JP2002157725A - Method for manufacturing wireless suspension blank - Google Patents

Method for manufacturing wireless suspension blank

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JP2002157725A
JP2002157725A JP2000348793A JP2000348793A JP2002157725A JP 2002157725 A JP2002157725 A JP 2002157725A JP 2000348793 A JP2000348793 A JP 2000348793A JP 2000348793 A JP2000348793 A JP 2000348793A JP 2002157725 A JP2002157725 A JP 2002157725A
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layer
insulating layer
conductive layer
adhesive strength
conductive
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Japanese (ja)
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Takeshi Yamazaki
剛 山崎
Atsushi Kobayashi
厚志 小林
Kazuo Umeda
和夫 梅田
Masaru Sasaki
賢 佐々木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a wireless suspension blank which is bonded to an insulating layer with high adhesion strength and with excellent workability at low cost while solving the conventional problem. SOLUTION: The method for manufacturing the suspension blank uses a laminated body having a three-layer construction wherein a metal layer developing a spring characteristic and a conductive layer are laminated via an electrically insulating layer consisting of polyimide resin. The insulating layer is formed by using a laminated body constituted of a core insulating layer and adhesive material layers laminated on the both surfaces thereof. A stage for inspecting the adhesion strength of each layer of the laminated body, a stage for working the metal layer and a stage for working the conductive layer to form a wiring part are included in the method for manufacturing the suspension blank.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バネ特性を発現さ
せる金属層と、ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層
を介して導電層が積層された3層構成の積層体を用い
て、データストレージ機器であるハードディスクドライ
ブ(以下、HDDと呼ぶ)等で用いるワイヤレスサスペ
ンションブランクの製造方法に関する発明である。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a data structure using a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. The present invention relates to a method for manufacturing a wireless suspension blank used in a storage device such as a hard disk drive (hereinafter, referred to as an HDD).

【0002】特に、前記絶縁層がコア絶縁層とその両面
に積層された接着材料層から構成された積層体を用いて
おり、前記積層体の各層の接着強度を検査する工程と、
前記金属層を加工する工程と、前記導電層を加工し配線
部を形成する工程と、電気絶縁材料をウェットエッチン
グにより加工する工程を含むことを特徴とするワイヤレ
スサスペンションブランクの製造方法に関する発明であ
る。
In particular, a step of using a laminate in which the insulating layer is composed of a core insulating layer and an adhesive material layer laminated on both sides thereof, and inspecting the adhesive strength of each layer of the laminate,
The invention relates to a method for manufacturing a wireless suspension blank, including a step of processing the metal layer, a step of processing the conductive layer to form a wiring portion, and a step of processing an electrically insulating material by wet etching. .

【0003】[0003]

【従来の技術】従来の技術としてのHDD用のワイヤレ
スサスペンションブランクの製造方法では、電気絶縁材
料であるポリイミド系樹脂である絶縁層は、プラズマエ
ッチング等のドライエッチングを行って加工していた
為、このドライエッチングによる加工コストは高価であ
るという第1の問題点がある。
2. Description of the Related Art In a conventional method of manufacturing a wireless suspension blank for an HDD, an insulating layer made of a polyimide resin as an electric insulating material is processed by performing dry etching such as plasma etching. There is a first problem that the processing cost by the dry etching is expensive.

【0004】そこで、ポリイミド系樹脂である絶縁層の
加工において、ドライエッチングに代わる低コストなウ
ェットエッチングに着目した。しかしながら、ウェット
エッチングを行う場合、ポリイミド系樹脂である絶縁層
と金属層とが剥離しやすいという第2の問題点があっ
た。これは、HDD用のワイヤレスサスペンションの配
線層では、絶縁層がウェットエッチングされて配線とな
る導電層だけが中に浮く状態の領域があり、配線を安定
して支えるためには十分な密着力が必要となる。
Therefore, in the processing of an insulating layer made of a polyimide resin, attention was paid to low-cost wet etching instead of dry etching. However, when wet etching is performed, there is a second problem that the insulating layer made of a polyimide resin and the metal layer are easily separated. This is because, in the wiring layer of the HDD wireless suspension, there is a region where only the conductive layer serving as the wiring is formed by wet etching of the insulating layer, and sufficient adhesion force is required to stably support the wiring. Required.

【0005】また、前記積層体の各層での熱や湿気等に
よる伸縮率はそれぞれ異なる。このために積層体の各層
が加熱されたり、吸湿したりした場合、金属層、導電
層、絶縁層でのコア絶縁層、又は、コア絶縁層の両面に
積層された接着材料層の各層との間に力が発生し剥離す
る場合もあるであろう。さらに、ポリイミド系樹脂であ
る絶縁層のウェットエッチング特性と、当該絶縁層と金
属層との接着強度とは相反する関係を示す。つまり、良
好なウェットエッチング特性を得ようとすると、接着強
度は弱くなる傾向がある。逆に、接着強度を強くしよう
とすると、良好なウェットエッチング特性が得られない
という現象が発生する。
[0005] The expansion and contraction ratios of the respective layers of the laminate due to heat, moisture and the like are different from each other. For this reason, when each layer of the laminated body is heated or absorbs moisture, the metal layer, the conductive layer, the core insulating layer in the insulating layer, or each layer of the adhesive material layer laminated on both surfaces of the core insulating layer. In some cases, a force may be generated in between, and peeling may occur. Further, the wet etching property of the insulating layer made of a polyimide resin and the adhesive strength between the insulating layer and the metal layer show a conflicting relationship. In other words, when trying to obtain good wet etching characteristics, the adhesive strength tends to be weak. Conversely, when trying to increase the adhesive strength, a phenomenon occurs in which good wet etching characteristics cannot be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点に鑑みてなされたものであって、低コストで、絶
縁層との接着強度の高い高品質な加工ができるワイヤレ
スサスペンションブランクの製造方法を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and is intended to provide a low-cost, high-quality processing of a wireless suspension blank which has a high adhesive strength to an insulating layer. It is intended to provide a manufacturing method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のワイヤレスサス
ペンションブランクの製造方法は、バネ特性を発現させ
る金属層と、ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層を
介して導電層が積層された3層構成の積層体を用いてワ
イヤレスサスペンションブランクを製造する方法であっ
て、前記絶縁層がコア絶縁層とその両面に積層された接
着材料層から構成された積層体を用いており、前記積層
体の各層の接着強度を検査する工程と、前記金属層を加
工する工程と、前記導電層を加工し配線部を形成する工
程と、前記絶縁層をウェットエッチングにより加工する
工程を含むことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a wireless suspension blank, comprising a three-layer structure in which a metal layer exhibiting spring characteristics and a conductive layer are interposed via an electrically insulating layer of a polyimide resin. A method for manufacturing a wireless suspension blank using a laminate having a structure, wherein the insulating layer uses a laminate composed of a core insulating layer and an adhesive material layer laminated on both surfaces thereof, Inspecting the adhesive strength of each layer, processing the metal layer, processing the conductive layer to form a wiring portion, and processing the insulating layer by wet etching. .

【0008】さらに、バネ特性を発現させる金属層と、
ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層
が積層された3層構成の積層体の各層の接着強度を検査
する工程で前記絶縁層と前記導電層との接着強度を検査
することを特徴とする。
Further, a metal layer exhibiting a spring characteristic;
Inspecting the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer in the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layer structure in which the conductive layer is laminated via the electrical insulating layer made of a polyimide resin. It is characterized by.

【0009】さらに、バネ特性を発現させる金属層と、
ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層
が積層された3層構成の積層体の各層の接着強度を検査
する工程で、前記絶縁層と前記導電層とを剥離すること
で検査することを特徴とする。
Further, a metal layer exhibiting spring characteristics;
In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layer laminated body in which the conductive layer is laminated via the electrical insulating layer which is a polyimide resin, the inspection is performed by peeling the insulating layer and the conductive layer. It is characterized by doing.

【0010】さらに、バネ特性を発現させる金属層と、
ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層
が積層された3層構成の積層体の各層の接着強度を検査
する工程で、前記絶縁層と前記導電層との接着強度が
0.6kgf/cm以上の場合に良品と判定することを
特徴とする。
[0010] Further, a metal layer exhibiting spring characteristics;
In the step of examining the adhesive strength of each layer of the three-layered laminate in which the conductive layers are laminated via the electrical insulating layer made of a polyimide resin, the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer is set to 0. It is characterized in that it is determined to be non-defective when it is 6 kgf / cm or more.

【0011】また、バネ特性を発現させる金属層と、ポ
リイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が
積層された3層構成の積層体の各層の接着強度を検査す
る工程で、剥離する導電層の巾を0.2mm以下とする
ことを特徴とする。
[0011] Further, in the step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer laminated body in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin, The width of the conductive layer to be separated is set to 0.2 mm or less.

【0012】また、バネ特性を発現させる金属層と、ポ
リイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が
積層された3層構成の積層体において、前記導電層が銅
材料または銅合金として、当該3層構成の積層体の各層
の接着強度を検査する工程で、前記絶縁層と前記導電層
とを剥離した後、導電層の表面が赤系の色である場合に
良品と判定することを特徴とする。
In a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrical insulating layer of a polyimide resin, the conductive layer is made of a copper material or a copper alloy. In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layered structure, after peeling the insulating layer and the conductive layer, if the surface of the conductive layer has a reddish color, it is determined to be non-defective. It is characterized by the following.

【0013】また、バネ特性を発現させる金属層と、ポ
リイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が
積層された3層構成の積層体において、前記導電層が銅
材料または銅合金として、当該3層構成の積層体の各層
の接着強度を検査する工程で、前記絶縁層と前記導電層
とを剥離した後、導電層の表面が赤系の色であり、前記
絶縁層と前記導電層との接着強度が0.6kgf/cm
以上である場合に良品と判定することを特徴とする。
In a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrical insulating layer of a polyimide resin, the conductive layer is made of a copper material or a copper alloy. In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layer structure, after peeling the insulating layer and the conductive layer, the surface of the conductive layer is reddish color, the insulating layer and the Adhesion strength with conductive layer is 0.6kgf / cm
It is characterized in that it is determined to be a non-defective product when the above is satisfied.

【0014】さらに、バネ特性を発現させる金属層と、
ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層
が積層された3層構成の積層体の各層の接着強度を検査
する工程で、剥離する導電層の巾を0.2mm以下とす
ることを特徴とする。
Further, a metal layer exhibiting spring characteristics;
In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layered laminate in which the conductive layers are laminated via the electrically insulating layer of a polyimide resin, the width of the conductive layer to be peeled is set to 0.2 mm or less. It is characterized by.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の例を
各図を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明の実施の形態の例に係り、
バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミド系樹脂であ
る電気的な絶縁層を介して導電層が積層された3層構成
の積層体を用いて、ワイヤレスサスペンションブランク
を製造する方法の基本的な製造フローの説明図である。
FIG. 1 relates to an embodiment of the present invention.
Basic manufacturing of a method of manufacturing a wireless suspension blank using a three-layered laminated body in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. It is explanatory drawing of a flow.

【0017】ステップ1(S1)は、前記3層構成であ
る積層体の検査工程である。ステップ2(S2)は、バ
ネ特性を発現させる金属層の加工工程である。ステップ
3(S3)は、サスペンションの電気配線部になる導電
層の加工工程である。ステップ4(S4)は、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層の加工工程である。ステ
ップ5(S5)は、前記導電層のめっきを行う導電層め
っき工程である。ステップ6(S6)は、前記配線部の
保護等を行う表面処理工程である。
Step 1 (S1) is an inspection step of the laminate having the three-layer structure. Step 2 (S2) is a step of processing a metal layer that exhibits spring characteristics. Step 3 (S3) is a step of processing a conductive layer to be an electric wiring portion of the suspension. Step 4 (S4) is a step of processing an electrical insulating layer made of a polyimide resin. Step 5 (S5) is a conductive layer plating step of plating the conductive layer. Step 6 (S6) is a surface treatment step for protecting the wiring portion and the like.

【0018】ステップ1(S1)では、バネ特性を発現
させる金属層と、ポリイミド系樹脂である電気的な絶縁
層を介して導電層が積層された3層構成の積層体の接着
強度の検査工程である。ステップ2(S2)では、前記
積層体における金属層として、バネ特性を発現させるス
テンレス(以下SUSと省略する)等の金属層をウェッ
トエッチングにより加工する。ステップ3(S3)で
は、前記積層体における導電層として、サスペンション
の電気配線部になる銅(以下Cuと省略する)、銅合金
等の導電層をウェットエッチングにより加工する。ここ
で、ステップ3は、ステップ2と順序を入れ替えて加工
しても良い。ステップ4(S4)は、ポリイミド系樹脂
である電気的な絶縁層を加工する為のレジスト画像を形
成した後、当該レジスト画像に従って、前記絶縁層をウ
ェットエッチングにより加工する工程である。基本的に
は、これらの4つのステップによりワイヤレスサスペン
ションブランクが製造できる。ステップ5(S5)で
は、電気配線部となるCu上にAu(金)めっきを施
し、Cuの腐食を防止する。ステップ6(S6)では、
ステップ3で加工された配線部を何らかの導電体の接触
による電気的ショートや外部からの力が配線部に加わり
配線部に傷が付き断線する等の事故を防ぐため、配線部
の保護層を形成する表面処理工程である。特に、導電層
の加工後すぐに行うと良い。
In step 1 (S1), a step of inspecting the adhesive strength of a three-layered laminated body in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. It is. In step 2 (S2), a metal layer such as stainless steel (hereinafter abbreviated as SUS) that exhibits spring characteristics is processed by wet etching as the metal layer in the laminate. In step 3 (S3), a conductive layer such as copper (hereinafter abbreviated as Cu) or a copper alloy, which is to be an electric wiring portion of the suspension, is processed as a conductive layer in the laminate by wet etching. Here, step 3 may be processed by changing the order of step 2. Step 4 (S4) is a step of forming a resist image for processing an electrical insulating layer, which is a polyimide resin, and then processing the insulating layer by wet etching according to the resist image. Basically, these four steps make a wireless suspension blank. In step 5 (S5), Au (gold) plating is applied to Cu serving as an electric wiring portion to prevent corrosion of Cu. In step 6 (S6),
A protective layer is formed on the wiring portion formed in step 3 in order to prevent an accident such as an electrical short circuit caused by contact with any conductive material or an external force applied to the wiring portion to damage or break the wiring portion. This is a surface treatment step. In particular, it is preferable to perform the process immediately after processing the conductive layer.

【0019】図2は、本発明の実施の形態の例に係わる
HDD用のワイヤレスサスペンションブランクの製造方
法のS1〜S6の製造フローを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the manufacturing flow of S1 to S6 of the method for manufacturing a wireless suspension blank for an HDD according to the embodiment of the present invention.

【0020】図2(a)は、HDD用のワイヤレスサス
ペンションブランクを形成するための積層体を示すもの
である。この積層体は、バネ特性を発現させる金属層1
としてはバネ特性を発現させる20μm厚のSUS(ス
テンレス)を用い、絶縁層2としては18.0μm厚の
ポリイミドを用い、導電層3としては18μm厚の銅合
金を用いて積層してある。そして、前記絶縁層は、1
2.5μm厚のコア絶縁層とその両面に形成された2.
75μm厚の接着材料層より構成される。そして、当該
接着材料層を介して前記絶縁層の両側に金属層1と絶縁
層2がそれぞれ形成されている。
FIG. 2A shows a laminate for forming a wireless suspension blank for an HDD. This laminate has a metal layer 1 exhibiting spring characteristics.
SUS (stainless steel) having a thickness of 20 μm that exhibits spring characteristics is used, the insulating layer 2 is formed using a 18.0 μm-thick polyimide, and the conductive layer 3 is formed using a 18 μm-thick copper alloy. And the insulating layer is composed of 1
1. A core insulating layer having a thickness of 2.5 μm and formed on both surfaces thereof
It is composed of an adhesive material layer having a thickness of 75 μm. Then, a metal layer 1 and an insulating layer 2 are respectively formed on both sides of the insulating layer via the adhesive material layer.

【0021】このような積層体をシートとして入荷した
後、抜き取り検査を行う。もちろん、このシート状の積
層体の縁を切断して全品検査を行っても良い。ここで、
図2の製造フローにおける検査について細かく説明す
る。
After receiving such a laminate as a sheet, a sampling inspection is performed. Needless to say, the edge of the sheet-like laminate may be cut and the whole product may be inspected. here,
The inspection in the manufacturing flow of FIG. 2 will be described in detail.

【0022】図4は、本発明の実施の形態の例に係り、
ワイヤレスサスペンションブランクの基本的な製造フロ
ーにおける絶縁層2と導電層3との剥離検査を行う為の
実験を説明する説明図である。つまり、導電層3を所定
の線巾に加工する。その後、絶縁層2の直角方向に所定
の線巾になった導電層3を引っ張る。所定の線巾になっ
た導電層3を剥離する方向と絶縁層2とは90°の角度
を維持しながら、引っ張り、導電層3と絶縁層2との接
着強度を計測する。この計測結果に従って良否判定をす
る。これを第1の剥離検査とする。
FIG. 4 shows an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating an experiment for performing a peeling test between the insulating layer 2 and the conductive layer 3 in a basic manufacturing flow of the wireless suspension blank. That is, the conductive layer 3 is processed into a predetermined line width. Thereafter, the conductive layer 3 having a predetermined line width in a direction perpendicular to the insulating layer 2 is pulled. While maintaining the angle of 90 ° between the direction in which the conductive layer 3 having the predetermined line width is peeled off and the insulating layer 2, the adhesive strength between the conductive layer 3 and the insulating layer 2 is measured. A pass / fail judgment is made according to this measurement result. This is referred to as a first peeling inspection.

【0023】ここでは、前記シート状の積層体を用い
て、製造したワイヤレスサスペンションブランクの内、
絶縁層2上における導電層3をパターン加工した配線部
が剥離した不良品と、剥離しない良品と同じ条件で製造
されたシート状積層体を用いて導電層3と絶縁層2との
接着強度を計測する。まず、前記シート状の積層体を導
電層を複数の領域に分割して所定の線巾0.05mm、
0.10mm、0.20mm、0.50mm、1.00
mm、1.50mm、2.00mm、2.50mm、
3.00mmとして9つのパターンを加工して接着強度
の計測を行った。材料によっては、線巾が狭くなる程、
接着強度(ピール強度とも呼ぶ)が低くなり、その傾向
は0.2mm以下でほぼ一定となった。この理由として
は、導電層の厚みの影響が考えらるが、明確な因果関係
は不明である。
Here, of the wireless suspension blanks manufactured using the sheet-like laminate,
The adhesive strength between the conductive layer 3 and the insulating layer 2 was determined by using a sheet-like laminate manufactured under the same conditions as a defective product in which the wiring portion obtained by patterning the conductive layer 3 on the insulating layer 2 was peeled off and a non-defective product that did not peel. measure. First, the conductive layer is divided into a plurality of regions in the sheet-like laminate, and a predetermined line width of 0.05 mm is used.
0.10mm, 0.20mm, 0.50mm, 1.00
mm, 1.50 mm, 2.00 mm, 2.50 mm,
Nine patterns were processed at 3.00 mm to measure the adhesive strength. Depending on the material, the narrower the line width,
The adhesive strength (also called peel strength) decreased, and the tendency became almost constant at 0.2 mm or less. This may be due to the effect of the thickness of the conductive layer, but a clear causal relationship is unknown.

【0024】この結果を図5に示す。ここで、図5は、
接着強度(単位:kgf/cm)と導電層の巾(単位:
cm)の関係を示す。良品の測定結果であるグラフ11
は、導電層の線巾が小さくても0.6kgf/cm以上
の接着強度を有する。しかし、不良品の測定結果である
グラフ12は、導電層の線巾が小さくなると0.6kg
f/cm以下の接着強度を示す。もちろん、導電層の線
巾(2.00mm等)の大きいところで0.6kgf/
cm以下の接着強度を示す場合は不良品であることは言
うまでもない。よって、この実験により、出来るだけ線
巾の小さいところで計測して接着強度を測定し、この測
定結果に基づいて積層体の品質の良否判定ができること
がわかった。線巾0.2mm(判定ライン13)以下で
0.6kgf/cm(判定ライン14)以上の接着強度
を有する場合は、製造されたサスペンションブランクは
良品と判断できることがわかった。これにより第1の剥
離検査が可能になった。線巾0.2mm(判定ライン1
3)以下は、ほぼ並行になるので線巾0.2mmで剥離
検査を行うことができる。
FIG. 5 shows the result. Here, FIG.
Adhesive strength (unit: kgf / cm) and width of conductive layer (unit:
cm). Graph 11 which is a measurement result of a good product
Has an adhesive strength of 0.6 kgf / cm or more even if the line width of the conductive layer is small. However, the graph 12 which is a measurement result of a defective product shows that when the line width of the conductive layer becomes small, 0.6 kg is obtained.
It shows an adhesive strength of f / cm or less. Of course, when the line width of the conductive layer (2.00 mm or the like) is large, 0.6 kgf /
It is needless to say that a product having an adhesive strength of not more than 1 cm is a defective product. Therefore, it was found from this experiment that the adhesive strength was measured by measuring at a line width as small as possible, and the quality of the laminated body could be determined based on the measurement result. When the line width was 0.2 mm or less (judgment line 13) and the adhesive strength was 0.6 kgf / cm (judgment line 14) or more, it was found that the manufactured suspension blank could be judged to be good. This has enabled the first peeling inspection. Line width 0.2mm (Judgment line 1
3) Since the following is substantially parallel, the peeling inspection can be performed with a line width of 0.2 mm.

【0025】次に、図6に示す積層体を説明する。図6
は、バネ特性を発現させる金属層1と、ポリイミド系樹
脂である電気的な絶縁層2を介して導電層3が積層され
た3層構成の積層体である。そして、前記絶縁層2はコ
ア絶縁層21とその両面に積層された接着材料層22、
23から構成される絶縁層2である。さらに、導電層3
は圧延銅層31と当該圧延銅層31の絶縁層2側に純銅
をめっき処理した後、その純銅面をマット処理した純銅
層32を有する導電層3である。マット処理しているた
め接着材料層23との接着強度は向上している。
Next, the laminate shown in FIG. 6 will be described. FIG.
Is a three-layer laminate in which a metal layer 1 exhibiting spring characteristics and a conductive layer 3 are laminated via an electrical insulating layer 2 which is a polyimide resin. The insulating layer 2 includes a core insulating layer 21 and an adhesive material layer 22 laminated on both sides thereof,
23 is an insulating layer 2 composed of Further, the conductive layer 3
Is a conductive layer 3 having a rolled copper layer 31 and a pure copper layer 32 obtained by plating pure copper on the insulating layer 2 side of the rolled copper layer 31 and then matting the pure copper surface. Due to the mat treatment, the adhesive strength with the adhesive material layer 23 is improved.

【0026】この積層体を用いて、図4と同様に、導電
層3を所定の線巾に加工する。その後、絶縁層2の直角
方向に所定の線巾になった導電層3を引っ張る。所定の
線巾になった導電層3を剥離する方向と絶縁層2とは9
0°の角度を維持しながら、引っ張り、剥離した導電層
3側の色でもって、導電層3と絶縁層2との接着強度を
判定する。これを第2の剥離検査とする。
Using this laminate, the conductive layer 3 is processed to a predetermined line width in the same manner as in FIG. Thereafter, the conductive layer 3 having a predetermined line width in a direction perpendicular to the insulating layer 2 is pulled. The direction in which the conductive layer 3 having a predetermined line width is peeled and the insulating layer 2 are 9
While maintaining the angle of 0 °, the adhesive strength between the conductive layer 3 and the insulating layer 2 is determined based on the color of the conductive layer 3 that has been pulled and peeled off. This is referred to as a second peeling inspection.

【0027】まず、絶縁層2上における導電層3をパタ
ーン加工した配線部が剥離した不良品と、剥離しない良
品と同じ条件で製造されたシート状積層体を用いて、実
験を行った。つまり、前記シート状の積層体を導電層を
複数の領域に分割して所定の線巾0.05mm、0.1
0mm、0.20mm、0.50mm、1.00mm、
1.50mm、2.00mm、2.50mm、3.00
mm として9つのパターンを加工して実験を行った。
First, an experiment was conducted using a defective product in which the wiring portion obtained by patterning the conductive layer 3 on the insulating layer 2 was peeled off, and a sheet-like laminate manufactured under the same conditions as a non-defective product that did not peel off. That is, the sheet-like laminate is divided into a plurality of regions by dividing the conductive layer into a predetermined line width of 0.05 mm and 0.1 mm.
0mm, 0.20mm, 0.50mm, 1.00mm,
1.50 mm, 2.00 mm, 2.50 mm, 3.00
An experiment was conducted by processing 9 patterns as mm 2.

【0028】この結果、不良品で、接着強度の低いもの
は、剥離後の接着面側のCu面が茶色であることが特徴
として見受けられた。また、良品で、接着強度の高いも
のは、剥離後の接着面側のCu面が赤色であることが特
徴として見受けられた。これはCu表面の酸化状態が変
化することでCu面の色が変化すると推測している。つ
まり、Cu表面の酸化が進むと茶色くなり、この酸化層
で剥離するために接着強度が低下すると推測している。
よって、この導電層を剥がしたときの色に基づいて積層
体の品質の良否判定ができることがわかった。つまり、
出来るだけ線巾の小さいところで計測して接着強度を示
す色を目視で確認するかまたは画像処理等で測定し、こ
の結果に基づいて積層体の品質の良否判定ができること
がわかった。赤系の色を有する場合は、製造されたサス
ペンションブランクは良品と判断できた。これで第2の
剥離検査が可能になった。
As a result, it was found that the defective product having a low adhesive strength was characterized in that the Cu surface on the adhesive surface side after peeling was brown. In addition, a good product having a high adhesive strength was found to be characterized in that the Cu surface on the adhesive surface side after peeling was red. This is presumed that the color of the Cu surface changes as the oxidation state of the Cu surface changes. That is, it is presumed that the Cu surface becomes brown as the oxidation proceeds, and the adhesive strength is reduced due to the peeling at the oxide layer.
Therefore, it was found that the quality of the laminate can be determined based on the color when the conductive layer was peeled off. That is,
The color indicating the adhesive strength was measured at a position where the line width was as small as possible, and the color indicating the adhesive strength was visually checked or measured by image processing or the like, and it was found that the quality of the laminate could be determined based on the result. If the suspension blank had a reddish color, the manufactured suspension blank was determined to be good. Thus, the second peeling inspection can be performed.

【0029】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体を用いてワイヤレスサスペンショ
ンブランクを製造する方法での剥離検査は、第1の剥離
検査を行っても良いし、第2の剥離検査を行っても良
い。もちろん、両方とも行っても良い。続いて、図2の
製造フローに説明を戻す。
Peeling by a method of manufacturing a wireless suspension blank using a three-layered laminated body in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. As the inspection, a first peeling inspection may be performed, or a second peeling inspection may be performed. Of course, both may be performed. Subsequently, the description returns to the manufacturing flow of FIG.

【0030】図2(b)は、金属層1上と導電層3上の
両方の面に感光性材料であるアクリル系ドライフィルム
レジストをラミネートした後、所定のホトマスクパター
ンに従って前記レジストを露光・現像し、所定のレジス
トパターン4を形成した。具体例としては、旭化成製A
Q−5038を100℃でラミネートする。そして、露
光はg線で露光量30から60mJ/cm2で行い、3
0℃、1wt%Na2CO3でスプレー現像したもので
ある。ドライフィルムレジストはレジストの膜厚等が決
まっている為、簡単に入手して利用できるメリットがあ
る。ここで用いるドライフィルムレジストの代わりに液
状のレジストを用いてもよい。例えば、カゼインレジス
トを用いると、カゼインレジストの現像は水現像できる
為、ドライフィルムレジストより低コストで生産できる
メリットがある。
FIG. 2B shows an acrylic dry film resist, which is a photosensitive material, laminated on both surfaces of the metal layer 1 and the conductive layer 3 and then exposing and developing the resist according to a predetermined photomask pattern. Thus, a predetermined resist pattern 4 was formed. A specific example is Asahi Kasei A
Laminate Q-5038 at 100 ° C. Exposure is performed with g-line at an exposure amount of 30 to 60 mJ / cm2.
Spray-developed with 0 ° C, 1 wt% Na2CO3. A dry film resist has an advantage that it can be easily obtained and used because the thickness of the resist is fixed. A liquid resist may be used instead of the dry film resist used here. For example, when a casein resist is used, the casein resist can be developed with water, so that there is an advantage that the casein resist can be produced at a lower cost than a dry film resist.

【0031】図2(c)は、金属層1,導電層3を一般
的な塩化鉄からなるエッチング液を使用して両面同時に
ウェットエッチングし、当該金属層1,導電層3が加工
された状態を示している。この場合、片面ラッピング法
によって、前記金属層1,導電層3を片面ずつウェット
エッチングしてもよい。ここで、片面毎にウェットエッ
チングする場合は、ウェットエッチングされた前記金属
層1,導電層3の断面形状が綺麗に仕上がる効果があ
り、両面同時にウェットエッチングする場合は、加工時
間を短縮できる効果がある。
FIG. 2 (c) shows a state in which the metal layer 1 and the conductive layer 3 are wet-etched simultaneously on both sides using a general etching solution of iron chloride, and the metal layer 1 and the conductive layer 3 are processed. Is shown. In this case, the metal layer 1 and the conductive layer 3 may be wet-etched one by one by a single-side lapping method. Here, when wet etching is performed on each side, there is an effect that the cross-sectional shape of the metal layer 1 and the conductive layer 3 that have been wet-etched is finished finely, and when wet etching is performed simultaneously on both sides, the processing time can be shortened. is there.

【0032】図2(d)は、水酸化ナトリウムからなる
剥離液でレジストパターン4を剥離した状態を示してい
る。図に示すように絶縁層2であるポリイミドの両面に
金属層1と導電層3がパターニングされた3層の積層体
が得られる。
FIG. 2D shows a state in which the resist pattern 4 has been stripped with a stripping solution composed of sodium hydroxide. As shown in the figure, a three-layer laminate in which the metal layer 1 and the conductive layer 3 are patterned on both surfaces of the polyimide as the insulating layer 2 is obtained.

【0033】図2(e)は、絶縁層2の両面に形成され
た金属層1と導電層3がパターニングされた状態で絶縁
層2をウェットエッチングにより加工する。この為、パ
ターニングされた導電層3が加工されて配線部が形成さ
れている絶縁層2の上面と、パターニングされた金属層
1の絶縁層2の下面との両方の面に、絶縁層2を残した
い領域に絶縁層加工レジストを形成する。この時、絶縁
層加工レジストパターン5は、絶縁層2上にパターニン
グされた金属層1、導電層3とオーバーラップするよう
に形成する。もし、オーバーラップを行わないように絶
縁層2を残す領域にのみ絶縁層加工レジストパターン5
を形成すると、当該パターン5と金属層1または導電層
3との隙間からウェットエッチング液が入ってしまい絶
縁層2の加工したくないところをエッチング加工してし
まう可能性がある。これを防ぐために、絶縁層加工レジ
ストパターン5は、絶縁層2上にパターニングされた金
属層1、導電層3とオーバーラップするように形成す
る。特に、導電層3の線巾が狭い場合は、ウェットエッ
チング時にスプレーによりエッチング液を噴射させる
と、スプレーの噴射圧力により線巾の狭い導電層は剥が
れてしまう場合がある。この為、線巾の狭い導電層上に
絶縁層加工レジストパターン5を形成することは、この
ような点でも効果がある。
FIG. 2E shows that the insulating layer 2 is processed by wet etching in a state where the metal layer 1 and the conductive layer 3 formed on both surfaces of the insulating layer 2 are patterned. Therefore, the insulating layer 2 is provided on both the upper surface of the insulating layer 2 on which the patterned conductive layer 3 is processed and the wiring portion is formed, and the lower surface of the insulating layer 2 of the patterned metal layer 1. An insulating layer processing resist is formed in a region to be left. At this time, the insulating layer processing resist pattern 5 is formed so as to overlap the metal layer 1 and the conductive layer 3 patterned on the insulating layer 2. If an insulating layer processing resist pattern 5 is formed only in a region where the insulating layer 2 is left so as not to overlap.
Is formed, there is a possibility that a wet etching solution enters through a gap between the pattern 5 and the metal layer 1 or the conductive layer 3 and the portion of the insulating layer 2 that is not desired to be processed is etched. To prevent this, the insulating layer processing resist pattern 5 is formed on the insulating layer 2 so as to overlap with the patterned metal layer 1 and conductive layer 3. In particular, when the line width of the conductive layer 3 is narrow, if the etching liquid is sprayed during wet etching, the conductive layer having a narrow line width may be peeled off due to the spray pressure of the spray. For this reason, forming the insulating layer processing resist pattern 5 on the conductive layer having a small line width is effective also in such a point.

【0034】絶縁層加工レジストパターン5を形成する
為には、絶縁層加工レジストをディップコート法、ロー
ルコート法、ダイコート法またはラミネート法等を用い
ることで、絶縁層2の両面に形成する。そして、所定の
ホトマスクパターンに従って露光・現像する。具体例と
しては、絶縁層加工レジストとして、旭化成製AQ−3
058のドライフィルムを絶縁層2の両面に100℃で
ラミネートする。そして、露光はg線で露光量30から
60mJ/cm2で行い、30℃、1wt%Na2CO
3でスプレー現像する。これにより、絶縁層加工レジス
トパターン5は、絶縁層2上にパターニングされた金属
層1、導電層3とオーバーラップするように形成する。
また、絶縁層加工レジストは、レジスト露光・現像法に
よらず、印刷法により形成してもよい。
In order to form the insulating layer processing resist pattern 5, the insulating layer processing resist is formed on both surfaces of the insulating layer 2 by using a dip coating method, a roll coating method, a die coating method or a laminating method. Then, exposure and development are performed according to a predetermined photomask pattern. As a specific example, Asahi Kasei's AQ-3 is used as an insulating layer processing resist.
No. 058 is laminated on both sides of the insulating layer 2 at 100 ° C. Exposure is performed at 30 to 60 mJ / cm 2 with g-line exposure at 30 ° C., 1 wt% Na 2 CO 3.
3. Spray develop with 3. Thus, the insulating layer processing resist pattern 5 is formed so as to overlap the metal layer 1 and the conductive layer 3 patterned on the insulating layer 2.
Further, the insulating layer processing resist may be formed by a printing method instead of the resist exposure / development method.

【0035】図2(f)は、東レエンジニアリング社製
TPE−3000のエッチング液(アミンを含むアルカ
リ系のポリイミドエッチング液)でウェットエッチング
を行い絶縁層を加工する。パターニングされた積層体に
対して片面毎にウェットエッチングによる加工を行って
もよいし、両面同時にウェットエッチングによる加工を
行ってもよい。ここで、片面毎にウェットエッチングす
る場合は、エッチングされた絶縁層の断面形状が綺麗に
仕上がる効果があり、両面同時にウェットエッチングす
る場合は、加工時間を短縮できる効果がある。
In FIG. 2F, the insulating layer is processed by performing wet etching with an etching solution of TPE-3000 manufactured by Toray Engineering Co., Ltd. (an alkaline-based polyimide etching solution containing amine). The patterned laminate may be processed by wet etching on each side, or may be processed by wet etching on both sides simultaneously. Here, when wet etching is performed on each side, there is an effect that the cross-sectional shape of the etched insulating layer is finished finely, and when wet etching is performed on both sides simultaneously, there is an effect that the processing time can be shortened.

【0036】図2(g)は、ウェットエッチングのマス
ク材として使用した絶縁層加工レジストパターン5を剥
離して絶縁材料の加工が終了する。この時の剥離の具体
例として、50℃、水酸化ナトリウム30wt%の高温
アルカリ溶液での剥離が一般的であるが、使用する絶縁
層であるポリイミド2等がアルカリ耐性に乏しい場合
は、エタノールアミン等の有機アルカリを使用すると良
い。
In FIG. 2G, the insulating layer processing resist pattern 5 used as a mask material for wet etching is peeled off, and the processing of the insulating material is completed. As a specific example of the peeling at this time, peeling with a high-temperature alkaline solution of 50 ° C. and 30 wt% of sodium hydroxide is generally performed. However, when the insulating layer such as polyimide 2 or the like has poor alkali resistance, ethanolamine is used. It is better to use an organic alkali such as

【0037】図3のように、上記の方法により形成され
たHDD用のワイヤレスサスペンションブランクの配線
部である導電層3に、加工の仕上げとして金めっき6を
施す。ここでの金めっきは、日本高純度化学製のシアン
金めっき浴で行った。テンペレジストExを用いて、6
5℃にて電流密度Dk=0.4A/dm2で約4分間通
電して1μm厚の成膜を行った。シアン金でなく、酸性
金でも同じ結果が得られる。これは、図示しない磁気ヘ
ッドスライダとサスペンションの電気的接続とサスペン
ションから制御側への電気的接続のための表面処理であ
り、Auめっきに限ったものではない。また、Ni/A
uめっきでもよいし、ハンダめっきもしくは印刷等で代
用される場合もある。ここで、Niめっきを行う場合
は、光沢浴、無光沢浴、半光沢浴を選択できるが、日本
高純度化学製のワット浴用の液を用いて、50℃にて電
流密度Dk=5A/dm2で約1分間通電して1μm厚
の成膜を行うことができる。そして、この配線部の必要
な箇所に保護層としてエポキシ系のカバーレイヤ7を形
成する。
As shown in FIG. 3, gold plating 6 is applied to the conductive layer 3 which is the wiring portion of the wireless suspension blank for HDD formed by the above method, as a finish of processing. The gold plating here was performed in a cyan gold plating bath manufactured by Japan High Purity Chemical. 6 using Temper resist Ex
A current was applied at a current density Dk of 0.4 A / dm 2 for about 4 minutes at 5 ° C. to form a 1 μm thick film. The same result is obtained with acid gold instead of cyan gold. This is a surface treatment for electrical connection between the magnetic head slider and the suspension (not shown) and electrical connection from the suspension to the control side, and is not limited to Au plating. Also, Ni / A
u plating may be used, or solder plating or printing may be used instead. Here, in the case of performing Ni plating, a gloss bath, a matte bath, or a semi-gloss bath can be selected. However, a current density Dk = 5 A / dm 2 at 50 ° C. using a solution for a Watt bath manufactured by Japan High Purity Chemical Co., Ltd. For about 1 minute to form a film having a thickness of 1 μm. Then, an epoxy-based cover layer 7 is formed as a protective layer at a necessary portion of the wiring portion.

【0038】以上により、HDD用のワイヤレスサスペ
ンションブランクの製造が完了する。その後、図示はし
ていないが最終的にサスペンションの機械加工、磁気抵
抗センサや誘導書き込みトランスデューサを含むスライ
ダの接続等のアッセンブリ加工を行い、HDD用のワイ
ヤレスサスペンションが完成する。図3のように構成し
ておくと、必要に応じて、スライダの動作チェック等の
電気的検査において、図3の金属層1側から電気的検査
用の端子8を用いて検査することで、高品質なサスペン
ションが得られるようになる。
Thus, the manufacture of the HDD wireless suspension blank is completed. Thereafter, although not shown, mechanical processing of the suspension and assembly processing such as connection of a slider including a magnetoresistive sensor and an inductive writing transducer are finally performed to complete a wireless suspension for the HDD. With the configuration as shown in FIG. 3, if necessary, an electrical inspection such as an operation check of the slider can be performed by using the electrical inspection terminal 8 from the metal layer 1 side of FIG. High quality suspension can be obtained.

【0039】[0039]

【発明の効果】入荷した積層体を検査する工程と、絶縁
層等をウェットエッチングで加工する工程を含むワイヤ
レスサスペンションブランクの製造方法により、高品質
で低価格なワイヤレスサスペンションブランクの製造が
可能になった。
According to the method of manufacturing a wireless suspension blank including a step of inspecting the received laminate and a step of processing an insulating layer or the like by wet etching, a high-quality and low-cost wireless suspension blank can be manufactured. Was.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る積層体の基本的な加
工フローを示す図である。
FIG. 1 is a view showing a basic processing flow of a laminate according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態に係る積層体の加工フロー
を示す図である。
FIG. 2 is a view showing a processing flow of the laminated body according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態に係る積層体を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a laminate according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態に係る積層体の剥離状態を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a peeled state of the laminate according to the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態に係る積層体の剥離時の接
着強度と導電層の線巾の関係を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between an adhesive strength at the time of peeling of a laminate according to an embodiment of the present invention and a line width of a conductive layer.

【図6】本発明の実施の形態に係る積層体の剥離を説明
する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating peeling of a laminate according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…金属層 2…絶縁層 3…導電層 4…ドライフィルムレジストパターン 5…絶縁層加工レジストパターン 6…金めっき 7…カバーレイヤ 8…電気的検査用の端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal layer 2 ... Insulating layer 3 ... Conductive layer 4 ... Dry film resist pattern 5 ... Insulating layer processing resist pattern 6 ... Gold plating 7 ... Cover layer 8 ... Terminal for electrical inspection

フロントページの続き (72)発明者 梅田 和夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 佐々木 賢 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5D042 NA01 PA10 TA07 5D059 AA01 BA01 CA03 DA31 DA33 DA36 EA08 Continued on the front page (72) Inventor Kazuo Umeda 1-1-1, Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Ken Sasaki 1-1-1, Ichigaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo F term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 5D042 NA01 PA10 TA07 5D059 AA01 BA01 CA03 DA31 DA33 DA36 EA08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体を用いてワイヤレスサスペンショ
ンブランクを製造する方法であって、前記絶縁層がコア
絶縁層とその両面に積層された接着材料層から構成され
た積層体を用いており、前記積層体の各層の接着強度を
検査する工程と、前記金属層を加工する工程と、前記導
電層を加工し配線部を形成する工程と、前記絶縁層をウ
ェットエッチングにより加工する工程を含むことを特徴
とするワイヤレスサスペンションブランクの製造方法。
1. A method of manufacturing a wireless suspension blank using a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. A step of inspecting the adhesive strength of each layer of the laminate, wherein the insulating layer comprises a core insulating layer and an adhesive material layer laminated on both surfaces thereof, and processing the metal layer. Forming a wiring portion by processing the conductive layer, and processing the insulating layer by wet etching.
【請求項2】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体の各層の接着強度を検査する工程
で前記絶縁層と前記導電層との接着強度を検査すること
を特徴とする請求項1記載のワイヤレスサスペンション
ブランクの製造方法。
2. The step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin. The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 1, wherein an adhesive strength between an insulating layer and the conductive layer is inspected.
【請求項3】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体の各層の接着強度を検査する工程
で、前記絶縁層と前記導電層とを剥離することで検査す
ることを特徴とする請求項1または2記載のワイヤレス
サスペンションブランクの製造方法。
3. A step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin, The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 1, wherein the inspection is performed by peeling the insulating layer and the conductive layer.
【請求項4】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体の各層の接着強度を検査する工程
で、前記絶縁層と前記導電層との接着強度が0.6kg
f/cm以上の場合に良品と判定することを特徴とする
請求項1乃至3記載のワイヤレスサスペンションブラン
クの製造方法。
4. A step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin, 0.6 kg of adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer
4. The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 1, wherein a non-defective product is determined when f / cm or more.
【請求項5】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体の各層の接着強度を検査する工程
で、剥離する導電層の巾を0.2mm以下とすることを
特徴とする請求項3または4記載のワイヤレスサスペン
ションブランクの製造方法。
5. A step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer laminated body in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin, 5. The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 3, wherein the width of the conductive layer to be peeled is set to 0.2 mm or less.
【請求項6】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体において、前記導電層が銅材料ま
たは銅合金として、当該3層構成の積層体の各層の接着
強度を検査する工程で、前記絶縁層と前記導電層とを剥
離した後、導電層の表面が赤系の色である場合に良品と
判定することを特徴とする請求項3記載のワイヤレスサ
スペンションブランクの製造方法。
6. A three-layered structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrical insulating layer made of a polyimide resin, wherein the conductive layer is made of a copper material or a copper alloy. In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layered structure, after peeling the insulating layer and the conductive layer, if the surface of the conductive layer has a reddish color, it is determined to be non-defective. The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 3, wherein:
【請求項7】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体において、前記導電層が銅材料ま
たは銅合金として、当該3層構成の積層体の各層の接着
強度を検査する工程で、前記絶縁層と前記導電層とを剥
離した後、導電層の表面が赤系の色であり、前記絶縁層
と前記導電層との接着強度が0.6kgf/cm以上で
あるの場合に良品と判定することを特徴とする請求項3
記載のワイヤレスサスペンションブランクの製造方法。
7. A three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrical insulating layer made of a polyimide resin, wherein the conductive layer is made of a copper material or a copper alloy. In the step of inspecting the adhesive strength of each layer of the three-layer structure, after peeling the insulating layer and the conductive layer, the surface of the conductive layer is reddish color, the insulating layer and the 4. A non-defective product when the adhesive strength with the conductive layer is 0.6 kgf / cm or more.
A method for producing the wireless suspension blank according to the above.
【請求項8】バネ特性を発現させる金属層と、ポリイミ
ド系樹脂である電気的な絶縁層を介して導電層が積層さ
れた3層構成の積層体の各層の接着強度を検査する工程
で、剥離する導電層の巾を0.2mm以下とすることを
特徴とする請求項7記載のワイヤレスサスペンションブ
ランクの製造方法。
8. A step of inspecting the adhesive strength of each layer of a three-layer structure in which a conductive layer is laminated via a metal layer exhibiting spring characteristics and an electrically insulating layer made of a polyimide resin, The method for manufacturing a wireless suspension blank according to claim 7, wherein the width of the conductive layer to be peeled is set to 0.2 mm or less.
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