JP2002139609A

JP2002139609A - 銀の増反射膜およびそれを用いたカラー液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002139609A
Application number: JP2000331296A
Authority: JP
Inventors: Terubumi Maeno; 光史前野; Mitsuhiro Tanaka; 充浩田中; Yoshiyuki Sagou; 由志佐合
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2000-10-30
Filing date: 2000-10-30
Publication date: 2002-05-17

Abstract

(57)【要約】【課題】色調を改善するためにＳｉＮ膜を用いても銀
あるいはその合金膜と剥離しない銀の増反射膜とこの銀
の増反射膜を用いた半透過反射型または反射型液晶表示
装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置２が備える一方基板６の透
光性基板３１の上に、マット層３２が形成され、このマ
ット層３２の上に半透過反射金属膜である銀の合金膜３
３が形成さる。この銀の合金膜３３の上にＳｉＮ膜３４
が形成され、このＳｉＮ膜３４の上にＳｉＯ₂膜３５が
形成される。さらにこの上に、カラーフィルタ電着用Ｉ
ＴＯ膜３６が形成される。ＳｉＮ膜３４とカラーフィル
タ電着用ＩＴＯ膜３６との間に、ＳｉＯ₂膜を形成する
ことによって、製造工程で受ける熱などによって発生す
る応力で、銀の合金膜３３とＳｉＮ膜３４との界面に生
じる剥離を防ぐことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射光を利用して
表示を行う半透過反射型あるいは反射型カラー液晶表示
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図７は、従来の半透過反射型カラーＳＴ
Ｎ液晶表示装置１（以下、液晶表示装置１と略記する）
の断面図である。液晶表示装置１が備える一対の透光性
基板１１，２１のうち、透光性基板１１の一方表面１１
ａ上には、樹脂から成る下地凹凸層（マット層）１２
と、この下地凹凸層１２に沿って凹凸に形成される半透
過反射金属膜１３と、保護膜である酸化シリコン（Ｓｉ
Ｏ₂）膜１５と、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）色
のカラーフィルタ１７ａ，１７ｂおよび１７ｃを形成す
るときに電着用電極として用いる電着用透明導電層１６
と、前記カラーフィルタ１７ａ，１７ｂ，１７ｃおよび
ブラックマトリクス１７ｄと、平坦化膜としてのオーバ
ーコート膜１８と、表示用電極としての駆動用ＩＴＯ
（Indium TinOxide）膜１９と、配向膜２０がこの順に
形成されている。透光性基板２１の一方表面２１ａ上に
は、表示用電極としての駆動用ＩＴＯ膜２２と、トップ
コート層２３と、配向膜２４とがこの順に形成されてい
る。

【０００３】以上のような透光性基板１１，２１に挟ま
れた部分に液晶９とスペーサ（図示しない）が封入され
る。また、透光性基板１１，２１の相互に反対側表面に
は、位相差板５，６と偏光板７，８とがこの順でそれぞ
れ配置される。

【０００４】また、液晶表示装置１では、偏光板７の位
相差板５とは反対側（表示面の裏側）に図示はしていな
いがバックライトを配置した構成とし、透過光を用いて
表示を行うこともできる。前記バックライトは、導光板
の端面から入射され、導光板内を導かれ、液晶セルに向
かって導光板の片側表面から光が出射されるものであ
る。

【０００５】前記ＳｉＯ₂膜１５と電着用透明導電層１
６とは、増反射膜としての効果があるように膜厚が設定
されるのが一般的である。また、半透過反射金属膜１３
には、銀や銀合金のほかにアルミニウム合金などが用い
られるが、アルミニウム合金に比べ、きわめて高い反射
率を有する銀もしくは銀合金を採用するのが一般的であ
る。しかしながら、銀および銀合金の半透過反射膜は短
波長域の反射率が低いので、反射表示では色調が悪くな
るという問題がある。

【０００６】このような問題に鑑み、特開平１１−２４
０７号公報では、可視光領域の反射率をほぼ一定にする
ため、短波長域の反射率を改善した銀の増反射膜および
それを用いた反射型液晶表示装置が開示されている。具
体的には、銀あるいはその合金膜の上に、短波長域の反
射率を増加させるよう屈折率が比較的小さい第１の透光
性膜であるＳｉＯ₂膜と、この第１の透光性膜の上に、
第１の透光性膜より屈折率が比較的大きい第２の透光性
膜であるＩＴＯ膜、ＴｉＯ₂膜またはＳｉＮ膜を積層す
ることで短波長域の屈折率を改善している。

【０００７】一方最近になり、色調、特に白色の色調が
改善されるということで、前記ＳｉＯ₂膜１５の代りに
ＳｉＮ膜を採用して、銀あるいはその合金膜の上にＳｉ
Ｎ膜、ＩＴＯ膜を順に積層した構成を持つ銀の増反射膜
が検討されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記液
晶表示装置１において、ＳｉＯ₂膜１５の代りにＳｉＮ
膜を用いた半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装置で
は、銀あるいはその合金膜とＳｉＮ膜との界面において
剥離が発生するという不具合が生じる。この剥離の原因
を本出願人等が考察した結果、その要因として製造工程
において生じる応力と、樹脂から成るマット層から発生
するガスとが関係しているとの推論を得た。

【０００９】まず、製造工程において生じる応力によっ
て剥離が生じる過程ついて説明する。順に積層されるオ
ーバーコート膜、カラーフィルタ、ＩＴＯ膜、ＳｉＮ
膜、銀およびその合金膜は、その膜組成から、オーバー
コート膜は軟質、カラーフィルタは軟質、ＩＴＯ膜は軟
質、ＳｉＮは硬質、銀およびその合金膜は硬質であると
それぞれ考えることができる。これらの膜はその形成工
程、特にオーバーコート膜の焼成時やそれ以降の製造工
程で熱によって衝撃を受けるので、それぞれの膜の界面
に応力がかかり、応力の差を吸収できない硬質層と硬質
層が隣接しているＳｉＮ膜と銀あるいはその合金膜との
界面にストレスが集中し、剥離が発生してしまうと考え
られる。

【００１０】さらに、銀あるいはその合金膜と透光性基
板との間に樹脂から成るマット層が形成されている場
合、硬質である銀あるいはその合金膜とＳｉＮ膜とには
上下両方から引張りあるいは押し応力が作用し、マット
層がない場合よりも剥がれやすくなってしまう。

【００１１】つぎに、マット層である樹脂膜から発生す
るガスによって剥離が生じる過程について説明する。順
に積層されるカラーフィルタ、ＩＴＯ膜、ＳｉＮ膜、マ
ット層は、その膜組成から、カラーフィルタは分子結合
構造が疎であるのでガス透過性はよい、ＩＴＯ膜は分子
結合構造が疎であるのでガス透過性はよい、ＳｉＮ膜は
分子結合構造が緻密であるのでガス透過性は極悪であ
る、銀およびその合金膜は分子結合構造が緻密であるの
でガス透過性は悪いがＳｉＮ膜ほど緻密ではない、マッ
ト層は樹脂であるのでガス発生しやすいという特徴を持
っている。このため、マット層から発生したガスは、銀
あるいはその合金膜は透過したもののＳｉＮ膜を通過す
ることができず、銀あるいはその合金とＳｉＮ膜との間
に溜まったガスによって、剥離が発生すると考えられ
る。

【００１２】本発明の目的は、色調を改善するためにＳ
ｉＮ膜を用いても銀あるいはその合金膜と剥離しない銀
の増反射膜とこの銀の増反射膜を用いた半透過反射型ま
たは反射型液晶表示装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に設け
た銀あるいはその合金膜の上に、窒化シリコン膜、ＩＴ
Ｏ膜をこの順に積層した銀の増反射膜において、前記窒
化シリコン膜とＩＴＯ膜との間に応力緩和膜を介在させ
たことを特徴とする銀の増反射膜である。

【００１４】本発明に従えば、硬質膜である銀あるいは
その合金膜と窒化シリコン膜とを積層しても、窒化シリ
コン膜とＩＴＯ膜との間に応力緩和膜を設ける構成とし
たことによって、銀あるいはその合金膜と窒化シリコン
膜との界面に集中する応力を分散することが可能とな
る。したがって、銀あるいはその合金膜と窒化シリコン
膜の界面において剥離や割れが発生しない。前記応力緩
和膜としては、たとえば、窒化シリコン膜よりも分子構
造が疎であるものが用いられる。

【００１５】また本発明は、前記応力緩和膜が酸化シリ
コン膜であることを特徴とする。本発明に従えば、酸化
シリコン膜は、窒化シリコン膜ほど緻密な分子結合構造
ではないので、応力緩和膜としての機能を持ち、オーバ
ーコート膜、カラーフィルタおよびＩＴＯ膜の応力歪み
を緩和する。したがって、銀あるいはその合金膜と窒化
シリコン膜との界面において剥離や割れが発生しない。
また、窒化シリコン膜という非常に安定で安価な材料を
使用することができ、製造を容易に行うことができる。

【００１６】さらに、このとき、窒化シリコン膜および
酸化シリコン膜の膜厚をそれぞれ調整することによっ
て、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、ＩＴＯ膜を積層
した膜を増反射膜となるように設計することができる。
窒化シリコン膜およびＩＴＯ膜を用いた銀の増反射膜と
同様な色調を再現することが可能である。

【００１７】また本発明は、前記窒化シリコン膜の厚み
は５０Å程度であり、前記酸化シリコン膜の厚みは２０
０Å程度であることを特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、窒化シリコン膜を従来に
比べ薄くすることによって、マット層から発生するガス
は窒化シリコン膜を透過し、また、酸化シリコン膜は窒
化シリコン膜ほど緻密な構造ではないためガスを透過す
るので、特定の界面にガスが溜まることがなくなり、剥
離や割れの発生を防止することが可能になる。また、窒
化シリコン膜および酸化シリコン膜の膜厚は色調など考
慮して前記の膜厚から±３０Åの範囲で適宜調整するこ
とですぐれた色調が再現できる。

【００１９】また本発明は、液晶を挟持する一対の基板
のうちの一方基板上に設けたマット層と銀あるいはその
合金膜の上に、窒化シリコン膜、ＩＴＯ膜、カラーフィ
ルタ、オーバーコート膜をこの順に積層し、反射光を利
用して表示を行うカラー液晶表示装置において、前記窒
化シリコン膜とＩＴＯ膜との間に応力緩和膜を形成した
ことを特徴とするカラー液晶表示装置である。

【００２０】本発明に従えば、熱などの衝撃によって応
力を生みやすい樹脂から成るマット層やオーバーコート
膜を銀あるいはその合金膜および窒化シリコン膜の下層
および上層に形成して成るカラー液晶表示装置であって
も、応力緩和膜がマット樹脂層・オーバーコート膜の熱
衝撃の応力を緩和するため、色調改善に窒化シリコン膜
を用いたカラー液晶表示装置の剥離防止が達成される。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態の
半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装置２（以下、液晶
表示装置２と略記する）の断面図である。液晶表示装置
２は、カラーフィルタ３７ａ，３７ｂ，３７ｃ、半透過
反射金属膜である銀の合金膜３３および窒化シリコン
（以下、ＳｉＮとする）膜３４、酸化シリコン（以下、
ＳｉＯ₂とする）膜およびＩＴＯ（Indium Tin Oxide）
膜から成る銀の増反射膜７を有する一方基板５と、この
基板３１に対向して配置される他方基板６との間に液晶
２９が挟持されて構成される。

【００２２】以下に、液晶表示装置２について更に詳し
く説明する。図２は、図１の液晶表示装置２の一方基板
５を拡大して示す断面図である。前記一方基板５は、透
光性基板３１の一方表面３１ａ上に、樹脂から成る下地
凹凸層（マット層）３２が形成され、この下地凹凸層３
２の上に凹凸に沿って銀の合金膜３３が形成される。こ
の銀の合金膜３３の上に保護膜であるＳｉＮ膜３４およ
びＳｉＯ₂膜３５が形成される。ＳｉＯ₂膜３５は、応力
緩和膜であり、前記銀の合金膜３３とＳｉＮ膜３４との
界面に生じる応力を緩和し、剥離を防止する。応力緩和
膜としては、ＳｉＯ₂膜３５のように、ＳｉＮ膜３４よ
りも分子結合構造が疎であることが好ましい。ＳｉＯ₂
膜３５の上には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）色
のカラーフィルタ３７ａ，３７ｂおよび３７ｃを電着法
を用いて形成するときに、電着用電極として用いるカラ
ーフィルタ電着用ＩＴＯ膜３６が形成される。このカラ
ーフィルタ電着用ＩＴＯ膜の上に前記カラーフィルタ３
７ａ，３７ｂ，３７ｃおよびブラックマトリクス３７ｄ
が形成され、この上に平坦化膜としてのオーバーコート
膜３８が形成される。このオーバーコート膜３８の上
に、表示用電極としての駆動用ＩＴＯ膜３９が形成さ
れ、この駆動用ＩＴＯ膜３９の上に配向膜４０が形成さ
れている。

【００２３】前記他方基板６は、透光性基板４１の一方
表面４１ａ上に、表示用電極としての駆動用ＩＴＯ膜４
２と、トップコート層４３と、配向膜４４とがこの順に
形成されている。

【００２４】前記一方基板５および他方基板６を対向し
て配置した間に、液晶２９とスペーサ（図示しない）が
封入されて液晶表示装置２が構成される。また、透光性
基板３１，４１の相互に反対側表面には、位相差板４
５，４６と偏光板４７，４８とがこの順でそれぞれ配置
される。また、液晶表示装置２では、偏光板４７の位相
差板４５とは反対側に図示はしていないがバックライト
を配置した構成になっている。前記バックライトは、導
光板の端面から入射され、導光板内を導かれ、液晶セル
に向かって導光板の片側表面から光が出射されるもので
ある。

【００２５】前記ＳｉＮ膜３４、ＳｉＯ₂膜３５、カラ
ーフィルタ電着用ＩＴＯ膜３６は、銀の増反射膜７を構
成する。本実施形態の液晶表示装置２では、銀の合金膜
３３の膜厚は３６０Å、ＳｉＮ膜３４の膜厚は５０Å、
ＳｉＯ₂膜３５の膜厚は２００Å、カラーフィルタ電着
用ＩＴＯ膜３６の膜厚は８００Åとした。また、本実施
形態の液晶表示装置２では、半透過反射金属膜として銀
の合金膜３３を用いているが、銀の膜を用いてもよい。

【００２６】次に、本実施形態の液晶表示装置２の一方
基板５において透光性基板３１の一方表面３１ａ上に形
成される銀の合金膜３３とＳｉＮ膜３４との密着力の評
価を行った。表１は、オーバーコート膜３８を焼成して
形成した後の密着力の評価の結果を示す。ここで密着力
の評価には、一般的な密着力を評価する方法である碁盤
目テープ剥離試験を用いた。また、比較のためにＳｉＮ
膜３４とＳｉＯ₂膜３５とを用いる代わりに膜厚が２０
０ÅのＳｉＮ膜のみを銀の合金膜３３およびカラーフィ
ルタ電着用ＩＴＯ膜３６との間に形成した基板について
も同様にして密着力の評価を行った結果も表１に示す。

【００２７】

【表１】

【００２８】ここで、図３を用いて碁盤目テープ剥離試
験を説明する。図３は、一方基板５においてオーバーコ
ート膜３８を焼成して形成した後の平面図を示す。碁盤
目テープ剥離試験とは、図３に示すようにオーバーコー
ト膜３８の完成基板表面にカッターナイフで碁盤目状に
傷を入れ（１ｍｍ間隔、１００マス）、その上にセロテ
ープ（登録商標）を貼付け、真上に素早く剥がす試験で
あり、この試験結果から密着力を評価した。表１で、○
印は剥離が発生したことを表し、×印は剥離が発生しな
かったことを表す。

【００２９】表１に示されるように、銀の合金膜３３の
保護膜としてＳｉＮ膜を単独で用いたときにはオーバー
コート膜３９の焼成温度が２５０℃以上において銀の合
金膜３３とＳｉＮ膜との界面において剥離が発生するの
に対して、本実施形態の液晶表示装置２では、ＳｉＮ膜
３４とＳｉＯ₂膜３５とを積層させた構造をとることに
よって、２７０℃においても剥離は発生せず、オーバー
コート膜３９の焼成後においても密着力を保っているこ
とがわかる。

【００３０】次に、液晶表示装置２の反射光による色調
についての評価を行った。液晶表示装置２の色調につい
ての評価を行う前に、液晶表示装置２との比較を行うた
めに２つの半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装置３，
４（以下、液晶表示装置３，４と略記する）を作成し
た。図４は、液晶表示装置３の一方基板を示す断面図で
あり、図５は、液晶表示装置４の一方基板を示す断面図
である。

【００３１】図４に示す液晶表示装置３は、銀の合金膜
５３とカラーフィルタ電着用ＩＴＯ膜５６との間にＳｉ
Ｏ₂膜５５のみを形成した構成であり、その他の部分は
前記液晶表示装置２と同様である。また、前記液晶表示
装置２と同様な部分には同一の符号を付している。液晶
表示装置３では、銀の合金膜５３の膜厚は３００Å、Ｓ
ｉＯ₂膜５５の膜厚は２００Å、カラーフィルタ電着用
ＩＴＯ膜５６の膜厚は８５０Åとした。

【００３２】また、図５に示す液晶表示装置４は、銀の
合金膜６３とカラーフィルタ電着用ＩＴＯ膜６６との間
にＳｉＮ膜６４のみを形成した構成であり、その他の部
分は前記液晶表示装置２と同様である。前記液晶表示装
置２と同様な部分には同一の符号を付している。また、
液晶表示装置４では、銀の合金膜６３の膜厚は３６０
Å、ＳｉＮ膜６４の膜厚は２００Å、カラーフィルタ電
着用ＩＴＯ膜６６の膜厚は８００Åとした。

【００３３】銀の合金膜の３３の保護膜としてのＳｉＯ
₂膜５５およびＳｉＮ膜６４の分光特性を図６に示す。
分光スペクトルの測定は、大塚電子製ＬＣＤ５０００使
用（ＩＭＵＣ）検出）を用いた。図６に示すように、Ｓ
ｉＯ₂膜５５では、ＳｉＮ膜６４に対して短波長での吸
収が大きくなっているため、反射光で黄色く色付きが見
られることになる。また、可視光領域において反射率の
ばらつきが少ないＳｉＮ膜６４を用いた方がＳｉＯ₂膜
５５を用いるよりも色付きが少ないため、ＳｉＮ膜６４
は色調の点ではＳｉＯ₂膜５５と比較して非常に優れて
いることがわかる。反射光を用いるカラー液晶表示装置
においては、液晶表示パネルの白色化が表示品位の点に
おいて望まれるので、保護膜としてＳｉＯ₂膜５５を単
独で用いる液晶表示装置３は反射表示に適さないことが
わかった。

【００３４】つぎに、本実施形態の液晶表示装置２およ
び比較のための液晶表示装置４の色測定を行った結果を
表２に示す。液晶表示装置４においては、ＳｉＮ膜６４
の膜厚を２００Å、３１０Å、４００Åとした場合の色
測定結果を示す。反射率測定装置としてミノルタ製の測
色計ＣＭ−１０００を用いた。反射率測定条件として、
拡散光源およびＡＲ（AntiReflection)フィルムを使用
した。

【００３５】

【表２】

【００３６】反射光を用いるカラー液晶表示装置におい
ては、色づきが少ない白色化が望まれていることから、
反射光では、ＣＩＥ（国際照明学会）Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊空間
における反射ｂ^＊値は小さい方が望ましい。したがっ
て、保護膜としてはＳｉＮ膜を単独で用いたときが最も
反射ｂ^＊値が小さく良好な表示が得られることになる。
したがって、液晶表示装置４のＳｉＮ膜３４の膜厚とし
ては、表２からＳｉＮ膜３４が厚くなると反射ｂ^＊値が
大きくなり黄色味が増すため、およそ２００Åが望まし
い。

【００３７】しかしながら、表１に示すように、オーバ
ーコート膜３９の焼成温度が２５０℃以上ではオーバー
コート膜３９の焼成時に熱によって衝撃を受け、膜の界
面に応力が生じ、銀の合金膜３３と保護膜であるＳｉＮ
膜６４との界面において剥離が発生してしまう。したが
って、保護膜としてＳｉＮ膜を単独で用いることは望ま
しくない。本実施形態の液晶表示装置２では、ＳｉＮ膜
３４およびＳｉＯ₂膜３５の膜厚について検討を行った
結果、ＳｉＮ膜３４の膜厚を５０Å、ＳｉＯ₂膜３５の
膜厚を２００Åとすることによって、膜厚が２００Åの
ＳｉＮ膜６４を単独で用いた液晶表示装置４とほぼ同じ
反射ｂ^＊値が得られ、良好な表示が得られることがわか
った。

【００３８】ここでＳｉＮ膜３４およびＳｉＯ₂膜厚３
５については一例を示したものであり、それぞれの膜厚
については好みの色調に合わせて、この膜厚を大きく離
れない範囲（±３０Åの範囲）で調整すればよい。

【００３９】表３に本実施形態の液晶表示装置２と比較
のための液晶表示装置３および液晶表示装置４の密着力
および色調の評価結果についてまとめる。表３では、○
印は優れていることを示し、×印は劣っていることを示
し、△印は○印と×印の間の評価であることを示す。

【００４０】

【表３】

【００４１】表３に示されるように、本実施形態の液晶
表示装置２は密着力、色調のいずれにおいても優れてい
ることがわかる。

【００４２】以上のように本発明によれば、色調改善に
ＳｉＮ膜を用いた半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装
置において、ＳｉＮ膜とカラーフィルタ電着用ＩＴＯ膜
との間に応力緩和膜を介在させることによって、半透過
反射金属膜である銀あるいはその合金膜とＳｉＮ膜との
剥離防止を達成することが可能となり、信頼性に優れた
液晶表示装置を得ることができる。また、応力緩和膜と
して、ＳｉＯ₂膜が使用でき、新たな設備投資を必要と
しないので、容易に形成することができる。さらに、応
力緩和膜を特定の厚みにすることによって、銀の反射膜
として作用し、優れた表示特性が発揮される。

【００４３】また、本実施形態では半透過反射型のカラ
ーＳＴＮ液晶表示装置についてのみ述べているが、バッ
クライトなどを用いて透過光によって表示を行わない反
射型のカラー液晶表示装置であっても同様の構成とする
ことで優れた表示特性および信頼性を得ることができ
る。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、銀あるいはその合金膜
と窒化シリコン膜との界面において剥離や割れが発生し
ないので、色調に優れた窒化シリコン膜を用いた銀の増
反射膜を形成することができる。

【００４５】また本発明によれば、酸化シリコン膜は、
窒化シリコン膜ほど緻密な分子結合構造ではないので、
応力緩和膜としての機能を持ち、オーバーコート膜、カ
ラーフィルタおよびＩＴＯ膜の応力歪みを緩和するの
で、銀あるいはその合金膜と窒化シリコン膜との界面に
おいて剥離や割れが発生しない。また、窒化シリコン膜
という非常に安定で安価な材料を使用することができ、
製造を容易に行うことができる。

【００４６】さらに、このとき、窒化シリコン膜および
酸化シリコン膜の膜厚をそれぞれ調整することによっ
て、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、ＩＴＯ膜を積層
した膜を増反射膜となるように設計することができる。
窒化シリコン膜およびＩＴＯ膜を用いた銀の増反射膜と
同様な色調を再現することが可能である。

【００４７】また本発明によれば、窒化シリコン膜を従
来に比べ薄くすることによって、マット層から発生する
ガスは窒化シリコン膜を透過し、また、酸化シリコン膜
は窒化シリコン膜ほど緻密な構造ではないためガスを透
過するので、特定の界面にガスが溜まることがなくな
り、剥離や割れの発生を防止することが可能になる。

【００４８】また本発明によれば、熱衝撃によって応力
を生みやすい樹脂から成るマット層やオーバーコート膜
を銀あるいはその合金膜および窒化シリコン膜の下層お
よび上層に形成して成るカラー液晶表示装置であって
も、応力緩和膜がマット樹脂層・オーバーコート膜の熱
衝撃の応力を緩和するため、色調改善に窒化シリコン膜
を用いたカラー液晶表示装置の剥離防止が達成され、表
示特性および信頼性に優れたカラー液晶表示装置が得ら
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態の半透過反射型カラーＳ
ＴＮ液晶表示装置２の断面図である。

【図２】図１の半透過反射型カラー液晶表示装置２の一
方基板５を拡大して示す断面図である。

【図３】碁盤目テープ剥離試験で、オーバーコート膜に
形成する碁盤目状の傷を示す平面図である。

【図４】保護膜としてＳｉＯ₂膜のみを用いた半透過反
射型カラーＳＴＮ液晶表示装置３の一方基板の断面図で
ある。

【図５】保護膜としてＳｉＮ膜のみを用いた半透過反射
型カラーＳＴＮ液晶表示装置４の一方基板の断面図であ
る。

【図６】銀の合金膜の保護膜としてのＳｉＯ_２膜および
ＳｉＮ膜の分光特性を示す図である。

【図７】従来の半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装置
１の断面図である。

【符号の説明】

１，２，３，４半透過反射型カラーＳＴＮ液晶表示装
置９，２９液晶３１，４１透明基板３２下地凹凸層（マット層）３３銀の合金膜３４，６４ＳｉＮ膜３５，５５ＳｉＯ₂膜３６カラーフィルタ電着用ＩＴＯ膜３７ａ，３７ｂ，３７ｃカラーフィルタ３８オーバーコート膜（平坦化膜）３９，４２駆動用ＩＴＯ膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐合由志大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA12 BA20 DA04 DA18 DE04 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Y FA15Y FA23Z FA35Y FA41Z GA02 GA08 GA16 HA10 LA15 LA30 2K009 BB06 CC02 CC03 EE00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に設けた銀あるいはその合金膜の
上に、窒化シリコン膜、ＩＴＯ膜をこの順に積層した銀
の増反射膜において、前記窒化シリコン膜とＩＴＯ膜との間に応力緩和膜を介
在させたことを特徴とする銀の増反射膜。
【請求項２】前記応力緩和膜が酸化シリコン膜である
ことを特徴とする請求項１記載の銀の増反射膜。
【請求項３】前記窒化シリコン膜の厚みは５０Å程度
であり、前記酸化シリコン膜の厚みは２００Å程度であ
ることを特徴とする請求項２記載の銀の増反射膜。
【請求項４】液晶を挟持する一対の基板のうちの一方
基板上に設けたマット層と銀あるいはその合金膜の上
に、窒化シリコン膜、ＩＴＯ膜、カラーフィルタ、オー
バーコート膜をこの順に積層し、反射光を利用して表示
を行うカラー液晶表示装置において、前記窒化シリコン膜とＩＴＯ膜との間に応力緩和膜を形
成したことを特徴とするカラー液晶表示装置。