JP2002105308A - Curable polyphenylene ether-based resin composition - Google Patents

Curable polyphenylene ether-based resin composition

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JP2002105308A
JP2002105308A JP2000295805A JP2000295805A JP2002105308A JP 2002105308 A JP2002105308 A JP 2002105308A JP 2000295805 A JP2000295805 A JP 2000295805A JP 2000295805 A JP2000295805 A JP 2000295805A JP 2002105308 A JP2002105308 A JP 2002105308A
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Japan
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curable
polyphenylene ether
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component
resin composition
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JP2000295805A
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Japanese (ja)
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Yoichi Yokota
洋一 横田
Takashi Matsuda
孝 松田
Shozo Kinoshita
昌三 木下
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Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition suitable for forming an insulating layer of a printed wiring board having sufficient adhesion to a copper plated film forming a conductor circuit after curing without deteriorating excellent dielectric characteristics and mechanical characteristics of a polyphenylene ether-based resin. SOLUTION: This curable polyphenylene ether-based resin composition comprises (a) a low-molecular weight polyphenylene ether reactional product obtained by reacting a modified polyphenylene ether with a phenolic compound in the presence of a reactional initiator, (b) triallyl isocyanurate and/or triallyl cyanurate, (c) a graft copolymer resin of a rubber-like elastic body with acrylonitrile and a vinyl aromatic compound and (d) silica. The amounts of the components based on 100 pts.wt. of the sum of the components (a) and (b) are 1-99 pts.wt. of the component (a), 99-1 pt.wt. of the component (b), 1-90 pts.wt. of the component (c) and 1-38,000 pts.wt. of the component (d).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ゴム状弾性体とア
クリロニトリルおよびビニル芳香族系化合物とのグラフ
ト共重合体樹脂とシリカを含む硬化性のポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物に関する。更に本発明は、該樹脂
組成物と基材とからなる複合材料、該樹脂組成物からな
るフィルム、該樹脂組成物からなるフィルムと金属箔か
らなる積層体、およびそれらの硬化体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a curable polyphenylene ether resin composition containing silica and a graft copolymer resin of a rubber-like elastic material, acrylonitrile and a vinyl aromatic compound. Furthermore, the present invention relates to a composite material comprising the resin composition and a substrate, a film comprising the resin composition, a laminate comprising a film comprising the resin composition and a metal foil, and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、高性能化及び
多機能化が進められており、これに使用されるプリント
配線板においてもファインパターンによる高密度化が要
求されている。これにともない、多層プリント配線板で
は、内部接続が貫通スルーホールだけでなく内・表層ビ
アホールに変わってきた。しかも、機器の高速化が進む
につれて、配線パターンの短縮化が避けられなくなり、
ビア構造の小径化とともに、多層配線板内の任意の位置
に配置できる構造が求められるようになってきた。こう
した状況から、最近、ファインパターンで内・表層の任
意の箇所にビアホールが形成ができ、最短距離配線が可
能で、配線密度の高いビルドアップ多層配線板への取り
組みが活発化してきた。また、ビルドアップ多層配線板
に導体回路を形成する方法としては、銅箔上に未硬化樹
脂フィルムを積層した樹脂付き銅箔を回路上に積層、硬
化し、表面の銅箔をエッチングすることにより導体回路
を形成するサブトラクティブ法が広く行われている。し
かし、この方法では、銅箔の厚みのためにエッチングに
より所謂アンダーカットが生じ、高精度のファインパタ
ーンが得難く、高密度化に対応することが難しいという
問題がある。このため、サブトラクティブ法に代わる方
法として、銅箔のついていない未硬化樹脂フィルムを回
路に直接積層後、硬化し、硬化フィルム上に無電解めっ
きで導体回路を形成するアディティブ法が注目されてい
る。絶縁層に用いられる樹脂としては、従来、熱硬化性
樹脂、特にエポキシ樹脂が用いられてきた。これは各種
の性能をバランス良く有するものの、近年の電子機器の
高性能化にともない、電気特性、耐熱性、吸水性の点か
ら対応しきれなくなりつつある。この問題を解決する新
しい材料としてポリフェニレンエーテル系樹脂が近年注
目をあび応用が試みられている。しかしながら、ポリフ
ェニレンエーテル系樹脂は、エポキシ樹脂に比べて導体
回路を形成する銅めっき膜との密着性が不十分で、特
に、アディティブ法により導体回路を形成した場合、め
っき膜が絶縁層から容易に剥離してしまう場合があると
いう問題がある。
2. Description of the Related Art In recent years, miniaturization, high performance, and multifunctionality of electronic devices have been promoted, and printed wiring boards used for these devices have also been required to have higher densities by fine patterns. Along with this, in multilayer printed wiring boards, internal connections have been changed to not only through through holes but also inner and surface via holes. In addition, as the speeding up of equipment progresses, shortening of wiring patterns becomes unavoidable,
As the diameter of the via structure has been reduced, a structure that can be arranged at an arbitrary position in the multilayer wiring board has been required. Under such circumstances, recently, via holes can be formed at arbitrary locations inside and on the surface with a fine pattern, the shortest distance wiring is possible, and the approach to a build-up multilayer wiring board having a high wiring density has been activated. In addition, as a method of forming a conductor circuit on a build-up multilayer wiring board, a resin-coated copper foil obtained by laminating an uncured resin film on a copper foil is laminated on the circuit, cured, and etched on the surface of the copper foil. A subtractive method for forming a conductor circuit is widely used. However, this method has a problem that a so-called undercut occurs due to etching due to the thickness of the copper foil, it is difficult to obtain a high-precision fine pattern, and it is difficult to cope with high density. For this reason, as an alternative to the subtractive method, an additive method of directly laminating an uncured resin film without a copper foil on a circuit, curing the film, and forming a conductor circuit by electroless plating on the cured film has attracted attention. . Conventionally, a thermosetting resin, particularly an epoxy resin, has been used as a resin used for the insulating layer. Although it has various performances in a well-balanced manner, it has become impossible to cope with electrical characteristics, heat resistance and water absorption with the recent improvement in performance of electronic devices. As a new material for solving this problem, polyphenylene ether-based resins have recently attracted attention and have been applied. However, polyphenylene ether-based resin has insufficient adhesion to the copper plating film that forms the conductor circuit compared to the epoxy resin, and particularly when the conductor circuit is formed by the additive method, the plating film is easily removed from the insulating layer. There is a problem that peeling may occur.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリフェニ
レンエーテル系樹脂の優れた誘電特性と機械特性を損な
うことなく、硬化後、導体回路を形成する銅めっき膜と
充分な密着性を有するプリント配線板絶縁層を形成する
のに好適な樹脂組成物を提供すること、特に、アディテ
ィブ法の利点を生かした高密度の導体回路を形成するこ
とができるプリント配線板絶縁層に好適に用いられる樹
脂組成物を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a printed wiring having sufficient adhesion to a copper plating film forming a conductor circuit after curing without impairing the excellent dielectric and mechanical properties of the polyphenylene ether resin. Providing a resin composition suitable for forming a board insulating layer, in particular, a resin composition suitably used for a printed wiring board insulating layer capable of forming a high-density conductive circuit utilizing the advantages of the additive method The purpose is to provide things.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述のよ
うな課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、絶縁層
のマトリックスを形成する樹脂に、これとは非相溶な二
重結合を含むゴム成分を粒子状に分散させた後、酸化剤
を使用してこのゴム成分を溶解除去して凹部を形成する
と、これによるアンカー効果により導体回路を形成する
銅めっき膜と絶縁層との密着性が向上することを見いだ
し、本発明に至った。即ち、本発明は、 1.(a)ポリフェニレンエーテルと不飽和カルボン酸
またはその酸無水物との反応生成物と、フェノール性化
合物とを反応開始剤の存在下に反応させて得られた低分
子量ポリフェニレンエーテル反応生成物、(b)トリア
リルイソシアヌレートおよび/またはトリアリルシアヌ
レート、(c)ゴム状弾性体とアクリロニトリルおよび
ビニル芳香族系化合物とのグラフト共重合体樹脂、並び
に(d)シリカを、(a)成分と(b)成分の和100
重量部を基準として、(a)成分を1〜99重量部、
(b)成分を99〜1重量部、(c)成分を1〜90重
量部、(d)成分を1〜38000重量部含有すること
を特徴とする硬化性のポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物、 2.上記1の硬化性のポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物及び(e)基材からなる硬化性複合材料、 3.上記2の硬化性複合材料を硬化してなる硬化複合材
料、 4.上記1の硬化性のポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物からなる硬化性フィルム、 5.上記4の硬化性フィルムを硬化してなる硬化フィル
ム、 6.上記4の硬化性フィルムと金属箔とを積層してなる
硬化性積層体、 7.上記6の硬化性積層体を硬化してなる硬化積層体、 8.上記2の硬化性複合材料及び/又は上記4の硬化性
フィルム及び/又は上記6の硬化性積層体からなる硬化
性複合体、 9.上記8の硬化性複合体を硬化してなる硬化複合体、 である。以下に、本発明について詳細に説明する。本発
明で用いられるポリフェニレンエーテルは、下記一般式
(1)で表される。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a resin forming a matrix of an insulating layer has an incompatible double resin. After dispersing the rubber component containing the bond into particles, the rubber component is dissolved and removed using an oxidizing agent to form a concave portion, and the copper plating film and the insulating layer that form a conductive circuit by the anchor effect due to this are formed. Have been found to improve the adhesiveness of the film, and have led to the present invention. That is, the present invention provides: (A) a low-molecular-weight polyphenylene ether reaction product obtained by reacting a reaction product of a polyphenylene ether with an unsaturated carboxylic acid or an acid anhydride thereof and a phenolic compound in the presence of a reaction initiator; ) Triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate, (c) a graft copolymer resin of a rubber-like elastic material and acrylonitrile and a vinyl aromatic compound, and (d) silica; ) Sum of ingredients 100
1 to 99 parts by weight of component (a), based on parts by weight,
A curable polyphenylene ether-based resin composition comprising 99 to 1 part by weight of the component (b), 1 to 90 parts by weight of the component (c), and 1 to 38000 parts by weight of the component (d); . 2. a curable composite material comprising the curable polyphenylene ether-based resin composition of (1) and a base material (e); 3. a cured composite material obtained by curing the curable composite material of the above item 2; 4. a curable film comprising the curable polyphenylene ether-based resin composition of the above 1; 5. a cured film obtained by curing the curable film of 4 above; 6. A curable laminate obtained by laminating the curable film and the metal foil according to 4 above; 7. a cured laminate obtained by curing the curable laminate of 6 above; 8. a curable composite comprising the curable composite material of 2 above and / or the curable film of 4 above and / or the curable laminate of 6 above; A cured composite obtained by curing the curable composite of the above item 8. Hereinafter, the present invention will be described in detail. The polyphenylene ether used in the present invention is represented by the following general formula (1).

【0005】[0005]

【化1】 一般式(A)におけるR1 〜R4 の低級アルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ
る。アリール基の例としては、フェニル基等が挙げられ
る。ハロゲン原子の例としては、臭素、塩素等が挙げら
れる。上記一般式(1)に示すQの代表的な例として
は、下記化2に示される4種の構造式単位で表される化
合物群が挙げられる。
Embedded image Examples of the lower alkyl group represented by R 1 to R 4 in the general formula (A) include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group. Examples of the halogen atom include bromine and chlorine. Representative examples of Q shown in the general formula (1) include a compound group represented by the following four types of structural formula units represented by the following chemical formula 2.

【0006】[0006]

【化2】 具体例として、下記化3、化4に示される構造単位等が
挙げられる。
Embedded image Specific examples include structural units shown in Chemical Formulas 3 and 4 below.

【0007】[0007]

【化3】 Embedded image

【0008】[0008]

【化4】 上記一般式(1)中のJで表されるポリフェニレンエー
テル鎖中には、一般式(A)で表される単位の他、次の
一般式(B)で表される単位が含まれていてもよい。
Embedded image In the polyphenylene ether chain represented by J in the above general formula (1), in addition to the unit represented by the general formula (A), a unit represented by the following general formula (B) is contained. Is also good.

【0009】[0009]

【化5】 本発明に用いられる一般式(1)に示されるポリフェニ
レンエーテルの好ましい例としては、2,6−ジメチル
フェノールの単独重合で得られるポリ(2,6−ジメチ
ル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジ
メチル−1,4−フェニレンエーテル)のスチレングラ
フト共重合体、2,6−ジメチルフェノールと2,3,
6−トリメチルフェノールの共重合体、2,6−ジメチ
ルフェノールと2,6−ジメチル−3−フェニルフェノ
ールの共重合体、2,6−ジメチルフェノールを下記化
6に示す多官能性フェノール化合物の存在下で重合して
得られた多官能ポリフェニレンエーテル、例えば、特開
昭63−301222号公報、特開平1−297428
号公報に開示されているような一般式(A)および
(B)の単位を含む共重合体等が挙げられる。
Embedded image Preferred examples of the polyphenylene ether represented by the general formula (1) used in the present invention include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) obtained by homopolymerization of 2,6-dimethylphenol, and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether). (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) styrene graft copolymer, 2,6-dimethylphenol and 2,3
A copolymer of 6-trimethylphenol, a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,6-dimethyl-3-phenylphenol, and the presence of a polyfunctional phenol compound represented by the following chemical formula 6, A polyfunctional polyphenylene ether obtained by polymerization under the following conditions, for example, JP-A-63-301222, JP-A-1-297428
And copolymers containing the units of the general formulas (A) and (B) as disclosed in JP-A No. 10-260, 1988.

【0010】[0010]

【化6】 (式中、Qは一分子中に2〜6個のフェノール性水酸基
を持ち、フェノール水酸基のオルト位およびパラ位に重
合不活性な置換基を有する多官能フェノール化合物の残
基を表し、mは2〜6の整数である。) 以上述べたポリフェニレンエーテルの分子量について
は、30℃、5g/lのクロロホルム溶液で測定した粘
度数ηsp/Cが0.1〜1.0の範囲にあるものが良
好に使用できる。本発明で用いられる不飽和カルボン酸
およびその酸無水物の例としては、アクリル酸、メタク
リル酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水
イタコン酸、無水グルタル酸、無水シトラコン酸等が挙
げられる。特に無水マレイン酸、フマル酸が最も良好に
使用できる。反応は、ポリフェニレンエーテルと不飽和
カルボン酸またはその酸無水物を100〜390℃の温
度範囲で加熱することによって行われる。この際、ラジ
カル開始剤を共存させてもよい。溶液法と溶融混合法の
両方が使用できるが、押出機等を用いる溶融混合法の方
が簡便に行うことができ、本発明の目的に適している。
Embedded image (In the formula, Q represents a residue of a polyfunctional phenol compound having 2 to 6 phenolic hydroxyl groups in one molecule and having a polymerization-inactive substituent at an ortho position and a para position of the phenolic hydroxyl group, and m represents The molecular weight of the polyphenylene ether described above is such that the viscosity number ηsp / C measured with a chloroform solution of 5 g / l at 30 ° C. is in the range of 0.1 to 1.0. Can be used well. Examples of the unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride used in the present invention include acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, glutaric anhydride, citraconic anhydride and the like. . Particularly, maleic anhydride and fumaric acid can be used most preferably. The reaction is carried out by heating the polyphenylene ether and the unsaturated carboxylic acid or anhydride thereof in a temperature range of 100 to 390 ° C. At this time, a radical initiator may coexist. Although both the solution method and the melt mixing method can be used, the melt mixing method using an extruder or the like can be more easily performed and is suitable for the purpose of the present invention.

【0011】不飽和カルボン酸またはその酸無水物の割
合は、ポリフェニレンエーテル100重量部に対し0.
01〜5.0重量部、好ましくは0.1〜3.0重量部
である。本発明においては、このようにして得られた変
性ポリフェニレンエーテル(以下「変性PPE」と略
す。)と、フェノール性化合物とを反応開始剤の存在
下、再分配反応させて得られる低分子量ポリフェニレン
エーテル反応生成物を用いる。このような低分子量ポリ
フェニレンエーテル反応生成物を用いた、本発明の樹脂
組成物を、ビルドアップ工法において絶縁層に使用する
と、積層工程において空隙を残すことなく回路に樹脂を
十分流し込むことができる。特に、内層回路が十分な流
動性が要求される細線構造を有する場合でも、本発明の
低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物含有樹脂組
成物を用いると、積層工程において空隙を残すことなく
回路に樹脂を十分に流し込むことができる。低分子量ポ
リフェニレンエーテル反応生成物の製造に用いられるフ
ェノール性化合物は、次の化7に示されるフェノール性
化合物、すなわち、1以上のフェノール性ヒドロキシル
基を有する化合物である。
The ratio of the unsaturated carboxylic acid or its anhydride is 100 parts by weight of polyphenylene ether.
It is from 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably from 0.1 to 3.0 parts by weight. In the present invention, the low-molecular-weight polyphenylene ether obtained by redistributing the modified polyphenylene ether (hereinafter abbreviated as “modified PPE”) thus obtained with a phenolic compound in the presence of a reaction initiator is used. The reaction product is used. When the resin composition of the present invention using such a low molecular weight polyphenylene ether reaction product is used for an insulating layer in a build-up method, the resin can be sufficiently poured into a circuit without leaving a void in a laminating step. In particular, even when the inner layer circuit has a fine wire structure required to have sufficient fluidity, when the resin composition containing a low molecular weight polyphenylene ether reaction product of the present invention is used, the resin is added to the circuit without leaving voids in the laminating step. You can pour enough. The phenolic compound used for producing the low-molecular-weight polyphenylene ether reaction product is a phenolic compound represented by the following chemical formula 7, that is, a compound having one or more phenolic hydroxyl groups.

【0012】[0012]

【化7】 該フェノール性化合物の具体例としては、例えば、2−
メチルフェノール、3−メチルフェノール、4−メチル
フェノール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノ
ール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、
2,4,6−トリメチルフェノール、2−メチル−6−
アリルフェノール、2−メトキシフェノール、3−メト
キシフェノール、4−メトキシフェノール、2−メトキ
シ−4−アリルフェノール、2−アリルフェノール、ビ
スフェノール類、例えばビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールS、並びにフェノールノボラッ
ク、クレゾールノボラックなどが挙げられ、好ましくは
2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5
−キシレノール、2,6−キシレノール、ビスフェノー
ル類、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラッ
クである。低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物
の製造に用いられる反応開始剤としては次の化8に示さ
れる過酸化物が好ましく使用できる。
Embedded image Specific examples of the phenolic compound include, for example, 2-
Methylphenol, 3-methylphenol, 4-methylphenol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol,
2,4,6-trimethylphenol, 2-methyl-6
Allylphenol, 2-methoxyphenol, 3-methoxyphenol, 4-methoxyphenol, 2-methoxy-4-allylphenol, 2-allylphenol, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and phenol novolak, cresol Novolak and the like, preferably 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5
-Xylenol, 2,6-xylenol, bisphenols, phenol novolak and cresol novolak. As a reaction initiator used for producing a low molecular weight polyphenylene ether reaction product, a peroxide represented by the following formula 8 can be preferably used.

【0013】[0013]

【化8】 上記化8に示される過酸化物の具体例としては、ジアシ
ルパーオキシド類として、例えば、ベンゾイルパーオキ
シド、4,4−ジ−ブチルベンゾイルパーオキシド又は
その他のアリール置換誘導体、ジラウリルパーオキシ
ド、アセチルベンゾイルパーオキシド、アセチルシクロ
ヘキシルスルホニルパーオキシド又はジフタロイルパー
オキシド等が、パーオキシジカーボネート類としては、
例えば、ジアセチルパーオキシジカーボネート、ジ−n
−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピル
パーオキシド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)
パーオキシジカーボネート等が、パーオキシ酸として
は、例えば過安息香酸、3−クロロ過安息香酸、4−ニ
トロ過安息香酸及びその他の過安息香酸の置換誘導体、
パーオキシ酢酸、パーオキシプロパン酸、パーオキシブ
タン酸、パーオキシノナン酸、パーオキシドデカン酸、
ジパーオキシグルタル酸、ジパーオキシアジピン酸、ジ
パーオキシオクタン二酸、ジパーオキシノナン二酸、ジ
パーオキシドデカン二酸、モノパーオキシフタル酸等
が、さらにはパーオキシ硫酸、モノパーオキシ二硫酸、
パーオキシリン酸、パーオキシ二リン酸等の無機パーオ
キシ酸とその対応塩、及びパーオキシカルボン酸エステ
ル、例えば、過ギ酸t−ブチル、過酢酸t−ブチル、パ
ーオキシイソ酪酸t−ブチル、パーオキシノナン酸t−
ブチル、モノパーオキシマレイン酸t−ブチル、ジパ―
オキシフタル酸t−ブチル、ジパーオキシアジピン酸ジ
−t−ブチル、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベン
ゾイルパーオキシ)ヘキサン等が挙げられる。本発明に
用いられるその他の反応開始剤であるラジカル生成化合
物の具体例を挙げると、キノン類又はジフェノキノン類
であり、例えばベンゾキノン又は2,2’−6,6’−
テトラメチルジフェノキノン(TMDQ)等である。低
分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物(a)を製造
する場合は、有機溶媒中で、上記の変性PPEとフェノ
ール性化合物とを反応開始剤の存在下に再分配反応させ
る。
Embedded image Specific examples of the peroxide represented by Chemical formula 8 include diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, 4,4-di-butylbenzoyl peroxide or other aryl-substituted derivatives, dilauryl peroxide, and acetyl. Benzoyl peroxide, acetylcyclohexylsulfonyl peroxide, diphthaloyl peroxide and the like, as peroxydicarbonates,
For example, diacetyl peroxydicarbonate, di-n
-Propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl)
Peroxydicarbonate and the like, as peroxy acids, for example, perbenzoic acid, 3-chloroperbenzoic acid, 4-nitroperbenzoic acid and other substituted derivatives of perbenzoic acid,
Peroxyacetic acid, peroxypropanoic acid, peroxybutanoic acid, peroxynonanoic acid, peroxide decanoic acid,
Diperoxyglutaric acid, diperoxyadipic acid, diperoxyoctane diacid, diperoxynonane diacid, diperoxide decane diacid, monoperoxyphthalic acid, etc., and further peroxysulfuric acid, monoperoxydisulfuric acid,
Inorganic peroxyacids such as peroxyphosphoric acid and peroxydiphosphoric acid and their corresponding salts, and peroxycarboxylic acid esters such as t-butylperformate, t-butylperacetate, t-butylperoxyisobutyrate, and t-peroxynonanoic acid
Butyl, t-butyl monoperoxymaleate, dipar-
Examples include t-butyl oxyphthalate, di-t-butyl diperoxyadipate, and 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane. Specific examples of the radical generating compound that is another reaction initiator used in the present invention include quinones and diphenoquinones, such as benzoquinone and 2,2′-6,6′-.
And tetramethyldiphenoquinone (TMDQ). When producing the low molecular weight polyphenylene ether reaction product (a), the modified PPE and the phenolic compound are redistributed in an organic solvent in the presence of a reaction initiator.

【0014】再分配反応の条件としては、有機溶媒中、
上記の変性PPEとフェノール性化合物と反応開始剤を
攪拌しながら、60〜120℃、好ましくは70〜11
0℃で10〜300分程度加熱して行う。なお、用いる
有機溶媒としては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。この反応のメカニ
ズムについては、反応開始剤の存在下で変性PPEとフ
ェノール性化合物を反応させると、先ず変性PPEがラ
ジカル化されると考えられ、直鎖が切断される再分配反
応が進行して変性PPEの低分子量化が進行していくと
考えられる。しかし、例えば変性PPEが無水マレイン
酸で変性されている場合は、一部の末端には無水マレイ
ン酸の結合によって、フェノール性水酸基が失われてお
り、低分子量化の影響を受けないでそのまま存続すると
考えられる。したがって、フィルムとしての機械的特性
を損なうことなく分子量を低減すること、ひいては溶融
粘度を低減することが可能となると考えられる(なお無
水マレイン酸変性PPEの構造については、J.H.G
lans and M.K.Akkapeddi、Ma
cromolecules 1991、24、383−
386に記載されている)。末端が変性されている割合
については、末端の数100個を基準として0.01個
以上90個未満、好ましくは1個以上80個未満が好ま
しい。末端が変性されている割合が0.01個未満では
分子量低下が著しく、膜の機械的特性に影響を及ぼすの
で好ましくない。また、変性されている末端の数が90
個以上では再分配反応による分子量低下の効果が小さ
く、溶融特性の良い樹脂組成物が得られないので好まし
くない。この低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成
物(a)の製造に際して用いられる変性PPE、フェノ
ール性化合物および反応開始剤の量比は、変性PPE1
00重量部に対して、フェノール性化合物が0.5〜6
重量部、好ましくは0.5〜4.5重量部、反応開始剤
が2〜10重量部、好ましくは2.5〜7.5重量部の
範囲である。次に本発明に用いられる(b)成分である
トリアリルイソシアヌレートおよび/またはトリアリル
シアヌレートとは、次の式化9に示される3官能性モノ
マーである。
The conditions of the redistribution reaction are as follows:
While stirring the modified PPE, the phenolic compound and the reaction initiator, the temperature is 60 to 120 ° C., preferably 70 to 11 ° C.
Heating is performed at 0 ° C. for about 10 to 300 minutes. In addition, as an organic solvent to be used, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, and xylene are exemplified. Regarding the mechanism of this reaction, when a modified PPE is reacted with a phenolic compound in the presence of a reaction initiator, it is considered that the modified PPE is radicalized first, and a redistribution reaction in which a straight chain is cut proceeds. It is considered that the molecular weight of the modified PPE is reduced. However, when the modified PPE is modified with maleic anhydride, for example, the phenolic hydroxyl group is lost at some ends due to the binding of maleic anhydride, and the terminal remains unaffected by the reduction in molecular weight. It is thought that. Therefore, it is considered that it is possible to reduce the molecular weight without impairing the mechanical properties as a film and, consequently, to reduce the melt viscosity (for the structure of maleic anhydride-modified PPE, see JHG
lans and M.S. K. Akkapeddi, Ma
cromolecules 1991, 24, 383-
386). The ratio of terminal modification is preferably 0.01 or more and less than 90, and more preferably 1 or more and less than 80 based on several hundred terminals. If the ratio of the terminal modified is less than 0.01, the molecular weight is remarkably reduced, and the mechanical properties of the film are unfavorably affected. In addition, the number of denatured ends is 90
If the number is more than one, the effect of lowering the molecular weight by the redistribution reaction is small, and a resin composition having good melting properties cannot be obtained, which is not preferable. The modified PPE, the phenolic compound and the reaction initiator used in the production of the low-molecular-weight polyphenylene ether reaction product (a) were prepared in a modified PPE1
The phenolic compound is contained in an amount of 0.5 to 6 parts by weight based on 00 parts by weight.
Parts by weight, preferably 0.5 to 4.5 parts by weight, and the reaction initiator in the range of 2 to 10 parts by weight, preferably 2.5 to 7.5 parts by weight. Next, triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate, which is the component (b) used in the present invention, is a trifunctional monomer represented by the following formula 9.

【0015】[0015]

【化9】 本発明において、トリアリルイソシアヌレートおよび/
またはトリアリルシアヌレートは、可塑剤ならびに架橋
剤としての効果を発揮する。以上説明した(a)成分、
(b)成分の2つの成分のうち(a)成分と(b)成分
の配合割合は、両成分の和100重量部を基準として、
(a)成分が1〜99重量部、好ましくは10〜70重
量部、(b)成分が99〜1重量部、好ましくは90〜
30重量部である。(b)成分が1重量部未満では、樹
脂を熱軟化させて、回路層を埋め込むために必要な溶融
特性が得られず、また密着不良を生じる。99重量部以
上では誘電率、誘電正接が上昇し好ましくない。本発明
の硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物の(c)
成分として用いられるゴム状弾性体とアクリロニトリル
およびビニル芳香族系化合物とのグラフト共重合体樹脂
とは、アクリロニトリルとビニル芳香族系化合物との共
重合体および/またはアクリロニトリル、ビニル芳香族
系化合物と共重合可能な化合物との共重合体をマトリッ
クス相とし、ゴム状弾性体にアクリロニトリル及びスチ
レン系化合物がグラフト共重合したグラフトゴム相を島
状に分散した状態で含むものである。ゴム状弾性体とし
ては、共役ジエン系ゴムの如く二重結合を有するものが
望ましく、例えば、ポリブタジエン、スチレン−ブタジ
エン共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、スチレン−ブタジエン・ブロック共重合体、ポリイ
ソプレン、天然ゴム等が挙げられる。エチレン−プロピ
レン共重合体あるいはスチレン−ブタジエン・ブロック
共重合体の水素添加物の如く共役二重結合を含まないゴ
ム状弾性体を使用した場合は、酸化剤によりエッチング
され難く、アンカー効果が少なくなり、めっき密着性が
悪くなる傾向にあり、好ましくない。また、ビニル芳香
族系化合物とは、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、β−メチルスチレン、ビニルトルエン、t−ブチル
スチレンなどが挙げられ、これらの一種または二種以上
の併用系、あるいはこれらと共重合可能なビニル化合物
例えばメチルメタクリレート、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、ブチルアクリレート、無水マレイン酸
などを併用してもよい。
Embedded image In the present invention, triallyl isocyanurate and / or
Alternatively, triallyl cyanurate exerts effects as a plasticizer and a crosslinking agent. The component (a) described above,
The mixing ratio of the component (a) and the component (b) among the two components of the component (b) is based on 100 parts by weight of the sum of both components.
Component (a) is 1 to 99 parts by weight, preferably 10 to 70 parts by weight, and component (b) is 99 to 1 part by weight, preferably 90 to 90 parts by weight.
30 parts by weight. If the amount of the component (b) is less than 1 part by weight, the resin is thermally softened, and the melting characteristics required for embedding the circuit layer cannot be obtained, and poor adhesion occurs. If the amount is more than 99 parts by weight, the dielectric constant and the dielectric loss tangent increase, which is not preferable. (C) of the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention
The rubbery elastomer used as the component and the graft copolymer resin of acrylonitrile and a vinyl aromatic compound are a copolymer of acrylonitrile and a vinyl aromatic compound and / or a copolymer of acrylonitrile and a vinyl aromatic compound. A copolymer with a polymerizable compound is used as a matrix phase, and a rubber-like elastic body contains a graft rubber phase obtained by graft copolymerization of acrylonitrile and a styrene-based compound in an island-like state. As the rubber-like elastic body, those having a double bond such as a conjugated diene rubber are preferable, and examples thereof include polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene block copolymer, and polystyrene. Examples include isoprene and natural rubber. When a rubber-like elastic body containing no conjugated double bond such as a hydrogenated product of an ethylene-propylene copolymer or a styrene-butadiene block copolymer is used, it is difficult to be etched by an oxidizing agent and the anchor effect is reduced. However, plating adhesion tends to be poor, which is not preferable. The vinyl aromatic compound includes, for example, styrene, α-methylstyrene, β-methylstyrene, vinyltoluene, t-butylstyrene and the like, and one or more of these may be used in combination, or may be used in combination with these. Polymerizable vinyl compounds such as methyl methacrylate, acrylonitrile, methacrylonitrile, butyl acrylate, and maleic anhydride may be used in combination.

【0016】本発明で使用するゴム状弾性体とアクリロ
ニトリルおよびビニル芳香族系化合物とのグラフト共重
合体樹脂は、ゴム状重合体の存在下に、アクリロニトリ
ルとスチレン系化合物を主成分とする単量体を、ラジカ
ル重合開始剤の存在下または非存在下に、塊状重合、溶
液重合、塊状懸濁重合あるいは乳化重合などの方法によ
って製造し得ることはよく知られており、工業的に生産
もされている。また、グラフトゴム層と、連続相樹脂と
を別個に重合し、それらを組み合わせてもよい。本発明
で使用される(c)成分中のゴム状弾性体とアクリロニ
トリルおよびビニル芳香族系化合物の使用割合は、ゴム
状弾性体単位が25〜35重量%、好ましくは30〜3
5重量%、アクリロニトリル単位が7〜40重量%、好
ましくは7〜20重量%、ビニル芳香族系化合物単位が
25〜68重量%、好ましくは45〜63重量%の範囲
である。ゴム状弾性体単位が25重量%を下回る場合
は、酸化剤によるエッチング不足で、アンカー効果が少
なくなり、めっき密着性が低くなる傾向にあり好ましく
ない。また、35重量%を上回る場合は、エッチング過
剰となりめっき面の表面状態が悪化するため好ましくな
い。一方、アクリロニトリル単位が7重量%未満では、
むしろ無電解めっき析出が難しく、密着性が低下する傾
向にあり好ましくない。また、40重量%を越えると、
酸化剤によるエッチングがされ難くなり、めっき密着性
が低くなる傾向にあり好ましくない。ゴム状弾性体とア
クリロニトリルおよびビニル芳香族系化合物とのグラフ
ト共重合体樹脂の代表例としては、ABS樹脂、ABS
とASとの混合樹脂等を挙げることができる。
The graft copolymer resin of the rubber-like elastic material and acrylonitrile and a vinyl aromatic compound used in the present invention can be used in the presence of a rubber-like polymer in the form of a monomer containing acrylonitrile and a styrene-based compound as main components. It is well known that the polymer can be produced by a method such as bulk polymerization, solution polymerization, bulk suspension polymerization or emulsion polymerization in the presence or absence of a radical polymerization initiator, and it is also industrially produced. ing. Further, the graft rubber layer and the continuous phase resin may be separately polymerized and combined. In the component (c) used in the present invention, the proportion of the rubber-like elastic body to acrylonitrile and the vinyl aromatic compound in the rubber-like elastic body unit is 25 to 35% by weight, preferably 30 to 3% by weight.
The range is 5% by weight, the acrylonitrile unit is 7 to 40% by weight, preferably 7 to 20% by weight, and the vinyl aromatic compound unit is 25 to 68% by weight, preferably 45 to 63% by weight. If the rubber-like elastic body unit is less than 25% by weight, the anchor effect is reduced due to insufficient etching by the oxidizing agent, and the plating adhesion tends to decrease, which is not preferable. On the other hand, if the content exceeds 35% by weight, the etching is excessive and the surface condition of the plated surface deteriorates, which is not preferable. On the other hand, if the acrylonitrile unit is less than 7% by weight,
Rather, electroless plating deposition is difficult, and the adhesion tends to decrease, which is not preferable. If it exceeds 40% by weight,
Etching with an oxidizing agent becomes difficult and plating adhesion tends to decrease, which is not preferable. Representative examples of the graft copolymer resin of a rubber-like elastic material and acrylonitrile and a vinyl aromatic compound include ABS resin and ABS resin.
And a mixed resin of AS and AS.

【0017】以上説明した(c)成分の配合割合は、
(a)成分と(b)成分の和100重量部を基準とし
て、1〜90重量部、好ましくは1〜80重量部であ
る。(c)成分が1重量未満では、アンカー効果の不足
からめっきの密着性が得られず、90重量部を越える
と、エッチング過剰になるためめっき面の表面状態が悪
化するだけでなく、内層回路・基板への積層に際して流
動性が不十分となり、特に内層回路・基板が細線回路を
有する場合にはその回路間への流れ込みが不十分となり
好ましくない。本発明の(d)成分として用いられるシ
リカは、本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物の硬化体に寸法安定性を付与する目的で配合され
るが、化学的には二酸化ケイ素(SiO2 )である。こ
のシリカの形状については、球状であっても破砕型であ
っても、これらを混合したものであってもよく、特に限
定はしない。また、その平均粒径についても、本発明の
硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物により形成
される硬化体の厚み以下であれば特に限定はしないが、
0.1μm〜3μm以下であることが好ましい。このシ
リカと樹脂との界面における接着性を改善するため、ま
た、シリカ表面を疎水化し本発明の硬化性ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂組成物中で良好な分散状態を得るため
に、本発明で用いられるシリカはシランカップリング剤
で処理されていることが好ましい。このようなシランカ
ップリング剤としては、例えばγ−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリエトキシシラン等が挙げられるが、特に限定はしな
い。シランカップリング剤の処理量も特に限定するもの
ではなく、未処理のシリカの比表面積にもよるが、未処
理のシリカに対して0.1〜5重量%であることが好ま
しい。この処理量が0.1重量%より少ないと、充分な
分散性が得られず、5重量%より多いと、却ってシリカ
同士の凝集が起こるようになり好ましくない。処理量の
より好ましい範囲は、0.3〜2重量%である。
The mixing ratio of the component (c) described above is as follows:
The amount is 1 to 90 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sum of the components (a) and (b). If the component (c) is less than 1% by weight, the adhesion of the plating cannot be obtained due to insufficient anchor effect, and if it exceeds 90% by weight, the etching will be excessive and the surface condition of the plating surface will not only deteriorate, but also the inner layer circuit will be deteriorated. -Fluidity becomes insufficient at the time of lamination on the substrate, and especially when the inner layer circuit / substrate has a fine wire circuit, the flow between the circuits is insufficient, which is not preferable. Silica used as component (d) of the present invention, the curable polyphenylene but ether is blended for the purpose of imparting dimensional stability to the cured product of the resin composition, chemically silicon dioxide of the present invention (SiO 2 ). The shape of the silica may be spherical, crushed, or a mixture thereof, and is not particularly limited. Also, the average particle size is not particularly limited as long as it is equal to or less than the thickness of the cured product formed by the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention,
It is preferably from 0.1 μm to 3 μm. The silica used in the present invention for improving the adhesion at the interface between the silica and the resin, and for obtaining a good dispersion state in the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention by making the silica surface hydrophobic. Is preferably treated with a silane coupling agent. Examples of such a silane coupling agent include γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, and the like. However, there is no particular limitation. The amount of the silane coupling agent to be treated is not particularly limited either, and although it depends on the specific surface area of the untreated silica, it is preferably 0.1 to 5% by weight based on the untreated silica. When the treatment amount is less than 0.1% by weight, sufficient dispersibility cannot be obtained, and when the treatment amount is more than 5% by weight, aggregation of silicas occurs on the contrary, which is not preferable. A more preferred range of the treatment amount is 0.3 to 2% by weight.

【0018】(d)成分の配合割合は、(a)成分と
(b)成分の和100重量部を基準として、1〜380
00重量部、好ましくは1〜1000重量部、より好ま
しくは5〜300重量部である。(d)成分が1重量部
未満のときは、本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル
系樹脂組成物により形成される硬化体の熱膨張特性の改
善が不十分であり、38000重量部を越えると樹脂組
成物の流動性が低くなり過ぎるため好ましくない。上記
(a)、(b)、(c)および(d)成分を混合する方
法としては、4成分を溶媒中に均一に溶解/分散させる
溶液混合法が好ましい。また、(c)成分中のゴム状弾
性体の分散性を更に向上させるために、ホモジナイザー
等の高速ミキサーを用いた後、(d)成分の分散性を更
に向上させるために、プラネタリー方式、ボールミル乃
至ビーズミル方式、三本ロールミル方式等の分散機を用
いることが好ましい。溶液混合法で用いられる溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエチ
レンなどのハロゲン系溶媒、さらにはTHF等が挙げら
れるが、これらは単独もしくは混合して使用できる。本
発明の硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物は、
後述するように加熱等の手段により架橋反応を起こして
硬化するが、その際の反応温度を低くしたり不飽和基の
架橋反応を促進する目的でラジカル開始剤を含有させて
使用してもよい。本発明の硬化性ポリフェニレンエーテ
ル系樹脂組成物に用いられるラジカル開始剤の量は、
(a)成分と(b)成分の和100重量部を基準として
0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜8重量部であ
る。ラジカル開始剤の代表的な例を挙げると、ベンゾイ
ルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオキサ
イド、t−ブチルクミルパーオキサイド、α,α−ビス
(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブ
チルパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシ
ベンゾエート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)
ブタン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオ
キシ)ヘキサン、ジ(トリメチルシリル)パーオキサイ
ド、トリメチルシリルトリフェニルシリルパーオキサイ
ド等の過酸化物が挙げられる。
The mixing ratio of the component (d) is from 1 to 380 based on 100 parts by weight of the sum of the components (a) and (b).
00 parts by weight, preferably 1 to 1000 parts by weight, more preferably 5 to 300 parts by weight. When the amount of the component (d) is less than 1 part by weight, the thermal expansion characteristic of the cured product formed by the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention is insufficient. It is not preferable because the fluidity of the material becomes too low. As a method of mixing the components (a), (b), (c) and (d), a solution mixing method in which the four components are uniformly dissolved / dispersed in a solvent is preferable. Further, in order to further improve the dispersibility of the rubber-like elastic material in the component (c), a high-speed mixer such as a homogenizer is used, and then in order to further improve the dispersibility of the component (d), a planetary method is used. It is preferable to use a dispersing machine such as a ball mill, a bead mill, and a three-roll mill. Examples of the solvent used in the solution mixing method include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; halogenated solvents such as dichloromethane, chloroform, and trichloroethylene; and THF and the like. These may be used alone or in combination. it can. Curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention,
As described below, a crosslinking reaction is caused by heating or the like to cause curing, but a radical initiator may be used for the purpose of lowering the reaction temperature or promoting the crosslinking reaction of the unsaturated group. . The amount of the radical initiator used in the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention,
The amount is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the sum of the components (a) and (b). Representative examples of the radical initiator include benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide,
2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumene Ruperoxide, α, α-bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, dicumyl peroxide, di-t- Butyl peroxyisophthalate, t-butyl peroxybenzoate, 2,2-bis (t-butyl peroxy)
Butane, 2,2-bis (t-butylperoxy) octane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, di (trimethylsilyl) peroxide, trimethylsilyltriphenylsilyl peroxide, etc. Oxides.

【0019】本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物は、その用途に応じて所望の性能を付与させ
る目的で本来の性能を損なわない範囲の量の充填剤や添
加剤を配合して用いることができる。充填剤は繊維状で
あっても粉末状であってもよく、カーボンブラック、ア
ルミナ、タルク、雲母、ガラスビーズ、ガラス中空球等
を挙げることができる。添加剤としては、酸化防止剤、
熱安定剤、帯電防止剤、可塑剤、顔料、染料、着色剤等
が挙げられる。また、難燃性の一層の向上を図る目的で
塩素系、臭素系、リン系、窒素系、シリコン系の難燃剤
やSb2 3 、NbSbO3 ・1/4H 2 O等の難燃助
剤を併用することもできる。本発明の硬化性ポリフェニ
レンエーテル系樹脂組成物及び基材からなる硬化性複合
材料の硬化体、該樹脂組成物からなる硬化性フィルムの
硬化体、該樹脂組成物からなる硬化性フィルムと金属箔
とからなる硬化性積層体の硬化体は、上述の硬化性ポリ
フェニレンエーテル系樹脂組成物を硬化することにより
得られるものである。硬化の方法は任意であり、熱、
光、電子線等による方法を採用することができる。加熱
により硬化を行う場合は、ラジカル開始剤の種類によっ
ても異なるが、80〜300℃、より好ましくは120
〜250℃範囲で選ばれる。また、硬化時間は1分〜1
0時間、より好ましくは1分〜5時間である。次に、本
発明の硬化性複合材料及びその硬化体について説明す
る。本発明の硬化性複合材料は、(a)ポリフェニレン
エーテルと不飽和カルボン酸またはその酸無水物との反
応生成物と、フェノール性化合物とを反応開始剤の存在
下に反応させて得られた低分子量ポリフェニレンエーテ
ル反応生成物、(b)トリアリルイソシアヌレートおよ
び/またはトリアリルシアヌレート、(c)ゴム状弾性
体とアクリロニトリルおよびビニル芳香族系化合物との
グラフト共重合体樹脂、(d)シリカと、(e)基材と
からなる。
The curable polyphenylene ether of the present invention
The resin composition can impart desired performance according to its use.
Fillers and additives in an amount that does not impair the original performance for the purpose of
Additives can be compounded and used. The filler is fibrous
Powder or carbon black,
Lumina, talc, mica, glass beads, glass hollow spheres, etc.
Can be mentioned. As additives, antioxidants,
Heat stabilizer, antistatic agent, plasticizer, pigment, dye, colorant, etc.
Is mentioned. Also, with the aim of further improving flame retardancy
Chlorine, bromine, phosphorus, nitrogen and silicon flame retardants
And SbTwoOThree, NbSbOThree・ 1 / 4H TwoO and other flame retardant aids
Agents can be used in combination. Curable polyphenylene of the present invention
Curable composite comprising a lenether-based resin composition and a substrate
Cured material of the material, of the curable film comprising the resin composition
Cured body, curable film and metal foil comprising the resin composition
The cured product of the curable laminate consisting of
By curing the phenylene ether resin composition
It is obtained. The method of curing is optional, heat,
A method using light, an electron beam, or the like can be employed. heating
If curing is performed by using a radical initiator,
80-300 ° C., more preferably 120-300 ° C.
~ 250 ° C. The curing time is 1 minute to 1
0 hour, more preferably 1 minute to 5 hours. Next, the book
The curable composite material of the invention and the cured product thereof will be described.
You. The curable composite material of the present invention comprises: (a) polyphenylene
Reaction between ether and unsaturated carboxylic acid or its anhydride
Reaction product with phenolic compound in the presence of initiator
Low molecular weight polyphenylene ether obtained by reacting
Reaction product, (b) triallyl isocyanurate and
And / or triallyl cyanurate, (c) rubbery elasticity
Of Acrylonitrile with Acrylonitrile and Vinyl Aromatic Compound
A graft copolymer resin, (d) silica, and (e) a base material.
Consists of

【0020】(e)成分の基材としては、クロス、チョ
ップドマット、サーフェンシングマットなどの各種ガラ
ス布、金属繊維布およびその他合成もしくは天然の無機
繊維布;ポリビニルアルコール繊維、ポリエステル繊
維、アクリル繊維、全芳香族ポリアミド繊維、芳香族ポ
リエステル繊維、ポリベンザゾール繊維等の液晶繊維、
ポリテトラフルオロエチレン繊維などの合成繊維から得
られる織布または不織布;綿布、麻布、フェルトなどの
天然繊維;カーボン繊維布;クラフト紙、コットン紙、
紙−ガラス混繊紙等のセルロース系の天然セルロース系
布などがそれぞれ単独で、あるいは2種以上併せて用い
られる。本発明の硬化性複合材料における(e)成分の
割合は、(a)成分、(b)成分、(c)成分および
(d)成分の和100重量部を基準として5〜90重量
部、より好ましくは10〜80重量部、さらに好ましく
は20〜70重量部である。(e)成分が5重量部より
少なくなると硬化性複合材料の硬化後の寸法安定性や強
度が不十分であり、また90重量部より多くなると硬化
性複合材料の硬化体の誘電特性が劣り好ましくない。本
発明の硬化性複合材料には、必要に応じて樹脂組成物層
と基材の界面における接着性を改善する目的でカップリ
ング剤を用いることができる。このカップリング剤とし
ては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミ
ネートカップリング剤等の通常用いられるものが使用で
きる。本発明の硬化性複合材料を製造する方法として
は、本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物を溶媒に均一に溶解/分散させ、基材に含浸させた後
乾燥する方法が挙げられる。ここで用いられる溶媒とし
ては、前述の本発明の樹脂組成物製造に際して用いられ
る芳香族炭化水素系溶媒およびハロゲン系溶媒の他に、
ケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシドなどが挙げられ、これらは単独もしくは混合して
用いられる。
As the base material of the component (e), cloths, chopped mats, surfing mats and other various glass cloths, metal fiber cloths and other synthetic or natural inorganic fiber cloths; polyvinyl alcohol fibers, polyester fibers, acrylic fibers, Liquid crystal fibers such as wholly aromatic polyamide fibers, aromatic polyester fibers, and polybenzazole fibers,
Woven or non-woven fabric obtained from synthetic fibers such as polytetrafluoroethylene fiber; natural fibers such as cotton cloth, linen, felt; carbon fiber cloth; kraft paper, cotton paper;
Cellulose-based natural cellulosic fabrics such as paper-glass mixed fiber paper are used alone or in combination of two or more. The proportion of the component (e) in the curable composite material of the present invention is from 5 to 90 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sum of the components (a), (b), (c) and (d). Preferably it is 10 to 80 parts by weight, more preferably 20 to 70 parts by weight. When the amount of the component (e) is less than 5 parts by weight, the dimensional stability and strength of the curable composite material after curing are insufficient, and when the amount is more than 90 parts by weight, the dielectric properties of the cured product of the curable composite material are poor. Absent. In the curable composite material of the present invention, a coupling agent can be used, if necessary, for the purpose of improving the adhesiveness at the interface between the resin composition layer and the substrate. As the coupling agent, those usually used such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a zircoaluminate coupling agent can be used. Examples of the method for producing the curable composite material of the present invention include a method of uniformly dissolving / dispersing the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention in a solvent, impregnating the substrate, and then drying. As the solvent used here, in addition to the aromatic hydrocarbon solvent and the halogen solvent used in the production of the resin composition of the present invention described above,
Ketone solvents, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like can be mentioned, and these are used alone or as a mixture.

【0021】含浸は浸漬(ディッピング)、塗布等によ
って行われる。含浸は必要に応じて複数回繰り返すこと
も可能であり、またこの際、組成や濃度の異なる複数の
溶液を用いて含浸を繰り返し、最終的に希望とする樹脂
組成および樹脂量に調整することも可能である。本発明
の硬化性複合材料の硬化体は、このようにして得た硬化
性複合材料を加熱等の方法により硬化することによって
得られるものである。その製造方法は特に限定されるも
のではなく、例えば硬化性複合材料を複数枚重ね合わ
せ、加熱加圧下に各層間を接着せしめると同時に熱硬化
を行い、所望の厚みの硬化体を得ることができる。ま
た、一度接着硬化させた硬化体と硬化体を組み合わせて
新たな層構造の硬化体を得ることも可能である。積層成
形と硬化は、通常熱プレス等を用い同時に行われるが、
両者をそれぞれ単独で行ってもよい。すなわち、あらか
じめ積層成形して得た未硬化体あるいは、半硬化の硬化
性複合材料を熱処理または、別の方法で処理することに
よって硬化させることもできる。積層成形および硬化
は、温度80〜300℃、圧力0.1〜500kg/c
2 、時間1分〜10時間の範囲、より好ましくは、温
度150〜250℃、圧力1〜100kg/cm2 、時
間1分〜5時間の範囲で行うことができる。
The impregnation is performed by dipping, coating, etc.
It is done. Repeat the impregnation several times as necessary
In this case, a plurality of components having different compositions and concentrations can be used.
Repeat the impregnation using the solution and finally the desired resin
It is also possible to adjust the composition and the amount of resin. The present invention
The cured product of the curable composite material is the cured product thus obtained.
By curing the conductive composite material by a method such as heating
It is obtained. Although the manufacturing method is particularly limited,
Instead of, for example, stacking multiple curable composite materials
And apply heat and pressure to bond the layers together and heat cure at the same time.
To obtain a cured product having a desired thickness. Ma
The combination of the cured product and the cured product
It is also possible to obtain a cured product having a new layer structure. Lamination
Forming and curing are usually performed simultaneously using a hot press or the like,
Both may be performed independently. That is,
Uncured or semi-cured cured product obtained by lamination molding
Heat-treating or otherwise treating the composite material
Therefore, it can be cured. Laminate molding and curing
Is a temperature of 80 to 300 ° C. and a pressure of 0.1 to 500 kg / c.
m TwoFor a time in the range of 1 minute to 10 hours,
Degree 150-250 ° C, pressure 1-100kg / cmTwo,Time
It can be performed in a range of 1 minute to 5 hours.

【0022】次に、本発明の硬化性ポリフェニレンエー
テル系樹脂組成物からなる硬化性フィルムの製造法につ
いて述べる。硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物のフィルムを形成する方法としては、どのような手段
によってもよいが、好ましい方法としては例えば、該樹
脂組成物を溶媒に溶解/分散させたワニスをPETフィ
ルム等の塗布基体に塗布した後、乾燥させる方法が挙げ
られる。溶媒は樹脂組成物の選択に応じて適したものが
選ばれる。硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
のワニスの調整に用いる溶媒としては、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族系炭化水素、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、トリクロロエチレンなどのハロゲン
系溶媒、さらにはTHF等が挙げられるが、これらは単
独もしくは混合して使用できる。硬化性ポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物と溶媒とからなるワニスを塗布す
る方法としては、エアードコータ、ブレードコータ、ロ
ッドコータ、ナイフコータ、グラビアコータ、リバース
コータ、キャストコータなどの装置を用いる方法などが
挙げられる。塗布膜を乾燥する方法としては、熱風乾
燥、ロール加熱乾燥、赤外線乾燥、遠赤外線乾燥等の装
置を用いる方法などが挙げられ、実施にあたってはこれ
らの装置を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用
いてもよい。乾燥温度は、60〜90℃、好ましくは7
0〜85℃である。
Next, a method for producing a curable film comprising the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention will be described. As a method for forming a film of the curable polyphenylene ether-based resin composition, any method may be used, but a preferable method is, for example, a method in which a varnish obtained by dissolving / dispersing the resin composition in a solvent such as a PET film is used. After applying to a coating substrate, a method of drying the coating substrate may be used. A suitable solvent is selected according to the selection of the resin composition. Examples of the solvent used for adjusting the varnish of the curable polyphenylene ether-based resin composition include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; halogen-based solvents such as dichloromethane, chloroform, and trichloroethylene; and THF. These can be used alone or as a mixture. Examples of a method of applying a varnish comprising a curable polyphenylene ether-based resin composition and a solvent include a method using an apparatus such as an air coater, a blade coater, a rod coater, a knife coater, a gravure coater, a reverse coater, and a cast coater. Examples of the method for drying the coating film include a method using a device such as hot air drying, roll heating drying, infrared drying, and far infrared drying. These devices are used alone or in combination of two or more. May be used. The drying temperature is 60-90 ° C., preferably 7
0-85 ° C.

【0023】硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物のフィルムの厚さは特に限定されないが、20〜10
0μmが好ましく、より好ましくは30〜100μmで
ある。極端に膜厚が小さいと積層ビルドアップ工法を行
うことが困難になる。本発明の硬化性フィルムは、上記
のように製造した後、PETフィルム等を剥離すること
により得られる。本発明の硬化性ポリフェニレンエーテ
ル系樹脂組成物のフィルムが金属箔の表面に形成された
樹脂付金属箔である硬化性積層体は、塗布基体を銅箔等
の金属箔に変更し、上記と同様に製造できる。その際、
配線板製造用として製造販売されている粗化処理電解銅
箔は多層配線板用樹脂付銅箔の製造にそのまま用いるこ
とができる。金属箔の厚みは特に限定されないが、扱い
易さの点から5〜200μm、より好ましくは5〜10
0μmの範囲である。本発明の硬化性複合体は、上記の
硬化性複合材料、硬化性フィルム、樹脂付金属箔が任意
の層構成で積層されてなるものである。本発明の硬化複
合体を製造する方法としては、例えば本発明の硬化性複
合材料及び/又は本発明の硬化性フィルム及び/又は本
発明の硬化性積層体を目的に応じた層構造で積層し、加
熱加圧下に各層間を接着せしめると同時に熱硬化させる
方法を挙げることができる。
The thickness of the film of the curable polyphenylene ether-based resin composition is not particularly limited.
0 μm is preferred, and more preferably 30 to 100 μm. When the film thickness is extremely small, it becomes difficult to perform the lamination build-up method. The curable film of the present invention is obtained by peeling off a PET film or the like after manufacturing as described above. The curable laminate in which the film of the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention is a resin-coated metal foil formed on the surface of a metal foil, the coating substrate is changed to a metal foil such as a copper foil, and the same as above. Can be manufactured. that time,
The roughened electrolytic copper foil manufactured and sold for manufacturing a wiring board can be used as it is for manufacturing a resin-coated copper foil for a multilayer wiring board. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 μm, more preferably 5 to 10 μm from the viewpoint of ease of handling.
The range is 0 μm. The curable composite of the present invention is obtained by laminating the above-mentioned curable composite material, a curable film, and a resin-attached metal foil in an arbitrary layer configuration. As a method for producing the cured composite of the present invention, for example, the curable composite material of the present invention and / or the curable film of the present invention and / or the curable laminate of the present invention are laminated in a layer structure according to the purpose. And a method in which each layer is adhered to each other under heat and pressure, and simultaneously cured by heat.

【0024】次に、本発明の硬化性フィルム等を用いた
ビルドアップ基板について説明する。本発明に用いられ
る基板は特に限定しないが、例えば両面銅張積層板、片
面銅張積層板、アルミ板、鉄板等が挙げられる。両面銅
張積層板、片面銅張積層を用いる場合にはあらかじめ回
路パターンを基板上に作成しておいてもよい。これらの
基板に本発明の硬化性フィルムを加熱加圧接着して絶縁
層を形成し、その後、通常の無電解銅めっき、電解銅め
っきにより回路パターンを形成する。その際、過マンガ
ン酸塩、クロム酸、クロム酸塩、オゾンなどの酸化剤で
処理することによって、(c)成分中のゴム状弾性体を
溶解除去(粗化)し、無電解めっき用のアンカーとなり
うる凹部を形成する。これにより導体回路を形成する銅
めっき膜と絶縁基材との密着性を向上させることができ
る。また、酸化剤で処理する前または後に、プラズマ処
理等を施してもよい。このようにして回路パターンを形
成した後、さらに本発明の硬化性フィルムを加熱加圧接
着し、上記と同様な方法で回路パターンを形成する事を
繰り返すことによりビルドアップ基板が製造できる。本
発明の硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物は、
硬化後において優れた誘電特性、耐熱性、寸法安定性、
銅めっき膜との密着性を示し、電子産業、宇宙・航空機
産業等の分野において誘電材料、絶縁材料、耐熱材料等
に用いることができる。
Next, a build-up substrate using the curable film of the present invention will be described. The substrate used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a double-sided copper-clad laminate, a single-sided copper-clad laminate, an aluminum plate, and an iron plate. When a double-sided copper-clad laminate or a single-sided copper-clad laminate is used, a circuit pattern may be created on a substrate in advance. The curable film of the present invention is adhered to these substrates by heating and pressing to form an insulating layer, and then a circuit pattern is formed by ordinary electroless copper plating or electrolytic copper plating. At that time, by treating with an oxidizing agent such as permanganate, chromate, chromate, ozone, etc., the rubber-like elastic body in the component (c) is dissolved and removed (roughened), and is used for electroless plating. A recess that can be an anchor is formed. Thereby, the adhesion between the copper plating film forming the conductor circuit and the insulating base material can be improved. Before or after the treatment with the oxidizing agent, plasma treatment or the like may be performed. After the circuit pattern is formed in this way, the curable film of the present invention is further heated and pressed and bonded, and a circuit pattern is formed in the same manner as described above, whereby a build-up substrate can be manufactured. Curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention,
Excellent dielectric properties, heat resistance, dimensional stability after curing,
Shows adhesion to copper plating films and can be used as dielectric materials, insulating materials, heat-resistant materials, etc. in the fields of the electronics industry, space and aircraft industries, etc.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例を挙げて説
明する。以下の実施例では、各成分として次のようなも
のを用いた。 〈低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物〉数平均
分子量18000のポリ(2,6−ジメチル−1,4−
フェニレンエーテル)100重量部と、無水マレイン酸
1.5重量部、および2,5−ジメチル−2,5−ジ
(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(日本油脂(株)
製、パーヘキサ25B:商品名)1.0重量部を室温で
ドライブレンドした後、シリンダー温度300℃、スク
リュー回転数230rpmの条件で二軸押出機により押
し出し、変性ポリフェニレンエーテル樹脂を製造した。
上記の変性ポリフェニレンエーテル樹脂100重量部、
フェノール性化合物として2,6−キシレノール0.8
重量部、反応開始剤としてビス(4−t−ブチルシクロ
ヘキシル)パーオキシジカーボネート3重量部および溶
剤としてトルエンを550重量部の割合で配合し、80
℃で3時間攪拌しながら再分配反応を行った。得られた
反応生成物を使用したトルエンと同容積のメタノールで
再析出させて、この三倍量のメタノールで洗浄、乾燥を
行い、低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物を得
た。この低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物の
ゲル浸透クロマトグラフで測定した数平均分子量は12
000であった。 〈重合開始剤〉 2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3(日本油脂(株)製、パーヘキシン2
5B:商品名) 〈ゴム状弾性体とアクリロニトリルおよびビニル芳香族
系化合物とのグラフト共重合体樹脂〉 ABS樹脂(エー・アンド・エムスチレン(株)製、ス
タイラックABS A6450,B7241:商品名) 〈シリカ〉球状シリカ(平均粒径:0.5μm;(株)
アドマテックス製、アドマファインSO−C2:商品
名)を原料にして、シランカップリング剤であるγ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工
業(株)製、KBM503:商品名)で処理(処理量
0.8重量%)したもの。 〈難燃剤〉 ・リン酸メラミン((株)三和ケミカル製、P−720
2:商品名)を原料にして、シランカップリング剤であ
るγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信
越化学工業(株)製、KBM503:商品名)で処理
(処理量1.0重量%)したもの。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments. In the following examples, the following were used as each component. <Low molecular weight polyphenylene ether reaction product> Poly (2,6-dimethyl-1,4-
100 parts by weight of phenylene ether), 1.5 parts by weight of maleic anhydride, and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (Nippon Oil & Fats Co., Ltd.)
Was dry-blended at room temperature, and extruded with a twin-screw extruder at a cylinder temperature of 300 ° C. and a screw rotation speed of 230 rpm to produce a modified polyphenylene ether resin.
100 parts by weight of the modified polyphenylene ether resin,
2,6-xylenol 0.8 as a phenolic compound
Parts by weight, 3 parts by weight of bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate as a reaction initiator and 550 parts by weight of toluene as a solvent,
A redistribution reaction was carried out while stirring at 3 ° C. for 3 hours. The obtained reaction product was reprecipitated with the same volume of methanol as toluene used, washed with three times the amount of methanol and dried to obtain a low molecular weight polyphenylene ether reaction product. The number average molecular weight of this low molecular weight polyphenylene ether reaction product measured by gel permeation chromatography was 12
000. <Polymerization initiator> 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3 (manufactured by NOF CORPORATION, perhexin 2)
5B: trade name) <Graft copolymer resin of rubber-like elastic body and acrylonitrile and vinyl aromatic compound> ABS resin (Styrac ABS A6450, B7241: trade name, manufactured by A & M Styrene Co., Ltd.) <Silica> Spherical silica (average particle size: 0.5 μm; Co., Ltd.)
Admafine SO-C2 (trade name, manufactured by Admatechs) is used as a raw material and treated with silane coupling agent γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503, trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (treatment) 0.8% by weight). <Flame retardant> Melamine phosphate (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., P-720)
2: trade name) as a raw material, and treated with γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent (treatment amount: 1.0% by weight). thing.

【0026】[0026]

【実施例1〜3】上記低分子量ポリフェニレンエーテル
反応生成物〔(A)成分〕、ABS樹脂〔(C)成分〕
を表1に示した組成割合で80℃のトルエン中に加え1
時間攪拌した後、更にホモジナイザー((株)エスエム
テー製、HF93)を用いて回転数15000rpmで
10分間攪拌した。これにトリアリルイソシアヌレート
〔(B)成分〕を表1に示した組成割合で加えた後、シ
リカ〔(D)成分〕、難燃剤を表1に示した組成割合で
投入し、湿式ビーズミル(三井鉱山(株)製、SCミ
ル)を用いて、80℃で1時間分散した。最後に重合開
始剤を表1に示した組成割合で添加してワニスを作成し
た。その後、厚さ100μmのPETフィルム上にブレ
ードコーターにて塗布後、60℃で15分エアーオーブ
ンで乾燥し、硬化性フィルムを得た。得られた硬化性フ
ィルムの樹脂厚さは40μmであった。PETフィルム
を剥離して得られた硬化性フィルムを銅箔(古河電気工
業(株)製、F2−WS;12μm)のマット面で挟み
こみ、真空プレス成型機にて積層硬化して約80μm厚
みの硬化体を作成した。硬化条件は、3℃/分で昇温さ
せ、200℃で1時間保持した。圧力は30kg/cm
2 とした。この硬化体の諸物性を以下の方法で測定し
た。 1.誘電率、誘電正接:1MHzで測定を行った。測定
装置は、インピーダンスアナライザー 4192ALF
(横河・ヒューレットパッカード(株)製)を用いた。 2.はんだ耐熱性:銅箔を半分除去した硬化体を60m
m角に切り出し、260℃のはんだ浴中に120秒間浮
かべ、外観の変化を目視により観察した。 3.ガラス転移温度及び熱膨張率:銅箔を除去した硬化
体から切り出した試料をTMA法にて測定した。
Examples 1 to 3 The above low-molecular-weight polyphenylene ether reaction product [component (A)] and ABS resin [component (C)]
At a composition ratio shown in Table 1 in toluene at 80 ° C.
After stirring for an hour, the mixture was further stirred at 15,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer (HF93, manufactured by SMT Co., Ltd.). After adding triallyl isocyanurate [component (B)] at the composition ratio shown in Table 1, silica [(D) component] and a flame retardant were added at the composition ratio shown in Table 1, and a wet bead mill ( Using an SC mill manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd., the mixture was dispersed at 80 ° C. for 1 hour. Finally, a polymerization initiator was added at the composition ratio shown in Table 1 to prepare a varnish. Then, after apply | coating on a 100-micrometer-thick PET film with a blade coater, it dried at 60 degreeC for 15 minutes with an air oven, and obtained the curable film. The resin thickness of the obtained curable film was 40 μm. The curable film obtained by peeling the PET film is sandwiched between mat surfaces of a copper foil (Furukawa Electric Co., Ltd., F2-WS; 12 μm), laminated and cured by a vacuum press molding machine to a thickness of about 80 μm. Was prepared. The curing conditions were as follows: the temperature was raised at 3 ° C./min, and the temperature was maintained at 200 ° C. for 1 hour. The pressure is 30kg / cm
And 2 . Various physical properties of this cured product were measured by the following methods. 1. The dielectric constant and the dielectric loss tangent were measured at 1 MHz. The measuring device is an impedance analyzer 4192ALF
(Manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.). 2. Solder heat resistance: 60 m of cured product from which half of the copper foil has been removed
It was cut into m-squares, floated in a solder bath at 260 ° C. for 120 seconds, and visually observed for changes in appearance. 3. Glass transition temperature and coefficient of thermal expansion: A sample cut from the cured product from which the copper foil had been removed was measured by the TMA method.

【0027】更に、0.8mm厚のポリフェニレンエー
テル積層板の両面に、上記硬化性フィルムをPETが表
面となるように積層、硬化した。積層、硬化は、真空プ
レス成型機で、180℃、10kg/cm2 で10分間
保持した後、オーブン中で、180℃、1時間、硬化を
行った。これからPETフィルムを剥離した試料を用い
て、下記の工程でプラズマ処理、粗化処理(酸化剤処
理)、無電解銅めっき、電解銅めっきを施し、めっきピ
ール強度を測定した。
Further, the above-mentioned curable film was laminated and cured on both sides of a polyphenylene ether laminate having a thickness of 0.8 mm so that PET became the surface. Lamination and curing were carried out in a vacuum press molding machine at 180 ° C. and 10 kg / cm 2 for 10 minutes, followed by curing in an oven at 180 ° C. for 1 hour. Using the sample from which the PET film was peeled, plasma treatment, roughening treatment (oxidizing agent treatment), electroless copper plating, and electrolytic copper plating were performed in the following steps, and the plating peel strength was measured.

【0028】(プラズマ処理工程)容量型RIE装置に
より、酸素ガスを用いて、圧力45〜48Pa、RFパ
ワー100Wで5分間処理した。 (粗化工程)膨潤液(日本マクダーミッド(株)製、マ
キュタイザー9204:商品名)中に、35℃にて3分
間、過マンガン酸カリウム溶液に80℃で10分間浸漬
して硬化体の表面を粗化し、その後中和液(日本マクダ
ーミッド(株)製、マキュタイザー9279:商品名)
に浸漬して水洗、乾燥した。粗化処理後、試料の表面を
走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したところ、ABS
中のゴム状弾性体が溶解除去されたと思われる凹部の形
成が見られた。
(Plasma Treatment Step) Using a capacitive RIE apparatus, the substrate was treated with oxygen gas at a pressure of 45 to 48 Pa and an RF power of 100 W for 5 minutes. (Roughening step) The surface of the cured product was immersed in a swelling solution (Maccutizer 9204, trade name, manufactured by Japan McDermid Co., Ltd.) at 35 ° C. for 3 minutes and in a potassium permanganate solution at 80 ° C. for 10 minutes. , And then neutralized solution (Nippon MacDermid Co., Ltd., Macutizer 9279: trade name)
And washed with water and dried. After the roughening treatment, the surface of the sample was observed with a scanning electron microscope (SEM).
The formation of a concave portion, which seems to have dissolved and removed the rubber-like elastic material therein, was observed.

【0029】(無電解めっき工程)粗化された樹脂絶縁
層上にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与し、アク
セラレータ(シプレイ社製)により表面を活性化させた
後、無電解めっき液(日本マクダーミッド(株)製)に
20分間浸漬して水洗、乾燥させた。 (硫酸銅めっき工程)無電解めっき処理後の硬化体を、
さらに電解めっき液(硫酸−硫酸銅)に1A/dm2
電流を流しながら1時間浸漬した後、150℃で60分
ベーキングを行い、20μm厚の導体層を形成した。 4.めっきピール強度:上記の方法で得られた硬化体と
銅めっき層との接着強度を、JIS−C−6481の方
法で測定した。以上の結果を、表3に示す。
(Electroless Plating Step) A palladium catalyst (manufactured by Shipley) is applied to the roughened resin insulating layer, and the surface is activated by an accelerator (manufactured by Shipley). (McDermid Co., Ltd.) for 20 minutes, washed with water and dried. (Copper sulfate plating process) The cured product after electroless plating is
After immersion in an electrolytic plating solution (sulfuric acid-copper sulfate) at a current of 1 A / dm 2 for 1 hour, baking was performed at 150 ° C. for 60 minutes to form a 20 μm thick conductor layer. 4. Plating peel strength: The adhesive strength between the cured product obtained by the above method and the copper plating layer was measured by the method of JIS-C-6481. Table 3 shows the above results.

【0030】[0030]

【比較例1〜3】表2に示すように、ABS樹脂の量を
変えた以外は実施例1と同様の操作を繰り返し各評価を
行った。粗化処理後、試料の表面を走査型電子顕微鏡
(SEM)で観察したところ、比較例1では凹部の形成
が見られなかった。また、比較例2及び3では、めっき
の表面が著しく荒れた。結果を表4に示す。
Comparative Examples 1 to 3 As shown in Table 2, the same operations as in Example 1 were repeated except that the amount of the ABS resin was changed, and each evaluation was performed. After the roughening treatment, the surface of the sample was observed with a scanning electron microscope (SEM). As a result, in Comparative Example 1, no recess was formed. In Comparative Examples 2 and 3, the surface of the plating was extremely rough. Table 4 shows the results.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】[0033]

【表3】 [Table 3]

【0034】[0034]

【表4】 [Table 4]

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル
系樹脂組成物によれば、導体回路を形成する銅めっき膜
との密着性に優れた硬化フィルム等を得ることができ、
特に、アディティブ法の利点を生かした高密度の導体回
路を形成することができるプリント配線板絶縁層に好適
に用いられる。また、硬化後は低膨張率を有し、耐熱
性、および誘電特性に優れた材料である。
According to the curable polyphenylene ether-based resin composition of the present invention, it is possible to obtain a cured film having excellent adhesion to a copper plating film forming a conductor circuit,
In particular, it is suitably used for a printed wiring board insulating layer capable of forming a high-density conductive circuit utilizing the advantages of the additive method. In addition, it has a low coefficient of expansion after curing, and is excellent in heat resistance and dielectric properties.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 3/36 C08K 3/36 5/3492 5/3492 C08L 55/02 C08L 55/02 (72)発明者 木下 昌三 神奈川県川崎市川崎区夜光1丁目3番1号 旭化成工業株式会社内 Fターム(参考) 4F071 AA10X AA22X AA34X AA51 AA77 AA81 AB26 AC12 AE02 AE17 AE19 AH12 BA03 BB02 BC02 4F072 AA01 AA04 AA06 AA07 AB03 AB04 AB05 AB06 AB07 AB08 AB09 AB10 AB11 AB28 AD02 AD42 AD52 AD53 AE01 AF06 AG03 AG16 AG17 AG18 AG19 AG20 AH02 AH22 AJ04 AK14 AL13 4F100 AA20A AB01B AB17 AB33 AB33B AK51A AK54A AK74 AK74A AL04A BA02 BA07 CA08 EH46 EJ20 EJ42 GB43 JB13A JG05 JL11 YY00A 4J002 BN15X CH07W DJ017 EU186 EU196 FD017 FD146 GF00 GQ00 4J005 AA23 BD00 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08K 3/36 C08K 3/36 5/3492 5/3492 C08L 55/02 C08L 55/02 (72) Inventor Shozo Kinoshita 1-3-1 Yoko, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture F-term in Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. (reference) AB07 AB08 AB09 AB10 AB11 AB28 AD02 AD42 AD52 AD53 AE01 AF06 AG03 AG16 AG17 AG18 AG19 AG20 AH02 AH22 AJ04 AK14 AL13 4F100 AA20A AB01B AB17 AB33 AB33B AK51A AK54A AK74 AK74A AL04A BA02 BA07 CA08 EH46J07 J08 EBJ4B EU196 FD017 FD146 GF00 GQ00 4J005 AA23 BD00

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)ポリフェニレンエーテルと不飽和
カルボン酸またはその酸無水物との反応生成物と、フェ
ノール性化合物とを反応開始剤の存在下に反応させて得
られた低分子量ポリフェニレンエーテル反応生成物、
(b)トリアリルイソシアヌレートおよび/またはトリ
アリルシアヌレート、(c)ゴム状弾性体とアクリロニ
トリルおよびビニル芳香族系化合物とのグラフト共重合
体樹脂、並びに(d)シリカを、(a)成分と(b)成
分の和100重量部を基準として、(a)成分を1〜9
9重量部、(b)成分を99〜1重量部、(c)成分を
1〜90重量部、(d)成分を1〜38000重量部含
有することを特徴とする硬化性のポリフェニレンエーテ
ル系樹脂組成物。
1. A low-molecular-weight polyphenylene ether reaction obtained by reacting (a) a reaction product of a polyphenylene ether with an unsaturated carboxylic acid or an acid anhydride thereof and a phenolic compound in the presence of a reaction initiator. Product,
(B) triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate, (c) a graft copolymer resin of a rubbery elastomer and acrylonitrile and a vinyl aromatic compound, and (d) silica, Component (a) is 1 to 9 based on 100 parts by weight of the sum of component (b).
A curable polyphenylene ether-based resin comprising 9 parts by weight, 99 to 1 parts by weight of the component (b), 1 to 90 parts by weight of the component (c), and 1 to 38000 parts by weight of the component (d). Composition.
【請求項2】 請求項1記載の硬化性のポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物及び(e)基材からなる硬化性複
合材料。
2. A curable composite material comprising the curable polyphenylene ether-based resin composition according to claim 1 and (e) a base material.
【請求項3】 請求項2記載の硬化性複合材料を硬化し
てなる硬化複合材料。
3. A cured composite material obtained by curing the curable composite material according to claim 2.
【請求項4】 請求項1記載の硬化性のポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物からなる硬化性フィルム。
4. A curable film comprising the curable polyphenylene ether-based resin composition according to claim 1.
【請求項5】 請求項4記載の硬化性フィルムを硬化し
てなる硬化フィルム。
5. A cured film obtained by curing the curable film according to claim 4.
【請求項6】 請求項4記載の硬化性フィルムと金属箔
とを積層してなる硬化性積層体。
6. A curable laminate obtained by laminating the curable film according to claim 4 and a metal foil.
【請求項7】 請求項6記載の硬化性積層体を硬化して
なる硬化積層体。
7. A cured laminate obtained by curing the curable laminate according to claim 6.
【請求項8】 請求項2記載の硬化性複合材料及び/又
は請求項4記載の硬化性フィルム及び/又は請求項6記
載の硬化性積層体からなる硬化性複合体。
8. A curable composite comprising the curable composite material according to claim 2 and / or the curable film according to claim 4 and / or the curable laminate according to claim 6.
【請求項9】 請求項8記載の硬化性複合体を硬化して
なる硬化複合体。
9. A cured composite obtained by curing the curable composite according to claim 8.
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