JP2002113964A - Original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for lithographic printing plate

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JP2002113964A
JP2002113964A JP2000309357A JP2000309357A JP2002113964A JP 2002113964 A JP2002113964 A JP 2002113964A JP 2000309357 A JP2000309357 A JP 2000309357A JP 2000309357 A JP2000309357 A JP 2000309357A JP 2002113964 A JP2002113964 A JP 2002113964A
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JP
Japan
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group
alkyl
hydrophilic
polymer
lithographic printing
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JP2000309357A
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Japanese (ja)
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Yoshinori Takahashi
美紀 高橋
Sumiaki Yamazaki
純明 山崎
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate with such advantages that the adhesion between the plate and a support is excellent, the diffusion of heat to the aluminum support can be inhibited, an image can be formed by emitting a low-energy laser beam and a smear-free printed matter can be obtained even under severe printing conditions. SOLUTION: This original plate for the lithographic printing plate comprises a hydrophilic layer which is bonded with a substrate through covalent bonding and contains a polymer compound with a hydrophilic group and a recording group which contains a polymer compound with at least either of a carboxylic acid group or a carboxylate group selected from the group consisting of the described groups which cause decarboxylation by heat, laminated on the hydrophilic group, all of the layers being formed on the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な平版印刷版用
原版に関し、特に、アルカリ現像処理等が不要で、感度
及び汚れ性に優れた平版印刷版用原版に関し、さらに
は、ディジタル信号に基づいてレーザ光による画像の走
査露光が可能であり、直接製版可能な平版印刷版用原版
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor which does not require an alkali developing treatment and has excellent sensitivity and stain resistance. The present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of performing scanning exposure of an image with a laser beam and directly making a plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ディジタル化された画像データー
からリスフィルムを介さずに印刷版を直接製版する方法
としては、電子写真法によるもの、青色又は緑色を
発光する比較的小出力のレーザーで書き込める高感度フ
ォトポリマーを用いる方法、銀塩又は銀塩と他のシス
テムとの複合系を用いる方法、ヒートモードレーザー
露光により酸を発生させ、その酸を触媒として後加熱に
より熱硬化画像を得る方法等が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of making a printing plate directly from digitized image data without passing through a lithographic film, an electrophotographic method or a method of writing with a relatively small output laser emitting blue or green light can be used. A method using a high-sensitivity photopolymer, a method using a silver salt or a composite system of a silver salt and another system, a method of generating an acid by heat mode laser exposure and obtaining a thermosetting image by post-heating using the acid as a catalyst, etc. It has been known.

【0003】これらの方法は印刷工程の合理化上極めて
有用ではあるが、現状では必ずしも十分満足できるもの
ではない。例えば、の電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。また、のフォトポ
リマーを用いるものでは、高感度な印刷版を使用するた
め、明室での取扱いが難しくなる。の銀塩を用いる方
法は、処理が煩雑になり、処理廃液中に銀が含まれる等
の欠点がある。の方法も、後加熱やその後の現像処理
が必要であり、処理が煩雑になる。
Although these methods are extremely useful in streamlining the printing process, they are not always satisfactory at present. For example, in the case of using the electrophotographic method, an image forming process such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. Further, in the case of using the photopolymer, since a printing plate having high sensitivity is used, it is difficult to handle in a bright room. The method using a silver salt has disadvantages such as complicated processing and silver contained in the processing waste liquid. Also requires post-heating and subsequent development processing, which complicates the processing.

【0004】また、これらの印刷版の製造には、露光工
程の後に、支持体表面の上に設けられた記録層を画像状
に除去するための湿式による現像工程や現像処理された
印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有するリ
ンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で
処理する後処理工程が含まれる。一方、近年の製版、印
刷業界では製版作業の合理化が進められており、上記の
ような複雑な湿式現像処理を必要とせず、露光後にその
まま印刷に使用できる印刷版用原版が望まれている。
[0004] Further, in the production of these printing plates, after the exposure process, a wet development process for removing the recording layer provided on the surface of the support in an image-like manner or a printing plate subjected to the development process is used. A post-treatment step of washing with water, or treating with a rinse solution containing a surfactant, gum arabic, or a desensitizing solution containing a starch derivative is included. On the other hand, in the plate making and printing industries in recent years, plate making operations have been rationalized, and there has been a demand for a printing plate precursor that can be used for printing directly after exposure without the need for such a complicated wet development process.

【0005】現像工程を必要としない刷版としてWO99/3
7481に記載されるような、基板上に架橋された親水層を
設け、その上に一つ以上のポリマーとレーザー放射線を
吸収可能な光熱変換色素を含み、かつアブレーション的
に光吸収する有機ポリマー層からなるインキ受容性表面
層を設けたレーザー記録可能なポジ型アブレーション印
刷用原版がある。この印刷用原版を使用すれば目的の現
像処理のない印刷版を得ることができたが、印刷にする
につれて徐々に汚れが生じてくる問題があった。また親
水性層とインキ受容層との密着がわるく、耐刷性が低い
問題点があった。
As a printing plate which does not require a developing step, WO99 / 3
An organic polymer layer provided with a cross-linked hydrophilic layer on a substrate and comprising one or more polymers and a photothermal conversion dye capable of absorbing laser radiation as described in 7481, and absorptive light absorption There is a laser-recordable positive ablation printing original plate provided with an ink receptive surface layer consisting of: By using this printing original plate, it was possible to obtain a printing plate without the intended development processing, but there was a problem that stains gradually occurred as printing was performed. In addition, there was a problem that adhesion between the hydrophilic layer and the ink receiving layer was poor and printing durability was low.

【0006】また、特開2000−122272号公報
には無処理可能で熱により疎水性に変化する親水性高分
子化合物を含む層を有する感熱性平版印刷版が記載され
ている。このものは露光部が疎水性に変化し、また未露
光部分のポリマーが親水性のままであるため印刷機上で
湿し水によって現像されるためとくに現像処理を必要と
はしない特徴があった。しかし、基板として熱伝導率の
高いアルミニウムを用いていたために露光と光熱変換剤
の作用により発生した熱がアルミニウム基板に拡散し基
板表面付近の熱が上がりにくいという特性があった。そ
のため基板付近では感光層のポリマーの熱反応が十分進
行せず疎水性に変化しないため、感度が低く、完全に画
像部を形成するためにはレーザーの露光量を上げて使う
必要があった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-122272 discloses a heat-sensitive lithographic printing plate having a layer containing a hydrophilic polymer compound which can be unprocessed and changes in hydrophobicity by heat. The exposed portion changed to hydrophobic, and the polymer in the unexposed portion remained hydrophilic, so that the polymer was developed with dampening water on a printing press, so that it did not require any particular development processing. . However, since aluminum having high thermal conductivity was used as the substrate, heat generated by exposure and the action of the photothermal conversion agent was diffused into the aluminum substrate, and heat near the substrate surface was hardly increased. Therefore, the thermal reaction of the polymer in the photosensitive layer does not sufficiently proceed near the substrate and does not change to hydrophobicity. Therefore, the sensitivity is low, and it is necessary to increase the laser exposure in order to completely form an image portion.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】すなわち、これらの従
来技術では感度、汚れ性、耐刷性の観点で満足できる感
材は得られず、実用的な観点からさらなる画像形成層の
感度がより高く、より厳しい印刷条件においても、画像
形成層が支持体から剥離せず、汚れの生じない印刷物が
得られる平版印刷版用原版が望まれていた。従って、本
発明の目的は、従来の平版印刷版用原版の上述のような
問題点を解決し、支持体との密着性が優れ、かつアルミ
ニウム支持体への熱の拡散が抑制でき、より低エネルギ
ーのレーザー照射によって画像形成が可能であり、厳し
い印刷条件においても、汚れが生じない印刷物が得られ
る平版印刷版用原版を提供することである。
That is, these conventional techniques cannot provide a photosensitive material which is satisfactory in terms of sensitivity, stain resistance and printing durability, and the sensitivity of the image forming layer is higher from a practical viewpoint. Even under more severe printing conditions, there has been a demand for a lithographic printing plate precursor capable of obtaining a printed matter in which the image forming layer does not peel off from the support and is free from stains. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-described problems of the conventional lithographic printing plate precursor, to have excellent adhesion to a support, and to suppress the diffusion of heat to an aluminum support, thereby achieving a lower It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor capable of forming an image by laser irradiation with energy and obtaining a printed matter free of stain even under severe printing conditions.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、例えば、アルミニ
ウム支持体上に不飽和基を有する化合物を含む液状組成
物を塗布・乾燥して支持体表面に不飽和基を保持させた
基板を作製し、該基板を用い、この基板上にアルミニウ
ムに比べ熱伝導率の低い材料で、かつ光重合性基を有す
る高分子化合物を含有する塗布層を設け、紫外線照射等
により、高分子鎖が基板に化学結合させた親水層(断熱
層)を設けることが可能となり、その親水層上に熱によ
り脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基か
らなる群から選ばれる少なくともいづれかの基を有する
高分子化合物を含有する記録層を設けることにより、感
度が高く、厳しい印刷条件においても汚れが生じない耐
刷性の優れた平版印刷版用原版が得られることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, for example, applied and dried a liquid composition containing a compound having an unsaturated group on an aluminum support. A substrate having an unsaturated group retained on the surface of the support is prepared, and the substrate is used. The substrate contains a polymer compound having a lower thermal conductivity than aluminum and having a photopolymerizable group. It is possible to provide a hydrophilic layer (heat insulating layer) in which polymer chains are chemically bonded to the substrate by irradiating ultraviolet rays or the like, and a carboxylic acid group and a carboxylic acid group that cause decarboxylation by heat on the hydrophilic layer. By providing a recording layer containing a polymer compound having at least any one group selected from the group consisting of acid bases, a lithographic printing plate having high sensitivity and excellent printing durability which does not cause stain even under severe printing conditions. It found that the printing plate precursor is obtained and have completed the present invention.

【0009】すなわち、本発明は以下の通りである。 (1)基板上に、基板と共有結合を介して結合しており
更に親水性基を有する高分子化合物を含有する親水層
と、該親水層上に熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基
およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくと
もいづれかの基を有する高分子化合物を含有する記録層
とを有することを特徴とする平版印刷版用原版。 (2)前記熱により脱炭酸を起こす高分子化合物が、下
記一般式(1)および(2)で表される群から選ばれる
少なくともいづれかであることを特徴とする前記(1)
に記載の平版印刷版用原版。
That is, the present invention is as follows. (1) On a substrate, a hydrophilic layer containing a polymer compound having a hydrophilic group which is bonded to the substrate via a covalent bond, and a carboxylic acid group and a carboxylic acid which cause decarboxylation on the hydrophilic layer by heat A lithographic printing plate precursor comprising: a recording layer containing a polymer compound having at least one group selected from the group consisting of acid bases. (2) The polymer compound causing decarboxylation by heat is at least one selected from the group represented by the following general formulas (1) and (2).
The lithographic printing plate precursor described in.

【0010】[0010]

【化2】 Embedded image

【0011】(式中、Xは4族から6族の元素、同酸化
物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物からな
る群から選択され、Pはポリマー主鎖を表し、−L−は
2価の連結基を表し、R1 、R2はそれぞれ同じでも異
なっていてもよい1価の基を表し、Mはアルカリ金属、
アルカリ土類金属およびオニウムからなる群から選択さ
れるいずれかを表す。)
(Wherein X is selected from the group consisting of elements of Groups 4 to 6, oxides, sulfides, selenides and tellurides, P represents a polymer main chain, and -L- Represents a divalent linking group, R 1 and R 2 each represent a monovalent group which may be the same or different, M represents an alkali metal,
Represents any one selected from the group consisting of alkaline earth metals and onium. )

【0012】本発明者らは上記のように、支持体上の表
面に不飽和基を有する基板を形成し、その基板上に不飽
和基と親水性基を有する高分子化合物を含有する層を塗
設した後、UV露光(紫外線照射)等により該基板表面
に化学結合した熱伝導率の低い架橋親水層を設け、その
架橋親水層上に、熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基
およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくと
もいづれかの基を有するポリマー、好ましくは現像性の
良いカルボン酸塩基からなる群から選ばれたポリマーを
含有する記録層を有する平版印刷版用原版を作製するこ
とにより、記録層の赤外線レーザ露光による熱の拡散を
抑制し、記録層中の高分子化合物の水に対する溶解性を
完全に変換させることが可能になり、低エネルギー量の
IRレーザー光照射でも十分な画像形成が行われ、すな
わち高感度化の効果が得られる。また、親水層は基板表
面に化学結合しているため、膨潤しても基板体との密着
性が悪くなることは無く、多数枚の厳しい印刷条件にお
いても、耐刷性が良好であり、汚れが生じない印刷物が
得られる。また、親水層が親水性を発現する技術とし
て、前記ラジカル重合性基を側鎖に有する高分子化合物
を、親水性モノマーまたはポリマーとエチレン付加重合
性不飽和基を有するモノマー等との共重合体である親水
性高分子化合物を使用することで問題を解決した。さら
に簡易な水現像処理操作による製版、あるいは、現像処
理を必要としない、直接に印刷機に装着して製版するこ
とができる平版印刷版用原版を提供することができる。
As described above, the present inventors form a substrate having an unsaturated group on the surface of a support, and form a layer containing a polymer compound having an unsaturated group and a hydrophilic group on the substrate. After coating, a crosslinked hydrophilic layer having low thermal conductivity chemically bonded to the surface of the substrate by UV exposure (ultraviolet irradiation) or the like is provided, and on the crosslinked hydrophilic layer, a carboxylic acid group and a carboxylic acid which cause decarboxylation by heat are provided. By preparing a lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a polymer having at least any group selected from the group consisting of bases, preferably a polymer selected from the group consisting of carboxylic acid groups having good developability, The diffusion of heat due to infrared laser exposure of the recording layer can be suppressed, and the solubility of the polymer compound in the recording layer in water can be completely converted. But sufficient image formation is performed, i.e. the effect of high sensitivity is obtained. In addition, since the hydrophilic layer is chemically bonded to the substrate surface, even if it swells, the adhesion to the substrate body does not deteriorate, and the printing durability is good even under severe printing conditions for a large number of sheets. A printed matter free of the occurrence of the above is obtained. Further, as a technique for the hydrophilic layer to exhibit hydrophilicity, a polymer compound having a radical polymerizable group in a side chain thereof may be prepared by copolymerizing a hydrophilic monomer or a polymer with a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group. The problem was solved by using a hydrophilic polymer compound which is Further, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor which does not require plate making by a simple water developing treatment operation or which can be directly mounted on a printing machine for plate making without the need for developing treatment.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明の平版印刷版用原版
について詳細に説明する。 〔基板と親水層との結合方法〕本発明の平版印刷版用原
版の特徴である基板表面の官能基と親水層中の高分子側
鎖官能基とを光で直接化学結合する方法としては、基板
表面上に官能基を導入しておき、該官能基と光で結合可
能な官能基を親水性高分子側鎖に導入し、光で結合させ
る方法を用いた。官能基の光結合方法としては、光ラジ
カル重合、光二量化反応、ジアゾカップリング反応など
が利用できる。具体的には次に示す官能基が考えられ
る。基板表面と親水性高分子側鎖に不飽和基を導入し光
重合する方法、シンナミリデン基などの光二量化基を導
入して光架橋する方法、基板表面にヒドロキシル基など
求核性基を導入し、高分子側鎖に導入したジアゾニウム
塩とジアゾカップリングさせる方法、基板表面上に導入
した不飽和基と親水性高分子側鎖に導入したトリハロメ
チル基を置換基として有するトリアジン骨格など光ラジ
カル発生基を用いて光重合する方法などが考えられる
が、製造適性の観点から基板表面と親水性高分子側鎖に
不飽和基を用いる方法が最も好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described in detail below. (Method for bonding substrate and hydrophilic layer) As a method for directly chemically bonding a functional group on the substrate surface and a polymer side chain functional group in the hydrophilic layer, which is a feature of the lithographic printing plate precursor of the present invention, with light, A method was used in which a functional group was introduced on the substrate surface, a functional group capable of binding with the functional group by light was introduced into the hydrophilic polymer side chain, and the functional group was bound by light. As a method for optically coupling the functional groups, photoradical polymerization, photodimerization reaction, diazo coupling reaction, and the like can be used. Specifically, the following functional groups can be considered. Photopolymerization by introducing unsaturated groups into the substrate surface and hydrophilic polymer side chains, photocrosslinking by introducing photodimerization groups such as cinnamylidene groups, and introduction of nucleophilic groups such as hydroxyl groups onto the substrate surface Method of diazo coupling with diazonium salt introduced into polymer side chain, generation of photo radicals such as triazine skeleton having unsaturated group introduced on substrate surface and trihalomethyl group introduced into hydrophilic polymer side chain as substituents Although a method of photopolymerization using a group is conceivable, a method of using an unsaturated group on the substrate surface and the hydrophilic polymer side chain is most preferable from the viewpoint of production suitability.

【0014】本発明の平版印刷版用原版の親水層は、前
記基板上に塗布、形成した後、上記のように全面に紫外
線照射等による光重合反応の手段により、親水層中のラ
ジカル重合性基と、基板表面の不飽和基とを重合反応に
より結合させて作製される。該親水層はアルミニウムに
比較して熱伝導率が極端に低い。
After the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is applied and formed on the substrate, the entire surface thereof is subjected to a photopolymerization reaction by ultraviolet irradiation or the like, as described above, to form a radical polymerizable layer in the hydrophilic layer. It is prepared by bonding a group and an unsaturated group on the substrate surface by a polymerization reaction. The hydrophilic layer has an extremely low thermal conductivity as compared with aluminum.

【0015】〔親水層についての説明〕本発明の平版印
刷版用原版の親水層に含有させるラジカル重合性基を側
鎖に有する親水性高分子としては、ビニル基、アリル
基、(メタ)アクリル基などのエチレン付加重合性不飽
和基を導入したラジカル重合性基含有親水性ポリマーで
ある。これらは次のよう方法で合成できる。(1)親水
性モノマーとエチレン付加重合性不飽和基を有するモノ
マーを共重合する方法、(2)親水性モノマーと二重結
合前駆体を有するモノマーを共重合させ、次に塩基など
の処理により二重結合を導入する方法、(3)親水性ポ
リマーの官能基とエチレン付加重合性不飽和基を有する
モノマーとの反応等が挙げられる。特に好ましい方法は
合成的な観点から、親水性ポリマーの官能基とエチレン
付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる方
法である。
[Explanation of Hydrophilic Layer] As the hydrophilic polymer having a radical polymerizable group in the side chain to be contained in the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor of the present invention, a vinyl group, an allyl group, (meth) acrylic It is a radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer into which an ethylene addition polymerizable unsaturated group such as a group is introduced. These can be synthesized by the following method. (1) a method of copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group, (2) a method of copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having a double bond precursor, and then treating with a base or the like. Examples include a method of introducing a double bond, and (3) a reaction between a functional group of a hydrophilic polymer and a monomer having an ethylene addition-polymerizable unsaturated group. A particularly preferred method is a method of reacting a functional group of a hydrophilic polymer with a monomer having an ethylene-addition-polymerizable unsaturated group from a synthetic viewpoint.

【0016】上記ラジカル重合性基を側鎖に有する親水
性高分子の合成に用いられる親水性モノマーとしては、
(メタ)アクリル酸もしくはそのアルカリ金属塩および
アミン塩、イタコン酸もしくはそのアルカリ金属塩およ
びアミン塩、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メ
タ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)アクリ
ルアミド、アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸
塩、3−ビニルプロピオン酸もしくはそのアルカリ金属
塩およびアミン塩、ビニルスルホン酸もしくはそのアル
カリ金属塩およびアミン塩、2−スルホエチル(メタ)
アクリレート、ポリオキシエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプ
ロパンスルホン酸、アシッドホスホオキシポリオキシエ
チレングリコールモノ(メタ)アクリレートなどのカル
ボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、アミノ基もしく
はそれらの塩、水酸基、アミド基およびエーテル基など
の親水性基を有するモノマーが挙げられる。
The hydrophilic monomers used for synthesizing the hydrophilic polymer having a radical polymerizable group in the side chain include:
(Meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N- Dimethylol (meth) acrylamide, allylamine or its hydrohalide, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt and amine salt, vinylsulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethyl (meth)
Carboxyl, sulfonic, phosphoric, and amino groups such as acrylate, polyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate Alternatively, a monomer having a hydrophilic group such as a salt thereof, a hydroxyl group, an amide group, and an ether group may be used.

【0017】親水性ポリマーとしては、上記親水性モノ
マーから選ばれる少なくとも一種を用いて得られる親水
性ホモもしくはコポリマーが挙げられる。また、親水性
モノマーと共重合するアリル基含有モノマーとしては、
アリル(メタ)アクリレート、2−アリルオキシエチル
メタクリレートが挙げられる。また、二重結合前駆体を
有するモノマーとしては2−(3−クロロ−1−オキソ
プロポキシ)エチルメタクリレートが挙げられる。親水
性ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基もしくはそれ
らの塩、水酸基およびエポキシ基などの官能基との反応
を利用して不飽和基を導入するために用いられる付加重
合性不飽和基を有するモノマーとしては、(メタ)アク
リル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリ
シジルエーテル、2−イソシアナトエチル(メタ)アク
リレートなどがある。親水層中に含有させる上記ラジカ
ル重合性基を側鎖に有する親水性高分子化合物の含有量
は、親水層全固形分に対して、45〜85重量%程度で
あり、好ましくは55〜80重量%である。45重量%
以下では親水性が不足し非画像部としての性能が低下
し、85%以上では中間層の強度が不十分で耐刷性が低
下し、不適である。
The hydrophilic polymer includes a hydrophilic homo- or copolymer obtained by using at least one selected from the above hydrophilic monomers. Further, as an allyl group-containing monomer copolymerized with a hydrophilic monomer,
Allyl (meth) acrylate and 2-allyloxyethyl methacrylate are mentioned. Examples of the monomer having a double bond precursor include 2- (3-chloro-1-oxopropoxy) ethyl methacrylate. As a monomer having an addition-polymerizable unsaturated group used for introducing an unsaturated group by utilizing a reaction with a functional group such as a carboxyl group, an amino group or a salt thereof, a hydroxyl group and an epoxy group in a hydrophilic polymer. Examples include (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, and the like. The content of the hydrophilic polymer compound having a radical polymerizable group in the side chain to be contained in the hydrophilic layer is about 45 to 85% by weight, preferably 55 to 80% by weight, based on the total solid content of the hydrophilic layer. %. 45% by weight
Below, the hydrophilicity is insufficient and the performance as a non-image portion is reduced, and if it is 85% or more, the strength of the intermediate layer is insufficient and the printing durability is reduced, which is not suitable.

【0018】(光重合開始剤)本発明の平版印刷版用原
版の親水層中の親水性ポリマーのラジカル重合性基と基
板上の不飽和基とを紫外線の全面露光等によって重合反
応させる場合には、該親水層の成分中に光重合開始剤を
含有させることが好ましい。その際に、使用される光重
合開始剤としては、米国特許第2,760,863号、
同第3,060,023号、特開昭62−121448
号等に記載の光重合開始剤が挙げられる。本発明の親水
層において、光重合開始剤の含有量は、親水層全固形分
に対して、0.01〜20重量%好ましい。0.01重
量%以下では光重合開始剤効果が発揮できず、20重量
%以上では、活性光線の開始剤による自己吸収のため内
部への光の到達が不良となり所望とする耐刷力が発揮で
きない。
(Photopolymerization initiator) In the case where a radically polymerizable group of the hydrophilic polymer in the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention and an unsaturated group on the substrate are polymerized by, for example, full-surface exposure to ultraviolet light. It is preferable that a photopolymerization initiator is contained in the component of the hydrophilic layer. At that time, as the photopolymerization initiator used, US Pat. No. 2,760,863,
No. 3,060,023, JP-A-62-212448
And the like. In the hydrophilic layer of the present invention, the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 20% by weight based on the total solid content of the hydrophilic layer. If the amount is less than 0.01% by weight, the effect of the photopolymerization initiator cannot be exerted. If the amount is more than 20% by weight, the self-absorption of the actinic ray by the initiator makes it difficult for light to reach the inside and the desired printing durability is exhibited. Can not.

【0019】本発明の平版印刷版用原版の親水層の膜厚
は0.05〜50μmが好ましく、0.1〜10μmが
より好ましい。膜厚が0.05μmより薄いと親水性の
断熱効果がでない。また、50μmより厚くなると、膜
が脆くなり耐刷性が悪くなる。
The thickness of the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably from 0.05 to 50 μm, more preferably from 0.1 to 10 μm. When the thickness is less than 0.05 μm, the hydrophilic heat insulating effect is not obtained. On the other hand, when the thickness is more than 50 μm, the film becomes brittle and the printing durability deteriorates.

【0020】〔不飽和基を有する基板表面についての説
明〕次に本発明の平版印刷版用原版の特徴である親水層
中のラジカル重合性基を側鎖に有する親水性高分子化合
物鎖が直接に化学的に結合される基板表面を作製するた
めの手段としては、例えば、アルミニウム支持体上に不
飽和基を有する化合物(シランカップリング剤等)を含
む液状組成物(ゾル液)を塗布・乾燥し、支持体表面に
不飽和基を保持させた基板を作製する。該基板を用いる
ことにより、親水層中のラジカル重合性基と、基板表面
の不飽和基とを光重合反応により化学結合させることが
できる。なお、平版印刷版用原版の基板表面とは、その
表面にラジカル重合性基を側鎖に有する親水性高分子化
合物鎖が化学的に結合するのに適した表面を意味し、こ
の機能を発現する限りどのような形態でも可能である。
本発明の平版印刷版用原版の支持体上に別途に設けた層
であってもよい。
[Description of Surface of Substrate Having Unsaturated Group] Next, the hydrophilic polymer compound chain having a radical polymerizable group in the side chain in the hydrophilic layer, which is a feature of the lithographic printing plate precursor of the present invention, is directly As a means for preparing a substrate surface chemically bonded to, for example, a liquid composition (sol liquid) containing a compound having an unsaturated group (a silane coupling agent) on an aluminum support is applied. After drying, a substrate having an unsaturated group retained on the surface of the support is produced. By using the substrate, the radical polymerizable group in the hydrophilic layer and the unsaturated group on the substrate surface can be chemically bonded by a photopolymerization reaction. The substrate surface of the lithographic printing plate precursor refers to a surface suitable for chemically bonding a hydrophilic polymer compound chain having a radical polymerizable group in a side chain to the surface, and exhibits this function. Any form is possible as far as possible.
It may be a layer separately provided on the support of the lithographic printing plate precursor according to the invention.

【0021】(ゾル液について)一般に、シランカップ
リング剤を加水分解するとともに重縮合させて得られた
−Si−O−Si−結合を含む無機高分子に付加反応性
官能基が固定された形の有機無機複合体を用いることか
らなるゾル−ゲル方法(以下、SG法と呼ぶ)が好まし
く適用される。SG法については〔有機ケイ素ポリマー
の最新技術〕(第6章ゾル−ゲル法とケイ素系高分子の
研究動向、今井淑夫著、CMC、1996)及び〔ゾル
−ゲル法の科学〕(作花済夫著、アグネ承風社、198
8)等に記載されているが、上記文献等だけに限定する
わけではない。SG法を用いると、基板表面上に結合固
定される付加反応性官能基の分布が基板表面の酸点や塩
基点などの化学的な性質の分布に左右されることが少な
いため好ましい。
(Regarding the sol liquid) In general, a form in which an addition-reactive functional group is fixed to an inorganic polymer containing -Si-O-Si- bonds obtained by hydrolyzing and polycondensing a silane coupling agent. The sol-gel method (hereinafter, referred to as SG method) comprising the use of the organic-inorganic composite described above is preferably applied. The SG method is described in [Latest Technology of Organosilicon Polymers] (Chapter 6, Research Trends of Sol-Gel Method and Silicon Polymers, written by Yoshio Imai, CMC, 1996) and [Science of Sol-Gel Method] Husband, Agune Shofusha, 198
8) and the like, but the invention is not limited only to the above-mentioned documents and the like. The use of the SG method is preferable because the distribution of the addition-reactive functional groups bonded and immobilized on the substrate surface is hardly influenced by the distribution of chemical properties such as acid sites and base sites on the substrate surface.

【0022】本発明に用いられるシランカップリング剤
としては、下記一般式からなる化合物が挙げられる。
The silane coupling agent used in the present invention includes a compound represented by the following general formula.

【0023】Ra(Rb)SiRc(Rd)Ra (Rb) SiRc (Rd)

【0024】(Ra〜Rdの少なくとも2個は炭素原子
10以下のアルコキシ基又は−OCOR′基を表し、他
は付加重合性反応基を表し、R′はアルキル基を表
す。) 上記一般式におけるR′で示されるアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基などが挙げ
られ、付加重合性反応基としては、アルケニル基、アル
キニル基等が挙げられ、Si元素とこれら付加重合性反
応基の間には、種々の連結基が結合されていてもよい。
アルケニル基としては、例えばビニル基、プロぺニル
基、アリル基、ブテニル基、ジアルキルマレイミド基等
が挙げられ、アルキニル基の例としては、アセチレン
基、アルキルアセチレン基等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。シランカップリング剤として
は、〔Silane Coupling Agents〕(Edwin P.Plueddeman
n、Plemum Press、1982)等に記載されているものを挙
げることができる。
(At least two of Ra to Rd represent an alkoxy group or a -OCOR 'group having 10 or less carbon atoms, the other represents an addition-polymerizable reactive group, and R' represents an alkyl group.) Examples of the alkyl group represented by R ′ include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Examples of the addition-polymerizable reactive group include an alkenyl group and an alkynyl group. Various linking groups may be bonded between the groups.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, a propenyl group, an allyl group, a butenyl group, and a dialkylmaleimide group.Examples of the alkynyl group include an acetylene group and an alkylacetylene group, but are not limited thereto. It is not something to be done. As silane coupling agents, [Silane Coupling Agents] (Edwin P. Plueddeman
n, Plemum Press, 1982).

【0025】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テト
ラ(n−プロポキシ)シラン、テトラ(n−ブトキシ)
シラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、テ
トラキス(2−エチルヘキシルオキシ)シラン、テトラ
キス(2−メトキシエトキシ)シラン、テトラフェノキ
シシラン、テトラアセトキシシランなどを挙げることが
でき、特にテトラエトキシシランが好ましい。付加重合
可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカ
ップリング剤としては、具体的には、
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra (n-propoxy) silane, tetra (n-butoxy)
Examples include silane, tetrakis (2-ethylbutoxy) silane, tetrakis (2-ethylhexyloxy) silane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, tetraphenoxysilane, tetraacetoxysilane, and the like, with tetraethoxysilane being particularly preferred. As the silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group, specifically,

【0026】 CH2=CH−Si(OCOCH33、 CH2=CH−Si(OC253、 CH2=CH−Si(OCH33、 CH2=CHCH2−Si(OC253、 CH2=CHCH2NH(CH23−Si(OCH33、 CH2=CHCOO−(CH23−Si(OCH33、 CH2=CHCOO−(CH23−Si(OC253、 CH2=CHCOO−(CH24−Si(OCH33、 CH2=C(CH3)COO−(CH23−Si(OCH
33、 CH2=C(CH3)COO−(CH23−Si(OC2
53、 CH2=C(CH3)COO−(CH24−Si(OCH
33、 CH2=C(CH3)COO−(CH25−Si(OCH
33、 (CH2=C(CH3)COO−(CH232−Si
(OCH32、 CH2=C(CH=CH2)−Si(OCH33、 CH2=CH−SO2NH−(CH23−Si(OC
33、 CH2=CH−ph−O−Si(OCH33、 (ph:ベンゼン環を示す)
[0026] CH 2 = CH-Si (OCOCH 3) 3, CH 2 = CH-Si (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CH-Si (OCH 3) 3, CH 2 = CHCH 2 -Si (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CHCH 2 NH (CH 2) 3 -Si (OCH 3) 3, CH 2 = CHCOO- (CH 2) 3 -Si (OCH 3) 3, CH 2 = CHCOO- (CH 2) 3 -Si (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CHCOO- (CH 2) 4 -Si (OCH 3) 3, CH 2 = C (CH 3) COO- (CH 2) 3 -Si (OCH
3) 3, CH 2 = C (CH 3) COO- (CH 2) 3 -Si (OC 2
H 5) 3, CH 2 = C (CH 3) COO- (CH 2) 4 -Si (OCH
3) 3, CH 2 = C (CH 3) COO- (CH 2) 5 -Si (OCH
3) 3, (CH 2 = C (CH 3) COO- (CH 2) 3) 2 -Si
(OCH 3) 2, CH 2 = C (CH = CH 2) -Si (OCH 3) 3, CH 2 = CH-SO 2 NH- (CH 2) 3 -Si (OC
H 3 ) 3 , CH 2 CHCH-ph-O-Si (OCH 3 ) 3 (where ph represents a benzene ring)

【0027】 CH2=CH−ph−CONH−(CH23−Si(O
CH33、 CH2=CH−ph−CH2NH−(CH23−Si(O
CH33、 CH2=CH−ph−CH2NH−C24NH(CH23
−Si(OCH33・HCl HC≡C−Si(OC253、 CH3C≡C−Si(OC253、 DMI−(CH2m−CONH−(CH23−Si(O
CH33、 (DMI:ジメチルマレイミド基を示す。m=1〜2
0) CH2=CHCH2O−Si(OCH33、 (CH2=CHCH2O)4Si、 HO−CH2−C≡C−Si(OC253、 CH3CH2CO−C≡C−Si(OC253、 CH2=CHS−(CH23−Si(OCH33、 CH2=CHCH2O−(CH22−SCH2−Si(O
CH33、 CH2=CHCH2S−(CH23−S−Si(OC
33、 (CH33CCO−C≡C−Si(OC253、 (CH2=CH)2N−(CH22−SCH2−Si(O
CH33、 CH3COCH=C(CH3)−O−Si(OCH33
CH 2 CHCH-ph-CONH- (CH 2 ) 3 —Si (O
CH 3) 3, CH 2 = CH-ph-CH 2 NH- (CH 2) 3 -Si (O
CH 3) 3, CH 2 = CH-ph-CH 2 NH-C 2 H 4 NH (CH 2) 3
-Si (OCH 3 ) 3 .HCl HC≡C-Si (OC 2 H 5 ) 3 , CH 3 C≡C-Si (OC 2 H 5 ) 3 , DMI- (CH 2 ) m -CONH- (CH 2 ) 3 -Si (O
CH 3 ) 3 , (DMI: dimethylmaleimide group, m = 1 to 2
0) CH 2 = CHCH 2 O -Si (OCH 3) 3, (CH 2 = CHCH 2 O) 4 Si, HO-CH 2 -C≡C-Si (OC 2 H 5) 3, CH 3 CH 2 CO —C≡C—Si (OC 2 H 5 ) 3 , CH 2 CHCHS— (CH 2 ) 3 —Si (OCH 3 ) 3 , CH 2 CHCHCH 2 O— (CH 2 ) 2 —SCH 2 —Si ( O
CH 3) 3, CH 2 = CHCH 2 S- (CH 2) 3 -S-Si (OC
H 3) 3, (CH 3 ) 3 CCO-C≡C-Si (OC 2 H 5) 3, (CH 2 = CH) 2 N- (CH 2) 2 -SCH 2 -Si (O
CH 3) 3, CH 3 COCH = C (CH 3) -O-Si (OCH 3) 3

【0028】を挙げることができるが、これらに限定さ
れるものではない。シランカツプリング剤はいくつかの
化合物を任意の比で混合して用いてもかまわない。ま
た、反応を促進するために公知の触媒を使用することが
できる。使用される触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、
リン酸などの鉱酸類、酢酸、リンゴ酸、シュウ酸などの
有機酸類、又はアンモニア、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなど
の塩基が使用できる。
Examples include, but are not limited to: The silane coupling agent may be used by mixing several compounds in an arbitrary ratio. In addition, a known catalyst can be used to promote the reaction. The catalyst used is hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid,
Mineral acids such as phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, malic acid and oxalic acid, or bases such as ammonia, tetramethylammonium hydroxide, potassium hydroxide and sodium hydroxide can be used.

【0029】次に本発明の平版印刷版用原版が、前述の
親水層上に有する、熱により脱炭酸を起こすカルボン酸
基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なく
ともいずれかの基を有するポリマーを含有する記録層に
ついて説明する。本発明の平版印刷版用原版の記録層に
含まれる、カルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる
群から選ばれる少なくともいづれかの基を有するポリマ
ーは、特に限定されないが、下記一般式(1)および
(2)で表される群から選ばれる少なくともいづれかで
あることが好ましい。より好ましくは下記一般式(2)
で表されるカルボン酸塩基からなる群から選ばれたポリ
マーである。カルボン酸塩基からなる群から選ばれたポ
リマーがより好ましい理由は現像性がより良いためであ
る。
Next, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is characterized in that the polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group, on the hydrophilic layer, which causes decarboxylation by heat. The recording layer containing is described. The polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylate group, which is contained in the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited, but is represented by the following general formulas (1) and (1). It is preferably at least one selected from the group represented by 2). More preferably, the following general formula (2)
Is a polymer selected from the group consisting of carboxylate groups represented by The reason why the polymer selected from the group consisting of carboxylic acid groups is more preferable is that the developability is better.

【0030】[0030]

【化3】 Embedded image

【0031】(式中、Xは4族から6族の元素、同酸化
物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物からな
る群から選択され、Pはポリマー主鎖を表し、−L−は
2価の連結基を表し、R1 、R2はそれぞれ同じでも異
なっていてもよい1価の基を表し、Mはアルカリ金属、
アルカリ土類金属およびオニウムからなる群から選択さ
れるいずれかを表す。)
(Wherein X is selected from the group consisting of elements of Groups 4 to 6, oxides, sulfides, selenides and tellurides, P represents a polymer main chain, and -L- Represents a divalent linking group, R 1 and R 2 each represent a monovalent group which may be the same or different, M represents an alkali metal,
Represents any one selected from the group consisting of alkaline earth metals and onium. )

【0032】R1、R2としては、水素を含む一価の非金
属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原
子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、
アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプ
ト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチ
オ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミ
ノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N
−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′
−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイ
ド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリ
ールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′
−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N
−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリール
ウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト
基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフ
ィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル
基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリ
ールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキル
スルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリー
ルスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスル
ファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共
役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキル
ホスフォノ基(−PO3(alkyl) 2)、ジアリールホスフ
ォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォ
ノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォ
ノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、
アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフ
ォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以
後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキ
シ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホス
フォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキ
シ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオ
キシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフ
ォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキ
ルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその
共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3
(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
R1, RTwoAs monovalent non-gold containing hydrogen
Group is used, and a preferable example is a halogen atom.
(-F, -Br, -Cl, -I), a hydroxyl group,
Alkyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercap
G, alkylthio, arylthio, alkyldithio
O group, aryldithio group, amino group, N-alkylamido
Group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N
-Arylamino group, acyloxy group, carbamoylo
Xy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-ali
Carbamoyloxy group, N, N-dialkylcarba
Moyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy
S group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy
Group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group,
Silthio group, acylamino group, N-alkyl acylamido
Group, N-arylacylamino group, ureido group, N '
-Alkyl ureido group, N ', N'-dialkyl urea
Group, N'-arylureido group, N ', N'-diali
Ureido group, N'-alkyl-N'-aryluree
Id group, N-alkyl ureido group, N-aryl ureide
Group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N '
-Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-di
Alkyl-N-alkylureido group, N ', N'-dia
Alkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N
-Alkyl ureido group, N'-aryl-N-aryl
Ureido group, N ', N'-diaryl-N-alkyl
RAID group, N ', N'-diaryl-N-aryluree
Id group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkyl
Luureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-
Arylureido group, alkoxycarbonylamino group,
Aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-
Alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-NA
Reyloxycarbonylamino group, N-aryl-NA
Lucoxycarbonylamino group, N-aryl-N-ali
-Carbonyloxyamino group, formyl group, acyl group,
Carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy
Sicarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarba
Moyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-A
Reel carbamoyl group, N, N-diarylcarbamoy
Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group,
Rukylsulfinyl group, arylsulfinyl group,
Killsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group
(-SOThreeH) and its conjugated base group (hereinafter, sulfonato
Group), alkoxysulfonyl group, aryloxys
Ruphonyl group, sulfinamoyl group, N-alkyl sulf
Inamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl
Group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diali
Sulfinamoyl group, N-alkyl-N-aryl
Sulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkyl
Sulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl
Group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diary
Rusulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsul
Famoyl group, phosphono group (-POThreeHTwo) And both
Role base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl
A phosphono group (-POThree(alkyl) Two), Diarylphosph
Ono group (-POThree(aryl)Two), Alkyl aryl phospho
No group (-POThree(alkyl) (aryl)), monoalkylphospho
No group (-POThreeH (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter, referred to as H (alkyl))
Alkylphosphonato group), monoarylphosphine
Ono group (-POThreeH (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter
Hereinafter referred to as an arylphosphonato group),
Group (-OPOThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as phos
Phonatooxy group), dialkylphosphonooxy
Group (-OPOThree(alkyl)Two), Diarylphosphono
Xy group (-OPOThree(aryl)Two), Alkyl aryl phosph
Onoxy group (-OPOThree(alkyl) (aryl)), monoalkyl
Ruphosphonooxy group (-OPOThreeH (alkyl)) and its
Conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group)
), Monoarylphosphonooxy group (-OPOThreeH
(aryl)) and its conjugated base group (hereinafter, arylphospho)
Natoxy group), cyano group, nitro group, aryl
Group, alkenyl group and alkynyl group.

【0033】好ましいアルキル基の具体例としては、炭
素原子数が1から20までの直鎖状、分枝状または環状
の置換基を有していてもよいアルキル基を挙げることが
でき、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、
2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボニル基等を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素数3から12までの分岐状、
ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基
がより好ましい。
Specific examples of preferred alkyl groups include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl,
Dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group,
Examples thereof include a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a 2-norbornyl group. Among these, straight-chain having 1 to 12 carbon atoms, branched having 3 to 12 carbon atoms,
Further, a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferable.

【0034】置換アルキル基が有する置換基の例として
は、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好まし
い例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、
−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−
アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−
アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジア
ルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカル
バモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバ
モイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスル
ホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキ
ルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレ
イド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,
N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−
アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−ア
リールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレ
イド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、
N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、
N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、
N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリ
ール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリー
ル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール
−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−ア
リール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−
N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアル
キルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共
役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシス
ルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモ
イル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジ
アルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナ
モイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N
−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルフ
ァモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−
ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモ
イル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−ア
ルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基
(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナ
ト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alky
l)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、
アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(ary
l))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))
及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と
称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(ary
l))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト
基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及び
その共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称
す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alky
l)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(ary
l) 2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OP
3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基
(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、ア
ルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホ
スフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役
塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称
す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
Examples of the substituent of the substituted alkyl group
Is preferably a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen.
Examples include halogen atoms (-F, -Br, -Cl,
-I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy
Group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group,
Alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-
Alkylamino group, N, N-diarylamino group, N-
Alkyl-N-arylamino group, acyloxy group,
Rubamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy
Group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dia
Alkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcar
Bamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarba
Moyloxy group, alkyl sulfoxy group, aryl sulf
Oxy, acylthio, acylamino, N-alkyl
Luacylamino group, N-arylacylamino group, urea
Id group, N'-alkylureido group, N ', N'-dia
Alkyl ureido group, N'-aryl ureido group, N ',
N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-
Arylureido group, N-alkylureido group, NA
Reelureido group, N'-alkyl-N-alkyluree
An id group, an N'-alkyl-N-arylureido group,
An N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group,
An N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group,
N'-aryl-N-alkylureido group, N'-ali
-N-arylureido group, N ', N'-diary
Ru-N-alkylureido group, N ', N'-diaryl
-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-a
Reel-N-alkylureido group, N'-alkyl-
N'-aryl-N-arylureido group, alkoxy
Carbonylamino group, aryloxycarbonylamino
Group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino
Group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino
Group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino
Group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino
Group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxy
Cicarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamo
Yl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dial
A kill carbamoyl group, an N-aryl carbamoyl group,
N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N
-An arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group,
Arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, ant
Sulfonyl group, sulfo group (—SOThreeH) and both
Role base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxys
Ruphonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamo
Yl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-di
Alkylsulfinamoyl group, N-arylsulfina
Moyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N
-Alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulf
Amoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-
Dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamo
Yl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-A
Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group
(-POThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphona
A dialkylphosphono group (—POThree(alky
l)Two), A diarylphosphono group (—POThree(aryl)Two),
Alkylarylphosphono group (-POThree(alkyl) (ary
l)), monoalkylphosphono group (-POThreeH (alkyl))
And its conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group)
), Monoarylphosphono group (-POThreeH (ary
l)) and its conjugated base group (hereinafter, arylphosphonate)
Group), a phosphonooxy group (-OPOThreeHTwo)as well as
Its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonatoxy group)
), A dialkylphosphonooxy group (-OPOThree(alky
l)Two), Diarylphosphonooxy group (—OPOThree(ary
l) Two), An alkylarylphosphonooxy group (—OP
OThree(alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group
(-OPOThreeH (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter a
Alkylphosphonatooxy group)
Sulfonooxy group (-OPOThreeH (aryl)) and its conjugate
A base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group)
), Cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl
And alkynyl groups.

【0035】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1
−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−
クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、な
らびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることがで
きる。これら置換基の内、更により好ましいものとして
はハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルア
ミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオ
キシ基、N−アリールカバモイルオキシ基、アシルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバ
モイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジア
ルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ
基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルス
ルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N
−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォ
ナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォ
ノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナ
ト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナ
ト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、ア
リール基、アルケニル基が挙げられる。
In these substituents, specific examples of the alkyl group include the aforementioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, and mesityl groups. , Cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, phenoxyphenyl, acetoxyphenyl, benzoyloxyphenyl, methylthiophenyl, phenylthiophenyl A methylaminophenyl group, a dimethylaminophenyl group, an acetylaminophenyl group, a carboxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, an ethoxyphenylcarbonyl group,
Examples thereof include a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1
-Propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-
Examples thereof include a chloro-1-ethenyl group, and examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 1-butynyl group, and a trimethylsilylethynyl group.
Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above-described alkyl and aryl groups. Of these substituents, still more preferred are a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, an N, N- Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group,
N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonato group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-alkyl-N
An arylsulfamoyl group, a phosphono group, a phosphonate group, a dialkylphosphono group, a diarylphosphono group, a monoalkylphosphono group, an alkylphosphonato group, a monoarylphosphono group, an arylphosphonato group, a phosphonooxy group, Examples include a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

【0036】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上
の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を
組み合わせる事により得られる置換アルキル基の、好ま
しい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキ
ソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエ
チル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N
−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メ
チル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォ
ノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニ
ルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2
−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−
ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。
On the other hand, the alkylene group in the substituted alkyl group may be a divalent organic residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. And preferably a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms and a cyclic alkylene group having 5 to 10 carbon atoms. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent with an alkylene group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, and allyl. Oxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N- Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxy Rubonirubuchiru group, chlorophenoxy carbonyl methyl group, a carbamoylmethyl group, N- methylcarbamoyl ethyl, N, N- dipropylcarbamoylmethyl group, N
-(Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group,
Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N
-Dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α- Methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2
-Methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-
Butynyl group, 3-butynyl group and the like.

【0037】アリール基としては、1個から3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽
和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体
例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、
フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、
フルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。また、ア
リール基には上記炭素環式アリール基の他、複素環式
(ヘテロ)アリール基が含まれる。複素環式アリール基
としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が
縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン
基、カルバゾール基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数
1〜5を含むものが用いられる。
Examples of the aryl group include a group in which one to three benzene rings form a condensed ring, and a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Phenyl group, naphthyl group, anthryl group,
Phenanthryl group, indenyl group, acenaphthenyl group,
Examples thereof include a fluorenyl group and the like, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. The aryl group includes a heterocyclic (hetero) aryl group in addition to the carbocyclic aryl group. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl, benzofuryl, thioxanthone, and carbazole groups each having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms such as a benzene ring condensed. Used.

【0038】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示
したものを挙げることができる。この様な、置換アリー
ル基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフ
ェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェ
ニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキ
シルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカル
バモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル
基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリル
オキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボ
ニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチル
カルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモ
イルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイ
ルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カ
ルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナト
フェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルス
ルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファ
モイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル
基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファ
モイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナ
トフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェ
ニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノ
フェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル
基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メ
チルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル
基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル
基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
As the substituted aryl group, those having a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the aforementioned alkyl groups, substituted alkyl groups,
In addition, there can be mentioned those described above as the substituent in the substituted alkyl group. Preferred specific examples of such substituted aryl groups include biphenyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl, and trifluoromethylphenyl. ,
Hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxyphenyl, methylthiophenyl, tolylthiophenyl, ethylaminophenyl, diethylaminophenyl, morpholinophenyl, acetyloxyphenyl, benzoyl Oxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxy Carbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N (Methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N- Dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenyl Phosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpro Nirufeniru group, 2-propynyl phenyl group, 2-butynyl phenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

【0039】好ましい−X−の具体例は、−O−、−S
−、−Se−、−NR3−、−CO−、−SO−、−S
2−、−PO−を表す。その中でも、熱反応性の観点
から−CO−、−SO−、−SO2 −が特に好ましい。
好ましいR3の具体例は、R1およびR2 と同じであって
も異なっていてもよく、R1 およびR2 具体例から選ぶ
ことができる。
Preferred examples of -X- are -O-, -S
-, - Se -, - NR 3 -, - CO -, - SO -, - S
O 2 — and —PO— are represented. Among them, -CO from the viewpoint of heat reactive -, - SO -, - SO 2 - is particularly preferred.
Specific examples of preferred R 3 may be different be the same as R 1 and R 2, it can be selected from R 1 and R 2 embodiments.

【0040】Lで表される2価の連結基とは、1個から
60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原
子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個
までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子か
ら成り立つものである。より具体的な連結基としては下
記の構造単位で組合わさって構成されるものを挙げるこ
とができる。
The divalent linking group represented by L includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 Up to hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the linking group include those constituted by combining the following structural units.

【0041】[0041]

【化4】 Embedded image

【0042】Mはカチオンであれば特に限定されない
が、1〜4価の金属カチオンまたは下記一般式(3)で
示されるアンモニウム塩が好ましい。
M is not particularly limited as long as it is a cation, but is preferably a monovalent to tetravalent metal cation or an ammonium salt represented by the following general formula (3).

【0043】[0043]

【化5】 Embedded image

【0044】(R4、R5、R6およびR7はそれぞれ同じ
でも異なっていてもよい1価の基を表す。)
(R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a monovalent group which may be the same or different.)

【0045】Mで表される1〜4の金属カチオンとして
は、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Fr+、B
2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Ra2+、Cu
+、Cu2 +、Ag+、Zn2+、Al3+、Fe2+、Fe3+
Co2+、Ni2+、Ti4+、Zr4+を挙げることができ
る。より好ましくはLi+、Na+、K+、Rb+、C
+、Fr+、Cu+、Ag+を挙げることができる。
The metal cations of 1-4 represented by M include Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Fr + , B
e 2+ , Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ , Ra 2+ , Cu
+, Cu 2 +, Ag + , Zn 2+, Al 3+, Fe 2+, Fe 3+,
Co 2+ , Ni 2+ , Ti 4+ and Zr 4+ can be mentioned. More preferably, Li + , Na + , K + , Rb + , C
Examples include s + , Fr + , Cu + , and Ag + .

【0046】また、上記一般式(3)で示されるアンモ
ニウムイオンにおいて、R4〜R7で表される基の具体例
としては、前記R1〜R3に示したものと同様の基が挙げ
られる。上記一般式(3)で示されるアンモニウムイオ
ンの具体例としては以下のものを挙げることができる。
In the ammonium ion represented by the general formula (3), specific examples of the groups represented by R 4 to R 7 include the same groups as those represented by R 1 to R 3. Can be Specific examples of the ammonium ion represented by the general formula (3) include the following.

【0047】[0047]

【化6】 Embedded image

【0048】Pで表されるポリマー主鎖は下記一般式に
より表される部分構造群の少なくとも一種により選ばれ
る。
The polymer main chain represented by P is selected from at least one of partial structural groups represented by the following general formula.

【0049】[0049]

【化7】 Embedded image

【0050】本発明におけるカルボン酸基およびカルボ
ン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの
基を有するポリマーは1種のモノマーのみの単独重合体
であっても、2種以上のモノマーの共重合体でもよい。
本発明におけるカルボン酸基およびカルボン酸塩基から
なる群から選ばれる少なくともいずれかの基を有するポ
リマーの合成に用いられるモノマーとしては、以下の具
体例に挙げるものが好ましい。
In the present invention, the polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group may be a homopolymer of only one monomer, or a copolymer of two or more monomers. May be.
As the monomer used in the synthesis of the polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group in the present invention, those exemplified in the following specific examples are preferable.

【0051】[0051]

【化8】 Embedded image

【0052】[0052]

【化9】 Embedded image

【0053】[0053]

【化10】 Embedded image

【0054】また、本発明におけるカルボン酸基および
カルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづ
れかの基を有するポリマーは、上記モノマーと他のモノ
マーとの共重合体でもよい。用いられる他のモノマーと
しては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリルエ
ステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビ
ニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イ
ミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノ
マー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水
性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善
することができる。
The polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group in the present invention may be a copolymer of the above-mentioned monomer and another monomer. As other monomers used, for example, acrylates, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide and the like Known monomers are also included. By copolymerizing such monomers, various physical properties such as film forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity, and stability can be improved.

【0055】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples thereof include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate.

【0056】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレ
ート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベン
ジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレ
ート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニル
メタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スル
ファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシ
フェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート等が
挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (Hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0057】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, and N-benzylacrylamide.
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0058】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0059】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0060】共重合体の合成に使用されるこれらの他の
モノマーの割合は、諸物性の改良に充分な量である必要
があるが、割合が大きすぎる場合には、カルボン酸もし
くはカルボン酸塩を含有するモノマーの機能が不十分と
なる。従って、好ましい他のモノマー総割合は80重量
%以下であることが好ましく、さらに好ましくは50重
量%以下である。
The proportion of these other monomers used in the synthesis of the copolymer must be sufficient to improve various physical properties, but if the proportion is too large, the carboxylic acid or carboxylate may be used. The function of the monomer containing is insufficient. Therefore, the preferable total ratio of the other monomers is preferably 80% by weight or less, more preferably 50% by weight or less.

【0061】以下、本発明における、熱により脱炭酸を
起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群か
ら選ばれる少なくともいずれかの基を有するポリマーの
具体例を以下に示す。
Hereinafter, specific examples of the polymer having at least any one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylate group which cause decarboxylation by heat in the present invention are shown below.

【0062】[0062]

【化11】 Embedded image

【0063】[0063]

【化12】 Embedded image

【0064】[0064]

【化13】 Embedded image

【0065】[0065]

【化14】 Embedded image

【0066】[0066]

【化15】 Embedded image

【0067】[0067]

【化16】 Embedded image

【0068】[0068]

【化17】 Embedded image

【0069】また、本発明の平版印刷版用原版の記録層
中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭
62−251740号公報や特開平3−208514号
公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開
昭59−121044号公報、特開平4−13149号
公報に記載されているような両性界面活性剤を添加する
ことができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アル
キルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシ
エチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の記
録層全固形物中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 in order to expand stability under printing conditions. Such nonionic surfactants and amphoteric surfactants described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of nonionic surfactants include
Sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like can be mentioned. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solids in the recording layer is 0.05 to 15% by weight.
And more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0070】更に本発明の平版印刷版用原版の記録層中
には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用い
られる。
Further, a plasticizer may be added to the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0071】本発明の平版印刷版用原版の記録層は、通
常上記各成分を溶媒に溶かして、前記親水層上に塗布す
ることにより製造することができる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチル
アセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、
トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定され
るものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して
使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また
塗布、乾燥後に得られる親水層上の記録層の塗布量(固
形分)は、一般的に0.5〜5.0g/m2が好まし
い。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and applying the resultant solution on the hydrophilic layer. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether,
1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate,
Dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-
Dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone,
Examples include toluene and water, but are not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) of the recording layer on the hydrophilic layer obtained after coating and drying is generally preferably from 0.5 to 5.0 g / m 2 . Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0072】本発明の平版印刷版用原版の記録層中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭
62−170950号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、記録層全固形分に対し、0.01〜1重量%さら
に好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a surfactant for improving coating properties, such as a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950, is used. Agents can be added. The preferred amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the recording layer.

【0073】〔支持体について〕本発明の平版印刷版用
原版に使用される支持体としては、前述のようにその表
面に不飽和基を有するか、あるいは不飽和基を導入でき
るものであれば特に制限はないが、寸度的に安定な板状
物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板
(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチック
フィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上
記のごとき金属がラミネート若しくは蒸着された、紙若
しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
[Support] The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not limited as long as it has an unsaturated group on its surface or can introduce an unsaturated group as described above. Although not particularly limited, it is a dimensionally stable plate-like material such as paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), and metal plate (eg, aluminum, zinc) , Copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) Like metal is lamine Is collected by or deposited, paper or plastic films.

【0074】本発明に使用される好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、
微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムが
ラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムで
もよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ
素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、
ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元
素の含有量は高々10重量%以下である。本発明におい
て特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムである
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発
明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1m
m〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4
mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
The preferred aluminum plate used in the present invention is a pure aluminum plate and aluminum as a main component,
It may be an alloy plate containing a trace amount of a different element, or a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc,
Examples include bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 m
m to about 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4
mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0075】(光熱変換剤)本発明の平版印刷版用原版
を、レーザー光の走査露光等により画像形成する場合に
は、その親水層および記録層の少なくともいずれかの層
中に、光エネルギーを熱エネルギーに変換するための光
熱変換剤を含有させておくことが好ましい。本発明の平
版印刷版用原版の親水層または記録層に含有させてもよ
い光熱変換剤としては、紫外線、可視光線、赤外線、白
色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質ならば全て
使用でき、例えば、カーボンブラック、カーボングラフ
ァイト、顔料、フタロシアニン系顔料、金属粉、金属化
合物粉等が挙げられる。特に、好ましいのは、波長76
0nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染
料、顔料、または金属粉、金属化合物粉である。
(Photothermal Conversion Agent) When an image is formed on the lithographic printing plate precursor according to the present invention by scanning exposure with a laser beam or the like, light energy is applied to at least one of the hydrophilic layer and the recording layer. It is preferable to include a light-to-heat conversion agent for converting into heat energy. As the photothermal conversion agent that may be contained in the hydrophilic layer or the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a substance capable of absorbing light such as ultraviolet light, visible light, infrared light, and white light and converting it into heat can be used. All can be used, and examples thereof include carbon black, carbon graphite, pigments, phthalocyanine pigments, metal powders, metal compound powders, and the like. Particularly preferred is a wavelength 76
Dyes, pigments, metal powders, and metal compound powders that effectively absorb infrared rays from 0 nm to 1200 nm.

【0076】好ましい赤外線吸収剤の例について以下に
説明する。 〔赤外線吸収剤〕本発明において好ましく使用される赤
外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を
有効に吸収する染料または顔料である。より好ましく
は、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染
料または顔料である。染料としては、市販の染料および
文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和
45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、金属チオレート錯体などの染料が挙げられ
る。
Examples of preferred infrared absorbing agents will be described below. [Infrared absorber] The infrared absorber preferably used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. More preferably, it is a dye or a pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used.
Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes,
Dyes such as a carbonium dye, a quinone imine dye, a methine dye, a cyanine dye, and a metal thiolate complex are exemplified.

【0077】好ましい染料としては例えば特開昭58−
125246号、特開昭59−84356号、特開昭5
9−202829号、特開昭60−78787号等に記
載されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、特開昭58−181690号、特開昭58−194
595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−
112793号、特開昭58−224793号、特開昭
59−48187号、特開昭59−73996号、特開
昭60−52940号、特開昭60−63744号等に
記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112
792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国
特許第434,875号記載のシアニン染料等を挙げる
ことができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
125246, JP-A-59-84356, JP-A-5-84356
Cyanine dyes described in JP-A-9-202829 and JP-A-60-78787;
JP-A-58-181690, JP-A-58-194
No. 595, etc .;
Naphthoquinone dyes described in JP-A-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. JP-A-58-112
792 and the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0078】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第4,756,993
号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169), trimethinethiapyrylium salts described in JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, and 59.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used. Another preferred example of the dye is U.S. Pat. No. 4,756,993.
Near-infrared absorbing dyes described in the specification as formulas (I) and (II) can be mentioned. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0079】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものは、カーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977)
Annual Publication), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986)
Pigments described in "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984). Examples of the type of the pigment include a black pigment, a yellow pigment, an orange pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0080】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に縮合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of condensing a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) on the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 198).
6th edition).

【0081】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光性組成物の塗布液中での安
定性の点で好ましくなく、また、10μmを超えると塗
布後の画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載
がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, it is not preferable in terms of stability of the dispersion in a coating solution of the photosensitive composition, and if it exceeds 10 μm, it is not preferable in terms of uniformity of an image recording layer after coating. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0082】これらの染料もしくは顔料は、平版印刷版
用原版の記録層に含有させる際、該記録層全固形分に対
し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量
%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔
料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%の割合で添
加することができる。顔料もしくは染料の添加量が0.
01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量
%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやすい。
When these dyes or pigments are contained in the recording layer of the lithographic printing plate precursor, 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the recording layer, Is particularly preferably 0.5 to 10% by weight, and in the case of a pigment, 1.0 to 10% by weight can be particularly preferably added. When the amount of the pigment or dye added is 0.
When the amount is less than 01% by weight, the sensitivity is lowered, and when the amount exceeds 50% by weight, stains are apt to occur in the non-image area during printing.

【0083】[0083]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明の範囲はこれらによって限定されるもので
はない。 〔親水性ポリマーの製造例1〕ポリアクリル酸(平均分
子量25,000)18gをDMAc300gに溶解
し、ハイドロキノン0.41gと2−メタクリロイルオ
キシエチルイソシアネート19.4gとジブチルチンジ
ラウレート0.25gを添加し、65℃、4時間反応さ
せた。得られたポリマーの酸価は7.02meq/gで
あった。1N水酸化ナトリウム水溶液でカルボキシル基
を中和し、酢酸エチルに加えポリマーを沈殿させ、よく
洗浄し親水性ポリマーを得た。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited by these examples. [Production Example 1 of Hydrophilic Polymer] 18 g of polyacrylic acid (average molecular weight: 25,000) was dissolved in 300 g of DMAc, and 0.41 g of hydroquinone, 19.4 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and 0.25 g of dibutyltin dilaurate were added. At 65 ° C. for 4 hours. The acid value of the obtained polymer was 7.02 meq / g. The carboxyl group was neutralized with a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, added to ethyl acetate to precipitate the polymer, and washed well to obtain a hydrophilic polymer.

【0084】〔実施例1〜6〕 (ゾル−ゲル層を有する基板の製造方法)厚さ0.30
mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メッシ
ュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面を砂目立て
した後、水でよく洗浄した。10重量%水酸化ナトリウ
ム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後、20重量%硝酸で中和洗浄し、次い
で水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波
の交番波形電流を用いて1重量%硝酸水溶液中で160
クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μm(R
a表示)であった。引き続いて30重量%の硫酸水溶液
中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20重量
%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2 において、陽極
酸化被膜の厚さが2.7g/m2 になるように、2分間
陽極酸化処理した。
Examples 1 to 6 (Method of Manufacturing Substrate Having Sol-Gel Layer) Thickness 0.30
The surface of an aluminum plate having a thickness of 0.5 mm was grained with a nylon brush and a 400 mesh aqueous suspension of pamistone, and then thoroughly washed with water. After etching by immersing in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, washing with running water, neutralizing and washing with 20% by weight nitric acid, and then washing with water. This was converted to 160% in a 1% by weight aqueous nitric acid solution using a sinusoidal alternating current under the condition of VA = 12.7V.
The electrolytic surface-roughening treatment was performed with an amount of electricity at the anode of Coulomb / dm 2 . The surface roughness was measured to be 0.6 μm (R
a). Subsequently, after immersing in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, the thickness of the anodic oxide film was increased to 2.7 g / m 2 at a current density of 2 A / dm 2 in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution. Anodizing treatment was performed for 2 minutes.

【0085】次に下記の手順によりゾル−ゲル法の液状
組成物(ゾル液)を調製した。
Next, a liquid composition (sol liquid) of the sol-gel method was prepared according to the following procedure.

【0086】 (ゾル液) メタノール 130g 水 20g 85重量%リン酸 16g テトラエトキシシラン 50g 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 60g(Sol Solution) Methanol 130 g Water 20 g 85 wt% phosphoric acid 16 g Tetraethoxysilane 50 g 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 60 g

【0087】上記組成のゾル液を混合し攪拌した。約5
分で発熱が認められた。60分間反応させた後、内容物
を別の容器へ移し、メタノール3000gを加えること
により、ゾル液を得た。このゾル液をメタノール/エチ
レングリコール=9/1(重量比)で希釈して、基板上
のSiの量が3mg/m2 となるように塗布し、100
℃、1分間乾燥させ、アルミニウム基板を作製した。
The sol liquid having the above composition was mixed and stirred. About 5
A fever was noted in minutes. After reacting for 60 minutes, the content was transferred to another container, and 3000 g of methanol was added to obtain a sol solution. This sol solution was diluted with methanol / ethylene glycol = 9/1 (weight ratio) and applied so that the amount of Si on the substrate was 3 mg / m 2 ,
It dried at 1 degreeC for 1 minute, and produced the aluminum substrate.

【0088】(親水層の形成)このように処理されたア
ルミニウム基板上に下記に示す組成物の親水層塗布液を
塗布し、100℃、2分乾燥後、UV露光し膜厚1.5
5μmの親水層を形成した。
(Formation of Hydrophilic Layer) A hydrophilic layer coating solution of the composition shown below was coated on the aluminum substrate thus treated, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and exposed to UV to form a film having a thickness of 1.5.
A 5 μm hydrophilic layer was formed.

【0089】 (親水層塗布液) 親水性ポリマー1(上記記載の物) 1.0g 光重合開始剤A(下記構造) 0.1g 蒸留水 12.7g アセトニトリル 6.4g(Hydrophilic Layer Coating Solution) Hydrophilic polymer 1 (the above-mentioned substance) 1.0 g Photopolymerization initiator A (the following structure) 0.1 g Distilled water 12.7 g Acetonitrile 6.4 g

【0090】[0090]

【化18】 Embedded image

【0091】(記録層の形成)本発明におけるカルボン
酸(塩)基を含有するポリマーの種類を下記表1に示す
ように変えて、6種の下記記録層塗布液(A−1)〜
(A−3)、(B−1)〜(B−3)を調製した。これ
らの記録層塗布液をそれぞれ上記親水層上に塗布し、1
00℃、2分間乾燥し平版印刷版用原版(A−1)〜
(A−3),(B−1)〜(B−3)を得た。乾燥後の
重量は1.1g/m2であった。
(Formation of Recording Layer) Six kinds of the following recording layer coating liquids (A-1) to (C-1) were prepared by changing the type of the carboxylic acid (salt) group-containing polymer in the present invention as shown in Table 1 below.
(A-3) and (B-1) to (B-3) were prepared. Each of these recording layer coating solutions is applied on the hydrophilic layer, and
Dried at 00 ° C for 2 minutes, lithographic printing plate precursor (A-1)-
(A-3) and (B-1) to (B-3) were obtained. The weight after drying was 1.1 g / m 2 .

【0092】[0092]

【表1】 [Table 1]

【0093】 (記録層塗布液A1〜3) カルボン酸基を含有するポリマー(表1参照) 1.0g 赤外線吸収剤NK-3508(日本感光色素研究所(株)製) 0.15g フツ素系界面活性剤(F-177大日本インキ(株)社製) 0.06g メチルエチルケトン 20g メタノール 7g(Recording Layer Coating Solutions A1 to 3) Carboxylic acid group-containing polymer (see Table 1) 1.0 g Infrared absorber NK-3508 (manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories Co., Ltd.) 0.15 g fluorine-based Surfactant (F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.06 g Methyl ethyl ketone 20 g Methanol 7 g

【0094】 (記録層塗布液B1〜3) カルボン酸塩基を含有するポリマー(表1参照) 1.0g ハイミクロンKブラック(三国色素(株)社製) 0.30g 水 18g アセトニトリル 9g(Recording Layer Coating Solutions B1 to 3) Carboxylic acid group-containing polymer (see Table 1) 1.0 g High micron K black (manufactured by Sangoku Dye Co., Ltd.) 0.30 g water 18 g acetonitrile 9 g

【0095】(印刷評価)実施例1から6で得られた平
版印刷版用原版を波長830nmの赤外線を発する半導
体レーザーで露光した。露光した版を現象することな
く、ハイデルKOR−D印刷機で印刷した。湿し水はI
F201(2.5%)、IF202(0.75%)〔富
士写真フイルム(株)製〕を用いた。画像部のインク着
肉性は1,000枚印刷時及び20,000枚印刷時で
評価し、いずれも画像部にインクの着肉が良好な印刷物
が得られた。また、非画象部の汚れ性についても評価
し、いずれも20,000枚印刷後も非画像部に汚れの
ない良好な印刷物が得られた。
(Printing Evaluation) The lithographic printing plate precursors obtained in Examples 1 to 6 were exposed to a semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm. The exposed plate was printed on a Heidel KOR-D printing machine without development. The dampening solution is I
F201 (2.5%) and IF202 (0.75%) [manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.] were used. The ink inking property of the image area was evaluated at the time of printing of 1,000 sheets and at the time of printing of 20,000 sheets. Further, the stainability of the non-image area was also evaluated. In each case, a good printed matter having no stain on the non-image area was obtained even after printing 20,000 sheets.

【0096】〔比較例1〜2〕実施例1〜3で用いたカ
ルボン酸基を有するポリマーの代わりにポリアクリル酸
を用い、それ以外は実施例1〜3と同様にして平版印刷
版用原版(C−1)を得、製版し印刷した。また、実施
例4〜6で用いたカルボン酸塩基を有するポリマーの代
わりにポリアクリル酸ナトリウムを用い、それ以外は実
施例4〜6と同様にして平版印刷版用原版(C−2)を
得、製版し印刷した。(C−1)、(C−2)共に画後
部のインク着肉性が悪く、印刷物は得られなかった。
[Comparative Examples 1-2] A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Examples 1-3 except that polyacrylic acid was used in place of the polymer having a carboxylic acid group used in Examples 1-3. (C-1) was obtained, and plate making and printing were performed. Further, a lithographic printing plate precursor (C-2) was obtained in the same manner as in Examples 4 to 6, except that sodium polyacrylate was used in place of the polymer having a carboxylate group used in Examples 4 to 6. Plate making and printing. In both (C-1) and (C-2), the ink adhesion of the rear part of the image was poor, and no printed matter was obtained.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、基板上に不飽和基を有する化合物を含む表
面を形成し、該基板の不飽和基と親水層中のラジカル重
合性基とを光重合反応(紫外線照射)等により結合さ
せ、機番表面に化学結合した、アルミニウムに比べ熱伝
導率の低い材料からなる親水層を設け、その親水層上
に、熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボ
ン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの
基を有するポリマー、好ましくはカルボン酸塩基からな
る群から選ばれたポリマーを含有する記録層を有する平
版印刷版用原版を作製することにより、記録層の赤外線
レーザ露光等による熱の拡散を抑制し、記録層中の高分
子化合物の水に対する溶解性を完全に変換させることが
可能になり、低エネルギー量のIRレーザー光照射でも
十分な画像形成が行われ、すなわち高感度化の効果が得
られる。また、親水層は機番表面に化学結合しているた
め、膨潤しても基板との密着性が悪くなることは無く、
多数枚の厳しい印刷条件においても、耐刷性が良好であ
り、汚れが生じない印刷物が得られる。さらに本発明の
平版印刷版用原版は、画像記録後、簡易な水現像処理操
作による製版、あるいは、現像処理を必要としない、直
接に印刷機に装着して製版・印刷することができる。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention forms a surface containing a compound having an unsaturated group on a substrate, and radically polymerizes the unsaturated group of the substrate and the hydrophilic layer in the hydrophilic layer. A hydrophilic layer made of a material having a lower thermal conductivity than aluminum chemically bonded to the surface of the machine number, and decarboxylation by heat on the hydrophilic layer. Preparation of a lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a polymer having at least any group selected from the group consisting of carboxylic acid groups and carboxylic acid groups, preferably a polymer selected from the group consisting of carboxylic acid groups By doing so, it is possible to suppress the diffusion of heat due to infrared laser exposure and the like in the recording layer, and to completely convert the solubility of the polymer compound in the recording layer in water, thereby reducing the energy Sufficient image formation is carried out in over the amount of IR laser irradiation, i.e. the effect of high sensitivity is obtained. In addition, since the hydrophilic layer is chemically bonded to the surface of the machine, even if it swells, the adhesion to the substrate does not deteriorate,
Even under severe printing conditions for a large number of sheets, a printed matter having good printing durability and no stain is obtained. Further, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be plate-formed and printed by a simple water-development operation after image recording, or directly mounted on a printing machine which does not require a development process.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA12 AA14 AB03 AC08 AD03 BF01 CC20 DA36 FA10 2H096 AA00 AA07 AA08 BA11 BA16 EA04 GA45 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA04 DA13 DA25 DA26 DA27 DA38 DA49 DA52 DA73 DA78 EA01 EA03 EA04 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 2H025 AA00 AA01 AA12 AA14 AB03 AC08 AD03 BF01 CC20 DA36 FA10 2H096 AA00 AA07 AA08 BA11 BA16 EA04 GA45 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA04 DA13 DA25 DA26 DA27 DA38 DA03 EA52 DA73 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、基板と共有結合を介して結合
しており更に親水性基を有する高分子化合物を含有する
親水層と、該親水層上に熱により脱炭酸を起こすカルボ
ン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少
なくともいづれかの基を有する高分子化合物を含有する
記録層とを有することを特徴とする平版印刷版用原版。
1. A hydrophilic layer which contains a polymer compound having a hydrophilic group which is bonded to a substrate via a covalent bond and a carboxylic acid group which causes decarboxylation by heat on the hydrophilic layer. And a recording layer containing a polymer compound having at least any one group selected from the group consisting of carboxylate groups.
【請求項2】 前記熱により脱炭酸を起こすポリマー
が、下記一般式(1)および(2)で表される群から選
ばれる少なくともいづれかであることを特徴とする請求
項1に記載の平版印刷版用原版。 【化1】 (式中、Xは4族から6族の元素、同酸化物、同硫化
物、同セレン化物および同テルル化物からなる群から選
択され、Pはポリマー主鎖を表し、−L−は2価の連結
基を表し、R1 、R2はそれぞれ同じでも異なっていて
もよい1価の基を表し、Mはアルカリ金属、アルカリ土
類金属およびオニウムからなる群から選択されるいずれ
かを表す。)
2. The lithographic printing method according to claim 1, wherein the polymer that causes decarboxylation by heat is at least one selected from the group represented by the following general formulas (1) and (2). The original for the edition. Embedded image (Wherein, X is selected from the group consisting of elements of Groups 4 to 6, oxides, sulfides, selenides and tellurides, P represents a polymer main chain, and -L- is divalent. Wherein R 1 and R 2 each represent a monovalent group which may be the same or different, and M represents any one selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals and onium. )
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