JP2002117778A - Substrate for display, member for display and display - Google Patents
Substrate for display, member for display and displayInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明のディスプレイ用基板
とは、ディスプレイを形成する際に用いる板状の基板の
ことをいう。本発明は、ディスプレイ用基板として有用
で、プラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディ
スプレイ、電子放出素子を用いた画像形成装置または蛍
光表示管などのディスプレイに用いられる基板に関す
る。The display substrate of the present invention refers to a plate-like substrate used for forming a display. The present invention relates to a substrate useful as a display substrate and used for a display such as a plasma display, a plasma addressed liquid crystal display, an image forming apparatus using an electron-emitting device, or a fluorescent display tube.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ディスプレイ用基板は、プラズマディス
プレイ（以下ＰＤＰと記す）、プラズマアドレス液晶デ
ィスプレイ（以下ＰＡＬＣと記す）、電子放出素子を用
いた画像形成装置（以下ＦＥＤと記す）または蛍光表示
管（以下ＶＦＤと記す）に用いられる。現在、ディスプ
レイ用基板として広く使われている基板に、特開平８−
２９０９３８号公報、特開平８−１６５１３８号公報に
代表されるプラズマディスプレイ用の基板がある。しか
し、これらの基板は透過率が高く、背面側への発光光が
透過するため、ディスプレイの輝度や発光効率が低いと
いう問題がある。例えば、これらの基板をＰＤＰの背面
板に使用した場合、背面板に形成された蛍光体層からの
発光光が前面側すなわち表示側だけでなく、背面側に透
過するため、蛍光体からの発光光を有効に利用できず、
輝度および発光効率が低い。2. Description of the Related Art A display substrate is a plasma display (hereinafter referred to as PDP), a plasma-addressed liquid crystal display (hereinafter referred to as PALC), an image forming apparatus (hereinafter referred to as FED) using electron-emitting devices, or a fluorescent display tube (hereinafter referred to as FED). VFD). Currently, a substrate widely used as a display substrate is disclosed in
There is a substrate for a plasma display represented by Japanese Patent No. 290938 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-165138. However, these substrates have a high transmittance and transmit light emitted to the rear side, so that there is a problem that the luminance and the luminous efficiency of the display are low. For example, when these substrates are used for the back plate of a PDP, light emitted from the phosphor layer formed on the back plate is transmitted not only to the front side, that is, the display side, but also to the back side. Light cannot be used effectively,
Low brightness and luminous efficiency.
【０００３】この問題に対して、背面側への発光光を効
率よく反射させるために背面側の誘電体層を白色化する
技術が特開平４−２６９４２７号公報に開示されてい
る。しかし、誘電体層を白色化する目的で白色材料を添
加すると、誘電体層の誘電率が変化するためディスプレ
イの表示性能に影響する。また、発光光のみを効率よく
反射させる選択性反射膜を背面側に設ける技術が、例え
ば、特開平８−１３８５５９号公報に開示されている。
これは、蛍光体層の裏面に波長選択性反射膜が設けられ
ており、蛍光体層から背面側に出射する発光光を反射さ
せて有効活用しようとするものである。また、特開平３
−２４６８５７号公報には、背面基板に反射膜を設ける
技術が開示されている。また、特開平１１−１６２３５
７号公報には、隔壁および／または背面基板の表面であ
るセル底面と、セル内表面に設けられる蛍光体層との間
に反射層を設ける技術が開示されている。しかし、これ
らの手段によっても、まだ輝度や発光効率の向上は不十
分であった。また、反射膜や反射層を形成する場合、工
程数が増えるので高コスト化しやすいといった問題もあ
る。To solve this problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-269427 discloses a technique for whitening a dielectric layer on the rear side in order to efficiently reflect light emitted to the rear side. However, if a white material is added for the purpose of whitening the dielectric layer, the dielectric constant of the dielectric layer changes, which affects the display performance of the display. Further, a technique of providing a selective reflection film on the back side for efficiently reflecting only emitted light is disclosed in, for example, JP-A-8-138559.
In this technique, a wavelength-selective reflection film is provided on the back surface of the phosphor layer, and the light emitted from the phosphor layer to the back side is reflected to make effective use. In addition, Japanese Unexamined Patent Publication
Japanese Patent No. 246857 discloses a technique for providing a reflective film on a rear substrate. Also, JP-A-11-16235
No. 7 discloses a technique in which a reflective layer is provided between a bottom surface of a cell, which is a surface of a partition wall and / or a back substrate, and a phosphor layer provided on an inner surface of the cell. However, even with these means, the improvement of the luminance and the luminous efficiency was still insufficient. Further, when a reflective film or a reflective layer is formed, there is also a problem that the number of steps is increased and the cost is easily increased.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、全反射率の高いディスプレイ用基板、
および高輝度で高発光効率のディスプレイ用部材並びに
ディスプレイを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems in the prior art, and has as its object to provide a display substrate having a high total reflectance.
Another object of the present invention is to provide a display member and a display having high luminance and high luminous efficiency.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のディスプレイ用基板は、基板の全反射率が
２５〜１００％であることを特徴とする。In order to solve the above problems, a display substrate according to the present invention is characterized in that the substrate has a total reflectance of 25 to 100%.
【０００６】また、本発明のディスプレイ用部材および
ディスプレイは前記ディスプレイ基板を用いてなること
を特徴とする。Further, a display member and a display according to the present invention are characterized by using the display substrate.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】本発明のディスプレイ用基板は、
全反射率が２５〜１００％の範囲内であることが必要で
ある。全反射率を２５〜１００％にすることで、背面側
への発光光の全部または一部が基板で反射されて表示側
へ出射するので発光光を有効に利用できるため、高輝度
化および高発光効率化できる。好ましくは３０〜１００
％である。より好ましくは５０〜１００％である。基板
の全反射率が２５％より低いと、背面側への発光光が基
板を透過するためディスプレイの輝度および発光効率が
低くなる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The display substrate of the present invention comprises:
It is necessary that the total reflectance is in the range of 25 to 100%. By setting the total reflectance to 25% to 100%, all or a part of the light emitted to the back side is reflected by the substrate and emitted to the display side, so that the emitted light can be effectively used. Luminous efficiency can be improved. Preferably 30-100
%. More preferably, it is 50 to 100%. When the total reflectance of the substrate is lower than 25%, light emitted to the rear side passes through the substrate, and the luminance and the luminous efficiency of the display are reduced.
【０００８】基板の全反射率は、光源、積分球、受光部
からなる全反射率計を用いて測定できる。光源は国際照
明委員会（ＣＩＥ）の基準光であるＤ65光源、Ａ光源、
Ｃ光源が使用できる。受光部は、使用する光源の視感度
に近似するようにフィルターで補正することが必要であ
る。全反射率の測定は、正反射だけでなく、拡散反射も
受光するので、積分球を用いることが重要である。光源
の入射角は、受光部の配置などにより異なるが、１０°
以下が多く使用される。本発明の全反射率の測定には、
Ｄ65光源、２００ｍｍφの積分球を用いた。また、硫酸
バリウムなどを塗布した標準拡散板で校正を行った後、
全反射率の測定を行った。The total reflectance of the substrate can be measured using a total reflectance meter comprising a light source, an integrating sphere, and a light receiving section. The light source illuminant D 65 is the reference light of the International Commission on Illumination (CIE), A light source,
A C light source can be used. The light receiving unit needs to be corrected by a filter so as to approximate the visibility of the light source used. Since the measurement of the total reflectance receives not only specular reflection but also diffuse reflection, it is important to use an integrating sphere. The incident angle of the light source is 10 °
The following are often used: In the measurement of the total reflectance of the present invention,
Illuminant D 65, using an integrating sphere 200 mm. After calibrating with a standard diffuser coated with barium sulfate etc.,
The measurement of the total reflectance was performed.
【０００９】本発明のディスプレイ用基板には、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリ
ウム、酸化イットリウム、酸化錫、酸化ヒ素、酸化アン
チモン、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化ランタン、酸化リチウ
ム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、
酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムの群から選ばれ
た少なくとも一種の酸化物を含むことが好ましい。これ
らの酸化物のうち少なくとも１種を含むことで、基板の
全反射率が向上して、背面側への発光光の全部または一
部が基板で反射されて表示側に出射するため、高輝度化
および高発光効率化できる。The display substrate of the present invention includes aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, tin oxide, arsenic oxide, antimony oxide, zinc oxide, lead oxide, lanthanum oxide, lithium oxide, and sodium oxide. , Potassium oxide, calcium oxide,
It is preferable to include at least one oxide selected from the group consisting of strontium oxide and barium oxide. By containing at least one of these oxides, the total reflectance of the substrate is improved, and all or a part of the light emitted to the back side is reflected by the substrate and emitted to the display side, so that high luminance is obtained. And high luminous efficiency.
【００１０】また、上記酸化物を合計で１０重量％以上
含むことが好ましい。１０重量％以上とすることによ
り、基板の全反射率をより高めることができるためであ
る。[0010] Further, it is preferable that the above oxides are contained in a total of 10% by weight or more. This is because by setting the content to 10% by weight or more, the total reflectance of the substrate can be further increased.
【００１１】また、本発明のディスプレイ用基板として
は前記酸化物を含むガラスが好ましく用いられる。Further, as the display substrate of the present invention, glass containing the above-mentioned oxide is preferably used.
【００１２】本発明のディスプレイ用基板には、さらに
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸
バリウム、リン酸カルシウム、氷晶石、蛍石、硝石、長
石、鉛丹、珪砂の群から選ばれた少なくとも一種を含む
こともできる。基板が上記材料を合計で１０重量％以上
含むことにより、基板の反射率がより向上する傾向があ
る。これらは、上記酸化物と組み合わせて用いることが
できる。The display substrate of the present invention further comprises at least one selected from the group consisting of potassium carbonate, sodium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, calcium phosphate, cryolite, fluorite, saltpeter, feldspar, leadtan and quartz sand. Can also be included. When the substrate contains the above materials in a total amount of 10% by weight or more, the reflectance of the substrate tends to be further improved. These can be used in combination with the above oxides.
【００１３】本発明のディスプレイ用基板は、成形性を
改善するために上記成分以外にリン酸、鉄、塩素を添加
することができる。その場合の添加量は基板重量に対し
３重量％以下であることが好ましい。３重量％より多い
と、基板が着色し過ぎ、全反射率が低下する傾向にな
る。さらに、酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロム、酸化
マンガン、酸化バナジウム等の着色剤を添加して基板の
色調を制御することもできる。The display substrate of the present invention may contain phosphoric acid, iron and chlorine in addition to the above components in order to improve moldability. In this case, the amount of addition is preferably 3% by weight or less based on the weight of the substrate. If it is more than 3% by weight, the substrate is too colored, and the total reflectance tends to decrease. Further, a colorant such as iron oxide, cobalt oxide, chromium oxide, manganese oxide, or vanadium oxide can be added to control the color tone of the substrate.
【００１４】例えばＰＤＰの場合、ディスプレイ用基板
上に電極、誘電体、隔壁、蛍光体などの各層を形成して
得られた背面板と、放電のための電極等を形成した前面
板と貼り合わせて封着するので、基板の熱膨張係数と、
各層および封着に用いるガラスフリット材料との熱膨張
係数を整合させるのが好ましい。具体的には、７５〜９
５×１０-7であることが好ましい。For example, in the case of a PDP, a back plate obtained by forming layers such as electrodes, dielectrics, partition walls, and phosphors on a display substrate is bonded to a front plate formed with electrodes for discharge and the like. And sealing, the coefficient of thermal expansion of the substrate,
It is preferable to match the thermal expansion coefficient of each layer and the glass frit material used for sealing. Specifically, 75-9
It is preferably 5 × 10 −7 .
【００１５】本発明のディスプレイ用基板は、作製する
ディスプレイのサイズにもよるが、厚みが１〜５ｍｍで
あることが好ましい。１ｍｍより薄いと強度が弱いため
に、基板が割れやすく、５ｍｍより厚いと基板が重いた
めに、製造装置の搬送系にかかる負担が増加したり、作
製されるディスプレイの重量が大きくなったりする。The display substrate of the present invention preferably has a thickness of 1 to 5 mm, depending on the size of the display to be produced. If the thickness is less than 1 mm, the strength is weak, and the substrate is easily broken. If the thickness is more than 5 mm, the load on the transport system of the manufacturing apparatus increases, and the weight of the display to be manufactured increases.
【００１６】以下に、本発明のディスプレイ用基板の製
造方法について述べる。まず、酸化アルミニウム、酸化
ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化イット
リウム、酸化錫、酸化ヒ素、酸化アンチモン、酸化亜
鉛、酸化鉛、酸化ランタン、酸化リチウム、酸化ナトリ
ウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチ
ウムおよび酸化バリウムの群から選ばれた酸化物、およ
び必要に応じて炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、リン酸カルシウム、氷晶石、
蛍石、硝石、長石、鉛丹、珪砂を酸化珪素と混ぜ合わせ
る。次に、これを溶解炉に連続的に投入して１５００〜
１８００℃に加熱して溶融する。この溶融ガラスをフロ
ート法により成形する。すなわち、溶融ガラスを溶融し
た錫の上に流し込み、レヤーロールの速度を調節するこ
とにより所望の板厚に成形し、徐冷後切断することによ
って本発明のディスプレイ基板を得ることができる。Hereinafter, a method for manufacturing the display substrate of the present invention will be described. First, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, tin oxide, arsenic oxide, antimony oxide, zinc oxide, lead oxide, lanthanum oxide, lithium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, strontium oxide and Oxides selected from the group of barium oxides and, if necessary, potassium carbonate, sodium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, calcium phosphate, cryolite,
Combine fluorite, saltpeter, feldspar, leadtan and quartz sand with silicon oxide. Next, this is continuously charged into the melting furnace,
Heat to 1800 ° C to melt. This molten glass is formed by a float method. That is, the display substrate of the present invention can be obtained by pouring the molten glass onto the molten tin, adjusting the speed of the layer roll to form a desired thickness, cutting slowly, and then cutting.
【００１７】次に、本発明のディスプレイ用基板を用い
るディスプレイ用部材について説明する。本発明のディ
スプレイ用基板には、、電極、誘電体層、保護層、隔
壁、蛍光体などを形成してディスプレイ用部材を得るこ
とができ、さらにこれを用いてＰＤＰ、ＰＡＬＣ、ＦＥ
Ｄ、ＶＦＤ等のディスプレイを作製することができる。
ＰＤＰを例にとってディスプレイ用部材の製造方法を説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。Next, a display member using the display substrate of the present invention will be described. An electrode, a dielectric layer, a protective layer, a partition, a phosphor, and the like can be formed on the display substrate of the present invention to obtain a display member, which can be further used for PDP, PALC, FE.
A display such as D or VFD can be manufactured.
A method for manufacturing a display member will be described using a PDP as an example, but the present invention is not limited to this.
【００１８】図１にＡＣ型面放電ＰＤＰの模式断面図を
示す。ただし、走査電極４と維持電極５を９０°回転さ
せて示してある。放電空間セル３が前面基板１と背面基
板２に挟まれ、セルは隔壁１０によって区切られてい
る。隔壁１０は前後左右の全ての方向に必ず設けられて
いるわけではなく、プロセスや表示性能のバランスなど
から例えば左右のみなど、任意、適切な位置に配置す
る。前面基板１上には走査電極４、維持電極５、前面板
誘電体層７を設けてあり、保護層９で覆われている。以
下、これを前面板と呼ぶ。また、背面基板２上にはアド
レス電極６、背面板誘電体層８、隔壁１０、蛍光体層１
１が設けてある。以下、これを背面板と呼ぶ。本発明の
ディスプレイ用基板は、背面基板２に用いることが好ま
しい。これにより、背面側への発光光のうち全部または
一部が基板で反射されて表示側に出射するため、高輝度
化および高発光効率化できる。本発明のディスプレイ基
板は、基板上に形成する電極、誘電体層、保護層などの
構造、配置には限定されず、図１に示した反射型構造だ
けでなく、蛍光体層を前面板に配した透過型構造や、蛍
光体層を背面板と前面板の両方に形成したハイブリッド
型構造、誘電体層のないＤＣ型などにも適用できる。FIG. 1 is a schematic sectional view of an AC type surface discharge PDP. However, the scanning electrode 4 and the sustain electrode 5 are shown rotated by 90 °. A discharge space cell 3 is sandwiched between a front substrate 1 and a rear substrate 2, and the cells are separated by partition walls 10. The partition walls 10 are not necessarily provided in all directions of front, rear, left and right, and may be arranged at any appropriate position, for example, only left and right, for example, in view of the balance of the process and display performance. Scan electrodes 4, sustain electrodes 5, and front plate dielectric layer 7 are provided on front substrate 1, and are covered with protective layer 9. Hereinafter, this is called a front plate. On the back substrate 2, the address electrodes 6, the back plate dielectric layer 8, the barrier ribs 10, the phosphor layer 1
1 is provided. Hereinafter, this is called a back plate. The display substrate of the present invention is preferably used for the back substrate 2. Thereby, all or a part of the light emitted to the back side is reflected by the substrate and emitted to the display side, so that high luminance and high luminous efficiency can be achieved. The display substrate of the present invention is not limited to the structure and arrangement of electrodes, dielectric layers, protective layers, and the like formed on the substrate. In addition to the reflective structure shown in FIG. The present invention can be applied to a transmission type structure in which a phosphor layer is disposed, a hybrid type structure in which a phosphor layer is formed on both a back plate and a front plate, and a DC type without a dielectric layer.
【００１９】以下、ＰＤＰの製造方法について述べる。
まず、前面板の製造方法について述べる。前面板に用い
る基板については、特に限定しないが、一般的にはソー
ダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理し
たガラス、または、高歪み点ガラス（例えば、旭硝子社
製“ＰＤ−２００”）等を用いることができる。ガラス
基板のサイズは特に限定はなく、厚みは１〜５ｍｍのも
のを用いることができる。Hereinafter, a method of manufacturing a PDP will be described.
First, a method for manufacturing the front plate will be described. The substrate used for the front plate is not particularly limited, but generally, soda lime glass, glass obtained by annealing soda lime glass, or high strain point glass (for example, “PD-200” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) or the like is used. Can be used. The size of the glass substrate is not particularly limited, and a glass substrate having a thickness of 1 to 5 mm can be used.
【００２０】ガラス基板上に、放電のための複数の電極
を形成する。電極形成法としては、例えば、酸化錫、Ｉ
ＴＯなどの透明電極をリフトオフ法、フォトエッチング
法などによって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル等をス
クリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソ
グラフィー法によってパターン形成してもよい。また、
より低抵抗な電極を形成する目的で透明電極の上にバス
電極を形成してもよい。ここで、放電のための複数の電
極を形成したガラス基板上に、前面板誘電体層として透
明誘電体層をスクリーン印刷法などにより形成すること
もできる。その場合の透明誘電体材料は特に限定されな
いが、ＰｂＯ、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2を含有する誘電体材料
が適用される。A plurality of electrodes for discharging are formed on a glass substrate. As an electrode forming method, for example, tin oxide, I
A transparent electrode such as TO may be patterned by a lift-off method, a photo-etching method, or the like, using silver, aluminum, copper, gold, nickel, or the like by screen printing or a photolithography method using a photosensitive conductive paste. Also,
A bus electrode may be formed on the transparent electrode for the purpose of forming a lower resistance electrode. Here, a transparent dielectric layer as a front plate dielectric layer can be formed on a glass substrate on which a plurality of electrodes for discharge are formed by a screen printing method or the like. The transparent dielectric material in that case is not particularly limited, but a dielectric material containing PbO, B 2 O 3 , and SiO 2 is applied.
【００２１】放電のための複数の電極を形成したガラス
基板上に、放電によるイオン衝撃からの保護を目的とし
てＭｇＯ膜を形成することも好ましい。形成手法は、電
子ビーム蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンビームアシス
ト蒸着法、Ｍｇターゲットの反応性スパッタ法、イオン
ビームスパッタ法、ＣＶＤ法などが適用できる。It is also preferable to form an MgO film on a glass substrate on which a plurality of electrodes for discharge are formed for the purpose of protecting against ion bombardment due to discharge. As a forming method, an electron beam evaporation method, a plasma evaporation method, an ion beam assisted evaporation method, a reactive sputtering method of a Mg target, an ion beam sputtering method, a CVD method, or the like can be applied.
【００２２】次に背面板の製造方法について述べる。背
面基板には本発明のディスプレイ用基板を用いる。基板
上に、スクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフ
ォトリソグラフィー法によって、銀やアルミ、銅、金、
ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等を含むアドレス電極をパタ
ーン形成する。さらに、放電の安定化のためにアドレス
電極の上に誘電体層を設けても良い。Next, a method of manufacturing the back plate will be described. The display substrate of the present invention is used for the back substrate. On the substrate, silver, aluminum, copper, gold,
An address electrode containing nickel, tin oxide, ITO or the like is patterned. Further, a dielectric layer may be provided on the address electrode for stabilizing discharge.
【００２３】アドレス電極を形成した基板上に、セルを
仕切るための隔壁をサンドブラスト法、型転写法、フォ
トリソグラフィー法等によって形成する。本発明に使用
する隔壁の材料や隔壁の形状としては特に限定されな
い。On the substrate on which the address electrodes are formed, partitions for partitioning cells are formed by a sandblast method, a mold transfer method, a photolithography method, or the like. The material of the partition used in the present invention and the shape of the partition are not particularly limited.
【００２４】さらに、アドレス電極および隔壁を形成し
た基板上に、蛍光体粉末と樹脂を含有する蛍光体ペース
トを用い、ディスペンサー法、スクリーン印刷法や、さ
らに感光成分を添加したペーストを用いた感光性ペース
ト法等によって蛍光体層を塗布し、焼成する。蛍光体ペ
ーストに用いるポリマーおよび溶媒は特に限定されな
い。ポリマーとしてはポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）などのアクリル系樹脂やエチルセルロース、溶媒
としてα−ターピネオール、ベンジルアルコール等であ
る。本発明に使用する蛍光体材料は特に限定されない。
例えば、赤色では、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、
（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3
（ＰＯ4）2：Ｍｎがある。緑色では、Ｚｎ2ＧｅＯ2：Ｍ
ｎ、ＢａＡｌ1 2Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｌａ
ＰＯ4：Ｔｂ、ＺｎＳ：Ｃｕ,Ａｌ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍ
ｎ,Ａｓ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃｕ,Ａｌ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＹＢＯ3：Ｔｂなどがある。青色では、Ｓｒ5（ＰＯ4）3
Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ2 3：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ
10Ｏ17：Ｅｕ、ＢａＭｇ2Ａｌ14Ｏ24：Ｅｕ、ＺｎＳ：
Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅなどが挙げられる。
このようにして、背面板を作製することができる。Further, a phosphor paste containing a phosphor powder and a resin is formed on the substrate on which the address electrodes and the partition walls are formed, using a dispenser method, a screen printing method, or a photosensitive method using a paste further containing a photosensitive component. The phosphor layer is applied by a paste method or the like and fired. The polymer and the solvent used for the phosphor paste are not particularly limited. Polymethyl methacrylate (PM
MA) and ethyl cellulose, and α-terpineol and benzyl alcohol as solvents. The phosphor material used in the present invention is not particularly limited.
For example, in red, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu,
(Y, Gd) BO 3 : Eu, Y 2 O 3 S: Eu, γ-Zn 3
(PO 4 ) 2 : Mn. In green, Zn 2 GeO 2 : M
n, BaAl 1 2 O 19: Mn, Zn 2 SiO 4: Mn, La
PO 4 : Tb, ZnS: Cu, Al, Zn 2 SiO 4 : M
n, As, (ZnCd) S: Cu, Al, ZnO: Zn,
YBO 3 : Tb and the like. In blue, Sr 5 (PO 4 ) 3
Cl: Eu, BaMgAl 14 O 2 3: Eu, BaMgAl
10 O 17 : Eu, BaMg 2 Al 14 O 24 : Eu, ZnS:
Ag + red pigment, Y 2 SiO 3 : Ce and the like.
In this way, a back plate can be manufactured.
【００２５】以上述べた前面板と背面板をガラスフリッ
トで封着し、排気しながら所定の加熱を行った後、排気
を続けながら室温付近まで封着した前面板と背面板を冷
却し、放電ガスを所定の圧力まで封入する。最後に、駆
動回路を実装してプラズマディスプレイを完成する。After sealing the front plate and the back plate described above with a glass frit and performing predetermined heating while evacuating, the sealed front plate and back plate are cooled to around room temperature while continuing to evacuate, and then discharged. The gas is filled up to a predetermined pressure. Finally, the driving circuit is mounted to complete the plasma display.
【００２６】[0026]
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本
実施例ではＡＣ型面放電型ＰＤＰについて図１を用いて
説明するが、本発明はＤＣ型やＡＣ型対向放電型ＰＤＰ
等だけでなく、ＰＡＬＣ、ＦＥＤ、ＶＦＤ等のディスプ
レイにも適用することができる。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In this embodiment, an AC type surface discharge type PDP will be described with reference to FIG. 1. However, the present invention is applied to a DC type or AC type counter discharge type PDP.
In addition, the present invention can be applied to displays such as PALC, FED, and VFD.
【００２７】（全反射率測定方法）全反射率の測定は、
Ｄ65光源、２００ｍｍφ、受光部からなる全反射率計を
用いて測定した。光源の入射角は７°とした。受光部
は、Ｄ65光源の視感度に近似するようにフィルターで補
正した。積分球は２００ｍｍφのものを用いた。校正
は、硫酸バリウムを塗布した標準拡散板にて行った。(Measurement method of total reflectance)
Illuminant D 65, 200 mm, was measured using a total reflectometer comprising a light receiving unit. The incident angle of the light source was 7 °. Light receiving section were corrected in a filter to approximate the luminosity of the illuminant D 65. An integrating sphere having a diameter of 200 mm was used. Calibration was performed with a standard diffusion plate coated with barium sulfate.
【００２８】（輝度測定方法）ディスプレイの輝度は、
分光放射輝度計ＣＳ−１０００（ミノルタ（株）製）を
使用して白色輝度を測定した。測定視野は２０ｍｍφと
し、ディスプレイ上の異なる５点の輝度を測定し、その
平均値を算出した。前面板の維持放電電圧は１８０Ｖ、
周波数は３０ｋＨｚ一定とした。(Brightness measuring method)
White luminance was measured using a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Minolta Co., Ltd.). The measurement visual field was set to 20 mmφ, and the luminance at five different points on the display was measured, and the average value was calculated. The sustain discharge voltage of the front panel is 180V,
The frequency was fixed at 30 kHz.
【００２９】（発光効率）発光効率は、次式を用いて算
出した。(Emission efficiency) Emission efficiency was calculated using the following equation.
【００３０】４πＬ・Ｓ／Ｐ （ｌｍ／Ｗ） Ｌ：輝度（ｃｄ／ｍ2） Ｓ：表示領域の面積（ｍ2） Ｐ：白表示と黒表示における電力差（Ｗ） （実施例１）前面板１は、旭硝子社製の“ＰＤ−２０
０”を用いた。放電のための走査電極４と維持電極５は
発光光を透過させるために、ＩＴＯ（酸化インジウム
錫）膜を用いて、抵抗率を下げるためにＡｇ電極を上に
設けた。その上に前面板誘電体層７を形成し、さらに保
護層９としてＭｇＯ膜を設けた。背面基板は酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化アルミニウ
ムを酸化珪素に合計で１５重量％含有させた全反射率が
２５％のガラス基板を用いた。基板にアドレス電極６、
背面板誘電体層８、隔壁１０を設けた。隔壁形状はスト
ライプ状とした。さらに、隔壁間に蛍光体層を底部厚み
２０μｍで設けた。蛍光体は赤：（Ｙ、Ｇｄ、Ｅｕ）Ｂ
Ｏ3、緑：（Ｚｎ、Ｍｎ）2ＳｉＯ4、青：（Ｂａ、Ｅ
ｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ1 7の組成のものを用いた。このように
作製した前面板と背面板をガラスフリットを用いて封着
し、Ｘｅ５％−Ｎｅガスを封入した。最後に駆動回路を
実装してＰＤＰを作製した。このＰＤＰの平均輝度は３
６２ｃｄ／ｍ2、発光効率は１．０ｌｍ／Ｗであった。4πL · S / P (lm / W) L: Luminance (cd / m 2 ) S: Area of display area (m 2 ) P: Power difference between white display and black display (W) (Example 1) The front plate 1 is made of “PD-20” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
0 "was used. The scanning electrode 4 and the sustaining electrode 5 for discharging use an ITO (indium tin oxide) film for transmitting emitted light, and an Ag electrode was provided on the scanning electrode 4 and the sustaining electrode 5 for lowering the resistivity. A front plate dielectric layer 7 was formed thereon, and an MgO film was further provided as a protective layer 9. The rear substrate contained titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, and aluminum oxide in a total of 15% by weight in silicon oxide. A glass substrate having a total reflectance of 25% was used.
The back plate dielectric layer 8 and the partition 10 were provided. The partition shape was a stripe shape. Further, a phosphor layer having a bottom thickness of 20 μm was provided between the partition walls. The phosphor is red: (Y, Gd, Eu) B
O 3 , green: (Zn, Mn) 2 SiO 4 , blue: (Ba, E
u) was used in the composition of MgAl 10 O 1 7. The front plate and the rear plate thus manufactured were sealed using a glass frit, and Xe5% -Ne gas was sealed. Finally, a drive circuit was mounted to produce a PDP. The average brightness of this PDP is 3
The light emission efficiency was 62 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.0 lm / W.
【００３１】（実施例２）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウムを合計で１９重量
％加えて背面基板の全反射率を３５％としたこと以外
は、実施例１と同様のＰＤＰを作製した。このＰＤＰの
平均輝度は３６５ｃｄ／ｍ2、発光効率は１．０ｌｍ／
Ｗであった。(Example 2) A PDP was prepared in the same manner as in Example 1 except that titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, and aluminum oxide were added in a total of 19% by weight to make the total reflectance of the rear substrate 35%. Produced. This PDP has an average luminance of 365 cd / m 2 and a luminous efficiency of 1.0 lm / m.
W.
【００３２】（実施例３）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化アンチモ
ン、酸化イットリウムを合計で２０重量％加えて背面基
板の全反射率を４７％としたこと以外は、実施例１と同
様のＰＤＰを作製した。このＰＤＰの平均輝度は３７０
ｃｄ／ｍ2、発光効率は１．１ｌｍ／Ｗであった。Example 3 Example 2 was repeated except that titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, aluminum oxide, antimony oxide, and yttrium oxide were added in a total amount of 20% by weight so that the total reflectance of the rear substrate was 47%. The same PDP as in Example 1 was produced. The average brightness of this PDP is 370
cd / m 2 and luminous efficiency were 1.1 lm / W.
【００３３】（実施例４）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化イットリ
ウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化カリウム、蛍石、氷
晶石を合計で２２重量％加えて背面基板の全反射率を６
８％としたこと以外は、実施例１と同様のＰＤＰを作製
した。このＰＤＰの平均輝度は３７８ｃｄ／ｍ2、発光
効率は１．１ｌｍ／Ｗであった。Example 4 A total of 22% by weight of titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, antimony oxide, yttrium oxide, cerium oxide, tin oxide, potassium oxide, fluorite, and cryolite was added to the entire rear substrate. 6 reflectivity
A PDP was produced in the same manner as in Example 1 except that the PDP was set to 8%. The average luminance of this PDP was 378 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.1 lm / W.
【００３４】（実施例５）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化イットリ
ウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ヒ素、酸化カリウム
を合計で２２重量％加えて背面基板の全反射率を８７％
としたこと以外は、実施例１と同様のＰＤＰを作製し
た。このＰＤＰの平均輝度は３８９ｃｄ／ｍ2、発光効
率は１．２ｌｍ／Ｗであった。Example 5 Titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, antimony oxide, yttrium oxide, cerium oxide, tin oxide, arsenic oxide and potassium oxide were added in a total amount of 22% by weight, and the total reflectance of the rear substrate was 87. %
A PDP was produced in the same manner as in Example 1 except that the above conditions were satisfied. The average luminance of this PDP was 389 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.2 lm / W.
【００３５】（実施例６）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化イットリウ
ム、酸化セリウム、酸化ヒ素、酸化カリウム、酸化カル
シウムを合計で３０重量％加えて背面基板の全反射率を
９８％としたこと以外は、実施例１と同様のＰＤＰを作
製した。このＰＤＰの平均輝度は４０２ｃｄ／ｍ2、発
光効率は１．２ｌｍ／Ｗであった。(Example 6) Titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, cerium oxide, arsenic oxide, potassium oxide, and calcium oxide were added in total of 30% by weight, and the total reflectance of the rear substrate was 98. %, Except that the percentage was set to be%. The average luminance of this PDP was 402 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.2 lm / W.
【００３６】（比較例１）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウムを合計で９重量％
加えて背面基板の全反射率を６％としたこと以外は、実
施例１と同様のＰＤＰを作製した。このＰＤＰの平均輝
度は３４７ｃｄ／ｍ2、発光効率は１．０ｌｍ／Ｗであ
った。Comparative Example 1 A total of 9% by weight of titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide and aluminum oxide
In addition, a PDP was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the total reflectance of the rear substrate was set to 6%. The average luminance of this PDP was 347 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.0 lm / W.
【００３７】（比較例２）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化カルシウム
を合計で７重量％加えて背面基板の全反射率を１３％と
したこと以外は、実施例１と同様のＰＤＰを作製した。
このＰＤＰの平均輝度は３４９ｃｄ／ｍ2、発光効率は
１．０ｌｍ／Ｗであった。Comparative Example 2 Same as Example 1 except that titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, aluminum oxide and calcium oxide were added in a total of 7% by weight to make the total reflectance of the rear substrate 13%. Was produced.
The average luminance of this PDP was 349 cd / m 2 , and the luminous efficiency was 1.0 lm / W.
【００３８】（比較例３）酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化カリウムを
合計で９重量％加えて背面基板の全反射率を２１％とし
たこと以外は、実施例１と同様のＰＤＰを作製した。こ
のＰＤＰの平均輝度は３５３ｃｄ／ｍ2、発光効率は
１．０ｌｍ／Ｗであった。Comparative Example 3 Same as Example 1 except that the total reflectance of the back substrate was 21% by adding a total of 9% by weight of titanium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, aluminum oxide and potassium oxide. Was produced. The average luminance of this PDP was 353 cd / m 2 and the luminous efficiency was 1.0 lm / W.
【００３９】本発明の実施例は、比較例に比べて輝度、
発光効率が高い。In the embodiment of the present invention, the luminance,
High luminous efficiency.
【００４０】[0040]
【発明の効果】本発明のディスプレイ用基板は、全反射
率を２５〜１００％の範囲内にしたので、蛍光体層から
基板方向への発光光が反射され、高輝度、高発光効率の
表示ができるディスプレイ部材およびディスプレイを得
ることができる。According to the display substrate of the present invention, the total reflectance is in the range of 25 to 100%, so that the light emitted from the phosphor layer toward the substrate is reflected, and the display with high luminance and high luminous efficiency is displayed. The display member and the display which can be obtained can be obtained.
【図１】プラズマディスプレイのセルを示す模式断面
図。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a cell of a plasma display.
１ 前面基板 ２ 背面基板 ３ 放電空間セル ４ 走査電極 ５ 維持電極 ６ アドレス電極 ７ 前面板誘電体層 ８ 背面板誘電体層 ９ 保護層 １０ 隔壁 １１ 蛍光体層 REFERENCE SIGNS LIST 1 front substrate 2 back substrate 3 discharge space cell 4 scan electrode 5 sustain electrode 6 address electrode 7 front plate dielectric layer 8 back plate dielectric layer 9 protective layer 10 partition 11 phosphor layer
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA01 AA04 AA18 BB01 CC04 DA02 DB01 DB02 DC01 DD01 DE01 DE02 DF01 DF02 EA01 EA02 EA10 EB01 EB02 EC01 EC02 ED01 EE01 EE02 EF01 EF02 EG01 EG02 FA01 FA10 FB01 FB02 FC01 FC02 FD01 FE01 FE02 FF01 FG01 FH01 FJ01 FJ02 FK01 FK02 FL01 FL02 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN04 5C040 FA01 GA03 KA10 MA02 MA03 5C094 AA10 BA31 BA33 BA43 CA19 CA24 EB02 FB02 FB15 JA01 JA11 Continued on the front page F-term (reference) 4G062 AA01 AA04 AA18 BB01 CC04 DA02 DB01 DB02 DC01 DD01 DE01 DE02 DF01 DF02 EA01 EA02 EA10 EB01 EB02 EC01 EC02 ED01 EE01 EE02 EF01 EF02 EG01 EG02 FA01 FE01 FC02 FB01 FB01 FJ01 FJ02 FK01 FK02 FL01 FL02 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 MA03 BA03 BA03 BA03 BA10 BA03 BA10 BA03 BA10 BA03 BA10 5 FB15 JA01 JA11
Claims (6)
であることを特徴とするディスプレイ用基板。1. A display substrate, wherein the total reflectance of the substrate is in the range of 25 to 100%.
ム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸
化錫、酸化ヒ素、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化鉛、
酸化ランタン、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カ
リウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸
化バリウムの群から選ばれた少なくとも一種の酸化物を
含むことを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用基
板。2. The substrate is made of aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, tin oxide, arsenic oxide, antimony oxide, zinc oxide, lead oxide,
2. The display substrate according to claim 1, comprising at least one oxide selected from the group consisting of lanthanum oxide, lithium oxide, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, strontium oxide and barium oxide.
とを特徴とする請求項２記載のディスプレイ用基板。3. The display substrate according to claim 2, wherein the total amount of the oxide is 10% by weight or more.
項２記載のディスプレイ用基板。4. The display substrate according to claim 2, wherein the substrate is glass.
レイ用基板を用いてなることを特徴とするディスプレイ
用部材。5. A display member comprising the display substrate according to any one of claims 1 to 4.
てなることを特徴とするディスプレイ。6. A display comprising the display member according to claim 5.
Priority Applications (1)
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| JP2000309391A JP2002117778A (en) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | Substrate for display, member for display and display |
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