JP2002159975A - ダイオキシン類含有排水の処理装置 - Google Patents
ダイオキシン類含有排水の処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 排水処理装置は、ダイオキシン類を含む
排水を分離槽1 に溜めて比較的大きな粒子状物質を沈降
させ除去する１次処理装置と、同装置から出た１次処理
水を膜分離装置9 で処理する２次処理装置とを具備する
ものである。好ましい実施形態では、２次処理装置は、
１次処理装置の後流に、溶解性ダイオキシン類を吸着さ
せる活性炭を添加する活性炭貯槽7 を具備する。 【効果】 有害物質（特にダイオキシン類）により汚染
された排水を効果的に処理し、国の関係法令で定める排
出水基準値（ダイオキシン対策特別措置法）であるダイ
オキシン類１０ｐｇ−ＴＥＱ／リットル以下を満足する
ことができる。
排水を分離槽1 に溜めて比較的大きな粒子状物質を沈降
させ除去する１次処理装置と、同装置から出た１次処理
水を膜分離装置9 で処理する２次処理装置とを具備する
ものである。好ましい実施形態では、２次処理装置は、
１次処理装置の後流に、溶解性ダイオキシン類を吸着さ
せる活性炭を添加する活性炭貯槽7 を具備する。 【効果】 有害物質（特にダイオキシン類）により汚染
された排水を効果的に処理し、国の関係法令で定める排
出水基準値（ダイオキシン対策特別措置法）であるダイ
オキシン類１０ｐｇ−ＴＥＱ／リットル以下を満足する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】都市ごみ、産業廃棄物等の廃
棄物の焼却施設においては、その焼却炉本体、煙道設
備、除塵設備、排煙冷却設備、洗煙設備、排水処理設
備、廃熱ボイラー等がダイオキシン類に汚染されている
恐れがある。これらの設備において汚染物を除去する作
業や、これら設備を解体する作業、定期的に施されるオ
ーバーホール工事、さらには日常的な整備、点検等で生
じる排水も、ダイオキシン類で汚染されている恐れがあ
る。
棄物の焼却施設においては、その焼却炉本体、煙道設
備、除塵設備、排煙冷却設備、洗煙設備、排水処理設
備、廃熱ボイラー等がダイオキシン類に汚染されている
恐れがある。これらの設備において汚染物を除去する作
業や、これら設備を解体する作業、定期的に施されるオ
ーバーホール工事、さらには日常的な整備、点検等で生
じる排水も、ダイオキシン類で汚染されている恐れがあ
る。
【０００２】本発明は、このようなダイオキシン類含有
排水の処理装置に関する。
排水の処理装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】従来、ダイオキシン類含有排水の処理に
ついては特に規制がなく、したがって既設排水処理施設
での処理を行うか、もしくは産業廃棄物処理業者に処理
を委託していた。
ついては特に規制がなく、したがって既設排水処理施設
での処理を行うか、もしくは産業廃棄物処理業者に処理
を委託していた。
【０００４】平成１２年９月７日付労働省通達「廃棄物
焼却施設解体工事におけるダイオキシン類による健康障
害防止について」は、廃棄物の焼却を主たる目的とする
施設の解体工事のために策定されたものであり、解体作
業に対しては、次のように記載されている。
焼却施設解体工事におけるダイオキシン類による健康障
害防止について」は、廃棄物の焼却を主たる目的とする
施設の解体工事のために策定されたものであり、解体作
業に対しては、次のように記載されている。
【０００５】解体作業 (1) 耐火物の解体作業等、粉塵を発生させる恐れのある
作業は、散水または水の噴霧により発じんを抑え、かつ
汚れが流れ出さない程度の湿潤な状態にし、粉塵の発生
を防止すること。また、すす等散水により粉塵の飛散防
止措置をとることが困難な場合には、粉塵飛散防止処理
剤による固化等によりこれを行った上で作業を行うこ
と。
作業は、散水または水の噴霧により発じんを抑え、かつ
汚れが流れ出さない程度の湿潤な状態にし、粉塵の発生
を防止すること。また、すす等散水により粉塵の飛散防
止措置をとることが困難な場合には、粉塵飛散防止処理
剤による固化等によりこれを行った上で作業を行うこ
と。
【０００６】換気・排水・汚染物の処理 (1) 汚染除去作業および解体作業によって生じた汚染物
は、関連法令に基づき処理することとし、必用な場合に
は、飛散防止措置を講じた上で密閉容器に密封し、作業
の妨げとならない場所に隔離・保管すること。
は、関連法令に基づき処理することとし、必用な場合に
は、飛散防止措置を講じた上で密閉容器に密封し、作業
の妨げとならない場所に隔離・保管すること。
【０００７】(2) 汚染除去作業および解体作業により生
じるダイオキシン類により汚染された排水は、関係法令
で定める排出水の基準を満たすことが可能な凝集沈殿法
等の処理施設で処理した後、外部に排水すること。ま
た、外部に排水する排水のダイオキシン類濃度を測定
し、この結果と排水年月日、排水量等を記載すること。
なお、上記の要件を満たす既存の排水処理施設がある場
合、これにより処理して排水することとしても差し支え
ない。
じるダイオキシン類により汚染された排水は、関係法令
で定める排出水の基準を満たすことが可能な凝集沈殿法
等の処理施設で処理した後、外部に排水すること。ま
た、外部に排水する排水のダイオキシン類濃度を測定
し、この結果と排水年月日、排水量等を記載すること。
なお、上記の要件を満たす既存の排水処理施設がある場
合、これにより処理して排水することとしても差し支え
ない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
労働省通達をクリアすることができるダイオキシン類含
有排水の処理装置を提供することにある。
労働省通達をクリアすることができるダイオキシン類含
有排水の処理装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によるダイオキシ
ン類含有排水の処理装置は、ダイオキシン類を含む排水
を分離槽に溜めて比較的大きな粒子状物質を沈降させ除
去する１次処理装置と、同装置から出た１次処理水を膜
分離装置で処理する２次処理装置とを具備するものであ
る。
ン類含有排水の処理装置は、ダイオキシン類を含む排水
を分離槽に溜めて比較的大きな粒子状物質を沈降させ除
去する１次処理装置と、同装置から出た１次処理水を膜
分離装置で処理する２次処理装置とを具備するものであ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明による排水処理装置の好ま
しい実施形態では、２次処理装置は、１次処理装置の後
流に、溶解性ダイオキシン類を吸着させる活性炭を添加
する活性炭添加装置を具備する。
しい実施形態では、２次処理装置は、１次処理装置の後
流に、溶解性ダイオキシン類を吸着させる活性炭を添加
する活性炭添加装置を具備する。
【００１１】本発明による排水処理装置の別の好ましい
実施形態では、さらに、２次処理装置が、１次処理装置
の後流に、残存する粒子状ダイオキシン類を含む有害物
質を苛性ソーダおよび凝集剤の添加により凝集させる凝
集槽を具備する。
実施形態では、さらに、２次処理装置が、１次処理装置
の後流に、残存する粒子状ダイオキシン類を含む有害物
質を苛性ソーダおよび凝集剤の添加により凝集させる凝
集槽を具備する。
【００１２】膜分離装置の膜モジュールは、例えば平膜
モジュール、チューブラーモジュール、中空糸モジュー
ルまたはスパイラル型モジュール等、膜分離装置に一般
的に用いられる膜モジュールであってよい。膜の通過流
速（フラックス）は、例えばチューブラーモジュールの
場合、８０〜１００リットル／ｍ２ ・ｈの一般的な値
であってよい。
モジュール、チューブラーモジュール、中空糸モジュー
ルまたはスパイラル型モジュール等、膜分離装置に一般
的に用いられる膜モジュールであってよい。膜の通過流
速（フラックス）は、例えばチューブラーモジュールの
場合、８０〜１００リットル／ｍ２ ・ｈの一般的な値
であってよい。
【００１３】次に、上記構成の排水処理装置を用いるダ
イオキシン類含有排水の処理方法について、説明をす
る。
イオキシン類含有排水の処理方法について、説明をす
る。
【００１４】図１において、粒子状（ＳＳ性）のダイオ
キシン類と溶解性のダイオキシン類を含有する原水は、
まず分離槽(1) に供給されてここに所要時間滞留され、
粒子状ダイオキシン類を含む比較的大きな粒子状物質が
沈降させられ除去される（１次処理）。分離槽(1) での
原水の滞留時間は、沈降性がよい洗浄灰排水の場合、１
時間程度ないしはそれ以内である。生じた１次処理水
は、分離槽(1) の後流に設けられた１次処理水槽(2) に
蓄える。１次処理水はここから原水ポンプ(12)によって
計量槽(3) へ圧送され、その一部は１次処理水槽(2) へ
戻される。
キシン類と溶解性のダイオキシン類を含有する原水は、
まず分離槽(1) に供給されてここに所要時間滞留され、
粒子状ダイオキシン類を含む比較的大きな粒子状物質が
沈降させられ除去される（１次処理）。分離槽(1) での
原水の滞留時間は、沈降性がよい洗浄灰排水の場合、１
時間程度ないしはそれ以内である。生じた１次処理水
は、分離槽(1) の後流に設けられた１次処理水槽(2) に
蓄える。１次処理水はここから原水ポンプ(12)によって
計量槽(3) へ圧送され、その一部は１次処理水槽(2) へ
戻される。
【００１５】次に、１次処理水を膜分離処理する２次処
理について説明をする。
理について説明をする。
【００１６】１次処理水を溜めた凝集槽(4) には、苛性
ソーダ貯槽(5) から苛性ソーダが、凝集剤貯槽(6) から
凝集剤が、そして活性炭貯槽(7) から活性炭がそれぞれ
添加される。苛性ソーダは１次処理水のｐＨを調整する
ものである。凝集剤（ＰＡＣ）は、残存する粒子状ダイ
オキシン類を含む有害物質、例えばＨｇ、Ｐｂ、Ｃｄ等
の重金属類を凝集させるものである。生じた凝集物は後
流の膜分離処理により除去する。活性炭は水中の溶解性
ダイオキシン類を吸着して後流の膜分離処理におけるダ
イオキシン類の除去性能を向上させる。
ソーダ貯槽(5) から苛性ソーダが、凝集剤貯槽(6) から
凝集剤が、そして活性炭貯槽(7) から活性炭がそれぞれ
添加される。苛性ソーダは１次処理水のｐＨを調整する
ものである。凝集剤（ＰＡＣ）は、残存する粒子状ダイ
オキシン類を含む有害物質、例えばＨｇ、Ｐｂ、Ｃｄ等
の重金属類を凝集させるものである。生じた凝集物は後
流の膜分離処理により除去する。活性炭は水中の溶解性
ダイオキシン類を吸着して後流の膜分離処理におけるダ
イオキシン類の除去性能を向上させる。
【００１７】凝集槽(4) の水は循環槽(8) へ送られここ
に蓄えられ、ついでここから膜分離装置(9) へ送られ
る。膜分離装置(9) の膜を通過した膜分離処理水は系外
へ抜き出され、その一部は循環槽(8) へ戻される。非透
過水は循環槽(8) へ戻される。この返送ラインに水タン
ク(10)から水が、洗浄薬液タンク(11)から洗浄薬液がそ
れぞれ添加され、膜分離装置(9) が適時洗浄される。
に蓄えられ、ついでここから膜分離装置(9) へ送られ
る。膜分離装置(9) の膜を通過した膜分離処理水は系外
へ抜き出され、その一部は循環槽(8) へ戻される。非透
過水は循環槽(8) へ戻される。この返送ラインに水タン
ク(10)から水が、洗浄薬液タンク(11)から洗浄薬液がそ
れぞれ添加され、膜分離装置(9) が適時洗浄される。
【００１８】本発明による排水処理装置の好ましい実施
形態では、図２および図３に示すように、１次処理装置
(21)が、分離槽(1) とこれの後流に設けられた１次処理
水槽(2) とからなるユニットで構成され、２次処理装置
(22)は、１次処理水を１次処理水槽(2) から計量槽(3)
へ圧送する原水ポンプ(12)と、計量槽(3) の後流に設け
られた凝集槽(4) と、凝集槽に送る苛性ソーダを蓄える
苛性ソーダ貯槽(5) と、凝集槽に送る凝集剤を蓄える凝
集剤貯槽(6) と、凝集槽に送る活性炭を蓄える活性炭貯
槽(7) と、凝集槽の後流に設けられた循環槽(8) と、循
環槽の後流に設けられ、かつ非透過水を循環槽へ戻す膜
分離装置(9) と、膜分離装置洗浄用の水および洗浄薬液
をそれぞれ蓄える水タンク(10)および洗浄薬液タンク(1
1)と、これらを制御する制御盤とからなるユニットで構
成される。
形態では、図２および図３に示すように、１次処理装置
(21)が、分離槽(1) とこれの後流に設けられた１次処理
水槽(2) とからなるユニットで構成され、２次処理装置
(22)は、１次処理水を１次処理水槽(2) から計量槽(3)
へ圧送する原水ポンプ(12)と、計量槽(3) の後流に設け
られた凝集槽(4) と、凝集槽に送る苛性ソーダを蓄える
苛性ソーダ貯槽(5) と、凝集槽に送る凝集剤を蓄える凝
集剤貯槽(6) と、凝集槽に送る活性炭を蓄える活性炭貯
槽(7) と、凝集槽の後流に設けられた循環槽(8) と、循
環槽の後流に設けられ、かつ非透過水を循環槽へ戻す膜
分離装置(9) と、膜分離装置洗浄用の水および洗浄薬液
をそれぞれ蓄える水タンク(10)および洗浄薬液タンク(1
1)と、これらを制御する制御盤とからなるユニットで構
成される。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、有害物質（特にダイオ
キシン類）により汚染された排水を効果的に処理し、国
の関係法令で定める排出水基準値（ダイオキシン対策特
別措置法）であるダイオキシン類１０ｐｇ−ＴＥＱ／リ
ットル以下を満足することができる。
キシン類）により汚染された排水を効果的に処理し、国
の関係法令で定める排出水基準値（ダイオキシン対策特
別措置法）であるダイオキシン類１０ｐｇ−ＴＥＱ／リ
ットル以下を満足することができる。
【００２０】また、請求項４の発明によれば、２つのユ
ニットは小型で持ち運び易く、作業上での迅速な移動が
可能である。
ニットは小型で持ち運び易く、作業上での迅速な移動が
可能である。
【００２１】このように、本発明によりダイオキシン類
含有排水の処理が効果的になされるので、廃棄物焼却施
設における解体工事やオーバーホール工事等での作業が
スムーズに進行する。また、作業場全体および外部への
有害物質の排出が防止できるため、本発明は水質汚染防
止（環境汚染防止）上からも法令に対応できる。また、
既設の排水処理設備にて、本洗浄排水のような特殊排水
を受入れた時、その設備影響（装置面および性能面と
も）が懸念される場合があるが、本発明装置の適用によ
りこのような懸念なく排水処理ができる。
含有排水の処理が効果的になされるので、廃棄物焼却施
設における解体工事やオーバーホール工事等での作業が
スムーズに進行する。また、作業場全体および外部への
有害物質の排出が防止できるため、本発明は水質汚染防
止（環境汚染防止）上からも法令に対応できる。また、
既設の排水処理設備にて、本洗浄排水のような特殊排水
を受入れた時、その設備影響（装置面および性能面と
も）が懸念される場合があるが、本発明装置の適用によ
りこのような懸念なく排水処理ができる。
【図１】 本発明の実施例を示すフローシートである。
【図２】 本発明の変形例を示す平面図である。
【図３】 図２の変形例の正面図である。
(1) ：分離槽 (2) ：１次処理水槽 (3) ：計量槽 (4) ：凝集槽 (5) ：苛性ソーダ貯槽 (6) ：凝集剤貯槽 (7) ：活性炭貯槽 (8) ：循環槽 (9) ：膜分離装置 (10)：水タンク (11)：洗浄薬液タンク (12)：原水ポンプ (13)：制御盤 (21)：１次処理装置 (22)：２次処理装置
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 63/10 Ｂ０１Ｄ 63/10 Ｃ０２Ｆ 1/28 Ｃ０２Ｆ 1/28 Ｄ 1/44 1/44 Ｋ 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ｅ ５０２Ｈ ５０２Ｐ ５０３ ５０３Ｇ ５０４ ５０４Ｂ ５０４Ｅ Ｃ０７Ｄ 319/24 Ｃ０７Ｄ 319/24 (72)発明者 小畑 博一 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 三野 禎男 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 中野 憲一 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 Ｆターム(参考） 4D006 GA02 HA01 HA21 HA41 HA61 KA01 KA03 KB12 KB13 KD08 KD17 MA01 MA02 MA03 MA04 PA01 PB08 PB70 4D015 BA19 CA20 EA12 EA37 FA01 FA22 4D024 AA04 AB11 BA02 BC04 CA01 CA06 DA01 DB05 DB12 DB21 4D062 BA19 CA20 EA12 EA37 FA01 FA22
Claims (5)
- 【請求項１】 ダイオキシン類を含む排水を分離槽に溜
めて比較的大きな粒子状物質を沈降させ除去する１次処
理装置と、同装置から出た１次処理水を膜分離装置で処
理する２次処理装置とを具備するダイオキシン類含有排
水の処理装置。 - 【請求項２】 さらに、２次処理装置が、１次処理装置
の後流に、溶解性ダイオキシン類を吸着させる活性炭を
添加する活性炭添加装置を具備する請求項１記載のダイ
オキシン類含有排水の処理装置。 - 【請求項３】 さらに、２次処理装置が、１次処理装置
の後流に、残存する粒子状ダイオキシン類を含む有害物
質を苛性ソーダおよび凝集剤の添加により凝集させる凝
集槽を具備する請求項１または２記載のダイオキシン類
含有排水の処理装置。 - 【請求項４】 １次処理装置が、分離槽とこれの後流に
設けられた１次処理水槽とからなるユニットで構成さ
れ、２次処理装置が、１次処理水を１次処理水槽から計
量槽へ圧送する原水ポンプと、計量槽の後流に設けられ
た凝集槽と、凝集槽に送る苛性ソーダを蓄える苛性ソー
ダ貯槽と、凝集槽に送る凝集剤を蓄える凝集剤貯槽と、
凝集槽に送る活性炭を蓄える活性炭貯槽と、凝集槽の後
流に設けられた循環槽と、循環槽の後流に設けられ、か
つ非透過水を循環槽へ戻す膜分離装置と、膜分離装置洗
浄用の水および洗浄薬液をそれぞれ蓄える水タンクおよ
び洗浄薬液タンクと、これらを制御する制御盤とからな
るユニットで構成される請求項１記載のダイオキシン類
含有排水の処理装置。 - 【請求項５】 膜分離装置の膜モジュールが、平膜モジ
ュール、チューブラーモジュール、中空糸モジュールま
たはスパイラル型モジュールである請求項１〜４のいず
れかに記載のダイオキシン類含有排水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000360755A JP2002159975A (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | ダイオキシン類含有排水の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000360755A JP2002159975A (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | ダイオキシン類含有排水の処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002159975A true JP2002159975A (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=18832298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000360755A Withdrawn JP2002159975A (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | ダイオキシン類含有排水の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002159975A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003010860A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-14 | Ebara Engineering Service Co Ltd | 焼却炉解体洗浄排水処理装置 |
| WO2004067453A1 (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 難分解性有害物質含有廃水の処理方法 |
| CN100430325C (zh) * | 2003-01-31 | 2008-11-05 | 出光兴产株式会社 | 处理含有难分解有害物的废水的方法 |
-
2000
- 2000-11-28 JP JP2000360755A patent/JP2002159975A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003010860A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-14 | Ebara Engineering Service Co Ltd | 焼却炉解体洗浄排水処理装置 |
| WO2004067453A1 (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 難分解性有害物質含有廃水の処理方法 |
| US7335310B2 (en) | 2003-01-31 | 2008-02-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Method of treating wastewater containing hardly decomposable harmful substances |
| CN100430325C (zh) * | 2003-01-31 | 2008-11-05 | 出光兴产株式会社 | 处理含有难分解有害物的废水的方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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