JP2002110762A - Loading port for open cassette - Google Patents

Loading port for open cassette

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JP2002110762A
JP2002110762A JP2000289335A JP2000289335A JP2002110762A JP 2002110762 A JP2002110762 A JP 2002110762A JP 2000289335 A JP2000289335 A JP 2000289335A JP 2000289335 A JP2000289335 A JP 2000289335A JP 2002110762 A JP2002110762 A JP 2002110762A
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open cassette
cassette
mounting table
load port
wafers
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JP2000289335A
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Takeshi Sasaki
武 佐々木
Kazutoshi Sawato
一利 澤戸
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Applied Materials Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To load wafers by means of an open cassette with respect to a main frame which was designed for loading with wafers in FOUP method. SOLUTION: A load port 1, connected to a robot chamber 4, which is equipped with a manipulator 10 supplying wafers W to a main frame, receives the wafers W in an open cassette 6 which is carried into a clean room 2 and transfers the wafers W to a manipulator 10. The load port 1 is equipped with a holding board 7, placed in the clean room 2 to receive the open cassette 6 loaded with the wafers W and with an interface 5 which connects the holding board to the robot chamber 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、クリーンルーム
内に設置されて、該クリーンルーム内を搬送されてきた
オープンカセットを受け取るとともに、該オープンカセ
ット内に装填されているウェハを、メインフレームに供
給するためのマニピュレータに引き渡すオープンカセッ
ト用ロードポートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for receiving an open cassette installed in a clean room and conveyed in the clean room, and supplying a wafer loaded in the open cassette to a main frame. And a load port for an open cassette delivered to a manipulator.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウェハをメインフレームに供給する方法
としては、開放式のオープンカセットを用いる方法と密
閉されたボックス式カセットを用いる方法とがある。従
来、我国では、200mmウェハをメインフレームに供
給する方法としてオープンカセットを用いる方法が主と
して採用されてきた。
2. Description of the Related Art As a method of supplying a wafer to a main frame, there are a method using an open type open cassette and a method using a closed box type cassette. Conventionally, in Japan, a method using an open cassette has been mainly adopted as a method for supplying a 200 mm wafer to a main frame.

【0003】この方法では、マニピュレータを備えたロ
ボット室と一体的に形成された開放式のロードポートを
使用している。すなわち、ロードロックを介してメイン
フレームに接続されたロボット室およびロードポート
は、一体としてクリーンルーム内に配置されることによ
り、ウェハの周囲の空気清浄度を高く保持するようにな
っている。そして、クリーンルーム内を走行する無人搬
送車(以下、AGVと呼ぶ。)によって運ばれてきたオ
ープンカセットがロードポートに引き渡されると、マニ
ピュレータの作動によってオープンカセットからウェハ
が引き出されて、メインフレームに供給されるようにな
っていた。
In this method, an open load port formed integrally with a robot room having a manipulator is used. That is, the robot room and the load port connected to the main frame via the load lock are integrally disposed in the clean room, so that the air cleanness around the wafer is kept high. When an open cassette carried by an automatic guided vehicle (hereinafter, referred to as an AGV) traveling in a clean room is delivered to a load port, a wafer is pulled out of the open cassette by the operation of the manipulator and supplied to the main frame. Was to be done.

【0004】一方、ボックス式カセットを用いる方法
は、近年、300mmウェハを供給する方法として、海
外で主流となっている。この方法は、密封されたボック
ス式カセット内に多数のウェハを収容し、カセット内を
高清浄度に保持するもので、FOUP方式として海外で
は業界標準となっている。
On the other hand, the method using a box type cassette has recently become the mainstream overseas for supplying 300 mm wafers. This method accommodates a large number of wafers in a sealed box-type cassette and maintains the inside of the cassette with high cleanliness, and has become an industry standard overseas as the FOUP method.

【0005】すなわち、FOUP方式は、それ自体で高
清浄度に保たれたカセットを使用し、同じく空気清浄度
が高く維持されたロボット室にカセットを連結した後
に、両者間の隔壁を開いて、ロボット室内のマニピュレ
ータによりカセット内のウェハを取り出す方法である。
この方法によれば、密封されたカセットによってウェハ
周囲の空気の清浄度が高く保たれるので、カセットを搬
送する環境を高清浄度のクリーンルームとする必要がな
く、例えば、高速の搬送手段である天井走行機構を利用
できるという利点がある。
In other words, the FOUP system uses a cassette which is kept highly clean by itself, connects the cassette to a robot room which is also kept highly air-clean, and then opens a partition between the two. This is a method in which a wafer in a cassette is taken out by a manipulator in a robot room.
According to this method, the cleanness of the air around the wafer is kept high by the sealed cassette, so that the environment for transporting the cassette does not need to be a clean room with high cleanliness. There is an advantage that an overhead traveling mechanism can be used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、FOU
P方式では、カセット内部を高清浄度に保つ必要がある
ために、該カセットの開閉機構が複雑で高価なものとな
り、また、カセットの開閉時に塵埃が発生すること、さ
らには、カセット自体の洗浄が困難である等の問題があ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION However, FOU
In the P method, since the inside of the cassette needs to be kept at a high degree of cleanliness, the mechanism for opening and closing the cassette is complicated and expensive, and dust is generated when the cassette is opened and closed. Is difficult.

【0007】また、FOUP方式では、上述したよう
に、密封式のカセットを用いてウェハを搬送するため、
ウェハを取り扱うマニピュレータが備えられたロボット
室以降の空気清浄度を高く維持しておけば足りる。この
ために、メインフレームからロボット室までが1つのユ
ニットとして提供される。
In the FOUP system, as described above, since wafers are transported using a sealed cassette,
It is sufficient to maintain high air cleanliness after the robot room equipped with a manipulator for handling wafers. For this purpose, the components from the main frame to the robot room are provided as one unit.

【0008】しかしながら、従来より200mmウェハ
供給用にオープンカセットを採用してきた我国の企業に
おいては、既に、ウェハを搬送する環境としてクリーン
ルームが設置されており、この設備を利用するために、
300mmウェハに対してもオープンカセットによるウ
ェハの供給方法を踏襲することが望まれる場合もある。
この場合に、ロボット室までのユニットとして提供され
るメインフレームに対しても、オープンカセットによる
供給方法を採用できることが必要となる。
However, in a Japanese company that has conventionally adopted an open cassette for supplying 200 mm wafers, a clean room has already been set up as an environment for transferring wafers.
In some cases, it is desirable to follow the method of supplying wafers using an open cassette even for 300 mm wafers.
In this case, it is necessary that the supply method using the open cassette can be adopted for the main frame provided as a unit up to the robot room.

【0009】この発明は、上述した事情に鑑みてなされ
たものであって、FOUP方式用に設計されたメインフ
レームに対して、オープンカセットを用いたウェハの供
給を可能とするロードポートを提供することを目的とし
ている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and provides a load port capable of supplying a wafer using an open cassette to a main frame designed for a FOUP system. It is intended to be.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、メインフレームにウェハを供給するマ
ニピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーン
ルーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハ
を前記マニピュレータに引き渡すロードポートであっ
て、クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填したオ
ープンカセットを受け取って載置する載置台と、該載置
台をロボット室に接続可能なインタフェースとを具備す
るオープンカセット用ロードポートを提案している。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a wafer in an open cassette which is connected to a robot room having a manipulator for supplying a wafer to a main frame and has been transported in a clean room. An open cassette, which is provided in a clean room and receives and places an open cassette loaded with wafers, and an interface capable of connecting the mounting table to a robot chamber. We propose a load port.

【0011】上記ロードポートにおいては、載置台に載
置されたオープンカセットの周囲に、下降する空気流を
供給する下降流供給手段を具備することとしてもよく、
また、下降流供給手段が、前記載置台の周囲を開閉する
ドアを具備することとしてもよい。
In the above-mentioned load port, a downflow supply means for supplying a descending airflow may be provided around the open cassette mounted on the mounting table.
Further, the downward flow supply means may include a door that opens and closes the periphery of the mounting table.

【0012】[0012]

【作用】本発明に係るオープンカセット用ロードポート
によれば、インタフェースを用いてロボット室に接続し
た載置台をクリーンルーム内に配置し、クリーンルーム
内を搬送されてくるオープンカセットを載置台上に載置
することにより、ロボット室内のマニピュレータが載置
台上に載置されたオープンカセットからウェハを取り出
すことができる。これにより、ロボット室まで1つのユ
ニットとして提供されるメインフレームに対しても、オ
ープンカセットによるウェハの供給が可能となる。
According to the load port for an open cassette according to the present invention, the mounting table connected to the robot room using the interface is arranged in the clean room, and the open cassette conveyed in the clean room is mounted on the mounting table. Thus, the manipulator in the robot chamber can take out the wafer from the open cassette mounted on the mounting table. As a result, it is possible to supply the wafer by the open cassette to the main frame provided as one unit to the robot room.

【0013】また、下降流供給手段の作動により、載置
台に載置されたオープンカセットの周囲には下降する空
気流が供給されるので、オープンカセットの周囲に生じ
た塵埃は空気流によって下方へ流され、塵埃の付着した
ウェハがロボット室内に供給されることが防止される。
Further, since the descending air flow is supplied around the open cassette placed on the mounting table by the operation of the descending flow supply means, dust generated around the open cassette is moved downward by the air flow. The flow of the wafer and the dust attached thereto is prevented from being supplied into the robot chamber.

【0014】さらに、下降流供給手段が載置台の周囲を
開閉するドアを具備する構成とすることにより、載置台
の周囲をドアにより閉鎖して下降空気流の乱れを防止
し、より確実にウェハへの塵埃の付着を防止することが
可能となる。
Further, the downflow supply means is provided with a door which opens and closes the periphery of the mounting table, so that the periphery of the mounting table is closed by the door to prevent the turbulence of the descending air flow and to more reliably ensure the wafer. It is possible to prevent dust from adhering.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るロードポート
の一実施形態について、図面を参照して説明する。この
実施形態に係るロードポート1は、図1に示されるよう
に、クリーンルーム2の一壁面3に開口するように配置
されたロボット室4に接続するためのインタフェース部
5を具備する箱状の装置であって、その高さ方向の中央
付近に、ウェハWを装填したオープンカセット6を受け
取る載置台7を具備している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a load port according to the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the load port 1 according to this embodiment is a box-shaped device including an interface unit 5 for connecting to a robot room 4 arranged so as to open on one wall surface 3 of a clean room 2. In the vicinity of the center in the height direction, there is provided a mounting table 7 for receiving the open cassette 6 loaded with the wafer W.

【0016】前記載置台7は、水平に配置され、載置さ
れるオープンカセット6を位置決めする突起のような位
置決め手段(図示せず)が設けられている。この載置台
7の周囲には、図2に示されるように、ロボット室4側
に配される後壁部8のみが配置され、前面および両側面
には側壁がなく、広い開口部9が確保されている。
The mounting table 7 is disposed horizontally and provided with positioning means (not shown) such as a projection for positioning the open cassette 6 to be mounted. As shown in FIG. 2, only a rear wall portion 8 disposed on the robot room 4 side is arranged around the mounting table 7, and there is no side wall on the front surface and both side surfaces, and a wide opening 9 is secured. Have been.

【0017】前記後壁部8には、図2に示されるよう
に、ロボット室4に接続し、該ロボット室4内のマニピ
ュレータ10が載置台7上のオープンカセット6からウ
ェハWを取り出すために出入り可能な窓部11が形成さ
れている。そして、この窓部11には、載置台7の下方
から昇降させられて、該窓部11を開閉する後側ドア1
2が設けられている。また、前記インタフェース部5
は、この後壁部8の背面に設けられている。
As shown in FIG. 2, the rear wall 8 is connected to the robot chamber 4 so that the manipulator 10 in the robot chamber 4 can take out the wafer W from the open cassette 6 on the mounting table 7. An access window 11 is formed. The rear door 1 is moved up and down from below the mounting table 7 to open and close the window 11.
2 are provided. Further, the interface unit 5
Is provided on the back surface of the rear wall portion 8.

【0018】また、前記載置台7の前面および両側面に
は載置台7の下方から昇降させられて、載置台7の周囲
を開閉する前側ドア13が設けられている。この前側ド
ア13は、図2に示す例では、前面および両側面を同時
に開閉する断面U字状のドアであるが、前面および両側
面を別々に開閉するドアであってもよい。
A front door 13 is provided on the front surface and both side surfaces of the mounting table 7 to be moved up and down from below the mounting table 7 to open and close the periphery of the mounting table 7. In the example shown in FIG. 2, the front door 13 is a U-shaped door that opens and closes the front and both sides simultaneously, but may be a door that opens and closes the front and both sides separately.

【0019】前記載置台7の上方には、該載置台7か
ら、オープンカセット6を収容可能なスペースを空けて
下降流供給手段14が配置され、前記後壁部8の上端に
よって支持されている。本実施形態では、下降流供給手
段14は、例えば、グリッドであって、クリーンルーム
2の天井から供給されている下降空気流を通過させて、
載置台7に載置されているオープンカセット6の周囲に
供給することができるようになっている。
Above the mounting table 7, a downward flow supply means 14 is arranged from the mounting table 7 with a space capable of accommodating the open cassette 6, and is supported by the upper end of the rear wall portion 8. . In the present embodiment, the descending flow supply unit 14 is, for example, a grid, and allows the descending air flow supplied from the ceiling of the clean room 2 to pass therethrough.
It can be supplied around the open cassette 6 mounted on the mounting table 7.

【0020】また、前記前側ドア13および後側ドア1
2も、前記下降流供給手段14の一部を構成している。
すなわち、これらのドア12,13を閉じておくことに
より、載置台7上のオープンカセット6の周囲に流路を
画定し、供給される下降流をオープンカセット6の周囲
で乱さないようにすることができる。
The front door 13 and the rear door 1
2 also constitutes a part of the downward flow supply means 14.
That is, by closing these doors 12 and 13, a flow path is defined around the open cassette 6 on the mounting table 7 so that the supplied downward flow is not disturbed around the open cassette 6. Can be.

【0021】このように構成された本実施形態に係るロ
ードポート1の作用について、以下に説明する。本実施
形態に係るロードポート1は、図1に示されるように、
クリーンルーム2内に配置され、その後壁部8のインタ
フェース部5を用いて、クリーンルーム2の一壁面3に
開口して配置されているロボット室4に接続される。こ
れにより、ロボット室4内のマニピュレータ10が、後
壁部8の窓部11を介して、ロードポート1の載置台7
まで伸び、該載置台7上に載置されているオープンカセ
ット6内のウェハWを取り出して、ロードロック15内
の固定カセット16に移載することが可能となる。
The operation of the thus configured load port 1 according to the present embodiment will be described below. The load port 1 according to the present embodiment, as shown in FIG.
It is arranged in the clean room 2, and then connected to the robot room 4 which is opened and arranged on one wall surface 3 of the clean room 2 by using the interface section 5 of the wall section 8. As a result, the manipulator 10 in the robot room 4 is moved through the window 11 of the rear wall 8 through the mounting table 7 of the load port 1.
The wafer W in the open cassette 6 mounted on the mounting table 7 can be taken out and transferred to the fixed cassette 16 in the load lock 15.

【0022】この状態で、クリーンルーム2内を走行し
てきたAGV17が、ウェハWを装填したオープンカセ
ット6をロードポート1の載置台7上に引き渡す。この
とき、ロードポート1の前側ドア13は開かれる。これ
により、載置台7の前面および両側面が広く開放され、
AGV17の移載アーム(図示せず)とロードポート1
との干渉が低減される。また、この時点で、後壁部8の
窓部11の後部ドア12は閉鎖されている。したがっ
て、AGV17の移載アームや、移載中のオープンカセ
ット6と、ロボット室4内のマニピュレータ10とが干
渉することが回避される。
In this state, the AGV 17 traveling in the clean room 2 transfers the open cassette 6 loaded with the wafer W onto the mounting table 7 of the load port 1. At this time, the front door 13 of the load port 1 is opened. Thereby, the front surface and both side surfaces of the mounting table 7 are widely opened,
Transfer arm (not shown) of AGV17 and load port 1
Interference is reduced. At this time, the rear door 12 of the window 11 of the rear wall 8 is closed. Therefore, interference between the transfer arm of the AGV 17 or the open cassette 6 during transfer and the manipulator 10 in the robot chamber 4 is avoided.

【0023】次いで、AGV17による移載が終了し、
載置台7上からAGV17の移載アームが離れた状態
で、前側ドア13が閉じられる。これにより、載置台7
に載置されているオープンカセット6の周囲が全周にわ
たって閉鎖される。そして、下降流供給手段14の作動
により、クリーンルーム2の天井から供給されてくる下
降流が載置台7上のオープンカセット6の周囲に供給さ
れ、該オープンカセット6に付着していた塵埃が載置台
7の下方に向かって洗い流される。
Next, the transfer by the AGV 17 is completed,
The front door 13 is closed while the transfer arm of the AGV 17 is separated from the mounting table 7. Thereby, the mounting table 7
Is closed over the entire circumference. By the operation of the descending flow supply means 14, the descending flow supplied from the ceiling of the clean room 2 is supplied around the open cassette 6 on the mounting table 7, and the dust attached to the open cassette 6 is removed from the mounting table. 7 is washed down.

【0024】この場合において、載置台7の周囲は、前
側ドア13および後側ドア12によって閉鎖され、流路
が画定されているので、下降流供給手段14によって供
給された下降流が、オープンカセット6の周囲において
乱れることが最小限に抑制される。したがって、塵埃を
オープンカセット6の周囲に留まらせることなく、載置
台7の下方に流すことができる。
In this case, the periphery of the mounting table 7 is closed by the front door 13 and the rear door 12 and the flow path is defined, so that the downward flow supplied by the downward flow supply means 14 is supplied to the open cassette. Disturbance around 6 is minimized. Therefore, the dust can flow below the mounting table 7 without staying around the open cassette 6.

【0025】この後に、後側ドア12を開くことによ
り、窓部11が開放され、ロボット室4内のマニピュレ
ータ10がオープンカセット6からウェハWを取り出す
ことが可能となる。後側ドア12が開かれる前に、オー
プンカセット6周囲の塵埃が下降流により流されている
ので、塵埃がロボット室4内に入り込むことが防止され
る。
Thereafter, by opening the rear door 12, the window 11 is opened, and the manipulator 10 in the robot chamber 4 can take out the wafer W from the open cassette 6. Before the rear door 12 is opened, the dust around the open cassette 6 is flowed by the downward flow, so that dust is prevented from entering the robot chamber 4.

【0026】また、この時点で前側ドア13は閉じられ
ているので、クリーンルーム2内で作業する作業者が、
誤って載置台7上に手を入れ、マニピュレータ10と接
触する等の事故の発生を未然に防止することができる。
At this time, the front door 13 is closed, so that the worker working in the clean room 2
It is possible to prevent an accident such as accidentally putting a hand on the mounting table 7 and coming into contact with the manipulator 10.

【0027】このように、本実施形態に係るロードポー
ト1によれば、FOUP方式に適合するようにロボット
室4までを含めて一体的に構成されたメインフレーム
(図示略)に対しても、既存のクリーンルーム2を活用
してオープンカセット6を用いたウェハWの供給を可能
にすることができる。したがって、FOUP方式に合わ
せた新たな設備の構築に要するコストを最小限に抑える
ことができるという利点がある。
As described above, according to the load port 1 according to this embodiment, the main frame (not shown) integrally including the robot chamber 4 so as to conform to the FOUP system can be used. It is possible to supply the wafer W using the open cassette 6 by utilizing the existing clean room 2. Therefore, there is an advantage that the cost required for constructing new equipment in accordance with the FOUP method can be minimized.

【0028】また、開閉機構が複雑であり、洗浄が困難
であるとともに、機構部において塵埃が発生しやすく、
高価である等の問題が多い密閉式のカセットを使用する
ことを回避することができ、上記諸問題の発生を防止す
ることができる。
Further, the opening / closing mechanism is complicated, cleaning is difficult, and dust is easily generated in the mechanism.
It is possible to avoid using a closed cassette which has many problems such as being expensive, and it is possible to prevent the above problems from occurring.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るロー
ドポートによれば、FOUP方式のために提供されるメ
インフレームに対して、オープンカセットによるウェハ
の供給を行うことができる。その結果、既存の設備であ
るクリーンルームをそのまま利用することができ、製造
コストの削減を図ることができるとともに、複雑な構造
のために塵埃の発生やコスト高等の問題を生じ易い密閉
式のカセットを使用せずに済むという利点がある。
As described above, according to the load port according to the present invention, it is possible to supply a wafer by an open cassette to a main frame provided for the FOUP system. As a result, the existing equipment, the clean room, can be used as it is, and the manufacturing cost can be reduced. There is an advantage that it does not need to be used.

【0030】また、載置台の周囲を開閉するドアを設け
ることにより、ドアを開いたときには、オープンカセッ
トおよびウェハの移載を行い、ドアを閉鎖したときに
は、載置台の周囲に下降流のための流路を画定し、下降
流の乱れを防止して、オープンカセットおよびその周囲
の塵埃を確実に下方に押し流すことができるという効果
がある。
Further, by providing a door for opening and closing the periphery of the mounting table, when the door is opened, the open cassette and the wafer are transferred, and when the door is closed, a downward flow around the mounting table for the downward flow is performed. There is an effect that the flow path is defined, the turbulence of the downward flow is prevented, and the dust in the open cassette and its surroundings can be reliably pushed down.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態に係るロードポートの設
置状態を概略的に示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing an installation state of a load port according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1のロードポートを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the load port of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W ウェハ 1 ロードポート 2 クリーンルーム 4 ロボット室 5 インタフェース部(インタフェース) 6 オープンカセット 7 載置台 10 マニピュレータ 12 後側ドア(ドア) 13 前側ドア(ドア) 14 下降流供給手段 W wafer 1 load port 2 clean room 4 robot room 5 interface section (interface) 6 open cassette 7 mounting table 10 manipulator 12 rear door (door) 13 front door (door) 14 downward flow supply means

フロントページの続き (72)発明者 佐々木 武 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 (72)発明者 澤戸 一利 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA01 FA01 FA03 FA09 FA15 GA02 NA02 NA07 Continued on the front page (72) Inventor Takeshi Sasaki 14-3 Shinizumi, Narita-shi, Chiba Nogehira Industrial Park Inside Applied Materials Japan Co., Ltd. (72) Inventor Kazutoshi Sawado 14-3 Shinizumi, Narita-shi, Chiba Pref. Applied Materials Japan Co., Ltd. F-term (reference) 5F031 CA02 DA01 FA01 FA03 FA09 FA15 GA02 NA02 NA07

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メインフレームにウェハを供給するマニ
ピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーンル
ーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハを
前記マニピュレータに引き渡すロードポートであって、 前記クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填したオ
ープンカセットを受け取って載置する載置台と、 該載置台を前記ロボット室に接続可能なインタフェース
とを具備するオープンカセット用ロードポート。
1. A load port connected to a robot room having a manipulator for supplying a wafer to a main frame and delivering a wafer in an open cassette conveyed in a clean room to the manipulator, wherein the load port is disposed in the clean room. And a loading table for receiving and placing an open cassette loaded with wafers, and an interface capable of connecting the loading table to the robot chamber.
【請求項2】 前記載置台に載置されたオープンカセッ
トの周囲に、下降する空気流を供給する下降流供給手段
を具備することを特徴とする請求項1記載のオープンカ
セット用ロードポート。
2. The load port for an open cassette according to claim 1, further comprising a descending flow supply unit for supplying a descending air flow around the open cassette mounted on the mounting table.
【請求項3】 前記下降流供給手段が、前記載置台の周
囲を開閉するドアを具備することを特徴とする請求項2
記載のオープンカセット用ロードポート。
3. The downflow supply means includes a door that opens and closes around the mounting table.
Load port for open cassette as described.
JP2000289335A 2000-09-22 2000-09-22 Loading port for open cassette Withdrawn JP2002110762A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012066933A (en) * 2010-09-27 2012-04-05 Daifuku Co Ltd Article conveyance facility
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