JP2002129144A - Cerium oxide abrasive for glass and method for producing the same - Google Patents

Cerium oxide abrasive for glass and method for producing the same

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cerium oxide abrasive used as a glass abrasive reduced in cost by using clay as part of its starting materials and possessing excellent abrasive performances as compared with those of a clay-free one. SOLUTION: A cerium oxide abrasive for glass produced by treating a mixture of clay and starting materials for a cerium oxide abrasive with fluorine. This abrasive comprises 0.1-20 wt.% clay, 0.5-10 wt.% fluorine, and the balance of rare earth oxides mainly consisting of cerium oxide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本件発明は、ガラス用酸化セ
リウム系研摩材及びその製造方法に関する。
[0001] The present invention relates to a cerium oxide abrasive for glass and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年のコンピュータハードディスクのガ
ラス基板使用の普及、TFTカラー液晶の普及に伴い、
より一層市場に安価で高品質な製品を供給できるよう、
ガラス基板の価格の低廉化が求められてきた。ガラス基
板をより安価に市場に供給するためには、ガラス自体の
生産工程の改良、材料の変更等で対応するのが最も効果
的な方法であるとは思われるが、上述した分野において
用いられるガラス基板は、通常のガラスと異なり、ガラ
ス表面を研摩する技術が製品品質を左右するものとなっ
ている。
2. Description of the Related Art With the recent spread of the use of glass substrates for computer hard disks and the spread of TFT color liquid crystals,
To supply even cheaper and higher quality products to the market,
There has been a demand for lower glass substrate prices. In order to supply the glass substrate to the market at lower cost, it seems that the most effective method is to respond by improving the production process of the glass itself, changing the material, etc., but it is used in the above-mentioned fields. The glass substrate is different from ordinary glass, and the technology for polishing the glass surface determines the product quality.

【0003】これらのガラス研摩には、従来から、酸化
セリウム系研摩材が最も優れたものとして知られ、研摩
材中の酸化セリウム品位が高いものほど、高品質のガラ
ス研摩材として言われてきた。
[0003] For these types of glass polishing, cerium oxide-based abrasives have been known as the most excellent ones, and the higher the cerium oxide grade in the abrasives, the higher the quality of the glass abrasives. .

【0004】即ち、従来のガラス用の酸化セリウム系研
摩材は、酸化セリウム系研摩材原料、水とを混ぜ合わせ
た混合原料とし、当該混合原料を混合粉砕機を用いて混
合粉砕し粉砕スラリーとし、当該粉砕スラリーとフッ化
水素酸溶液とを混合し含フッ素粉砕スラリーとし、当該
含フッ素粉砕スラリーを濾過してケーキを濾取し、当該
濾取したケーキを乾燥して750〜1000℃前後の温
度で焙焼して粉体とし、当該粉体を粉砕整粒して分級す
ることにより製造されてきた。従って、酸化セリウム系
研摩材原料中の酸化セリウム品位により研摩材としての
グレードが決められ、酸化セリウムに変わる研摩材原料
はないとされてきた。
That is, a conventional cerium oxide-based abrasive for glass is a mixed material obtained by mixing a cerium oxide-based abrasive material and water, and the mixed material is mixed and pulverized using a mixing and pulverizer to form a pulverized slurry. The pulverized slurry and the hydrofluoric acid solution are mixed to obtain a fluorine-containing pulverized slurry, and the fluorine-containing pulverized slurry is filtered to collect a cake, and the filtered cake is dried to about 750 to 1000 ° C. It has been manufactured by roasting at a temperature to obtain a powder, pulverizing and sizing the powder, and classifying the powder. Accordingly, the grade of the abrasive is determined by the cerium oxide grade in the cerium oxide-based abrasive raw material, and there has been no abrasive raw material that can replace cerium oxide.

【0005】[0005]

【発明が解決すべき課題】しかしながら、酸化セリウム
系研摩材原料中の酸化セリウム品位を向上させようとす
ればするほど、原料価格としての上昇は避けられず、製
造プロセスをいかに簡略化、効率化したとしても、従来
よりも安価で高品質な製品を供給できるようにはならな
いと判断できるのである。
However, as the quality of cerium oxide in the cerium oxide-based abrasive material is improved, the price of the material is inevitably increased, and the manufacturing process is simplified and improved in efficiency. Even so, we can judge that we will not be able to supply cheaper and higher quality products than before.

【0006】このため、酸化セリウム系研摩材の一部を
他の成分に置き換え、ガラス研摩用に用いることを考
え、種々の研究がなされ報告が行われている。例えば、
特開昭60−44577号公報にはレア・アースに珪酸
塩の酸化誘導体を組み合わせた研摩材が開示されてお
り、特開平10−183103号公報にはレア・アース
炭酸塩とSi酸化誘導体とを組み合わせた研摩材が開示
されている。
[0006] For this reason, various studies have been made and reports have been made in consideration of replacing a part of the cerium oxide-based abrasive with another component and using it for glass polishing. For example,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-44577 discloses an abrasive in which a rare earth is combined with an oxidized derivative of a silicate, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-183103 discloses a rare earth carbonate and a silicon oxide derivative. A combined abrasive is disclosed.

【0007】ところが、本件研究者等が、確認実験を行
ったところ、これらに開示された発明に係る、研摩材で
は、十分な研摩力が得られない、十分な研摩力が確認で
きても、欠陥のない安定した研摩性能を引き出すことが
困難との印象が得られた。従って、ハードウェア等に用
いるガラス基板の仕上げ研摩に使えるほどの精密研摩に
は適さないものと判断したのである。
[0007] However, when the present researchers conducted confirmation experiments, it was found that the abrasives according to the inventions disclosed therein could not obtain a sufficient polishing force, and even if a sufficient polishing force could be confirmed, The impression that it was difficult to bring out stable polishing performance without defects was obtained. Therefore, it was determined that the polishing was not suitable for precision polishing that could be used for finish polishing of a glass substrate used for hardware or the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】そこで、本件発明者等
は、鋭意研究の結果、酸化セリウム系研摩材原料の一部
を他の原料で置き換えることを考えた。この結果、増量
剤として用いることが可能で、しかも安価である粘土を
用いることに想到したのである。しかも、粘土を用いた
としても、ハードウェア等に用いるガラス基板の研摩に
も適用できるレベルの酸化セリウム系研摩材を開発する
に到ったのである。
The inventors of the present invention have made intensive studies and considered replacing some of the cerium oxide-based abrasive materials with other materials. As a result, they conceived of using clay which can be used as a bulking agent and which is inexpensive. In addition, even if clay is used, a cerium oxide-based abrasive which can be applied to polishing of a glass substrate used for hardware or the like has been developed.

【0009】請求項1には、酸化セリウム系研摩材原料
と粘土との混合物をフッ素処理して得られるガラス用酸
化セリウム系研摩材であって、粘土が0.1〜20wt
%、フッ素含有量が0.5〜10wt%、残部が酸化セ
リウムを主に含む酸化希土類であることを特徴とするガ
ラス用酸化セリウム系研摩材としている。この請求項1
から分かるように、最終製品であるガラス用酸化セリウ
ム系研摩材として、粘土が0.1〜20wt%、フッ素
含有量が0.5〜10wt%、残部が酸化希土類という
構成を採ることが、鋭意研究の結果、最適であることが
明らかとなったのである。
A cerium oxide-based abrasive for glass obtained by subjecting a mixture of a cerium oxide-based abrasive raw material and clay to fluorination treatment, wherein the clay is 0.1 to 20 wt.
%, The content of fluorine is 0.5 to 10 wt%, and the balance is a rare earth oxide mainly containing cerium oxide. This claim 1
As can be seen from the above, the cerium oxide abrasive for glass, which is the final product, is eager to adopt a configuration in which the clay is 0.1 to 20 wt%, the fluorine content is 0.5 to 10 wt%, and the balance is rare earth oxide. Research has shown that it is optimal.

【0010】ここで、粘土を0.1〜20wt%とした
のは、そもそも研摩材は、その中に含まれた粒子が被研
摩面を磨耗させて清浄な平滑面を得るために用いるもの
であり、その成分構成を変動させることにより、仕上げ
研摩用から粗研摩用途にまで応用使用することの出来る
ものである。従って、ここで言う下限値である0.1w
t%を下回る粘土の量でもガラス用研摩材として問題が
生じるわけではないが、本来目的とするところである価
格を引き下げる効果が全くないこととなるからである。
これに対して、上限値の20wt%を越えて粘土の量を
増加させると、価格的には非常に低廉なものとなるが、
研摩したガラス面に傷が生じやすく、仕上がり精度が悪
くなるのである。
Here, the reason why the content of clay is set to 0.1 to 20% by weight is that the abrasive is used in order to obtain a clean smooth surface by the particles contained therein abrading the surface to be polished. By changing the composition of the components, they can be used in applications ranging from finish polishing to rough polishing. Therefore, the lower limit of 0.1 w
Even if the amount of the clay is less than t%, no problem occurs as an abrasive for glass, but the effect of lowering the price, which is originally intended, is not obtained at all.
On the other hand, if the amount of clay is increased beyond the upper limit of 20 wt%, the price becomes very low, but
The polished glass surface is apt to be scratched, resulting in poor finishing accuracy.

【0011】次にフッ素の含有量について説明する。フ
ッ素は焙焼する際に含有した希土類元素と化合物を形成
し、低温での焙焼を可能とし、焙焼時の結晶粒成長を促
進する役割を果たすものとして作用するものである。ま
た、フッ素はガラス研摩を行う際に、化学的作用により
ガラス表面を僅かに溶解させる役割を果たし、ガラス研
摩がより円滑に行えるよう作用するものと考えられてき
た。従って、酸化セリウム系ガラス用研摩材によるガラ
ス研摩は、一種のトライボロジー研摩に相当するものと
言える。従って、ガラス用酸化セリウム系研摩材に含ま
れるフッ素量も、他の構成成分とのバランスを考慮して
定められるべきものであり、上述した粘土含有量との関
係において、フッ素含有量が0.5〜10wt%の範囲
であることが好ましいのである。従って、この領域のフ
ッ素含有量をはずれた場合には、研摩したガラス表面の
仕上がり精度が悪くなるのである。中でも、最も美麗な
仕上がり面が得られるのは、フッ素含有量が1〜8wt
%の領域で、より好ましい範囲と言える。
Next, the content of fluorine will be described. Fluorine forms a compound with the rare earth element contained during roasting, enables roasting at a low temperature, and acts to play a role in promoting the growth of crystal grains during roasting. Further, fluorine has been considered to play a role of slightly dissolving the glass surface by a chemical action when performing glass polishing, and to act so that glass polishing can be performed more smoothly. Therefore, it can be said that glass polishing with a polishing material for cerium oxide-based glass is equivalent to a kind of tribological polishing. Therefore, the amount of fluorine contained in the cerium oxide-based abrasive for glass should also be determined in consideration of the balance with other constituent components, and in relation to the above-mentioned clay content, the fluorine content is 0.1%. Preferably, it is in the range of 5 to 10 wt%. Therefore, if the fluorine content in this region deviates, the finishing accuracy of the polished glass surface will be poor. Among them, the most beautiful finished surface is obtained when the fluorine content is 1 to 8 wt.
% Range is more preferable.

【0012】また、ここで用いる粘土には、焼結助剤の
役割を果たすことのできる粘土を用いる事が望ましい。
そのためには粘土を構成する主成分として、アルミナ
(Al )とシリカ(SiO)とでなる粘土を使
用することが好ましいのである。
The clay used here has a sintering aid.
It is desirable to use clay that can play a role.
For this purpose, alumina is the main component of clay.
(Al 2O3) And silica (SiO2)
It is preferable to use them.

【0013】これらは、一般的に広く研摩材として用い
られる成分であり、本件発明に係るガラス用酸化セリウ
ム系研摩材では、フッ素によるガラス表面の化学的研摩
効果と、アルミナ(Al)とシリカ(SiO
とによるガラス表面のアブレッシブ研摩が重畳的に起こ
り、酸化セリウムを主成分とする希土類酸化物が微細な
精度の高い研摩に資することで、トータルで見た際にガ
ラス表面を効率よく研摩するため、優れた研摩能力を得
ることが可能であり、従来の酸化セリウム系研摩材以上
の研摩力を得ることが可能となるのである。
These components are generally widely used as an abrasive. In the cerium oxide-based abrasive for glass according to the present invention, the chemical polishing effect of the glass surface by fluorine and the alumina (Al 2 O 3 ) And silica (SiO 2 )
Abrasive polishing of the glass surface caused by superposition occurs superimposedly, and the rare earth oxide containing cerium oxide as a main component contributes to fine and highly accurate polishing, so that the glass surface can be efficiently polished when viewed as a whole, It is possible to obtain an excellent polishing ability, and it is possible to obtain a polishing power higher than that of a conventional cerium oxide-based abrasive.

【0014】従って、請求項2には、粘土はアルミナと
シリカとのトータル含有量が75.0wt%以上である
請求項1に記載のガラス用酸化セリウム系研摩材として
いる。前述したように主成分として、アルミナ(Al
)とシリカ(SiO)とでなる粘土が望ましいと
していたが、これは粘土中には種々の微量成分が含まれ
ているためである。
Therefore, a second aspect of the present invention is the cerium oxide-based abrasive for glass according to the first aspect, wherein the clay has a total content of alumina and silica of 75.0 wt% or more. As described above, alumina (Al 2
Clays composed of O 3 ) and silica (SiO 2 ) have been considered desirable, because various trace components are contained in the clays.

【0015】その他微量成分としては、例えば、酸化
鉄、酸化ナトリウム、酸化マグネシウム、酸化カリウ
ム、酸化カルシウム、二酸化マンガン等である。最終製
品である研摩材中にこれらの物質を多く含むと、ガラス
研摩を行った後に洗浄を行っても、微量の不純物がガラ
ス表面に残留し、ガラスの性能に悪影響を及ぼすため、
これらの最終製品に対する混入を極力防止することを考
えなければならない。従って、本来ガラス研摩に寄与す
る成分であるアルミナとシリカとのトータル含有量が一
定以上であり、粘土として自然界から採取できるものの
性質を考慮して、アルミナとシリカとのトータル含有量
が75.0wt%以上とここに明記したのである。
Other minor components include, for example, iron oxide, sodium oxide, magnesium oxide, potassium oxide, calcium oxide, manganese dioxide and the like. If these substances are included in the final product, abrasives, even if the glass is polished and then cleaned, trace impurities will remain on the glass surface and adversely affect the performance of the glass.
Care must be taken to minimize contamination of these final products. Therefore, the total content of alumina and silica, which are components that originally contribute to glass polishing, is not less than a certain value, and the total content of alumina and silica is 75.0 wt. The percentage is specified here.

【0016】そして、この条件に合致する粘土として、
請求項3にあるように、焼結助剤の役割を果たすことの
できる粘土は、ベントナイト、ボールクレイ、カオリン
の少なくとも1種を用いることが好ましいのである。ベ
ントナイトはアルミナが14wt%、シリカが63wt
%程度含まれ、ボールクレイはアルミナが28wt%、
シリカが55wt%程度含まれ、カオリンはアルミナが
38wt%、シリカが44wt%程度含まれ、それぞれ
その他微量成分は、上述したと同様のものが含まれてい
る。
[0016] Then, as a clay meeting this condition,
As described in claim 3, it is preferable to use at least one of bentonite, ball clay, and kaolin as the clay that can serve as a sintering aid. Bentonite is 14wt% alumina, 63wt% silica
%, About 28 wt% alumina in ball clay,
Silica is contained at about 55 wt%, kaolin contains about 38 wt% of alumina, and silica is contained at about 44 wt%, and the other trace components are the same as those described above.

【0017】請求項4には、酸化セリウムを主に含む酸
化希土類は酸化セリウム品位がCeO/TREO=5
0%以上である請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
ガラス用酸化セリウム系研摩材としている。確かに、酸
化セリウムによるガラス表面の研摩効果を重点的に得よ
うとすると、酸化セリウム含有量が多ければ多いほど望
ましいものとなる。しかしながら、コスト的な意味合い
においては、極めて高価なものとならざるを得ない。従
って、本件発明者等が、ガラス用フッ素含有酸化セリウ
ム系研摩材として用いる場合、最低限CeO/TRE
O=50%が確保できていれば、粘土と組み合わせて用
いても、従来の酸化セリウム系研摩材と同等若しくはそ
れ以上の研摩力を得ることが可能である。
The rare earth oxide mainly containing cerium oxide has a cerium oxide grade of CeO 2 / TREO = 5.
The cerium oxide-based abrasive for glass according to any one of claims 1 to 3, which is 0% or more. Certainly, in order to obtain the polishing effect of the glass surface by cerium oxide with emphasis, the higher the cerium oxide content, the more desirable. However, in terms of cost, it must be extremely expensive. Therefore, when the present inventors use it as a fluorine-containing cerium oxide-based abrasive for glass, at least CeO 2 / TRE
If O = 50% can be secured, it is possible to obtain a polishing power equal to or higher than that of a conventional cerium oxide-based abrasive even when used in combination with clay.

【0018】以下、本件発明に係る請求項1〜請求項4
に記載したガラス用酸化セリウム系研摩材の製造方法に
ついて説明する。請求項5には、請求項1〜請求項4の
いずれかに記載のガラス用酸化セリウム系研摩材の製造
方法であって、酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び水
とを混ぜ合わせた混合原料とし、当該混合原料を混合粉
砕機を用いて混合粉砕し粉砕スラリーとし、当該粉砕ス
ラリーと所定濃度のフッ化水素酸溶液とを接触反応させ
フッ素処理し含フッ素粉砕スラリーとし、当該含フッ素
粉砕スラリーを濾過してケーキを濾取し、当該濾取した
ケーキを乾燥して700〜1050℃の温度で焙焼して
粉体とし、当該粉体を整粒して分級することにより製造
することを特徴とするガラス用酸化セリウム系研摩材の
製造方法としている。
Hereinafter, claims 1 to 4 of the present invention will be described.
The method for producing the cerium oxide-based abrasive for glass described in 1 above will be described. Claim 5 is the method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass according to any one of claims 1 to 4, wherein a mixed material obtained by mixing a cerium oxide-based abrasive material, clay and water. The mixed raw material is mixed and pulverized using a mixing and pulverizer to obtain a pulverized slurry, and the pulverized slurry is subjected to a fluorination treatment by contacting the pulverized slurry with a hydrofluoric acid solution having a predetermined concentration to obtain a pulverized slurry. And filtering the cake, drying the filtered cake and roasting at a temperature of 700 to 1050 ° C. to form a powder, sizing and classifying the powder to produce a product. The method is characterized by a method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass.

【0019】この製造方法において、特に重要となるの
は、混合粉砕機を用いて粉砕スラリーを得るときの粉砕
時間と、焙焼温度である。前者の粉砕時間は、最終製品
であるガラス用低フッ素酸化セリウム系研摩材を仕上げ
研摩用とするか、粗研摩用とするか、又はその中間研摩
用とするかにより異なる設定がなされる。このとき、酸
化セリウム系研摩材原料に比べ、粘土の方が粉砕され易
いため、一定の整粒効果を期待するものでもあることを
考えれば、粉砕時間にも留意を要することとなる。
In this production method, particularly important are the pulverization time and the roasting temperature when a pulverized slurry is obtained using a mixing and pulverizer. The former pulverization time is set differently depending on whether the final fluorinated cerium oxide-based abrasive for glass is used for finish polishing, rough polishing, or intermediate polishing thereof. At this time, since the clay is more easily pulverized than the cerium oxide-based abrasive raw material, it is necessary to pay attention to the pulverization time, considering that a certain particle size adjusting effect is expected.

【0020】また、混合粉砕機で粉砕を行う手順とし
て、酸化セリウム系研摩材原料と水とのみを混合粉砕機
内に入れ、所定時間の攪拌を行った後に、粘土を添加す
る等の手法を採用することも可能となる。より具体的に
言えば、酸化セリウム系研摩材原料と水とを混合粉砕機
内に入れ、1〜2時間の攪拌を行った後に、粘土を加
え、更に1〜3時間の混合攪拌を行う等である。
As a procedure of pulverizing with a mixing and pulverizing machine, a method of putting only a cerium oxide-based abrasive material and water into a mixing and pulverizing machine, stirring the mixture for a predetermined time, and then adding clay is employed. It is also possible to do. More specifically, a cerium oxide-based abrasive material and water are put into a mixing and crushing machine, and after stirring for 1 to 2 hours, clay is added, and mixing and stirring are further performed for 1 to 3 hours. is there.

【0021】本件明細書において、酸化セリウム系研摩
材原料とは、酸化希土類若しくは炭酸希土類等の粉状物
のことであり、焙焼することにより希土類元素が酸化物
の状態で残留するものを意味している。粘土には、上述
したベントナイト、ボールクレイ、カオリンのいずれか
一種若しくは2種以上を混合して用いるのである。
In the present specification, the cerium oxide-based abrasive raw material is a powdery substance such as a rare earth oxide or a rare earth carbonate, which means that a rare earth element remains in an oxide state by roasting. are doing. As the clay, any one of the above-mentioned bentonite, ball clay and kaolin or a mixture of two or more thereof is used.

【0022】混合粉砕機とは、高エネルギーボールミル
等の内部に納められたものを混合して粉砕出来るもので
あれば、特に限定されるものではない。この混合粉砕処
理を行うことで粉砕スラリーを得るのである。
The mixing and pulverizing machine is not particularly limited as long as it can mix and pulverize a material stored in a high energy ball mill or the like. By performing the mixing and pulverizing treatment, a pulverized slurry is obtained.

【0023】この段階で、当該粉砕スラリーとフッ素含
有物質とを接触反応させフッ素処理し含フッ素粉砕スラ
リーとするのである。このとき用いる、フッ化水素酸溶
液は、粉砕スラリーと0.1〜3時間の接触反応させ処
理を行うのである。
At this stage, the pulverized slurry and the fluorine-containing substance are brought into contact with each other to perform a fluorine treatment to obtain a fluorine-containing pulverized slurry. The hydrofluoric acid solution used at this time is subjected to a contact reaction with the pulverized slurry for 0.1 to 3 hours to perform the treatment.

【0024】このフッ素処理が終了すると、この含フッ
素粉砕スラリーを濾過してケーキを濾取するのである。
このときの濾過方法については、特に限定を要するもの
ではなく、一般的な高圧濾過法を用いて、いわゆるケー
キの状態で濾取することができる。続いて、この濾取し
たケーキを乾燥し焙焼して、ミル粉砕することで研摩材
としての粉体を得るのであるが、このときの手順自体
は、従来の製造方法と全く同様である。
When the fluorine treatment is completed, the fluorine-containing pulverized slurry is filtered to collect the cake.
The filtration method at this time is not particularly limited, and the filtration can be performed in a so-called cake state using a general high-pressure filtration method. Subsequently, the cake obtained by filtration is dried, roasted, and milled to obtain powder as an abrasive. The procedure itself at this time is exactly the same as the conventional production method.

【0025】本件発明者等が鋭意研究した結果、フッ素
処理を用いずに粘土のみを添加して研摩材を得ようとす
ると、フッ素処理した場合に比べ、焼成温度を50〜1
00℃程度高めた750℃〜1100℃の高温範囲での
焼成を行わないと研摩材として用いることが出来ないも
のとなる。これに対し、請求項5に記載したように、フ
ッ素処理を用いることで、粘土を焼結材として用いる場
合でも、低温領域での焙焼が可能となるのである。
As a result of intensive studies conducted by the present inventors, it has been found that when an attempt is made to obtain an abrasive by adding only clay without using a fluorine treatment, the firing temperature is reduced by 50 to 1 as compared with the case of the fluorine treatment.
Unless fired in a high temperature range of 750 ° C. to 1100 ° C. increased by about 00 ° C., the material cannot be used as an abrasive. On the other hand, as described in claim 5, the use of the fluorine treatment makes it possible to perform roasting in a low-temperature region even when using clay as a sintering material.

【0026】焙焼後の粉体は、再度粉砕して整粒し、い
わゆる風力分級機を用いて分級処理して最終製品のガラ
ス用低フッ素酸化セリウム系研摩材が得られるのであ
る。
The powder after roasting is pulverized again and sized, and then subjected to a classification process using a so-called air classifier to obtain a low-fluorine cerium oxide-based abrasive for glass as a final product.

【0027】請求項6には、酸化セリウム系研摩材原
料、粘土及び水とを混ぜ合わせた混合原料は、当該酸化
セリウム系研摩材原料と粘土との混合割合は粘土が0.
1〜20wt%である請求項5に記載のガラス用低フッ
素酸化セリウム系研摩材の製造方法としている。これ
は、酸化セリウム系研摩材原料と粘土とを合わせた重量
を100wt%としたときの粘土の混合割合を定めたも
のである。即ち、粘土の混合割合が多くなるほど、微細
で良好な研摩は困難となってくる。従って、20wt%
を越える量の粘土を混合するとガラス用途での研摩材と
しての使用が困難となってくるのである。一方、0.1
wt%に足らない量の粘土の混合だと焙焼時の焼結助剤
としての役割を果たさなくなるのである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the mixed raw material obtained by mixing the cerium oxide-based abrasive material, clay and water, the mixing ratio of the cerium oxide-based abrasive material and the clay is 0.1%.
The method for producing a low-fluorine cerium oxide-based abrasive for glass according to claim 5, wherein the amount is 1 to 20 wt%. This defines the mixing ratio of the clay when the total weight of the cerium oxide-based abrasive material and the clay is 100 wt%. That is, as the mixing ratio of the clay increases, fine and good polishing becomes more difficult. Therefore, 20 wt%
If the amount of the clay exceeds that, it becomes difficult to use it as an abrasive in glass applications. On the other hand, 0.1
If the amount of the clay is less than wt%, the clay does not function as a sintering aid during roasting.

【0028】請求項7には、酸化セリウム系研摩材原
料、粘土及び水とを混ぜ合わせた混合原料は、当該酸化
セリウム系研摩材原料、粘土及び水の総重量を100w
t%とした場合の、水が30〜60wt%となる様に調
整するものである請求項5又は請求項6のいずれかに記
載のガラス用低フッ素酸化セリウム系研摩材の製造方法
としている。
According to a seventh aspect of the present invention, the mixed raw material obtained by mixing the cerium oxide-based abrasive material, clay and water has a total weight of 100 w of the cerium oxide-based abrasive material, clay and water.
The method for producing a low fluorinated cerium oxide-based abrasive for glass according to any one of claims 5 and 6, wherein water is adjusted so as to be 30 to 60 wt% in the case of t%.

【0029】このように酸化セリウム系研摩材原料、粘
土及び水とを混ぜ合わせた混合原料中に加える、水の量
を規定したのは、混合攪拌する際には酸化セリウム系研
摩材原料と粘土とを細かく粉砕するという目的もあり、
水の添加量が多くなると、単なる混合は容易であるが、
細かく粉砕するという効果を得るのに時間を要すること
となる。一方で、水の添加量が少なすぎると攪拌抵抗が
大きくなり、混合撹拌装置に大きな負荷を与えると共
に、均一に混合するという目的自体の達成が困難となる
のである。従って、本件発明者等は、上述した様な理由
から、当該酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び水の総
重量を100wt%とした場合に、水が30〜60wt
%となる様に調整することが望ましいと判断したのであ
る。
As described above, the amount of water to be added to the mixed raw material obtained by mixing the cerium oxide-based abrasive raw material, clay and water is defined as follows. There is also the purpose of crushing finely,
When the amount of water added increases, simple mixing is easy,
It takes time to obtain the effect of fine grinding. On the other hand, if the amount of water added is too small, the stirring resistance increases, and a large load is applied to the mixing and stirring device, and it is difficult to achieve the purpose of uniform mixing. Therefore, the inventors of the present invention consider that, when the total weight of the cerium oxide-based abrasive material, clay, and water is 100 wt%, water is 30 to 60 wt% for the reasons described above.
Therefore, it was determined that it would be desirable to adjust the value to%.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本件発明に係るガラス用酸
化セリウム系研摩材の製造方法を説明し、得られた研摩
材のガラス研摩時の研摩値を示すことで、本件発明に関
して、より詳細に説明する。本明細書における研摩材中
のフッ素の分析方法は、試料をアルカリ融剤にて融解
し、放冷後温水にて抽出し、定容する。その適量を分取
し、バッファー液を添加後、pHを約3.5に調整し、
定容して試料溶液とする。標準液は、試料を用いないこ
と及び分取後フッ素標準液を添加すること以外は、試料
と同様に操作したものをフッ素濃度を変えて数種類準備
した。標準液及び試料溶液をフッ素イオン電極を取り付
けたイオンメーターにて測定し、標準液測定によって得
られる検量線から試料溶液のフッ素濃度を求め、それを
試料のフッ素含有量に換算することで行った。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass according to the present invention will be described, and the polishing value of the obtained abrasive during glass polishing will be described in more detail. Will be described. In the method for analyzing fluorine in abrasives in this specification, a sample is melted with an alkaline flux, allowed to cool, extracted with warm water, and the volume is adjusted. An appropriate amount thereof was collected, and after adding a buffer solution, the pH was adjusted to about 3.5,
Make the volume constant to make the sample solution. Several standard solutions were prepared in the same manner as the sample except that the sample was not used and the fluorine standard solution was added after fractionation, with the fluorine concentration changed. The standard solution and the sample solution were measured with an ion meter equipped with a fluorine ion electrode, the fluorine concentration of the sample solution was determined from the calibration curve obtained by the standard solution measurement, and the concentration was converted to the fluorine content of the sample. .

【0031】第1実施形態: ここでは、図1に示した
フローであって、請求項5に記載の製造方法により、ガ
ラス用酸化セリウム系研摩材を製造し、ガラス研摩を行
った際の研摩値を示すこととする。
First Embodiment: Here, the flow shown in FIG. 1 is used, and a cerium oxide-based abrasive for glass is manufactured by the manufacturing method according to claim 5, and polishing is performed when the glass is polished. Value shall be shown.

【0032】酸化セリウム系研摩材原料として、炭酸希
土類を750℃で仮焼した酸化希土類であって、酸化セ
リウム品位がCeO/TREO=60%のものを2.
4kg用いた。そして、粘土にはカオリンを0.6k
g、即ち、酸化セリウム系研摩材原料と粘土との総重量
の20wt%分として用いた。また、本件発明者等は、
同様の酸化セリウム系研摩材原料2.85kg、粘土
0.15kgの粘土が5wt%分をも同時に製造した。
As a cerium oxide-based abrasive material, a rare earth oxide obtained by calcining a rare earth carbonate at 750 ° C. and having a cerium oxide grade of CeO 2 / TREO = 60%.
4 kg was used. And 0.6k kaolin in the clay
g, that is, 20 wt% of the total weight of the cerium oxide-based abrasive material and clay. In addition, the present inventors,
2.85 kg of the same cerium oxide-based abrasive material and 0.15 kg of clay were simultaneously produced in an amount of 5 wt%.

【0033】そして、これらの酸化セリウム系研摩材原
料2.4kg(5wt%の場合は2.85kg)と粘土
0.6kg(5wt%の場合は0.15kg)に、3リ
ットルの水を加えて混合原料とし、この混合原料を高エ
ネルギーボールミル(いわゆるアトライター)に入れ、
4時間混合粉砕して粉砕スラリーを得た。この粉砕スラ
リーに55%フッ化水素酸溶液を、粉砕スラリー1リッ
トル当たり69.2mlを加えて、攪拌しつつ1時間の
フッ素処理を行い、その後、濾過を行ったのである。
Then, 3 liters of water was added to 2.4 kg (2.85 kg for 5 wt%) and 0.6 kg (0.15 kg for 5 wt%) of the cerium oxide-based abrasive material. As a mixed raw material, put this mixed raw material into a high energy ball mill (so-called attritor),
The mixture was pulverized for 4 hours to obtain a pulverized slurry. 69.2 ml of a 55% hydrofluoric acid solution per liter of the pulverized slurry was added to the pulverized slurry, and the mixture was subjected to a fluorine treatment for 1 hour with stirring, followed by filtration.

【0034】続いて、当該粉砕スラリーを濾過してケー
キを濾取した。ここでの濾過は、フィルタープレスを用
いて行った。その後、濾取したケーキを、120℃の温
度にて24時間乾燥させた。
Subsequently, the pulverized slurry was filtered to collect a cake. The filtration here was performed using a filter press. Thereafter, the cake collected by filtration was dried at a temperature of 120 ° C. for 24 hours.

【0035】乾燥させた後に、そのケーキを焙焼して、
ミル粉砕し、風力分級することでガラス用低フッ素酸化
セリウム系研摩材を得た。このときの焙焼条件は、70
0℃、750℃、850℃、950℃の4種類の温度で
12時間の各条件とし、4種類のガラス用酸化セリウム
系研摩材を得たのである。
After drying, the cake is roasted,
Mill crushing and air classification were performed to obtain a low fluorinated cerium oxide abrasive for glass. The roasting condition at this time is 70
Four conditions of 0 ° C., 750 ° C., 850 ° C., and 950 ° C. for 12 hours were obtained, and four types of cerium oxide abrasives for glass were obtained.

【0036】更に、本件発明者等は、ここで用いたカオ
リンに替え、ボールクレイ及びベントナイトを用いて同
様の方法及び条件でガラス用酸化セリウム系研摩材を製
造した。これらも併せて、表1にガラスを研摩した際の
研摩値を示すものとする。この評価に用いたガラスは、
直径60mmの平面パネル用ガラスを用い、高速研磨機
を用いて研摩圧力15.7kg/cm2、研磨剤スラリ
ー濃度10wt%で行った。また、表中には粘土成分を
入れず、酸化セリウム系研摩材原料のみを3.0kg用
いて、上述と同様の方法と条件で製造した研摩材を「粘
土成分なし」と表示して比較用に掲載している。なお、
研摩値は、研摩前後のガラスの重量を測定し、ガラスの
比重及びガラス径から研磨した厚さを換算したものであ
る。
Further, the present inventors manufactured a cerium oxide-based abrasive for glass by the same method and under the same conditions and using ball clay and bentonite instead of kaolin used here. Together with these, Table 1 shows the polishing values when the glass was polished. The glass used for this evaluation was
The polishing was performed at a polishing pressure of 15.7 kg / cm 2 and an abrasive slurry concentration of 10 wt% using a flat panel glass having a diameter of 60 mm and a high-speed polishing machine. Further, in the table, the abrasive produced by the same method and under the same conditions as above using 3.0 kg of the cerium oxide-based abrasive raw material without the clay component is indicated as "no clay component" for comparison. It is published in. In addition,
The polishing value is obtained by measuring the weight of glass before and after polishing and converting the polished thickness from the specific gravity and glass diameter of the glass.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】この表1から分かるように、粘土成分を全
く入れなかった場合と比較して、粘土を用いた方が、高
い研摩値を示していることが分かる。従って、粘土を用
いることで、酸化セリウムの使用量を低減させ製品コス
トの低減が可能であり、しかも粘土を混ぜない場合に比
べても、高い研摩力を持つ酸化セリウム系研摩材の提供
が可能となるのである。
As can be seen from Table 1, the use of clay shows a higher polishing value than the case where no clay component was added. Therefore, by using clay, it is possible to reduce the use amount of cerium oxide and reduce the product cost, and it is possible to provide a cerium oxide-based abrasive with a higher abrasive force than when clay is not mixed. It becomes.

【0039】第2実施形態: ここでは、図1に示した
フローであって、第1実施形態と同様のフローである
が、フッ素処理を行うときのフッ素濃度を変化させた場
合について説明する。従って、製造フロー自体について
は、第1実施形態と全く同様であるため、ここでの説明
は省略する。異なるのは、粉砕スラリーに55%フッ化
水素酸溶液を、粉砕スラリー1リットル当たり23.0
mlを加えて、攪拌しつつ1時間のフッ素処理を行い、
その後、濾過を行った点である。
Second Embodiment: Here, the flow shown in FIG. 1 is the same as that of the first embodiment, but the case where the fluorine concentration at the time of performing the fluorine treatment is changed will be described. Therefore, the manufacturing flow itself is exactly the same as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. The difference is that a 55% hydrofluoric acid solution was added to the ground slurry at a rate of 23.0 per liter of ground slurry.
Add fluorinated for 1 hour with stirring,
Thereafter, filtration was performed.

【0040】また、本件発明者等は、ここでも第1実施
形態と同様にカオリンに替え、ボールクレイ及びベント
ナイトを用いて同様の方法及び条件でガラス用低フッ素
酸化セリウム系研摩材を製造した。これらも併せて、表
2にガラスを研摩した際の研摩値を示すものとする。こ
の評価に用いたガラス及び研摩条件は第1実施形態の場
合と同様である。また、表中には粘土成分を入れず、酸
化セリウム系研摩材原料のみを3.0kg用いて、上述
と同様の方法と条件で製造した研摩材を「粘土成分な
し」と表示して比較用に掲載した点も同様である。
Also, the present inventors produced a low fluorinated cerium oxide abrasive for glass in the same manner and under the same conditions and using ball clay and bentonite instead of kaolin as in the first embodiment. Table 2 also shows the polishing values when the glass is polished. The glass and polishing conditions used for this evaluation are the same as in the first embodiment. Further, in the table, the abrasive produced by the same method and under the same conditions as above using 3.0 kg of the cerium oxide-based abrasive raw material without the clay component is indicated as "no clay component" for comparison. The same applies to the points listed above.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】この表2から分かるように、粘土成分を全
く入れなかった場合と比較して、低温側での焼成品で
も、高温側での焙焼品でも高い研摩値を示しており、粘
土成分としてカオリン、ボールクレイ、ベントナイトの
いずれを用いても、ほぼ同等の研摩値を示すものと認め
られる。即ち、第1実施形態と同様の結果が得られてい
る。
As can be seen from Table 2, as compared with the case where no clay component was added, both the calcined product on the low temperature side and the roasted product on the high temperature side showed a higher polishing value. It is recognized that the same polishing value is obtained when any of kaolin, ball clay and bentonite is used. That is, the same result as in the first embodiment is obtained.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明に係るガラス用酸化セリウム系研
摩材は、ガラス用研摩材として用いる酸化希土類の一部
を安価な粘土に置き換えることで、研摩材としても、よ
り安価な価格で市場に供給することが可能となるのであ
る。また、この本件発明に係る研摩材は、従来のガラス
研摩用に用いられてきた酸化セリウム系研摩材を越える
研摩力を有するものとなるのである。
According to the cerium oxide abrasive for glass according to the present invention, by replacing a part of rare earth oxides used as an abrasive for glass with inexpensive clay, it can be marketed at a lower price as an abrasive. It is possible to supply. Further, the abrasive according to the present invention has an abrasive power exceeding that of the cerium oxide-based abrasive used for conventional glass polishing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガラス用酸化セリウム系研摩材の製造フローを
表す概念図。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a production flow of a cerium oxide-based abrasive for glass.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化セリウム系研摩材原料と粘土との
混合物をフッ素処理して製造されるガラス用酸化セリウ
ム系研摩材であって、 粘土が0.1〜20wt%、フッ素含有量が0.5〜1
0wt%、残部が酸化セリウムを主に含む酸化希土類で
あることを特徴とするガラス用酸化セリウム系研摩材。
1. A cerium oxide-based abrasive for glass produced by subjecting a mixture of a cerium oxide-based abrasive raw material and clay to fluorination treatment, wherein the clay is 0.1 to 20% by weight and the fluorine content is 0.1%. 5-1
A cerium oxide-based abrasive for glass, characterized by being a rare earth oxide mainly containing cerium oxide at 0 wt%.
【請求項2】 粘土は、アルミナとシリカとのトータ
ル含有量が75.0wt%以上である請求項1に記載の
ガラス用酸化セリウム系研摩材。
2. The cerium oxide abrasive for glass according to claim 1, wherein the clay has a total content of alumina and silica of 75.0 wt% or more.
【請求項3】 粘土は、ベントナイト、ボールクレ
イ、カオリンの少なくとも1種を用いたことを特徴とす
る請求項1及び請求項2に記載のガラス用酸化セリウム
系研摩材。
3. The cerium oxide-based abrasive for glass according to claim 1, wherein the clay is at least one of bentonite, ball clay, and kaolin.
【請求項4】 酸化セリウムを主に含む酸化希土類は
酸化セリウム品位がCeO/TREO=50%以上で
ある請求項1〜請求項3のいずれかに記載のガラス用酸
化セリウム系研摩材。
4. The cerium oxide abrasive for glass according to claim 1, wherein the rare earth oxide mainly containing cerium oxide has a cerium oxide grade of CeO 2 / TREO = 50% or more.
【請求項5】 請求項1〜請求項4のいずれかに記載
のガラス用酸化セリウム系研摩材の製造方法であって、 酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び水とを混ぜ合わせ
た混合原料とし、 当該混合原料を混合粉砕機を用いて混合粉砕し粉砕スラ
リーとし、 当該粉砕スラリーとフッ素含有物質とを接触反応させフ
ッ素処理し含フッ素粉砕スラリーとし、 当該含フッ素粉砕スラリーを濾過してケーキを濾取し、 当該濾取したケーキを乾燥して700〜1050℃の温
度で焙焼して粉体とし、 当該粉体を整粒して分級することにより製造することを
特徴とするガラス用酸化セリウム系研摩材の製造方法。
5. The method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the cerium oxide-based abrasive is mixed with clay and water. The mixed raw material is mixed and pulverized using a mixing and pulverizer to form a pulverized slurry, the pulverized slurry and a fluorine-containing substance are brought into contact with each other to produce a fluorine-containing pulverized slurry, and the cake is obtained by filtering the pulverized slurry. An oxide for glass characterized in that the cake obtained by filtration is dried, roasted at a temperature of 700 to 1050 ° C. to form a powder, and the powder is sized and classified to produce a powder. A method for producing cerium-based abrasives.
【請求項6】 酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び
水とを混ぜ合わせた混合原料は、 当該酸化セリウム系研摩材原料と粘土との混合割合は粘
土が0.1〜20wt%である請求項5に記載のガラス
用酸化セリウム系研摩材の製造方法。
6. A mixed raw material obtained by mixing a cerium oxide-based abrasive material, clay and water, wherein the mixing ratio of the cerium oxide-based abrasive material and clay is 0.1 to 20% by weight of the clay. 6. The method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass according to 5.
【請求項7】 酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び水
とを混ぜ合わせた混合原料は、 当該酸化セリウム系研摩材原料、粘土及び水の総重量を
100wt%とした場合の、水が30〜60wt%とな
る様に調整するものである請求項5又は請求項6に記載
のガラス用酸化セリウム系研摩材の製造方法。
7. A mixed raw material obtained by mixing a cerium oxide-based abrasive material, clay and water, wherein water is 30 to 30% by weight when the total weight of the cerium oxide-based abrasive material, clay and water is 100 wt%. The method for producing a cerium oxide-based abrasive for glass according to claim 5 or 6, wherein the amount is adjusted to be 60 wt%.
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