JP2002158309A - Semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents

Semiconductor device and its manufacturing method

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JP2002158309A
JP2002158309A JP2000353065A JP2000353065A JP2002158309A JP 2002158309 A JP2002158309 A JP 2002158309A JP 2000353065 A JP2000353065 A JP 2000353065A JP 2000353065 A JP2000353065 A JP 2000353065A JP 2002158309 A JP2002158309 A JP 2002158309A
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substrate
chip
semiconductor device
tape base
package
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JP2000353065A
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Yoshinori Miyaki
美典 宮木
Seiichi Ichihara
誠一 市原
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
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Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device and its manufacturing method wherein work of a substrate which uses tape base substance is standardized, failure due to bending of a lead is reduced, and a product of a narrow pad pitch can be realized. SOLUTION: A semiconductor device of a T-TFBGA package using a COF structure consists of a substrate 1 wherein a wiring layer is formed on the tape base substance 5, a chip 2 mounted on a surface of the substrate 1, sealing agent 3 for sealing a connection part between the chip 2 and the substrate 1, external terminals 4 mounted on the back of the substrate 1, etc. In a package structure, a wiring pattern 6 on the tape base substance 5 of the substrate 1 and the chip 2 mounted on the substrate 1, and the external terminals 4 of the package are positioned on the opposite sides interposing the tape base substance 5 of the substrate 1. As a result, device holes of the tape base substance 5 are unnecessary, and a lead part 7 of the substrate 1 which is connected with an electrode 11 of the chip 2 by using a wiring is fixed on the tape base substance 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
その製造技術に関し、たとえばCOF(ChipOn
Film)構造を用いたT−TFBGA(Tape−T
hin Finepitch Ball Grid A
rray)パッケージなどに好適な半導体装置およびそ
の製造方法に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing technique thereof, for example, a COF (ChipOn).
T-TFBGA (Tape-T) using a (Film) structure
Hin Finepitch Ball Grid A
The present invention relates to a semiconductor device suitable for a package and the like and a technique effective when applied to a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討した技術として、たとえ
ばT−TFBGAパッケージは、TAB(Tape A
utomated Bonding)方式を用いてチッ
プを搭載し、搭載されるチップの外側にパッケージの外
部端子であるはんだボールが配設されたパッケージ構造
となっている。このTAB方式において、主要部材であ
るポリイミドテープは、(1)チップを搭載するための
デバイスホールを空けており、(2)チップと外部端子
間の配線はテープ上に施した銅箔をエッチングにより配
線パターンおよびはんだボールを搭載するランドを形成
している。
2. Description of the Related Art As a technique studied by the present inventors, for example, a T-TFBGA package is a TAB (Tape A).
The package structure is such that a chip is mounted using an automated bonding method and solder balls, which are external terminals of the package, are provided outside the mounted chip. In this TAB method, the polyimide tape as a main member has (1) a device hole for mounting a chip, and (2) a wiring between the chip and external terminals is formed by etching a copper foil provided on the tape. A land for mounting the wiring pattern and the solder ball is formed.

【0003】なお、このようなTAB方式のパッケージ
に関する技術としては、たとえば2000年7月28
日、株式会社工業調査会発行、社団法人エレクトロニク
ス実装学会編の「エレクトロニクス実装大事典」P59
1〜P594に記載される技術などが挙げられる。
[0003] As a technology relating to such a TAB package, for example, July 28, 2000
Published by Japan Industrial Research Institute, Inc., Japan Electronics Packaging Association, edited by "Electronics Packaging Encyclopedia" P59
1 to P594.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
なTAB方式のパッケージの技術について、本発明者が
検討した結果、以下のようなことが明らかとなった。
The inventors of the present invention have studied the technology of the TAB type package as described above, and as a result, the following has become clear.

【0005】(1)TAB構造を用いたT−TFBGA
パッケージは、主要部材であるポリイミドテープに製品
チップサイズ毎に、製品を搭載するためのデバイスホー
ルを設ける必要があるため、製品毎にこのテープの打ち
抜き金型を製作する必要がある。
(1) T-TFBGA using TAB structure
In the package, it is necessary to provide a device hole for mounting a product for each product chip size on a polyimide tape, which is a main member, and it is necessary to manufacture a die for punching this tape for each product.

【0006】(2)製品チップのパッドピッチが狭ピッ
チの場合、TAB構造を用いたT−TFBGAパッケー
ジは、インナーリードがデバイスホール内に突出してい
るため、リード曲がりによる不良が発生し易くなる。
(2) When the pad pitch of the product chip is narrow, the T-TFBGA package using the TAB structure easily causes a defect due to lead bending since the inner lead protrudes into the device hole.

【0007】(3)TAB構造を用いたT−TFBGA
パッケージは、搭載チップの外側にしかパッケージの外
部端子を整列できないため、この外部端子の最大数に限
界がある。
(3) T-TFBGA using TAB structure
Since the package can arrange the external terminals of the package only outside the mounted chip, the maximum number of the external terminals is limited.

【0008】そこで、本発明の目的は、たとえばCOF
構造を用いたT−TFBGAパッケージなどに適用し、
テープ基材による基板の加工の標準化を図り、リード曲
がりによる不良を低減して、狭パッドピッチの製品化を
実現することができる半導体装置およびその製造方法を
提供するものである。
Therefore, an object of the present invention is to provide, for example, COF
Apply to T-TFBGA package using structure
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of standardizing the processing of a substrate using a tape base material, reducing defects due to lead bending, and realizing a product with a narrow pad pitch, and a method of manufacturing the same.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明による半導体装置は、テ
ープ基材の表面上に配線層が形成され、この配線層の配
線パターンの両端にリード部とランド部が設けられ、こ
のランド部が裏面側に露出するようにテープ基材に開口
部が形成されている基板と、この基板の表面上にフェイ
スダウンで搭載され、表面上に所定の集積回路に接続さ
れた電極部が設けられ、この電極部がリード部に接続さ
れるチップと、このチップの電極部と基板のリード部と
の接続部分を封止する封止材と、基板の裏面上に搭載さ
れ、開口部を通じてランド部に接続される外部端子とを
有するものである。
That is, in the semiconductor device according to the present invention, a wiring layer is formed on the surface of a tape base material, and a lead portion and a land portion are provided at both ends of a wiring pattern of the wiring layer. A substrate having an opening formed in the tape base so as to be exposed, and an electrode portion mounted face-down on the surface of the substrate and connected to a predetermined integrated circuit on the surface; Is connected to the lead portion, a sealing material for sealing a connection portion between the electrode portion of the chip and the lead portion of the substrate, and mounted on the back surface of the substrate and connected to the land portion through the opening. And an external terminal.

【0012】前記半導体装置において、外部端子は、基
板の裏面上の、チップの搭載領域の外側、あるいは外側
および内側に搭載されているものである。また、基板の
表面上には、複数のチップが搭載されているものであ
る。
In the semiconductor device, the external terminals are mounted on the back surface of the substrate, outside the chip mounting area, or outside and inside. A plurality of chips are mounted on the surface of the substrate.

【0013】また、本発明による半導体装置の製造方法
は、テープ基材の表面上に配線層が形成され、この配線
層の配線パターンの両端にリード部とランド部が設けら
れ、このランド部が裏面側に露出するようにテープ基材
に開口部が形成されている基板の表面上に、表面上に所
定の集積回路に接続された電極部が設けられた1つまた
は複数のチップを、このチップの電極部がリード部に接
続されるようにフェイスダウンで搭載し、1つまたは複
数のチップの電極部と基板のリード部との接続部分を封
止材により封止し、基板の裏面上に、開口部を通じてラ
ンド部に接続されるように外部端子を搭載する、各工程
を有するものである。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a wiring layer is formed on a surface of a tape base material, and a lead portion and a land portion are provided at both ends of a wiring pattern of the wiring layer. One or a plurality of chips provided with an electrode portion connected to a predetermined integrated circuit on the surface are formed on a surface of a substrate in which an opening is formed in a tape base so as to be exposed on the back surface side. The chip electrode is mounted face-down so that it is connected to the lead, the connection between the electrode of one or more chips and the lead of the substrate is sealed with a sealing material, And mounting an external terminal so as to be connected to the land through the opening.

【0014】よって、前記半導体装置およびその製造方
法によれば、基板のテープ基材上の配線層およびこの基
板上に搭載されるチップとパッケージの外部端子は基板
のテープ基材を挟んで反対側に位置したパッケージ構造
となるので、テープ基材のデバイスホールを必要としな
いため、基板の加工の標準化を図ることができる。ま
た、チップの電極部と結線する基板のリード部がテープ
基材上に固定されているため、リード曲がりによる不良
を低減することができる。さらに、パッケージの外部端
子は、テープ基材を挟んでチップと反対側に位置してい
るため、搭載されるチップの内側領域にも外部端子を搭
載することができる。
Therefore, according to the semiconductor device and the method of manufacturing the same, the wiring layer on the tape base of the substrate, the chip mounted on the substrate, and the external terminals of the package are on opposite sides of the tape base of the substrate. , The device hole of the tape substrate is not required, and the standardization of the substrate processing can be achieved. Further, since the lead portion of the substrate connected to the electrode portion of the chip is fixed on the tape base, it is possible to reduce defects due to lead bending. Further, since the external terminals of the package are located on the opposite side of the chip with the tape base material interposed therebetween, the external terminals can be mounted on the inner region of the mounted chip.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一部材には同一の符号を付
し、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, the same members are denoted by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.

【0016】(実施の形態1)まず、図1〜図4によ
り、本実施の形態の半導体装置の一例の構成を説明す
る。図1は本実施の形態の半導体装置を示す平面図、図
2は半導体装置を示す底面図、図3は半導体装置を示す
断面図、図4は図3の要部(X部)を示す拡大断面図で
ある。
(Embodiment 1) First, the configuration of an example of the semiconductor device of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 is a plan view showing a semiconductor device of the present embodiment, FIG. 2 is a bottom view showing the semiconductor device, FIG. 3 is a cross-sectional view showing the semiconductor device, and FIG. 4 is an enlarged view showing a main part (X part) of FIG. It is sectional drawing.

【0017】本実施の形態の半導体装置は、たとえばC
OF構造を用いたT−TFBGAパッケージの半導体装
置とされ、テープ基材上に配線層が形成された基板1
と、この基板1の表面上に搭載されるチップ2と、この
チップ2と基板1との接続部分を封止する封止材3と、
基板1の裏面上に搭載される外部端子4などから構成さ
れている。
The semiconductor device according to the present embodiment has a C
Substrate 1 having a T-TFBGA package semiconductor device using an OF structure and having a wiring layer formed on a tape base material
A chip 2 mounted on the surface of the substrate 1, a sealing material 3 for sealing a connection portion between the chip 2 and the substrate 1,
It comprises external terminals 4 mounted on the back surface of the substrate 1 and the like.

【0018】基板1は、テープ基材5の表面上に配線層
が形成され、この配線層の各配線パターン6の両端にリ
ード部7とランド部8が設けられ、このランド部8が裏
面側に露出するようにテープ基材5に開口部9が形成さ
れている。この基板1の表面上の配線パターン6は、リ
ード部7を除いてソルダーレジスト10で覆われてい
る。この基板1は、たとえばテープ基材5がポリイミド
樹脂、配線パターン6が銅(Cu)箔などからなる。
In the substrate 1, a wiring layer is formed on the surface of a tape base material 5, and a lead portion 7 and a land portion 8 are provided at both ends of each wiring pattern 6 of the wiring layer. An opening 9 is formed in the tape base 5 so as to be exposed to the outside. The wiring pattern 6 on the surface of the substrate 1 is covered with a solder resist 10 except for the lead portions 7. In the substrate 1, for example, the tape base 5 is made of a polyimide resin, and the wiring pattern 6 is made of a copper (Cu) foil.

【0019】チップ2は、表面上に、たとえばASI
C、マイクロコンピュータ、メモリなどの所定の集積回
路に接続された電極部11が設けられている。このチッ
プ2は、基板1の表面上にフェイスダウンで搭載され、
電極部11が基板1のリード部7に電気的に接続され
る。このチップ2は、たとえば電極部11が金(Au)
バンプなどからなる。
The chip 2 has, for example, an ASI
An electrode unit 11 connected to a predetermined integrated circuit such as a microcomputer, a microcomputer, and a memory is provided. This chip 2 is mounted face down on the surface of the substrate 1,
The electrode section 11 is electrically connected to the lead section 7 of the substrate 1. The chip 2 has, for example, a gold (Au) electrode portion 11.
It consists of bumps and the like.

【0020】封止材3は、チップ2の電極部11と基板
1のリード部7との接続部分を封止する、たとえばポリ
イミド樹脂などからなる。
The sealing material 3 is made of, for example, a polyimide resin for sealing a connection portion between the electrode portion 11 of the chip 2 and the lead portion 7 of the substrate 1.

【0021】外部端子4は、基板1の裏面上に搭載さ
れ、この基板1のテープ基材5の開口部9を通じてラン
ド部8に電気的に接続される、たとえばすず(Sn)/
鉛(Pb)や鉛フリーなどのはんだボールからなる。
The external terminal 4 is mounted on the back surface of the substrate 1 and is electrically connected to the land 8 through the opening 9 of the tape base 5 of the substrate 1, for example, tin (Sn) /
It is made of a solder ball of lead (Pb) or lead-free.

【0022】以上のように構成されるT−TFBGAパ
ッケージの半導体装置は、外部端子4がチップ2の搭載
領域の外側に2列で配列されている。また、テープ基材
5からなる基板1の変形を防ぐために、基板1の表面上
に補強枠12が貼り付けられている。
In the semiconductor device of the T-TFBGA package configured as described above, the external terminals 4 are arranged in two rows outside the mounting area of the chip 2. Further, in order to prevent deformation of the substrate 1 made of the tape base material 5, a reinforcing frame 12 is attached on the surface of the substrate 1.

【0023】次に、図5および図6により、前記基板の
材料となるテープ部材の一例を説明する。図5は基板の
テープ部材を示す平面図、図6は基板のテープ部材を示
す断面図(図5のa−a’切断線)である。
Next, referring to FIGS. 5 and 6, an example of a tape member used as a material of the substrate will be described. FIG. 5 is a plan view showing the tape member of the substrate, and FIG. 6 is a cross-sectional view (a-a ′ cutting line in FIG. 5) showing the tape member of the substrate.

【0024】テープ部材は、たとえば複数のパッケージ
に対応するために一連につながれてリール状に巻かれて
いたり、あるいは複数個単位で短冊状に形成されてい
る。図5および図6は、1個のパッケージに相当する基
板1の部分を示している。
The tape member is connected in series and wound in a reel shape, for example, in order to accommodate a plurality of packages, or is formed in a strip shape in a plurality of units. 5 and 6 show a portion of the substrate 1 corresponding to one package.

【0025】このテープ部材は、主要部材が、たとえば
ポリイミド樹脂などのテープ基材5からなり、この表面
上に、たとえば銅(Cu)箔などからなる複数の配線パ
ターン6が形成されている。この各配線パターン6の両
端には、チップ2の電極部11に接続されるリード部7
と、テープ基材5の開口部9を通じて外部端子4に接続
されるランド部8が設けられている。さらに、この各配
線パターン6は、リード部7を除いてソルダーレジスト
10で覆われている。また、テープ部材の両側には、搬
送の際に挿入されるスプロケットホール13が設けられ
ている。なお、このテープ部材にはデバイスホールが設
けられていない。
The main member of this tape member is a tape base material 5 made of, for example, a polyimide resin, and a plurality of wiring patterns 6 made of, for example, copper (Cu) foil are formed on the surface thereof. At both ends of each wiring pattern 6, a lead portion 7 connected to the electrode portion 11 of the chip 2 is provided.
And a land 8 connected to the external terminal 4 through the opening 9 of the tape base 5. Further, each wiring pattern 6 is covered with a solder resist 10 except for the lead portion 7. Further, on both sides of the tape member, sprocket holes 13 to be inserted at the time of conveyance are provided. The tape member has no device hole.

【0026】次に、図7により、前記T−TFBGAパ
ッケージの半導体装置を実装基板に実装した場合の一例
を説明する。図7は半導体装置を実装基板に実装した状
態を示す側面図である。
Next, an example in which the semiconductor device of the T-TFBGA package is mounted on a mounting board will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a side view showing a state where the semiconductor device is mounted on a mounting board.

【0027】T−TFBGAパッケージの半導体装置
は、たとえば多層配線層構造の実装基板14に、他の半
導体装置、電子部品などとともに実装されて、たとえば
コンピュータなどの装置に収納されて使用される。
The semiconductor device of the T-TFBGA package is mounted on, for example, a mounting board 14 having a multilayer wiring layer structure together with other semiconductor devices and electronic components, and is housed in a device such as a computer for use.

【0028】次に、図8および図9により、本実施の形
態のT−TFBGAパッケージの半導体装置の製造方法
を説明する。図8および図9において、左側の図は製造
方法の各製造工程を示すフロー図、右側の図は各製造工
程に対応する半導体装置を示す断面図である。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device of a T-TFBGA package according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 8 and 9, the left-side diagrams are flow charts showing respective manufacturing steps of the manufacturing method, and the right-side figures are cross-sectional views showing semiconductor devices corresponding to the respective manufacturing steps.

【0029】この半導体装置の製造に先立って、まず準
備段階として、T−TFBGAパッケージの半導体装置
の製造に必要な、前述した基板1の材料となるテープ部
材、チップ2、封止材3、外部端子4となるはんだボー
ル、補強枠12などを用意する。
Prior to the manufacture of the semiconductor device, as a preparatory step, a tape member, a chip 2, a sealing material 3, and an external material, which are necessary for the manufacture of a T-TFBGA package semiconductor device and serve as a material of the substrate 1, are provided. A solder ball serving as the terminal 4 and a reinforcing frame 12 are prepared.

【0030】(1)チップ搭載工程(ステップS1)に
おいて、テープ部材の1個のパッケージに相当する基板
1の表面上に、各チップ2を、このチップ2の電極部1
1が基板1のリード部7に接続されるようにフェイスダ
ウンで搭載する。
(1) In the chip mounting step (step S1), each chip 2 is placed on the surface of the substrate 1 corresponding to one package of the tape member, and the electrode portion 1 of the chip 2
1 is mounted face down so as to be connected to the lead portion 7 of the substrate 1.

【0031】(2)封止工程(ステップS2)におい
て、各チップ2の電極部11と基板1のリード部7との
接続部分を封止材3により封止する。
(2) In the sealing step (step S2), the connection between the electrode portion 11 of each chip 2 and the lead portion 7 of the substrate 1 is sealed with the sealing material 3.

【0032】(3)枠貼り付け工程(ステップS3)に
おいて、基板1の表面上に補強枠12を貼り付ける。こ
の枠貼り付け工程は、チップ搭載工程の前に行うことも
可能である。
(3) In the frame attaching step (step S3), the reinforcing frame 12 is attached on the surface of the substrate 1. This frame attaching step can be performed before the chip mounting step.

【0033】(4)ボール搭載工程(ステップS4)に
おいて、基板1の裏面上に、この基板1のテープ基材5
の開口部9を通じてランド部8に接続されるように外部
端子4となるはんだボールを搭載する。
(4) In the ball mounting step (step S4), the tape base material 5 of the substrate 1
A solder ball to be the external terminal 4 is mounted so as to be connected to the land portion 8 through the opening 9 of FIG.

【0034】(5)テープ切断工程(ステップS5)に
おいて、チップ2が搭載され、封止材3により封止さ
れ、補強枠12が貼り付けられ、外部端子4が搭載され
たテープ部材の基板1を、1個のパッケージ毎に切断す
る。
(5) In the tape cutting step (step S5), the chip 2 is mounted, sealed with the sealing material 3, the reinforcing frame 12 is attached, and the tape member substrate 1 on which the external terminals 4 are mounted. Is cut for each package.

【0035】これにより、T−TFBGAパッケージの
半導体装置が完成する。この半導体装置は、チップ2の
内部の集積回路の各端子から電極部11を通じ、さらに
基板1のリード部7、配線パターン6、ランド部8を通
じて、はんだボールの外部端子4まで電気的に導通され
る。
Thus, the semiconductor device of the T-TFBGA package is completed. In this semiconductor device, each terminal of the integrated circuit inside the chip 2 is electrically connected to the external terminal 4 of the solder ball through the electrode portion 11 and further through the lead portion 7, the wiring pattern 6, and the land portion 8 of the substrate 1. You.

【0036】従って、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、基板1のテープ基材5上の配線パターン6およびこ
の基板1上に搭載されるチップ2とパッケージの外部端
子4は基板1のテープ基材5を挟んで反対側に位置した
パッケージ構造となるので、テープ基材5のデバイスホ
ールを必要としないため、基板1の加工の標準化が図れ
る。また、チップ2の電極部11と結線する基板1のリ
ード部7がテープ基材5上に固定されているため、リー
ド曲がりによる不良が低減できる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, the wiring pattern 6 on the tape base material 5 of the substrate 1, the chip 2 mounted on the substrate 1, and the external terminals 4 of the package are formed on the tape of the substrate 1. Since the package structure is located on the opposite side with respect to the base member 5, no device hole of the tape base member 5 is required, so that the processing of the substrate 1 can be standardized. Further, since the lead portions 7 of the substrate 1 connected to the electrode portions 11 of the chip 2 are fixed on the tape base 5, defects due to lead bending can be reduced.

【0037】(実施の形態2)まず、図10〜図13に
より、本実施の形態の半導体装置の一例の構成を説明す
る。図10は本実施の形態の半導体装置を示す平面図、
図11は半導体装置を示す底面図、図12は半導体装置
を示す断面図、図13は図12の要部(Y部)を示す拡
大断面図である。
(Embodiment 2) First, the configuration of an example of the semiconductor device of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a plan view showing a semiconductor device of this embodiment,
11 is a bottom view showing the semiconductor device, FIG. 12 is a sectional view showing the semiconductor device, and FIG. 13 is an enlarged sectional view showing a main part (Y part) of FIG.

【0038】本実施の形態の半導体装置は、前記実施の
形態1と同様に、たとえばCOF構造を用いたT−TF
BGAパッケージの半導体装置とされ、前記実施の形態
1との相違点は、外部端子を基板の裏面上の、チップの
搭載領域の外側および内側に搭載するようにした点であ
る。
As in the first embodiment, the semiconductor device according to the present embodiment is, for example, a T-TF having a COF structure.
The semiconductor device is a BGA package semiconductor device, and differs from the first embodiment in that external terminals are mounted on the back surface of the substrate outside and inside the chip mounting region.

【0039】すなわち、本実施の形態の半導体装置は、
テープ基材上に配線層が形成された基板1aと、この基
板1aの表面上に搭載されるチップ2と、このチップ2
と基板1aとの接続部分を封止する封止材3と、基板1
aの裏面上に搭載される外部端子4,4aなどから構成
され、外部端子4が前記実施の形態1と同様にチップ2
の搭載領域の外側に2列で配列され、新たに外部端子4
aがチップ2の搭載領域の内側に1列で配列されてい
る。
That is, the semiconductor device of this embodiment is
A substrate 1a having a wiring layer formed on a tape substrate, a chip 2 mounted on the surface of the substrate 1a,
Encapsulating material 3 for sealing a connection portion between the substrate 1a and the substrate 1a;
a of the chip 2 as in the first embodiment.
Are arranged in two rows outside the mounting area of
a are arranged in one line inside the mounting area of the chip 2.

【0040】次に、図14および図15により、前記基
板の材料となるテープ部材の一例を説明する。図14は
基板のテープ部材を示す平面図、図15は基板のテープ
部材を示す断面図(図14のb−b’切断線)である。
Next, an example of a tape member used as a material of the substrate will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a plan view showing the tape member of the substrate, and FIG. 15 is a cross-sectional view (section line bb 'in FIG. 14) showing the tape member of the substrate.

【0041】テープ部材は、前記実施の形態1と同様
に、主要部材が、たとえばポリイミド樹脂などのテープ
基材5aからなり、この表面上に、たとえば銅(Cu)
箔などからなる複数の配線パターン6,6aが形成され
ている。この各配線パターン6,6aの両端には、チッ
プ2の電極部11に接続されるリード部7,7aと、テ
ープ基材5aの開口部9,9aを通じて外部端子4,4
aに接続されるランド部8,8aが設けられている。
As in the first embodiment, the main member of the tape member is made of a tape base material 5a made of, for example, a polyimide resin, and copper (Cu) is formed on the surface thereof.
A plurality of wiring patterns 6, 6a made of foil or the like are formed. At both ends of each of the wiring patterns 6 and 6a, lead terminals 7 and 7a connected to the electrode unit 11 of the chip 2 and external terminals 4 and 4 through openings 9 and 9a of the tape base 5a.
Land portions 8 and 8a connected to a are provided.

【0042】特に、本実施の形態では、各配線パターン
6と、この両端に設けられるリード部7およびランド部
8は、前記実施の形態1と同様にチップ2の搭載領域の
外側に配設されている。新たに、各配線パターン6a
と、この両端に設けられるリード部7aおよびランド部
8aが追加され、これらの各配線パターン6a、リード
部7aおよびランド部8aはチップ2の搭載領域の内側
に配設されている。
Particularly, in the present embodiment, each wiring pattern 6 and the lead portions 7 and the land portions 8 provided at both ends thereof are arranged outside the mounting area of the chip 2 as in the first embodiment. ing. New wiring patterns 6a
In addition, lead portions 7a and land portions 8a provided at both ends are added, and these wiring patterns 6a, lead portions 7a and land portions 8a are arranged inside the mounting area of the chip 2.

【0043】なお、T−TFBGAパッケージの半導体
装置を構成する他の要素の構造や、製造方法などは、前
記実施の形態1と同様であるので、ここでの詳細な説明
は省略する。
The structure and the manufacturing method of the other elements constituting the semiconductor device of the T-TFBGA package are the same as those in the first embodiment, so that the detailed description is omitted here.

【0044】従って、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、前記実施の形態1と同様に、基板1aのテープ基材
5a上の配線パターン6,6aおよびこの基板1a上に
搭載されるチップ2とパッケージの外部端子4,4aは
基板1aのテープ基材5aを挟んで反対側に位置したパ
ッケージ構造となるので、テープ基材5aのデバイスホ
ールを必要としないため、基板1aの加工の標準化が図
れる。また、チップ2の電極部11と結線する基板1a
のリード部7,7aがテープ基材5a上に固定されてい
るため、リード曲がりによる不良が低減できる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, the wiring patterns 6 and 6a on the tape base 5a of the substrate 1a and the chip 2 mounted on the substrate 1a are similar to the first embodiment. And the external terminals 4 and 4a of the package have a package structure located on the opposite side of the substrate 1a with the tape base 5a interposed therebetween, and do not require device holes in the tape base 5a. I can do it. Further, a substrate 1a connected to the electrode portion 11 of the chip 2
Since the lead portions 7, 7a are fixed on the tape base material 5a, defects due to lead bending can be reduced.

【0045】さらに、本実施の形態では、パッケージの
外部端子4,4aは、テープ基材5aを挟んでチップ2
と反対側に位置しているため、搭載されるチップ2の内
側領域にも外部端子4aを搭載できる。
Further, in this embodiment, the external terminals 4 and 4a of the package are connected to the chip 2 with the tape base 5a interposed therebetween.
The external terminals 4a can also be mounted in the area inside the chip 2 to be mounted.

【0046】なお、本実施の形態のように、チップ2の
搭載領域の内側に外部端子4aを搭載する場合には、た
とえば図14に破線で示すように、外部端子4aを電源
(VDD)、グランド(VSS)などの端子に適用し
て、2個あるいはそれ以上のランド部8a間を配線パタ
ーンで接続することも可能である。
When the external terminal 4a is mounted inside the mounting area of the chip 2 as in this embodiment, for example, as shown by a broken line in FIG. 14, the external terminal 4a is connected to a power supply (VDD), By applying to a terminal such as ground (VSS), it is also possible to connect two or more lands 8a with a wiring pattern.

【0047】(実施の形態3)図16により、本実施の
形態の半導体装置の一例の構成を説明する。図16は本
実施の形態の半導体装置を示す断面図である。
(Embodiment 3) The configuration of an example of the semiconductor device of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a sectional view showing the semiconductor device of the present embodiment.

【0048】本実施の形態の半導体装置は、前記実施の
形態1および2と同様に、たとえばCOF構造を用いた
T−TFBGAパッケージの半導体装置とされ、前記実
施の形態1および2との相違点は、基板の表面上に複数
のチップを搭載するようにした点である。
The semiconductor device of the present embodiment is, for example, a semiconductor device of a T-TFBGA package using a COF structure, similar to the first and second embodiments, and is different from the first and second embodiments. Is that a plurality of chips are mounted on the surface of the substrate.

【0049】すなわち、本実施の形態の半導体装置は、
テープ基材上に配線層が形成された基板1bと、この基
板1bの表面上に搭載される、たとえば2個のチップ2
a,2bと、このチップ2a,2bと基板1bとの接続
部分を封止する封止材3と、基板1bの裏面上に搭載さ
れる外部端子4などから構成され、たとえばチップ2a
にはマイクロコンピュータ、チップ2bにはメモリなど
の所定の集積回路が形成されている。
That is, the semiconductor device of this embodiment is
A substrate 1b having a wiring layer formed on a tape base material and, for example, two chips 2 mounted on the surface of the substrate 1b
a, 2b, a sealing material 3 for sealing a connection portion between the chips 2a, 2b and the substrate 1b, an external terminal 4 mounted on the back surface of the substrate 1b, and the like.
A predetermined integrated circuit such as a memory is formed on the chip 2b.

【0050】なお、T−TFBGAパッケージの半導体
装置を構成する他の要素の構造や、製造方法などは、前
記実施の形態1と同様であるので、ここでの詳細な説明
は省略する。
The structure and the manufacturing method of the other elements constituting the semiconductor device of the T-TFBGA package are the same as those in the first embodiment, and the detailed description is omitted here.

【0051】従って、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、前記実施の形態1および2と同様に、基板1bのテ
ープ基材5b上の配線パターン6bおよびこの基板1b
上に搭載されるチップ2a,2bとパッケージの外部端
子4は基板1bのテープ基材5bを挟んで反対側に位置
したパッケージ構造となるので、テープ基材5bのデバ
イスホールを必要としないため、基板1bの加工の標準
化が図れる。また、チップ2a,2bの電極部と結線す
る基板1bのリード部がテープ基材5b上に固定されて
いるため、リード曲がりによる不良が低減できる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, similarly to the first and second embodiments, the wiring pattern 6b on the tape base 5b of the substrate 1b and the wiring pattern 6b of the substrate 1b
Since the chips 2a and 2b mounted thereon and the external terminals 4 of the package have a package structure located on the opposite side of the substrate 1b with the tape base 5b interposed therebetween, the device holes of the tape base 5b are not required. Standardization of the processing of the substrate 1b can be achieved. Further, since the leads of the substrate 1b connected to the electrodes of the chips 2a and 2b are fixed on the tape base 5b, defects due to lead bending can be reduced.

【0052】なお、本実施の形態においても、前記実施
の形態2と同様に、パッケージの外部端子4は、テープ
基材5bを挟んでチップ2a,2bと反対側に位置して
いるため、搭載されるチップ2a,2bの内側領域にも
外部端子を搭載することが可能である。
In this embodiment, as in the second embodiment, the external terminals 4 of the package are located on the opposite side of the chips 2a and 2b with the tape base 5b interposed therebetween. External terminals can also be mounted on the inner regions of the chips 2a and 2b.

【0053】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0054】たとえば、前記実施の形態においては、C
OF構造を用いたT−TFBGAパッケージの半導体装
置を例に説明したが、これに限定されるものではなく、
テープ基材からなる基板を用いたCOF構造のパッケー
ジ全般に広く適用可能であり、基板のテープ基材上の配
線パターンおよびこの基板上に搭載されるチップとパッ
ケージの外部端子が基板のテープ基材を挟んで反対側に
位置したパッケージ構造であればよい。
For example, in the above embodiment, C
The semiconductor device of the T-TFBGA package using the OF structure has been described as an example, but is not limited thereto.
It can be widely applied to all packages with COF structure using a substrate made of a tape substrate, and the wiring pattern on the tape substrate of the substrate and the external terminals of the chip and package mounted on this substrate are the tape substrate of the substrate What is necessary is just a package structure located on the opposite side with respect to.

【0055】[0055]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0056】(1)基板のテープ基材上の配線パターン
およびこの基板上に搭載されるチップと半導体装置の外
部端子は基板のテープ基材を挟んで反対側に位置した構
造となり、テープ基材のデバイスホールを必要としない
ので、基板の加工の標準化を図ることが可能となる。
(1) The wiring pattern on the tape base material of the substrate and the chip mounted on the substrate and the external terminals of the semiconductor device have a structure located on the opposite side of the substrate with the tape base material interposed therebetween. Since no device hole is required, standardization of substrate processing can be achieved.

【0057】(2)チップの電極部と結線する基板のリ
ード部がテープ基材上に固定されているので、リード曲
がりによる不良を低減することが可能となる。
(2) Since the lead of the substrate connected to the electrode of the chip is fixed on the tape base material, it is possible to reduce defects due to lead bending.

【0058】(3)半導体装置の外部端子は、テープ基
材を挟んでチップと反対側に位置しているので、搭載さ
れるチップの内側領域にも外部端子を搭載することが可
能となる。
(3) Since the external terminals of the semiconductor device are located on the opposite side of the chip with the tape base material interposed therebetween, it is possible to mount the external terminals also in a region inside the mounted chip.

【0059】(4)前記(1)により、テープの加工の
標準化を図ることができるので、テープ加工費の低減が
可能となる。
(4) According to the above (1), standardization of tape processing can be achieved, so that tape processing costs can be reduced.

【0060】(5)前記(2)により、リード曲がりに
よる不良を低減することができるので、テープ歩留まり
および組み立て歩留まりの向上が可能となる。
(5) According to the above (2), defects due to lead bending can be reduced, so that the tape yield and the assembly yield can be improved.

【0061】(6)前記(2)により、リード曲がりに
よる不良を低減することができるので、狭パッドピッチ
の製品化が可能となる。
(6) According to the above (2), defects due to lead bending can be reduced, so that a product with a narrow pad pitch can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の半導体装置を示す平面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1の半導体装置を示す底面
図である。
FIG. 2 is a bottom view illustrating the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;

【図3】本発明の実施の形態1の半導体装置を示す断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view showing the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;

【図4】本発明の実施の形態1の半導体装置において、
図3の要部(X部)を示す拡大断面図である。
FIG. 4 shows a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 4 is an enlarged sectional view showing a main part (X part) of FIG. 3.

【図5】本発明の実施の形態1の半導体装置において、
基板のテープ部材を示す平面図である。
FIG. 5 shows a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.
It is a top view showing the tape member of a substrate.

【図6】本発明の実施の形態1の半導体装置において、
図5のa−a’切断線に沿って切断した基板のテープ部
材を示す断面図である。
FIG. 6 shows a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the tape member of the substrate cut along the cutting line aa ′ in FIG. 5.

【図7】本発明の実施の形態1の半導体装置を実装基板
に実装した状態を示す側面図である。
FIG. 7 is a side view showing a state where the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention is mounted on a mounting board.

【図8】本発明の実施の形態1の半導体装置の製造方法
を示すフロー図である。
FIG. 8 is a flowchart showing a method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態1の半導体装置の製造方法
(図8に続く)を示すフロー図である。
FIG. 9 is a flowchart showing a method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention (following FIG. 8).

【図10】本発明の実施の形態2の半導体装置を示す平
面図である。
FIG. 10 is a plan view showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態2の半導体装置を示す底
面図である。
FIG. 11 is a bottom view showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態2の半導体装置を示す断
面図である。
FIG. 12 is a sectional view showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図13】本発明の実施の形態2の半導体装置におい
て、図12の要部(Y部)を示す拡大断面図である。
FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view illustrating a main part (Y part) of FIG. 12 in the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention;

【図14】本発明の実施の形態2の半導体装置におい
て、基板のテープ部材を示す平面図である。
FIG. 14 is a plan view showing a tape member of a substrate in the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention;

【図15】本発明の実施の形態2の半導体装置におい
て、図14のb−b’切断線に沿って切断した基板のテ
ープ部材を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the tape member of the substrate, cut along the line bb ′ in FIG. 14, in the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention;

【図16】本発明の実施の形態3の半導体装置を示す断
面図である。
FIG. 16 is a sectional view showing a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a,1b 基板 2,2a,2b チップ 3 封止材 4,4a 外部端子 5,5a,5b テープ基材 6,6a,6b 配線パターン 7,7a リード部 8,8a ランド部 9,9a 開口部 10 ソルダーレジスト 11 電極部 12 補強枠 13 スプロケットホール 14 実装基板 1, 1a, 1b substrate 2, 2a, 2b chip 3 sealing material 4, 4a external terminal 5, 5a, 5b tape base material 6, 6a, 6b wiring pattern 7, 7a lead portion 8, 8a land portion 9, 9a opening Part 10 Solder resist 11 Electrode part 12 Reinforcement frame 13 Sprocket hole 14 Mounting board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市原 誠一 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 Fターム(参考) 5F044 KK03 LL00 MM03 MM08 MM16 MM48 RR18  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Seiichi Ichihara 5-22-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo F-term in Hitachi Super LSI Systems Co., Ltd. 5F044 KK03 LL00 MM03 MM08 MM16 MM48 RR18

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テープ基材の表面上に配線層が形成さ
れ、この配線層の配線パターンの両端にリード部とラン
ド部が設けられ、このランド部が裏面側に露出するよう
に前記テープ基材に開口部が形成されている基板と、 前記基板の表面上にフェイスダウンで搭載され、表面上
に所定の集積回路に接続された電極部が設けられ、この
電極部が前記リード部に接続されるチップと、 前記チップの電極部と前記基板のリード部との接続部分
を封止する封止材と、 前記基板の裏面上に搭載され、前記開口部を通じて前記
ランド部に接続される外部端子とを有することを特徴と
する半導体装置。
1. A wiring layer is formed on a surface of a tape base material, and a lead portion and a land portion are provided at both ends of a wiring pattern of the wiring layer, and the tape base is exposed such that the land portion is exposed on the back surface side. A substrate having an opening formed in the material; and an electrode portion mounted face-down on the surface of the substrate and connected to a predetermined integrated circuit on the surface, and the electrode portion is connected to the lead portion. A chip to be sealed, a sealing material for sealing a connection portion between an electrode portion of the chip and a lead portion of the substrate, and an external device mounted on a back surface of the substrate and connected to the land portion through the opening. A semiconductor device having a terminal.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置であって、 前記外部端子は、前記基板の裏面上の、前記チップの搭
載領域の外側に搭載されていることを特徴とする半導体
装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the external terminal is mounted on a rear surface of the substrate and outside a mounting region of the chip.
【請求項3】 請求項1記載の半導体装置であって、 前記外部端子は、前記基板の裏面上の、前記チップの搭
載領域の外側および内側に搭載されていることを特徴と
する半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein said external terminals are mounted on a back surface of said substrate, outside and inside a mounting region of said chip.
【請求項4】 請求項1記載の半導体装置であって、 前記基板の表面上には、複数のチップが搭載されている
ことを特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of chips are mounted on a surface of said substrate.
【請求項5】 テープ基材の表面上に配線層が形成さ
れ、この配線層の配線パターンの両端にリード部とラン
ド部が設けられ、このランド部が裏面側に露出するよう
に前記テープ基材に開口部が形成されている基板の表面
上に、表面上に所定の集積回路に接続された電極部が設
けられた1つまたは複数のチップを、このチップの電極
部が前記リード部に接続されるようにフェイスダウンで
搭載する工程と、 前記1つまたは複数のチップの電極部と前記基板のリー
ド部との接続部分を封止材により封止する工程と、 前記基板の裏面上に、前記開口部を通じて前記ランド部
に接続されるように外部端子を搭載する工程とを有する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
5. A wiring layer is formed on a surface of a tape base material, and a lead portion and a land portion are provided at both ends of a wiring pattern of the wiring layer, and the tape base is exposed such that the land portion is exposed on the back surface side. One or a plurality of chips provided with an electrode portion connected to a predetermined integrated circuit on the surface of a substrate having an opening formed in a material, and the electrode portion of the chip is connected to the lead portion. A step of mounting face-down so as to be connected; a step of sealing a connection portion between the electrode portion of the one or more chips and the lead portion of the substrate with a sealing material; Mounting an external terminal so as to be connected to the land through the opening.
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