JP2002095955A - Feeding device for liquid material - Google Patents

Feeding device for liquid material

Info

Publication number
JP2002095955A
JP2002095955A JP2000292757A JP2000292757A JP2002095955A JP 2002095955 A JP2002095955 A JP 2002095955A JP 2000292757 A JP2000292757 A JP 2000292757A JP 2000292757 A JP2000292757 A JP 2000292757A JP 2002095955 A JP2002095955 A JP 2002095955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid material
liquid
valve
line
supply device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000292757A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4002060B2 (en
Inventor
Naomi Yoshioka
尚規 吉岡
Tatsuji Kawamoto
達司 川本
Mitsushi Kawao
満志 川尾
Shigeru Matsuno
繁 松野
Akira Yamada
朗 山田
Shoji Miyashita
章二 宮下
Hidefusa Uchikawa
英興 内川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2000292757A priority Critical patent/JP4002060B2/en
Priority to US09/957,470 priority patent/US7163197B2/en
Priority to KR1020010059297A priority patent/KR100781007B1/en
Publication of JP2002095955A publication Critical patent/JP2002095955A/en
Priority to US11/604,235 priority patent/US7422198B2/en
Priority to KR1020070046454A priority patent/KR100756773B1/en
Priority to KR1020070046453A priority patent/KR100859898B1/en
Priority to KR1020070095883A priority patent/KR100792964B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4002060B2 publication Critical patent/JP4002060B2/en
Priority to US12/219,583 priority patent/US7731162B2/en
Priority to US12/219,584 priority patent/US7637482B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Reciprocating Pumps (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Valve Housings (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a feeding device for a liquid material, in which stability and controllability are good. SOLUTION: A two-valve three-way changeover valve 15 of an integral structure is equipped with both a diaphragm 152A opening/closing the interval of a port P1 and a port P2 and a diaphragm 152B opening/closing the interval of the port P1 and a port P3. The port P1 is provided between the diaphragm 152A and the diaphragm 152B. When the port P1 and the port P2 communicate, a pipeline 21 becomes dead volume. When the port P1 and the port P3 communicate, a pipeline 22 becomes dead volume. Therefor, the dead volume in a transfer line can be reduced by using the two-valve three-way changeover valve 15 for the transfer line of liquid material and generation of a deposit caused by stagnation of the liquid material can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CVD成膜に用い
られる気化器に、液体有機金属や有機金属溶液から成る
液体材料を供給する液体材料供給装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid material supply device for supplying a liquid material comprising a liquid organic metal or an organic metal solution to a vaporizer used for CVD film formation.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイス製造工程における薄膜形
成方法の一つとしてMOCVD(Metal Organic Chemic
al Vapor Deposition)法があるが、スパッタ等に比べ
て膜質,成膜速度,ステップカバレッジなどが優れてい
ることから近年盛んに利用されている。MOCVD装置
に用いられているCVDガス供給法としてはバブリング
法や昇華法などがあるが、液体有機金属若しくは有機金
属を有機溶剤に溶かした液体材料をCVDリアクタ直前
で気化して供給する方法が、制御性および安定性の面で
より優れた方法として注目されている。
2. Description of the Related Art MOCVD (Metal Organic Chemic) is one of the methods for forming a thin film in a semiconductor device manufacturing process.
al Vapor Deposition method, which has been widely used in recent years due to its superior film quality, film forming speed, step coverage, etc. as compared with sputtering or the like. As a CVD gas supply method used in the MOCVD apparatus, there is a bubbling method, a sublimation method, or the like, but a method in which a liquid material obtained by dissolving a liquid organic metal or an organic metal in an organic solvent is vaporized and supplied immediately before a CVD reactor, It is attracting attention as a better method in terms of controllability and stability.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たMOCVDで使用される液体材料は加水分解反応を起
こしやすく、液中に析出物が生じたりするなどして材料
が変質するおそれがあった。析出物が発生すると、送液
ラインに設けられたバルブの動作不良や、気化器内での
残渣の発生や、それによる詰まりなどを招き易くなる。
その結果、流量の安定性や再現性が悪くなったり、残渣
がパーティクルとなってCVDリアクタに達して成膜の
再現性を悪化させるという問題があった。また、有機溶
剤にはTHF(tetrahydrofuran)等が使用されるが、
この有機溶剤は腐食性が高いという欠点がある。さら
に、液体材料中に溶け込んだガスがライン中で再び気泡
として発生することによって、液体材料の流量制御不良
を招きやすかった。
However, the liquid material used in the above-mentioned MOCVD is liable to undergo a hydrolysis reaction, and there is a risk that the material may be deteriorated due to, for example, the formation of a precipitate in the liquid. When the precipitates are generated, malfunction of a valve provided in the liquid feed line, generation of a residue in the vaporizer, and clogging due to the generation of the residue are easily caused.
As a result, there has been a problem that the stability and reproducibility of the flow rate are deteriorated, and the residue becomes particles and reaches the CVD reactor, thereby deteriorating the reproducibility of film formation. In addition, THF (tetrahydrofuran) or the like is used as the organic solvent,
This organic solvent has a disadvantage that it is highly corrosive. Further, the gas dissolved in the liquid material is generated again as bubbles in the line, which is likely to cause poor flow rate control of the liquid material.

【0004】従来、液体材料の流量制御にはマスフロー
メータと流量制御バルブとが一体となったマスフローコ
ントローラが用いられているが、熱式質量流量計である
マスフローメータは周辺温度に影響されやすいという性
質を有している。そのため、高温状態となっている気化
器の近くにマスフローコントローラを設置するのは好ま
しくない。一方、流量制御の応答性を考慮すると、マス
フローコントローラは気化器の直前に設置するのが好ま
しい。その結果、マスフローコントローラの設置位置に
より、流量制御精度および応答性のいずれかが犠牲にな
ったり、いずれもが不十分な設置条件となったりすると
いう問題点があった。
Conventionally, a mass flow controller in which a mass flow meter and a flow control valve are integrated has been used for controlling the flow rate of a liquid material. However, a mass flow meter, which is a thermal mass flow meter, is easily affected by the ambient temperature. Has properties. Therefore, it is not preferable to install a mass flow controller near a vaporizer that is in a high temperature state. On the other hand, considering the responsiveness of the flow control, it is preferable that the mass flow controller be installed immediately before the vaporizer. As a result, depending on the installation position of the mass flow controller, there is a problem that either the flow rate control accuracy or the responsiveness is sacrificed, or both are under insufficient installation conditions.

【0005】本発明の目的は、残渣や気泡の発生を抑
え、液体材料供給に関して安定性および制御性の良い液
体材料供給装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a liquid material supply apparatus which suppresses generation of residues and bubbles and has good stability and controllability with respect to liquid material supply.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図1〜図4,図7,図9,図15,図17および図18
に対応付けて説明する。 (1)図2および図7に対応付けて説明すると、請求項
1の発明は、材料容器3A〜3Cに収容された液体有機
金属若しくは有機金属溶液から成る液体材料4A〜4C
を、液体材料移送ライン6A〜6Cを介して気化器2へ
と供給する液体材料供給装置1に適用され、第1の管路
P2と第2の管路P1との間に設けられて、第1の管路
P2と第2の管路P1との間の流体の移送をオン・オフ
する第1の弁体152Aと、第2の管路P1と第3の管
路P3との間に設けられて、第2の管路P1と第3の管
路P3との間の流体の移送をオン・オフする第2の弁体
152Bとを備えるとともに、第1の弁体152Aと第
2の弁体152Bとの間に第2の管路P1が設けられた
一体構造の2弁3方切換バルブ15A〜15Cを、液体
材料移送ライン6A〜6Cが3方に分岐する分岐点に配
設したことにより上述の目的を達成する。 (2)図2および図9に対応付けて説明すると、請求項
2の発明は、ガス供給ライン5を介して液体有機金属若
しくは有機金属溶液から成る液体材料4A〜4Cを収容
する材料容器3A〜3Cにガスを供給して、ガス圧によ
り液体材料4A〜4Cを液体材料移送ライン6A〜6C
に送出し、液体材料移送ライン6A〜6Cを介して液体
材料4A〜4Cを気化器2へと供給する液体材料供給装
置1に適用され、第1の管路P11と第2の管路P12
との間に設けられて、第1の管路P11と第2の管路P
12との間の流体の移送をオン・オフする第1の弁体1
12Aと、第1の管路P11と第3の管路P13との間
に設けられて、第1の管路P11と第3の管路P13と
の間の流体の移送をオン・オフする第2の弁体112B
と、第2の管路P12と第4の管路P14との間に設け
られて、第2の管路P12と第4の管路P14との間の
流体の移送をオン・オフする第3の弁体112Cとを備
えるとともに、第1の弁体112Aと第2の弁体112
Bとの間に第1の管路P11が設けられ、第2の弁体1
12Bと第3の弁体112Cとの間に第2の管路P12
が設けられた一体構造の3弁4方切換バルブ10Aを、
液体材料移送ライン6Aおよびガス供給ライン5と材料
容器3Aとの間に設け、第1の管路P11とガス供給ラ
イン5とを接続し、第2の管路P12と材料容器3Aの
ガス領域とを接続し、第3の管路P13と液体材料移送
ライン6Aとを接続し、第4の管路P14と材料容器3
Aの液領域とを接続するとともに、ガス供給ライン5お
よび液体材料移送ライン6Aに対して材料容器3Aと切
換バルブ10Aとを一体で着脱可能としたことにより上
述の目的を達成する。 (3)図2および図17に対応付けて説明すると、請求
項2の発明は、ガス供給ライン5を介して液体有機金属
若しくは有機金属溶液から成る液体材料4A〜4Cを収
容する材料容器3A〜3Cにガスを供給して、ガス圧に
より液体材料4A〜4Cを液体材料移送ライン6A〜6
Cに送出し、液体材料移送ライン6A〜6Cを介して液
体材料4A〜4Cを気化器2へと供給する液体材料供給
装置に適用され、材料容器3A〜3Cは、ガス供給ライ
ン5からのガスが供給されるケーシング303と、ケー
シング303内に収納されて液体材料4A〜4Cが収容
される可撓性袋304またはベローズ状袋311とを備
え、ケーシング303内に前記ガスが供給されると、袋
304,311内の液体材料4A〜4Cが材料容器3A
〜3Cから液体材料移送ライン6A〜6Cへと送出され
ることにより上述の目的を達成する。 (4)請求項4の発明は、請求項3に記載の液体材料供
給装置1において、ケーシング303内に供給される前
記ガスの圧力変化に基づいて袋304,311内の液体
材料4A〜4Cの液量を計測する計測手段301,30
2を設けたものである。 (5)図2および図18に対応付けて説明すると、請求
項5の発明は、ガス供給ライン5を介して液体有機金属
若しくは有機金属溶液から成る液体材料4A〜4Cを収
容する材料容器3A〜3Cにガスを供給して、ガス圧に
より液体材料4A〜4Cを液体材料移送ライン6A〜6
Cに送出し、液体材料移送ライン6A〜6Cを介して液
体材料4A〜4Cを気化器2へと供給する液体材料供給
装置に適用され、液体材料4A〜4Cが充填される第1
のベローズ状袋321と、第1のベローズ状袋321の
伸縮方向に直列接続されて、ガス供給ライン5からのガ
ス供給により第1のベローズ321を収縮させる第2の
ベローズ状袋322と、第1のベローズ状袋321と第
2のベローズ状袋322との接続部に設けられ、前記接
続部の位置を示す指示部材323Bとを備え、第2のベ
ローズ状袋322により第1のベローズ状袋321を収
縮させて、第1のベローズ状袋321内の液体材料4A
〜4Cを液体材料移送ラインへ6A〜6Cと送出するこ
とにより上述の目的を達成する。 (6)図2に対応付けて説明すると、請求項6の発明
は、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の液体材料供
給装置1において、内部が減圧状態とされ、液体材料移
送ライン6Aの液置換を行った際や管路洗浄の際に排出
される廃液が収容されるドレンタンク13を、液体材料
移送ライン6Aの直前にバルブ15Aを介して接続した
ものである。 (7)図2および図15に対応付けて説明すると、請求
項7の発明は、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の
液体材料供給装置1において、液体材料移送ライン6A
〜6C中の液体材料4A〜4Cの有無や、液体材料4A
〜4Cから発生する気泡の有無を光電センサ163を用
いて検出する検出手段16,164を、液体材料移送ラ
イン6A〜6Cに設けたものである。 (8)図1および図3に対応付けて説明すると、請求項
8の発明は、発熱体からの熱放散を利用する熱式質量流
量計8A〜8Cおよび流量制御弁9A〜9Cを有する流
量制御装置により流量を制御しつつ、材料容器3A〜3
Cに収容された液体材料4A〜4Cを液体材料移送ライ
ン6A〜6Cを介して気化器2へと供給をする液体材料
供給装置1に適用され、流量計8A〜8Cと流量制御弁
9A〜9Cとを分離して、流量計8A〜8Cを液体材料
移送ライン6A〜6Cの材料容器3A〜3C側に配設
し、流量制御弁9A〜9Cを液体材料移送ライン6A〜
6Cの気化器2側に配設したことにより上述の目的を達
成する。 (9)請求項9の発明は、請求項7に記載の液体材料供
給装置1において、流量制御弁9A〜9Cに、液体材料
4A〜4Cの供給を遮断可能とする遮断機構を設けたも
のである。 (10)請求項10の発明は、請求項1〜請求項9のい
ずれかに記載の液体材料供給装置1において、液体材料
移送ライン6A〜6C中に設けられて液体材料4A〜4
Cと接触する樹脂部材に、PEEK(polyether ether
ketone),PTFE(polytetrafluoroethylene),P
I(polyimide)およびPBI(polybenzimidazole)の
いずれかを用いたものである。 (11)図2および図4に対応付けて説明すると、請求
項11の発明は、材料容器3A〜3Cに収容された液体
材料4Aを液体材料移送ライン6A〜6Cを介して気化
器2へと供給をする液体材料供給装置1に適用され、液
体材料移送ライン6A〜6Cに設けられるフィルタ21
として、線径の細い第1のSUS製メッシュと線径の太
い第2のSUS製メッシュとをそれぞれ複数積層したも
のを用いたことにより上述の目的を達成する。 (12)請求項12の発明は、請求項11に記載の液体
材料供給装置1において、SUS製メッシュに代えて、
PTFEのメッシュを積層したものを用いたものであ
る。
FIG. 1 to FIG. 4, FIG. 7, FIG. 9, FIG. 15, FIG. 17, and FIG.
This will be described in association with. (1) When described in association with FIG. 2 and FIG. 7, the invention of claim 1 is a liquid material 4A to 4C made of a liquid organic metal or an organic metal solution contained in material containers 3A to 3C.
Is applied to the liquid material supply device 1 that supplies the liquid material to the vaporizer 2 via the liquid material transfer lines 6A to 6C, and is provided between the first pipe P2 and the second pipe P1, A first valve body 152A for turning on / off the transfer of fluid between the first pipeline P2 and the second pipeline P1, and a first valve 152A provided between the second pipeline P1 and the third pipeline P3. And a second valve element 152B for turning on and off the transfer of fluid between the second pipe line P1 and the third pipe line P3, and a first valve body 152A and a second valve. The two-piece three-way switching valves 15A to 15C having the second conduit P1 provided between the body 152B and the second pipe P1 are disposed at the branch points where the liquid material transfer lines 6A to 6C branch in three directions. Achieves the above object. (2) When described in association with FIG. 2 and FIG. 9, the invention of claim 2 is a material container 3A to accommodate liquid materials 4A to 4C made of a liquid organic metal or an organic metal solution via a gas supply line 5. 3C, and supply the liquid materials 4A-4C by gas pressure to the liquid material transfer lines 6A-6C.
Is applied to the liquid material supply device 1 that supplies the liquid materials 4A to 4C to the vaporizer 2 through the liquid material transfer lines 6A to 6C, and includes a first pipe P11 and a second pipe P12.
Between the first pipe P11 and the second pipe P
1 to turn on and off the transfer of fluid between
12A, a second pipe provided between the first pipe P11 and the third pipe P13 to turn on / off the transfer of fluid between the first pipe P11 and the third pipe P13. 2 valve body 112B
A third pipe provided between the second pipe P12 and the fourth pipe P14 to turn on / off the transfer of fluid between the second pipe P12 and the fourth pipe P14. Of the first valve body 112A and the second valve body 112C.
B, a first pipeline P11 is provided, and the second valve body 1
12B and a third pipe P12 between the third valve body 112C.
Is provided with an integrated three- and four-way switching valve 10A.
It is provided between the liquid material transfer line 6A and the gas supply line 5 and the material container 3A, connects the first pipe P11 and the gas supply line 5, and connects the second pipe P12 and the gas area of the material container 3A. Are connected, the third pipe P13 is connected to the liquid material transfer line 6A, and the fourth pipe P14 is connected to the material container 3.
The above-described object is achieved by connecting the liquid region A and the gas container line 3A and the switching valve 10A integrally with the gas supply line 5 and the liquid material transfer line 6A. (3) When described in association with FIG. 2 and FIG. 17, the invention of claim 2 is a material container 3A to accommodate liquid materials 4A to 4C made of a liquid organic metal or an organic metal solution via a gas supply line 5. 3C to supply liquid materials 4A to 4C by gas pressure to liquid material transfer lines 6A to 6C.
C to supply the liquid material 4A to 4C to the vaporizer 2 through the liquid material transfer lines 6A to 6C. The material containers 3A to 3C Is provided, and a flexible bag 304 or a bellows-like bag 311 accommodated in the casing 303 and accommodating the liquid materials 4A to 4C. When the gas is supplied into the casing 303, The liquid materials 4A to 4C in the bags 304 and 311 are the material containers 3A.
The above-mentioned object is achieved by being sent to liquid material transfer lines 6A to 6C from .about.3C. (4) In the liquid material supply device 1 according to the third aspect, the liquid material 4A to 4C in the bags 304 and 311 is changed based on a pressure change of the gas supplied into the casing 303. Measuring means 301, 30 for measuring liquid volume
2 is provided. (5) When described in association with FIG. 2 and FIG. 18, the invention of claim 5 is a material container 3 </ b> A to 3 </ b> A which stores liquid materials 4 </ b> A to 4 </ b> C made of a liquid organic metal or an organic metal solution via a gas supply line 5. 3C to supply liquid materials 4A to 4C by gas pressure to liquid material transfer lines 6A to 6C.
C, which is applied to a liquid material supply device that supplies the liquid materials 4A to 4C to the vaporizer 2 through the liquid material transfer lines 6A to 6C, and is filled with the liquid materials 4A to 4C.
And a second bellows-shaped bag 322 connected in series in the direction of expansion and contraction of the first bellows-shaped bag 321 to contract the first bellows 321 by gas supply from the gas supply line 5; A first bellows-shaped bag provided at a connection portion between the first bellows-shaped bag 321 and the second bellows-shaped bag 322 and indicating a position of the connection portion; 321 is contracted, and the liquid material 4A in the first bellows-like bag 321 is shrunk.
The above object is achieved by delivering .about.4C to the liquid material transfer line as 6A.about.6C. (6) Explaining in connection with FIG. 2, the invention according to claim 6 is the liquid material supply device 1 according to any one of claims 1 to 5, wherein the inside is depressurized and the liquid material transfer line is provided. A drain tank 13 for storing a waste liquid discharged at the time of liquid replacement of 6A or at the time of pipe line cleaning is connected via a valve 15A immediately before the liquid material transfer line 6A. (7) Explaining in connection with FIG. 2 and FIG. 15, the invention according to claim 7 is the liquid material supply device 1 according to any one of claims 1 to 5, wherein the liquid material transfer line 6A
The presence or absence of the liquid material 4A to 4C in the liquid material 4A
Detecting means 16 and 164 for detecting the presence or absence of air bubbles generated from the liquid material transfer lines 6A to 6C by using the photoelectric sensor 163. (8) Explaining in connection with FIGS. 1 and 3, the invention of claim 8 is a flow control having thermal mass flow meters 8A to 8C utilizing heat dissipation from a heating element and flow control valves 9A to 9C. The material containers 3A to 3A are controlled while controlling the flow rate by the device.
C is applied to the liquid material supply device 1 that supplies the liquid materials 4A to 4C stored in C to the vaporizer 2 through the liquid material transfer lines 6A to 6C, and includes flow meters 8A to 8C and flow control valves 9A to 9C. And the flow meters 8A to 8C are arranged on the material containers 3A to 3C side of the liquid material transfer lines 6A to 6C, and the flow control valves 9A to 9C are connected to the liquid material transfer lines 6A to 6C.
The above object is achieved by disposing the 6C on the carburetor 2 side. (9) According to a ninth aspect of the present invention, in the liquid material supply device 1 according to the seventh aspect, the flow control valves 9A to 9C are provided with a shut-off mechanism capable of shutting off the supply of the liquid materials 4A to 4C. is there. (10) According to a tenth aspect of the present invention, in the liquid material supply apparatus 1 according to any one of the first to ninth aspects, the liquid material supply lines 1 are provided in the liquid material transfer lines 6A to 6C.
PEEK (polyether ether)
ketone), PTFE (polytetrafluoroethylene), P
One using either I (polyimide) or PBI (polybenzimidazole). (11) Explaining in connection with FIG. 2 and FIG. 4, the invention of claim 11 transfers the liquid material 4A stored in the material containers 3A to 3C to the vaporizer 2 via the liquid material transfer lines 6A to 6C. The filter 21 is applied to the liquid material supply device 1 for supplying and provided in the liquid material transfer lines 6A to 6C.
The above-described object is achieved by using a plurality of layers of a first SUS mesh having a small wire diameter and a second SUS mesh having a large wire diameter. (12) According to a twelfth aspect of the present invention, in the liquid material supply device 1 according to the eleventh aspect, instead of the SUS mesh,
This uses a laminate of PTFE meshes.

【0007】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。
[0007] In the section of the means for solving the above-mentioned problems, which explains the configuration of the present invention, the drawings of the embodiments of the present invention are used to make the present invention easy to understand. However, the present invention is not limited to the embodiment.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図18を参照して本
発明の実施の形態を説明する。図1は気化装置全体の概
略構成を示す図である。1は気化器2に液体有機金属や
有機金属溶液等(以下では、これらを液体材料と呼ぶ)
を供給する液体材料供給装置であり、供給された液体材
料は気化器2で気化されてCDV装置に設けられたCV
Dリアクタに供給される。例えば、液体有機金属として
はCuやTaなどの有機金属があり、有機金属溶液とし
てはBa,Sr,Ti,Pb,Zrなどの有機金属を有
機溶剤に溶かしたもがある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of the entire vaporizer. Reference numeral 1 denotes a liquid organic metal, an organic metal solution, or the like (hereinafter, these are referred to as liquid materials).
And a liquid material supply device for supplying the liquid material. The supplied liquid material is vaporized by the vaporizer 2 and provided to the CV provided in the CDV device.
It is supplied to the D reactor. For example, there is an organic metal such as Cu or Ta as a liquid organic metal, and an organic metal solution in which an organic metal such as Ba, Sr, Ti, Pb, or Zr is dissolved in an organic solvent.

【0009】液体材料供給装置1に設けられた材料容器
3A,3B,3Cには、MOCVDに用いられる液体材
料4A,4B,4Cが充填されている。例えば、BST
系誘電体膜を成膜する場合には、原料であるBa、S
r、Tiを有機溶剤THFで溶解したものが液体材料4
A,4B,4Cとして用いられる。また、溶剤容器3D
にはTHFが溶剤4Dとして充填されている。なお、容
器3A〜3Dは原料の数に応じて設けられ、必ずしも4
個とは限らない。
The material containers 3A, 3B, 3C provided in the liquid material supply device 1 are filled with liquid materials 4A, 4B, 4C used for MOCVD. For example, BST
When a dielectric film is formed, the raw materials Ba, S
r, Ti dissolved in organic solvent THF is used as liquid material 4
A, 4B, and 4C are used. In addition, the solvent container 3D
Is filled with THF as a solvent 4D. In addition, the containers 3A to 3D are provided according to the number of raw materials,
Not necessarily individual.

【0010】各容器3A〜3Dには、チャージガスライ
ン5と移送ライン6A〜6Dとが接続されている。各容
器3A〜3D内にチャージガスライン5を介してチャー
ジガスが供給されると、各容器3A〜3Dに充填されて
いる液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dの液面にガス圧
が加わり、液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dが各移送
ライン6A〜6Dへとそれぞれ押し出される。移送ライ
ン6A〜6Dに押し出された各液体材料4A〜4Cおよ
び溶剤4Dは、ガス圧によってさらに移送ライン6Eへ
と移送され、この移送ライン6E内で混合状態となる。
移送ライン6Eにはキャリアガスライン7からキャリア
ガスが供給されるようになっており、キャリアガス、液
体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dは気液2相流状態とな
って気化器2へと供給される。
A charge gas line 5 and transfer lines 6A to 6D are connected to each of the containers 3A to 3D. When the charge gas is supplied into each of the containers 3A to 3D via the charge gas line 5, gas pressure is applied to the liquid surfaces of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D filled in each of the containers 3A to 3D, Materials 4A-4C and solvent 4D are extruded into respective transfer lines 6A-6D, respectively. The liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D that have been pushed out to the transfer lines 6A to 6D are further transferred to the transfer line 6E by gas pressure, and are mixed in the transfer line 6E.
The carrier gas is supplied to the transfer line 6E from the carrier gas line 7, and the carrier gas, the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D are supplied to the vaporizer 2 in a gas-liquid two-phase flow state. You.

【0011】なお、チャージガスおよびキャリアガスに
は窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスが用いられ
る。また、移送ライン6A〜6Eにおける液体材料4A
〜4Cや溶剤4Dの滞留量はできるだけ低減するのが好
ましく、本実施の形態では、移送ライン6A〜6Cには
1/8インチの配管を用いている。
An inert gas such as a nitrogen gas or an argon gas is used as the charge gas and the carrier gas. Further, the liquid material 4A in the transfer lines 6A to 6E.
It is preferable to reduce the amount of 〜4C and the solvent 4D as much as possible. In the present embodiment, 移送 inch piping is used for the transfer lines 6A to 6C.

【0012】各移送ライン6A〜6Dには、マスフロー
メータ8A〜8Dおよび遮断機能付き流量制御バルブ9
A〜9Dが設けられている。マスフローメータ8A〜8
Dで液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dの流量を各々監
視しつつ流量制御バルブ9A〜9Dを制御して、液体材
料4A〜4Cおよび溶剤4Dの流量が適切となるように
している。なお、流量制御バルブ9A〜9Dに代えてプ
ランジャポンプ等のポンプを用いても良い。
Each of the transfer lines 6A to 6D has a mass flow meter 8A to 8D and a flow control valve 9 with a shutoff function.
A to 9D are provided. Mass flow meter 8A-8
D monitors the flow rates of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D while controlling the flow control valves 9A to 9D so that the flow rates of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D become appropriate. Note that a pump such as a plunger pump may be used instead of the flow control valves 9A to 9D.

【0013】図2は液体材料供給装置1を詳細に示す図
であり、図2を参照しつつ液体材料供給装置1について
詳細に説明する。なお、図2では、材料容器3B,3C
に関する移送ラインの構成は材料容器3Aの移送ライン
と同様なので図示を省略した。まず、マスフローメータ
8A〜8Dおよび流量制御バルブ9A〜9Dの設置位置
について説明する。前述したように、従来の装置ではマ
スフローメータと流量制御バルブとが一体となったマス
フローコントローラが用いられていたが、本実施の形態
の液体材料供給装置1では、各移送ライン6A〜6Dに
独立したマスフローメータ8A〜8Dおよび流量制御バ
ルブ9A〜9Dを設けるようにした。
FIG. 2 is a diagram showing the liquid material supply device 1 in detail. The liquid material supply device 1 will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 2, the material containers 3B, 3C
The configuration of the transfer line for the material container 3A is the same as that of the transfer line for the material container 3A, and is not shown. First, the installation positions of the mass flow meters 8A to 8D and the flow control valves 9A to 9D will be described. As described above, in the conventional apparatus, a mass flow controller in which a mass flow meter and a flow control valve are integrated is used. However, in the liquid material supply apparatus 1 of the present embodiment, each of the transfer lines 6A to 6D is independent. The mass flow meters 8A to 8D and the flow control valves 9A to 9D are provided.

【0014】マスフローメータ8A〜8Dは熱式質量流
量計であり、流体を加熱したときに、ある一定の温度上
昇に必要なエネルギーが質量流量に比例することを利用
している。マスフローメータ8A〜8Dには流体を加熱
するためのヒータと、流体の流れ方向の温度差を計測す
るための一対の温度計とが設けられており、質量流量を
計測する際には流れ方向の温度差ΔTが一定になるよう
にヒータの熱量qがコントロールされる。このようにヒ
ータをコントロールすると、質量流量はそのときに与え
られた熱量qに比例するので、そのときの熱量qから質
量流量が求められる。
The mass flow meters 8A to 8D are thermal mass flow meters, and utilize the fact that when a fluid is heated, the energy required for a certain temperature rise is proportional to the mass flow rate. The mass flow meters 8A to 8D are provided with a heater for heating the fluid and a pair of thermometers for measuring the temperature difference in the flow direction of the fluid. The amount of heat q of the heater is controlled so that the temperature difference ΔT becomes constant. When the heater is controlled in this manner, the mass flow rate is proportional to the heat quantity q given at that time, so the mass flow rate is obtained from the heat quantity q at that time.

【0015】そこで、本実施の形態では、マスフローメ
ータ8A〜8Dと流量制御バルブ9A〜9Dとを別個に
独立して設け、マスフローメータ8A〜8Dは各移送ラ
イン6A〜6Dの容器3A〜3Dに近い位置に設置し、
流量制御バルブ9A〜9Dは各移送ライン6A〜6Dの
気化器2に近い位置に設置した。このように構成するこ
とによって、マスフローメータ8A〜8Dに対する気化
器2の熱影響を防止することができるとともに、応答性
の向上を図ることができた。
Therefore, in the present embodiment, the mass flow meters 8A to 8D and the flow control valves 9A to 9D are separately and independently provided, and the mass flow meters 8A to 8D are provided in the containers 3A to 3D of the transfer lines 6A to 6D. Installed near,
The flow control valves 9A to 9D were installed at positions near the vaporizer 2 in each of the transfer lines 6A to 6D. With such a configuration, the thermal influence of the vaporizer 2 on the mass flow meters 8A to 8D can be prevented, and the responsiveness can be improved.

【0016】図3は気化器2に近接して設けられた流量
制御バルブ9A〜9Dの外観を示す図である。各流量制
御バルブ9A〜9Dはブロック90に設けられたポート
91,92,93,94に接続されている。ブロック9
0の内部には移送ライン6A〜6Eに対応する管路96
A〜96Eがそれぞれ形成されており、各管路96A〜
96Eには上述したポート91〜94およびポート9
5,96が接続されている。管路96Eに接続されたポ
ート95,96には図2に示す開閉バルブV9,V6が
設けられている。
FIG. 3 is a view showing the appearance of the flow control valves 9A to 9D provided close to the vaporizer 2. Each of the flow control valves 9A to 9D is connected to ports 91, 92, 93, and 94 provided in the block 90. Block 9
0, a pipe 96 corresponding to the transfer lines 6A to 6E.
A to 96E are respectively formed, and each of the conduits 96A to 96E is formed.
96E has the ports 91 to 94 and port 9 described above.
5, 96 are connected. The ports 95 and 96 connected to the pipe 96E are provided with on-off valves V9 and V6 shown in FIG.

【0017】各管路96A〜96Dには流量制御バルブ
9A〜9Dを介して液体材料4A〜4Cおよび溶剤4D
が導入され、管路96E内で混合される。管路96Eに
はポート95からキャリアガスが供給され、管路96E
内では液体材料4A〜4Cの混合液とキャリアガスとが
気液2相流状態となっている。この気液2相流状態の液
体材料は、開閉バルブV6を介して図2の気化器2へと
送り込まれる。
The liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D are connected to the respective conduits 96A to 96D through flow control valves 9A to 9D.
Is introduced and mixed in the line 96E. A carrier gas is supplied to the conduit 96E from the port 95, and the conduit 96E
Inside, the mixed liquid of the liquid materials 4A to 4C and the carrier gas are in a gas-liquid two-phase flow state. The liquid material in the gas-liquid two-phase flow state is sent to the vaporizer 2 in FIG. 2 via the on-off valve V6.

【0018】ブロック90には、マスフローメータ8A
〜8Dから分離して設けられた流量制御バルブ9A〜9
Dだけが接続されるので、ブロック90の大きさをコン
パクトにすることができる。また、ブロック90を気化
器2に近接して設けるとともに、遮断機能付きの流量制
御バルブ9A〜9Dを利用しているので、流量制御バル
ブ9A〜9Dと気化器2との間の配管容積を小さくする
ことができ、流量制御の応答性を向上させることができ
る。また、液混合後の配管容積が小さいので、混合液の
滞留により変質等も低減することができる。
The block 90 includes a mass flow meter 8A.
Flow control valves 9A to 9 provided separately from .about.8D
Since only D is connected, the size of the block 90 can be made compact. Further, since the block 90 is provided close to the carburetor 2 and the flow control valves 9A to 9D with the shutoff function are used, the piping volume between the flow control valves 9A to 9D and the carburetor 2 is reduced. Responsiveness of the flow control can be improved. In addition, since the volume of the pipe after mixing the liquid is small, the deterioration of the mixed liquid due to the stagnation of the mixed liquid can be reduced.

【0019】図2に戻って、材料容器3Aおよび溶剤容
器3Dは、チャージガスライン5および移送ライン6
A,6Dに対してコネクタCを介してそれぞれ着脱可能
に接続されている。これらのコネクタCと各容器3A、
3Dとの間には一体構造の3弁4方切換バルブ10A,
10Dがそれぞれ設けられており、各容器3A、3Dは
3弁4方切換バルブ10A,10Dと一体で着脱され
る。
Returning to FIG. 2, the material container 3A and the solvent container 3D have a charge gas line 5 and a transfer line 6 respectively.
A and 6D are detachably connected to each other via a connector C. These connectors C and each container 3A,
3D and a three-way four-way switching valve 10A,
10D are provided, and the containers 3A and 3D are attached and detached integrally with the three- and four-way switching valves 10A and 10D.

【0020】図2において、11,12は移送ライン6
A,6Dの真空引き、ガスパージ、溶剤洗浄および液置
換等を行うための補助ラインであって、溶剤洗浄や液置
換時の廃液を収容するドレンタンク13に接続されてい
る。LS1,LS2はドレンタンク13内の廃液の液面
高さを検出するためのセンサである。ドレンタンク13
には真空排気ライン14が接続されており、ドレンタン
ク13内は減圧状態とされる。補助ライン11は、一体
構造の2弁3方切換バルブ15A,15Dを介して移送
ライン6A,6Dに接続されている。また、補助ライン
11には監視装置16が設けられており、この監視装置
16により配管内を流れている流体の状態、例えば、流
体が液体であるか気体であるかを判別することができ
る。なお、3弁4方切換バルブ10A,10D、2弁3
方切換バルブ15A,15Dおよび監視装置16の詳細
については後述する。
In FIG. 2, reference numerals 11 and 12 denote transfer lines 6.
This is an auxiliary line for performing vacuum evacuation of A and 6D, gas purging, solvent cleaning, liquid replacement, and the like, and is connected to a drain tank 13 for storing waste liquid from solvent cleaning and liquid replacement. LS1 and LS2 are sensors for detecting the liquid level of the waste liquid in the drain tank 13. Drain tank 13
Is connected to a vacuum exhaust line 14, and the pressure in the drain tank 13 is reduced. The auxiliary line 11 is connected to the transfer lines 6A and 6D via two- and three-way switching valves 15A and 15D of an integral structure. The auxiliary line 11 is provided with a monitoring device 16, which can determine the state of the fluid flowing in the pipe, for example, whether the fluid is a liquid or a gas. In addition, 3 valve 4 way switching valve 10A, 10D, 2 valve 3
Details of the direction switching valves 15A and 15D and the monitoring device 16 will be described later.

【0021】図2のチャージガスライン5、移送ライン
6A,6D,6E、キャリアガスライン7、補助ライン
11,12および真空排気ライン14には開閉バルブV
1〜V10がそれぞれ設けられており、各開閉バルブV
1〜V10の開閉および2弁3方切換バルブ15の切換
を適宜切り換えることによって後述する真空引き、ガス
パージおよび溶剤洗浄が行われる。チャージガスライン
5には逆止弁17A,17Dが、移送ライン6A,6D
にはフィルタ18A,18Dがそれぞれ設けられてい
る。
The charge gas line 5, transfer lines 6A, 6D, 6E, carrier gas line 7, auxiliary lines 11, 12 and vacuum exhaust line 14 shown in FIG.
1 to V10, respectively, and each open / close valve V
By appropriately switching the opening / closing of 1 to V10 and the switching of the two-valve three-way switching valve 15, the evacuation, gas purging and solvent cleaning described later are performed. Check valves 17A and 17D are provided in the charge gas line 5, and transfer lines 6A and 6D
Are provided with filters 18A and 18D, respectively.

【0022】本実施の形態の液体材料供給装置1では、
送液の安定性を図るために気泡の生じにくいフィルタ1
8A,18Dを移送ライン6A,6Dに設けるととも
に、液体材料中に析出物が生じないように配管中のデッ
ドボリュームを極力低減するようにした。図4はフィル
タ18Aの詳細を説明する図であり、(a)はフィルタ
の断面図であり、(b)は流量安定性を定性的に示した
図である。図4(a)に示すように、移送ライン6Aに
設けられたフィルタ18Aのボディ20内には、シート
状のフィルタエレメント21が送液方向に対してほぼ直
角に配設されている。なお、フィルタ18Dも、フィル
タ18Aと全く同一の構造を有している。
In the liquid material supply device 1 of the present embodiment,
Filter 1 that is less likely to generate air bubbles in order to ensure liquid sending stability
8A and 18D are provided in the transfer lines 6A and 6D, and the dead volume in the piping is reduced as much as possible so that no precipitate is generated in the liquid material. 4A and 4B are diagrams illustrating details of the filter 18A. FIG. 4A is a cross-sectional view of the filter, and FIG. 4B is a diagram qualitatively illustrating flow rate stability. As shown in FIG. 4 (a), a sheet-shaped filter element 21 is disposed substantially at right angles to the liquid feeding direction in the body 20 of the filter 18A provided in the transfer line 6A. Note that the filter 18D has exactly the same structure as the filter 18A.

【0023】このフィルタエレメント21にはステンレ
ス鋼(SUS)線材のメッシュを積層したものが用いら
れるが、本実施の形態では、線径の細いメッシュと線径
の太いメッシュの2種類のメッシュを積層した。その結
果、フィルタ18Aは従来の焼結フィルタに比べて圧力
損失が低く、かつ、良好な整流作用を有しており、気泡
の発生が抑えられて流量が安定する。また、線径の細い
メッシュだけではなく線径の太いメッシュも用いること
により、フィルタエレメント21の強度の向上を図っ
た。また、フィルタエレメント21としては、PTFE
のメッシュを積層したものを用いても良く、SUSのも
のに比べて耐食性が向上する。
The filter element 21 is formed by laminating meshes of stainless steel (SUS) wire rods. In the present embodiment, two types of meshes, a thin wire mesh and a thick wire mesh, are laminated. did. As a result, the filter 18A has a lower pressure loss than the conventional sintered filter and has a good rectifying action, and the generation of bubbles is suppressed and the flow rate is stabilized. Further, the strength of the filter element 21 was improved by using not only a mesh having a small wire diameter but also a mesh having a large wire diameter. The filter element 21 is made of PTFE
May be used, and the corrosion resistance is improved as compared with SUS.

【0024】図4(b)は、フィルタエレメント21を
使用した場合のフィルタ18Aの性能を、従来の焼結フ
ィルタの場合と比較したものであり、φ1.6×0.5
の配管にフィルタ18Aとマスフローコントローラとを
2(m)の間隔で配設し、溶剤THFを流量0.8(m
l/min)で流したときのマスフローコントローラの
出力を示したものである。図4(b)の上段は従来の焼
結フィルタの場合を示したものであり、気泡の発生によ
り出力が上下にふらついている。一方、下段は本実施の
形態のフィルタ18Aの場合を示したもので、従来のよ
うな出力のふらつきは見られず、流量が安定しているこ
とがわかる。
FIG. 4B compares the performance of the filter 18A when the filter element 21 is used with that of the conventional sintered filter.
The filter 18A and the mass flow controller are disposed at intervals of 2 (m) in the piping of (2), and the solvent THF is supplied at a flow rate of 0.8 (m).
1 / min) shows the output of the mass flow controller when flowing at 1 / min). The upper part of FIG. 4B shows a case of a conventional sintered filter, and the output fluctuates up and down due to the generation of bubbles. On the other hand, the lower part shows the case of the filter 18A of the present embodiment, and the output does not fluctuate as in the conventional case, and it can be seen that the flow rate is stable.

【0025】特に、マスフローコントローラを用いて流
量制御を行う場合には、マスフローコントローラでの差
圧が最低でも0.5(kg/cm2)以上必要となり、
フィルタ部分で気泡が発生しやすくなるので上述したフ
ィルタ18Aはより効果的に作用する。
In particular, when the flow rate is controlled using a mass flow controller, the differential pressure in the mass flow controller must be at least 0.5 (kg / cm 2 ).
Since the air bubbles are easily generated in the filter portion, the above-described filter 18A works more effectively.

【0026】気化器2に液体材料4A〜4Cを供給する
場合には、図5に示すように各バルブの開閉を制御す
る。なお、図5では、バルブの開閉状態が分かり易いよ
うに、バルブが閉じている場合にはバルブ記号を黒く塗
りつぶして示し、チャージガスの流れは破線の矢印で、
液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dの流れは実線の矢印
で示した。図5に示すように、液体材料供給時には、開
閉バルブV1,V3,V5〜V10、2弁3方切換バル
ブ15A,15Dの各バルブユニットV22、3弁4方
切換バルブ10A,10Dの各バルブユニットV31,
33をそれぞれ開状態とする。一方、開閉バルブV2,
V4,V5、2弁3方切換バルブ15A,15Dの各バ
ルブユニットV21、3弁4方切換バルブ10A,15
Dの各バルブユニットV32をそれぞれ閉状態とする。
なお、2弁3方切換バルブ15A,15Dおよび3弁4
方切換バルブ10A,10Dの詳細は後述する。
When supplying the liquid materials 4A to 4C to the vaporizer 2, the opening and closing of each valve is controlled as shown in FIG. In FIG. 5, when the valve is closed, the valve symbol is shown in black so that the open / closed state of the valve can be easily understood.
The flows of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D are indicated by solid arrows. As shown in FIG. 5, when supplying the liquid material, each valve unit V22 of the on-off valves V1, V3, V5 to V10, the two-valve three-way switching valve 15A, 15D, and each of the three-valve four-way switching valve 10A, 10D V31,
33 are respectively opened. On the other hand, on-off valve V2,
V4, V5, each valve unit V21 of 2 valve 3 way switching valve 15A, 15D, 3 valve 4 way switching valve 10A, 15
Each valve unit V32 of D is closed.
The two-valve three-way switching valves 15A and 15D and the three-valve 4
Details of the one-way switching valves 10A and 10D will be described later.

【0027】図5のように各バルブの開閉状態を制御す
ると、材料容器3A〜3Cおよび溶剤容器3D内にチャ
ージガスが導入されて、液体材料4A〜4Cおよび溶剤
4Dが各容器3A〜3Dから移送ライン6A〜6Dにそ
れぞれ送出される。移送ライン6A〜6Dに送出された
液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dは、移送ライン6E
で混合状態となるとともに、導入されたキャリアガスに
より気液2相流状態となって気化器2へと送り込まれ
る。
When the open / close state of each valve is controlled as shown in FIG. 5, charge gas is introduced into the material containers 3A to 3C and the solvent container 3D, and the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D are removed from the containers 3A to 3D. It is sent out to each of the transfer lines 6A to 6D. The liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D sent to the transfer lines 6A to 6D are combined with the transfer line 6E.
At the same time, and is introduced into the vaporizer 2 in a gas-liquid two-phase flow state by the introduced carrier gas.

【0028】《2弁3方切換バルブの説明》次に、図
6,7を参照して2弁3方切換バルブ15(15A,1
5D)について説明する。図6は2弁3方切換バルブ1
5の一例を示す図であり、(a)は正面図、(b)は
(a)のA矢視図、(c)はフローダイアグラムであ
る。また、図7において、(a)は図6(b)のB−B
断面図であり、(b)は(a)のC−C断面図である。
2弁3方切換バルブ15は、図6(c)のフローダイア
グラムに示すように2つの開閉バルブV21,V22を
一体構造としたものであり、3つのポートP1,P2,
P3を有している。本実施の形態では、開閉バルブV2
1,V22をバルブユニットV21,V22と呼ぶこと
にする。
<< Description of 2-Valve 3-Way Switching Valve >> Next, referring to FIGS. 6 and 7, a 2-valve 3-way switching valve 15 (15A, 1
5D) will be described. FIG. 6 shows a two-valve three-way switching valve 1
5A and 5B show an example of FIG. 5, wherein FIG. 4A is a front view, FIG. 4B is a view from arrow A of FIG. Also, in FIG. 7, (a) is BB of FIG. 6 (b).
It is sectional drawing, (b) is CC sectional drawing of (a).
As shown in the flow diagram of FIG. 6C, the two-valve three-way switching valve 15 has two opening / closing valves V21 and V22 in an integrated structure, and has three ports P1, P2 and
P3. In the present embodiment, the on-off valve V2
1, V22 will be referred to as valve units V21, V22.

【0029】150A,150Bはバルブ駆動部であ
り、外部から供給される圧搾空気により駆動される。図
7に示すようにボディ151内にはバルブユニットV2
2,V21に関する二つのダイアフラム152A,15
2Bが設けられており、それぞれ図示上下方向に駆動さ
れるピストン153A,153Bによってバルブ開閉動
作が行われる。
Reference numerals 150A and 150B denote valve driving units which are driven by compressed air supplied from the outside. As shown in FIG. 7, a valve unit V2 is provided in the body 151.
2, two diaphragms 152A, 15 for V21
2B are provided, and a valve opening / closing operation is performed by pistons 153A and 153B which are respectively driven in the vertical direction in the figure.

【0030】図7では、ピストン153Aがバネ155
Aの付勢力によって図示上方に駆動されて、ダイアフラ
ム152Aがバルブシート154Aに押圧されている。
一方、ピストン153Bがバネ155Bの付勢力によっ
て図示下方に駆動されて、ダイアフラム152Bがバル
ブシート154Bに押圧されている。その結果、ポート
P1とポートP2との間およびポートP1とポートP3
との間はそれぞれ遮断されている。
In FIG. 7, the piston 153A has a spring 155
The diaphragm 152A is driven upward by the urging force of A, and the diaphragm 152A is pressed against the valve seat 154A.
On the other hand, the piston 153B is driven downward in the figure by the urging force of the spring 155B, and the diaphragm 152B is pressed against the valve seat 154B. As a result, between port P1 and port P2 and between port P1 and port P3
Are shut off from each other.

【0031】図7の状態において、エアインレット15
6Aに圧搾空気を供給すると、ガス圧によりピストン1
53Aが下方に駆動され、当接していたダイアフラム1
52Aがバルブシート154Aから離れる。その結果、
ポートP1とポートP2とが連通される。一方、エアイ
ンレット156Bに圧搾ガスを供給すると、ガス圧によ
りピストン153Bが上方に駆動されてダイアフラム1
52Bがバルブシート154Bから離れる。この場合、
ポートP1とポートP3とが連通される。
In the state of FIG. 7, the air inlet 15
When compressed air is supplied to 6A, the piston 1
53A is driven downward, and the diaphragm 1
52A separates from valve seat 154A. as a result,
The port P1 is communicated with the port P2. On the other hand, when compressed gas is supplied to the air inlet 156B, the piston 153B is driven upward by the gas pressure, and the diaphragm 1
52B separates from valve seat 154B. in this case,
The port P1 is communicated with the port P3.

【0032】図2に示す例では、ポートP1,P2が移
送ライン6(6A,6D)に接続され、ポートP3が補
助ライン11に接続されている。例えば、材料容器3A
から移送ライン6Aへと液体材料4Aを送出する際に
は、バルブユニットV22を開くとともにバルブユニッ
トV21を閉じて、図6(c)のR1のようにポートP
1からポートP2へと液体材料4Aを導く。一方、後述
するように材料容器3Aの着脱を行う際の配管洗浄の場
合には、バルブユニットV22を閉じるとともにバルブ
ユニットV21を開いて、図6(c)のR2のようにポ
ートP1からポートP3へと洗浄廃液を導く。
In the example shown in FIG. 2, ports P1 and P2 are connected to transfer lines 6 (6A and 6D), and port P3 is connected to auxiliary line 11. For example, material container 3A
When the liquid material 4A is sent from the container to the transfer line 6A, the valve unit V22 is opened and the valve unit V21 is closed, and as shown in R1 of FIG.
The liquid material 4A is guided from 1 to the port P2. On the other hand, in the case of pipe cleaning when the material container 3A is attached and detached as described later, the valve unit V22 is closed and the valve unit V21 is opened, and the port P1 is moved from the port P1 to the port P3 as indicated by R2 in FIG. To the washing waste liquid.

【0033】そのため、矢印R1のように液体材料4A
を移送ライン6Aへと送出する場合には管路21の部分
がデッドボリュームとなり、矢印R2のように洗浄廃液
を流す場合には、管路20の部分がデッドボリュームと
なる。図7(a)に示すように、ポートP1はダイアフ
ラム152Aとダイアフラム152Bとの間に設けられ
ているので、管路20はポートP1とダイアフラム15
2Aとの間の空間であり、管路21はポートP1とダイ
アフラム152Bとの間の空間となる。一方、従来のよ
うにバルブユニットV21,V22の部分に独立した開
閉バルブをそれぞれ用いる場合には、20,21の部分
は配管部分となる。そのため、本実施の形態では、配管
が3方に分岐している部分のデッドボリュームを従来よ
り小さくすることができる。
Therefore, as shown by the arrow R1, the liquid material 4A
Is sent to the transfer line 6A, the pipe 21 becomes a dead volume, and when the washing waste liquid flows as indicated by an arrow R2, the pipe 20 becomes a dead volume. As shown in FIG. 7A, since the port P1 is provided between the diaphragm 152A and the diaphragm 152B, the pipeline 20 is connected to the port P1 and the diaphragm 15A.
2A, and the pipeline 21 is a space between the port P1 and the diaphragm 152B. On the other hand, when independent opening / closing valves are used for the valve units V21 and V22, respectively, as in the related art, the portions 20 and 21 are piping portions. Therefore, in the present embodiment, the dead volume at the portion where the pipe branches to three directions can be made smaller than before.

【0034】《3弁4方切換バルブの説明》次いで、3
弁4方切換バルブ10(10A,10D)について説明
する。図8は3弁4方切換バルブ10の一例を示す外観
図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のD矢視図
である。ボディ101には4つのポートP11〜P14
が設けられており、100A〜100Cは駆動部であ
る。3弁4方切換バルブ10のフローダイアグラムは図
9(a)のようになっており、3つのバルブユニットV
31,V32,V33を一体構造としたものである。
<< Description of 3-valve 4-way switching valve >>
The four-way switching valve 10 (10A, 10D) will be described. 8A and 8B are external views showing an example of the three-valve four-way switching valve 10, in which FIG. 8A is a plan view, and FIG. The body 101 has four ports P11 to P14
Are provided, and 100A to 100C are drive units. The flow diagram of the three-valve four-way switching valve 10 is as shown in FIG.
31, V32 and V33 are integrated.

【0035】図9(b)はボディ101内の構造を模式
的に示したものであり、図9(a)のフローダイアグラ
ムに対応させて図示した。各バルブユニットV31〜V
33は同一構造を有しており、ボディ101内にはダイ
アフラム112A,112B,112C、ピストン11
3A,113B,113C、バルブシート114A,1
14B,114Cがそれぞれ設けられている。なお、図
9(b)では、ピストン113A〜113Cの駆動機構
は図7(a)に示した2弁3方切換バルブ15の場合と
同一構造なので、図示を省略した。図9(b)に示した
状態では、各ダイアフラム112A〜112Cはピスト
ン113A〜113Cによってバルブシート114A〜
114Cに押圧されており、バルブユニットV31〜V
33は全て閉状態となっている。
FIG. 9 (b) schematically shows the structure inside the body 101, which is shown in correspondence with the flow diagram of FIG. 9 (a). Each valve unit V31-V
33 have the same structure, and the diaphragms 112A, 112B, 112C, the piston 11
3A, 113B, 113C, valve seat 114A, 1
14B and 114C are provided, respectively. In FIG. 9B, the driving mechanism of the pistons 113A to 113C has the same structure as that of the two-valve three-way switching valve 15 shown in FIG. In the state shown in FIG. 9 (b), each of the diaphragms 112A to 112C is moved by the pistons 113A to 113C to form the valve seats 114A to 114C.
114C and the valve units V31-V
33 are all closed.

【0036】図9(b)に示す状態からピストン113
Aを図示左方向に駆動すると、ダイアフラム112Aが
バルブシート114Aから離れてポートP11とP12
とが連通する。また、ピストン113Cを図示右方向に
駆動すると、ダイアフラム112Cがバルブシート11
4Cから離れてポートP13とP14とが連通する。ボ
ディ101内には、ポートP11と連通する管路115
およびポートP13と連通する管路116が形成されて
おり、ピストン113Bを上方に駆動すると、ダイアフ
ラム112Bがバルブシート114Bから離れて管路1
15と管路116とが連通する。すなわち、ポートP1
1とポートP13とが連通される。
The piston 113 is moved from the state shown in FIG.
When A is driven to the left in the figure, the diaphragm 112A separates from the valve seat 114A and the ports P11 and P12
Communicates with When the piston 113C is driven rightward in the figure, the diaphragm 112C is moved to the valve seat 11.
Ports P13 and P14 communicate with each other at a distance from 4C. In the body 101, a conduit 115 communicating with the port P11 is provided.
When the piston 113B is driven upward, the diaphragm 112B separates from the valve seat 114B and the pipeline 1 communicates with the port P13.
15 communicates with the pipeline 116. That is, the port P1
1 and the port P13 are communicated.

【0037】図2に示した例では、ポートP11はチャ
ージガスライン5のコネクタC側に接続され、ポートP
12は材料容器3Aおよび溶剤容器3D側に接続されて
いる。また、ポートP13は移送ライン6(6A,6
D)のコネクタ側に接続され、ポートP14は材料容器
3A側および溶剤容器3D側に接続されている。例え
ば、材料容器3Aから移送ライン6Aへと液体材料4A
を送出する際には、図5に示すようにバルブユニットV
32を閉じるとともにバルブユニットV31,V33を
開く。
In the example shown in FIG. 2, the port P11 is connected to the connector C side of the charge gas line 5,
Reference numeral 12 is connected to the material container 3A and the solvent container 3D. Port P13 is connected to transfer line 6 (6A, 6A).
The port P14 is connected to the material container 3A and the solvent container 3D. For example, the liquid material 4A is transferred from the material container 3A to the transfer line 6A.
Is transmitted, the valve unit V is supplied as shown in FIG.
32 is closed and the valve units V31 and V33 are opened.

【0038】このとき、チャージガスは図5,図9
(a)のR3のようにポートP11からポートP12へ
と流れて材料容器3A内に導入され、材料容器3A(図
5参照)内の液体材料4AはポートP14からポートP
13へと導かれて、移送ライン6Aへと送出される。ま
た、後述するガスパージや配管洗浄の場合には、図9
(a)のバルブユニットV31,V33を閉じるととも
にバルブユニットV32を開いて、R6のようにポート
P11からポートP13へとチャージガスや洗浄用溶剤
を流す。
At this time, the charge gas is supplied as shown in FIGS.
As shown in R3 of (a), it flows from the port P11 to the port P12 and is introduced into the material container 3A, and the liquid material 4A in the material container 3A (see FIG. 5) flows from the port P14 to the port P.
13 and sent out to the transfer line 6A. In the case of gas purging and pipe cleaning described later, FIG.
(A) The valve units V31 and V33 are closed and the valve unit V32 is opened, and a charge gas or a cleaning solvent flows from the port P11 to the port P13 as indicated by R6.

【0039】この3弁4方切換バルブ10の場合も、上
述した2弁3方切換バルブ15と同様にデッドボリュー
ムを低減することができる。すなわち、図9(a)に示
すような回路を従来のように独立した開閉バルブで構成
する場合には、バルブユニットV31〜V33を各々開
閉バルブで置き換えることになる。この場合、図9
(a)の符号120,121で示す部分は配管構成とな
るため、デッドボリュームが大きくならざるを得ない。
一方、本実施の形態では、一体構造の3弁4方切換バル
ブ10を使用し、ボディ101内に形成された管路11
5,116の容積を配管構造の場合より小さくすること
によって、従来よりデッドボリュームを小さくすること
ができた。
In the case of the three-valve four-way switching valve 10 as well, the dead volume can be reduced similarly to the two-valve three-way switching valve 15 described above. That is, when the circuit as shown in FIG. 9A is configured by independent open / close valves as in the related art, each of the valve units V31 to V33 is replaced with an open / close valve. In this case, FIG.
Portions indicated by reference numerals 120 and 121 in (a) have a piping configuration, so that the dead volume must be large.
On the other hand, in the present embodiment, a three-way four-way switching valve 10 having an integral structure is used, and a conduit 11 formed in a body 101 is used.
By making the volume of 5,116 smaller than that of the piping structure, the dead volume could be made smaller than before.

【0040】前述したように、各3弁4方切換バルブ1
0A,10DはコネクタCに関して材料容器3Aおよび
溶剤容器3D側に設けられ、材料補充の際には、各3弁
4方切換バルブ10A,10Dと容器3A,3Dの各々
とが一体となってコネクタC部分で着脱される。例え
ば、材料容器3AをコネクタCの部分でチャージガスラ
イン5および移送ライン6Aから取り外す場合には、図
5の状態から図10(a)に示すように開閉バルブV
3,V6、バルブユニットV22,V31,V33を閉
じるとともに、開閉バルブV2,V4、バルブユニット
V21,V32を開く。
As described above, each three-way four-way switching valve 1
Reference numerals 0A and 10D are provided on the material container 3A and the solvent container 3D side with respect to the connector C. When refilling the material, each of the three-valve and four-way switching valves 10A and 10D and each of the containers 3A and 3D are integrated. It is attached and detached at part C. For example, when the material container 3A is to be detached from the charge gas line 5 and the transfer line 6A at the connector C, the open / close valve V is switched from the state shown in FIG.
3, V6 and the valve units V22, V31 and V33 are closed, and the opening and closing valves V2 and V4 and the valve units V21 and V32 are opened.

【0041】このようにバルブ開閉状態を制御すると、
溶剤容器3Dから移送ライン6Dに送出された溶剤4D
は、開閉バルブV2→補助ライン12→開閉バルブV4
→バルブユニットV32→バルブユニットV21→補助
ライン11の順に流れ、ドレンタンク13へと排出され
る。このような経路で溶剤4Dを流すことにより、図1
0(a)の太い実線で示した管路F1内に滞留していた
液体材料4Aは溶剤4Dにより洗浄され、その洗浄廃液
は補助ライン11を介してドレンタンク13へと排出さ
れる。なお、管路F1は、図9(b)のポートP11,
P13および管路115,116に対応している。
By controlling the valve opening / closing state in this way,
Solvent 4D sent from solvent container 3D to transfer line 6D
Is the opening / closing valve V2 → the auxiliary line 12 → the opening / closing valve V4
It flows in the order of the valve unit V32, the valve unit V21, and the auxiliary line 11, and is discharged to the drain tank 13. By flowing the solvent 4D through such a path, FIG.
The liquid material 4A remaining in the pipe line F1 indicated by the thick solid line 0 (a) is washed by the solvent 4D, and the washing waste liquid is discharged to the drain tank 13 through the auxiliary line 11. The pipe F1 is connected to the ports P11 and P11 in FIG.
It corresponds to P13 and conduits 115 and 116.

【0042】管路F1部分の洗浄が終了したならば、材
料容器3Aおよび3弁4方切換バルブ10Aを一体でコ
ネクタC部分から取り外す。そして、材料容器3Aに液
体材料4Aを補充した後に、再びコネクタC部分に接続
する。なお、管路F1部分の洗浄終了後、さらに、図1
0(b)のようにバルブ開閉を切り換え、管路F1内を
チャージガスでパージして管路F内の溶剤を除去するよ
うにしても良い。
When the washing of the line F1 is completed, the material container 3A and the three-way four-way switching valve 10A are integrally removed from the connector C. After refilling the material container 3A with the liquid material 4A, it is connected to the connector C again. After the washing of the pipe line F1 is completed, FIG.
The valve may be switched between open and closed as shown in FIG. 2B, and the inside of the pipe F1 may be purged with a charge gas to remove the solvent in the pipe F.

【0043】上述したように材料容器3Aと3弁4方切
換バルブ10Aとを一体でライン5,6Aから取り外せ
る構造とし、かつ、図10に示したように管路F1部分
を洗浄した後に材料容器3Aを取り外すようにすれば、
大気に触れる部分である管路F1内に液体材料が残留す
ることがない。その結果、材料容器3Aの着脱動作を行
っても、液体材料4Aと大気との反応生成物が管路F1
内に生じることがない。
As described above, the material container 3A and the three-way / four-way switching valve 10A have a structure that can be integrally removed from the lines 5 and 6A, and after the line F1 is cleaned as shown in FIG. If you remove 3A,
The liquid material does not remain in the pipe line F1, which is a portion that comes into contact with the atmosphere. As a result, even when the attachment / detachment operation of the material container 3A is performed, the reaction product between the liquid material 4A and the atmosphere remains in the line F1.
Does not occur within.

【0044】ところで、上述した2弁3方切換バルブ1
5A〜15Dや3弁4方切換バルブ10A〜10Dにお
いて、ダイアフラム152A,152B,112A〜1
12Cやバルブシート154A,154B,114A〜
114Cに樹脂材を用いる場合には、耐熱性や耐薬品性
に優れるPEEK(polyether ether ketone),PTF
E(polytetrafluoroethylene),PI(polyimide)お
よびPBI(polybenzimidazole)等を使用すると良
い。このような材料を用いることにより耐久性の向上を
図ることができる。
Incidentally, the above-described two-valve three-way switching valve 1
In 5A to 15D and 3-valve 4-way switching valves 10A to 10D, diaphragms 152A, 152B, 112A to 1
12C and valve seats 154A, 154B, 114A ~
When a resin material is used for 114C, PEEK (polyether ether ketone), PTF which is excellent in heat resistance and chemical resistance are used.
E (polytetrafluoroethylene), PI (polyimide), PBI (polybenzimidazole) and the like are preferably used. By using such a material, durability can be improved.

【0045】《洗浄作業の説明》次に、気化作業開始前
の洗浄作業について説明する。本実施の形態では、洗浄
作業の際の、真空引き、ガスパージ、溶剤洗浄について
説明する。実際の洗浄作業では、効果的なライン内洗浄
が行われるように、これらの工程が種々組み合わせて用
いられる。例えば、真空引き(またはガスパージ)→溶
剤洗浄と行われたり、真空引きおよびガスパージを何回
か行った後に溶剤洗浄がおこなわれたりする。また、溶
剤洗浄後に、その洗浄液を除去するためのガスパージを
行う場合もある。
<< Description of Cleaning Operation >> Next, the cleaning operation before the start of the vaporization operation will be described. In the present embodiment, a description will be given of evacuation, gas purging, and solvent cleaning during the cleaning operation. In an actual cleaning operation, these steps are used in various combinations so that effective in-line cleaning is performed. For example, vacuum cleaning (or gas purging) → solvent cleaning is performed, or solvent cleaning is performed after performing vacuuming and gas purging several times. After the solvent cleaning, a gas purge for removing the cleaning liquid may be performed in some cases.

【0046】(1)真空引き まず、排気ライン14を用いた、移送ライン6A〜6
D、補助ライン11,12の真空引きについて説明す
る。図11は真空引きの際のバルブ開閉状態を示す図で
あり、開閉バルブV6,V9,V10、および材料容器
3A,3Dに設けられたA3弁4方切換バルブ10A,
10Dの各バルブユニットV31,V33を平状態と
し、その他は開状態とする。このようにバルブ開閉を制
御すると、チャージガスライン5,移送ライン6A〜6
Dおよび補助ライン11,12は、真空排気ライン14
を介して不図示の真空排気装置により真空引きされる。
(1) Vacuuming First, the transfer lines 6A to 6A using the exhaust line 14
D, the evacuation of the auxiliary lines 11 and 12 will be described. FIG. 11 is a view showing the valve opening / closing state at the time of evacuation. The opening / closing valves V6, V9, V10, and the A3 valve 4-way switching valve 10A provided in the material containers 3A, 3D,
Each of the 10D valve units V31 and V33 is in a flat state, and the others are in an open state. When the valve opening / closing is controlled in this manner, the charge gas line 5, the transfer lines 6A to 6A
D and auxiliary lines 11 and 12 are evacuated lines 14
Is evacuated by a not-shown evacuation device.

【0047】(2)ガスパージ 図12はガスパージの際のバルブ開閉状態を示す図であ
り、図11の開閉バルブ10を閉状態から開状態へと切
り換えたものである。チャージガスは破線矢印で示すよ
うにチャージガスライン5,移送ライン6A〜6Dおよ
び補助ライン11,12を流れて、真空排気ライン14
が接続されたドレンタンク13へと排出される。
(2) Gas Purge FIG. 12 is a view showing the open / close state of the valve at the time of gas purge, in which the open / close valve 10 of FIG. 11 is switched from the closed state to the open state. The charge gas flows through the charge gas line 5, the transfer lines 6A to 6D and the auxiliary lines 11 and 12 as indicated by the dashed arrows, and
Is discharged to the connected drain tank 13.

【0048】(3)溶剤洗浄 図13は溶剤洗浄の際のバルブ開閉状態を示す図であ
り、本実施の形態では溶剤容器3D内の溶剤4Dを用い
て配管洗浄を行う。図13に示すバルブ開閉状態は、図
12に示す状態から開閉バルブV3,2弁3方切換バル
ブ15A,15DのバルブユニットV21および3弁4
方切換バルブ10DのバルブユニットV32を開状態か
ら閉状態へと切り換え、かつ、3弁4方切換バルブ10
DのバルブユニットV31,V33を閉状態から開状態
へと切り換えたものである。
(3) Solvent Washing FIG. 13 is a view showing a valve opening and closing state at the time of solvent washing. In this embodiment, pipe washing is performed using the solvent 4D in the solvent container 3D. The valve opening / closing state shown in FIG. 13 is changed from the state shown in FIG.
The valve unit V32 of the one-way switching valve 10D is switched from the open state to the closed state, and the three-way four-way switching valve 10D
The valve units V31 and V33 of D are switched from the closed state to the open state.

【0049】チャージガスライン5から溶剤容器3D内
に加圧されたチャージガスが供給され、溶剤容器3D内
の溶剤4Dが移送ライン6Dに送出される。移送ライン
6Dに送出された溶剤4Dは、分岐点P40において、
移送ライン6D内を図示上方の流量制御バルブ9D方向
に流れるものと、開閉バルブV2を介して補助ライン1
2へ流れるものとに分かれる。
Pressurized charge gas is supplied into the solvent container 3D from the charge gas line 5, and the solvent 4D in the solvent container 3D is sent out to the transfer line 6D. The solvent 4D sent to the transfer line 6D is at a branch point P40.
What flows in the transfer line 6D in the direction of the flow control valve 9D in the upper part of the figure and the auxiliary line 1 through the opening / closing valve V2
Divided into those flowing to 2.

【0050】分岐点P40から補助ライン12に流れ込
んだ溶剤4Dは、さらに分岐点P41で2つに分かれ
る。分岐点41Pで図示下方に分岐したものは、開閉バ
ルブV4→3弁4方切換バルブ10Aのバルブユニット
V32→2弁3方切換バルブ15AのバルブユニットV
22→移送ライン6Aの順に流れ、移送ライン6A内を
流量制御バルブ9A方向へと導かれる。
The solvent 4D flowing into the auxiliary line 12 from the branch point P40 is further divided into two at the branch point P41. The branch branched downward at the branch point 41P is the valve unit V32 of the opening / closing valve V4 → the 3-valve 4-way switching valve 10A → the valve unit V of the 2-valve 3-way switching valve 15A.
It flows in the order of 22 → transfer line 6A, and is guided in the transfer line 6A toward the flow control valve 9A.

【0051】一方、分岐点P41において図示上方へと
分岐した溶剤4Dの流れは、補助ライン12を介して材
料容器3B側に導かれる。なお、図2や図11では材料
容器3B,3Cの配管系の図示が省略されているが、材
料容器3Aに関する配管系、すなわち、開閉バルブV2
より図示右側に示された補助ライン12,チャージガス
ライン5,移送ライン6A,補助ライン11、およびそ
れらのラインに配設されているバルブ等と同一のものが
材料容器3B,3Cについても設けられている。そし
て、材料容器3Aの配管系の場合と同様の経路で溶剤4
Dが導入され、移送ライン6B,6C内を流量制御バル
ブ9B,9C方向へと導かれる。移送ライン6A〜6D
内の溶剤4Dは移送ライン6Eにおいて合流し、開閉バ
ルブV5および補助ライン11を介してドレンタンク1
3に収容される。
On the other hand, the flow of the solvent 4D branched upward in the drawing at the branch point P41 is guided to the material container 3B through the auxiliary line 12. Although the illustration of the piping system for the material containers 3B and 3C is omitted in FIGS. 2 and 11, the piping system for the material container 3A, that is, the on-off valve V2
The same auxiliary line 12, charge gas line 5, transfer line 6A, auxiliary line 11, and valves and the like provided on these lines as shown on the right side of the drawing are provided for the material containers 3B and 3C. ing. Then, the solvent 4 is passed through the same route as in the piping system of the material container 3A.
D is introduced and guided in the transfer lines 6B and 6C toward the flow control valves 9B and 9C. Transfer lines 6A-6D
The solvent 4D in the tank merges in the transfer line 6E, and is connected to the drain tank 1 via the on-off valve V5 and the auxiliary line 11.
3

【0052】《液置換作業の説明》上述した真空引き、
ガスパージ、溶剤洗浄を行って移送ライン6A〜6Dの
洗浄が終了したならば、移送ライン6A〜6Dを液体材
料4A〜4C,溶剤4Dで満たす液置換を行う。その場
合、洗浄作業終了時に配管内がチャージガスで満たされ
ている場合には「ガス→液」置換が行われ、配管内が溶
剤4Dで満たされている場合には「液→液」置換が行わ
れる。
<< Explanation of the liquid replacement operation >>
When the transfer lines 6A to 6D have been cleaned by performing gas purging and solvent cleaning, liquid replacement for filling the transfer lines 6A to 6D with the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D is performed. In that case, when the inside of the pipe is filled with the charge gas at the end of the cleaning operation, “gas → liquid” replacement is performed, and when the inside of the pipe is filled with the solvent 4D, “liquid → liquid” replacement is performed. Done.

【0053】図14は液置換の際のバルブ開閉状態を示
す図であり、開閉バルブV1,V3,V5,V7,V
8,V10、2弁3方切換バルブ15A,15Dの各バ
ルブユニットV22および3弁4方切換バルブ10A,
10Dの各バルブユニットV31,V33が開状態とさ
れ、かつ、開閉バルブV2,V4,V6,V9、2弁3
方切換バルブ15A,15Dの各バルブユニットV21
および3弁4方切換バルブ10A,10Dの各バルブユ
ニットV32が閉状態とされる。
FIG. 14 is a view showing the valve opening / closing state at the time of liquid replacement, and the opening / closing valves V1, V3, V5, V7, V
8, V10, each valve unit V22 of the two-valve three-way switching valve 15A, 15D and the three-valve four-way switching valve 10A,
Each of the 10D valve units V31 and V33 is opened, and the on-off valves V2, V4, V6, V9, and 2 valves 3
Valve unit V21 of one-way switching valves 15A and 15D
The valve units V32 of the three-way and four-way switching valves 10A and 10D are closed.

【0054】このとき、各移送ライン6A〜6C内はチ
ャージガスまたは洗浄液(溶剤4D)から液体材料4A
〜4Cへと置換され、移送ライン6D内はチャージガス
または洗浄液から溶剤4Dへと置換される。移送ライン
6A〜6Dを満たした液体材料4A〜4Cおよび溶剤4
Dは、移送ライン6Eで混合状態となった後に、開閉バ
ルブV5および補助ライン11を介してドレンタンク1
3へと排出される。
At this time, the inside of each of the transfer lines 6A to 6C is changed from the charge gas or the cleaning liquid (solvent 4D) to the liquid material 4A.
4C, and the inside of the transfer line 6D is replaced with the solvent 4D from the charge gas or the cleaning liquid. Liquid material 4A-4C and solvent 4 filling transfer lines 6A-6D
D, after being mixed in the transfer line 6E, is connected to the drain tank 1 via the opening / closing valve V5 and the auxiliary line 11.
It is discharged to 3.

【0055】この置換作業の最中には、配管内のチャー
ジガスまたは洗浄液が完全に液体材料4A〜4Cおよび
溶剤4Dと置き換わったか否かを監視装置16により検
出する。図15は監視装置16の概念図である。監視装
置16内には補助ライン11が接続される管路160が
形成されており、図示上側に接続された補助ライン11
から監視装置16に流入した流体(チャージガス、液体
材料4A〜4C)は、管路160を通過した後に下側に
接続された補助ライン11へと導かれる。
During this replacement operation, the monitoring device 16 detects whether or not the charge gas or the cleaning liquid in the pipe has been completely replaced by the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D. FIG. 15 is a conceptual diagram of the monitoring device 16. A conduit 160 to which the auxiliary line 11 is connected is formed in the monitoring device 16, and the auxiliary line 11 connected to the upper side in the figure is formed.
(The charge gas, the liquid materials 4A to 4C) which flowed into the monitoring device 16 from the above are guided to the auxiliary line 11 connected to the lower side after passing through the pipeline 160.

【0056】管路160の途中には、ガラス等の光透過
性部材で形成された光透過窓161が設けられている。
監視装置16内には、光透過窓161を挟んで発光素子
162と受光素子163とが互いに対向するように設け
られており、それらは制御部164によりコントロール
されている。例えば、発光素子162にはLED等が用
いられ、発光素子163にはフォトダイオードやフォト
トランジスタ等が用いられる。
In the middle of the conduit 160, a light transmitting window 161 formed of a light transmitting member such as glass is provided.
In the monitoring device 16, a light emitting element 162 and a light receiving element 163 are provided so as to face each other with a light transmission window 161 interposed therebetween, and are controlled by a control unit 164. For example, an LED or the like is used for the light emitting element 162, and a photodiode or a phototransistor is used for the light emitting element 163.

【0057】管路160中を液体材料4A〜4Cおよび
溶剤4Dの混合液が流れている場合には、チャージガス
や溶剤4Dが流れている場合に比べて光透過率が低下す
るので受光素子163の受光量も低下する。そこで、管
路160に溶剤4Dまたはチャージガスが流れていると
きの受光量をW1、管路160に混合液が流れていると
きの受光量をW2としたとき、W1>W3>W2を満た
す適当な基準受光量W3を設定する。そして、受光量W
が「W≧W3」から「W<W3」へと変化したならば、
制御部164は移送ライン6A〜6Dの「ガス→液」置
換または「液→液」置換が完全に終了したと判定し、置
換作業を終了させる。置換作業が終了したならば、バル
ブ開閉状態を図5のように切り換えて気化作業を開始す
る。
When the mixed liquid of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D is flowing through the conduit 160, the light transmittance is lower than when the charged gas or the solvent 4D is flowing. The light receiving amount of the light also decreases. Therefore, assuming that the received light amount when the solvent 4D or the charge gas flows through the conduit 160 is W1 and the received light amount when the mixed liquid is flowing through the conduit 160 is W2, W1>W3> W2 is satisfied. A suitable reference light receiving amount W3 is set. And the received light amount W
Changes from “W ≧ W3” to “W <W3”,
The controller 164 determines that the “gas → liquid” replacement or the “liquid → liquid” replacement of the transfer lines 6A to 6D has been completely completed, and ends the replacement work. When the replacement operation is completed, the valve opening / closing state is switched as shown in FIG. 5 to start the vaporization operation.

【0058】なお、上述した例では監視装置16を液置
換時の置換状況の確認に使用したが、例えば、移送ライ
ン6A〜6Dに監視装置16を設けて、気泡の発生や液
の有無を判定することもできる。また、特開平11−3
45774号公報に開示されているような吸光分析装置
200を、図14に示すように補助ライン11に設け
て、液の劣化や液の混合状態を判定するようにしても良
い。
In the above-described example, the monitoring device 16 is used for checking the replacement status at the time of liquid replacement. For example, the monitoring device 16 is provided in the transfer lines 6A to 6D to determine the generation of bubbles and the presence or absence of the liquid. You can also. Also, JP-A-11-3
An absorption spectrometer 200 as disclosed in Japanese Patent No. 45774 may be provided on the auxiliary line 11 as shown in FIG. 14 to determine the deterioration of the liquid and the mixing state of the liquid.

【0059】ところで、材料容器3A〜3Cや溶剤容器
3D内の液体材料4A〜4Cおよび溶剤4Dの残量を計
測する際には、耐薬品性との観点から一般的な液面セン
サを使用することができない。そこで、上述した実施の
形態では、マスフローメータ9A〜9Dで計測された流
量と時間との積を算出することにより残量を算出するよ
うにしている。また、容器3A〜3D内の加圧ガス(チ
ャージガス)の圧力変化からも液残量を算出することが
できる。
When measuring the remaining amounts of the liquid materials 4A to 4C and the solvent 4D in the material containers 3A to 3C and the solvent container 3D, a general liquid level sensor is used from the viewpoint of chemical resistance. Can not do. Therefore, in the above-described embodiment, the remaining amount is calculated by calculating the product of the flow rate and the time measured by the mass flow meters 9A to 9D. Further, the remaining amount of liquid can be calculated from the pressure change of the pressurized gas (charge gas) in the containers 3A to 3D.

【0060】図16は図2の材料容器3A部分を拡大し
た図であり、材料容器3Aは断面で示した。材料容器3
Aのチャージガスライン側には配管300を介して圧力
計301が設けられている。302は、圧力計301で
検出された圧力の変化から材料容器3A内の液残量を算
出する残量計測装置である。液残量を計測する際には、
加圧されたチャージガスを材料容器3A内に供給した後
に開閉バルブV1を閉じ、液体材料4Aが一定量送出さ
れる間または所定時間の経過する間の圧力変化を圧力計
301で計測する。このときの送出量は、図1に示すマ
スフローメータ9Aにより計測する。
FIG. 16 is an enlarged view of the material container 3A of FIG. 2, and the material container 3A is shown in cross section. Material container 3
A pressure gauge 301 is provided on the charge gas line side of A via a pipe 300. Reference numeral 302 denotes a remaining amount measuring device that calculates the remaining amount of liquid in the material container 3A from a change in pressure detected by the pressure gauge 301. When measuring the liquid level,
After supplying the pressurized charge gas into the material container 3A, the open / close valve V1 is closed, and the pressure change is measured by the pressure gauge 301 while the liquid material 4A is delivered in a fixed amount or a predetermined time has elapsed. The sending amount at this time is measured by the mass flow meter 9A shown in FIG.

【0061】しかし、同一量の液体材料4Aが送出され
た場合でも、液面がL1からL2へと変化する場合と、
液面がL3からL4へと変化する場合とでは、その間の
容器3A内の圧力変化が異なる。例えば、液面がL1か
らL2へと変化する場合の方が、L3からL4へと変化
する場合よりも圧力変化が大きい。残量計測装置302
には液残量と圧力変化との関係式が予め記憶されてお
り、圧力計301により検出される圧力変化をその関係
式に代入することによって液残量が算出される。
However, even when the same amount of the liquid material 4A is delivered, the case where the liquid level changes from L1 to L2,
When the liquid level changes from L3 to L4, the pressure change in the container 3A during that time differs. For example, when the liquid level changes from L1 to L2, the pressure change is larger than when the liquid level changes from L3 to L4. Remaining amount measuring device 302
The relational expression between the remaining amount of liquid and the pressure change is stored in advance, and the remaining amount of liquid is calculated by substituting the change in pressure detected by the pressure gauge 301 into the relational expression.

【0062】図16に示す例では、材料容器3A内に液
体材料4Aを充填し、その容器3A内に加圧されたチャ
ージガスを導入して、ガス圧により液体材料4Aを移送
ライン6Aに送出している。このとき、加圧されたチャ
ージガスが液面に直接接触しているため、液体材料4A
にチャージガスが溶け込み易く、溶け込んだガスが移送
ライン6A中で再び放出されて気泡が発生しやすくな
る。そこで、図17に示すような容器30,31を材料
容器3A〜3Cや溶剤容器3Dとして用いることによ
り、このような溶存ガス量を低減することができる。さ
らに、チャージガス中の水分が液体材料に吸収されるの
を防止することができる。
In the example shown in FIG. 16, a liquid container 4A is filled with a liquid material 4A, a pressurized charge gas is introduced into the container 3A, and the liquid material 4A is delivered to a transfer line 6A by gas pressure. are doing. At this time, since the pressurized charge gas is in direct contact with the liquid surface, the liquid material 4A
The charged gas is easily dissolved into the gas, and the dissolved gas is released again in the transfer line 6A, so that bubbles are easily generated. Therefore, by using the containers 30 and 31 as shown in FIG. 17 as the material containers 3A to 3C and the solvent container 3D, such a dissolved gas amount can be reduced. Further, it is possible to prevent moisture in the charge gas from being absorbed by the liquid material.

【0063】図17において、(a)は材料容器の第1
の変形例を示す断面図であり、(b)は第2の変形例を
示す断面図である。図17(a)に示す容器30では、
ケーシング303内にはPTFE等の耐薬品性材料から
なる気密性袋304が収められていて、ケーシング30
3と袋304との二重構造となっている。袋304内に
は液体材料4Aが収容され、袋304とケーシング30
3との間の空間S1にはチャージガスライン5を介して
加圧されたチャージガスが導入される。袋304の底部
はケーシング303に固着されており、袋304がチャ
ージガスの圧力により図示左右方向に押しつぶされる
と、袋304内の液体材料4Aが配管305および3弁
4方切換バルブ10Aを介して移送ライン6Aに送出さ
れる。
In FIG. 17, (a) shows the first material container.
It is sectional drawing which shows the modification of (a), (b) is sectional drawing which shows the 2nd modification. In the container 30 shown in FIG.
An airtight bag 304 made of a chemical resistant material such as PTFE is stored in the casing 303.
3 and a bag 304. The liquid material 4A is stored in the bag 304, and the bag 304 and the casing 30
A pressurized charge gas is introduced into a space S1 between the charge gas 3 and a charge gas line 5 through a charge gas line 5. The bottom of the bag 304 is fixed to the casing 303. When the bag 304 is crushed in the right and left direction in the figure by the pressure of the charge gas, the liquid material 4A in the bag 304 passes through the pipe 305 and the three- and four-way switching valve 10A. It is sent to the transfer line 6A.

【0064】一方、図17(b)に示す容器31では、
容器30の袋304の代わりにSUS等の金属やPTF
E等により形成されたベローズ311がケーシング30
3内に設けられている。ベローズ311とケーシング3
03との間の空間S1にチャージガスが導入されると、
ガス圧によりベローズ311が図示上方に収縮し、ベロ
ーズ311内に収容された液体材料4Aが配管312お
よび3弁4方切換バルブ10Aを介して移送ライン6A
に送出される。
On the other hand, in the container 31 shown in FIG.
Metal such as SUS or PTF instead of the bag 304 of the container 30
The bellows 311 formed of E or the like
3 are provided. Bellows 311 and casing 3
When a charge gas is introduced into the space S1 between
The bellows 311 contracts upward in the figure due to the gas pressure, and the liquid material 4A contained in the bellows 311 is transferred via the pipe 312 and the three- and four-way switching valve 10A to the transfer line 6A.
Sent to

【0065】図18は材料容器の第3の変形例を示す断
面図である。材料容器32はベローズ321,322を
有しており、ベローズ321の上下両端は上側プレート
323Aおよび移動プレート323Bにそれぞれ固着さ
れ、ベローズ322の上下両端は移動プレート323B
および下側プレート323Cにそれぞれ固着されてい
る。上側プレート323Aと下側プレート323Cとは
ロッド324およびナット325とにより連結されてお
り、両プレート323A,323C間の間隔は所定間隔
に保たれている。
FIG. 18 is a sectional view showing a third modification of the material container. The material container 32 has bellows 321 and 322. The upper and lower ends of the bellows 321 are fixed to the upper plate 323A and the moving plate 323B, respectively, and the upper and lower ends of the bellows 322 are moving plates 323B.
And the lower plate 323C. The upper plate 323A and the lower plate 323C are connected by a rod 324 and a nut 325, and the interval between the plates 323A and 323C is kept at a predetermined interval.

【0066】ベローズ321内には液体材料が収容さ
れ、上側プレート323Aを貫通して設けられた配管3
26により液体材料の充填および排出を行うことができ
る。一方、ベローズ322内には、配管327および下
側プレート323Cに形成された管路328を介してチ
ャージガスが供給される。配管327は上側プレート3
23Aおよび移動プレート323Bを貫通し、下側プレ
ート323Cに固設される。なお、配管326,327
は上述した3弁4方切換バルブ10Aに接続されてい
る。
A liquid material is accommodated in the bellows 321, and a pipe 3 is provided through the upper plate 323 A.
26 allows filling and discharging of liquid material. On the other hand, the charge gas is supplied into the bellows 322 through a pipe 327 and a pipe 328 formed in the lower plate 323C. Piping 327 is upper plate 3
23A and the moving plate 323B, and is fixed to the lower plate 323C. The pipes 326, 327
Is connected to the three-valve four-way switching valve 10A described above.

【0067】図18の状態においてベローズ322内に
チャージガスをさらに供給すると、ベローズ322が上
下に伸張して移動プレート323Bが上方に押し上げら
れる。その結果、ベローズ321が上下に収縮されて内
部の液体材料が配管326および切換バルブ(図17参
照)を介して移送ラインに送出される。このとき、移動
プレート323Bの上下位置によりベローズ322内の
液体材料の量を表示することができる。
When the charge gas is further supplied into the bellows 322 in the state shown in FIG. 18, the bellows 322 extends up and down, and the moving plate 323B is pushed upward. As a result, the bellows 321 is contracted up and down, and the liquid material inside is sent to the transfer line via the pipe 326 and the switching valve (see FIG. 17). At this time, the amount of the liquid material in the bellows 322 can be displayed by the vertical position of the moving plate 323B.

【0068】なお、ベローズ321の材料としてはSU
Sのような耐食性に優れた金属や、PTFEのような合
成樹脂等が用いられる。また、図18に示す例では、ベ
ローズ322内にチャージガスを供給して液体材料用ベ
ローズ321を収縮させたが、エアシリンダやパンタグ
ラフ機構を用いてベローズ321を上方向に収縮させる
ようにしても良い。
The material of the bellows 321 is SU
A metal having excellent corrosion resistance such as S, a synthetic resin such as PTFE, or the like is used. In the example shown in FIG. 18, the bellows 321 for liquid material is contracted by supplying a charge gas into the bellows 322. However, the bellows 321 may be contracted upward using an air cylinder or a pantograph mechanism. good.

【0069】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、ポートP1〜P3は請求項1
の第1〜第3の管路を、ダイアフラム152Aおよび1
52Bは請求項1の第1および第2の弁体を、ポートP
11〜P14は請求項2の第1〜第4の管路を、ダイア
フラム112A〜112Cは請求項2の第1〜第3の弁
体を、袋304は可撓性袋を、ベローズ311はベロー
ズ状袋を、圧力計301および残量計測装置302は計
測手段を、受光素子163は光電センサを、監視装置1
6および制御部164は検出手段を、マスフローメータ
8A〜8Dは熱式質量流量計を、ベローズ321は第1
のベローズ状袋を、ベローズ322は第2のベローズ状
袋を、移動プレート323Bは指示部材をそれそれ構成
する。
In correspondence between the embodiment described above and the elements of the claims, the ports P1 to P3 are
Are connected to the diaphragms 152A and 152A.
52B connects the first and second valve bodies of claim 1 with the port P
Reference numerals 11 to P14 denote first to fourth conduits of the second aspect, diaphragms 112A to 112C denote the first to third valve elements of the second aspect, bag 304 a flexible bag, and bellows 311 a bellows. The pressure-sensitive bag 301, the pressure gauge 301 and the remaining amount measuring device 302 are measuring means, the light receiving element 163 is a photoelectric sensor, the monitoring device 1
6 and the control unit 164 are detection means, the mass flow meters 8A to 8D are thermal mass flow meters, and the bellows 321 is a first mass flow meter.
, The bellows 322 constitutes a second bellows-like bag, and the moving plate 323B constitutes a pointing member.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1および請
求項2の発明によれば、液体材料移送ライン中のデッド
ボリュームを低減することができ、液体材料の滞留に起
因する析出物の発生を低減することができ、バルブの動
作不良や気化器内での残渣の発生を防止することができ
る。また、液体材料移送ラインに関する、ガスパージ,
洗浄および液置換等を充分に行うことができる。特に、
請求項2の発明では、材料容器を交換する際に、ライン
洗浄を行った後に、材料容器と3弁4方切換バルブとを
一体で取り外すことにより、材料容器交換前後における
大気接触による金属析出を低減することができる。請求
項3の発明によれば、液体材料は供給ガスと接触するこ
とがないので、液体材料中へのガスの溶け込みを防止す
ることができ、液体材料移送ライン中での気泡の発生を
抑えて流量制御の安定性が向上する。特に、マスフロー
コントローラによる送液では、一般的にガス加圧により
送液が行われるため有効である。請求項4の発明によれ
ば、計測手段が直接に液体材料と接触することがないの
で、腐食等による計測手段の不具合を防止することがで
きる。請求項5の発明によれば、第1のベローズ状袋内
の液体材料は供給ガスと接触することがないので、液体
材料中へのガスの溶け込みを防止することができ、液体
材料移送ライン中での気泡の発生を抑えて流量制御の安
定性が向上する。さらに、第1のベローズ状袋の伸縮に
伴って指示部材が移動するので、指示部材の位置によっ
て第1のベローズ状袋内の液体材料の量を確認すること
ができる。請求項6の発明によれば、ドレンタンク内が
減圧状態とされているので、液体材料移送ライン中の流
体はドレンタンクに排出されやすくなる。また、ドレン
タンクは気化器直前の液体材料移送ラインに接続される
ので、液体材料移送ラインの洗浄や液置換をよりスムー
ズに行うことができるとともに、確実な液置換や管内洗
浄を行うことができる。請求項7の発明によれば、液体
材料移送ライン中に生じた気泡を検出することができる
ので、気泡が発生しないような条件で液体材料を気化器
に供給させるようにすることが可能となり、安定した材
料供給を行うことができる。請求項8の発明によれば、
気化器から熱式質量流量計への熱影響を低減することが
でき、計測誤差を低減することができる。また、請求項
8および請求項9の発明によれば、流量制御弁と気化器
との間の配管容量を低減することができ、流量制御の応
答性の向上を図ることができる。請求項10の発明によ
れば、液体材料に対する耐腐食性や耐薬品性が向上し、
樹脂部材の寿命の向上を図ることができる。請求項11
および請求項12の発明によれば、フィルタに起因する
気泡の発生を低減することができるとともに、線径の太
いメッシュを加えることによりフィルタの強度向上を図
ることができる。特に、請求項12の発明では、液体材
料に対するフィルタの耐腐食性や耐薬品性が向上する。
As described above, according to the first and second aspects of the present invention, the dead volume in the liquid material transfer line can be reduced, and the generation of deposits due to the stagnation of the liquid material can be achieved. Can be reduced, and the malfunction of the valve and the generation of the residue in the vaporizer can be prevented. In addition, gas purge,
Washing, liquid replacement and the like can be sufficiently performed. In particular,
According to the second aspect of the present invention, when the material container is replaced, after the line cleaning is performed, the material container and the three-way four-way switching valve are integrally removed to thereby prevent metal deposition due to atmospheric contact before and after the material container replacement. Can be reduced. According to the third aspect of the present invention, since the liquid material does not come into contact with the supply gas, it is possible to prevent the gas from being dissolved into the liquid material, and to suppress generation of bubbles in the liquid material transfer line. The stability of flow control is improved. In particular, liquid feeding by a mass flow controller is effective because liquid feeding is generally performed by gas pressurization. According to the invention of claim 4, since the measuring means does not come into direct contact with the liquid material, it is possible to prevent problems of the measuring means due to corrosion or the like. According to the invention of claim 5, since the liquid material in the first bellows-like bag does not come into contact with the supply gas, it is possible to prevent the gas from being dissolved into the liquid material, and to prevent the liquid material from being introduced into the liquid material transfer line. The generation of air bubbles is suppressed, and the stability of flow control is improved. Further, since the indicating member moves with the expansion and contraction of the first bellows-like bag, the amount of the liquid material in the first bellows-like bag can be confirmed by the position of the indicating member. According to the sixth aspect of the present invention, since the pressure in the drain tank is reduced, the fluid in the liquid material transfer line is easily discharged to the drain tank. In addition, since the drain tank is connected to the liquid material transfer line immediately before the vaporizer, the liquid material transfer line can be cleaned and replaced more smoothly, and can be reliably replaced and cleaned in the pipe. . According to the invention of claim 7, since bubbles generated in the liquid material transfer line can be detected, it is possible to supply the liquid material to the vaporizer under conditions that do not generate bubbles, Stable material supply can be performed. According to the invention of claim 8,
The thermal influence from the vaporizer to the thermal mass flowmeter can be reduced, and the measurement error can be reduced. According to the eighth and ninth aspects of the present invention, the capacity of the pipe between the flow control valve and the carburetor can be reduced, and the responsiveness of the flow control can be improved. According to the invention of claim 10, corrosion resistance and chemical resistance to a liquid material are improved,
The life of the resin member can be improved. Claim 11
According to the twelfth aspect of the present invention, it is possible to reduce the generation of bubbles due to the filter, and to improve the strength of the filter by adding a mesh having a large wire diameter. In particular, according to the twelfth aspect of the invention, the corrosion resistance and chemical resistance of the filter to the liquid material are improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】気化装置全体の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an entire vaporizer.

【図2】本発明による液体材料供給装置の一実施の形態
を示す図である。
FIG. 2 is a view showing one embodiment of a liquid material supply device according to the present invention.

【図3】流量制御バルブ9A〜9Dの外観を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing the appearance of flow control valves 9A to 9D.

【図4】フィルタ18Aの詳細を説明する図であり、
(a)はフィルタの断面図、(b)は流量安定性を示す
図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating details of a filter 18A;
(A) is sectional drawing of a filter, (b) is a figure which shows flow volume stability.

【図5】気化器2に液体材料を供給する際の各バルブの
開閉状態を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an open / closed state of each valve when supplying a liquid material to the vaporizer 2;

【図6】2弁3方切換バルブ15の一例を示す図であ
り、(a)は正面図、(b)は(a)のA矢視図、
(c)はフローダイアグラムである。
6A and 6B are diagrams showing an example of a two-valve three-way switching valve 15, wherein FIG. 6A is a front view, FIG.
(C) is a flow diagram.

【図7】2弁3方切換バルブ15を説明する図であり、
(a)は図6(b)のB−B断面図で、(b)は(a)
のC−C断面図である。
FIG. 7 is a view for explaining a two-valve three-way switching valve 15;
6A is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 6B, and FIG.
It is CC sectional drawing of.

【図8】3弁4方切換バルブ10の外観図であり、
(a)は平面図、(b)は(a)のD矢視図である。
FIG. 8 is an external view of a three-valve four-way switching valve 10,
(A) is a plan view, (b) is a view on arrow D of (a).

【図9】3弁4方切換バルブ10を説明する図であり、
(a)はフローダイアグラム、(b)は内部構造を模式
的に示した図である。
FIG. 9 is a view for explaining a three-valve four-way switching valve 10;
(A) is a flow diagram, (b) is a diagram schematically showing the internal structure.

【図10】材料容器交換時の洗浄およびガスパージを説
明する図であり、(a)は洗浄時のバルブ開閉状態を示
し、(b)はガスパージ時のバルブ開閉状態を示す。
10A and 10B are diagrams illustrating cleaning and gas purging at the time of material container replacement, wherein FIG. 10A illustrates a valve open / close state during cleaning, and FIG. 10B illustrates a valve open / close state during gas purging.

【図11】真空引きの際のバルブ開閉状態を示す図であ
る。
FIG. 11 is a view showing a valve opening / closing state during evacuation.

【図12】ガスパージの際のバルブ開閉状態を示す図で
ある。
FIG. 12 is a view showing a valve opening / closing state during gas purging.

【図13】溶剤洗浄の際のバルブ開閉状態を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a valve opening / closing state during solvent cleaning.

【図14】液置換の際のバルブ開閉状態を示す図であ
る。
FIG. 14 is a view showing a valve opening / closing state at the time of liquid replacement.

【図15】監視装置16の概念図である。15 is a conceptual diagram of the monitoring device 16. FIG.

【図16】図2の材料容器3A部分を拡大した図であFIG. 16 is an enlarged view of a material container 3A of FIG. 2;

【図17】材料容器の変形例を示す図であり、(a)は
第1の変形例を示す断面図であり、(b)は第2の変形
例を示す断面図である。
17A and 17B are diagrams showing a modification of the material container, FIG. 17A is a cross-sectional view showing a first modification, and FIG. 17B is a cross-sectional view showing a second modification.

【図18】材料容器の第3の変形例を示す断面図であ
る。
FIG. 18 is a sectional view showing a third modification of the material container.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液体材料供給装置 2 気化器 3A〜3C 材料容器 3D 溶剤容器 4A〜4C 液体材料 4D 溶剤 5 チャージガスライン 6A〜6E 移送ライン 8A〜8D マスフローメータ 9A〜9D 流量制御バルブ 10,10A,10B 2弁3方切換バルブ 13 ドレンタンク 15,15A,15D 3弁4方切換バルブ 16 監視装置 18A,18D フィルタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid material supply apparatus 2 Vaporizer 3A-3C Material container 3D Solvent container 4A-4C Liquid material 4D Solvent 5 Charge gas line 6A-6E Transfer line 8A-8D Mass flow meter 9A-9D Flow control valve 10,10A, 10B 2 valve Three-way switching valve 13 Drain tank 15, 15A, 15D Three-valve four-way switching valve 16 Monitoring device 18A, 18D Filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/205 F16K 7/17 A // F16K 7/17 F04B 9/12 H (72)発明者 川本 達司 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地 株式会社島津製作所内 (72)発明者 川尾 満志 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地 株式会社島津製作所内 (72)発明者 松野 繁 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 山田 朗 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 宮下 章二 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 内川 英興 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 3H075 BB14 3H077 AA01 BB03 CC03 DD09 DD14 EE05 EE11 EE15 EE21 EE22 EE29 EE31 FF03 FF06 FF12 FF14 FF22 FF55 4G068 AA03 AB15 AC04 AC05 AD25 AE03 AF31 4K030 AA11 EA01 KA39 KA41 KA46 LA15 5F045 AA04 AC07 EE02 EE04 GB04 GB06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) H01L 21/205 F16K 7/17 A // F16K 7/17 F04B 9/12 H (72) Inventor Tatsushi Kawamoto No. 1, Nishinokyo Kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto (72) Inventor: Masashi Kawao 1) Nishi-no-Kyowaharacho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto: Shimadzu Corporation (72) Inventor: Shigeru Matsuno Chiyoda-ku, Tokyo 2-3-2 Marunouchi, Mitsubishi Electric Corporation (72) Inventor Akira Yamada 2-3-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Mitsubishi Electric Corporation (72) Inventor Shoji Miyashita, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 2-3-2, Mitsubishi Electric Corporation (72) Inventor Hideko Uchikawa 2-3-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Electric Corporation Term (Reference) 3H075 BB14 3H077 AA01 BB03 CC03 DD09 DD14 EE05 EE11 EE15 EE21 EE22 EE29 EE31 FF03 FF06 FF12 FF14 FF22 FF55 4G068 AA03 AB15 AC04 AC05 AD25 AE03 AF31 4K030 AA11 EA01 KA39 KA41 KA46 LA15 5F045 AA04 AC07 EE02 EE04 GB04 GB06

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 材料容器に収容された液体有機金属若し
くは有機金属溶液から成る液体材料を、液体材料移送ラ
インを介して気化器へと供給する液体材料供給装置にお
いて、 第1の管路と第2の管路との間に設けられて、前記第1
の管路と前記第2の管路との間の流体の移送をオン・オ
フする第1の弁体と、前記第2の管路と第3の管路との
間に設けられて、前記第2の管路と前記第3の管路との
間の流体の移送をオン・オフする第2の弁体とを備える
とともに、前記第1の弁体と前記第2の弁体との間に前
記第2の管路が設けられた一体構造の2弁3方切換バル
ブを、前記液体材料移送ラインが3方に分岐する分岐点
に配設したことを特徴とする液体材料供給装置。
1. A liquid material supply device for supplying a liquid material comprising a liquid organic metal or an organic metal solution contained in a material container to a vaporizer via a liquid material transfer line. 2 between the first and second pipelines.
A first valve body for turning on / off fluid transfer between the second pipeline and the second pipeline, and a first valve body provided between the second pipeline and the third pipeline, A second valve body for turning on / off fluid transfer between a second pipe line and the third pipe line, and a second valve body between the first valve body and the second valve body. A liquid material supply device, wherein an integrated two-valve three-way switching valve provided with the second conduit is disposed at a branch point where the liquid material transfer line branches into three directions.
【請求項2】 ガス供給ラインを介して液体有機金属若
しくは有機金属溶液から成る液体材料を収容する材料容
器にガスを供給して、ガス圧により前記液体材料を液体
材料移送ラインに送出し、前記液体材料移送ラインを介
して前記液体材料を気化器へと供給する液体材料供給装
置において、 第1の管路と第2の管路との間に設けられて、前記第1
の管路と前記第2の管路との間の流体の移送をオン・オ
フする第1の弁体と、前記第1の管路と第3の管路との
間に設けられて、前記第1の管路と前記第3の管路との
間の流体の移送をオン・オフする第2の弁体と、前記第
2の管路と第4の管路との間に設けられて、前記第2の
管路と前記第4の管路との間の流体の移送をオン・オフ
する第3の弁体とを備えるとともに、前記第1の弁体と
前記第2の弁体との間に前記第1の管路が設けられ、前
記第2の弁体と前記第3の弁体との間に前記第2の管路
が設けられた一体構造の3弁4方切換バルブを、前記液
体材料移送ラインおよびガス供給ラインと前記材料容器
との間に設け、 前記第1の管路と前記ガス供給ラインとを接続し、前記
第2の管路と前記材料容器のガス領域とを接続し、前記
第3の管路と前記液体材料移送ラインとを接続し、前記
第4の管路と前記材料容器の液領域とを接続するととも
に、前記ガス供給ラインおよび液体材料移送ラインに対
して前記材料容器と前記切換バルブとを一体で着脱可能
としたことを特徴とする液体材料供給装置。
2. A gas is supplied to a material container containing a liquid material composed of a liquid organic metal or an organic metal solution through a gas supply line, and the liquid material is sent out to a liquid material transfer line by gas pressure. In a liquid material supply device for supplying the liquid material to a vaporizer via a liquid material transfer line, the liquid material supply device is provided between a first pipe and a second pipe, and
A first valve body for turning on and off the transfer of fluid between the first pipeline and the second pipeline, and a first valve body provided between the first pipeline and the third pipeline, A second valve body for turning on / off the transfer of fluid between the first pipe and the third pipe, and provided between the second pipe and the fourth pipe. And a third valve element for turning on and off the transfer of fluid between the second pipe line and the fourth pipe line, and the first valve body, the second valve body, A three-way four-way switching valve having an integral structure in which the first pipe is provided between the second valve body and the second pipe is provided between the second valve body and the third valve body. Provided between the material container and the liquid material transfer line and gas supply line, connecting the first conduit and the gas supply line, the second conduit and the gas region of the material container, Connect the 3 and the liquid material transfer line, and the fourth line and the liquid region of the material container are connected, and the material container is connected to the gas supply line and the liquid material transfer line. A liquid material supply device, wherein the switching valve is integrally detachable.
【請求項3】 ガス供給ラインを介して液体有機金属若
しくは有機金属溶液から成る液体材料を収容する材料容
器にガスを供給して、ガス圧により前記液体材料を液体
材料移送ラインに送出し、前記液体材料移送ラインを介
して前記液体材料を気化器へと供給する液体材料供給装
置において、 前記材料容器は、前記ガス供給ラインからのガスが供給
されるケーシングと、前記ケーシング内に収納されて前
記液体材料が収容される可撓性袋またはベローズ状袋と
を備え、前記ケーシング内に前記ガスが供給されると、
前記袋内の前記液体材料が前記材料容器から前記液体材
料移送ラインへと送出されることを特徴とする液体材料
供給装置。
3. A gas is supplied to a material container containing a liquid material composed of a liquid organic metal or an organic metal solution through a gas supply line, and the liquid material is sent out to a liquid material transfer line by gas pressure. In a liquid material supply device that supplies the liquid material to a vaporizer through a liquid material transfer line, the material container includes a casing to which gas from the gas supply line is supplied, and a casing that is housed in the casing. A flexible bag or a bellows-like bag in which a liquid material is stored, and when the gas is supplied into the casing,
The liquid material supply device, wherein the liquid material in the bag is delivered from the material container to the liquid material transfer line.
【請求項4】 請求項3に記載の液体材料供給装置にお
いて、 前記ケーシング内に供給される前記ガスの圧力変化に基
づいて前記袋内の液体材料の液量を計測する計測手段を
設けたことを特徴とする液体材料供給装置。
4. The liquid material supply device according to claim 3, further comprising a measuring unit that measures a liquid amount of the liquid material in the bag based on a change in pressure of the gas supplied into the casing. A liquid material supply device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 ガス供給ラインを介して液体有機金属若
しくは有機金属溶液から成る液体材料を収容する材料容
器にガスを供給して、ガス圧により前記液体材料を液体
材料移送ラインに送出し、前記液体材料移送ラインを介
して前記液体材料を気化器へと供給する液体材料供給装
置において、 前記液体材料が充填される第1のベローズ状袋と、 前記第1のベローズ状袋の伸縮方向に直列接続されて、
前記ガス供給ラインからのガス供給により前記第1のベ
ローズ状袋を収縮させる第2のベローズ状袋と、 前記第1のベローズ状袋と前記第2のベローズ状袋との
接続部に設けられ、前記接続部の位置を示す指示部材と
を備え、前記第2のベローズ状袋により前記第1のベロ
ーズ状袋を収縮させて、前記第1のベローズ状袋内の液
体材料を前記液体材料移送ラインへと送出することを特
徴とする液体材料供給装置。
5. A gas is supplied to a material container containing a liquid material composed of a liquid organic metal or an organic metal solution through a gas supply line, and the liquid material is sent out to a liquid material transfer line by gas pressure. In a liquid material supply device for supplying the liquid material to a vaporizer via a liquid material transfer line, a first bellows-shaped bag filled with the liquid material, and a serial connection in the direction of expansion and contraction of the first bellows-shaped bag. Connected,
A second bellows-like bag for contracting the first bellows-like bag by gas supply from the gas supply line; and a connecting portion between the first bellows-like bag and the second bellows-like bag, An indicator for indicating the position of the connection portion, wherein the first bellows-like bag is contracted by the second bellows-like bag to transfer the liquid material in the first bellows-like bag to the liquid material transfer line. A liquid material supply device, wherein the liquid material is supplied to the liquid material supply device.
【請求項6】 請求項1〜請求項5のいずれかに記載の
液体材料供給装置において、 内部が減圧状態とされ、前記液体材料移送ラインの液置
換を行った際や管路洗浄の際に排出される廃液が収容さ
れるドレンタンクを、前記液体材料移送ラインの前記気
化器の直前にバルブを介して接続したことを特徴とする
液体材料供給装置。
6. The liquid material supply device according to claim 1, wherein the inside of the liquid material supply line is depressurized, and the liquid material supply line is replaced with a liquid or when the pipeline is cleaned. A liquid material supply device, wherein a drain tank for storing discharged waste liquid is connected via a valve immediately before the vaporizer in the liquid material transfer line.
【請求項7】 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の
液体材料供給装置において、 前記液体材料移送ライン中の前記液体材料の有無や、前
記液体材料から発生する気泡の有無を光電センサを用い
て検出する検出手段を、前記液体材料移送ラインに設け
たことを特徴とする液体材料供給装置。
7. The liquid material supply device according to claim 1, wherein the presence or absence of the liquid material in the liquid material transfer line and the presence or absence of bubbles generated from the liquid material are determined by a photoelectric sensor. A liquid material supply device, wherein a detecting means for detecting using the liquid material is provided in the liquid material transfer line.
【請求項8】 発熱体からの熱放散を利用する熱式質量
流量計および流量制御弁を有する流量制御装置により流
量を制御しつつ、材料容器に収容された液体材料を液体
材料移送ラインを介して気化器へと供給をする液体材料
供給装置において、 前記流量計と前記流量制御弁とを分離して、前記流量計
を前記液体材料移送ラインの前記材料容器側に配設し、
前記流量制御弁を前記液体材料移送ラインの気化器側に
配設したことを特徴とする液体材料供給装置。
8. A liquid material contained in a material container is transferred through a liquid material transfer line while controlling a flow rate by a thermal mass flow meter utilizing heat dissipation from a heating element and a flow control device having a flow control valve. In a liquid material supply device that supplies to the vaporizer, the flow meter and the flow control valve are separated, and the flow meter is disposed on the material container side of the liquid material transfer line,
The liquid material supply device, wherein the flow control valve is disposed on a vaporizer side of the liquid material transfer line.
【請求項9】 請求項7に記載の液体材料供給装置にお
いて、 前記流量制御弁に、前記液体材料の供給を遮断可能とす
る遮断機構を設けたことを特徴とする液体材料供給装
置。
9. The liquid material supply device according to claim 7, wherein the flow control valve is provided with a shutoff mechanism that can shut off the supply of the liquid material.
【請求項10】 請求項1〜請求項9のいずれかに記載
の液体材料供給装置において、 前記液体材料移送ライン中に設けられて前記液体材料と
接触する樹脂部材に、PEEK(polyether ether keto
ne),PTFE(polytetrafluoroethylene),PI(p
olyimide)およびPBI(polybenzimidazole)のいず
れかを用いたことを特徴とする液体材料供給装置。
10. The liquid material supply device according to claim 1, wherein a resin member provided in the liquid material transfer line and in contact with the liquid material is provided with a PEEK (polyether ether keto).
ne), PTFE (polytetrafluoroethylene), PI (p
A liquid material supply device characterized by using any one of polyimide) and PBI (polybenzimidazole).
【請求項11】 材料容器に収容された液体材料を液体
材料移送ラインを介して気化器へと供給をする液体材料
供給装置において、 前記液体材料移送ラインに設けられるフィルタとして、
線径の細い第1のSUS製メッシュと線径の太い第2の
SUS製メッシュとをそれぞれ複数積層したものを用い
たことを特徴とする液体材料供給装置。
11. A liquid material supply device for supplying a liquid material contained in a material container to a vaporizer via a liquid material transfer line, wherein a filter provided in the liquid material transfer line is:
A liquid material supply device comprising a plurality of stacked first SUS meshes having a small wire diameter and a plurality of second SUS meshes having a large wire diameter.
【請求項12】 請求項11に記載の液体材料供給装置
において、 前記SUS製メッシュに代えて、PTFEのメッシュを
用いたことを特徴とする液体材料供給装置。
12. The liquid material supply device according to claim 11, wherein a PTFE mesh is used instead of the SUS mesh.
JP2000292757A 2000-09-26 2000-09-26 Liquid material supply device Expired - Fee Related JP4002060B2 (en)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000292757A JP4002060B2 (en) 2000-09-26 2000-09-26 Liquid material supply device
US09/957,470 US7163197B2 (en) 2000-09-26 2001-09-21 Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, and vaporization performance appraisal method
KR1020010059297A KR100781007B1 (en) 2000-09-26 2001-09-25 Vaporizer for vaporizing system
US11/604,235 US7422198B2 (en) 2000-09-26 2006-11-27 Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method
KR1020070046454A KR100756773B1 (en) 2000-09-26 2007-05-14 Vaporization performance appraisal method of vaporizing system
KR1020070046453A KR100859898B1 (en) 2000-09-26 2007-05-14 Liquid substance supply device for vaporizing system
KR1020070095883A KR100792964B1 (en) 2000-09-26 2007-09-20 Vaporizer for vaporizing system
US12/219,583 US7731162B2 (en) 2000-09-26 2008-07-24 Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method
US12/219,584 US7637482B2 (en) 2000-09-26 2008-07-24 Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000292757A JP4002060B2 (en) 2000-09-26 2000-09-26 Liquid material supply device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002095955A true JP2002095955A (en) 2002-04-02
JP4002060B2 JP4002060B2 (en) 2007-10-31

Family

ID=18775648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000292757A Expired - Fee Related JP4002060B2 (en) 2000-09-26 2000-09-26 Liquid material supply device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4002060B2 (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004186243A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Motoyama Eng Works Ltd Block valve, mono-block valve, and method for washing valve
JP2005051205A (en) * 2003-06-11 2005-02-24 Asm Internatl Nv Gas supply system, valve assembly and method for forming reactant pulse by operating valve assembly
JP2006203208A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Samsung Electronics Co Ltd Manufacturing apparatus of semiconductor element having four-way valve, controlling method of valve of the manufacturing apparatus of semiconductor element, and manufacturing method of semiconductor element using the same
KR100654400B1 (en) 2004-10-01 2006-12-06 가부시키가이샤 유테크 Solution-vaporization type cvd apparatus
KR100699861B1 (en) 2005-01-19 2007-03-27 삼성전자주식회사 Apparatus having 4-way valve for fabricating semiconductor device, method of controling valve and method of fabricating semiconductor device using the same
JP2007092959A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Ckd Corp Compound fluid control unit
JP2007109865A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processor and method of manufacturing semiconductor device
JP2009094401A (en) * 2007-10-11 2009-04-30 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
JP2009290078A (en) * 2008-05-30 2009-12-10 Tokyo Electron Ltd Raw material liquid supply unit
JP2012016639A (en) * 2010-07-06 2012-01-26 Asahi Sunac Corp Device for measuring residual quantity of coating material in powder coating apparatus
JP2012163190A (en) * 2011-02-09 2012-08-30 Ckd Corp Chemical supply unit
JP5037510B2 (en) * 2006-08-23 2012-09-26 株式会社堀場エステック Integrated gas panel device

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004186243A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Motoyama Eng Works Ltd Block valve, mono-block valve, and method for washing valve
JP2005051205A (en) * 2003-06-11 2005-02-24 Asm Internatl Nv Gas supply system, valve assembly and method for forming reactant pulse by operating valve assembly
JP4568032B2 (en) * 2003-06-11 2010-10-27 アーセーエム インターナショナル エン.フェー. Gas supply system, valve assembly, and reactant pulse forming method by operating valve assembly
KR100654400B1 (en) 2004-10-01 2006-12-06 가부시키가이샤 유테크 Solution-vaporization type cvd apparatus
KR100699861B1 (en) 2005-01-19 2007-03-27 삼성전자주식회사 Apparatus having 4-way valve for fabricating semiconductor device, method of controling valve and method of fabricating semiconductor device using the same
US9029244B2 (en) 2005-01-19 2015-05-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus including 4-way valve for fabricating semiconductor device, method of controlling valve, and method of fabricating semiconductor device using the apparatus
JP2006203208A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Samsung Electronics Co Ltd Manufacturing apparatus of semiconductor element having four-way valve, controlling method of valve of the manufacturing apparatus of semiconductor element, and manufacturing method of semiconductor element using the same
US9702041B2 (en) 2005-01-19 2017-07-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus including 4-way valve for fabricating semiconductor device, method of controlling valve, and method of fabricating semiconductor device using the apparatus
US9406502B2 (en) 2005-01-19 2016-08-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus including 4-way valve for fabricating semiconductor device, method of controlling valve, and method of fabricating semiconductor device using the apparatus
JP2007092959A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Ckd Corp Compound fluid control unit
JP4499012B2 (en) * 2005-09-30 2010-07-07 シーケーディ株式会社 Complex fluid control unit
JP2007109865A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processor and method of manufacturing semiconductor device
JP5037510B2 (en) * 2006-08-23 2012-09-26 株式会社堀場エステック Integrated gas panel device
US8820360B2 (en) 2006-08-23 2014-09-02 Horiba Stec, Co., Ltd. Integrated gas panel apparatus
KR101466998B1 (en) * 2006-08-23 2014-12-01 가부시키가이샤 호리바 에스텍 Integrated gas panel apparatus
JP2009094401A (en) * 2007-10-11 2009-04-30 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
JP2009290078A (en) * 2008-05-30 2009-12-10 Tokyo Electron Ltd Raw material liquid supply unit
JP2012016639A (en) * 2010-07-06 2012-01-26 Asahi Sunac Corp Device for measuring residual quantity of coating material in powder coating apparatus
JP2012163190A (en) * 2011-02-09 2012-08-30 Ckd Corp Chemical supply unit

Also Published As

Publication number Publication date
JP4002060B2 (en) 2007-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100859898B1 (en) Liquid substance supply device for vaporizing system
JP2002095955A (en) Feeding device for liquid material
US8910529B2 (en) Gas flow-rate verification system and gas flow-rate verification unit
US7195026B2 (en) Micro electromechanical systems for delivering high purity fluids in a chemical delivery system
US8002247B2 (en) Cross purge valve and container assembly
KR20020086672A (en) Dispensing system with interiorly disposed and exteriorly adjustable regulator assembly
JP2005090747A (en) Fluid controlling/gas delivering assembly
KR20040030063A (en) Integral blocks, chemical delivery systems and methods for delivering an ultrapure chemical
TW201523764A (en) Remote delivery of chemical reagents
AU784410B2 (en) Low capacity chlorine gas feed system
JP3607998B2 (en) Container valve with decompression function
TW202002123A (en) Purge system for gas supply equipment capable of high-temperature high-pressure purging
CN218146934U (en) Novel control panel surface for supplying liquid to bulk liquid precursor
WO2020015347A1 (en) Tma gas supply system for tubular pecvd furnace
KR101366385B1 (en) Atomic Layer Deposition System
TWI358508B (en)
CN115127026A (en) Bulk liquid precursor supply equipment
KR20030070391A (en) Chemical supply system using of semiconductor fabrication and control method of the same
CN219013998U (en) Precursor delivery system and precursor supply package
CN211227333U (en) Pressure balancing device
KR20070035336A (en) Deposition equipment for semiconductor manufacturing

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061003

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070731

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070816

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4002060

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110824

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110824

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120824

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120824

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130824

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130824

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees