JP2002110867A - Semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents

Semiconductor device and its manufacturing method

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JP2002110867A
JP2002110867A JP2000301808A JP2000301808A JP2002110867A JP 2002110867 A JP2002110867 A JP 2002110867A JP 2000301808 A JP2000301808 A JP 2000301808A JP 2000301808 A JP2000301808 A JP 2000301808A JP 2002110867 A JP2002110867 A JP 2002110867A
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semiconductor element
insulating layer
semiconductor device
resin sealing
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a power semiconductor device having excellent insulation and heat dissipation properties and suitable for thinning, and its manufacturing method. SOLUTION: The semiconductor device comprises a semiconductor element comprising a plurality of power semiconductor elements 102 and control semiconductor elements 103, a lead frame 101 comprising a part mounted with the semiconductor elements and lead parts 101A for taking out electric signals from the semiconductor elements and connected electrically with the semiconductor elements, a mold resin seal 106 covering the semiconductor elements and the mounting face of the lead frame, heat dissipation fins 107, and an insulating layer 108 of thermosetting resin formed on the surface of the heat dissipation fins for mounting the lead frame. The insulating layer extends over the part of the lead frame for mounting the semiconductor element and has thermal conductivity higher than that of the mold resin seal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、とくにインバータなどの樹脂封止型のインテリジェ
ントパワーモジュ−ルに用いられる電力用半導体装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a power semiconductor device used for a resin-sealed type intelligent power module such as an inverter.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来インバータなどの電力用半導体装置
は、熱の発生が多く、放熱フィンなどの放熱装置を取り
付けて用いるのが通常である。図4は、従来の電力用半
導体装置の断面図及び平面図である。インバータなどの
電力用半導体装置は、例えば、シリコン半導体基板に形
成された複数個のパワー半導体素子2と制御半導体素子
3からなる半導体素子を備えている。また、銅などの金
属もしくはその合金を材料とするリードフレーム1は、
半導体素子が実装される実装部分と複数の外部端子1A
からなるリード部分から構成されている。この実装部分
には複数個のパワー半導体素子2及び制御半導体素子3
が実装されている。各パワー半導体素子2は、その表面
に形成された接続電極(図示しない)を介してAlワイ
ヤ4によりリードフレーム1にボンディングされてい
る。制御半導体素子3は、その表面に形成された接続電
極(図示しない)を介してAuワイヤ5によりリードフ
レーム1にボンディングされている。リードフレーム1
の実装部分、パワー半導体素子2、制御半導体素子3、
Alワイヤ4、Auワイヤ5は、エポキシ樹脂やシリコ
ーン樹脂などを材料とするモールド樹脂封止体6で樹脂
封止されている。樹脂封止するには、パワー半導体素子
2及び制御半導体素子3を搭載し、これらの電気的接続
をワイヤ4、5で行ったリードフレーム1を樹脂金型に
挿入し、例えば、トランスファモールど法などにより樹
脂封止を行う。樹脂封止体6は、熱伝導率が2W/m・
K程度であり、また、5〜6mm程度の厚さが有り、リ
ードフレーム1のリード部分が樹脂封止体6から露出し
ている。リード部分を構成する外部端子1Aは、樹脂封
止体6から導出したあと回路基板に実装するために直角
に上方に折り曲げ成形する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a power semiconductor device such as an inverter generates a lot of heat and is usually used with a heat radiating device such as a heat radiating fin. FIG. 4 is a sectional view and a plan view of a conventional power semiconductor device. A power semiconductor device such as an inverter includes, for example, a semiconductor element including a plurality of power semiconductor elements 2 and a control semiconductor element 3 formed on a silicon semiconductor substrate. The lead frame 1 made of a metal such as copper or an alloy thereof is
A mounting part on which a semiconductor element is mounted and a plurality of external terminals 1A
And a lead portion composed of A plurality of power semiconductor elements 2 and control semiconductor elements 3
Has been implemented. Each power semiconductor element 2 is bonded to the lead frame 1 by an Al wire 4 via a connection electrode (not shown) formed on the surface. The control semiconductor element 3 is bonded to the lead frame 1 by an Au wire 5 via a connection electrode (not shown) formed on the surface. Lead frame 1
Mounting part, power semiconductor element 2, control semiconductor element 3,
The Al wire 4 and the Au wire 5 are resin-sealed with a mold resin sealing body 6 made of a material such as epoxy resin or silicone resin. In order to perform resin sealing, the power semiconductor element 2 and the control semiconductor element 3 are mounted, and the lead frame 1 in which these electrical connections are made with the wires 4 and 5 is inserted into a resin mold. Resin sealing is performed by, for example, The resin sealing body 6 has a thermal conductivity of 2 W / m ·
The lead portion of the lead frame 1 is exposed from the resin sealing body 6. The external terminal 1A constituting the lead portion is bent upward at a right angle to be mounted on a circuit board after being led out of the resin sealing body 6.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この種の電力用半導体
装置は、半導体装置の動作時に発生する熱による温度上
昇を抑制必要があるので、その底面に放熱フィンを取り
付けている。この従来例では放熱フィン7のリードフレ
ームを実装する面にシリコングリース9を塗布し、その
上にリードフレーム1をネジ止めにより固定している。
ネジ(図示しない)は、樹脂封止体6に形成された取付
け穴6Aに通してリードフレーム1を固定している。リ
ードフレーム1のリード部分に構成された外部端子1A
は、半導体装置の絶縁特性を確保する為、放熱フィン7
とは2.5〜3mm程度離されている。その為、リード
フレーム1は、半導体素子装着前に成形されて、樹脂封
止体6の側面のほぼ中央から外部端子1Aが導出される
ように構成されている。上記外部端子1Aと放熱フィン
7と間の距離D(この例では2.5〜3mm程度)は、
その間の樹脂封止体の沿面距離にほぼ等しく、この距離
は、使用条件により電気取扱法等の安全規格で定められ
たものに合わせている。このようなに安全規格の面でも
半導体装置の薄型化を阻害する要因が存在する。また、
シリコングリース8は、リードフレーム1を放熱フィン
7へ安定して配置する為に介在されるが、これは、樹脂
封止体6と共に、金属と比較して熱伝導性が悪いので、
その存在は半導体装置の放熱性を阻害する要因となって
いる。本発明は、このような事情によりなされたもので
あり、絶縁性が高く、放熱性が優れた薄型化に適した電
力用半導体装置及びその製造方法を提供する。
In this type of power semiconductor device, since it is necessary to suppress a rise in temperature due to heat generated during operation of the semiconductor device, a radiation fin is attached to the bottom surface thereof. In this conventional example, silicon grease 9 is applied to the surface of the radiation fin 7 on which the lead frame is mounted, and the lead frame 1 is fixed thereon by screwing.
Screws (not shown) fix the lead frame 1 through mounting holes 6A formed in the resin sealing body 6. External terminal 1A formed on the lead portion of lead frame 1
Are radiating fins 7 in order to secure the insulation characteristics of the semiconductor device.
Are separated by about 2.5 to 3 mm. Therefore, the lead frame 1 is formed before the semiconductor element is mounted, and is configured such that the external terminal 1 </ b> A is led out from substantially the center of the side surface of the resin sealing body 6. The distance D between the external terminal 1A and the radiation fin 7 (about 2.5 to 3 mm in this example) is
The creepage distance of the resin sealing body between them is almost equal to the creepage distance, and this distance is set according to safety conditions such as an electric handling method depending on use conditions. As described above, there is a factor that hinders the thinning of a semiconductor device in terms of safety standards. Also,
The silicon grease 8 is interposed for stably arranging the lead frame 1 on the heat radiation fins 7. However, since the silicon grease 8 has lower thermal conductivity together with the resin sealing body 6 than metal,
Its presence is a factor that hinders the heat dissipation of the semiconductor device. The present invention has been made under such circumstances, and provides a power semiconductor device having high insulation properties, excellent heat dissipation properties, and suitable for thinning, and a method for manufacturing the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、電力用半導体
装置において、半導体素子が搭載され、且つ樹脂封止を
行ったリードフレームを放熱フィンに搭載する際に、両
者の間に、その外周がリードフレームの半導体素子を実
装する部分を越えて延在し、且つ熱伝導性が樹脂封止体
より高い絶縁層を介在させることを特徴としている。す
なわち、本発明の半導体装置は、複数のパワー半導体素
子及び制御半導体素子を有する半導体素子と、前記半導
体素子が実装された実装部分及び前記半導体素子からの
電気的信号を取り出すリード部分を有し、且つ前記半導
体素子と電気的に接続されたリードフレームと、前記半
導体素子及び前記リードフレームの前記半導体素子を実
装する面を被覆するモールド樹脂封止体と、放熱フィン
と、前記放熱フィンの前記リードフレームを搭載する面
に形成され、熱硬化性樹脂からなる絶縁層とを備え、前
記絶縁層は、その上に形成された前記リードフレームの
半導体素子が実装される実装部分を越えて延在する大き
さであり、且つ熱伝導性が前記モールド樹脂封止体より
大きいことを特徴としている。
According to the present invention, there is provided a power semiconductor device having a semiconductor element mounted thereon and a resin-sealed lead frame mounted on a heat radiation fin. Extends over the portion of the lead frame on which the semiconductor element is mounted, and has an insulating layer having a higher thermal conductivity than the resin sealing body. That is, the semiconductor device of the present invention has a semiconductor element having a plurality of power semiconductor elements and a control semiconductor element, a mounting part on which the semiconductor element is mounted, and a lead part for extracting an electric signal from the semiconductor element, And a lead frame electrically connected to the semiconductor element, a molded resin sealing body covering a surface of the semiconductor element and the lead frame on which the semiconductor element is mounted, a radiation fin, and the lead of the radiation fin An insulating layer made of a thermosetting resin formed on a surface on which the frame is mounted, wherein the insulating layer extends beyond a mounting portion on which the semiconductor element of the lead frame formed thereon is mounted. It is characterized in that it is large in size and has higher thermal conductivity than the molded resin sealing body.

【0005】前記絶縁層と前記放熱フィンとの間には放
熱板が介在されているようにしても良い。前記放熱板と
前記放熱フィンとの間にはシリコングリースが介在して
も良い。半導体装置の耐圧が600V以下である場合に
おいて、前記リードフレームの前記半導体素子が実装さ
れる実装部分の端部から前記絶縁層の外周までの距離
は、少なくとも3.5mmであるようにしても良い。前
記絶縁層の熱伝導率は、3W/m・K以上であるように
しても良い。前記絶縁層の厚さは、0.15〜0.30
mmであるようにしても良い。本発明の半導体装置の製
造方法は、複数のパワー半導体素子及び制御半導体素子
を有する半導体素子を実装部分とリード部分とを有する
リードフレームの前記実装部分に搭載させる工程と、前
記半導体素子及び前記リードフレームの前記半導体素子
を実装する面を被覆するようにモールド樹脂封止体を形
成する工程と、放熱フィンのリードフレームを搭載する
面に熱硬化性樹脂からなり、熱伝導性が前記モールド樹
脂封止体より大きく、且つ前記リードフレームの実装部
分を越えて延在する大きさの絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に前記モールド樹脂封止体が形成されてい
るリードフレームを圧着し、その後加熱して前記リード
フレームを前記絶縁層に接着する工程とを備えたことを
特徴としている。
[0005] A heat radiating plate may be interposed between the insulating layer and the heat radiating fins. Silicon grease may be interposed between the heat radiating plate and the heat radiating fins. When the withstand voltage of the semiconductor device is 600 V or less, the distance from the end of the mounting portion of the lead frame where the semiconductor element is mounted to the outer periphery of the insulating layer may be at least 3.5 mm. . The thermal conductivity of the insulating layer may be 3 W / m · K or more. The thickness of the insulating layer is 0.15 to 0.30.
mm. A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of mounting a semiconductor element having a plurality of power semiconductor elements and a control semiconductor element on the mounting part of a lead frame having a mounting part and a lead part; Forming a molding resin sealing body so as to cover the surface of the frame on which the semiconductor element is mounted; and forming a heat-radiating fin on the surface on which the lead frame is mounted, made of a thermosetting resin, and having heat conductivity of the molding resin sealing. Forming an insulating layer having a size larger than the stopper and extending beyond the mounting portion of the lead frame;
A step of pressing a lead frame having the molded resin sealing body formed on the insulating layer, followed by heating to bond the lead frame to the insulating layer.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して発明の実施
の形態を説明する。まず、図1を参照して第1の実施例
を説明する。図1は、電力用半導体装置の断面図及び平
面図である。この実施例に用いるインバータなどの電力
用半導体装置は、例えば、シリコン半導体基板に形成さ
れた複数個のパワー半導体素子102と制御半導体素子
103からなる半導体素子を備えている。また、銅など
の金属もしくはその合金を材料とするリードフレーム1
01は、半導体素子が実装される実装部分と複数の外部
端子101Aからなるリード部分から構成されている。
この実装部分には複数個のパワー半導体素子102及び
制御半導体素子103が実装されている。各パワー半導
体素子102は、その表面に形成された接続電極(図示
しない)を介してAlワイヤ104によりリードフレー
ム101にボンディングされている。制御半導体素子1
03は、その表面に形成された接続電極(図示しない)
を介してAuワイヤ105によりリードフレーム101
にボンディングされている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, a first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view and a plan view of a power semiconductor device. A power semiconductor device such as an inverter used in this embodiment includes, for example, a semiconductor element including a plurality of power semiconductor elements 102 and a control semiconductor element 103 formed on a silicon semiconductor substrate. Further, a lead frame 1 made of a metal such as copper or an alloy thereof is used.
Reference numeral 01 denotes a mounting portion on which a semiconductor element is mounted and a lead portion including a plurality of external terminals 101A.
A plurality of power semiconductor elements 102 and control semiconductor elements 103 are mounted on this mounting portion. Each power semiconductor element 102 is bonded to the lead frame 101 by an Al wire 104 via a connection electrode (not shown) formed on the surface thereof. Control semiconductor element 1
03 is a connection electrode (not shown) formed on the surface
Lead wire 101 by Au wire 105 through
Bonding.

【0007】各接続電極は、半導体素子の内部回路と電
気的に接続されている。リードフレーム101の実装部
分、パワー半導体素子102、制御半導体素子103、
Alワイヤ104、Auワイヤ105は、エポキシ樹脂
やシリコーン樹脂などを材料とするモールド樹脂封止体
106で樹脂封止されている。樹脂封止するには、パワ
ー半導体素子102及び制御半導体素子103を搭載
し、これらの電気的接続をワイヤ104、105で行っ
たリードフレーム101を樹脂金型に挿入し、例えば、
トランスファモールど法などにより樹脂封止を行う。樹
脂封止体106は、2.5〜3mm程度の厚さが有り、
リードフレーム101のリード部分が樹脂封止体106
の底面から露出している。リード部分を構成する外部端
子101Aは、樹脂封止体106から導出したあと、少
し水平を維持してから回路基板に実装するために直角に
上方に折り曲げ成形されている。
Each connection electrode is electrically connected to an internal circuit of the semiconductor device. A mounting portion of a lead frame 101, a power semiconductor element 102, a control semiconductor element 103,
The Al wire 104 and the Au wire 105 are resin-sealed with a mold resin sealing body 106 made of a material such as epoxy resin or silicone resin. To perform resin sealing, the power semiconductor element 102 and the control semiconductor element 103 are mounted, and the lead frame 101 in which these electrical connections are made by wires 104 and 105 is inserted into a resin mold.
Resin sealing is performed by a transfer molding method or the like. The resin sealing body 106 has a thickness of about 2.5 to 3 mm,
The lead portion of the lead frame 101 is a resin sealing body 106
It is exposed from the bottom surface. The external terminal 101A constituting the lead portion is bent upward at a right angle so as to be mounted on a circuit board after being led out of the resin sealing body 106, while keeping a little horizontal.

【0008】図3は、この樹脂封止体を形成する樹脂金
型の一例である。予めタブレット状にしたエポキシ樹脂
などの封止樹脂をぷらんジャで加熱して溶融させる。溶
融した樹脂は、ぷらんジャからランナー、ゲートを経て
上型及び下型を合わせて形成されたキャビティに充填さ
れる。キャビティにはAlワイヤ104及びAuワイヤ
105で電気的に接続された半導体素子102、103
が搭載されたリードフレーム101がセットされてい
る。キャビティに樹脂が充填されてから一定時間で樹脂
を硬化させ、その後金型を開いて樹脂封止型半導体装置
を得る。電力用半導体装置は、半導体装置の動作時に発
生する熱による温度上昇を抑制必要があるので、その底
面に放熱フィンを取り付けて使用される。この実施例で
はAlなどの放熱フィン107のリードフレームを実装
する面に絶縁層108を形成し、その上にリードフレー
ム101を圧着により固定している。
FIG. 3 shows an example of a resin mold for forming the resin sealing body. A sealing resin such as an epoxy resin previously formed into a tablet is heated and melted with a jar. The melted resin is filled into a cavity formed by combining an upper mold and a lower mold through a runner and a gate. Semiconductor elements 102 and 103 electrically connected to the cavities by Al wires 104 and Au wires 105
Is mounted. After the cavity is filled with the resin, the resin is cured for a certain period of time, and then the mold is opened to obtain a resin-sealed semiconductor device. Since it is necessary to suppress a rise in temperature due to heat generated during operation of the semiconductor device, the power semiconductor device is used with a radiation fin attached to a bottom surface thereof. In this embodiment, the insulating layer 108 is formed on the surface of the heat radiation fin 107 such as Al on which the lead frame is mounted, and the lead frame 101 is fixed thereon by crimping.

【0009】図4に示すように、従来のリードフレーム
1のリード部分に構成された外部端子1Aは、半導体装
置の絶縁特性を確保する為、放熱フィン7とは2.5〜
3mm程度離されている。その為、このリードフレーム
1は、半導体素子装着前に成形されて、樹脂封止体6の
側面のほぼ中央から外部端子1Aが導出されるように構
成されている。上記外部端子1Aと放熱フィン7との間
の距離D(この従来例では2.5〜3mm程度)は、そ
の間の樹脂封止体の沿面距離にほぼ等しく、この距離
は、使用条件により電気取扱法等の安全規格で定められ
たものに合わせている。このようなに安全規格は、この
実施例でも十分満足されなければならない。
As shown in FIG. 4, the external terminals 1A formed on the lead portions of the conventional lead frame 1 are 2.5 to 2.5 inches apart from the heat radiation fins 7 in order to secure the insulation characteristics of the semiconductor device.
They are separated by about 3 mm. Therefore, the lead frame 1 is formed before the semiconductor element is mounted, and is configured such that the external terminal 1 </ b> A is led out from substantially the center of the side surface of the resin sealing body 6. The distance D (about 2.5 to 3 mm in this conventional example) between the external terminal 1A and the radiation fins 7 is substantially equal to the creepage distance of the resin sealing body therebetween. It conforms to the ones stipulated by safety standards such as laws. Such safety standards must be sufficiently satisfied in this embodiment.

【0010】そこで、この発明では放熱フィンの実装面
にリードフレーム101の外部端子101Aを除いた当
接部分(実装部分)より大きい絶縁層108を形成し、
この上にリードフレーム101を、絶縁層108がリー
ドフレームの当接部分の端部を延在するように配置する
ことを特徴としている。そして、リードフレーム101
の当節部分端部からこの絶縁層108の外周までの距離
dは、外部端子101Aと放熱フィン107との間の絶
縁性を確保するための距離であり、上記従来例の距離D
と等しいかそれより大きくする必要がある。したがっ
て、このリードフレーム101の当節部分端部から絶縁
層108外周までの距離dは、少なくとも2.5mm、
好ましくは少なくとも3.5mmは必要である。その時
の絶縁層の厚さは0.15〜0.30mm程度が必要で
ある。薄すぎると絶縁性が維持できず、厚いと薄型化が
期待するほど達成されない。
Therefore, in the present invention, an insulating layer 108 which is larger than the contact portion (mounting portion) of the lead frame 101 excluding the external terminal 101A is formed on the mounting surface of the heat radiation fin,
The lead frame 101 is disposed thereon such that the insulating layer 108 extends at the end of the contact portion of the lead frame. Then, the lead frame 101
Is a distance for securing insulation between the external terminal 101A and the radiation fin 107, and is a distance D of the conventional example.
Must be greater than or equal to. Therefore, the distance d from the end of this joint portion of the lead frame 101 to the outer periphery of the insulating layer 108 is at least 2.5 mm,
Preferably at least 3.5 mm is required. At that time, the thickness of the insulating layer needs to be about 0.15 to 0.30 mm. If it is too thin, insulation cannot be maintained, and if it is too thick, thinning cannot be achieved as expected.

【0011】このように、従来絶縁性を縦方向で確保し
ていたのに、この実施例では、横方向で絶縁性を確保す
る結果、樹脂封止体106の厚みは、従来より1/2近
く薄くすることができる。絶縁層108は、熱硬化性樹
脂を材料とし、放熱フィン107の実装面に印刷し、リ
ードフレーム101を搭載してから、これを加熱圧着す
ることにより、リードフレームの放熱フィンへの取り付
けと絶縁層の形成を同時に行うことができる。ネジ止め
をする必要がないので、半導体装置の取り付け穴が不要
になり、その結果小形化が可能になる。また、この絶縁
層は、熱伝導率が3W/m・K以上の材料を使用する。
したがって、モールド樹脂封止体は、0.3W/m・K
程度の熱伝導率の低い材料を用いることができ、アルミ
ナなどのフィラーを多く入れる必要がなくなる。絶縁層
はエポキシ樹脂などを用いるが、樹脂封止体と同じ材料
を用いる必要はない。
As described above, although the insulation is conventionally secured in the vertical direction, in the present embodiment, the insulation is secured in the horizontal direction. Can be made thinner nearby. The insulating layer 108 is made of a thermosetting resin, printed on the mounting surface of the radiating fins 107, mounted with the lead frame 101, and then heat-pressed to attach and insulate the lead frame to the radiating fins. The formation of the layers can be performed simultaneously. Since there is no need for screwing, mounting holes for the semiconductor device become unnecessary, and as a result, downsizing becomes possible. The insulating layer uses a material having a thermal conductivity of 3 W / m · K or more.
Therefore, the molded resin sealing body is 0.3 W / m · K
A material having a low thermal conductivity can be used, and it is not necessary to add a large amount of filler such as alumina. Although the insulating layer uses an epoxy resin or the like, it is not necessary to use the same material as the resin sealing body.

【0012】次に、図2を参照して第2の実施例を説明
する。図2は、電力用半導体装置の断面図及び平面図で
ある。この実施例に用いるインバータなどの電力用半導
体装置は、例えば、シリコン半導体基板に形成された複
数個のパワー半導体素子202と制御半導体素子203
からなる半導体素子を備えている。また、銅などの金属
もしくはその合金を材料とするリードフレーム201
は、半導体素子が実装される実装部分と複数の外部端子
201Aからなるリード部分から構成されている。この
実装部分には複数個のパワー半導体素子202及び制御
半導体素子203が実装されている。各パワー半導体素
子202は、その表面に形成された接続電極(図示しな
い)を介してAlワイヤ204によりリードフレーム2
01にボンディングされている。制御半導体素子203
はその表面に形成された接続電極(図示しない)を介し
てAuワイヤ205によりリードフレーム201にボン
ディングされている。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view and a plan view of the power semiconductor device. A power semiconductor device such as an inverter used in this embodiment includes, for example, a plurality of power semiconductor elements 202 and a control semiconductor element 203 formed on a silicon semiconductor substrate.
And a semiconductor element comprising: Further, a lead frame 201 made of a metal such as copper or an alloy thereof is used.
Is composed of a mounting portion on which a semiconductor element is mounted and a lead portion including a plurality of external terminals 201A. A plurality of power semiconductor elements 202 and control semiconductor elements 203 are mounted on this mounting portion. Each power semiconductor element 202 is connected to a lead frame 2 by an Al wire 204 via a connection electrode (not shown) formed on the surface thereof.
01 is bonded. Control semiconductor element 203
Is bonded to the lead frame 201 by an Au wire 205 via a connection electrode (not shown) formed on the surface thereof.

【0013】各接続電極は、半導体素子の内部回路と電
気的に接続されている。リードフレーム201の実装部
分、パワー半導体素子202、制御半導体素子203、
Alワイヤ204、Auワイヤ205は、エポキシ樹脂
やシリコーン樹脂などを材料とするモールド樹脂封止体
206で樹脂封止されている。樹脂封止するには、パワ
ー半導体素子202及び制御半導体素子203を搭載
し、これらの電気的接続をワイヤ204、205で行っ
たリードフレーム201を樹脂金型に挿入し、例えば、
トランスファモールど法などにより樹脂封止を行う。樹
脂封止体206は、2.5〜3mm程度の厚さが有り、
リードフレーム201のリード部分が樹脂封止体206
の底面から露出している。リード部分を構成する外部端
子201Aは、樹脂封止体206から導出したあと、少
し水平を維持してから回路基板に実装するために直角に
上方に折り曲げ成形されている。
Each connection electrode is electrically connected to an internal circuit of the semiconductor element. A mounting portion of a lead frame 201, a power semiconductor element 202, a control semiconductor element 203,
The Al wire 204 and the Au wire 205 are resin-sealed with a mold resin sealing body 206 made of epoxy resin, silicone resin, or the like. In order to perform resin sealing, a power semiconductor element 202 and a control semiconductor element 203 are mounted, and a lead frame 201 in which these electrical connections are made by wires 204 and 205 is inserted into a resin mold.
Resin sealing is performed by a transfer molding method or the like. The resin sealing body 206 has a thickness of about 2.5 to 3 mm,
The lead portion of the lead frame 201 is
It is exposed from the bottom surface. The external terminal 201A constituting the lead portion is bent upward at a right angle so as to be mounted on a circuit board after being led out from the resin sealing body 206, while maintaining a little horizontal state.

【0014】電力用半導体装置は、半導体装置の動作時
に発生する熱による温度上昇を抑制必要があるので、そ
の底面に放熱フィンを取り付けて使用される。この実施
例ではAlなどの放熱フィン207の上にAlなどの放
熱板210を形成し、放熱フィン207のリードフレー
ムを実装する面に絶縁層208を形成し、その上にリー
ドフレーム201を圧着により固定している。前述のよ
うに、図4に示す従来のリードフレーム1のリード部分
に構成された外部端子1Aは、半導体装置の絶縁特性を
確保する為、放熱フィン7とは2.5〜3.5mm程度
離されている。その為、このリードフレーム1は、半導
体素子装着前に成形されて、樹脂封止体6の側面のほぼ
中央から外部端子1Aが導出されるように構成されてい
る。上記外部端子1Aと放熱フィン7との間の距離D
は、その間の樹脂封止体の沿面距離にほぼ等しく、この
距離は、使用条件により電気取扱法等の安全規格で定め
られたものに合わせている。このようなに安全規格は、
この実施例でも十分満足されなければならない。
Since it is necessary to suppress a rise in temperature due to heat generated during operation of the semiconductor device, the power semiconductor device is used with a radiation fin attached to the bottom thereof. In this embodiment, a heat radiating plate 210 made of Al or the like is formed on a heat radiating fin 207 made of Al or the like, an insulating layer 208 is formed on a surface of the heat radiating fin 207 on which a lead frame is mounted, and the lead frame 201 is crimped thereon. It is fixed. As described above, the external terminal 1A formed at the lead portion of the conventional lead frame 1 shown in FIG. 4 is separated from the heat radiation fin 7 by about 2.5 to 3.5 mm in order to secure the insulation characteristics of the semiconductor device. Have been. Therefore, the lead frame 1 is formed before the semiconductor element is mounted, and is configured such that the external terminal 1 </ b> A is led out from substantially the center of the side surface of the resin sealing body 6. Distance D between external terminal 1A and radiation fin 7
Is approximately equal to the creepage distance of the resin sealing body therebetween, and this distance is set according to the safety conditions such as the electric handling method depending on the use conditions. Such safety standards are
This embodiment must also be fully satisfied.

【0015】そこで、この実施例では放熱板210の実
装面にリードフレーム201の外部端子201Aを除い
た当接部分(実装部分)より大きい絶縁層208を形成
し、この上にリードフレーム201を、絶縁層208が
リードフレームの当接部分の端部を延在するように配置
することを特徴としている。そして、リードフレーム2
01の当節部分端部からこの絶縁層208の外周までの
距離dは、外部端子201Aと放熱板210との間の絶
縁性を確保するための距離であり、上記従来例の距離D
と等しいかそれより大きくする必要がある。したがっ
て、このリードフレーム201の当節部分端部から絶縁
層208外周までの距離dは、少なくとも2.5mm、
好ましくは少なくとも3.5mmは必要である。その時
の絶縁層の厚さは0.15〜0.30mm程度が必要で
ある。薄すぎると絶縁性が維持できず、厚いと薄型化が
期待するほど達成されない。
Therefore, in this embodiment, an insulating layer 208 is formed on the mounting surface of the heat radiating plate 210, which is larger than the contact portion (mounting portion) except for the external terminals 201A of the lead frame 201, and the lead frame 201 is formed thereon. It is characterized in that the insulating layer 208 is arranged so as to extend the end of the contact portion of the lead frame. And lead frame 2
The distance d from the end of this section to the outer periphery of the insulating layer 208 is a distance for securing insulation between the external terminal 201A and the heat sink 210, and is the distance D of the conventional example.
Must be greater than or equal to. Therefore, the distance d from the end of this joint portion of the lead frame 201 to the outer periphery of the insulating layer 208 is at least 2.5 mm,
Preferably at least 3.5 mm is required. At that time, the thickness of the insulating layer needs to be about 0.15 to 0.30 mm. If it is too thin, insulation cannot be maintained, and if it is too thick, thinning cannot be achieved as expected.

【0016】このように、従来絶縁性を縦方向で確保し
ていたのに、この実施例では、横方向で絶縁性を確保す
る結果、樹脂封止体206の厚みは、従来より1/2近
く薄くすることができる。絶縁層208は、熱硬化性樹
脂を材料とし、放熱板210の実装面に印刷し、リード
フレーム201を搭載してから、これを加熱圧着するこ
とにより、リードフレームの放熱板への取り付けと絶縁
層の形成を同時に行うことができる。また、この絶縁層
は、熱伝導率が3W/m・K以上の材料を使用する。し
たがって、モールド樹脂封止体は、0.3W/m・K程
度の熱伝導率の低い材料を用いることができ、アルミナ
などのフィラーを多く入れる必要がなくなる。絶縁層は
エポキシ樹脂などを用いるが、樹脂封止体と同じ材料を
用いる必要はない。
As described above, although the insulation is conventionally secured in the vertical direction, in the present embodiment, the insulation in the horizontal direction is secured, and as a result, the thickness of the resin sealing body 206 is reduced by half compared to the conventional case. Can be made thinner nearby. The insulating layer 208 is made of a thermosetting resin, printed on the mounting surface of the heat radiating plate 210, mounted with the lead frame 201, and then heat-pressed to attach the lead frame to the heat radiating plate and insulate it. The formation of the layers can be performed simultaneously. The insulating layer uses a material having a thermal conductivity of 3 W / m · K or more. Therefore, a material having a low thermal conductivity of about 0.3 W / m · K can be used for the molded resin sealing body, and it is not necessary to insert a large amount of filler such as alumina. Although the insulating layer uses an epoxy resin or the like, it is not necessary to use the same material as the resin sealing body.

【0017】放熱板210は、シリコングリース209
を介して放熱フィン207に搭載され、放熱フィン20
7へのネジ止め用取付け穴210Aを放熱板210に形
成してこれを放熱フィン207に取り付ける。この実施
例では、このように構成したので、第1の実施例と同じ
効果に加えて、放熱フィンの形状を自由に選択すること
が可能になり、ユーザのこの半導体装置のアセンブリ時
の配置などの自由度が向上する。
The heat radiating plate 210 is made of silicon grease 209.
Is mounted on the radiation fin 207 via the
A mounting hole 210 </ b> A for screwing into the heat radiating plate 210 is formed on the heat radiating plate 210, and this is mounted on the heat radiating fin 207. In this embodiment, since the configuration is made as described above, in addition to the same effects as those of the first embodiment, the shape of the heat radiation fins can be freely selected, and the user can arrange the semiconductor device at the time of assembly. The degree of freedom is improved.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、従来に
比べ、外部端子と放熱フィンとの絶縁距離を確保し、且
つ放熱性に優れた薄型半導体装置を得ることが可能にな
る。しかも、放熱フィンへの取り付け穴が不要にするこ
とができるので、半導体装置の小型化が可能となる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a thin semiconductor device which secures an insulating distance between an external terminal and a heat radiating fin and has excellent heat radiating properties as compared with the prior art. In addition, since a mounting hole for the radiation fin can be eliminated, the size of the semiconductor device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の半導体装置の断面図及
び平面図。
FIG. 1 is a sectional view and a plan view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例の半導体装置の断面図及
び平面図。
FIG. 2 is a sectional view and a plan view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明において実施される樹脂封止を行う樹脂
金型の断面図。
FIG. 3 is a sectional view of a resin mold for performing resin sealing performed in the present invention.

【図4】従来の半導体装置の断面図及び平面図。FIG. 4 is a cross-sectional view and a plan view of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、101、201・・・リードフレーム、1A、10
1A、201A・・・外部端子、2、102、202・
・・パワー半導体素子、3、103、203・・・制御
半導体素子、4、104、201・・・Alワイヤ、
5、105、205・・・Auワイヤ、6、106、2
06・・・樹脂封止体、6A、210A・・・取付け
穴、 7、107、207・・・放熱フィン、9、20
9・・・シリコングリース、 108、208・・・
絶縁層、210・・・放熱板。
1, 101, 201 ... lead frame, 1A, 10
1A, 201A ... external terminal, 2, 102, 202
..Power semiconductor elements, 3, 103, 203 ... control semiconductor elements, 4, 104, 201 ... Al wires,
5, 105, 205 ... Au wire, 6, 106, 2
06: resin sealing body, 6A, 210A: mounting hole, 7, 107, 207: radiation fin, 9, 20
9 ... silicon grease, 108, 208 ...
Insulating layer, 210: heat sink.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のパワー半導体素子及び制御半導体
素子を有する半導体素子と、 前記半導体素子が実装された実装部分及び前記半導体素
子からの電気的信号を取り出すリード部分を有し、且つ
前記半導体素子と電気的に接続されたリードフレーム
と、 前記半導体素子及び前記リードフレームの前記半導体素
子を実装する面を被覆するモールド樹脂封止体と、 放熱フィンと、 前記放熱フィンの前記リードフレームを搭載する面に形
成され、熱硬化性樹脂からなる絶縁層とを備え、 前記絶縁層は、その上に形成された前記リードフレーム
の半導体素子が実装される実装部分を越えて延在する大
きさであり、且つ熱伝導性が前記モールド樹脂封止体よ
り大きいことを特徴とする半導体装置。
A semiconductor element having a plurality of power semiconductor elements and a control semiconductor element; a mounting part on which the semiconductor element is mounted; and a lead part for extracting an electric signal from the semiconductor element, and the semiconductor element. A lead frame electrically connected to the semiconductor chip, a molded resin sealing body for covering the semiconductor element and a surface of the lead frame on which the semiconductor element is mounted, a radiator fin, and the lead frame of the radiator fin. And an insulating layer formed of a thermosetting resin, the insulating layer having a size extending beyond a mounting portion on which the semiconductor element of the lead frame formed thereon is mounted. A semiconductor device having thermal conductivity higher than that of the molded resin sealing body.
【請求項2】 前記絶縁層と前記放熱フィンとの間には
放熱板が介在されていることを特徴とする請求項1に記
載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a heat radiating plate is interposed between said insulating layer and said heat radiating fin.
【請求項3】 前記放熱板と前記放熱フィンとの間には
シリコングリースが介在していることを特徴とする請求
項2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein silicon grease is interposed between said heat radiating plate and said heat radiating fins.
【請求項4】 半導体装置の耐圧が600V以下である
場合において、前記リードフレームの前記半導体素子が
実装される実装部分の端部から前記絶縁層の外周までの
距離は、少なくとも3.5mmであることを特徴とする
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置。
4. When the withstand voltage of the semiconductor device is 600 V or less, a distance from an end of a mounting portion of the lead frame on which the semiconductor element is mounted to an outer periphery of the insulating layer is at least 3.5 mm. 4. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項5】 前記絶縁層の熱伝導率は、3W/m・K
以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のい
ずれかに記載の半導体装置。
5. The thermal conductivity of the insulating layer is 3 W / m · K.
The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記絶縁層の厚さは、0.15〜0.3
0mmであることを特徴とする請求項1乃至請求項5の
いずれかに記載の半導体装置。
6. The insulating layer has a thickness of 0.15 to 0.3.
The semiconductor device according to claim 1, wherein the distance is 0 mm.
【請求項7】 複数のパワー半導体素子及び制御半導体
素子を有する半導体素子を実装部分とリード部分とを有
するリードフレームの前記実装部分に搭載させる工程
と、前記半導体素子及び前記リードフレームの前記半導
体素子を実装する面を被覆するようにモールド樹脂封止
体を形成する工程と、 放熱フィンのリードフレームを搭載する面に熱硬化性樹
脂からなり、熱伝導性が前記モールド樹脂封止体より大
きく、且つ前記リードフレームの実装部分を越えて延在
する大きさの絶縁層を形成する工程と、 前記絶縁層上に前記モールド樹脂封止体が形成されてい
るリードフレームを圧着し、その後加熱して前記リード
フレームを前記絶縁層に接着する工程とを備えたことを
特徴とする半導体装置の製造方法。
7. A step of mounting a semiconductor element having a plurality of power semiconductor elements and a control semiconductor element on the mounting part of a lead frame having a mounting part and a lead part, and the semiconductor element and the semiconductor element of the lead frame. A step of forming a molded resin sealing body so as to cover the surface on which is to be mounted, and a heat-radiating fin made of a thermosetting resin on the surface on which the lead frame is mounted, and having higher thermal conductivity than the molding resin sealed body, And a step of forming an insulating layer having a size extending beyond the mounting portion of the lead frame; and crimping the lead frame on which the molded resin sealing body is formed on the insulating layer, and then heating the lead frame. Bonding the lead frame to the insulating layer.
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