JP2002141366A - Method for mounting conductive ball - Google Patents

Method for mounting conductive ball

Info

Publication number
JP2002141366A
JP2002141366A JP2000335519A JP2000335519A JP2002141366A JP 2002141366 A JP2002141366 A JP 2002141366A JP 2000335519 A JP2000335519 A JP 2000335519A JP 2000335519 A JP2000335519 A JP 2000335519A JP 2002141366 A JP2002141366 A JP 2002141366A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
conductive
ball
opening
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000335519A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Tomono
章 友野
Kaoru Kawai
薫 河合
Tetsuya Yamamoto
哲也 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2000335519A priority Critical patent/JP2002141366A/en
Publication of JP2002141366A publication Critical patent/JP2002141366A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means for aligning conductive balls in a prescribed array on a ball grid array base plate or the like. SOLUTION: A method for mounting the conductive ball comprises a first step of displacing and superposing perforated parts of an aligning mask 21 and a supply mask 21 having substantially the same arrays and same opening shapes, a second step of introducing the balls 1 into holes 23 of the aligning mask, and a third step of bringing the opening parts 23 and 24 of the masks 21 and 22 into coincidence and disposing the balls 1 in the prescribed array on the base plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばボールグリ
ッドアレー基板や半導体素子、あるいは半導体素子が配
置されているウェハの電極上にバンプを形成する為の導
電性ボールの搭載方法及び導電性ボールの搭載装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for mounting a conductive ball for forming a bump on an electrode of a ball grid array substrate, a semiconductor element, or a wafer on which the semiconductor element is disposed, and a method of mounting the conductive ball. It relates to a mounting device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の導電性ボール搭載方法を、図1〜
図9を参照して説明する。
2. Description of the Related Art FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0003】導電性ボール搭載方法には大別して2方式
有る。一つ目は基板上の電極にフラックスと導電性ボー
ルを別々に供給する方式である。二つ目は導電性ボール
にフラックスを塗布した後、フラックスごと導電性ボー
ルを供給・搭載する方式である。前者の工程フローを第
1図に、後者の工程フローを第2図にそれぞれ示す。
There are roughly two types of conductive ball mounting methods. The first is a method in which flux and conductive balls are separately supplied to electrodes on a substrate. The second method is to apply a flux to the conductive balls and then supply and mount the conductive balls together with the flux. FIG. 1 shows the former process flow, and FIG. 2 shows the latter process flow.

【0004】まず、フラックスと導電性ボールとを別々
に供給する方式について第1図を参照して説明する。
First, a method of separately supplying a flux and conductive balls will be described with reference to FIG.

【0005】最初に、基板の電極上にフラックスを塗布
する工程が有る。このフラックス塗布方法には、ピン転
写法、スクリーン印刷法、ディスペンス法等多数存在す
る。ここでは代表例としてピン転写法について第3図を
参照して説明する。
[0005] First, there is a step of applying a flux on the electrodes of the substrate. There are many flux coating methods such as a pin transfer method, a screen printing method, and a dispensing method. Here, the pin transfer method will be described as a representative example with reference to FIG.

【0006】まず、フラックス槽7上でフラックス2を
スキージ8を用いてスキージングし、一定厚のフラック
ス膜を形成する。その後、剣山ピン9を上下に移動さ
せ、ピン先端にフラックス2を付着させる。次に、剣山
ピン9を基板上へ移動させ、基板上の電極4と剣山ピン
9との位置を合せた後、上下に移動させ、電極4上にフ
ラックス2を転写し、フラックス塗布が完了する。
First, the flux 2 is squeezed on the flux tank 7 using a squeegee 8 to form a flux film having a constant thickness. Thereafter, the pin 9 is moved up and down, and the flux 2 is attached to the tip of the pin. Next, the pin 9 is moved onto the substrate, the electrode 4 on the substrate is aligned with the pin 9, and then moved up and down to transfer the flux 2 onto the electrode 4, completing the flux application. .

【0007】2番目に、フラックス塗布工程と並行し
て、導電性ボール整列工程が有る。導電性ボール整列工
程について第4図を用いて説明する。
Second, there is a conductive ball alignment step in parallel with the flux application step. The conductive ball alignment step will be described with reference to FIG.

【0008】導電性ボール整列は、搭載ヘッド5を用い
て、基板3の電極4と同配列に導電性ボール1を真空吸
着する工程である。搭載ヘッド5には、基板3の電極4
と同配列の吸着穴17が設けられており、搭載ヘッド内
をエア吸引手段11により減圧状態にすることにより導
電性ボール貯留槽6内の導電性ボールを吸引、吸着す
る。この時、エア流路開閉手段(吸引側)15は開いた
状態に、エア流路開閉手段(排気側)16は閉じた状態
になっている。
The conductive ball alignment is a process of using the mounting head 5 to vacuum-suck the conductive balls 1 in the same arrangement as the electrodes 4 of the substrate 3. The mounting head 5 has electrodes 4 on the substrate 3.
The suction holes 17 having the same arrangement as those described above are provided, and the inside of the mounting head is depressurized by the air suction means 11 to suck and suck the conductive balls in the conductive ball storage tank 6. At this time, the air flow path opening / closing means (suction side) 15 is open, and the air flow path opening / closing means (exhaust side) 16 is closed.

【0009】また、導電性ボールを吸着、整列した後
に、規定数ボールが搭載ヘッドへ吸着されているかを検
査する。この方法は、一般的には画像認識法とレーザセ
ンサ法とがある。
After the conductive balls are sucked and aligned, it is checked whether a specified number of balls are sucked to the mounting head. This method generally includes an image recognition method and a laser sensor method.

【0010】最後に、導電性ボール搭載工程が有る。導
電性ボール搭載工程について第5図を用いて説明する。
Finally, there is a conductive ball mounting step. The conductive ball mounting step will be described with reference to FIG.

【0011】導電性ボール搭載は、導電性ボール1を吸
着した搭載ヘッド5を介し、基板3上の電極4へ搭載す
る工程である。導電性ボール1を保持したまま、導電性
ボール1の位置を基板3の電極4上へ移動した後、搭載
ヘッド内をエア流発生手段12により大気開放すること
により、吸着穴17に整列されていた導電性ボール1が
切り離され、電極4上へ搭載される。この時、エア流路
開閉手段(排気側)16は開いた状態に、エア流路開閉
手段(吸引側)15は閉じた状態になっている。
The conductive ball mounting is a process of mounting the conductive ball 1 on the electrode 4 on the substrate 3 via the mounting head 5 on which the conductive ball 1 is sucked. After moving the position of the conductive ball 1 onto the electrode 4 of the substrate 3 while holding the conductive ball 1, the mounting head is opened to the atmosphere by the air flow generating means 12 so that the mounting head is aligned with the suction hole 17. The conductive ball 1 is cut off and mounted on the electrode 4. At this time, the air flow path opening / closing means (exhaust side) 16 is open, and the air flow path opening / closing means (suction side) 15 is closed.

【0012】ボール搭載後は、基板上の導電性ボールが
規定数、規定位置に搭載されているかを画像認識等によ
り検査する、搭載検査工程が有る。ここで、異常が無け
ればリフロー炉へ投入し、溶融接合させ、外部電極が形
成される。
After the balls are mounted, there is a mounting inspection step for inspecting whether or not the conductive balls on the substrate are mounted at a specified number and in a specified position by image recognition or the like. Here, if there is no abnormality, it is put into a reflow furnace and melt-bonded to form an external electrode.

【0013】次に、導電性ボールにフラックスを塗布し
た後、フラックスごと導電性ボールを供給・搭載する方
式(第2図)について第6図の一例を用いて説明する。
Next, a method (FIG. 2) of supplying and mounting the conductive balls together with the flux after applying the flux to the conductive balls (FIG. 2) will be described with reference to an example of FIG.

【0014】これはボール転写方式という代表例で、ま
ず、フラックス槽7上でフラックス2をスキージ8を用
いてスキージングし、一定厚のフラックス膜を形成す
る。その後、導電性ボール1を整列した搭載ヘッド5を
膜状で上下移動させることにより、導電性ボール1へフ
ラックス2を塗布する。次に導電性ボール1を保持した
まま、導電性ボール1の位置を基板3上へ移動した後、
フラックス2ごと導電性ボール1を搭載する。
This is a typical example of a ball transfer method. First, a flux 2 is squeezed on a flux tank 7 using a squeegee 8 to form a flux film having a constant thickness. Then, the flux 2 is applied to the conductive balls 1 by vertically moving the mounting head 5 in which the conductive balls 1 are aligned in a film shape. Next, while moving the position of the conductive ball 1 onto the substrate 3 while holding the conductive ball 1,
The conductive balls 1 are mounted together with the flux 2.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】これらの様な導電性ボ
ール搭載方法では、導電性ボール整列の際、導電性ボー
ルを消費していくうちに、第7図の様に導電性ボール貯
蓄槽6内の導電性ボール1を吸着しきれなくなり、ボー
ル欠損が発生する。また、導電性ボール貯蓄槽6内の導
電性ボール数が多すぎると、第8図の様に吸着穴17に
多数の導電性ボール1が吸い付き、ボール過剰が発生す
る。
In such a conductive ball mounting method, as the conductive balls are consumed during alignment of the conductive balls, as shown in FIG. The conductive ball 1 in the inside cannot be completely absorbed, and a ball defect occurs. If the number of the conductive balls in the conductive ball storage tank 6 is too large, a large number of the conductive balls 1 stick to the suction holes 17 as shown in FIG.

【0016】更に、貯蓄槽内の導電性ボール1が残り少
なくなった時に、古い導電性ボールの上に新品の導電性
ボールを注ぎ足してしまうと、第9図に示す如く導電性
ボール貯蓄槽5内の底に溜まった古導電性ボール18が
劣化していき、新品導電性ボール19と混在して搭載ヘ
ッド5へ整列されると、その後の搭載検査工程でボール
が無いと判断され、NG品として排除されてしまう。こ
れらの現象・不具合の発生により、装置稼働率が低下
し、生産性悪化の要因となる。
Further, when the conductive balls 1 in the storage tank are running low and new conductive balls are poured over the old conductive balls, the conductive ball storage tank 5 as shown in FIG. When the old conductive balls 18 accumulated in the bottom of the inside deteriorate and become aligned with the new conductive balls 19 and are mounted on the mounting head 5, it is determined that there is no ball in the subsequent mounting inspection process, and Will be excluded. Occurrence of these phenomena and inconveniences lowers the operation rate of the apparatus and causes a decrease in productivity.

【0017】また、導電性ボールを消費して吸着しきれ
なくなると、現状では導電性ボール貯留槽内の導電性ボ
ールを廃棄し新品の導電性ボールに取り替えるという手
間が有り、使用期限内のボールを廃棄することとなるの
で、この結果、生産性悪化とコスト高の要因となる問題
が見られる。
Further, when the conductive balls are consumed and cannot be completely absorbed, at present, it is troublesome to discard the conductive balls in the conductive ball storage tank and replace them with new conductive balls. Is discarded, and as a result, there is a problem that the productivity is lowered and the cost is increased.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するために、実質的に同配列及び同開孔形状を有す
る整列用マスクと供給用マスクとの開孔部分をずらし重
ね合わせる第1の工程と、この整列用マスク開孔に導電
性ボールを入れる第2の工程と、この整列用マスクとこ
の供給用マスクとの開孔部分を一致させ、基板に所定の
配列でこの導電性ボールを配置する第3の工程を備えた
ことを特徴とする導電性ボールの搭載方法である。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the opening portions of the alignment mask and the supply mask having substantially the same arrangement and the same opening shape are shifted and overlapped. A first step, a second step of inserting conductive balls into the openings of the alignment mask, and matching the openings of the alignment mask and the supply mask with the conductive mask in a predetermined arrangement on the substrate. And a third step of arranging the conductive balls.

【0019】また、他の実施例として、この整列用マス
クは、その開孔径と導電性ボールの直径との比が1.1
乃至1.65の範囲にあり且つこの整列用マスク厚とこ
の導電性ボールの直径との比が1.1乃至1.47の範
囲にある開孔形状を有し、更にこの供給用マスクは、そ
の開孔径と導電性ボールの直径との比が1.1乃至1.
26の範囲にあることを特徴とする導電性ボールの搭載
方法を提供する。
In another embodiment, the alignment mask has a ratio of an opening diameter to a conductive ball diameter of 1.1.
And the ratio of the thickness of the alignment mask to the diameter of the conductive ball is in the range of 1.1 to 1.47, and the supply mask further comprises: The ratio of the diameter of the opening to the diameter of the conductive ball is 1.1 to 1.
26. A method for mounting a conductive ball, the method comprising:

【0020】また、他の実施例として、この第2の工程
はスキンジング動作によりこの整列用マスクの開孔にこ
の導電性ボールを入れる工程であることを特徴とする導
電性ボールの搭載方法を提供する。
In another embodiment, the second step is a step of inserting the conductive ball into an opening of the alignment mask by a skinning operation. provide.

【0021】また、他の実施例として、この第3の工程
は、この整列用マスクとこの供給用マスクとの開孔部分
を一致させ、基板に所定の配列でこの導電性ボールを配
置するに際し、この供給用マスクの材質が透明部分から
なり、この供給用マスクの下面よりセンサを用いてこの
導電性ボールの整列検査を同時に行うことを特徴とする
導電性ボールの搭載方法を提供する。
In another embodiment, the third step is to align the openings of the alignment mask with the supply mask and to arrange the conductive balls in a predetermined arrangement on the substrate. In addition, the present invention provides a method for mounting a conductive ball, characterized in that the material of the supply mask is made of a transparent portion, and the alignment inspection of the conductive ball is performed simultaneously from the lower surface of the supply mask using a sensor.

【0022】また、他の実施例として、整列用マスク開
口部内への導電性ボール充填を検査する為に、上記供給
用マスクの材質にたとえばガラス等の透明体を用い、供
給用マスクの下面から、CCDカメラにて導電性ボール
整列と同時に整列検査を行うことを特徴とする導電性ボ
ールの搭載方法及び装置を提供する。
In another embodiment, a transparent material such as glass is used as the material of the supply mask so as to check the filling of the conductive balls into the openings of the alignment mask. A method and an apparatus for mounting a conductive ball, wherein alignment inspection is performed simultaneously with alignment of the conductive ball by a CCD camera.

【0023】また、他の実施例として、エアブロー発生
手段及びその移動手段を具備し、基板の電極上へ導電性
ボールを搭載する際に、開口部内に留まった導電性ボー
ルを、エアブローをマスク上部より垂直方向へ吹き付け
ることにより強制的に切り離すことを特徴とする導電性
ボールの搭載方法及び装置を提供する。
As another embodiment, an air blow generating means and a moving means for the air blow are provided, and when the conductive balls are mounted on the electrodes of the substrate, the conductive balls remaining in the openings are removed by air blow. Provided are a method and an apparatus for mounting a conductive ball, characterized in that the conductive ball is forcibly separated by being sprayed more vertically.

【0024】また、他の実施例として、振動発生手段及
びその移動手段を具備し、基板の電極上へ導電性ボール
を搭載する際に、開口部内に留まった導電性ボールを、
振動マスク上部より垂直方向へ与えることにより強制的
に切り離すことを特徴とする導電性ボールの搭載方法及
び装置を提供する。
Further, as another embodiment, a vibration generating means and a moving means therefor are provided, and when the conductive balls are mounted on the electrodes of the substrate, the conductive balls remaining in the openings are removed.
Provided is a method and apparatus for mounting a conductive ball, characterized in that the conductive ball is forcibly separated by being applied vertically from above a vibration mask.

【0025】また、他の実施例として、基板上の電極の
配列パターンの多様性に対応する手段として、フルグリ
ッド状の配列の開口部を設けた供給用マスクと、基板の
電極と同配列の開口部を設けた供給用マスクを用い、電
極の配列が異なる基板を対応する際、整列用マスクのみ
の交換で、新しい品種の基板に対応できることを特徴と
する導電性ボールの搭載方法及び装置を提供する。
Further, as another embodiment, as means for responding to the diversity of the arrangement pattern of the electrodes on the substrate, a supply mask provided with openings in a full grid arrangement is provided. A method and an apparatus for mounting a conductive ball, characterized in that it is possible to use a supply mask provided with an opening and to cope with a substrate of a new type by replacing only an alignment mask when coping with substrates having different electrode arrangements. provide.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施例を第
10図〜第15図を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0027】本実施例では、前述の第1図に示す様な、
基板上の電極にフラックスと導電性ボールを別々に供給
する方式による導電性ボール搭載方法に於いて第10図
の様に、整列用マスク21と供給用マスク22とを重ね
合わせた状態で、2枚のスキージ8の間に満たされてい
る導電性ボール1を、スキージングにより整列用マスク
開口部23へ落とし込む。この時、整列用マスク21は
供給用マスク22に対し、開口部のピッチPの1/2ず
れた状態になっている。その後、第11図の様に、供給
用マスク開口部24と基板3の電極4の位置を合せた
後、整列用マスク21を1/2ピッチ分スライドさせる
ことで、整列用マスク21と供給用マスク22の開口部
を連接させ、整列用マスク開口部23内の導電性ボール
1を切り離し基板3の電極1上へ搭載する。
In this embodiment, as shown in FIG.
In a conductive ball mounting method in which a flux and conductive balls are separately supplied to the electrodes on the substrate, as shown in FIG. 10, the alignment mask 21 and the supply mask 22 are overlapped with each other. The conductive ball 1 filled between the squeegees 8 is dropped into the alignment mask opening 23 by squeezing. At this time, the alignment mask 21 is shifted from the supply mask 22 by half the pitch P of the openings. Thereafter, as shown in FIG. 11, the position of the supply mask opening 24 and the position of the electrode 4 of the substrate 3 are aligned, and then the alignment mask 21 is slid by ピ ッ チ pitch, so that the alignment mask 21 and the supply The openings of the mask 22 are connected to each other, and the conductive balls 1 in the mask opening 23 for alignment are cut off and mounted on the electrodes 1 of the substrate 3.

【0028】以上のプロセスにより、先に入れた導電性
ボールを先に供給できるので、一定の品質の導電性ボー
ルを搭載することが実現できる。また、スキージングに
より整列用マスク開口部へ強制的に補充していくので、
貯留槽内の導電性ボールの残量が残り僅かとなっても、
導電性ボールを整列できるので、貯留槽内の導電性ボー
ルの高効率消費が実現できる。
According to the above-described process, the conductive balls inserted first can be supplied first, so that it is possible to mount conductive balls of a certain quality. In addition, since it is forcibly replenished to the alignment mask opening by squeezing,
Even if the remaining amount of the conductive balls in the storage tank is low,
Since the conductive balls can be arranged, highly efficient consumption of the conductive balls in the storage tank can be realized.

【0029】また、この時、供給用マスク開口部と基板
の電極の位置合わせは、CCDカメラを用いた画像認識
が良く、マスク位置と基板位置を認識することにより位
置合わせを行う。但し、マスク位置と基板位置を認識
し、位置合わせができれば、認識方法を限定するもので
はない。
At this time, the alignment between the opening of the supply mask and the electrode of the substrate is performed by image recognition using a CCD camera, and the alignment is performed by recognizing the mask position and the substrate position. However, the recognition method is not limited as long as the mask position and the substrate position can be recognized and alignment can be performed.

【0030】これにより、導電性ボールの搭載位置が高
精度なボール搭載が実現できる。
As a result, the ball can be mounted with a highly accurate mounting position of the conductive ball.

【0031】ここで、整列用マスクの全ての箇所の開口
部に於いて、導電性ボールが1個ずつ保持される形状に
設計、製作する。また、供給用マスクに於いても、導電
性ボールの位置ずれ量が、プロセス条件内で収まる様に
搭載される形状に設計、製作する。
Here, the conductive balls are designed and manufactured so that the conductive balls are held one by one in all the openings of the alignment mask. Also in the supply mask, the conductive ball is designed and manufactured so as to be mounted so that the amount of displacement of the conductive ball falls within the process conditions.

【0032】第12図は、整列用マスク21、及び供給
用マスク22の断面図の一例を示す。設計でポイントと
なるところは、導電性ボール1の径dに対する、整列用
マスク21の開口径D1、前記整列用マスク21の厚さ
T、供給用マスク22の開口部D2。3箇所の寸法であ
る。
FIG. 12 shows an example of a sectional view of the alignment mask 21 and the supply mask 22. The key points in the design are the opening diameter D1 of the alignment mask 21, the thickness T of the alignment mask 21, and the opening D2 of the supply mask 22, with respect to the diameter d of the conductive ball 1. is there.

【0033】まず、第13図に、整列用マスクに於ける
開口径(直径)と開口部内のボール数の関係を示す。横
軸は整列用マスク開口径D1/ボール直径dの比(以下
D1/d比と呼ぶ)、縦軸は開口部内ボール数Bi(開
口部全箇所のボール数÷開口部数)を示している。
First, FIG. 13 shows the relationship between the opening diameter (diameter) in the alignment mask and the number of balls in the opening. The horizontal axis indicates the ratio of the alignment mask opening diameter D1 / ball diameter d (hereinafter, referred to as D1 / d ratio), and the vertical axis indicates the number Bi of balls in the opening (the number of balls in all openings / the number of openings).

【0034】図の様に、D1/d比が0.9以下の場合
は、開口部内のボールは全く存在せず、0.9〜A点
(D1/d比1.1)の範囲で急激に上昇し、A点〜B
点(D1/d比1.65)の範囲で規定数のボールが開
口部内に存在する。また、B点から再び上昇曲線を描
き、B点以上の範囲では、規定数に対し、開口部内に過
剰の導電性ボールが存在してしまう。
As shown in the figure, when the D1 / d ratio is 0.9 or less, there is no ball in the opening, and the ball sharply falls within the range of 0.9 to point A (D1 / d ratio 1.1). Rise to point A to point B
A specified number of balls exist in the opening within the range of the point (D1 / d ratio 1.65). In addition, an ascending curve is drawn again from the point B. In a range beyond the point B, an excessive number of conductive balls are present in the opening with respect to the specified number.

【0035】よって、D1/d比は、第13図中のA〜
B点間(1.1〜1.65)が適正範囲となる。
Therefore, the D1 / d ratio is determined by A to D in FIG.
The range between the points B (1.1 to 1.65) is in an appropriate range.

【0036】次に、第14図に、整列用マスクに於ける
マスク厚さと開口部内のボール数の関係を示す。横軸は
整列用マスク厚T/ボール直径dの比(以下T/d比と
呼ぶ)、横軸は開口部内ボール数Bi(開口部全箇所の
ボール数÷開口部数)を示している。
Next, FIG. 14 shows the relationship between the mask thickness in the alignment mask and the number of balls in the opening. The horizontal axis indicates the ratio of the alignment mask thickness T / ball diameter d (hereinafter referred to as the T / d ratio), and the horizontal axis indicates the number Bi of balls in the opening (the number of balls in all openings / the number of openings).

【0037】図の様に、T/d比が0.9以下の場合
は、開口部内のボールは全く存在せず、0.9〜C点
(T/d比1.1)の範囲で急激に上昇し、C点〜D点
(T/d比1.47)の範囲で規定数のボールが存在す
る。また、D点から再び上昇曲線を描き、D点以上の範
囲では、規定数に対し、開口部内に過剰の導電性ボール
が存在してしまう。
As shown in the figure, when the T / d ratio is 0.9 or less, no ball exists in the opening, and the ball sharply falls within the range of 0.9 to point C (T / d ratio 1.1). , And a specified number of balls exist in the range from the point C to the point D (T / d ratio 1.47). In addition, an ascending curve is drawn again from the point D. In the range above the point D, an excessive number of conductive balls are present in the opening with respect to the specified number.

【0038】よって、T/d比は、第14図中のC〜D
点間(1.1〜1.47)が適正範囲となる。
Therefore, the T / d ratio can be determined by comparing C to D in FIG.
The appropriate range is between the points (1.1 to 1.47).

【0039】3つ目に、第15図に、供給用マスクに於
ける開口径(直径)と搭載時のボール位置ずれ量の関係
を示す。横軸は供給用マスク開口径D2/ボール直径d
の比(以下D2/d比と呼ぶ)、縦軸はボール位置ずれ
量R/ボール半径rの比(以下R/r比と呼ぶ)を示し
ている。
Third, FIG. 15 shows the relationship between the opening diameter (diameter) in the supply mask and the amount of ball displacement during mounting. The horizontal axis is the supply mask opening diameter D2 / ball diameter d.
(Hereinafter referred to as D2 / d ratio), and the vertical axis indicates the ratio of ball displacement R / ball radius r (hereinafter referred to as R / r ratio).

【0040】図の様に、D2/d比が大きくなるに伴
い、R/r比も大きくなる。即ちボールの位置ずれが大
きくなる。結果、隣接ボールと接触し、外部電極形成不
良が発生してしまう。外部電極形成が成立するには一定
の条件が有り、ボール位置ずれ量を成立条件内に抑える
ことが必要となり、供給用マスク開口径D2は、可能な
限り小さくする必要が有る。しかしながら、供給用マス
ク開口径D2を小さくし過ぎると、公差の関係上、開口
部よりボールが切り離せなくなる。ボールを切り離す為
の開口径は、整列用マスク開口径の適正範囲で述べた、
開口部内へ規定のボール数を整列させる条件より、E点
(D2/d比1.1)となる。また、ボール位置ずれ量
の成立条件をクリアする範囲は、プロセス条件より、F
点(D2/d比1.26)までとなる。
As shown, as the D2 / d ratio increases, the R / r ratio also increases. That is, the displacement of the ball becomes large. As a result, it comes into contact with the adjacent ball, and a defective external electrode is formed. There are certain conditions for the formation of the external electrodes to be established, and it is necessary to suppress the ball position shift amount within the conditions to be established. The supply mask opening diameter D2 must be as small as possible. However, if the supply mask opening diameter D2 is too small, the ball cannot be separated from the opening due to tolerance. The opening diameter for separating the ball is described in the appropriate range of the mask opening diameter for alignment.
The point E (D2 / d ratio 1.1) is obtained from the condition for aligning the prescribed number of balls in the opening. Further, the range in which the condition for establishing the ball position deviation amount is satisfied is determined by F
Up to the point (D2 / d ratio 1.26).

【0041】よってD2/d比は、第15図中のE〜F
点間(1.1〜1.26)が適正範囲となる。
Accordingly, the D2 / d ratio is determined by the values of E to F in FIG.
The appropriate range is between the points (1.1 to 1.26).

【0042】以上の整列用マスク、及び供給用マスクの
形状最適化により、導電性ボール搭載個数、及び搭載位
置が高精度なボール搭載が実現できる。
By optimizing the shapes of the alignment mask and the supply mask as described above, it is possible to realize the ball mounting with a high number of conductive balls and the mounting position.

【0043】本実施例のボール搭載方法及び装置の適用
によって、生産コストの低減、高精度なボール搭載が可
能になる。
By applying the ball mounting method and apparatus of this embodiment, it is possible to reduce the production cost and mount the ball with high accuracy.

【0044】また、ボールを搭載する対象となるもの
は、基板の代りにウェハでも構わない。
The object on which the balls are mounted may be a wafer instead of a substrate.

【0045】次に、本発明の第2の実施例を第16図を
参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0046】本実施例は、実施例1の導電性ボール搭載
に於いて、導電性ボール整列の為に導電性ボール1をス
キージングする際に、ある理由により整列用マスク21
の全開口部23へ導電性ボール1が充填・整列されない
場合の解決方法である。
In this embodiment, when the conductive balls 1 are squeezed to align the conductive balls in the mounting of the conductive balls of the first embodiment, the alignment mask 21 is used for some reason.
This is a solution to the case where the conductive balls 1 are not filled and aligned in all the openings 23 of the first embodiment.

【0047】第16図の様に、1回のスキージングで未
充填箇所が発生した場合に、同一エリアを複数回スキー
ジングすることにより、全開口部へ導電性ボール1を充
填・整列させることができる。
As shown in FIG. 16, when an unfilled portion is generated by one squeezing, the same area is squeezed a plurality of times to fill and align the conductive balls 1 in all openings. Can be.

【0048】ここで、スキージング回数は何度繰り返し
ても良く、限定するものではない。
Here, the number of times of squeezing may be repeated any number of times and is not limited.

【0049】次に、本発明の第3の実施例を第17図を
参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0050】本実施例は、実施例1及び実施例2の導電
性ボール搭載に於いて、整列用マスク開口部23内へ導
電性ボール1を整列した後の、整列検査方法である。
This embodiment is an alignment inspection method after the conductive balls 1 are aligned in the alignment mask openings 23 in the conductive ball mounting of the first and second embodiments.

【0051】第17図の様に、透明体製供給用マスク3
1を使用することにより、導電性ボール整列の為のスキ
ージング動作と同様に、整列用マスク開口部23内の導
電性ボール1の有無を、CCDカメラ32により検査で
きる。
As shown in FIG. 17, the transparent supply mask 3 is formed.
By using the CCD camera 1, the presence or absence of the conductive ball 1 in the alignment mask opening 23 can be inspected by the CCD camera 32, similarly to the squeezing operation for aligning the conductive ball.

【0052】この手段を実施例1、及び実施例2に付加
することによって、より高精度な導電性ボール供給方法
及び装置が実現可能となる。
By adding this means to the first and second embodiments, a more accurate method and apparatus for supplying conductive balls can be realized.

【0053】ここで、透明体製供給用マスクの材質は、
透明であれば限定するものではない。
Here, the material of the transparent supply mask is as follows:
There is no limitation as long as it is transparent.

【0054】次に、本発明の第4の実施例を第18図を
参照して説明する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0055】本実施例は、導電性ボール搭載工程に於い
て、整列用マスク開口部23または供給用マスク開口部
24に留まった導電性ボール1を強制的に切り離し、電
極4上へ搭載する解決手段を付加した導電性ボール供給
方法及び装置である。
In the present embodiment, the conductive ball 1 remaining in the alignment mask opening 23 or the supply mask opening 24 is forcibly cut off and mounted on the electrode 4 in the conductive ball mounting step. A method and apparatus for supplying a conductive ball to which means are added.

【0056】この解決手段として、第18図に示される
方法を提案する。
As a solution to this, a method shown in FIG. 18 is proposed.

【0057】本実施例の導電性ボール搭載方法では、整
列用マスク21をスライドさせた後、エアブロー発生手
段41によりエアブロー42を発生させ、整列用マスク
21上部から整列用マスク開口部23、供給用マスク開
口部24へ垂直方向に吹き付けることにより、開口部内
に留まった導電性ボールを強制的に切り離し、電極4上
へ搭載する。
In the conductive ball mounting method of the present embodiment, after the alignment mask 21 is slid, an air blow 42 is generated by the air blow generation means 41, and the alignment mask opening 23 and the supply mask are formed from above the alignment mask 21. The conductive ball remaining in the opening is forcibly cut off by spraying the mask onto the mask opening 24 in the vertical direction, and mounted on the electrode 4.

【0058】この手段を実施例1及び実施例2に付加す
ることによって、より高精度な導電性ボール供給方法及
び装置が実現可能となる。
By adding this means to the first and second embodiments, a more accurate conductive ball supply method and apparatus can be realized.

【0059】次に、本発明の第5の実施例を第19図を
参照して説明する。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0060】本実施例は、実施例4と同様、導電性ボー
ル搭載工程に於いて、整列用マスク開口部23または供
給用マスク開口部24に留まった導電性ボール1を強制
的に切り離し、電極4上へ搭載する解決手段を付加した
導電性ボール供給方法及び装置である。
In the present embodiment, the conductive balls 1 remaining in the alignment mask opening 23 or the supply mask opening 24 are forcibly cut off in the conductive ball mounting step, similarly to the fourth embodiment. 4 is a method and apparatus for supplying a conductive ball to which a solution to be mounted on the conductive ball is added.

【0061】第19図に示される様に、整列用マスク2
1をスライドさせた後、振動発生手段51により振動5
2を発生させ、整列用マスク21上部から整列用マスク
開口部23、供給用マスク開口部24へ垂直方向に吹き
付けることにより、開口部内に留まった導電性ボールを
強制的に切り離し、電極4上へ搭載する。
As shown in FIG. 19, alignment mask 2
1 is slid, and the vibration 5
2 is generated, and the conductive balls remaining in the openings are forcibly cut off by spraying vertically from above the alignment mask 21 onto the alignment mask opening 23 and the supply mask opening 24, and onto the electrode 4. Mount.

【0062】この手段を実施例1及び実施例2に付加す
ることによって、より高精度な導電性ボール供給方法及
び装置が実現可能となる。
By adding this means to the first and second embodiments, a more accurate method and apparatus for supplying conductive balls can be realized.

【0063】次に、本発明の第6の実施例を第20図を
参照して説明する。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0064】本実施例は、実施例1及び実施例2の導電
性ボール搭載に於いて、基板3上の電極4の配列パター
ンの多様性に対応する手段として、第20図に示される
方法を提案する。
The present embodiment uses the method shown in FIG. 20 as a means for responding to the diversity of the arrangement pattern of the electrodes 4 on the substrate 3 in the conductive ball mounting of the first and second embodiments. suggest.

【0065】本実施例の導電性ボール搭載方法では、フ
ルグリッド状の配列で開口部を設けた供給用マスク22
に対し、整列用マスク21は、基板3の電極4と同配列
の開口部を設けることで、整列用マスク21のみの交換
で、新しい品種の基板に対応できる。また、交換治具は
整列用マスク21のみであるで、新品種生産に必要な投
資も安価となる。
In the conductive ball mounting method of this embodiment, the supply mask 22 having openings in a full grid arrangement is provided.
On the other hand, the alignment mask 21 is provided with openings in the same arrangement as the electrodes 4 of the substrate 3, so that a new type of substrate can be handled by replacing only the alignment mask 21. Also, since the replacement jig is only the alignment mask 21, the investment required for the production of new varieties can be reduced.

【0066】以下に、本発明の実施例の効果をまとめて
おく。
The effects of the embodiment of the present invention will be summarized below.

【0067】以上説明したように、整列用マスクを重ね
合わせ、その上で導電性ボールをスキージングし開口部
に充填させた後、整列用マスクをスライドさせることに
より、供給する導電性ボールの質を安定でき、且つ材料
の先入れ先出しを実現することができる。
As described above, after the alignment masks are overlapped, the conductive balls are squeezed thereon to fill the openings, and then the alignment masks are slid to provide the quality of the conductive balls to be supplied. Can be stabilized, and material can be first-in-first-out.

【0068】また、スキージングにより強制的に導電性
ボールを開口部へ充填させるので、導電性ボールを効率
よく消費し、生産コストの低減を図ることができる。
Further, since the conductive balls are forcibly filled into the openings by squeezing, the conductive balls can be efficiently consumed, and the production cost can be reduced.

【0069】また、整列用マスクの形状を最適範囲に設
計、製作することで高精度なボール搭載を実現できる。
Further, by designing and manufacturing the shape of the alignment mask within the optimum range, it is possible to realize high-precision ball mounting.

【0070】また、供給用マスクの材質に、例えばガラ
スなどの透明体を用いることで、供給用マスクの下面か
ら、導電性ボール整列と並行して、開口部内の導電性ボ
ールの有無を検査できるので、インデックス削減を図る
ことができる。
Further, by using a transparent material such as glass as the material of the supply mask, the presence or absence of conductive balls in the opening can be inspected from the lower surface of the supply mask in parallel with the alignment of the conductive balls. Therefore, the index can be reduced.

【0071】また、導電性ボールを搭載する際、マスク
上部よりエアブローあるいは振動により、マスク開口部
内に留まった導電性ボールを強制的に切り離すことによ
り、より高精度なボール搭載が可能になる。
Further, when the conductive balls are mounted, the conductive balls remaining in the mask openings are forcibly cut off by air blow or vibration from the upper portion of the mask, so that more accurate ball mounting becomes possible.

【0072】更には、フルグリッド状の開口部を設けた
供給用マスクと、基板の電極と同配列の開口部を設けた
整列用マスクを用いることで、電極の配列が異なる基板
を対応する際、整列用マスクのみの交換で、新しい品種
の基板に対応できる。また、交換治具は整列用マスクの
みであるので、新品種生産に必要な投資も安価となる。
Further, by using a supply mask provided with a full-grid opening and an alignment mask provided with openings of the same arrangement as the electrodes of the substrate, it is possible to cope with substrates having different electrode arrangements. By replacing only the alignment mask, a new type of substrate can be handled. Also, since the replacement jig is only the alignment mask, the investment required for the production of new varieties can be reduced.

【0073】[0073]

【発明の効果】本発明は上述の構成をとることにより、
整列用マスクを重ね合わせ、その上で導電性ボールをス
キージングし開口部に充填させた後、整列用マスクをス
ライドさせることにより、供給する導電性ボールの質を
安定でき、且つ材料の先入れ先出しを実現することがで
きる。
According to the present invention, by adopting the above structure,
After overlaying the alignment mask and squeezing the conductive balls onto the openings to fill the openings, the alignment mask is slid to stabilize the quality of the conductive balls to be supplied, and to first-in, first-out materials. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 フラックスと導電性ボールを別々に供給する
導電性ボール搭載方法の工程フロー図。
FIG. 1 is a process flow diagram of a conductive ball mounting method for separately supplying a flux and conductive balls.

【図2】 フラックスを導電性ボールを介し供給する導
電性ボール搭載方法の工程フロー図
FIG. 2 is a process flow diagram of a conductive ball mounting method for supplying a flux through conductive balls.

【図3】 ピン転写方式を用いたフラックス塗布方法の
断面模式図。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a flux coating method using a pin transfer method.

【図4】 導電性ボール吸着方法の断面模式図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a conductive ball suction method.

【図5】 導電性ボール搭載方法の断面模式図。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a conductive ball mounting method.

【図6】 ボール転写法方式を用いたフラックス供給方
法の断面模式図。
FIG. 6 is a schematic sectional view of a flux supply method using a ball transfer method.

【図7】 ボール整列工程に於けるボール欠損吸着不良
の断面模式図。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a ball defect suction failure in a ball alignment step.

【図8】 ボール整列工程に於けるボール過剰吸着不良
の断面模式図。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a ball excessive suction failure in a ball alignment step.

【図9】 ボール整列工程に於ける不良ボール吸着不良
の断面模式図。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a defective ball suction failure in a ball alignment process.

【図10】 実施例1の導電性ボールの整列方法の断面
模式図。
FIG. 10 is a schematic sectional view of a method for aligning conductive balls according to the first embodiment.

【図11】 実施例1の導電性ボールの搭載方法の断面
模式図。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a method for mounting a conductive ball according to the first embodiment.

【図12】 整列用マスクと供給用マスクの断面模式
図。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of an alignment mask and a supply mask.

【図13】 整列用マスク開口径と開口部内ボール数の
関係を示す図。
FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the alignment mask opening diameter and the number of balls in the opening.

【図14】 整列用マスク厚と開口部内ボール数の関係
を示す図。
FIG. 14 is a view showing the relationship between the thickness of an alignment mask and the number of balls in an opening.

【図15】 供給用マスク開口径とボール位置ずれ量の
関係を示す図。
FIG. 15 is a diagram showing a relationship between a supply mask opening diameter and a ball position shift amount.

【図16】 実施例2の導電性ボールの整列方法の断面
模式図。
FIG. 16 is a schematic sectional view of a method for aligning conductive balls according to a second embodiment.

【図17】 実施例3の開口部内ボール整列検査方法の
断面模式図。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of the method for inspecting the alignment of balls in an opening in the third embodiment.

【図18】 実施例4のエアブローを使用した開口部内
導電性ボール切り離し解決手段を示す図。
FIG. 18 is a diagram showing a means for separating conductive balls in an opening using an air blow according to the fourth embodiment.

【図19】 実施例5の振動を使用した開口部内導電性
ボール切り離し解決手段を示す図。
FIG. 19 is a view showing a means for solving conductive ball separation in an opening using vibration according to the fifth embodiment.

【図20】 実施例6の電極の配列パターンの多様性に
対応する導電性ボール搭載方法の断面模式図。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view of a conductive ball mounting method corresponding to a variety of electrode arrangement patterns according to the sixth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…導電性ボール 2…フラックス 3…基板 4…電極 5…搭載ヘッド 6…ボール貯留槽 7…フラックス槽 8…スキージ 9…剣山ピン 10…ステージ 11…エア吸引手段 12…エア流廃棄手段 13…エア流路(吸引側) 14…エア流路(廃棄側) 15…エア流路開閉手段(吸引側) 16…エア流路開閉手段(廃棄側) 17…吸着穴 18…古導電性ボール 21…整列用マスク 22…供給用マスク 23…整列用マスク開口部 24…供給用マスク開口部 31…透明体製供給用マスク 32…CCDカメラ 41…エアブロー発生手段 42…エアブロー 51…振動発生手段 52…振動 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive ball 2 ... Flux 3 ... Substrate 4 ... Electrode 5 ... Mounting head 6 ... Ball storage tank 7 ... Flux tank 8 ... Squeegee 9 ... Kenzan pin 10 ... Stage 11 ... Air suction means 12 ... Air flow disposal means 13 ... Air flow path (suction side) 14 ... Air flow path (discard side) 15 ... Air flow path opening / closing means (suction side) 16 ... Air flow path opening / closing means (disposal side) 17 ... Suction hole 18 ... Old conductive ball 21 ... Alignment mask 22 ... Supply mask 23 ... Alignment mask opening 24 ... Supply mask opening 31 ... Transparent supply mask 32 ... CCD camera 41 ... Air blow generating means 42 ... Air blow 51 ... Vibration generating means 52 ... Vibration

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 哲也 三重県四日市市山之一色町800番地 株式 会社東芝四日市工場内 Fターム(参考) 5E319 AA03 AC01 BB04 CD04 CD26 CD51 CD53 GG09 GG15  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Tetsuya Yamamoto 800 Yamano Isshiki-cho, Yokkaichi, Mie Prefecture F-term in Toshiba Yokkaichi Plant (reference)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 実質的に同配列及び同開孔形状を有する
整列用マスクと供給用マスクとの開孔部分をずらし重ね
合わせる第1の工程と、 前記整列用マスクの開孔に導電性ボールを入れる第2の
工程と、 前記整列用マスクと前記供給用マスクとの開孔部分を一
致させ、基板に所定の配列で前記導電性ボールを配置す
る第3の工程を備えたことを特徴とする導電性ボールの
搭載方法。
1. A first step in which opening portions of an alignment mask and a supply mask having substantially the same arrangement and the same opening shape are shifted and overlapped, and a conductive ball is provided in the opening of the alignment mask. And a third step of aligning the opening portions of the alignment mask and the supply mask and disposing the conductive balls in a predetermined arrangement on a substrate. Mounting method for conductive balls.
【請求項2】 前記整列用マスクは、その開孔径と導電
性ボールの直径との比が1.1乃至1.65の範囲にあ
り且つ前記整列用マスク厚と前記導電性ボールの直径と
の比が1.1乃至1.47の範囲にある開孔形状を有
し、 更に前記供給用マスクは、その開孔径と導電性ボールの
直径との比が1.1乃至1.26の範囲にあることを特
徴とする請求項1記載の導電性ボールの搭載方法。
2. The alignment mask according to claim 1, wherein a ratio between an opening diameter of the alignment mask and a diameter of the conductive ball is in a range of 1.1 to 1.65. The supply mask has an opening shape having a ratio in the range of 1.1 to 1.47, and the supply mask has a ratio of the opening diameter to the diameter of the conductive ball in the range of 1.1 to 1.26. 2. The method according to claim 1, wherein the conductive ball is mounted.
【請求項3】 前記第2の工程は、スキジング動作によ
り前記整列用マスクの開孔に前記導電性ボールを入れる
工程であることを特徴とする請求項1記載の導電性ボー
ルの搭載方法。
3. The method of claim 1, wherein the second step is a step of inserting the conductive ball into an opening of the alignment mask by a skidding operation.
【請求項4】 前記第3の工程は、前記整列用マスクと
前記供給用マスクとの開孔部分を一致させ、基板に所定
の配列で前記導電性ボールを配置するに際し、前記供給
用マスクの材質が透明部材からなり、前記供給用マスク
の下面よりセンサを用いて前記導電性ボールの整列検査
を同時に行うことを特徴とする請求項1記載の導電性ボ
ールの搭載方法。
4. The method according to claim 3, wherein the aligning mask and the supply mask are aligned with each other in an opening portion, and when arranging the conductive balls in a predetermined arrangement on a substrate, the supply mask is formed. 2. The method for mounting conductive balls according to claim 1, wherein the material is formed of a transparent member, and the alignment inspection of the conductive balls is performed simultaneously from the lower surface of the supply mask using a sensor.
JP2000335519A 2000-11-02 2000-11-02 Method for mounting conductive ball Pending JP2002141366A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000335519A JP2002141366A (en) 2000-11-02 2000-11-02 Method for mounting conductive ball

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000335519A JP2002141366A (en) 2000-11-02 2000-11-02 Method for mounting conductive ball

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002141366A true JP2002141366A (en) 2002-05-17

Family

ID=18811247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000335519A Pending JP2002141366A (en) 2000-11-02 2000-11-02 Method for mounting conductive ball

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002141366A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165667A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Nec Corp Device and method for mounting ball
JP2007299836A (en) * 2006-04-28 2007-11-15 Shibuya Kogyo Co Ltd Arrangement apparatus of conductive ball
US7644856B2 (en) 2006-11-07 2010-01-12 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Solder ball mounting method and solder ball mounting apparatus
KR101128645B1 (en) 2010-07-01 2012-03-26 삼성전기주식회사 Mask frame apparatus for solder ball mounting

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165667A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Nec Corp Device and method for mounting ball
JP4715497B2 (en) * 2005-12-15 2011-07-06 日本電気株式会社 Ball mounting device
JP2007299836A (en) * 2006-04-28 2007-11-15 Shibuya Kogyo Co Ltd Arrangement apparatus of conductive ball
US7644856B2 (en) 2006-11-07 2010-01-12 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Solder ball mounting method and solder ball mounting apparatus
KR101128645B1 (en) 2010-07-01 2012-03-26 삼성전기주식회사 Mask frame apparatus for solder ball mounting
US8348132B2 (en) 2010-07-01 2013-01-08 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Mask frame apparatus for mounting solder balls

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100856101B1 (en) Screen printer
JP5098434B2 (en) Solder ball printing device
KR100391237B1 (en) Bump forming method and bump forming system
JP5076922B2 (en) Solder ball printing device
JP3303109B2 (en) Solder ball supply device and supply method
JP4503053B2 (en) Conductive ball mounting apparatus and mounting method
KR100576406B1 (en) Flux reservoir and flux transferring method
KR20080055715A (en) Screen printing machine and bump forming method
US20030102101A1 (en) Method and apparatus for forming solder balls
JP2002141366A (en) Method for mounting conductive ball
JP2006173195A (en) Arrangement method and device of minute particles
JP2006108200A (en) Solder printing system
KR101128645B1 (en) Mask frame apparatus for solder ball mounting
US6954272B2 (en) Apparatus and method for die placement using transparent plate with fiducials
US5114878A (en) Method of bonding bumps to leads of tab tape and an apparatus for arranging bumps used for the same
CN101026108A (en) Flip chip package method and its circuit substrate solder preforms forming method
KR20100033743A (en) Solder ball bumping unit comprising rotating means and wafer bumping apparatus comprising the same, and bumping method using the same
JPH10126046A (en) Equipment for manufacturing ball grid array
JP2000353717A (en) Manufacture of semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus
JP7468943B1 (en) Ball mounting device and ball mounting method
JP4499446B2 (en) Ball mounting apparatus and ball mounting method
JPH01321685A (en) Suction jig for substrate
TWM641103U (en) Semiconductor Component Repair System
KR100453689B1 (en) Method and apparatus for filtering automatic ball size of ball bumping system for fabricating semiconductor package to prevent picker from picking up missing ball, oversize ball and undersize ball
JP4105022B2 (en) Conductive ball array mounting method and apparatus, and bump forming method and apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050414

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050606