JP2002107137A - Method for controlling inspection stage - Google Patents

Method for controlling inspection stage

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JP2002107137A
JP2002107137A JP2000301286A JP2000301286A JP2002107137A JP 2002107137 A JP2002107137 A JP 2002107137A JP 2000301286 A JP2000301286 A JP 2000301286A JP 2000301286 A JP2000301286 A JP 2000301286A JP 2002107137 A JP2002107137 A JP 2002107137A
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JP
Japan
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inspection stage
inspection
stage
coordinate data
correction amount
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JP2000301286A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ishii
啓史 石井
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Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To constitute an apparatus which ensures high positional accuracy for an inspection stage used in an inspecting apparatus, a repairing apparatus or the like, and which is low cost and superior in maintenability. SOLUTION: A movement correction amount, corresponding to moving amount from a stage home position of the inspection stage 12, with a substrate 10 loaded, is stored in a storage device 19 as a recipe to be used, when the substrate 10 is moved. The movement correction amount, corresponding to designated coordinate data, is read out from the storage device 19 for substrates 10 of the same identical kind and is added to the coordinate data. The substrates 10 are moved, in accordance with the coordinate data with the movement correction amount added thereto.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造ライ
ンや液晶パネルの製造ライン等で使用される検査装置や
リペア装置に用いられる検査ステージに関し、詳しくは
高精度な座標移動を可能とする検査ステージの位置決め
制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection stage used in an inspection device or a repair device used in a semiconductor production line or a liquid crystal panel production line, and more particularly to an inspection stage capable of highly accurate coordinate movement. And a positioning control method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造ラインや液晶パネルの製造ラ
イン等で使用されている検査装置やリペア装置には、様
々なものが存在している。近年では、ライン生産数増
大、マスクの微細化が進み、これらの装置に求められる
仕様にも年々厳しさが増している。その中でも、自動
化、高スループット化に欠かせない検査ステージについ
ては高い位置精度が求められており、従来のパルスモー
タ等によるステージ移動だけでなく、リニアゲージを用
いたものや、石定盤に門型ステージを載せたものなど、
高精度を出すための様々な工夫がなされている。
2. Description of the Related Art There are various inspection apparatuses and repair apparatuses used in semiconductor production lines and liquid crystal panel production lines. In recent years, the number of production lines has been increased and the size of masks has been reduced, and the specifications required for these devices have been becoming stricter year by year. Among them, the inspection stage, which is indispensable for automation and high throughput, is required to have high positional accuracy. Not only the stage movement by the conventional pulse motor etc., but also the one using linear gauge, Such as one with a mold stage
Various innovations have been made to achieve high accuracy.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このような検査ステー
ジは、高い精度を出すために様々な機構が取り付けられ
ており、結果として高価なものとなっていた。とくに石
定盤等では、それだけで数千万円するものもあり、検査
装置が製造装置並のコストとなる場合もあった。また検
査ステージ自体も大型化し、メンテナンス性も悪くなる
という欠点があった。
In such an inspection stage, various mechanisms are attached to achieve high accuracy, and as a result, it is expensive. In particular, a stone surface plate or the like alone costs tens of millions of yen, and in some cases, the cost of an inspection device is equal to that of a manufacturing device. Further, there is a disadvantage that the inspection stage itself becomes large and maintenance performance is deteriorated.

【0004】この発明の目的は、リニアゲージや石定盤
等を用いることなしに高い位置精度を確保し、安価でメ
ンテナンス性にも優れた装置を構成することができる検
査ステージの制御方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of controlling an inspection stage which can secure a high positional accuracy without using a linear gauge or a stone surface plate, and can configure an apparatus which is inexpensive and excellent in maintenance. Is to do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、平面上のX方向及びY方向への
移動機構を備え、指定された座標データに従って検査対
象物をX方向及びY方向へ移動する検査ステージにおい
て、指定された座標データのX方向及びY方向に、前記
検査ステージのステージ原点からの移動量に応じた移動
補正量を加えることを特徴とする検査ステージの制御方
法である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a moving mechanism for moving a test object in an X direction and a Y direction on a plane in accordance with designated coordinate data. And controlling the inspection stage to move in the X and Y directions of the designated coordinate data in accordance with the amount of movement of the inspection stage from the stage origin. Is the way.

【0006】請求項2の発明は、請求項1において、前
記検査ステージの可動範囲全体を、複数の矩形領域に分
割したマトリクス平面に対応させ、各矩形領域について
設定したX方向及びY方向の移動補正量を前記指定され
た座標データに加えることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the entire movable range of the inspection stage is made to correspond to a matrix plane divided into a plurality of rectangular regions, and the movement in the X and Y directions set for each rectangular region. The correction amount is added to the designated coordinate data.

【0007】請求項3の発明は、請求項2において、前
記検査ステージ上の中心、前記検査対象物の中心及び前
記マトリクス平面の中心が一致するように前記検査ステ
ージ上に前記検査対象物が載置された状態で、前記検査
対象物上に設定した目標ポイントを、その目標ポイント
の座標データに従って前記マトリクス平面の中心に移動
し、そのときに前記検査ステージの中心が入っている前
記マトリクス平面上の矩形領域の識別子と前記検査ステ
ージの中心を示す第1の座標データとを読み取り、前記
目標ポイントが前記マトリクス平面の中心と一致してい
ない状態で、前記目標ポイントが前記マトリクス平面の
中心と一致するように位置が修正されたときは、そのと
きの前記検査ステージの中心を示す第2の座標データを
読みとり、前記第1の座標データと第2の座標データと
の差分値を算出し、その値を前記検査ステージの中心が
入っている前記マトリクス平面上の矩形領域の移動補正
量として設定し、前記移動補正量と前記矩形領域の識別
子とを対応付けて記憶する処理を、前記マトリクス平面
上のすべての矩形領域について実行し、前記検査対象物
と同一品種の検査対象物が検査ステージ上に載置された
状態で、その検査対象物上の目標ポイントを前記マトリ
クス平面の中心に移動する際に、その移動により前記検
査ステージの中心が入る矩形領域の識別子を特定し、前
記特定した識別子と対応付けられた移動補正量を加えた
座標データに従って前記検査対象物を移動することを特
徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the inspection object is placed on the inspection stage such that the center on the inspection stage, the center of the inspection object, and the center of the matrix plane coincide with each other. In the placed state, the target point set on the inspection object is moved to the center of the matrix plane according to the coordinate data of the target point, and the center of the inspection stage is located on the matrix plane at that time. And the first coordinate data indicating the center of the inspection stage is read, and the target point matches the center of the matrix plane while the target point does not match the center of the matrix plane. When the position is corrected so as to perform, the second coordinate data indicating the center of the inspection stage at that time is read, and the second coordinate data is read. The difference value between the coordinate data and the second coordinate data is calculated, and the value is set as the movement correction amount of the rectangular area on the matrix plane containing the center of the inspection stage. A process of storing the identifiers of the rectangular areas in association with each other is performed for all the rectangular areas on the matrix plane, and the inspection target of the same type as the inspection target is placed on an inspection stage. When moving the target point on the inspection object to the center of the matrix plane, the movement specifies the identifier of the rectangular area in which the center of the inspection stage falls, and the movement correction amount associated with the specified identifier. The inspection object is moved in accordance with the coordinate data to which is added.

【0008】請求項4の発明は、請求項3において、検
査対象物の品種と、マトリクス平面の矩形領域の分割間
隔と、前記検査対象物について求めた移動補正量とを対
応付けて記憶することを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect, the type of the inspection object, the division interval of the rectangular area on the matrix plane, and the movement correction amount obtained for the inspection object are stored in association with each other. It is characterized by the following.

【0009】上記請求項1乃至4の制御方法によれば、
検査ステージのステージ原点からの移動量に応じた移動
補正量が座標データに加えられ、検査ステージは移動補
正量の加えられた座標データに従って移動するため、検
査ステージが移動した際に生じるX方向及びY方向の誤
差は前記移動補正量により相殺されることになり、検査
ステージは指定された座標データに従って正確な位置に
移動する。
According to the control method of the first to fourth aspects,
The movement correction amount according to the movement amount of the inspection stage from the stage origin is added to the coordinate data, and the inspection stage moves according to the coordinate data to which the movement correction amount has been added. The error in the Y direction is offset by the movement correction amount, and the inspection stage moves to an accurate position according to the designated coordinate data.

【0010】とくに、請求項4においては、検査対象物
の品種ごとに座標データが補正されるので、検査対象物
の品種を替える度に移動補正量を算出する必要がなく、
複数の検査対象物を扱う場合の作業効率を向上させるこ
とができる。
In particular, in claim 4, since the coordinate data is corrected for each type of the inspection object, it is not necessary to calculate the movement correction amount every time the type of the inspection object is changed.
The work efficiency when handling a plurality of inspection objects can be improved.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明に係わる検査ステ
ージの制御方法を、液晶パネルを構成する基板のリペア
装置に適用した場合の実施形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which a method for controlling an inspection stage according to the present invention is applied to a repair device for a substrate constituting a liquid crystal panel will be described below.

【0012】図1は、この実施形態に係わるリペア装置
の全体構成図である。このリペア装置1では、ステージ
コントローラ11により制御される検査ステージ12の
上部に顕微鏡ユニット13が配置されており、顕微鏡ユ
ニット13及び光源14により映し出された基板10上
の画素の映像が、鏡筒部15の先端に設けられたCCD
カメラ16により画像データとして取り込まれる。この
画像データはコントロールPC17に送られ、画像処理
が施された後にモニタ装置18上に表示される。コント
ロールPC17での制御に必要なプログラムやデータは
記憶装置19に格納されている。また、コントロールP
C17には、操作者又は外部装置からのデータや命令な
どの入力を受け付ける図示しない入力部が接続されてい
る。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a repair device according to this embodiment. In the repair device 1, a microscope unit 13 is disposed above an inspection stage 12 controlled by a stage controller 11, and an image of pixels on the substrate 10 projected by the microscope unit 13 and the light source 14 is displayed in a lens barrel. CCD provided at the tip of 15
The image is captured by the camera 16 as image data. This image data is sent to the control PC 17 and displayed on the monitor device 18 after image processing. Programs and data necessary for control by the control PC 17 are stored in the storage device 19. Control P
The C17 is connected to an input unit (not shown) that receives an input of data or a command from the operator or an external device.

【0013】図1に示すリペア装置では、欠陥画素にレ
ーザ光を照射するレーザ照射ユニットなどが併設されて
おり、操作者はモニタ画面を見ながら基板上の欠陥画素
(リペア箇所)にレーザ光を照射してリペアを行うが、
これらの作業は検査ステージ12の位置決めがなされた
後に行われる作業であるため、この実施形態では図示を
省略している。
The repair apparatus shown in FIG. 1 is provided with a laser irradiation unit for irradiating a defective pixel with laser light, and an operator applies laser light to the defective pixel (repair location) on the substrate while watching a monitor screen. Irradiation and repair,
Since these operations are performed after the positioning of the inspection stage 12, the illustration is omitted in this embodiment.

【0014】ステージコントローラ11、コントロール
PC17、モニタ装置18、記憶装置19及び図示しな
い入力部は、システム制御ユニット20を構成してい
る。このシステム制御ユニット20は、例えばキーボー
ド、マウス又はフレキシブルディスク装置などの入力デ
バイス、あるいはLAN等の専用回線、各種の演算処理
を実行するプロセッサ部としてのCPU、このCPUで
実行される演算処理の命令やデータなどを記憶するため
のROM、RAM、磁気ディスク等の記憶装置、ディス
プレイ装置やプリンタ装置などの出力デバイスを含む通
常のコンピュータシステムで構成される。
The stage controller 11, the control PC 17, the monitor device 18, the storage device 19, and the input unit (not shown) constitute a system control unit 20. The system control unit 20 includes, for example, an input device such as a keyboard, a mouse or a flexible disk device, or a dedicated line such as a LAN, a CPU serving as a processor unit for executing various arithmetic processes, and instructions for arithmetic processes executed by the CPU. It is composed of a normal computer system including a storage device such as a ROM, a RAM, a magnetic disk or the like for storing data and data, and an output device such as a display device or a printer device.

【0015】コントロールPC17において、演算処理
や制御のためのデータや命令などは記憶装置19から必
要に応じてCPUに読み込まれ、所定のプログラムに従
って演算処理が実行されるとともに、各演算ステップで
発生したデータなどは記憶装置19に記憶される。
In the control PC 17, data and instructions for arithmetic processing and control are read from the storage device 19 by the CPU as necessary, and arithmetic processing is executed in accordance with a predetermined program, and generated at each arithmetic step. Data and the like are stored in the storage device 19.

【0016】図2は、基板10、検査ステージ12及び
マトリクス平面の関係を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing the relationship between the substrate 10, the inspection stage 12, and the matrix plane.

【0017】検査ステージ12には、図示しない固定ピ
ンと位置決めピンが配置されており、検査対象物となる
基板10は、これらのピンにより定位置に固定される。
また検査ステージ12は、定位置に固定された基板10
をX方向及びY方向へ移動する図示しない移動機構を備
えている。
A fixing pin and a positioning pin (not shown) are arranged on the inspection stage 12, and the substrate 10 to be inspected is fixed at a fixed position by these pins.
Further, the inspection stage 12 includes the substrate 10 fixed at a fixed position.
Is provided in the X direction and the Y direction.

【0018】システム制御ユニット20に外部から座標
データが入力されると、コントロールPC17からステ
ージコントローラ11へ座標データが送られ、ステージ
コントローラ11では、与えられた座標データに従って
検査ステージ12を移動する。この実施形態では、基板
10上の特定画素の座標データが与えられると、検査ス
テージ12は、与えられた座標データの位置にある特定
画素を後述のステージ原点100へ移動する。
When coordinate data is externally input to the system control unit 20, the coordinate data is sent from the control PC 17 to the stage controller 11, and the stage controller 11 moves the inspection stage 12 according to the given coordinate data. In this embodiment, when the coordinate data of a specific pixel on the substrate 10 is given, the inspection stage 12 moves the specific pixel at the position of the given coordinate data to a stage origin 100 described later.

【0019】なお、ステージコントローラ11は手動操
作が可能であり、操作者はモニタ画面を見ながら検査ス
テージ12を微細に移動させることにより、検査ステー
ジ12の位置を修正(微調整)することができる。
The stage controller 11 can be operated manually, and the operator can finely adjust (finely adjust) the position of the inspection stage 12 by moving the inspection stage 12 finely while watching the monitor screen. .

【0020】検査ステージ12は、ステージ原点100
を中心としてX方向及びY方向へ移動可能であり、破線
で示す範囲が検査ステージ12の可動範囲となってい
る。この可動範囲全体に対し、複数の矩形領域に分割さ
れたマトリクス平面110が平面的に対応付けられてい
る。
The inspection stage 12 has a stage origin 100
Can be moved in the X direction and the Y direction around the center, and the range shown by the broken line is the movable range of the inspection stage 12. A matrix plane 110 divided into a plurality of rectangular areas is planarly associated with the entire movable range.

【0021】ステージ原点100とは、検査ステージ1
2の基準位置(座標0、0)を示す固定点であり、この
実施形態においては、ステージ原点100とマトリクス
平面110の中心Aとは平面的に一致している。またス
テージ座標とは、検査ステージ12の基準位置からの座
標であり、その座標値はステージ原点100からのX方
向及びY方向の移動量で表される。
The stage origin 100 is the inspection stage 1
2 are reference points (coordinates 0, 0). In this embodiment, the stage origin 100 and the center A of the matrix plane 110 coincide with each other in a plane. The stage coordinates are coordinates from the reference position of the inspection stage 12, and the coordinate values are represented by the movement amounts in the X and Y directions from the stage origin 100.

【0022】マトリクス平面110は、例えば検査ステ
ージ12のX方向及びY方向へのストロークがステージ
原点100から±200mm、かつ分割の間隔が50m
mとすると、可動範囲全体としては8×8個の矩形領域
に分割されている。分割された各矩形領域には、1から
順に通し番号(以下、マトリクス番号という)が振り分
けられている。このマトリクス番号を振り分ける際のル
ールは、矩形領域の分割間隔にかかわらず同じものとす
る。
The matrix plane 110 has, for example, a stroke of the inspection stage 12 in the X direction and the Y direction of ± 200 mm from the stage origin 100 and a division interval of 50 m.
Assuming that m, the entire movable range is divided into 8 × 8 rectangular areas. A serial number (hereinafter, referred to as a matrix number) is assigned to each of the divided rectangular regions in order from 1. The rules for assigning the matrix numbers are the same irrespective of the division interval of the rectangular area.

【0023】マトリクス平面110の分割間隔は、基板
10の大きさ、検査ステージ12の可能範囲、又はステ
ージ精度などに応じて適宜に設定することができる。例
えば、ステージ精度が低いものについては、分割間隔
(距離)を小さくし、分割数を増やすことで対応するこ
とができる。
The division interval of the matrix plane 110 can be appropriately set according to the size of the substrate 10, the possible range of the inspection stage 12, the stage accuracy, and the like. For example, when the stage accuracy is low, it can be dealt with by reducing the division interval (distance) and increasing the number of divisions.

【0024】図示していないが、モニタ装置15におい
て、モニタ画面の中央部分には位置合わせのための指標
(例えば十字線や円形枠など)が示されている。この実
施形態においては、図2の状態で、モニタ画面の指標と
ステージ原点100は一致している。そして、外部から
基板10の特定画素の座標データが与えられると、前記
特定画素がモニタ画面の指標と一致するように検査ステ
ージ12が移動する。
Although not shown, in the monitor device 15, an index (for example, a cross-hair or a circular frame) for positioning is shown at the center of the monitor screen. In this embodiment, in the state of FIG. 2, the index on the monitor screen matches the stage origin 100. Then, when the coordinate data of the specific pixel on the substrate 10 is given from the outside, the inspection stage 12 moves so that the specific pixel matches the index on the monitor screen.

【0025】このとき、検査ステージが与えられた座標
データ通りに移動していれば、基板上のどの画素につい
ても常にモニタ画面の指標と一致することになるが、一
般的な検査ステージでは位置精度に若干のばらつきがあ
るため、指定された画素がモニタ画面の指標と一致しな
いことも少なくない。そして、この状態でリペアを行う
と、リペア対象ではない正常な画素にレーザ光を照射し
てしまうおそれがあり、操作者による位置の修正が求め
られる。したがって、前述したようにライン生産数増
大、マスクの微細化が進む現状では、作業効率や歩留ま
り向上のためにも検査ステージの位置決め制御が必要と
なる。
At this time, if the inspection stage moves according to the given coordinate data, any pixel on the substrate always coincides with the index on the monitor screen. , There are many cases where the designated pixel does not match the index on the monitor screen. If the repair is performed in this state, there is a possibility that a normal pixel that is not a repair target may be irradiated with laser light, and the position correction by the operator is required. Therefore, as described above, under the current situation where the number of production lines is increasing and the size of masks is being advanced, it is necessary to control the positioning of the inspection stage in order to improve work efficiency and yield.

【0026】次に、上記のように構成されたリペア装置
1において、検査ステージ12の位置決め制御を行う場
合の処理手順について説明する。
Next, a description will be given of a processing procedure when the positioning control of the inspection stage 12 is performed in the repair apparatus 1 configured as described above.

【0027】まず、検査ステージ12の移動補正量の登
録を行う場合の処理手順を図3のフローチャートにより
説明する。
First, a processing procedure for registering the movement correction amount of the inspection stage 12 will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0028】まず、操作者は検査ステージ12上に検査
対象物と同一品種の基板10を載置し、基板10を検査
ステージ12上の定位置に固定する。ちなみに、基板1
0の各画素はパネル内にミクロン単位で正確に配列され
ており、各画素の位置も正確に出ている。基板10を定
位置に固定した後に、操作者は基板10上における特定
画素の座標データを入力する。
First, the operator places a substrate 10 of the same type as the inspection object on the inspection stage 12, and fixes the substrate 10 at a fixed position on the inspection stage 12. By the way, substrate 1
Each pixel of 0 is accurately arranged in a unit of a micron in the panel, and the position of each pixel is also accurately obtained. After fixing the substrate 10 at a fixed position, the operator inputs coordinate data of a specific pixel on the substrate 10.

【0029】操作者により特定画素の座標データが入力
されると、コントロールPC17は入力された特定画素
の座標データを取得し、ステージコントローラ11に送
り出す(ステップ101)。ステージコントローラ11
は、前記座標データに従って検査ステージ12を移動す
る(ステップ102)。これにより特定画素はステージ
原点100上に位置することになる。コントロールPC
17は、そのときのステージ座標と、前記特定画素が入
っている矩形領域のマトリクス番号とを読み取り、記憶
装置19に記憶する(ステップ103)。このステージ
座標及びマトリクス番号は、モニタ画面にも表示され
る。
When the operator inputs coordinate data of a specific pixel, the control PC 17 acquires the input coordinate data of the specific pixel and sends it to the stage controller 11 (step 101). Stage controller 11
Moves the inspection stage 12 according to the coordinate data (step 102). As a result, the specific pixel is located on the stage origin 100. Control PC
17 reads the stage coordinates at that time and the matrix number of the rectangular area containing the specific pixel, and stores them in the storage device 19 (step 103). The stage coordinates and the matrix number are also displayed on the monitor screen.

【0030】ここで操作者は、特定画素がモニタ画面の
指標と一致しているかどうかを確認する。両者が一致し
ていない場合、操作者はステージコントローラ11を手
動操作して、特定画素がモニタ画面の指標に一致するよ
うに検査ステージ12の位置を修正する。
Here, the operator checks whether or not the specific pixel matches the index on the monitor screen. If the two do not match, the operator manually operates the stage controller 11 to correct the position of the inspection stage 12 so that the specific pixel matches the index on the monitor screen.

【0031】コントロールPC17は、検査ステージ1
2の手動操作による位置の修正が行われたとき(あるい
は操作者により修正の指示入力があったとき)は(ステ
ップ104でYes)、修正後のステージ座標を読み取
り、記憶装置19に記憶する(ステップ105)。
The control PC 17 has an inspection stage 1
When the position is corrected by the manual operation 2 (or when a correction instruction is input by the operator) (Yes in step 104), the corrected stage coordinates are read and stored in the storage device 19 ( Step 105).

【0032】続いてコントロールPC17は、ステップ
103で読みとったステージ座標とステップ105で読
みとったステージ座標との差分値(X方向及びY方向の
修正量)を算出し、その値を前記特定画素が入っている
矩形領域に固有の移動補正量とする(ステップ10
6)。そして、求められた移動補正量をその矩形領域の
マトリクス番号と対応付けて記憶装置19に記憶する
(ステップ107)。
Subsequently, the control PC 17 calculates a difference value (a correction amount in the X direction and the Y direction) between the stage coordinates read in step 103 and the stage coordinates read in step 105, and the value is stored in the specific pixel. (Step 10)
6). Then, the obtained movement correction amount is stored in the storage device 19 in association with the matrix number of the rectangular area (step 107).

【0033】またステップ104において、検査ステー
ジ12の手動操作による位置の修正が行われなかったと
き(あるいは操作者により修正なしの指示入力があった
とき)は、X方向及びY方向の修正量0を移動補正量と
し(ステップ108)、ステップ107へ進む。
In step 104, when the position of the inspection stage 12 is not corrected by manual operation (or when the operator inputs an instruction without correction), the correction amount in the X and Y directions is 0. Is set as the movement correction amount (step 108), and the process proceeds to step 107.

【0034】次に、マトリクス平面110のすべての矩
形領域について移動補正量が求められていないときは
(ステップ109でNo)、ステップ101に戻り、操
作者からの指示入力があるまで待機する。
Next, when the movement correction amounts have not been obtained for all the rectangular areas on the matrix plane 110 (No in step 109), the process returns to step 101 and waits until an instruction is input by the operator.

【0035】また、ステップ101〜ステップ108の
処理を繰り返すことにより、すべての矩形領域について
移動補正量が求められたときは(ステップ109でYe
s)、その移動補正量に関するデータ(マトリクス番号
を含む)を、検査対象物とした基板10の品種及び分割
間隔と対応付けて記憶装置19に記憶する(ステップ1
10)。
When the movement correction amounts are obtained for all the rectangular areas by repeating the processing of steps 101 to 108 (Yes in step 109).
s) The data (including the matrix number) relating to the movement correction amount is stored in the storage device 19 in association with the type and division interval of the substrate 10 to be inspected (step 1).
10).

【0036】これによって、検査対象物とした基板10
と同一品種の基板を検査する際に、検査ステージ12の
位置決めを制御するための移動補正量に関するデータが
レシピとして記憶装置19に登録されたことになる。こ
うした作業を、品種の異なる他の基板についても実施す
ることで、各品種ごとにレシピを登録することができ
る。
As a result, the substrate 10 to be inspected is
That is, when inspecting a board of the same type as that described above, data relating to the movement correction amount for controlling the positioning of the inspection stage 12 is registered in the storage device 19 as a recipe. By performing such operations on other substrates of different types, a recipe can be registered for each type.

【0037】次に、実際のリペア作業において、検査ス
テージ12の位置決め制御を行う場合の処理手順を図4
のフローチャートにより説明する。ここでは、すでに登
録されている同一品種の基板を符号10′で表す。
FIG. 4 shows a processing procedure for controlling the positioning of the inspection stage 12 in the actual repair work.
This will be described with reference to the flowchart of FIG. Here, a board of the same type that has already been registered is represented by reference numeral 10 '.

【0038】まず、操作者は検査する基板10′に関す
る品種のレシピを選択する。操作者により品種のレシピ
が選択されると、コントロールPC17は、選択された
品種のレシピを記憶装置19から読み出す(ステップ2
01)。
First, the operator selects a recipe for the type of board 10 'to be inspected. When the operator selects the recipe of the type, the control PC 17 reads the recipe of the selected type from the storage device 19 (step 2).
01).

【0039】この後(あるいは品種のレシピを選択する
前に)、操作者は検査ステージ12上の定位置に検査対
象物となる基板10′を固定する。
After this (or before selecting the type of recipe), the operator fixes the substrate 10 ′ to be inspected at a fixed position on the inspection stage 12.

【0040】続いて、操作者は欠陥画素の座標をコント
ロールPC17へ入力する。この欠陥画素の座標は、図
示しない欠陥検査装置で検査した際のCADデータを用
いる。また、欠陥画素の座標データは、図示しない入力
部を通じて入力してもよいし、フレキシブルディスクに
記録したデータを読み出したり、あるいはLAN等を通
じて受信したデータを用いてもよい。
Subsequently, the operator inputs the coordinates of the defective pixel to the control PC 17. As the coordinates of the defective pixel, CAD data when inspected by a defect inspection device (not shown) is used. The coordinate data of the defective pixel may be input through an input unit (not shown), data read from a flexible disk may be read, or data received through a LAN or the like may be used.

【0041】コントロールPC17は、入力された欠陥
画素の座標データを取得し(ステップ202)、その欠
陥画素をステージ原点100へ移動した際に、検査ステ
ージ12の中心が入る矩形領域のマトリクス番号を割り
出す(ステップ203)。そして、割り出したマトリク
ス番号に対応する移動補正量のデータを、先に入力され
た欠陥画素の座標データに加え、ステージコントローラ
11に送り出す(ステップ204)。ステージコントロ
ーラ11は、移動補正量が加えられた座標データに従っ
て検査ステージ12を移動する(ステップ205)。
The control PC 17 obtains the input coordinate data of the defective pixel (step 202), and when the defective pixel is moved to the stage origin 100, calculates the matrix number of the rectangular area in which the center of the inspection stage 12 enters. (Step 203). Then, the data of the movement correction amount corresponding to the determined matrix number is added to the previously input coordinate data of the defective pixel and sent to the stage controller 11 (step 204). The stage controller 11 moves the inspection stage 12 according to the coordinate data to which the movement correction amount has been added (Step 205).

【0042】上述したような位置決め制御により、リペ
ア装置1においては、基板10′上の欠陥画素をモニタ
画面の指標と一致するように高い位置精度で移動させる
ことが可能となる。
By the above-described positioning control, in the repair device 1, it is possible to move the defective pixel on the substrate 10 'with high positional accuracy so as to match the index on the monitor screen.

【0043】また、この実施形態に示す検査ステージ1
2では、高価なリニアゲージや石定盤等が不要なため、
リペア装置を安価に構成することができる。さらに、高
精度を得るための複雑な機構を取り付ける必要がなく、
大きさも既存のものと同じ大きさとすることができるた
め、メンテナンス性に優れたリペア装置を構成すること
が可能となる。
The inspection stage 1 shown in this embodiment
In 2, the expensive linear gauge and stone surface plate are not required.
The repair device can be configured at low cost. Furthermore, there is no need to install complicated mechanisms to obtain high accuracy,
Since the size can be made the same as that of the existing device, it is possible to configure a repair device excellent in maintainability.

【0044】さらに、検査対象物となる基板の品種と、
マトリクス平面110の分割間隔と、基板ごとに求めた
移動補正量に関するデータとを対応付けて記憶装置19
に記憶するようにしたので、基板の品種ごとに座標デー
タを補正することができる。このため、基板の品種を替
える度に移動補正量を算出する必要がなく、複数の基板
を扱う場合の作業効率を向上させることができる。
Further, the type of the board to be inspected is
The storage device 19 associates the division intervals of the matrix plane 110 with data relating to the movement correction amount obtained for each substrate.
The coordinate data can be corrected for each board type. For this reason, it is not necessary to calculate the movement correction amount every time the type of substrate is changed, and it is possible to improve the work efficiency when handling a plurality of substrates.

【0045】なお、この発明に係わる検査ステージの制
御方法は、この実施形態のようなリペア装置に限らず、
欠陥検査装置などのほか、高精度な位置合わせを要求さ
れる装置一般に適用することができる。
The method of controlling the inspection stage according to the present invention is not limited to the repair apparatus as in this embodiment,
In addition to a defect inspection device, the present invention can be applied to general devices requiring high-precision alignment.

【0046】また、検査対象物は液晶パネルの基板に限
らず、この基板を用いて組み立てられた液晶パネルであ
ってもよい。
The object to be inspected is not limited to the liquid crystal panel substrate, but may be a liquid crystal panel assembled using this substrate.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係わる
検査ステージの制御方法によれば、指定された座標デー
タのX方向及びY方向に検査ステージのステージ原点か
らの移動量に応じた移動補正量を加えるようにしたの
で、検査ステージが移動した際に生じるX方向及びY方
向の誤差は前記移動補正量により相殺され、検査ステー
ジは指定された座標データに従って正確な位置に移動す
ることになる。したがって、リニアゲージや石定盤等を
用いることなしに、高い位置精度で検査ステージを移動
することができる。また、検査ステージ自体は既存のも
のを使用することができるので、高価なリニアゲージや
石定盤等を用いる場合に比べて安価な装置構成とするこ
とができる。さらに、高精度を得るための複雑な機構を
取り付ける必要がなく、大きさも既存のものと同じ大き
さとすることができるため、メンテナンス性に優れた装
置を構成することが可能となる。
As described above, according to the inspection stage control method according to the present invention, the movement correction according to the amount of movement of the inspection stage from the stage origin in the X direction and the Y direction of the designated coordinate data. Since the amount is added, errors in the X and Y directions that occur when the inspection stage moves are offset by the movement correction amount, and the inspection stage moves to an accurate position according to the designated coordinate data. . Therefore, the inspection stage can be moved with high positional accuracy without using a linear gauge, a stone surface plate, or the like. In addition, since the existing inspection stage can be used, an inexpensive device configuration can be achieved as compared with a case where an expensive linear gauge, a stone surface plate, or the like is used. Furthermore, there is no need to attach a complicated mechanism for obtaining high accuracy, and the size can be made the same as that of the existing one, so that it is possible to configure an apparatus having excellent maintainability.

【0048】とくに、検査対象物の品種と、矩形領域の
分割間隔と、検査対象物について求めた移動補正量とを
対応付けて記憶するようにした場合は、検査対象物の品
種ごとに座標データを補正することができるので、検査
対象物の品種を替える度に移動補正量を算出する必要が
なく、複数の検査対象物を扱う場合の作業効率を向上さ
せることができる。
In particular, when the type of the inspection object, the division interval of the rectangular area, and the movement correction amount obtained for the inspection object are stored in association with each other, the coordinate data for each type of the inspection object is stored. Can be corrected, so that it is not necessary to calculate the movement correction amount every time the type of the inspection target is changed, and it is possible to improve the working efficiency when handling a plurality of inspection targets.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態に係わるリペア装置の全体構成図。FIG. 1 is an overall configuration diagram of a repair device according to an embodiment.

【図2】基板、検査ステージ及びマトリクス平面の関係
を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a relationship among a substrate, an inspection stage, and a matrix plane.

【図3】検査ステージの移動補正量の登録を行う場合の
処理手順を示すフローチャート。
FIG. 3 is a flowchart showing a processing procedure when registering a movement correction amount of an inspection stage.

【図4】検査ステージの位置決め制御を行う場合の処理
手順を示すフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing a processing procedure when positioning control of an inspection stage is performed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…リペア装置、10…基板、11…ステージコントロ
ーラ、12…検査ステージ、17…コントロールPC、
18…モニタ装置、19…記憶装置、20…システム制
御ユニット、100…ステージ原点、110…マトリク
ス平面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Repair apparatus, 10 ... Substrate, 11 ... Stage controller, 12 ... Inspection stage, 17 ... Control PC,
18 monitor device, 19 storage device, 20 system control unit, 100 stage origin, 110 matrix plane

フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA03 CC17 DD02 FF04 FF27 JJ26 PP12 QQ23 TT02 UU04 2F069 AA17 BB13 BB15 CC06 DD12 DD15 FF01 GG07 GG45 GG72 MM24 MM34 PP02 2H088 FA11 FA14 FA30 4M106 AA01 BA05 CA38 DB04 DB08 DB18 DJ04 DJ07 DJ11 DJ21Continued on the front page F-term (reference) 2F065 AA03 CC17 DD02 FF04 FF27 JJ26 PP12 QQ23 TT02 UU04 2F069 AA17 BB13 BB15 CC06 DD12 DD15 FF01 GG07 GG45 GG72 MM24 MM34 PP02 2H088 FA11 FA14 FA30 4M106 DB04

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面上のX方向及びY方向への移動機構
を備え、指定された座標データに従って検査対象物をX
方向及びY方向へ移動する検査ステージにおいて、 指定された座標データのX方向及びY方向に、前記検査
ステージのステージ原点からの移動量に応じた移動補正
量を加えることを特徴とする検査ステージの制御方法。
A moving mechanism for moving the inspection object in the X direction and the Y direction on a plane;
In the inspection stage moving in the direction and the Y direction, a movement correction amount according to the movement amount of the inspection stage from the stage origin is added in the X direction and the Y direction of the designated coordinate data. Control method.
【請求項2】 前記検査ステージの可動範囲全体を、複
数の矩形領域に分割したマトリクス平面に対応させ、各
矩形領域について設定したX方向及びY方向の移動補正
量を前記指定された座標データに加えることを特徴とす
る請求項1に記載の検査ステージの制御方法。
2. The movable range of the inspection stage is made to correspond to a matrix plane divided into a plurality of rectangular regions, and the X- and Y-direction movement correction amounts set for each rectangular region are added to the designated coordinate data. The method for controlling an inspection stage according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 前記検査ステージ上の定位置に前記検査
対象物を載置した状態で、 前記検査対象物上に設定した目標ポイントが前記マトリ
クス平面の中心に位置するように前記検査ステージを移
動し、前記目標ポイントが入っている前記マトリクス平
面上の矩形領域の識別子とそのときの前記検査ステージ
の中心位置を示す第1の座標データとを読み取り、 前記目標ポイントが前記マトリクス平面上の矩形領域の
中心と一致していない状態で、前記目標ポイントが前記
マトリクス平面上の矩形領域の中心と一致するように前
記検査ステージの位置が修正されたときは、修正後の前
記検査ステージの中心位置を示す第2の座標データを読
み取り、 前記第1の座標データと第2の座標データとの差分値を
算出し、その値を前記目標ポイントが入っている前記マ
トリクス平面上の矩形領域の移動補正量とし、 前記移動補正量と前記矩形領域の識別子とを対応付けて
記憶する処理を、前記マトリクス平面上のすべての矩形
領域について実行し、 前記検査対象物と同一品種の検査対象物を前記検査ステ
ージ上の定位置に載置した状態で、その検査対象物上の
目標ポイントが入っている前記マトリクス平面上の矩形
領域の識別子を特定し、 前記特定した識別子と対応付けられた移動補正量を加え
た座標データに従って前記検査ステージを移動するこ
と、 を特徴とする請求項2に記載の検査ステージの制御方
法。
3. The inspection stage is moved so that a target point set on the inspection object is positioned at the center of the matrix plane, with the inspection object being placed at a fixed position on the inspection stage. And reading an identifier of a rectangular area on the matrix plane containing the target point and first coordinate data indicating a center position of the inspection stage at that time, wherein the target point is a rectangular area on the matrix plane. When the position of the inspection stage is corrected such that the target point is aligned with the center of the rectangular area on the matrix plane in a state where the center does not coincide with the center of the inspection stage, the corrected center position of the inspection stage is changed. The second coordinate data is read, and a difference value between the first coordinate data and the second coordinate data is calculated. Performing a process of storing the movement correction amount and the identifier of the rectangular region in association with each other as the movement correction amount of the rectangular region on the matrix plane for all the rectangular regions on the matrix plane; In a state where the inspection object of the same type as the object is placed at a fixed position on the inspection stage, the identifier of the rectangular area on the matrix plane containing the target point on the inspection object is specified, The inspection stage control method according to claim 2, wherein the inspection stage is moved according to coordinate data to which a movement correction amount associated with the specified identifier is added.
【請求項4】 検査対象物の品種と、マトリクス平面の
矩形領域の分割間隔と、前記検査対象物について求めた
移動補正量とを対応付けて記憶することを特徴とする請
求項3に記載の検査ステージの制御方法。
4. The apparatus according to claim 3, wherein a type of the inspection object, a division interval of a rectangular area on a matrix plane, and a movement correction amount obtained for the inspection object are stored in association with each other. Inspection stage control method.
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