JP2002110760A - Load port for open cassette - Google Patents

Load port for open cassette

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JP2002110760A
JP2002110760A JP2000289340A JP2000289340A JP2002110760A JP 2002110760 A JP2002110760 A JP 2002110760A JP 2000289340 A JP2000289340 A JP 2000289340A JP 2000289340 A JP2000289340 A JP 2000289340A JP 2002110760 A JP2002110760 A JP 2002110760A
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JP
Japan
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mounting table
door
open cassette
load port
clean room
Prior art date
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JP2000289340A
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Japanese (ja)
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Takeshi Sasaki
武 佐々木
Kazutoshi Sawato
一利 澤戸
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Applied Materials Inc
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Applied Materials Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve worker safety of workers in a clean room. SOLUTION: This load port 1 comprises a mounting stage 7 for receiving and placing an open cassette 6 in which a wafer W is loaded, which is arranged in the clean room 2, a door 13 for opening/closing so as to separate the placement stage 7 from the clean room 2, and a down-flow supply means 14 for supplying air flow to cause it to flow down around the placement stage 7, and the door 13 is provided in an vertically openable way and a driving device 16 for the door 13 is arranged under the mounting stage 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、クリーンルーム
内に配備されて、該クリーンルーム内を搬送されてきた
オープンカセットを受け取るとともに、該オープンカセ
ット内に装填されているウェハを、メインフレームに供
給するためのマニピュレータに引き渡すオープンカセッ
ト用ロードポートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is provided for receiving an open cassette provided in a clean room and conveyed in the clean room, and supplying a wafer loaded in the open cassette to a main frame. And a load port for an open cassette delivered to a manipulator.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウェハをメインフレームに供給する方法
としては、オープンカセットを用いる方法と密閉された
ボックス式カセットを用いる方法とがある。従来、我国
では、200mmウェハをメインフレームに供給する方
法としてオープンカセットを用いる方法が主として採用
されてきた。
2. Description of the Related Art As a method of supplying a wafer to a main frame, there are a method using an open cassette and a method using a closed box type cassette. Conventionally, in Japan, a method using an open cassette has been mainly adopted as a method for supplying a 200 mm wafer to a main frame.

【0003】この方法では、マニピュレータを備えたロ
ボット室と一体的に形成された開放式のロードポートを
使用している。すなわち、ロードロックを介してメイン
フレームに接続されたロボット室およびロードポート
は、一体としてクリーンルーム内に配置されることによ
り、ウェハの周囲の空気清浄度を高く保持するようにな
っている。そして、クリーンルーム内を走行する無人搬
送車(以下、AGVと呼ぶ。)によって運ばれてきたオ
ープンカセットがロードポートに引き渡されると、マニ
ピュレータの作動によってオープンカセットからウェハ
が引き出されて、メインフレームに供給されるようにな
っていた。
In this method, an open load port formed integrally with a robot room having a manipulator is used. That is, the robot room and the load port connected to the main frame via the load lock are integrally disposed in the clean room, so that the air cleanness around the wafer is kept high. When an open cassette carried by an automatic guided vehicle (hereinafter, referred to as an AGV) traveling in a clean room is delivered to a load port, a wafer is pulled out of the open cassette by the operation of the manipulator and supplied to the main frame. Was to be done.

【0004】一方、ボックス式カセットを用いる方法
は、近年、300mmウェハを供給する方法として、海
外で主流となっている。この方法は、密封されたボック
ス式カセット内に多数のウェハを収容し、カセット内を
高清浄度に保持するもので、FOUP方式として海外で
は業界標準となっている。
On the other hand, the method using a box type cassette has recently become the mainstream overseas for supplying 300 mm wafers. This method accommodates a large number of wafers in a sealed box-type cassette and maintains the inside of the cassette with high cleanliness, and has become an industry standard overseas as the FOUP method.

【0005】すなわち、FOUP方式は、それ自体で高
清浄度に保たれたカセットを使用し、同じく空気清浄度
が高く維持されたロボット室にカセットを連結した後
に、両者間の隔壁を開いて、ロボット室内のマニピュレ
ータによりカセット内のウェハを取り出す方法である。
この方法によれば、密封されたカセットによってウェハ
周囲の空気の清浄度が高く保たれるので、カセットを搬
送する環境を高清浄度のクリーンルームとする必要がな
く、例えば、高速の搬送手段である天井走行機構を利用
できるという利点がある。
In other words, the FOUP system uses a cassette which is kept highly clean by itself, connects the cassette to a robot room which is also kept highly air-clean, and then opens a partition between the two. This is a method in which a wafer in a cassette is taken out by a manipulator in a robot room.
According to this method, the cleanness of the air around the wafer is kept high by the sealed cassette, so that the environment for transporting the cassette does not need to be a clean room with high cleanliness. There is an advantage that an overhead traveling mechanism can be used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、FOU
P方式では、カセット内部を高清浄度に保つ必要がある
ために、該カセットの開閉機構が複雑で高価なものとな
り、また、カセットの開閉時に塵埃が発生すること、さ
らには、カセット自体の洗浄が困難である等の問題があ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION However, FOU
In the P method, since the inside of the cassette needs to be kept at a high degree of cleanliness, the mechanism for opening and closing the cassette is complicated and expensive, and dust is generated when the cassette is opened and closed. Is difficult.

【0007】また、FOUP方式では、上述したよう
に、密封式のカセットを用いてウェハを搬送するため、
ウェハを取り扱うマニピュレータが備えられたロボット
室以降の空気清浄度を高く維持しておけば足りる。この
ために、メインフレームからロボット室までが1つのユ
ニットとして提供される。
In the FOUP system, as described above, since wafers are transported using a sealed cassette,
It is sufficient to maintain high air cleanliness after the robot room equipped with a manipulator for handling wafers. For this purpose, the components from the main frame to the robot room are provided as one unit.

【0008】しかしながら、従来より200mmウェハ
供給用にオープンカセットを採用してきた我国の企業に
おいては、既に、ウェハを搬送する環境としてクリーン
ルームが設置されており、この設備を利用するために、
300mmウェハに対してもオープンカセットによるウ
ェハの供給方法を踏襲することが望まれる場合もある。
この場合に、ロボット室までのユニットとして提供され
るメインフレームに対しても、オープンカセットによる
供給方法を採用できることが必要となる。
However, in a Japanese company that has conventionally adopted an open cassette for supplying 200 mm wafers, a clean room has already been set up as an environment for transferring wafers.
In some cases, it is desirable to follow the method of supplying wafers using an open cassette even for 300 mm wafers.
In this case, it is necessary that the supply method using the open cassette can be adopted for the main frame provided as a unit up to the robot room.

【0009】また、クリーンルーム内からオープンカセ
ットを供給する方式を採用する場合には、クリーンルー
ム内の作業者が、オープンカセットを供給する際に、ロ
ボット室のマニピュレータと干渉しないように安全対策
を施す必要がある。この場合に、光学式センサを用いて
マニピュレータの動作領域への作業者の進入を検知し
て、システムを停止し、または、警報を発する手段も考
えられるが、最も安全性が高いと考えられているのは、
マニピュレータの動作領域への作業者の進入を機械的に
遮断することである。
In the case of adopting a method of supplying an open cassette from the clean room, it is necessary for a worker in the clean room to take safety measures so as not to interfere with the manipulator in the robot room when supplying the open cassette. There is. In this case, it is possible to use an optical sensor to detect the worker's entry into the operation area of the manipulator, stop the system, or issue a warning, but it is considered that the safety is the highest. What is
The purpose is to mechanically block an operator from entering the operation area of the manipulator.

【0010】しかしながら、ドアによって機械的に進入
経路を遮断する方法を採用する場合には、該ドアを駆動
する機構部から塵埃が生じ、その塵埃がオープンカセッ
ト内のウェハに付着する不都合がある。
[0010] However, when a method of mechanically blocking the approach path by the door is employed, dust is generated from a mechanism for driving the door, and the dust adheres to the wafer in the open cassette.

【0011】この発明は、上述した事情に鑑みてなされ
たものであって、FOUP方式用に設計されたメインフ
レームに対して、オープンカセットを用いたウェハの供
給を可能とし、クリーンルーム内の作業者の安全を機械
的な手段によって確保しながら、ウェハへの塵埃の付着
を回避することができるロードポートを提供することを
目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables the supply of wafers using an open cassette to a main frame designed for a FOUP system, thereby enabling a worker in a clean room It is an object of the present invention to provide a load port capable of avoiding the adhesion of dust to a wafer while ensuring the safety of the wafer by mechanical means.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、メインフレームにウェハを供給するマ
ニピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーン
ルーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハ
を前記マニピュレータに引き渡すロードポートであっ
て、前記クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填し
たオープンカセットを受け取って載置する載置台と、該
載置台を前記クリーンルームに対して離隔するように開
閉されるドアと、前記載置台の周囲に下降する空気流を
供給する下降流供給手段とを具備するとともに、前記ド
アが上下方向に開閉可能に設けられ、該ドアの駆動装置
が前記載置台の下方に配置されているオープンカセット
用ロードポートを提案している。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a wafer in an open cassette which is connected to a robot room having a manipulator for supplying a wafer to a main frame and has been transported in a clean room. A load port that is disposed in the clean room, receives and places an open cassette loaded with wafers, and is opened and closed so as to separate the mounting table from the clean room. A door and a downflow supply means for supplying an airflow descending around the mounting table are provided, and the door is provided so as to be openable and closable in a vertical direction, and a driving device for the door is provided below the mounting table. It proposes a load port for the placed open cassette.

【0013】また、上記ロードポートにおいては、駆動
装置が、前記載置台の下方において上下方向に往復移動
させられるスライダを具備し、前記ドアが前記スライダ
に取り付けられていることとすればよい。
In the above-described load port, the driving device may include a slider that is vertically reciprocated below the mounting table, and the door may be attached to the slider.

【0014】[0014]

【作用】本発明に係るオープンカセット用ロードポート
によれば、ロボット室に接続した載置台をクリーンルー
ム内に配置し、クリーンルーム内を搬送されてくるオー
プンカセットを載置台上に載置することにより、ロボッ
ト室内のマニピュレータが載置台上に載置されたオープ
ンカセットからウェハを取り出すことができる。これに
より、ロボット室まで1つのユニットとして提供される
メインフレームに対しても、オープンカセットによるウ
ェハの供給が可能となる。
According to the load port for an open cassette according to the present invention, the mounting table connected to the robot room is arranged in the clean room, and the open cassette conveyed in the clean room is mounted on the mounting table. The manipulator in the robot room can take out the wafer from the open cassette mounted on the mounting table. As a result, it is possible to supply the wafer by the open cassette to the main frame provided as one unit to the robot room.

【0015】載置台をクリーンルームに対して離隔する
ように開閉する前側ドアが設けられているので、マニピ
ュレータによるウェハの取り出し作業中は、前側ドアを
閉じておくことにより、作業者が、不注意でマニピュレ
ータの動作領域に進入する事故を確実に防止することが
できる。
A front door that opens and closes the mounting table so as to be separated from the clean room is provided. When the manipulator takes out the wafer, the front door is closed so that the worker can be inadvertently operated. An accident that enters the operation area of the manipulator can be reliably prevented.

【0016】また、載置台の周囲に下降する空気流を形
成する下降流供給手段が設けられるとともに、ドアの駆
動装置は載置台の下方に配置されているので、駆動装置
の作動により生じた塵埃は、下降する空気流により載置
台の上方に舞い上げられることなく、下方に押し流され
ることになる。したがって、塵埃がウェハに付着する不
都合を回避することができる。
Further, a downflow supply means for forming an airflow descending around the mounting table is provided, and the door driving device is disposed below the mounting table, so that dust generated by the operation of the driving device is provided. Is swept downward without being sowed above the mounting table by the descending airflow. Therefore, it is possible to avoid the problem that dust adheres to the wafer.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るロードポート
の一実施形態について、図面を参照して説明する。この
実施形態に係るロードポート1は、図1に示されるよう
に、クリーンルーム2の一壁面3に開口するように配置
されたロボット室4に接続するためのインタフェース部
5を具備する箱状の装置であって、その高さ方向の中央
付近に、ウェハWを装填したオープンカセット6を受け
取る載置台7を具備している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a load port according to the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the load port 1 according to this embodiment is a box-shaped device including an interface unit 5 for connecting to a robot room 4 arranged so as to open on one wall surface 3 of a clean room 2. In the vicinity of the center in the height direction, there is provided a mounting table 7 for receiving the open cassette 6 loaded with the wafer W.

【0018】前記載置台7は、水平に配置され、載置さ
れるオープンカセット6を位置決めする突起のような位
置決め手段(図示せず)が設けられている。この載置台
7の周囲には、ロボット室4側に配される後壁部8のみ
が配置され、前面および両側面には側壁がなく広い開口
部9が確保されている。
The mounting table 7 is horizontally arranged and provided with positioning means (not shown) such as a projection for positioning the open cassette 6 to be mounted. Around the mounting table 7, only a rear wall portion 8 arranged on the robot room 4 side is arranged, and a wide opening 9 without a side wall is secured on the front surface and both side surfaces.

【0019】前記後壁部8には、図2示されるように、
ロボット室4に接続し、該ロボット室4内のマニピュレ
ータ10が載置台7上のオープンカセット6からウェハ
Wを取り出すために出入り可能な窓部11が形成されて
いる。そして、この窓部11には、載置台7の下方から
昇降させられて、該窓部11を開閉する後側ドア12が
設けられている。また、前記インタフェース部5は、こ
の後壁部8の背面に設けられている。
As shown in FIG. 2, on the rear wall portion 8,
A window 11 is formed which is connected to the robot chamber 4 and through which a manipulator 10 in the robot chamber 4 can take in and out the wafer W from the open cassette 6 on the mounting table 7. The window 11 is provided with a rear door 12 that is moved up and down from below the mounting table 7 to open and close the window 11. Further, the interface section 5 is provided on the back surface of the rear wall section 8.

【0020】この後壁部8の上端部には、前記載置台7
の上方に、オープンカセット6を受け入れ可能なスペー
スを開けて載置台7と平行に配置される天井部23が、
片持ち梁状に設けられている。この天井部23には、下
降する空気流を載置台7の周辺に流通させるための下降
流供給手段14が設けられている。本実施形態では、下
降流供給手段14は、例えば、グリッドであって、クリ
ーンルーム2の天井から供給されている下降空気流を通
過させて、載置台7に載置されているオープンカセット
6の周囲に供給することができるようになっている。な
お、ロードポート1をフラッシュマウント方式で設置す
る場合には、このグリッドに代えて、独自に下降流を発
生させるファンと、該ファンの下方に配置されるフィル
タとを設けることにしてもよい。
At the upper end of the rear wall portion 8, the mounting table 7
Above the ceiling 23, a ceiling 23 arranged in parallel with the mounting table 7 with an open space for receiving the open cassette 6 is provided.
It is provided in a cantilever shape. The ceiling portion 23 is provided with a downward flow supply unit 14 for flowing a downward airflow around the mounting table 7. In the present embodiment, the descending flow supply unit 14 is, for example, a grid, which allows the descending air flow supplied from the ceiling of the clean room 2 to pass therethrough, and surrounds the open cassette 6 placed on the placing table 7. It can be supplied to. When the load port 1 is installed by the flush mount method, a fan that independently generates a downward flow and a filter disposed below the fan may be provided instead of the grid.

【0021】また、前記載置台7の前面および両側面に
は、該載置台7の下方から昇降させられて、該載置台7
の周囲を開閉する前側ドア13が設けられている。この
前側ドア13は、図2に示す例では、前面および両側面
を同時に開閉する断面略U字状に形成されている。すな
わち、載置台7の前面および両側面の広い開口部9は、
載置台7の下方に配置されている前側ドア13を上昇さ
せることにより、同時に閉鎖されるように構成されてい
る。
The mounting table 7 is moved up and down from below the mounting table 7 on the front surface and both side surfaces of the mounting table 7.
A front door 13 that opens and closes the periphery of the vehicle is provided. In the example shown in FIG. 2, the front door 13 is formed in a substantially U-shaped cross-section that opens and closes the front surface and both side surfaces simultaneously. That is, the wide opening 9 on the front surface and both side surfaces of the mounting table 7
By raising the front door 13 disposed below the mounting table 7, the front door 13 is simultaneously closed.

【0022】前側ドア13の駆動装置16は、図3に示
されるように、左右に配置され上下に延びる2本のリニ
アガイド17および1本のボールネジ18と、前記リニ
アガイド17およびボールネジ18のナット19,20
にそれぞれ取り付けられたスライダ21と、ボールネジ
18を回転させるモータ22と、該モータ22とボール
ネジ18との間に配置されたトルクリミッタ23とを具
備している。これらの構成部品は全て、常に載置台7の
下方に配置されており、前側ドア13の下端部が、前記
スライダ21に固定されている。後側ドア12の駆動装
置(図示略)も、前側ドア13の駆動装置16と同様
に、載置台7の下方に配置されている。
As shown in FIG. 3, the driving device 16 for the front door 13 includes two linear guides 17 and one ball screw 18 which are arranged on the left and right and extend vertically, and a nut for the linear guide 17 and the ball screw 18. 19, 20
, A motor 22 for rotating the ball screw 18, and a torque limiter 23 disposed between the motor 22 and the ball screw 18. All of these components are always arranged below the mounting table 7, and the lower end of the front door 13 is fixed to the slider 21. The driving device (not shown) for the rear door 12 is also disposed below the mounting table 7, similarly to the driving device 16 for the front door 13.

【0023】これら前側ドア13および後側ドア12に
は、両方が同時に開かれることのないようにインターロ
ックがかけられている。すなわち、前側ドア13が開か
れて、AGV25または作業者が、オープンカセット6
を載置台7上に載置する作業をしているときには、後側
ドア12が必ず閉じられていて、ロボット室4内のマニ
ピュレータ10が載置台7の方向に進行してこないよう
になっている。
The front door 13 and the rear door 12 are interlocked so that they are not opened simultaneously. That is, the front door 13 is opened, and the AGV 25 or the operator
When the robot is mounted on the mounting table 7, the rear door 12 is always closed, so that the manipulator 10 in the robot chamber 4 does not move toward the mounting table 7. .

【0024】また、前記前側ドア13および後側ドア1
2も、前記下降流供給手段14の一部を構成している。
すなわち、これらのドア12,13を閉じておくことに
より、載置台7上のオープンカセット6の周囲に流路を
画定し、供給される下降流をオープンカセット6の周囲
で乱さないようにすることができる。
The front door 13 and the rear door 1
2 also constitutes a part of the downward flow supply means 14.
That is, by closing these doors 12 and 13, a flow path is defined around the open cassette 6 on the mounting table 7 so that the supplied downward flow is not disturbed around the open cassette 6. Can be.

【0025】さらに、本実施形態に係るロードポート1
には、前記後側ドア12に光学的センサ15(安全装
置)が取り付けられている。このセンサ15は、前記後
側ドア12により開閉される窓部11の中央部を上下に
横切る光線Aを形成するように配置された一対の発光部
15aと受光部15bとを有しており、この光線Aを横
切る物体を検知することができるようになっている。
Further, the load port 1 according to the present embodiment
, An optical sensor 15 (safety device) is attached to the rear door 12. The sensor 15 has a pair of light emitting units 15a and light receiving units 15b arranged so as to form a light beam A that crosses the center of the window 11 opened and closed by the rear door 12 vertically. An object that crosses the light beam A can be detected.

【0026】このように構成された本実施形態に係るロ
ードポート1の作用について、以下に説明する。本実施
形態に係るロードポート1は、図2に示されるように、
クリーンルーム2内に配置され、その後壁部8のインタ
フェース5を用いて、クリーンルーム2の一壁面3に開
口して配置されているロボット室4に接続される。これ
により、ロボット室4内のマニピュレータ10が、後壁
部8の窓部11を介して、ロードポート1の載置台7ま
で伸び、該載置台7上に載置されているオープンカセッ
ト6内のウェハWを取り出すことが可能となる。
The operation of the thus configured load port 1 according to the present embodiment will be described below. The load port 1 according to the present embodiment, as shown in FIG.
It is arranged in the clean room 2, and thereafter connected to the robot room 4 which is opened and arranged on one wall surface 3 of the clean room 2 by using the interface 5 of the wall portion 8. Thereby, the manipulator 10 in the robot room 4 extends to the mounting table 7 of the load port 1 through the window 11 of the rear wall 8, and the open cassette 6 in the open cassette 6 mounted on the mounting table 7. The wafer W can be taken out.

【0027】この状態で、クリーンルーム2内を走行し
てきたAGV25が、ウェハWを装填したオープンカセ
ット6をロードポート1の載置台7上に引き渡す。この
とき、ロードポート1の前側ドア13は開かれる。これ
により、載置台7の前面および両側面が開放されること
により、広い開口部9が確保されているので、AGV2
5の移載アームとロードポート1との干渉が低減され
る。また、この時点で、インターロックの作動により、
後壁部8の窓部11の後部ドア12は閉鎖された状態に
維持されている。したがって、AGV25の移載アーム
や、移載中のオープンカセット6と、ロボット室4内の
マニピュレータ10とが干渉することを確実に回避する
ことができる。
In this state, the AGV 25 traveling in the clean room 2 transfers the open cassette 6 loaded with the wafer W onto the mounting table 7 of the load port 1. At this time, the front door 13 of the load port 1 is opened. Thereby, the front opening and both side surfaces of the mounting table 7 are opened, so that a wide opening 9 is secured.
The interference between the transfer arm 5 and the load port 1 is reduced. Also, at this point, by the operation of the interlock,
The rear door 12 of the window 11 of the rear wall 8 is kept closed. Therefore, it is possible to reliably prevent the transfer arm of the AGV 25 or the open cassette 6 being transferred from interfering with the manipulator 10 in the robot chamber 4.

【0028】次いで、AGV25による移載が終了し、
載置台7上からAGV25の移載アームが離れた状態
で、前側ドア13が上昇させられる。この場合におい
て、前側ドア13が断面U字状に形成されているので、
該前側ドア13は、載置台7の前面および両側面の広い
開口部9を同時に閉鎖し、クリーンルーム2側からの載
置台7への進入経路を確実に遮断することができる。
Next, the transfer by the AGV 25 is completed,
With the transfer arm of the AGV 25 separated from the mounting table 7, the front door 13 is raised. In this case, since the front door 13 is formed in a U-shaped cross section,
The front door 13 simultaneously closes the wide openings 9 on the front surface and both side surfaces of the mounting table 7, and can reliably shut off the approach path from the clean room 2 to the mounting table 7.

【0029】すなわち、モータ22の駆動によりボール
ネジ18が回転させられ、該ボールネジ18に螺合して
いるナット20に固定されたスライダ21がリニアガイ
ド17に沿って上昇させられる。これらの駆動装置16
を構成する各構成部品は、駆動させられるときに、微少
の塵埃を発生する。しかしながら、これらの部品は全
て、常に載置台7の下方に配置されており、しかも、前
記下降流供給手段14の作動により、載置台7の周囲に
下降する空気流が形成されているので、発生した塵埃
は、この空気流によって下方に押し流され、載置台7の
上方に舞い上がることはない。
That is, the ball screw 18 is rotated by the drive of the motor 22, and the slider 21 fixed to the nut 20 screwed to the ball screw 18 is moved up along the linear guide 17. These driving devices 16
Generate small dust when driven. However, all of these components are always disposed below the mounting table 7, and an air flow descending around the mounting table 7 is formed by the operation of the downflow supply means 14. The dust is swept downward by the air flow and does not soar above the mounting table 7.

【0030】したがって、クリーンルーム2側からの載
置台7への進入経路を前側ドア13によって機械的に遮
断しながら、この前側ドア13の駆動に伴う塵埃がウェ
ハWに付着することを確実に防止することができる。
Therefore, while the entrance path from the clean room 2 to the mounting table 7 is mechanically blocked by the front door 13, dust accompanying the driving of the front door 13 is reliably prevented from adhering to the wafer W. be able to.

【0031】また、前側ドア13は、断面U字状とする
ことによって断面係数が高められ、軽量にして高い強度
を達成している。その結果、駆動装置16の必要動力を
低減することができる。なお、本実施形態では、前側ド
ア13を断面U字状としたが、この場合のU字状とは、
同等の作用効果を得ることができるコ字状、半円形、半
楕円形等の断面形状をも含んでいる。
The front door 13 has a U-shaped cross section, so that the section modulus is increased and the front door 13 is lightweight and achieves high strength. As a result, the required power of the driving device 16 can be reduced. In this embodiment, the front door 13 has a U-shaped cross section.
It also includes a cross-sectional shape such as a U-shape, a semi-circle, a semi-ellipse, etc., which can obtain the same operation and effect.

【0032】また、前側ドア13にはトルクリミッタ2
3が取り付けられているので、クリーンルーム2内の作
業者が、手動でオープンカセット6を載置台7上に搭載
する作業を行っているときに誤って前側ドア13が閉じ
られたときであっても、トルクリミッタ23の作動によ
り、前側ドア13の遮断力が制限され、作業者が損傷す
ることを未然に防止することができる。
The front door 13 has a torque limiter 2
3 is attached, even if the front door 13 is accidentally closed when an operator in the clean room 2 is manually mounting the open cassette 6 on the mounting table 7. By the operation of the torque limiter 23, the blocking force of the front door 13 is limited, and it is possible to prevent the worker from being damaged.

【0033】また、この時点で、インターロックの作動
により、後側ドア12は閉じられているので、クリーン
ルーム2内で作業する作業者が、誤って載置台7上に手
を入れ、マニピュレータ10と接触する等の事故の発生
を未然に防止することができる。
At this point, since the rear door 12 is closed by the operation of the interlock, the worker working in the clean room 2 erroneously puts his hand on the mounting table 7 and the manipulator 10 An accident such as contact can be prevented from occurring.

【0034】また、前側ドア13および後側ドア12の
両方ともに閉じられると、載置台7に載置されているオ
ープンカセット6の周囲が全周にわたって閉鎖される。
そして、下降流供給手段14の作動により、クリーンル
ーム2の天井から供給されてくる下降流が載置台7上の
オープンカセット6の周囲に供給され、該オープンカセ
ット6に付着していた塵埃が載置台7の下方に向かって
洗い流される。
When both the front door 13 and the rear door 12 are closed, the periphery of the open cassette 6 mounted on the mounting table 7 is closed over the entire circumference.
By the operation of the descending flow supply means 14, the descending flow supplied from the ceiling of the clean room 2 is supplied around the open cassette 6 on the mounting table 7, and the dust attached to the open cassette 6 is removed from the mounting table. 7 is washed down.

【0035】この場合において、載置台7の周囲は、前
側ドア13および後側ドア12によって閉鎖され、流路
が画定されているので、下降流供給手段14によって供
給された下降流が、オープンカセット6の周囲において
乱れることが最小限に抑制される。したがって、塵埃を
オープンカセット6の周囲に留まらせることなく、載置
台7の下方に流すことができる。
In this case, since the periphery of the mounting table 7 is closed by the front door 13 and the rear door 12 and a flow path is defined, the downward flow supplied by the downward flow supply means 14 is supplied to the open cassette. Disturbance around 6 is minimized. Therefore, the dust can flow below the mounting table 7 without staying around the open cassette 6.

【0036】この後に、後側ドア12を開くことによ
り、窓部11が開放され、ロボット室4内のマニピュレ
ータ10がオープンカセット6からウェハWを取り出す
ことが可能となる。後側ドア12が開かれる前に、オー
プンカセット6周囲の塵埃が下降流により流されている
ので、塵埃がロボット室4内に入り込むことが防止され
る。
Thereafter, by opening the rear door 12, the window 11 is opened, and the manipulator 10 in the robot room 4 can take out the wafer W from the open cassette 6. Before the rear door 12 is opened, the dust around the open cassette 6 is flowed by the downward flow, so that dust is prevented from entering the robot chamber 4.

【0037】また、この時点で、インターロックの作動
により、前側ドア13は閉じられているので、クリーン
ルーム2内で作業する作業者が、誤って載置台7上に手
を入れ、マニピュレータ10と接触する等の事故の発生
を未然に防止することができる。さらに、後側ドア12
には、窓部11を通過する物体を検知する光学式センサ
15が設けられているので、何らかの原因によりウェハ
Wがオープンカセット6から飛び出して窓部11を横切
っている場合などに、後側ドア12が閉じられて、ウェ
ハWに損傷を与えてしまうことを未然に防止することが
できる。なお、この場合には、装置を停止し、アラーム
を発することにすればよい。
At this time, since the front door 13 is closed by the operation of the interlock, the worker working in the clean room 2 erroneously puts his hand on the mounting table 7 and comes into contact with the manipulator 10. It is possible to prevent accidents such as accidents. Further, the rear door 12
Is provided with an optical sensor 15 for detecting an object passing through the window 11, so that when the wafer W jumps out of the open cassette 6 and crosses the window 11 for some reason, the rear door It is possible to prevent the wafer 12 from being damaged when the wafer 12 is closed. In this case, the device may be stopped and an alarm may be issued.

【0038】このように、本実施形態に係るロードポー
ト1によれば、FOUP方式に適合するようにロボット
室4までを含めて一体的に構成されたメインフレームに
対しても、既存のクリーンルーム2を活用してオープン
カセット6を用いたウェハWの供給を可能にすることが
できる。したがって、FOUP方式に合わせた新たな設
備の構築に要するコストを最小限に抑えることができる
という利点がある。
As described above, according to the load port 1 according to the present embodiment, the existing clean room 2 can be mounted on the main frame integrally including the robot room 4 so as to conform to the FOUP system. , The supply of the wafer W using the open cassette 6 can be enabled. Therefore, there is an advantage that the cost required for constructing new equipment in accordance with the FOUP method can be minimized.

【0039】また、開閉機構が複雑であり、洗浄が困難
であるとともに、機構部において塵埃が発生しやすく、
高価である等の問題が多い密閉式のカセットを使用する
ことを回避することができ、上記諸問題の発生を防止す
ることができる。
Further, the opening / closing mechanism is complicated, cleaning is difficult, and dust is easily generated in the mechanism.
It is possible to avoid using a closed cassette which has many problems such as being expensive, and it is possible to prevent the above problems from occurring.

【0040】さらに、本実施形態に係るロードポート1
によれば、載置台7をドアによってクリーンルーム2か
ら機械的に離隔するので、マニピュレータ10によるウ
ェハWの取り出し作業中にクリーンルーム2内の作業者
がオープンカセット6を取り扱うことを確実に防止し、
安全性を向上することができる。また、ドア12,13
の駆動により塵埃が発生するおそれがあるが、本実施形
態のロードポート1では、下降流供給手段14により下
降する空気流をオープンカセット6の周囲に形成し、ド
ア12,13の駆動装置16を載置台7の下方に配置し
たので、発生した塵埃が載置台7の上方に舞い上がって
オープンカセット6内のウェハWに付着する不都合を確
実に防止することができる。
Further, the load port 1 according to the present embodiment
According to this, since the mounting table 7 is mechanically separated from the clean room 2 by the door, it is possible to reliably prevent the worker in the clean room 2 from handling the open cassette 6 during the removal operation of the wafer W by the manipulator 10,
Safety can be improved. Doors 12 and 13
However, in the load port 1 of the present embodiment, an air flow descending by the descending flow supply means 14 is formed around the open cassette 6 and the driving device 16 for the doors 12 and 13 is driven. Since the dust is disposed below the mounting table 7, it is possible to reliably prevent inconvenience that generated dust soars above the mounting table 7 and adheres to the wafer W in the open cassette 6.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るロー
ドポートによれば、クリーンルームに対して載置台を離
隔するドアの駆動装置を載置台の下方に配置し、かつ、
載置台の周囲に下降する空気流を形成する下降流供給手
段を設けたことにより、ドアによってクリーンルームか
ら載置台への進入経路を機械的に確実に遮断するととも
に、ドアの作動により生ずる塵埃が載置台上に舞い上が
ることを防止して、ウェハへの付着を確実に回避するこ
とができるという効果がある。
As described above, according to the load port of the present invention, the door driving device for separating the mounting table from the clean room is disposed below the mounting table, and
By providing a descending flow supply means for forming a descending air flow around the mounting table, the door mechanically blocks the path of entry from the clean room to the mounting table, and dust generated by the operation of the door is mounted. There is an effect that it is possible to prevent soaring onto the mounting table and to reliably avoid adhesion to the wafer.

【0042】[0042]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態に係るロードポートの設
置状態を概略的に示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing an installation state of a load port according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1のロードポートを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the load port of FIG. 1;

【図3】 図1のロードポートの前側ドアの駆動装置を
説明するための斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view illustrating a driving device of a front door of the load port of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W ウェハ 1 ロードポート 2 クリーンルーム 4 ロボット室 6 オープンカセット 7 載置台 10 マニピュレータ 13 ドア 14 下降流供給手段 16 駆動装置 21 スライダ W Wafer 1 Load port 2 Clean room 4 Robot room 6 Open cassette 7 Placement table 10 Manipulator 13 Door 14 Downflow supply means 16 Drive unit 21 Slider

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 武 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 (72)発明者 澤戸 一利 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA01 FA03 FA12 FA15 NA03 NA09 PA26  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi Sasaki 14-3 Shinsen, Narita-shi, Chiba Nogehira Industrial Park Inside Applied Materials Japan Co., Ltd. 3 Nogedaira Industrial Park Applied Materials Japan Co., Ltd. F-term (reference) 5F031 CA02 DA01 FA03 FA12 FA15 NA03 NA09 PA26

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メインフレームにウェハを供給するマニ
ピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーンル
ーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハを
前記マニピュレータに引き渡すロードポートであって、 前記クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填したオ
ープンカセットを受け取って載置する載置台と、該載置
台を前記クリーンルームに対して離隔するように開閉さ
れるドアと、前記載置台の周囲に下降する空気流を供給
する下降流供給手段とを具備するとともに、 前記ドアが上下方向に開閉可能に設けられ、 該ドアの駆動装置が前記載置台の下方に配置されている
ことを特徴とするオープンカセット用ロードポート。
1. A load port connected to a robot room having a manipulator for supplying a wafer to a main frame and transferring a wafer in an open cassette conveyed in a clean room to the manipulator, wherein the load port is disposed in the clean room. A mounting table for receiving and mounting an open cassette loaded with wafers, a door that is opened and closed so as to separate the mounting table from the clean room, and an air flow that descends around the mounting table. A load port for an open cassette, comprising: a downflow supply means; wherein the door is provided so as to be openable and closable in a vertical direction, and a drive device for the door is disposed below the mounting table.
【請求項2】 前記駆動装置が、前記載置台の下方にお
いて上下方向に往復移動させられるスライダを具備し、 前記ドアが前記スライダに取り付けられていることを特
徴とする請求項1記載のオープンカセット用ロードポー
ト。
2. The open cassette according to claim 1, wherein the driving device includes a slider that is vertically reciprocated below the mounting table, and the door is attached to the slider. For load port.
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