JP2002116015A - 欠陥検出装置及び方法 - Google Patents

欠陥検出装置及び方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 精度良く被検査物体の表面凹凸を検出する。 【解決手段】 周期的な明暗ストライプパターン(11)を
被検査物体(2)に照射する照明手段(1)と、前記被検査物
体を反射したパターンまたは透過したパターンを撮像す
る撮像手段(3)と、前記撮像手段におけるストライプパ
ターンの明暗画像のコントラスト変化に基づいて前記被
検査物体の欠陥を検出する検出手段(4)と、を備える欠
陥検出装置において、前記撮像手段が有するレンズ(31)
の焦点を、前記照明手段のストライプパターンの位置と
比較して遠方又は手前の位置にずらす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鏡面性あるいは透過性
を有する物体に存在する、表面凹凸、光学歪み等の欠陥
を検出する欠陥検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】連続的に生産される、金属板、不透明樹
脂板等の鏡面性を有する物体、または、透明フィルム、
透明樹脂板等の透明性を有する物体には、表面凹凸、光
学歪み等の欠陥が存在する場合がある。これらの欠陥を
検出する欠陥検出装置として、従来から、ライン状照明
装置とラインCCDカメラを利用した欠陥検出装置が知
られている。例えば表面に存在する凹凸の検査では、物
体の流れ方向に対して垂直にライン状照明装置を配置
し、ライン状照明装置によって照明された物体からの反
射光をラインCCDカメラで受光する。表面凹凸等の欠
陥により反射光が乱されると、欠陥部でのラインCCD
カメラの受光量が低下することを利用して連続的に物体
の表面凹凸等の欠陥を検出することが可能となる。しか
しながら、この方法では、緩やかな凹凸やラインCCD
カメラのスキャン方向に垂直な縦長の凹凸欠陥では受光
量がほとんど変化せず、欠陥部を検出できないという問
題があった。
【0003】板状物体の表面形状を簡便に、かつ精度良
く評価する方法として特開平11-148813号公報
に記載された方法がある。この方法では、例えば明暗が
チェッカーパターン状になっている面光源から被評価物
体に光を投射し、被評価物体からの透過光または反射光
をCCDカメラ等の撮像素子で受光し、受光に基づく電
気信号を処理して表面形状を評価する。被評価物体がま
ったく平坦であれば、受光に基づく電気信号から得られ
るパターンの明暗周期は変化することはない。被評価物
体に表面変形があると、表面変形部分でパターンの明暗
周期が変化する。このパターンの明暗周期のずれ量を測
定することにより、精度良く表面形状を評価することが
可能となる。ここで、明暗周期のずれ量は、被評価物体
に照射されたパターンの明暗周期の1ピッチに対応した
サイズの受光画像における領域の明暗を平均化し、平均
化された信号の振幅の変動により測定される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の装置で
は、明暗周期のずれ量のみを評価の対象としているた
め、被評価物体が全く平坦な場合のずれ量をゼロとする
ためには、パターンの明暗周期の1ピッチに対応したサ
イズの受光画像における領域が、撮像素子の最小受光単
位(画素サイズ)の整数倍に対応するように、極めて精
度良く調整する必要があるという問題がある。
【0005】また、従来から、パターンのコントラスト
変化を検出する装置もあるが、このような装置では、正
常部でのコントラストが最大になるようにセッティング
されていることから、緩やかな表面凹凸ではコントラス
トがほとんど変化せず、表面凹凸を検出できないという
問題がある。本発明の目的は、こうした従来の装置の問
題点を解決し、光学系を精度よくセッティングしなくて
も、極めて精度良く被検査物体の表面凹凸を検出可能な
装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明による欠陥検出装置は、周期的な明暗ストラ
イプパターンを被検査物体に照射する照明手段と、前記
被検査物体を反射したパターンまたは透過したパターン
を撮像する撮像手段と、前記撮像手段におけるストライ
プパターンの明暗画像のコントラスト変化に基づいて前
記被検査物体の欠陥を検出する検出手段と、を備える欠
陥検出装置において、前記検出手段は、コンパレータ、
及び画像膨張回路を備えることを特徴とする。前記検出
手段は、更に、第2のコンパレータ、及び画像収縮回路
を備えてもよい。
【0007】本発明による欠陥検出方法は、照明装置か
ら周期的な明暗ストライプパターンを被検査物体に照射
し、撮像装置が有するレンズの焦点を、前記照明装置の
ストライプパターンの位置と比較して遠方あるいは手前
の位置にずらし、前記被検査物体を反射したパターンま
たは透過したパターンを前記撮像装置により撮像し、撮
像したストライプパターンのコントラスト変化を表す画
像信号に基づいて、前記被検査物体の凹凸を検出する、
ステップを備える。
【0008】また、前記撮像手段が有するレンズの焦点
をずらすステップは、前記被検査物体が正常な場合の前
記撮像手段における明暗ストライプパターンのコントラ
ストが、前記照明手段のストライプパターンの位置に合
わせた場合と比較して1/4〜3/4になるように、前
記照明手段のストライプパターンの位置の遠方あるいは
手前にずらしてもよい。
【0009】また、前記被検査物体の凹凸を検出するス
テップは、前記画像信号を第1の基準電圧と比較し、前
記画像信号が前記第1の基準電圧より大きい部分を二値
の一方の値に設定し、前記一方の値の部分を所定の距離
だけ横方向に拡大処理し、拡大処理後に前記一方の値を
とる部分を凸部又は凹み部と検出しても良い。また、前
記被検査物体の凹凸を検出するステップは、前記画像信
号を第2の基準電圧と比較し、前記画像信号が前記第2
の基準電圧より大きい部分を二値の一方の値に設定し、
前記一方の値の部分を所定の距離だけ横方向に縮小処理
し、縮小処理後に前記一方の値をとる部分を凸部又は凹
み部と検出しても良い。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
によって説明する。図1は本発明による欠陥検出装置の
一構成例を示す構成図である。 [照明手段]照明装置1は、周期的な明暗ストライプパ
ターンを有する光を被検査物体に照射するための装置で
あり、一般的に使用される蛍光灯等の光源に、透明部と
不透明部とからなるストライプパターン11を施した前
面カバーを用いる。透明/不透明のストライプパターン
の周期は、検出したい凹凸欠陥や光学歪欠陥のサイズよ
り小さくすることが望ましい。
【0011】[被検査物体]被検査物体2は、金属板、
樹脂板、ガラス板等の鏡面性または透過性を有する平面
を持つ物体である。図1に示すのは反射方式であり、照
明装置1により照射された明暗ストライプパターンを有
する光は、被検査物体2の表面に21で示す線状に投影
される。被検査物体2の表面で反射した光を撮像装置3
で検出する。被検査物体2を矢印Aで示す方向に連続的
に移動させながら、表面凹凸を検出することが出来る。
また、透明体の場合は被検査物体を透過して映し出され
るストライプパターンを撮像する透過方式により、表面
凹凸を検出することができる(図示せず)。また、例え
ば、一面側が非常に微細なマット加工を施してある透明
樹脂シートの場合、透過方式では鏡面側の凹凸欠陥が検
出できないので、鏡面側の凹凸欠陥を反射方式で検査す
る場合もある。
【0012】[撮像手段]被検査物体2で反射した明暗
ストライプパターンは撮像装置3により受光され画像信
号に変換される。撮像装置3としては、一般的にCCD
カメラが使用され、特に被検査物体2が一方向に移動す
る場合には一次元CCDカメラが使用される。撮像装置
3では、結像レンズ31により、被検査物体2の表面で
反射した明暗ストライプパターンをCCD素子32に結
像する。CCD素子32に結像された明暗ストライプパ
ターンの1周期は、CCD素子の最小受光単位(画素サ
イズ)の8倍以上であることが望ましい。
【0013】図2は、上の図は透明/不透明ストライプ
パターン11、中間の図は被検査物体2の断面を表す。
図2の下の図は、被検査物体2の表面で反射した光を撮
像装置3で検出し、撮像装置3から出力される画像信号
を表した図である。ここで、横軸は被検査物体2表面上
の線21上の位置を表す。縦軸は画像信号の電圧を表
す。被検査物体が全く平坦な場合には、図2に示すよう
に、ストライプパターン11に対応した一定周期のパタ
ーンが得られる。aは、撮像手段から得られる画像信号
の最大電圧、bは最小電圧である。撮像装置から得られ
る画像信号が図2のようになった場合、画像信号のコン
トラストを、(a−b)/(a+b)と定義する。
【0014】(1)最もコントラストが大きくなるの
は、結像レンズ31の焦点を照明装置1のストライプパ
ターンの位置に合わせた場合である。このとき、撮像装
置から得られる画像信号を図3に示す。この場合、被検
査物体2の平面が全く平坦な場合にコントラストが最大
になるので、被検査物体2に凹凸欠陥があった場合、明
暗ストライプパターンの周期変化は起こるが、これ以上
コントラストが大きくなることはない。
【0015】(2)図4は、結像レンズ31の焦点を照
明装置1のストライプパターンの位置と比較して手前に
ずらし、結像レンズ31の焦点を照明装置1のストライ
プパターンの位置に合わせた場合と比較して、コントラ
ストが1/2になるような位置に結像レンズ31を置い
た場合を表す。図2、3と同様に、上の図はストライプ
パターン11、中間の図は被検査物体2の断面を表す。
図4(a)の下の図は、被検査物体2表面が平坦な場合
において、撮像装置から得られる画像信号を示す。画像
信号は一定の周期と振幅で変化することが分かる。図4
(b)に、被検査物体2に凹凸がある場合に撮像装置か
ら得られる画像信号を示す。この場合、被検査物体2の
凹み部23において、画像信号は、51で示すように明
暗周期が長くなりコントラストが低下する。また、凸部
24において、画像信号は、52で示すように明暗周期
が短くなりコントラストが大きくなる。
【0016】(3)図示しないが、逆に、結像レンズ3
1の焦点を照明装置1のストライプパターン11の位置
と比較して遠方にずらし、結像レンズ31の焦点を照明
装置1のストライプパターン11の位置に合わせた場合
と比較して、コントラストが1/2になるような位置に
結像レンズ31を置いた場合には、被検査物体2に凹み
部23があると、明暗周期は長くなりコントラストは大
きくなる。また、凸部24では明暗周期が短くなりコン
トラストは低下する。
【0017】つまり、焦点位置をずらし、正常状態での
コントラストを意識的に低下させておくことにより、凹
み部と凸部の欠陥があると、コントラストが顕著に変化
する。ここでは、コントラストが1/2になるようにレ
ンズの焦点位置をずらした場合を例にとったが、コント
ラストを丁度1/2にする必要はない。凹み部と凸部の
どちらでもコントラスト変化を得るためには、コントラ
ストが1/4〜3/4となる位置に焦点をずらすのが適
当である。
【0018】[検出手段]図5、図6、及び図7を用い
て、処理装置4の一例を説明する。図5は、処理装置4
の一構成例である。撮像装置からの画像信号S1は、コ
ンパレータ41に与えられる。コンパレータ41では、
基準電圧Vr1と入力信号とを比較する。ここに、基準電
圧Vr1は、被検査物体2の平坦部ではVr1を超えず、凹
み部又は凸部でのみVr1を超えるようなレベルに設定す
る。基準電圧Vr1より入力信号の電圧の方が高い部分を
1、入力電圧の方が低い部分を0に2値化する。そし
て、その位置情報をコンパレータ信号S41として出力
する。図6は、ストライプパターン11を通り、凹み部
23と凸部24を有する被検査物体2で反射した光を処
理装置4により処理した信号を表す。図6(a)は、撮
像装置3から得られる画像信号S1を表す。Vr1を図6
(a)に示すような電圧レベルにセットした場合、凸部
24に対応する画像信号52に対応する部分のみがVr1
を超えるので1にセットされる。その結果、コンパレー
タ41から図6(b)に示すようなコンパレータ信号S
41が出力される。
【0019】次に、コンパレータ信号S41は画像膨張
回路42に入力される。画像膨張回路42では、入力さ
れたコンパレータ信号S41を指定された幅だけ両側に
膨張する。画像膨張回路42から出力される位置信号S
42は、図6(c)に示すようになる。例えば、明暗周
期の3/4倍に相当する幅を指定すると、同一の凸部に
より生じた値が1の複数の部分53は1つに結合され
て、54のようになる。画像膨張回路42からの位置信
号S42は、凸部のみで1をとる。こうして、凸部が存
在することを検出することが可能となる。
【0020】また、撮像装置からの画像信号S1は、コ
ンパレータ43にも与えられる。コンパレータ43で
は、基準電圧Vr2と入力信号とを比較する。Vr2は、被
検査物体2の平坦部ではVr2より低くなる部分がある
が、凹み部又は凸部でのみVr2より低くなることがない
ようなレベルに設定する。基準電圧Vr2より入力信号の
電圧の方が高い部分を1、入力電圧の方が低い部分を0
に2値化して、コンパレータ信号S43として出力す
る。Vr2を図7(a)に示すような電圧レベルにセット
した場合、コンパレータ43からのコンパレータ信号S
43は、図7(b)に示すようになる。凹み部23に対
応する画像信号51に対応する部分のみで、コンパレー
タ信号S43は、広い範囲で1をとる。
【0021】次に、このコンパレータ信号S43は画像
収縮回路44に入力される。画像収縮回路43では、入
力されたコンパレータ信号S43を指定された幅だけ収
縮して、位置信号S44を出力する。例えば、明暗周期
の3/4倍に相当する幅を指定すると、平坦部の位置信
号S44は全て0になり、凹み部の位置信号S44だけ
が1として残る(図7(c))。こうして、凹み部が存
在することを検出することが可能となる。このように、
処理装置4では、凹み部23、凸部24を検出すること
が出来る。明暗画像のコントラスト変化が設定値以上に
なった場合に欠陥と判定する。処理装置4の構成は、こ
こに記載した以外に多数考えられる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の一実施例を説明する。照明装
置1としては、光源として約30kHzの高周波点灯2
0W蛍光灯を使用し、蛍光灯具のカバーガラスに透明/
不透明周期800μm(透明部400μm、不透明部4
00μm)のストライプパターン11を施した物を使用
した。被検査物体2としては、厚み約200μmの透明
樹脂シートを使用した。撮像装置3としては、三菱レイ
ヨン(株)製の5000画素ラインCCDカメラ(SC
D−5000A)を、結像レンズ31には一眼レフ用の
50mmマクロレンズを使用した。
【0023】そこで、本実施例では、反射照明方式で照
明装置1と撮像装置3をセッティングし、被検査物体2
である樹脂シートの鏡面側に存在する凹凸欠陥の検出を
行った。本実施例では、被検査物体2と明暗ストライプ
パターン11との距離を50mm、ラインCCDカメラ
の結像位置と被検査物体2との距離を415mm、反射
角度は検査物体の法線から20度としてセッティングし
た。このセッティングでカメラの幅分解能は約50μm
となる。
【0024】この装置を使用して、直径約4mm、高さ
約50μmの凸部24、及び、直径約4mm、高さ約5
0μmの凹み部23を撮像したときの画像波形を、図8
〜図10に示す。図8は、明暗ストライプパターン11
と、凹み部23、凸部24を有する被検査物体2の断面
図である。図9は、明暗ストライプパターンの位置に焦
点を合わせた場合の画像信号の波形である。凸部24、
凹み部23においてわずかな周期変化が生じているが、
コントラストに大きな変化は現れていない。
【0025】図10は、焦点を明暗ストライプパターン
の位置に合わせたときと比較して、正常部のコントラス
トが約1/2になるように、焦点を手前にずらした場合
の画像信号S1の波形で、凹み部23ではコントラスト
が低下し、凸部24ではコントラストが大きくなってい
る。図10の画像について、しきい値Vr1、Vr2を設定
し、Vr1より電圧の高いデータに関して、コンパレータ
信号S41を1にセットし、さらに1mmの画像膨張を
行って得られた位置信号S42を図11(a)に示す。
また、Vr2より電圧の高いデータに関して、コンパレー
タ信号S43を1にセットし、さらに1mmの画像収縮
を行った得られた位置信号S44を図11(b)に示
す。画像膨張を行うことにより、凸部24のみを検出す
ることができ、また、画像収縮を行うことで、凹み部2
3のみを検出することができた。
【0026】図12は、焦点を明暗ストライプパターン
の位置に合わせたときと比較して、正常部のコントラス
トが約1/2になるように、焦点を遠方にずらした場合
の画像信号S1の波形である。焦点を近くにずらした場
合とは逆に、凹み部23ではコントラストが大きくな
り、凸部24ではコントラストが低下している。この画
像信号により、凹み部と凸部を検出することも出来る。
【0027】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、光学系を精度よくセッティングしなくても、
極めて精度良く被検査物体の表面凹凸等の欠陥を検出す
ることが出来る。更に、凹み部と凸部ではコントラスト
が逆方向に変化するので、従来困難であった、凹み部と
凸部の判別も可能となるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による欠陥検出装置の一構成例を示す構
成図である。
【図2】コントラストの定義を示す説明図である。
【図3】焦点位置を明暗パターンに合わせた場合の一例
を示す波形図である。
【図4】焦点位置を手前にずらした場合の一例を示す波
形図である。(a)は、検査物体が正常な場合、(b)
は、検査物体に凹凸が存在した場合の一例を示す波形図
である。
【図5】処理装置の一構成例を示すブロック図である。
【図6】処理装置の動作を示す説明図である。
【図7】処理装置の動作を示す説明図である。
【図8】本発明の一実施例によるストライプパターンと
被検査物体の断面図である。
【図9】本発明の一実施例で得られた、焦点位置を明暗
パターンに合わせた場合の波形図である。
【図10】本発明の一実施例で得られた、焦点位置を手
前にずらした場合の波形図である。
【図11】本発明の一実施例で得られた、位置信号の波
形図である。
【図12】本発明の一実施例で得られた、焦点位置を遠
方にずらした場合の波形図である。
【符号の説明】
1 照明装置 11 ストライプパターン 2 被検査物体 23 凹み部 24 凸部 3 撮像装置 31 結像レンズ 32 CCD素子 4 処理装置 41 コンパレータ 42 画像膨張回路 43 コンパレータ 44 画像収縮回路

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 周期的な明暗ストライプパターンを被検
    査物体に照射する照明手段と、前記被検査物体を反射し
    たパターンまたは透過したパターンを撮像する撮像手段
    と、前記撮像手段におけるストライプパターンの明暗画
    像のコントラスト変化に基づいて前記被検査物体の欠陥
    を検出する検出手段と、を備える欠陥検出装置におい
    て、 前記検出手段は、コンパレータ、及び画像膨張回路を備
    えることを特徴とする欠陥検出装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の欠陥検出装置において、
    前記検出手段は、更に、第2のコンパレータ、及び画像
    収縮回路を備えることを特徴とする欠陥検出装置。
  3. 【請求項3】 照明装置から周期的な明暗ストライプパ
    ターンを被検査物体に照射し、 撮像装置が有するレンズの焦点を、前記照明装置のスト
    ライプパターンの位置と比較して遠方あるいは手前の位
    置にずらし、 前記被検査物体を反射したパターンまたは透過したパタ
    ーンを前記撮像装置により撮像し、 撮像したストライプパターンのコントラスト変化を表す
    画像信号に基づいて、前記被検査物体の凹凸を検出す
    る、ステップを備えることを特徴とする欠陥検出方法。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の欠陥検出方法において、
    前記撮像手段が有するレンズの焦点をずらすステップ
    は、前記被検査物体が正常な場合の前記撮像手段におけ
    る明暗ストライプパターンのコントラストが、前記照明
    手段のストライプパターンの位置に合わせた場合と比較
    して1/4〜3/4になるように、前記照明手段のスト
    ライプパターンの位置の遠方あるいは手前にずらすこと
    を特徴とする欠陥検出方法。
  5. 【請求項5】 請求項3記載の欠陥検出方法において、
    前記被検査物体の凹凸を検出するステップは、前記画像
    信号を第1の基準電圧と比較し、前記画像信号が前記第
    1の基準電圧より大きい部分を二値の一方の値に設定
    し、前記一方の値の部分を所定の距離だけ横方向に拡大
    処理し、拡大処理後に前記一方の値をとる部分を凸部又
    は凹み部と検出する、ことを特徴とする欠陥検出方法。
  6. 【請求項6】 請求項3記載の欠陥検出方法において、
    前記被検査物体の凹凸を検出するステップは、前記画像
    信号を第2の基準電圧と比較し、前記画像信号が前記第
    2の基準電圧より大きい部分を二値の一方の値に設定
    し、前記一方の値の部分を所定の距離だけ横方向に縮小
    処理し、縮小処理後に前記一方の値をとる部分を凸部又
    は凹み部と検出する、ことを特徴とする欠陥検出方法。
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