02がある。
The operation of the circuit will be described with reference to FIG. In the preparation period 912, there is a first period 900 in which signal voltage data at the X address and the Y address in the first frame period is input to the storage means. Then, in the comparison means, there is a second period 901 in which the pixel TFTs to which the same signal voltage is written are detected in the pixel TFTs connected to the same signal line, and the Y addresses of those pixel TFTs are confirmed. The third period 9 in which the order in which the signal of the signal line is applied to the pixel TFT determined by the comparing means is written in the comparison data storage means
02.

【0074】第1のサブフレーム期間においては、画素
TFTに画像を表示するために信号線の信号を画素TF
Tに書き込む期間903がある。次に、液晶が書き込ま
れた第1の信号電圧に応じて応答する液晶応答期間90
4がある。そして、光源が点灯する期間905がある。
第1のサブフレーム期間において光源が発光する第1の
発光色は加法混色の三原色のうち例えば赤色とすること
が可能である。
In the first sub-frame period, the signal of the signal line is applied to the pixel TF in order to display an image on the pixel TFT.
There is a period 903 for writing to T. Next, a liquid crystal response period 90 in which the liquid crystal responds according to the first signal voltage is written.
There are four. Then, there is a period 905 during which the light source is turned on.
The first light emission color emitted by the light source in the first sub-frame period can be, for example, red among the three primary colors of the additive color mixture.

【0075】第1のサブフレーム期間において、並列
に、第2のサブフレーム期間のXアドレス、Yアドレス
における信号電圧のデータを入力する第4の期間90
6、第2のサブフレーム期間において同時に信号線の信
号を書き込む画素TFTのアドレスを比較手段で検出す
る第5の期間907、比較手段で決定した信号線の信号
の書き込みの順序を比較データ記憶手段に書き込む第6
の期間908がある。
In the first sub-frame period, a fourth period 90 for inputting signal voltage data at the X address and the Y address in the second sub-frame period in parallel.
6. A fifth period 907 in which the address of the pixel TFT to which the signal of the signal line is simultaneously written in the second sub-frame period is detected by the comparing means. Write to the sixth
There is a period 908.

【0076】以降、同様にして、第2のサブフレーム期
間において、画素TFTに信号線の信号を与える動作か
ら始め、光源が点灯することにより単色の画像が形成さ
れる。光源が発光する第2の発光色は緑色とすることが
可能である。第2のサブフレーム期間において、並列
に、第3のサブフレーム期間の画像を形成するために、
画素TFTに信号電圧を書き込む順序を決定する、第4
の期間〜第6の期間に準じた回路の動作がある。そし
て、第3のサブフレーム期間の光源の点灯期間に単色の
画像が表示される。光源が発光する第3の発光色は青色
とすることが可能である。このようにして第1フレーム
期間においてカラー化された画像が形成される。以降、
順次、同様の操作を繰り返して、動画表示をする。
Thereafter, in the same manner, in the second sub-frame period, a monochrome image is formed by turning on the light source, starting from the operation of supplying a signal of the signal line to the pixel TFT. The second emission color emitted by the light source can be green. In order to form an image of the third sub-frame period in parallel in the second sub-frame period,
The order in which signal voltages are written to the pixel TFTs is determined.
There is an operation of the circuit corresponding to the period from the period to the sixth period. Then, a monochrome image is displayed during the lighting period of the light source in the third sub-frame period. The third emission color emitted by the light source can be blue. Thus, a color image is formed in the first frame period. Or later,
The same operation is sequentially repeated to display a moving image.

【0077】同一の信号線に接続した同一の階調を表示
する複数の画素TFTに同時に、信号線の信号を書き込
むことにより、走査線の走査時間を短縮した駆動方法
で、動画表示の画像が形成される。
By simultaneously writing a signal of a signal line to a plurality of pixel TFTs connected to the same signal line and displaying the same gradation, a moving image can be displayed by a driving method in which the scanning time of the scanning line is reduced. It is formed.

【0078】図5においては、走査線の両端に接続した
駆動回路に内蔵して、第1のYアドレスデコーダーと第
2のYアドレスデコーダーを設けたため、同時に同一の
信号電圧の電位を持たせる画素の数は最大二つであっ
た。しかし、本発明の実施形態はこれに限定されない。
回路構成を変更することにより、同一の信号配線に接続
した画素TFTのうち、同一の信号電圧の電位を与える
画素TFTを三つ以上選択することもできる。このとき
は、図5において、第1のYアドレスデコーダー20
6、第2のYアドレスデコーダー208を設ける代わり
に、複数の走査線を選択可能な回路(走査線選択回路と
称する)を、比較データ記憶手段203と第1のレベル
シフタ−207の間に設けて、走査線選択回路により、
三つ以上の走査線を同時に選択すれば良い。このとき
は、第2のレベルシフター209は当然必要ない。
In FIG. 5, since the first Y address decoder and the second Y address decoder are provided in the driving circuit connected to both ends of the scanning line, pixels having the same signal voltage potential at the same time are provided. The maximum number was two. However, embodiments of the present invention are not limited to this.
By changing the circuit configuration, three or more pixel TFTs that apply the same signal voltage can be selected from the pixel TFTs connected to the same signal line. In this case, the first Y address decoder 20 in FIG.
6. Instead of providing the second Y address decoder 208, a circuit capable of selecting a plurality of scanning lines (referred to as a scanning line selection circuit) is provided between the comparison data storage means 203 and the first level shifter 207. , Scanning line selection circuit,
What is necessary is just to select three or more scanning lines simultaneously. In this case, the second level shifter 209 is not required.

【0079】本実施形態によれば、点順次駆動におい
て、画素に所定の信号電圧の電位を与えるのに必要な走
査線の走査時間を短縮することができる。例えば、図7
のタイミングチャートを用いて説明すると、待機期間3
01及び液晶応答期間303の和を短縮することができ
る。また、実施形態1に比べて、図1の応答時間を演算
する比較演算手段102が不要になるため、回路でされ
る処理が容易になり、回路構成が簡便になる。
According to the present embodiment, in the dot sequential driving, it is possible to reduce the scanning time of the scanning line required to apply the potential of the predetermined signal voltage to the pixel. For example, FIG.
Explaining with reference to the timing chart of FIG.
01 and the liquid crystal response period 303 can be reduced. Further, compared with the first embodiment, the comparison operation means 102 for calculating the response time in FIG. 1 is not required, so that the processing performed by the circuit is simplified and the circuit configuration is simplified.

【0080】図4を用いて本実施形態の回路のタイミン
グチャートを説明する。Xアドレスデコーダー及び映像
信号出力手段を合わせて、本明細書では、Xアドレス書
き込み制御手段と称する。Xアドレス書き込み制御手段
は画素TFTに接続した走査線を選択する手段である。
Xアドレスデータ122はそれぞれ「0」または「1」の情
報を有する。走査線の本数が1024本であった場合
は、10個のXアドレスデータが同時にXアドレスデコ
ーダーに入力される。Xアドレスデータ122に基づい
て、Xアドレスデコーダーの出力端子のうち、指定され
たXアドレスの出力端子から、出力パルス123が出力
される。本実施形態では、実施形態1と異なり、基本的
に信号線の1列目〜m列目まで、順次出力パルスを出力
すれば良い。出力パルス123が出力されると同時に、
映像信号パルス129が、指定されたXアドレスの信号
線に出力される。以上の動作によりXアドレスデータが
指定したXアドレスの信号線に信号が与えられる。
A timing chart of the circuit of this embodiment will be described with reference to FIG. The X address decoder and the video signal output means are collectively referred to as X address write control means in this specification. The X address writing control means is a means for selecting a scanning line connected to the pixel TFT.
The X address data 122 has information of “0” or “1”, respectively. When the number of scanning lines is 1024, ten X address data are simultaneously input to the X address decoder. Based on the X address data 122, an output pulse 123 is output from the output terminal of the designated X address among the output terminals of the X address decoder. In the present embodiment, unlike the first embodiment, basically, output pulses may be sequentially output from the first column to the m-th column of the signal line. At the same time that the output pulse 123 is output,
The video signal pulse 129 is output to the signal line of the designated X address. By the above operation, a signal is supplied to the signal line of the X address specified by the X address data.

【0081】第1のYアドレスデコーダー及び第1のレ
ベルシフターを合わせて、本明細書では、第1のYアド
レス書き込み制御手段と称する。第2のYアドレスデコ
ーダー及び第2のレベルシフターを合わせて、本明細書
では、第2のYアドレス書き込み制御手段と称する。第
1のYアドレス書き込み制御手段及び第2のYアドレス
書き込み制御手段は画素TFTに接続した信号線を選択
する手段である。第1のYアドレスデコーダー、第2の
Yアドレスデコーダーから出力される出力パルスの電圧
を第1のレベルシフタ−又は第2のレベルシフターによ
り増幅する点は実施形態1と同じのため、図6を用い
て、第1のYアドレスデコーダー及び第2のYアドレス
デコーダーの動作を説明する。
The first Y address decoder and the first level shifter are collectively referred to as first Y address write control means in this specification. The second Y address decoder and the second level shifter are collectively referred to as a second Y address write control unit in this specification. The first Y address writing control means and the second Y address writing control means are means for selecting a signal line connected to the pixel TFT. The point that the voltage of the output pulse output from the first Y address decoder and the second Y address decoder is amplified by the first level shifter or the second level shifter is the same as that of the first embodiment. Next, the operation of the first Y address decoder and the second Y address decoder will be described.

【0082】Yアドレスデータは「0」または「1」の情報
を有する。Yアドレスデータに基づいて、出力パルスが
出力されるYアドレスデコーダーの端子のアドレスが決
まる。例えば、信号線が1240本あるときは、この1
240本の信号線のいずれか一つを選択するためにはY
アドレスデータは11個あり、それぞれのYアドレスデ
ータは「0」または「1」の情報を有する。
The Y address data has information of “0” or “1”. Based on the Y address data, the address of the terminal of the Y address decoder from which the output pulse is output is determined. For example, if there are 1240 signal lines, this 1
To select any one of the 240 signal lines, Y
There are 11 pieces of address data, and each Y address data has information of “0” or “1”.

【0083】第1のサブフレーム期間において、Yアド
レスデータ212に基づいて、第1のYアドレスデコー
ダーの指定されたYアドレスの出力端子から、出力パル
ス213が出力する。本実施形態では、まず、一行列目
の第1の走査線を選択するため、Yアドレスが1である
出力端子から出力パルスが出力する。なお、第1のYア
ドレスデコーダー223から出力される出力パルス21
3〜217の総数は、走査線がn行、信号線がm列あっ
たときに、回路動作からm×n個以下になる。
In the first sub-frame period, based on the Y address data 212, an output pulse 213 is output from the specified Y address output terminal of the first Y address decoder. In this embodiment, first, an output pulse is output from the output terminal whose Y address is 1 in order to select the first scanning line of the first matrix. The output pulse 21 output from the first Y address decoder 223
When the number of scanning lines is n rows and the number of signal lines is m columns, the total number of 3 to 217 becomes mxn or less from the circuit operation.

【0084】そして、第1の走査線に接続した第1の画
素TFTと同一の信号線の信号を書き込む第2の画素T
FTがあるのならば、第2の画素TFTが接続した第2
の走査線のYアドレスを選択するために、第2のYアド
レスデコーダーの第2の走査線のアドレスに対応した出
力端子から出力パルス218が出力される。第2のYア
ドレスデコーダー224から出力される出力パルス21
8〜220は、異なる走査線に接続された画素TFTで
あって信号線の信号を同時に書き込む画素TFTがあっ
たときのみ出力される。
Then, a second pixel T to which a signal on the same signal line as the first pixel TFT connected to the first scanning line is written.
If there is an FT, the second pixel TFT connected to the second
In order to select the Y address of the scanning line, an output pulse 218 is output from an output terminal of the second Y address decoder corresponding to the address of the second scanning line. Output pulse 21 output from second Y address decoder 224
8 to 220 are pixel TFTs connected to different scanning lines and are output only when there is a pixel TFT to which a signal of a signal line is simultaneously written.

【0085】以降、同様に、信号線の信号を同時に書き
込む画素TFTが二つあるときは、第1のYアドレスデ
コーダー及び第2のYアドレスデコーダーから同時に出
力パルスが出て、走査線を選択する。
Thereafter, similarly, when there are two pixel TFTs to which signals on the signal lines are simultaneously written, output pulses are simultaneously output from the first Y address decoder and the second Y address decoder to select a scanning line. .

【0086】なお、Xアドレスデコーダー、第1のYア
ドレスデコーダー、第2のYアドレスデコーダーから出
力される出力パルスのパルス幅はそれぞれ同じである。
The pulse widths of the output pulses output from the X address decoder, the first Y address decoder, and the second Y address decoder are the same.

【0087】本実施形態の方法によれば、全ての画素に
信号を書き込むのに必要な時間を短縮できる。
According to the method of this embodiment, the time required to write a signal to all pixels can be reduced.

【0088】[実施形態3]本発明の実施形態を図5を用
いて説明する。本実施形態において特徴的なことは、同
一の信号線に接続した複数の画素TFTつまり、第1の
画素TFTと第2の画素TFTに同時に第1の信号電圧
を書き込むことである。実施形態2との違いは、第2の
画素TFTに第1の信号電圧を印可してあらかじめ液晶
を応答させた後に、さらに、第2の信号電圧を書き込む
ことである。このように二度に分けて液晶を応答させる
ことで、第2の信号電圧を第2の画素TFTに書き込ん
だ後、液晶が応答する時間を短縮することができる。第
1の信号電圧の絶対値と第2の信号電圧の絶対値との差
は0Vより大きく0.5Vより小さいとする。また、以
降、近似した階調とは、液晶に印可する第1の信号電圧
と第2の信号電圧との差が0Vより大きく0.5Vより
小さい範囲で表示できる階調をいう。
[Embodiment 3] An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. A feature of the present embodiment is that a first signal voltage is simultaneously written to a plurality of pixel TFTs connected to the same signal line, that is, a first pixel TFT and a second pixel TFT. The difference from the second embodiment is that the first signal voltage is applied to the second pixel TFT to make the liquid crystal respond in advance, and then the second signal voltage is further written. By causing the liquid crystal to respond twice, the response time of the liquid crystal after writing the second signal voltage to the second pixel TFT can be reduced. It is assumed that the difference between the absolute value of the first signal voltage and the absolute value of the second signal voltage is larger than 0V and smaller than 0.5V. Hereinafter, the approximate gradation refers to a gradation that can be displayed in a range where the difference between the first signal voltage and the second signal voltage applied to the liquid crystal is larger than 0 V and smaller than 0.5 V.

【0089】まず、記憶手段201に第1のサブフレー
ム期間のXアドレス、Yアドレスにおける映像信号(信
号電圧)200を記憶する。
First, the video signal (signal voltage) 200 at the X address and the Y address in the first sub-frame period is stored in the storage means 201.

【0090】そして、比較手段202で、一つの画面の
画像を表示するときに、同一の信号線に接続した複数の
画素TFTのうち、第1の信号電圧の電位を与える第1
の画素電極を有する第1の画素TFTと、第1の信号電
圧の絶対値との差が0Vより大きく、0.5Vより小さ
い絶対値の第2の信号電圧の電位を与える第2の画素電
極を有する第2の画素TFTとを検出する。そして、第
1の画素電極及び第2の画素電極に第1の信号電圧の電
位を与え、その後、第2の画素電極に第2の信号電圧の
電位を与えるようにプログラムを組む。第2の画素TF
Tは表示したい画像に応じて、複数のときもあれば、単
数のときもある。
When the image of one screen is displayed by the comparing means 202, the first signal TFT of the plurality of pixel TFTs connected to the same signal line is supplied with the potential of the first signal voltage.
And a second pixel electrode for applying a potential of a second signal voltage having an absolute value greater than 0 V and smaller than 0.5 V to a first pixel TFT having a pixel electrode of Is detected. Then, a program is formed so that the potential of the first signal voltage is applied to the first pixel electrode and the second pixel electrode, and then the potential of the second signal voltage is applied to the second pixel electrode. Second pixel TF
T may be plural or singular depending on the image to be displayed.

【0091】実施形態2に比べ本実施形態の駆動方法で
は、信号線に接続した画素TFTのうち、第1の画素T
FTと同一の信号電圧を書き込む画素がなかったとして
も、信号線及び第1の走査線に接続した第1の画素TF
Tを有する第1の画素と、該信号線及び第2の走査線に
接続した第2の画素TFTを有する第2の画素とが近似
した階調レベルを表示するときは、第1の画素TFT
と、第2の画素とに第1の信号電圧を書き込む第1段階
を有する。本実施形態においては、第1段階において、
同時に同一の信号線の信号を書き込む画素は最大で2つ
とする。かつ、点順次駆動において、Xアドレスの値が
大きな走査線に接続した画素ほど、画素に所定の信号電
圧の電位を与える時間が遅くなり、図7の待機時間30
1が長くなる傾向があるため、Xアドレスの値がより大
きな走査線に接続した画素を優先的に選択することとす
る。
In the driving method according to the present embodiment, as compared with the second embodiment, of the pixel TFTs connected to the signal lines, the first pixel T
Even if there is no pixel to write the same signal voltage as FT, the first pixel TF connected to the signal line and the first scanning line
When the first pixel having T and the second pixel having the second pixel TFT connected to the signal line and the second scan line display similar grayscale levels, the first pixel TFT
And writing a first signal voltage to the second pixel. In the present embodiment, in the first stage,
At the same time, the number of pixels to which signals on the same signal line are written is two at the maximum. In addition, in the dot sequential driving, the longer the pixel connected to the scanning line having the larger X address value, the longer the time for applying the potential of the predetermined signal voltage to the pixel, and the standby time 30 in FIG.
Since 1 tends to be longer, a pixel connected to a scanning line having a larger X address value is preferentially selected.

【0092】次に、本実施形態の駆動方法の第2段階と
して、第1の走査線から第2の走査線まで順次走査線を
選択して、画素に信号線の信号を書き込む。もちろん、
第1の走査線から第2の走査線を選択する間に、同一の
信号線に接続した二つの画素TFTが近似した階調を示
すときには、これら二つの画素TFTに同時に信号線の
信号を書きこんでも良い。
Next, as the second stage of the driving method of the present embodiment, the scanning lines are sequentially selected from the first scanning line to the second scanning line, and the signal of the signal line is written to the pixel. of course,
If two pixel TFTs connected to the same signal line show similar gradations while selecting the second scanning line from the first scanning line, the signal of the signal line is simultaneously written to these two pixel TFTs. You can do it.

【0093】その後、本実施形態の駆動方法の第3段階
として、第1の信号電圧を書き込んだ第2の画素TFT
に再度、正規の階調レベルの第2の信号電圧を書き込
む。第2の信号電圧は第1の信号電圧の絶対値との差が
0Vより大きく0.5Vより小さい。
Then, as a third step of the driving method of the present embodiment, the second pixel TFT to which the first signal voltage has been written
Then, the second signal voltage of the normal gradation level is written again. The difference between the second signal voltage and the absolute value of the first signal voltage is larger than 0V and smaller than 0.5V.

【0094】こうして、画素に信号線の信号を書き込む
順序を比較手段202で決定する。つまり、比較手段は
第1段階〜第3段階の動作をするようにプログラムが組
まれている。
In this way, the order of writing the signals of the signal lines to the pixels is determined by the comparing means 202. That is, the comparing means is programmed so as to perform the first to third steps.

【0095】つまり、本実施形態の駆動方法の特徴は、
第1の画素と近似した階調レベルを表示する第2の画素
に、あらかじめ第1の画素TFTと同時に信号線の信号
を書き込んで液晶を応答させておく。これにより、再度
第2の信号電圧を第2の画素TFTに書き込むまでの時
間に、液晶が近似した階調レベルまで応答しているの
で、第2の信号電圧を書き込んだ後、所定の階調(第2
の信号電圧により決められる階調)に液晶が応答するま
での応答時間が短縮される。
That is, the feature of the driving method of this embodiment is as follows.
The signal of the signal line is written in advance to the second pixel that displays a gradation level similar to that of the first pixel at the same time as the first pixel TFT so that the liquid crystal responds. As a result, the liquid crystal responds to the approximate gradation level until the second signal voltage is written to the second pixel TFT again. (Second
(Response time) until the liquid crystal responds to the gray scale determined by the signal voltage of the liquid crystal.

【0096】次に、比較データ記憶手段203に、比較
手段202で決定した、信号線の信号を書き込む画素T
FTの順序を記憶させる。
Next, the pixel T for writing the signal of the signal line, determined by the comparing means 202, is stored in the comparison data storing means 203.
The order of the FT is stored.

【0097】Xアドレスデコーダー204により信号線
のアドレスを指定し、映像信号出力手段205により、
指定した信号線のXアドレスに映像信号211を供給す
る。映像信号は選択する画素の順序に従って映像信号出
力手段に入力される。
The address of the signal line is specified by the X address decoder 204, and the video signal output means 205
The video signal 211 is supplied to the X address of the designated signal line. The video signal is input to the video signal output means according to the order of the selected pixels.

【0098】出力されたYアドレスデータをもとに、第
1のYアドレスデコーダー206により、指定されたY
アドレスデコーダーの出力端子に出力パルスを出力す
る。第1のレベルシフタ−207は、第1のYアドレス
デコーダーから出力される出力パルスの電圧値を増幅し
て、第1の走査線をゲート電位にする。
Based on the output Y address data, the first Y address decoder 206
An output pulse is output to the output terminal of the address decoder. The first level shifter 207 amplifies the voltage value of the output pulse output from the first Y address decoder, and sets the first scanning line to the gate potential.

【0099】第2のYアドレスデコーダー208及び第
2のレベルシフタ−209により、第2の走査線がゲー
ト電位になる。
The second scanning line is set to the gate potential by the second Y address decoder 208 and the second level shifter 209.

【0100】こうして信号線と第1の走査線に接続した
第1の画素TFT及び、信号線と第2の走査線に接続し
た第2の画素TFTに同時に、同一の信号電圧の電位が
与えられる。
Thus, the same signal voltage potential is simultaneously applied to the first pixel TFT connected to the signal line and the first scanning line and to the second pixel TFT connected to the signal line and the second scanning line. .

【0101】本実施形態の回路の動作は実施形態2で図
2を用いて説明したものとほぼ同じである。異なる点
は、第2の期間901において、比較手段において、第
1のサブフレーム期間の画像を形成するときに、同一の
信号線に接続した近似した階調を表示する画素のアドレ
スを検出することである。
The operation of the circuit of this embodiment is almost the same as that described in the second embodiment with reference to FIG. The difference is that in the second period 901, the comparator detects the address of a pixel connected to the same signal line and displaying an approximate gradation when forming an image in the first sub-frame period. It is.

【0102】もちろん、回路構成を変更することによ
り、同一信号配線に接続した、同一又は近似する階調レ
ベルを表示する画素TFTを同時に三つ以上選択するこ
ともできる。
Of course, by changing the circuit configuration, it is also possible to simultaneously select three or more pixel TFTs connected to the same signal wiring and displaying the same or similar gradation levels.

【0103】本実施形態によれば、近似した階調レベル
を示す画素の液晶をあらかじめ応答させることにより、
図7のフィールドシーケンシャル方式のタイミングチャ
ートにおいて液晶の応答時間303と待機時間301の
和を短縮することができる。
According to the present embodiment, the liquid crystal of the pixel showing the approximate gradation level is caused to respond in advance,
In the timing chart of the field sequential system of FIG. 7, the sum of the response time 303 of the liquid crystal and the standby time 301 can be reduced.

【0104】本実施形態は実施形態1〜実施形態2と組
み合わせて用いることも可能である。応答時間のかかる
画素の画素TFTに優先的に信号線の信号を書き込むこ
ともできるし、同一又は、近似した階調を示す画素の画
素TFTに同時に信号線の信号を書き込むことも可能で
ある。
This embodiment can be used in combination with Embodiments 1 and 2. A signal of a signal line can be preferentially written to a pixel TFT of a pixel which requires a response time, or a signal of a signal line can be simultaneously written to a pixel TFT of a pixel showing the same or similar gradation.

【0105】[0105]

【実施例】[実施例1]本発明の実施例を図8〜図11
を用いて説明する。ここでは、画素部の画素TFTおよ
び保持容量と、表示領域の周辺に設けられる駆動回路の
TFTを同時に作製する方法について工程に従って詳細
に説明する。本実施例で作製した駆動回路のTFTは、
半導体層の移動度が高く、フィールドシーケンシャル方
式における高速の画素データの書き込みに適している。
[Embodiment 1] FIGS. 8 to 11 show an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. Here, a method for simultaneously manufacturing a pixel TFT and a storage capacitor in a pixel portion and a TFT of a driver circuit provided in the periphery of a display region will be described in detail according to steps. The TFT of the drive circuit manufactured in this example is
The mobility of the semiconductor layer is high, which is suitable for high-speed writing of pixel data in a field sequential method.

【0106】まず、図8(A)に示すように、コーニン
グ社の#7059ガラスや#1737ガラスなどに代表
されるバリウムホウケイ酸ガラス、またはアルミノホウ
ケイ酸ガラスなどのガラスから成る基板400上に酸化
シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜
などの絶縁膜から成る下地膜401を形成する。例え
ば、プラズマCVD法でSiH4、NH3、N2Oから作
製される酸化窒化シリコン膜401aを10〜200nm
(好ましくは50〜100nm)形成し、同様にSi
4、N2Oから作製される酸化窒化水素化シリコン膜4
01bを50〜200nm(好ましくは100〜150
nm)の厚さに積層形成する。本実施例では下地膜401
を2層構造として示したが、前記絶縁膜の単層膜または
2層以上積層させた構造として形成しても良い。
First, as shown in FIG. 8A, a substrate 400 made of glass such as barium borosilicate glass represented by Corning # 7059 glass or # 1737 glass or aluminoborosilicate glass is oxidized. A base film 401 including an insulating film such as a silicon film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film is formed. For example, a silicon oxynitride film 401a manufactured from SiH 4 , NH 3 , and N 2 O by a plasma CVD method has a thickness of 10 to 200 nm.
(Preferably 50-100 nm) and Si
Silicon oxynitride hydride film 4 made of H 4 and N 2 O
01b is 50 to 200 nm (preferably 100 to 150 nm).
(nm). In this embodiment, the base film 401 is used.
Is shown as a two-layer structure, but it may be formed as a single-layer film of the insulating film or a structure in which two or more layers are stacked.

【0107】島状半導体膜402〜406は、非晶質構
造を有する半導体膜をレーザー結晶化法や公知の熱結晶
化法を用いて作製した結晶質半導体膜で形成する。この
島状半導体膜402〜406の厚さは25〜80nm
(好ましくは30〜60nm)の厚さで形成する。結晶
質半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコン
またはシリコンゲルマニウム(SiGe)合金などで形
成すると良い。
The island-shaped semiconductor films 402 to 406 are formed of a crystalline semiconductor film formed by using a semiconductor film having an amorphous structure by a laser crystallization method or a known thermal crystallization method. The thickness of the island-shaped semiconductor films 402 to 406 is 25 to 80 nm.
(Preferably 30 to 60 nm). The material of the crystalline semiconductor film is not limited, but is preferably formed of silicon or a silicon germanium (SiGe) alloy.

【0108】レーザー結晶化法で結晶質半導体膜を作製
するには、パルス発振型または連続発光型のエキシマレ
ーザーArレーザー、KrレーザーやYAGレーザ
ー、YVO4レーザー、YLFレーザー、YAlO3レー
ザー、ガラスレーザー、ルビーレーザー、アレキサンド
ライドレーザー、Ti:サファイアレーザーを用いる。
これらのレーザーを用いる場合には、レーザー発振器か
ら放射されたレーザー光を光学系で線状又は楕円形状に
集光し半導体膜に照射する方法を用いると良い。結晶化
の条件は実施者が適宣選択するものであるが、エキシマ
レーザーを用いる場合はパルス発振周波数30Hzと
し、レーザーエネルギー密度を100〜400mJ/cm
2(代表的には200〜300mJ/cm2)とする。また、Y
AGレーザーを用いる場合にはその第2高調波を用いパ
ルス発振周波数1〜10kHzとし、レーザーエネルギ
ー密度を300〜600mJ/cm2(代表的には350〜5
00mJ/cm2)とすると良い。そして幅100〜1000
μm、例えば400μmで線状に集光したレーザー光を
基板全面に渡って照射し、この時の線状レーザー光の重
ね合わせ率(オーバーラップ率)を80〜98%として
行う。
To form a crystalline semiconductor film by the laser crystallization method, a pulse oscillation type or continuous emission type excimer laser , an Ar laser, a Kr laser, a YAG laser, a YVO 4 laser, a YLF laser, a YAlO 3 laser, a glass A laser, a ruby laser, an alexandrite laser, and a Ti: sapphire laser are used.
In the case of using these lasers, a method in which laser light emitted from a laser oscillator is condensed into a linear or elliptical shape by an optical system and irradiated onto a semiconductor film is preferable. The crystallization conditions are appropriately selected by the practitioner. When an excimer laser is used, the pulse oscillation frequency is 30 Hz, and the laser energy density is 100 to 400 mJ / cm.
2 (typically 200 to 300 mJ / cm 2 ). Also, Y
When an AG laser is used, its second harmonic is used to set the pulse oscillation frequency to 1 to 10 kHz and the laser energy density to 300 to 600 mJ / cm 2 (typically 350 to 5 mJ / cm 2 ).
00mJ / cm 2 ). And width 100-1000
A laser beam condensed linearly at μm, for example 400 μm, is irradiated over the entire surface of the substrate, and the superposition rate (overlap rate) of the linear laser light at this time is set to 80 to 98%.

【0109】なお、非晶質半導体膜の結晶化に際し、大
粒径に結晶を得るためには、連続発振が可能な固体レー
ザーを用い、基本波の第2高調波〜第4高調波を適用す
るのが好ましい。代表的には、Nd:YVO4レーザー
(基本波1064nm)の第2高調波(532nm)や第3
高調波(355nm)を適用する。
In order to obtain a crystal having a large grain size during crystallization of the amorphous semiconductor film, a solid-state laser capable of continuous oscillation is used, and the second to fourth harmonics of the fundamental wave are applied. Is preferred. Typically, a second harmonic (532 nm) or a third harmonic of a Nd: YVO 4 laser (fundamental wave 1064 nm) is used.
A harmonic (355 nm) is applied.

【0110】さらに、出力10Wの連続発振のYVO4
レーザーから射出されたレーザー光を非線形光学素子に
より高調波に変換したり、共振器の中にYVO4結晶と
非線形光学素子を入れて、高調波を射出する方法を利用
してもよい。好ましくは光学系により照射面にて矩形状
または楕円形状のレーザー光に成形して、被処理体に照
射する。このときのエネルギー密度は0.01〜100
MW/cm2程度(好ましくは0.1〜10MW/c
2)が必要である。そして、0.5〜2000cm/
s程度の速度でレーザー光に対して相対的に基板を移動
させて照射する。
Further, a continuous oscillation YVO 4 having an output of 10 W is provided.
A laser beam emitted from a laser may be converted into a harmonic by a nonlinear optical element, or a method of emitting a harmonic by putting a YVO 4 crystal and a nonlinear optical element in a resonator may be used. Preferably, the laser beam is shaped into a rectangular or elliptical laser beam on the irradiation surface by an optical system, and the laser beam is irradiated on the object. The energy density at this time is 0.01 to 100
MW / cm 2 about (preferably 0.1 to 10 MW / c
m 2 ) is required. And 0.5-2000cm /
Irradiation is performed by moving the substrate relative to the laser beam at a speed of about s.

【0111】次いで、島状半導体膜402〜406を覆
うゲート絶縁膜407を形成する。ゲート絶縁膜407
はプラズマCVD法またはスパッタ法を用い、厚さを4
0〜150nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成す
る。本実施例では、120nmの厚さの酸化窒化シリコ
ン膜で形成する。勿論、ゲート絶縁膜はこのような酸化
窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコン
を含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良
い。例えば、酸化シリコン膜を用いる場合には、プラズ
マCVD法でTEOS(Tetraethyl Ortho Silicate)
とO2とを混合し、反応圧力40Pa、基板温度300〜
400℃とし、高周波(13.56MHz)電力密度0.
5〜0.8W/cm2で放電させて形成することができる。
このようにして作製される酸化シリコン膜は、その後4
00〜500℃の熱アニールによりゲート絶縁膜として
良好な特性を得ることができる。
Next, a gate insulating film 407 covering the island-shaped semiconductor films 402 to 406 is formed. Gate insulating film 407
Uses a plasma CVD method or a sputtering method and has a thickness of 4
The insulating film containing silicon is formed to have a thickness of 0 to 150 nm. In this embodiment, a silicon oxynitride film with a thickness of 120 nm is formed. Needless to say, the gate insulating film is not limited to such a silicon oxynitride film, and another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure. For example, when a silicon oxide film is used, TEOS (Tetraethyl Ortho Silicate) is used by a plasma CVD method.
And O 2 , a reaction pressure of 40 Pa and a substrate temperature of 300 to
400 ° C., high frequency (13.56 MHz) power density 0.
It can be formed by discharging at 5 to 0.8 W / cm 2 .
The silicon oxide film thus produced is
Good characteristics as a gate insulating film can be obtained by thermal annealing at 00 to 500 ° C.

【0112】そして、ゲート絶縁膜407上にゲート電
極を形成するための第1の導電膜408と第2の導電膜
409とを形成する。本実施例では、第1の導電膜40
8をTaNで50〜100nmの厚さに形成し、第2の
導電膜409をWで100〜300nmの厚さに形成す
る。
Then, a first conductive film 408 and a second conductive film 409 for forming a gate electrode are formed over the gate insulating film 407. In the present embodiment, the first conductive film 40
8 is formed of TaN to a thickness of 50 to 100 nm, and the second conductive film 409 is formed of W to a thickness of 100 to 300 nm.

【0113】W膜を形成する場合には、Wをターゲット
としたスパッタ法で形成する。その他に6フッ化タング
ステン(WF6)を用いる熱CVD法で形成することも
できる。いずれにしてもゲート電極として使用するため
には低抵抗化を図る必要があり、W膜の抵抗率は20μ
Ωcm以下にすることが望ましい。W膜は結晶粒を大き
くすることで低抵抗率化を図ることができるが、W中に
酸素などの不純物元素が多い場合には結晶化が阻害され
高抵抗化する。このことより、スパッタ法による場合、
純度99.9999%のWターゲットを用い、さらに成
膜時に気相中からの不純物の混入がないように十分配慮
してW膜を形成することにより、抵抗率9〜20μΩc
mを実現することができる。
When a W film is formed, it is formed by a sputtering method using W as a target. Alternatively, it can be formed by a thermal CVD method using tungsten hexafluoride (WF 6 ). In any case, it is necessary to lower the resistance in order to use it as a gate electrode.
It is desirable to set the resistance to Ωcm or less. The resistivity of the W film can be reduced by enlarging the crystal grains. However, when there are many impurity elements such as oxygen in W, crystallization is inhibited and the resistance is increased. From this, when using the sputtering method,
By using a W target having a purity of 99.9999% and forming a W film with sufficient care so as not to mix impurities from the gas phase during film formation, the resistivity is 9 to 20 μΩc.
m can be realized.

【0114】なお、本実施例では、第1の導電膜408
をTaN、第2の導電膜409をWとしたが、いずれも
Ta、W、Ti、Mo、Al、Cuから選ばれた元素、
または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物
材料で形成してもよい。また、リン等の不純物元素をド
ーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜を
用いてもよい。本実施例以外の組み合わせとしては、第
1の導電膜をタンタル(Ta)で形成し、第2の導電膜
をWとする組み合わせ、第1の導電膜を窒化タンタル
(TaN)で形成し、第2の導電膜をAlとする組み合
わせ、第1の導電膜を窒化タンタル(TaN)で形成
し、第2の導電膜をCuとする組み合わせなどがある。
In this embodiment, the first conductive film 408 is used.
Is TaN and the second conductive film 409 is W, but each is an element selected from Ta, W, Ti, Mo, Al, and Cu.
Alternatively, it may be formed of an alloy material or a compound material containing the above element as a main component. Alternatively, a semiconductor film typified by a polycrystalline silicon film doped with an impurity element such as phosphorus may be used. As a combination other than this embodiment, the first conductive film is formed of tantalum (Ta), the second conductive film is formed of W, and the first conductive film is formed of tantalum nitride (TaN). There is a combination in which the second conductive film is made of Al, the first conductive film is made of tantalum nitride (TaN), and the second conductive film is made of Cu.

【0115】次に、レジストによるマスク410〜41
5を形成し、電極及び配線を形成するための第1のエッ
チング処理を行う。本実施例ではICP(Inductively
Coupled Plasma:誘導結合型プラズマ)エッチング法を
用い、エッチング用ガスを混合し、1Paの圧力でコイル
型の電極に500WのRF(13.56MHz)電力を投入して
プラズマを生成して行う。基板側(試料ステージ)にも
100WのRF(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負
の自己バイアス電圧を印加する。エッチングガスを適宜
選択することによりW膜及びTaN膜とも同程度にエッ
チングされる。
Next, resist masks 410 to 41 are used.
5, and a first etching process for forming electrodes and wiring is performed. In this embodiment, the ICP (Inductively
An etching gas is mixed by using a coupled plasma (inductively coupled plasma) etching method, and plasma is generated by applying 500 W of RF (13.56 MHz) power to the coil-type electrode at a pressure of 1 Pa. 100 W of RF (13.56 MHz) power is also applied to the substrate side (sample stage), and a substantially negative self-bias voltage is applied. By appropriately selecting an etching gas, the W film and the TaN film are etched to the same extent.

【0116】上記エッチング条件では、レジストによる
マスクの形状を適したものとすることにより、基板側に
印加するバイアス電圧の効果により第1の導電層及び第
2の導電層の端部がテーパー部の角度が15〜45°の
テーパー形状となる。ゲート絶縁膜上に残渣を残すこと
なくエッチングするためには、10〜20%程度の割合
でエッチング時間を増加させると良い。W膜に対する酸
化窒化シリコン膜の選択比は2〜4(代表的には3)で
あるので、オーバーエッチング処理により、酸化窒化シ
リコン膜が露出した面は20〜50nm程度エッチングさ
れることになる。こうして、第1のエッチング処理によ
り第1の導電層と第2の導電層から成る第1の形状の導
電層417〜422(第1の導電層417a〜422a
と第2の導電層417b〜422b)を形成する。41
6はゲート絶縁膜であり、第1の形状の導電層417〜
422で覆われない領域は20〜50nm程度エッチング
され薄くなった領域が形成される。
Under the above-mentioned etching conditions, by making the shape of the mask made of resist suitable, the ends of the first conductive layer and the second conductive layer are tapered due to the effect of the bias voltage applied to the substrate side. It becomes a taper shape with an angle of 15 to 45 °. In order to perform etching without leaving a residue on the gate insulating film, the etching time may be increased by about 10 to 20%. Since the selectivity of the silicon oxynitride film to the W film is 2 to 4 (typically 3), the exposed surface of the silicon oxynitride film is etched by about 20 to 50 nm by the over-etching process. Thus, the first shape conductive layers 417 to 422 (the first conductive layers 417 a to 422 a) including the first conductive layer and the second conductive layer are formed by the first etching process.
And second conductive layers 417b to 422b). 41
Reference numeral 6 denotes a gate insulating film, and the first shape conductive layers 417 to
The region not covered by 422 is etched by about 20 to 50 nm to form a thinned region.

【0117】そして、第1のドーピング処理を行い、n
型を付与する不純物元素を添加する。(図8(B))ド
ーピングの方法はイオンドープ法若しくはイオン注入法
で行えば良い。イオンドープ法の条件はドーズ量を1×
1013〜5×1014/cm2とし、加速電圧を60〜100
keVとして行う。n型を付与する不純物元素として1
5族に属する元素、典型的にはリン(P)または砒素
(As)を用いるが、ここではリン(P)を用いる。こ
の場合、導電層417〜420がn型を付与する不純物
元素に対するマスクとなり、自己整合的に第1の不純物
領域423〜426が形成される。第1の不純物領域4
23〜426には1×1020〜1×1021/cm3の濃度範
囲でn型を付与する不純物元素を添加する。
Then, a first doping process is performed, and n
An impurity element for imparting a mold is added. (FIG. 8B) The doping method may be an ion doping method or an ion implantation method. The condition of the ion doping method is that the dose amount is 1 ×
10 13 to 5 × 10 14 / cm 2 , and the acceleration voltage is 60 to 100
Performed as keV. 1 as an impurity element imparting n-type
An element belonging to Group V, typically phosphorus (P) or arsenic (As) is used. Here, phosphorus (P) is used. In this case, the conductive layers 417 to 420 serve as a mask for the impurity element imparting n-type, and the first impurity regions 423 to 426 are formed in a self-aligned manner. First impurity region 4
23 to 426 are doped with an impurity element imparting n-type in a concentration range of 1 × 10 20 to 1 × 10 21 / cm 3 .

【0118】次に、図8(C)に示すように第2のエッ
チング処理を行う。ICPエッチング法を用い、反応性
ガスをチャンバーに導入して、コイル型の電極に所定の
RF電力(13.56MHz)を供給し、プラズマを生成して行
う。基板側(試料ステージ)には低めのRF(13.56MH
z)電力を投入し、第1のエッチング処理に比べ低い自
己バイアス電圧を印加する。W膜を異方性エッチングし
て第2の形状の導電層427〜432を得る。
Next, a second etching process is performed as shown in FIG. Using an ICP etching method, a reactive gas is introduced into the chamber, a predetermined RF power (13.56 MHz) is supplied to the coil-type electrode, and plasma is generated. On the substrate side (sample stage), a lower RF (13.56 MHz)
z) Power is applied, and a lower self-bias voltage is applied than in the first etching process. The W film is anisotropically etched to obtain second shape conductive layers 427 to 432.

【0119】さらに、図8(C)に示すように第2のド
ーピング処理を行う。この場合、第1のドーピング処理
よりもドーズ量を下げて高い加速電圧の条件としてn型
を付与する不純物元素をドーピングする。例えば、加速
電圧を70〜120keVとし、1×1013/cm2のドー
ズ量で行い、図8(B)で島状半導体膜に形成された第
1の不純物領域の内側に新たな不純物領域を形成する。
ドーピングは、第2の形状の導電層427〜430を不
純物元素に対するマスクとして用い、第1の導電層42
7a〜430aの下側の領域にも不純物元素が添加され
るようにドーピングする。こうして、第1の導電層42
7a〜430aと重なる第2の不純物領域433〜43
7を形成する。n型を付与する不純物元素は、第2の不
純物領域で1×1017〜1×1018 /cm3の濃度となる
ようにする。
Further, as shown in FIG. 8C, a second doping process is performed. In this case, doping with an impurity element imparting n-type is performed under a condition of a higher acceleration voltage with a lower dose than in the first doping process. For example, the acceleration voltage is set to 70 to 120 keV and the dose is set to 1 × 10 13 / cm 2 , and a new impurity region is formed inside the first impurity region formed in the island-shaped semiconductor film in FIG. Form.
The doping is performed using the second shape conductive layers 427 to 430 as a mask for the impurity element,
The regions below 7a to 430a are also doped so that the impurity element is added. Thus, the first conductive layer 42
Second impurity regions 433-43 overlapping with 7a-430a
7 is formed. The impurity element imparting n-type is set to have a concentration of 1 × 10 17 to 1 × 10 18 / cm 3 in the second impurity region.

【0120】図9(A)のように、ゲート絶縁膜416
をエッチングすることで同時に第1の導電層であるTa
Nがエッチングされて後退するので第3の形状の導電層
438〜443(第1の導電層438a〜443aと第
2の導電層438b〜443b)を形成する。444は
ゲート絶縁膜であり第3の形状の導電層438〜443
で覆われない領域はさらに20〜50nm程度エッチング
され薄くなった領域が形成される。
As shown in FIG. 9A, the gate insulating film 416
Is simultaneously etched to form the first conductive layer Ta.
Since N is etched and receded, third shape conductive layers 438 to 443 (first conductive layers 438a to 443a and second conductive layers 438b to 443b) are formed. Reference numeral 444 denotes a gate insulating film, which is a third shape conductive layer 438 to 443.
The region which is not covered with is further etched by about 20 to 50 nm to form a thinned area.

【0121】図9(A)において、第1の導電層438
a〜441aと重なる第3の不純物領域445〜449
と、第3の不純物領域の外側にある第4の不純物領域4
50〜454が形成される。これにより第3の不純物領
域及び第4の不純物領域におけるn型を付与する不純物
元素の濃度は第2の不純物領域におけるn型を付与する
不純物元素の濃度とほぼ等しくなる。
In FIG. 9A, a first conductive layer 438
a to 441a and third impurity regions 445 to 449
And a fourth impurity region 4 outside the third impurity region.
50 to 454 are formed. Thus, the concentration of the impurity element imparting n-type in the third impurity region and the fourth impurity region becomes substantially equal to the concentration of the impurity element imparting n-type in the second impurity region.

【0122】そして、図9(B)に示すように、pチャ
ネル型TFTを形成する島状半導体膜403、406に
一導電型とは逆の導電型の第4の不純物領域458〜4
61を形成する。第3の形状の導電層439、441を
不純物元素に対するマスクとして用い、自己整合的に不
純物領域を形成する。このとき、nチャネル型TFTを
形成する島状半導体膜402、404、405はレジス
トマスク455〜457で全面を被覆しておく。不純物
領域458〜461にはそれぞれ異なる濃度でリンが添
加されているが、ジボラン(B26)を用いたイオンド
ープ法により、そのいずれの領域においても不純物濃度
を2×1020〜2×1021/cm3となるようにする。
Then, as shown in FIG. 9B, the island-like semiconductor films 403 and 406 forming the p-channel TFT have fourth impurity regions 458 to 4 of a conductivity type opposite to the one conductivity type.
61 is formed. Using the conductive layers 439 and 441 of the third shape as masks for impurity elements, impurity regions are formed in a self-aligned manner. At this time, the entire surface of the island-shaped semiconductor films 402, 404, and 405 forming the n-channel TFT is covered with resist masks 455 to 457. Phosphorus is added to the impurity regions 458 to 461 at different concentrations, but the impurity concentration is set to 2 × 10 20 to 2 × in any of the regions by ion doping using diborane (B 2 H 6 ). It should be 10 21 / cm 3 .

【0123】以上の工程により、それぞれの島状半導体
膜に不純物領域が形成される。島状半導体膜と重なる導
電層(ゲート電極を形成する導電層)438〜441が
TFTのゲート電極として機能する。また、442はソ
ース配線、443は駆動回路内の配線として機能する。
Through the above steps, an impurity region is formed in each island-like semiconductor film. Conductive layers (conductive layers forming gate electrodes) 438 to 441 overlapping with the island-shaped semiconductor film function as gate electrodes of the TFT. 442 functions as a source wiring, and 443 functions as a wiring in a driver circuit.

【0124】こうして導電型の制御を目的として図9
(C)に示すように、それぞれの島状半導体膜に添加さ
れた不純物元素を活性化する工程を行う。この工程はフ
ァーネスアニール炉を用いる熱アニール法で行う。その
他に、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルア
ニール法(RTA法)を適用することができる。熱アニ
ール法では酸素濃度が1ppm以下、好ましくは0.1
ppm以下の窒素雰囲気中で400〜700℃、代表的
には500〜600℃で行うものであり、本実施例では
500℃で4時間の熱処理を行う。ただし、438〜4
43に用いた配線材料が熱に弱い場合には、配線等を保
護するため層間絶縁膜(シリコンを主成分とする)を形
成した後で活性化を行うことが好ましい。
In order to control the conductivity type in this way, FIG.
As shown in (C), a step of activating the impurity element added to each of the island-shaped semiconductor films is performed. This step is performed by a thermal annealing method using a furnace annealing furnace. In addition, a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method) can be applied. In the thermal annealing method, the oxygen concentration is 1 ppm or less, preferably 0.1 ppm.
The heat treatment is performed at 400 to 700 ° C., typically 500 to 600 ° C. in a nitrogen atmosphere of ppm or less. In this embodiment, the heat treatment is performed at 500 ° C. for 4 hours. However, 438-4
When the wiring material used for 43 is weak to heat, it is preferable to activate after forming an interlayer insulating film (mainly composed of silicon) in order to protect the wiring and the like.

【0125】さらに、3〜100%の水素を含む雰囲気
中で、300〜450℃で1〜12時間の熱処理を行
い、島状半導体膜を水素化する工程を行う。この工程は
熱的に励起された水素により半導体膜のダングリングボ
ンドを終端する工程である。水素化の他の手段として、
プラズマ水素化(プラズマにより励起された水素を用い
る)を行っても良い。
Further, a heat treatment is performed in an atmosphere containing 3 to 100% of hydrogen at 300 to 450 ° C. for 1 to 12 hours to hydrogenate the island-like semiconductor film. In this step, dangling bonds in the semiconductor film are terminated by thermally excited hydrogen. As another means of hydrogenation,
Plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma) may be performed.

【0126】そして、図10のように、第1の層間絶縁
膜472を酸化窒化シリコン膜で100〜200nmの
厚さで形成する。その上に有機絶縁物材料から成る第2
の層間絶縁膜473としてアクリル樹脂膜又はポリイミ
ド樹脂膜を1.8μmの厚さで形成する。次いで、コン
タクトホールを形成するためのエッチング工程を行う。
Then, as shown in FIG. 10, a first interlayer insulating film 472 is formed of a silicon oxynitride film with a thickness of 100 to 200 nm. A second layer made of an organic insulating material thereon;
An acrylic resin film or a polyimide resin film having a thickness of 1.8 μm is formed as the interlayer insulating film 473 of FIG. Next, an etching step for forming a contact hole is performed.

【0127】次に、導電性の金属膜をスパッタ法や真空
蒸着法で形成する。これは、Ti膜を50〜150nmの
厚さで形成し、島状半導体膜のソース領域またはドレイ
ン領域を形成する半導体膜とコンタクトを形成し、その
Ti膜上に重ねてアルミニウム(Al)を300〜40
0nmの厚さで形成し、さらにTi膜または窒化チタン
(TiN)膜を100〜200nmの厚さで形成して3層
構造とした。
Next, a conductive metal film is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method. In this method, a Ti film is formed with a thickness of 50 to 150 nm, a contact is formed with a semiconductor film which forms a source region or a drain region of an island-shaped semiconductor film, and aluminum (Al) is formed on the Ti film by a thickness of 300 nm. ~ 40
It was formed to a thickness of 0 nm, and a Ti film or a titanium nitride (TiN) film was formed to a thickness of 100 to 200 nm to form a three-layer structure.

【0128】そして、駆動回路部において島状半導体膜
のソース領域とコンタクトを形成するソース配線474
〜476、ドレイン領域とコンタクトを形成するドレイ
ン配線477〜479を形成する。
Then, a source wiring 474 for forming a contact with the source region of the island-shaped semiconductor film in the drive circuit portion.
To 476, and drain wirings 477 to 479 forming a contact with the drain region are formed.

【0129】また、画素部においては、接続電極48
0、ゲート配線481、ドレイン電極482、電極49
2を形成する。
In the pixel portion, the connection electrode 48
0, gate wiring 481, drain electrode 482, electrode 49
Form 2

【0130】接続電極480は、ソース配線483と第
1の半導体膜484と電気的に接続する。図示してはい
ないが、ゲート配線481はゲート電極を形成する導電
層485とコンタクトホールにより電気的に接続する。
ドレイン電極482は第1の半導体膜484のドレイン
領域と電気的に接続する。電極492は第2の半導体膜
493と電気的に接続し、第2の半導体膜493を保持
容量505の電極として機能させる。
The connection electrode 480 electrically connects the source wiring 483 and the first semiconductor film 484. Although not shown, the gate wiring 481 is electrically connected to a conductive layer 485 forming a gate electrode through a contact hole.
The drain electrode 482 is electrically connected to a drain region of the first semiconductor film 484. The electrode 492 is electrically connected to the second semiconductor film 493, and makes the second semiconductor film 493 function as an electrode of the storage capacitor 505.

【0131】その後、透明導電膜を全面に形成し、フォ
トマスクを用いたパターニング処理およびエッチング処
理により画素電極491を形成する。画素電極491
は、第2の層間絶縁膜473上に形成され、画素TFT
のドレイン電極482、電極492と重なる部分を設
け、接続構造を形成している。
After that, a transparent conductive film is formed on the entire surface, and a pixel electrode 491 is formed by patterning and etching using a photomask. Pixel electrode 491
Are formed on the second interlayer insulating film 473 and the pixel TFT
And a portion overlapping with the drain electrode 482 and the electrode 492 is provided to form a connection structure.

【0132】透明導電膜の材料は、酸化インジウム(I
23)や酸化インジウム酸化スズ合金(In23―S
nO2;ITO)などをスパッタ法や真空蒸着法などを
用いて形成して用いることができる。このような材料の
エッチング処理は塩酸系の溶液により行う。しかし、特
にITOのエッチングは残渣が発生しやすいので、エッ
チング加工性を改善するために酸化インジウム酸化亜鉛
合金(In23―ZnO)を用いても良い。酸化インジ
ウム酸化亜鉛合金は表面平滑性に優れ、ITOに対して
熱安定性にも優れているので、ドレイン電極482の端
面で接触するAlとの腐蝕反応を防止できる。同様に、
酸化亜鉛(ZnO)も適した材料であり、さらに可視光
の透過率や導電率を高めるためにガリウム(Ga)を添
加した酸化亜鉛(ZnO:Ga)などを用いることがで
きる。
The material of the transparent conductive film is indium oxide (I
n 2 O 3 ) and indium tin oxide alloy (In 2 O 3 —S
nO 2 ; ITO) or the like can be formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. The etching of such a material is performed using a hydrochloric acid-based solution. However, in particular, since etching of ITO easily generates residues, an indium oxide-zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO) may be used in order to improve the etching processability. Since the indium zinc oxide alloy has excellent surface smoothness and excellent thermal stability with respect to ITO, it is possible to prevent a corrosion reaction with Al contacting the end face of the drain electrode 482. Similarly,
Zinc oxide (ZnO) is also a suitable material, and zinc oxide (ZnO: Ga) to which gallium (Ga) is added to increase the transmittance and conductivity of visible light can be used.

【0133】このようにして、透過型の液晶表示装置に
対応したアクティブマトリクス基板を完成させることが
できる。
Thus, an active matrix substrate corresponding to a transmission type liquid crystal display device can be completed.

【0134】以上のようにして、nチャネル型TFT5
01、pチャネル型TFT502、nチャネル型TFT
503を有する駆動回路部と、画素TFT504、保持
容量505とを有する画素部を同一基板上に形成するこ
とができる。本明細書中ではこのような基板を便宜上ア
クティブマトリクス基板と呼ぶ。
As described above, the n-channel TFT 5
01, p-channel TFT 502, n-channel TFT
A driver circuit portion including the pixel circuit 503 and a pixel portion including the pixel TFT 504 and the storage capacitor 505 can be formed over the same substrate. In this specification, such a substrate is referred to as an active matrix substrate for convenience.

【0135】駆動回路部のnチャネル型TFT501は
チャネル形成領域462、ゲート電極を形成する導電層
438と重なる第3の不純物領域445(GOLD領
域)、ゲート電極の外側に形成される第4の不純物領域
450(LDD領域)とソース領域またはドレイン領域
として機能する第1の不純物領域423を有している。
pチャネル型TFT502にはチャネル形成領域46
3、ゲート電極を形成する導電層439と重なる第5の
不純物領域446、ソース領域またはドレイン領域とし
て機能する第6の不純物領域451を有している。nチ
ャネル型TFT503にはチャネル形成領域464、ゲ
ート電極を形成する導電層440と重なる第3の不純物
領域447(GOLD領域)、ゲート電極の外側に形成
される第4の不純物領域452(LDD領域)とソース
領域またはドレイン領域として機能する第1の不純物領
域425を有している。
The n-channel TFT 501 in the driver circuit portion includes a channel formation region 462, a third impurity region 445 (GOLD region) overlapping the conductive layer 438 forming a gate electrode, and a fourth impurity formed outside the gate electrode. The semiconductor device includes a region 450 (LDD region) and a first impurity region 423 functioning as a source region or a drain region.
The channel forming region 46 is formed in the p-channel TFT 502.
3. The semiconductor device includes a fifth impurity region 446 overlapping with the conductive layer 439 forming the gate electrode, and a sixth impurity region 451 functioning as a source or drain region. In the n-channel TFT 503, a channel formation region 464, a third impurity region 447 (GOLD region) overlapping with the conductive layer 440 forming a gate electrode, and a fourth impurity region 452 (LDD region) formed outside the gate electrode. And a first impurity region 425 functioning as a source region or a drain region.

【0136】画素部の画素TFT504にはチャネル形
成領域465、ゲート電極を形成する導電層485と重
なる第3の不純物領域448(GOLD領域)、ゲート
電極の外側に形成される第4の不純物領域453(LD
D領域)とソース領域またはドレイン領域として機能す
る第1の不純物領域426を有している。また、保持容
量505の一方の電極として機能する半導体膜493に
はp型を付与する不純物元素が添加されている。ゲート
電極を形成する導電層485とその間の絶縁層(ゲート
絶縁膜と同じ層)とで保持容量を形成している。
The pixel TFT 504 in the pixel portion has a channel forming region 465, a third impurity region 448 (GOLD region) overlapping with the conductive layer 485 forming a gate electrode, and a fourth impurity region 453 formed outside the gate electrode. (LD
D region) and a first impurity region 426 functioning as a source region or a drain region. The semiconductor film 493 functioning as one electrode of the storage capacitor 505 is doped with an impurity element imparting p-type. A storage capacitor is formed by the conductive layer 485 forming the gate electrode and an insulating layer (the same layer as the gate insulating film) therebetween.

【0137】図11の上面図を鎖線A―A’、鎖線B―
B’ で切断した断面が、図10の鎖線A―A’、鎖線
B―B’で切断された断面に対応する。図11の801
〜805はコンタクトホールである。
The top view of FIG. 11 is indicated by the dashed line AA ′ and the dashed line B−.
The cross section cut along B ′ corresponds to the cross section cut along chain lines AA ′ and BB ′ in FIG. 801 in FIG.
Reference numerals 805 denote contact holes.

【0138】本実施例のドレイン電極を反射性を有する
導電体膜として、かつ、画素電極としての機能を持たせ
ることで、反射型の液晶表示装置のアクティブマトリク
ス基板を作製することも可能である。
An active matrix substrate of a reflection type liquid crystal display device can be manufactured by making the drain electrode of this embodiment a conductive film having reflectivity and functioning as a pixel electrode. .

【0139】[実施例2]本実施例では、フィールドシー
ケンシャル方式に用いる液晶表示装置の作製方法を例示
する。図12はTFT素子をスイッチング素子として用
いた液晶表示装置を示す。
[Embodiment 2] In this embodiment, a method for manufacturing a liquid crystal display device used in a field sequential system will be described. FIG. 12 shows a liquid crystal display device using a TFT element as a switching element.

【0140】対向基板の基板508には遮光膜(図示し
ない)が形成されている。遮光膜はクロム(Cr)等を
用いることができる。遮光膜の膜厚は100nm〜20
0nmが望ましい。遮光膜は液晶の配向不良が生じる領
域に設けて、液晶の配向不良によるコントラストの低下
を抑える。
A light-shielding film (not shown) is formed on the substrate 508 of the opposite substrate. Chromium (Cr) or the like can be used for the light shielding film. The thickness of the light-shielding film is 100 nm to 20
0 nm is desirable. The light-shielding film is provided in a region where the alignment failure of the liquid crystal occurs, thereby suppressing a decrease in contrast due to the alignment failure of the liquid crystal.

【0141】遮光膜上に透明導電膜510が形成されて
いる。透明導電膜は酸化インジウム錫(ITO)膜を用
いることができる。可視光の透過率を高く保つために、
ITO膜の膜厚は100nm〜120nmが望ましい。
A transparent conductive film 510 is formed on the light shielding film. As the transparent conductive film, an indium tin oxide (ITO) film can be used. To keep the transmittance of visible light high,
The thickness of the ITO film is desirably 100 nm to 120 nm.

【0142】アクティブマトリクス基板と対向基板には
配向膜511〜512が形成されている。配向膜の膜厚
は30nm〜80nmが良い。配向膜は例えば、日産化
学社製のSE7792を用いることができる。プレチル
トの高い配向膜を用いると、アクティブマトリクス方式
により液晶表示装置を駆動するときにディスクリネーシ
ョンの発生を抑えることができる。
On the active matrix substrate and the counter substrate, alignment films 511 to 512 are formed. The thickness of the alignment film is preferably 30 nm to 80 nm. As the alignment film, for example, SE7792 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. can be used. When an alignment film having a high pretilt is used, disclination can be suppressed when a liquid crystal display device is driven by an active matrix method.

【0143】配向膜511〜512をラビングする。The alignment films 511 to 512 are rubbed.

【0144】図示してはいないが、スペーサを画素内に
散布若しくはパターニングにより設けて、セルギャップ
の均一性を向上することも可能である。本実施例では、
液晶の高速応答化を図るために、スペーサを1.0μm
の高さにして、液晶を駆動するときの電界強度を強くし
た。
Although not shown, spacers may be provided in the pixel by scattering or patterning to improve the uniformity of the cell gap. In this embodiment,
To achieve high-speed response of liquid crystal, spacers should be 1.0 μm
To increase the electric field strength when driving the liquid crystal.

【0145】シール剤513により対向基板とアクティ
ブマトリクス基板が貼り合わせる。対向基板とアクティ
ブマトリクス基板とは、これらの基板に形成された配向
膜のラビング方向が直交するように貼り合わせられる。
シール剤はUV硬化型のシール剤で三井東圧社製のXN
R5610−1H1を用いる。シール剤中に、シリカ系
のスペーサである触媒化学社製の真絲球を入れる。真絲
球の径は1.0μmとする。シール剤が硬化した後に、
対向基板とアクティブマトリクス基板を分断する。
The opposing substrate and the active matrix substrate are bonded to each other with the sealant 513. The opposing substrate and the active matrix substrate are bonded so that the rubbing directions of the alignment films formed on these substrates are orthogonal to each other.
The sealant is a UV-curable sealant, XN manufactured by Mitsui Toatsu.
R5610-1H1 is used. Into the sealant, a silica ball, which is a silica-based spacer, manufactured by Catalyst Chemicals Co., Ltd. is placed. The diameter of the yarn ball is 1.0 μm. After the sealant has cured,
The opposing substrate and the active matrix substrate are separated.

【0146】液晶材料514を注入をする。液晶材料
は、低粘度の材料が高速応答という点で望ましい。本実
施例では、配向制御が容易なネマチック液晶を用いて、
カイラル材を添加してTN(Twisted Nematic)配向を
行わせる。もちろん高速応答が可能な強誘電性液晶、反
強誘電性液晶を用いても良い。本発明では強誘電性液
晶、反強誘電性液晶ともアナログ階調による表示が可能
な液晶を選択することが望ましい。強誘電性液晶、反強
誘電性液晶に、高分子樹脂を添加して光照射により強誘
電性液晶又は反強誘電性液晶と高分子樹脂の混合系を硬
化した材料を用いることも可能である。この高分子材料
を強誘電性液晶や反強誘電性液晶に高分子樹脂を添加し
て配向をさせる方式は、高分子安定化方式といわれてい
る。
A liquid crystal material 514 is injected. As the liquid crystal material, a low-viscosity material is desirable in terms of high-speed response. In this example, using a nematic liquid crystal whose alignment control is easy,
A TN (Twisted Nematic) orientation is performed by adding a chiral material. Of course, a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal capable of high-speed response may be used. In the present invention, it is desirable to select a liquid crystal capable of displaying by analog gray scale for both the ferroelectric liquid crystal and the antiferroelectric liquid crystal. It is also possible to use a material obtained by adding a polymer resin to a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal and curing a ferroelectric liquid crystal or a mixed system of an antiferroelectric liquid crystal and a polymer resin by light irradiation. . A method in which a polymer resin is added to a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal to align the polymer material is called a polymer stabilization method.

【0147】液晶材料が注入されたことを確認し、UV
硬化型の封止剤で注入口を封止する。
After confirming that the liquid crystal material has been injected, the UV
The injection port is sealed with a hardening type sealant.

【0148】次いで公知の技術により偏光板(図示せ
ず)を貼りつける。以上の工程で液晶表示装置が完成す
る。
Next, a polarizing plate (not shown) is attached by a known technique. Through the above steps, a liquid crystal display device is completed.

【0149】[実施例3]上記各実施例1乃至2のいず
れか一を実施して形成された液晶表示装置は様々な電気
光学装置に用いることができる。即ち、それら電気光学
装置を表示部に組み込んだ電子機器全てに本発明を適用
できる。
[Embodiment 3] A liquid crystal display device formed by carrying out any one of Embodiments 1 and 2 can be used for various electro-optical devices. That is, the present invention can be applied to all electronic devices in which the electro-optical device is incorporated in a display unit.

【0150】その様な電子機器としては、ビデオカメ
ラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ(ゴ
ーグル型ディスプレイ)、カーナビゲーション、カース
テレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバ
イルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等)などが
挙げられる。それらの一例を図13、図14に示す。
Examples of such electronic devices include a video camera, a digital camera, a head mounted display (goggle type display), a car navigation, a car stereo, a personal computer, a portable information terminal (a mobile computer, a mobile phone or an electronic book, etc.). Is mentioned. Examples of those are shown in FIGS.

【0151】図13(A)はパーソナルコンピュータで
あり、本体2001、画像入力部2002、表示部20
03、キーボード2004等を含む。本発明を表示部2
003に適用することができる。
FIG. 13A shows a personal computer, which includes a main body 2001, an image input section 2002, and a display section 20.
03, a keyboard 2004 and the like. Display unit 2 of the present invention
003 can be applied.

【0152】図13(B)はビデオカメラであり、本体
2101、表示部2102、音声入力部2103、操作
スイッチ2104、バッテリー2105、受像部210
6等を含む。本発明を表示部2102に適用することが
できる。
FIG. 13B shows a video camera, which includes a main body 2101, a display portion 2102, an audio input portion 2103, operation switches 2104, a battery 2105, and an image receiving portion 210.
6 and so on. The present invention can be applied to the display portion 2102.

【0153】図13(C)はモバイルコンピュータ(モ
ービルコンピュータ)であり、本体2201、カメラ部
2202、受像部2203、操作スイッチ2204、表
示部2205等を含む。本発明は表示部2205に適用
できる。
FIG. 13C shows a mobile computer (mobile computer), which includes a main body 2201, a camera section 2202, an image receiving section 2203, operation switches 2204, a display section 2205, and the like. The present invention can be applied to the display portion 2205.

【0154】図13(D)はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体2301、表示部2302、アーム部230
3等を含む。本発明は表示部2302に適用することが
できる。
FIG. 13D shows a goggle type display, which includes a main body 2301, a display portion 2302, and an arm portion 230.
3 and so on. The present invention can be applied to the display portion 2302.

【0155】図13(E)はプログラムを記録した記録
媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであ
り、本体2401、表示部2402、スピーカ部240
3、記録媒体2404、操作スイッチ2405等を含
む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてDVD(D
igtial Versatile Disc)、CD
等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネッ
トを行うことができる。本発明は表示部2402に適用
することができる。
FIG. 13E shows a player using a recording medium (hereinafter, referred to as a recording medium) on which a program is recorded, and includes a main body 2401, a display section 2402, and a speaker section 240.
3, a recording medium 2404, an operation switch 2405, and the like. This player uses a DVD (D
digital Versatile Disc), CD
And the like, it is possible to perform music appreciation, movie appreciation, games, and the Internet. The present invention can be applied to the display portion 2402.

【0156】図13(F)はデジタルカメラであり、本
体2501、表示部2502、接眼部2503、操作ス
イッチ2504、受像部(図示しない)等を含む。本発
明を表示部2502に適用することができる。
FIG. 13F shows a digital camera, which includes a main body 2501, a display section 2502, an eyepiece section 2503, operation switches 2504, an image receiving section (not shown), and the like. The present invention can be applied to the display portion 2502.

【0157】図14(A)は携帯電話であり、本体29
01、音声出力部2902、音声入力部2903、表示
部2904、操作スイッチ2905、アンテナ2906
等を含む。本発明を表示部2904に適用することがで
きる。
FIG. 14A shows a mobile phone,
01, audio output unit 2902, audio input unit 2903, display unit 2904, operation switch 2905, antenna 2906
And so on. The present invention can be applied to the display portion 2904.

【0158】図14(B)は携帯書籍(電子書籍)であ
り、本体3001、表示部3002、3003、記憶媒
体3004、操作スイッチ3005、アンテナ3006
等を含む。本発明は表示部3002、3003に適用す
ることができる。
FIG. 14B shows a portable book (electronic book), which includes a main body 3001, display portions 3002 and 3003, a storage medium 3004, operation switches 3005, and an antenna 3006.
And so on. The present invention can be applied to the display units 3002 and 3003.

【0159】図14(C)はディスプレイであり、本体
3101、支持台3102、表示部3103等を含む。
本発明は表示部3103に適用することができる。
FIG. 14C shows a display, which includes a main body 3101, a support 3102, a display portion 3103, and the like.
The present invention can be applied to the display portion 3103.

【0160】以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広
く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能であ
る。また、本実施例の電子機器は実施例1〜2のどのよ
うな組み合わせからなる構成を用いても実現することが
できる
As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide, and can be applied to electronic devices in all fields. Further, the electronic apparatus of the present embodiment can be realized by using a configuration composed of any combination of the first and second embodiments.

【0161】[0161]

【発明の効果】本発明を実施することにより、フィール
ドシーケンシャル方式の液晶の応答時間、画素データの
書き込み時間を短縮することができる。これによって、
光源の点灯時間が長い明るい表示が得られる。
By implementing the present invention, it is possible to reduce the response time of the field sequential type liquid crystal and the writing time of pixel data. by this,
A bright display with a long light source lighting time can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明による液晶表示装置の駆動方法の回路
構成の一例を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a circuit configuration of a method for driving a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】 本発明による液晶表示装置の駆動方法のタイ
ミングチャートの一例を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a timing chart of a driving method of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】 本発明による液晶表示装置の駆動方法のタイ
ミングチャートの一例を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a timing chart of a driving method of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】 本発明による液晶表示装置の駆動方法のタイ
ミングチャートの一例を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a timing chart of a driving method of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】 本発明による液晶表示装置の駆動方法の回路
構成の一例を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing an example of a circuit configuration of a driving method of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】 本発明による液晶表示装置の駆動方法のタイ
ミングチャートの一例を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a timing chart of a method for driving a liquid crystal display device according to the present invention.

【図7】 フィールドシーケンシャル方式でカラー表示
をするときのタイミングチャートの一例を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing an example of a timing chart when color display is performed by a field sequential method.

【図8】 アクティブマトリクス基板の作製方法を示す
断面図(実施例1)。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing an active matrix substrate (Example 1).

【図9】 アクティブマトリクス基板の作製方法を示す
断面図(実施例1)。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing an active matrix substrate (Example 1).

【図10】 アクティブマトリクス基板の作製方法を示
す断面図(実施例1)。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing an active matrix substrate (Example 1).

【図11】 アクティブマトリクス基板の画素部を示す
上面図(実施例1)。
FIG. 11 is a top view showing a pixel portion of an active matrix substrate (Example 1).

【図12】 液晶表示装置の断面図(実施例2)。FIG. 12 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device (Example 2).

【図13】 電子機器の一例を示す図(実施例3)。FIG. 13 illustrates an example of an electronic device (Example 3).

【図14】 電子機器の一例を示す図(実施例3)。FIG. 14 illustrates an example of an electronic device (Example 3).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 621 G09G 3/20 621F 623 623D 641 641E 3/34 3/34 J Fターム(参考) 2H093 NA06 NA44 NA53 NA65 NB07 NB11 NB21 NB23 NC09 NC15 NC16 NC25 NC28 NC34 NC49 NC58 ND08 ND32 ND37 NE06 NG01 NH14 5C006 AA01 AA14 AA22 AC21 AF44 BB16 BC03 BC12 BF28 FA14 5C080 AA10 BB05 CC03 DD08 FF11 JJ02 JJ04 JJ06 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09G 3/20 621 G09G 3/20 621F 623 623D 641 641E 3/34 3/34 JF term (Reference) 2H093 NA06 NA44 NA53 NA65 NB07 NB11 NB21 NB23 NC09 NC15 NC16 NC25 NC28 NC34 NC49 NC58 ND08 ND32 ND37 NE06 NG01 NH14 5C006 AA01 AA14 AA22 AC21 AF44 BB16 BC03 BC12 BF28 FA14 5C080 AA10 BB05 JJ02 JJ04 JJ04 JJ04

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のサブフレーム期間において第1の信
号電圧の電位を有する画素電極が第2のサブフレーム期
間において第2の信号電圧の電位を有するときに、前記
第1の信号電圧から前記第2の信号電圧へと電圧値が変
化するときの液晶の応答時間を演算し、前記第2のサブ
フレーム期間において前記演算した前記液晶の応答時間
の長い画素から順に、前記画素の前記画素電極に前記第
2の信号電圧の電位を与えることを特徴とする液晶表示
装置の駆動方法。
When a pixel electrode having a potential of a first signal voltage in a first sub-frame period has a potential of a second signal voltage in a second sub-frame period, the pixel electrode has a potential of the second signal voltage. Calculate the response time of the liquid crystal when the voltage value changes to the second signal voltage, and in the second sub-frame period, in order from the pixel having the longer response time of the liquid crystal, the pixel of the pixel A method for driving a liquid crystal display device, wherein a potential of the second signal voltage is applied to an electrode.
【請求項2】同一の信号線に接続した同一の階調を表示
する複数の画素に、前記複数の画素TFTの画素電極
に、同時に信号電圧の電位を与えることを特徴とする液
晶表示装置の駆動方法。
2. A liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of pixels connected to the same signal line and displaying the same gray scale are simultaneously supplied with a signal voltage potential to pixel electrodes of said plurality of pixel TFTs. Drive method.
【請求項3】信号線及び第1の走査線に接続した第1の
画素TFTに接続して設けられた第1の画素電極と、前
記信号線及び第2の走査線に接続した第2の画素TFT
に接続して設けられた第2の画素電極とに、第1の信号
電圧の電位を与える第1段階と、前記第1の走査線から
前記第2の走査線まで順次走査線を選択する第2段階
と、前記信号線及び前記第2の走査線を選択し前記第2
の画素電極に前記第1の信号電圧の絶対値との差が0V
より大きく0.5Vより小さい第2の信号電圧の電位を
与える第3段階とを有することを特徴とする液晶表示装
置の駆動方法。
3. A first pixel electrode connected to a first pixel TFT connected to a signal line and a first scanning line, and a second pixel electrode connected to the signal line and a second scanning line. Pixel TFT
A first step of applying a potential of a first signal voltage to a second pixel electrode connected to the second pixel electrode, and a second step of sequentially selecting a scanning line from the first scanning line to the second scanning line. Two steps, selecting the signal line and the second scan line, and selecting the second
The difference between the absolute value of the first signal voltage and the absolute value of the first signal voltage is 0 V
A third step of applying a potential of a second signal voltage larger than 0.5 V and smaller than 0.5 V.
【請求項4】請求項1乃至3のいずれか一項において、 前記液晶表示装置に第1の発光色、第2の発光色、第3
の発光色が間欠的に入射することを特徴とする液晶表示
装置の駆動方法。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device has a first luminescent color, a second luminescent color, and a third luminescent color.
A driving method for a liquid crystal display device, wherein the emission color of the liquid crystal is intermittently incident.
【請求項5】第1のサブフレーム期間において画素電極
に与える第1の信号電圧の電位を記憶する第1の手段
と、第2のサブフレーム期間において前記画素電極に与
える第2の信号電圧の電位を記憶する第2の手段と、前
記第1の信号電圧から前記第2の信号電圧へと電圧値が
変わるときの液晶の応答時間を演算する第3の手段と、
前記演算した前記液晶の応答時間の長い画素の順に、前
記画素の前記画素電極に前記第2の信号電圧を与える第
4の手段とを有することを特徴とする液晶表示装置。
5. A first means for storing a potential of a first signal voltage applied to a pixel electrode during a first sub-frame period, and a second signal voltage applied to the pixel electrode during a second sub-frame period. A second means for storing a potential; a third means for calculating a response time of the liquid crystal when a voltage value changes from the first signal voltage to the second signal voltage;
And a fourth means for applying the second signal voltage to the pixel electrode of the pixel in the order of the calculated response time of the liquid crystal, the liquid crystal display device comprising:
【請求項6】請求項5において、 前記第4の手段は前記画素の画素TFTに接続した信号
線を選択する手段と、前記画素の画素TFTに接続した
走査線を選択する手段とを有することを特徴とする液晶
表示装置。
6. The apparatus according to claim 5, wherein said fourth means includes means for selecting a signal line connected to a pixel TFT of said pixel, and means for selecting a scanning line connected to a pixel TFT of said pixel. Liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項7】請求項6において、 前記信号線を選択する手段がアドレスデコーダーを有す
ることを特徴とする液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the means for selecting the signal line has an address decoder.
【請求項8】請求項7において、 前記走査線を選択する手段がアドレスデコーダーを有す
ることを特徴とする液晶表示装置。
8. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein said means for selecting a scanning line has an address decoder.
【請求項9】同一の信号線に接続した同一の階調を表示
する画素TFTを検出する第1の手段と、前記画素TF
Tの画素電極に同時に信号電圧の電位を与える第2の手
段とを有することを特徴とする液晶表示装置。
9. A first means for detecting pixel TFTs connected to the same signal line and displaying the same gradation, and said pixel TF
A second means for simultaneously applying a signal voltage potential to the T pixel electrodes.
【請求項10】請求項9において、 前記第2の手段は前記画素の画素TFTに接続した信号
線を選択する手段と、前記画素の画素TFTに接続した
走査線を選択する手段とを有することを特徴とする液晶
表示装置。
10. The device according to claim 9, wherein said second means includes means for selecting a signal line connected to a pixel TFT of said pixel, and means for selecting a scanning line connected to a pixel TFT of said pixel. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項11】請求項10において、 前記信号線を選択する手段がアドレスデコーダーを有す
ることを特徴とする液晶表示装置。
11. The liquid crystal display device according to claim 10, wherein the means for selecting the signal line has an address decoder.
【請求項12】請求項11において、 前記走査線を選択する手段がアドレスデコーダーを有す
ることを特徴とする液晶表示装置。
12. A liquid crystal display device according to claim 11, wherein said means for selecting a scanning line has an address decoder.
【請求項13】信号線に接続した複数の画素TFTのう
ち、第1の信号電圧の電位を与える第1の画素電極を有
する第1の画素TFTと、前記第1の信号電圧の絶対値
との差が0Vより大きく、0.5Vより小さい絶対値の
第2の信号電圧の電位を与える第2の画素電極を有する
第2の画素TFTとを検出し、前記第1の画素電極及び
前記第2の画素電極に第1の信号電圧の電位を与える手
段と、さらに前記第2の画素電極に第2の信号電圧の電
位を与える手段とを有することを特徴とする液晶表示装
置。
13. A plurality of pixel TFTs connected to a signal line, a first pixel TFT having a first pixel electrode for applying a potential of a first signal voltage, an absolute value of the first signal voltage, And a second pixel TFT having a second pixel electrode for applying a potential of a second signal voltage having an absolute value larger than 0 V and smaller than 0.5 V, and detecting the first pixel electrode and the second pixel TFT. A liquid crystal display device comprising: means for applying a potential of a first signal voltage to two pixel electrodes; and means for applying a potential of a second signal voltage to the second pixel electrode.
【請求項14】請求項5乃至13のいずれか一項の液晶
表示装置の光源が、第1の発光色の光源、第2の発光色
の光源及び第3の発光色の光源からなることを特徴とす
る液晶表示装置。
14. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the light source comprises a first light source, a second light source, and a third light source. Characteristic liquid crystal display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN1637532B (en) * 2003-12-30 2010-07-28 乐金显示有限公司 Liquid crystal display
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