JP2002093328A - Alternating current driving plasma display device and manufacturing method of the same - Google Patents

Alternating current driving plasma display device and manufacturing method of the same

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JP2002093328A
JP2002093328A JP2000283973A JP2000283973A JP2002093328A JP 2002093328 A JP2002093328 A JP 2002093328A JP 2000283973 A JP2000283973 A JP 2000283973A JP 2000283973 A JP2000283973 A JP 2000283973A JP 2002093328 A JP2002093328 A JP 2002093328A
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dielectric layer
plasma display
display device
discharge
firing
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Application number
JP2000283973A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunao Oniki
一直 鬼木
Hidehiro Kawaguchi
英広 川口
Hiroshi Mori
啓 森
Hajime Inoue
肇 井上
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alternating current driving plasma display device prevented from cracking and abnormal discharge, capable of stably driving with long life, and to provide a manufacturing method of the same. SOLUTION: A dielectric layer 14 made of SiO2 formed on the first panel 10, and a dielectric layer 23 made of glass with low melting point formed on the second panel 20 are burned, or heat-treated, in a burning furnace 30 with reduced pressure, hereupon, degree of vacuum is made less than 1×10-1 Pa, and burning temperature is made to range between 350 deg.C and 650 deg.C. By the above, the dielectric layers 14, 23 are molten and recrystallized and made to have few defects and high flatness, consequently, it becomes hard to generate cracks, and stability of discharge is improved. Further, as the organic substances contained in the dielectric layers 14, 23 like binder are compulsorily removed, the purity of the gas in a discharging space 26 is maintained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ放電を利
用して表示を行うプラズマ表示装置およびその製造方法
に係り、特に放電維持電極あるいはアドレス電極上に誘
電体層を備えた交流駆動型プラズマ表示装置およびその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display device for displaying by utilizing plasma discharge and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an AC drive type plasma display having a dielectric layer on a sustain electrode or an address electrode. The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、軽量化および薄型化の流れを受け
て、パーソナルコンピュータなどのディスプレイにも、
省スペース化,携帯性向上が求められており、これまで
主流であった陰極線管(CRT)に代わって、LCD
(Liquid Crystal Display:液晶ディスプレイ)、FE
D(Field Emission Display:電界放出型ディスプレ
イ)、有機EL(Electroluminescence:電界発光)ディ
スプレイ、PDP(Plasma Display Panel:プラズマ表
示装置) などの種々のFPD(Flat Panel Display:薄
型ディスプレイ)が開発、製品化されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the trend of lightening and thinning, displays such as personal computers have been developed.
There is a need for space saving and improved portability, and instead of the cathode ray tube (CRT), which has been the mainstream until now, LCD
(Liquid Crystal Display), FE
Developed and commercialized various FPD (Flat Panel Display) such as D (Field Emission Display), organic EL (Electroluminescence) display, PDP (Plasma Display Panel) Have been.

【0003】なかでも、PDPには、大画面化や広視野
角化が比較的容易であること、温度、磁界、振動等の環
境要因に対する耐性に優れること、長寿命であることな
どの特徴があり、家庭用壁掛けテレビの他、公共用の大
型情報端末への応用が期待されている。
[0003] Among them, PDPs are characterized by relatively easy enlargement of the screen and wide viewing angle, excellent resistance to environmental factors such as temperature, magnetic field and vibration, and long life. In addition, it is expected to be applied to large information terminals for public use in addition to home wall-mounted televisions.

【0004】このPDPは、フロント基板およびリア基
板と呼ばれる対向した2枚のガラス基板の間を放電空間
とし、この放電空間を隔壁により区画することにより各
々の放電セルが形成されている。放電セルには、リア
(隔壁)基板側の内壁に蛍光体が設けられ、内部に放電
ガスとして不活性ガスが封入されている。この放電セル
に所定の電圧を印加すると、放電ガス中のグロー放電に
よって紫外線が発生し、更に、紫外線が放電セル内の蛍
光体層を励起して発光する。通常、このような放電セル
が数十万個単位で集まって1つの表示画面が構成され
る。また、放電セルに対する電圧の印加方式により、P
DPは直流駆動(DC)型と交流駆動(AC)型に大別
される。そのうち、AC型のPDPは、放電側の各電極
の表面は誘電体材料からなる保護膜に覆われており、電
極が磨耗し難くく長寿命化に適している。
In this PDP, a discharge space is formed between two glass substrates facing each other, called a front substrate and a rear substrate, and each discharge cell is formed by dividing the discharge space by a partition. In the discharge cell, a phosphor is provided on the inner wall on the rear (partition) substrate side, and an inert gas is sealed inside as a discharge gas. When a predetermined voltage is applied to the discharge cells, ultraviolet rays are generated by glow discharge in the discharge gas, and the ultraviolet rays excite the phosphor layer in the discharge cells to emit light. Normally, one display screen is formed by collecting such discharge cells in units of several hundred thousand. Also, depending on the method of applying a voltage to the discharge cells, P
DP is roughly classified into a direct current drive (DC) type and an alternating current drive (AC) type. Among them, in the AC type PDP, the surface of each electrode on the discharge side is covered with a protective film made of a dielectric material, so that the electrodes are hardly worn and are suitable for extending the life.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現在商
品化されているAC型PDPにおいては、更なる放電の
安定性と長寿命化が要求されている。例えば、42イン
チ型PDPでは3万時間程度の寿命が報告されているも
のの、今後、輝度を現在の仕様以上に増加させるような
場合には、輝度などの特性の劣化が早まることが予想さ
れ、やはり長寿命化は課題として残されている。
However, AC-type PDPs currently on the market are required to have further improved discharge stability and longer life. For example, although a life of about 30,000 hours has been reported for a 42-inch PDP, if the luminance is increased beyond the current specification, deterioration of characteristics such as luminance is expected to be accelerated in the future. After all, extending the life is still an issue.

【0006】PDPの寿命は主に輝度の低下によって決
まり、その輝度低下は蛍光体や保護膜、誘電体膜の劣
化、および放電ガス純度の低下などに起因している。殊
に、現在のPDPの製造方法では、放電セルを形成した
後に内部の排気を行っており、十分な真空状態に達する
までに長時間を要するという問題があった。また、その
他に、排気後に封止した放電セル内に隔壁や誘電体膜か
らガスが放出されることによって、放電ガス純度が低下
するという問題があった。
[0006] The life of a PDP is mainly determined by a decrease in luminance, and the decrease in luminance is caused by deterioration of a phosphor, a protective film, a dielectric film, and a decrease in discharge gas purity. In particular, in the current method of manufacturing a PDP, the inside of the discharge cell is evacuated after forming the discharge cell, and there is a problem that it takes a long time to reach a sufficient vacuum state. In addition, there is another problem in that the discharge of gas from the partition walls and the dielectric film into the sealed discharge cells after evacuation lowers the discharge gas purity.

【0007】例えば、隔壁については、リア基板上に厚
膜印刷法で形成する場合、ペーストに含まれる樹脂バイ
ンダー等の分解ガスが焼成時に隔壁の内部に封入される
ことがあった。これを用いたPDPでは、使用中に分解
ガスの一部が放出されて発光状態の劣化および寿命の短
縮を招いていた。なお、これについては、樹脂バインダ
の熱・酸化分解温度領域の近傍の温度にて大気圧状態か
ら一旦真空排気処理を施し、更に大気圧状態で焼成を行
う方法によって回避することが可能である(特開平10
−302632号公報)。
For example, when a partition is formed on a rear substrate by a thick film printing method, a decomposition gas such as a resin binder contained in a paste is sometimes enclosed in the partition during firing. In a PDP using this, a part of the decomposed gas is released during use, causing deterioration of the light emitting state and shortening of the life. This can be avoided by performing a vacuum evacuation process from an atmospheric pressure state at a temperature in the vicinity of the thermal / oxidative decomposition temperature range of the resin binder, and then performing firing at the atmospheric pressure state ( JP Hei 10
-302632).

【0008】しかし、隔壁以外の劣化については未だ決
定的な解決法が見い出されておらず、なかでも、誘電体
膜の劣化はPDPの寿命に大きく影響するので対策が望
まれていた。誘電体膜は、一般にペースト状にした低融
点ガラスを印刷して形成され、上述のように形成後にペ
ーストに含まれていた樹脂バインダーが少しずつ揮発し
て、放電ガス純度を低下させるという虞があった。更
に、形成後の膜が均質でなかったり、その表面が平滑で
なかったりすると、クラックの発生や、異常放電を招く
ことがあった。この異常放電は放電安定性を損なうと共
に保護膜や誘電体膜を劣化させるために、PDPの寿命
が短くなるという問題があった。
[0008] However, no definitive solution has been found yet for deterioration other than that of the partition walls. Above all, since the deterioration of the dielectric film greatly affects the life of the PDP, a countermeasure has been desired. The dielectric film is generally formed by printing paste-like low-melting glass, and as described above, the resin binder contained in the paste may volatilize little by little, resulting in a reduction in discharge gas purity. there were. Furthermore, if the formed film is not uniform or its surface is not smooth, cracks and abnormal discharge may occur. The abnormal discharge impairs the discharge stability and deteriorates the protective film and the dielectric film, thus causing a problem that the life of the PDP is shortened.

【0009】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、クラックの発生および異常放電の発
生を防止し、安定的に駆動することができると共に長寿
命化が可能な交流駆動型プラズマ表示装置およびその製
造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to prevent the occurrence of cracks and abnormal discharge, to achieve stable driving and to extend the life of an AC drive. And a method of manufacturing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明による交流駆動型
プラズマ表示装置は、誘電体層が減圧雰囲気中において
焼成されたものである。
In the AC-driven plasma display device according to the present invention, the dielectric layer is fired in a reduced pressure atmosphere.

【0011】本発明による交流駆動型プラズマ表示装置
の製造方法は、基板上に誘電体層を形成した後、誘電体
層を減圧雰囲気中で焼成する工程を含むものである。
A method of manufacturing an AC-driven plasma display device according to the present invention includes a step of forming a dielectric layer on a substrate and then firing the dielectric layer in a reduced-pressure atmosphere.

【0012】なお、本発明においては、誘電体層の焼成
は1×10-1Pa以下の減圧雰囲気中において350℃
以上650℃以下の範囲内の温度で行われることが好ま
しい。
In the present invention, the firing of the dielectric layer is performed at 350 ° C. in a reduced pressure atmosphere of 1 × 10 -1 Pa or less.
It is preferable to carry out at a temperature within the range of not less than 650 ° C.

【0013】本発明による交流駆動型プラズマ表示装置
およびその製造方法では、誘電体層が焼成により溶融・
再結晶化し、クラックが生じ難くなる。同時に、減圧雰
囲気中の加熱により、ペーストに含まれていた樹脂バイ
ンダーが強制的に誘電体層から放出されて、放電セル内
の真空度が向上する。
In the AC-driven plasma display device and the method of manufacturing the same according to the present invention, the dielectric layer is melted by firing.
It is recrystallized and cracks hardly occur. At the same time, the resin binder contained in the paste is forcibly released from the dielectric layer by the heating in the reduced pressure atmosphere, and the degree of vacuum in the discharge cells is improved.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】図1は、本発明の一実施の形態に係るプラ
ズマ表示装置の概略構成を表すものである。また、図2
は図1に示したプラズマ表示装置のI−I線に沿った断
面図である。このプラズマ表示装置はAC型のうちの面
放電型と呼ばれるものであって、第1パネル10と第2
パネル20とを対向配置した構造を有し、第1パネル1
0と第2パネル20との間はその周縁部において気密封
止されている。なお、このプラズマ表示装置において
は、アドレス放電および維持放電ともに例えば陰極グロ
ー放電によって放電を行うようになっている。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a plasma display device according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the plasma display device shown in FIG. 1 taken along the line II. This plasma display device is a so-called surface discharge type of the AC type.
The first panel 1 has a structure in which the panel 20 is opposed to the first panel 1.
The space between the zero and the second panel 20 is hermetically sealed at the periphery. In this plasma display device, both the address discharge and the sustain discharge are performed by, for example, a cathode glow discharge.

【0016】第1パネルは、前面ガラス基板11と、こ
の前面ガラス基板11の上に設けられた各種構成要素と
により構成されている。すなわち、前面ガラス基板11
の直上には、面放電のために2つで1組の維持電極(透
明電極)12(12a,12b)が設けられ、これらの
片面にはインピーダンス低減のためのバス電極13(1
3a,13b)が一体的に設けられている。更に、維持
電極12およびバス電極13の上には、誘電体層14と
保護層15とが順に設けられている。
The first panel includes a front glass substrate 11 and various components provided on the front glass substrate 11. That is, the front glass substrate 11
A set of two sustain electrodes (transparent electrodes) 12 (12a, 12b) is provided directly above the surface electrodes for surface discharge. One of these electrodes is a bus electrode 13 (1) for impedance reduction.
3a, 13b) are provided integrally. Further, a dielectric layer 14 and a protective layer 15 are sequentially provided on the sustain electrode 12 and the bus electrode 13.

【0017】前面ガラス基板11としては、例えば、高
歪点ガラスが用いられ、その他にもソーダガラス(Na
2 O・CaO・SiO2 )、硼珪酸ガラス(Na2 O・
23 ・SiO2 )、フォルステライト(2MgO・
SiO2 )、鉛ガラス(Na 2 O・PbO・SiO2
などが用いられる。また、維持電極12としては、透明
な導電性材料が用いられる。ここでいう透明とは、蛍光
体材料に固有の発光波長(可視光域)における光透過性
に基づいたものである。具体的には、例えば、ITO
(インジウムと錫の合金酸化物)、SnO2 などを挙げ
ることができる。バス電極13としては、維持電極12
よりも電気抵抗率が低い導電性材料、例えば、クロム
(Cr)や銅(Cu)、これらの積層膜が用いられる。
その他、銀(Ag),アルミニウム(Al),ニッケル
(Ni)なども用いることができる。
As the front glass substrate 11, for example,
Strain point glass is used, and soda glass (Na
TwoO ・ CaO ・ SiOTwo), Borosilicate glass (NaTwoO ・
BTwoOThree・ SiOTwo), Forsterite (2MgO
SiOTwo), Lead glass (Na TwoO ・ PbO ・ SiOTwo)
Are used. The sustain electrode 12 is transparent.
A suitable conductive material is used. Transparency here means fluorescence
Light transmittance at the emission wavelength (visible light range) specific to body materials
It is based on. Specifically, for example, ITO
(Alloy oxide of indium and tin), SnOTwoEtc.
Can be As the bus electrode 13, the sustain electrode 12
Conductive material with a lower electrical resistivity than, for example, chromium
(Cr), copper (Cu), or a laminated film thereof is used.
In addition, silver (Ag), aluminum (Al), nickel
(Ni) can also be used.

【0018】誘電体層14は、アドレス期間中に発生す
る壁電荷を蓄積する機能、過剰な放電電流を制限する抵
抗体としての機能、および放電状態を維持するメモリ機
能を有しており、例えば、低融点ガラスや二酸化珪素
(SiO2 )などにより形成されている。本実施の形態
では、誘電体層14は後述するように減圧雰囲気中にお
いて焼成されたものでおり、これらの誘電体材料が再結
晶化して構成されている。
The dielectric layer 14 has a function of accumulating wall charges generated during the address period, a function as a resistor for limiting an excessive discharge current, and a memory function for maintaining a discharge state. , Low-melting glass or silicon dioxide (SiO 2 ). In the present embodiment, the dielectric layer 14 is fired in a reduced pressure atmosphere as described later, and is formed by recrystallizing these dielectric materials.

【0019】また、保護層15は、誘電体層14と同様
の機能に加えて、イオンまたは電子と維持電極12の接
触を防止して維持電極12の磨耗を防ぐためのものであ
り、例えば、酸化マグネシウム(MgО)膜により構成
される。MgОは、化学的に安定で保護機能に優れる
他、放電に必要な2次電子を放出する機能を有し、後述
の蛍光体25の発光波長における光透過率が高く、放電
開始電圧が低いので、保護膜15として好適に用いるこ
とができる。
The protective layer 15 has the same function as the dielectric layer 14 and also serves to prevent contact of ions or electrons with the sustain electrode 12 to prevent the sustain electrode 12 from being worn. It is composed of a magnesium oxide (MgО) film. MgО is chemically stable and has an excellent protection function, and also has a function of emitting secondary electrons required for discharge. The light transmittance at the emission wavelength of the phosphor 25 described later is high, and the discharge starting voltage is low. And the protective film 15.

【0020】第2パネル20は、背面ガラス基板21
と、この背面ガラス基板21の上に設けられた各種構成
要素とにより構成されている。すなわち、背面ガラス基
板21の上に、互いに平行に配列された複数のアドレス
電極22が設けられ、これらアドレス電極22を覆うよ
うに誘電体層23が設けられている。誘電体層23の上
には、各アドレス電極22の間のそれぞれにストライプ
状の隔壁24が設けられている。更に、隣り合う隔壁2
4の間には、隔壁24の側面から誘電体層23にかけ
て、赤,緑および青の3原色の蛍光体25が3色を周期
的に配列するように設けられている。
The second panel 20 includes a back glass substrate 21
And various components provided on the rear glass substrate 21. That is, a plurality of address electrodes 22 arranged in parallel with each other are provided on the rear glass substrate 21, and a dielectric layer 23 is provided so as to cover these address electrodes 22. On the dielectric layer 23, stripe-shaped barrier ribs 24 are provided between the address electrodes 22, respectively. Furthermore, adjacent partition walls 2
Between the four, from the side surface of the partition wall 24 to the dielectric layer 23, phosphors 25 of three primary colors of red, green and blue are provided so as to periodically arrange the three colors.

【0021】背面ガラス基板21は、前面ガラス基板1
1と同様な材料により構成することができる。アドレス
電極22としては、例えば、銀(Ag)や、アルミニウ
ム(Al)などが用いられ、その他に金(Au),N
i,Cr,Cu,タンタル(Ta),バナジウム(B
a),鉛(Pd)とAgの積層膜、LaB6 Ca0.2
La0.8 CrO3 等を適宜組み合わせて用いることも可
能である。また、誘電体層23は、第1パネル10側の
誘電体層14と同じ材料により形成され、誘電体層14
と同様に、減圧雰囲気中において焼成され再結晶化され
たものである。
The back glass substrate 21 is a front glass substrate 1
1 and can be made of the same material. As the address electrode 22, for example, silver (Ag), aluminum (Al), or the like is used. In addition, gold (Au), N
i, Cr, Cu, tantalum (Ta), vanadium (B
a), a laminated film of lead (Pd) and Ag, LaB 6 Ca 0.2
La 0.8 CrO 3 or the like can be used in appropriate combination. The dielectric layer 23 is formed of the same material as the dielectric layer 14 on the first panel 10 side.
Similarly to the above, it is fired and recrystallized in a reduced pressure atmosphere.

【0022】隔壁24としては、公知の絶縁材料を用い
ることができ、例えば、低融点ガラスにアルミナ等の金
属酸化物を混合した材料を用いることができる。なお、
黒く着色されたカラーレジスト材料により隔壁24を形
成し、所謂ブラック・マトリクスとすると、表示画像の
高コントラスト化を図ることができる。
As the partition wall 24, a known insulating material can be used. For example, a material obtained by mixing a metal oxide such as alumina with low-melting glass can be used. In addition,
When the partition walls 24 are formed of a color resist material colored black to form a so-called black matrix, high contrast of a displayed image can be achieved.

【0023】更に、蛍光体25としては、公知の蛍光体
材料の中から量子効率(発光効率)が高いものを適宜選
択して使用することができる。ちなみに、蛍光体材料は
母体と発光センタにより構成されており、紫外線により
電離した母体の衝突が発光センタを励起し、発光センタ
が基底状態に戻る際に可視光を放出する。そこで、蛍光
体材料は[母体:発光センタ]のように表示される。例
えば、[(Y,Gd)BO3 :Eu]は、ユーロピウム
(Eu)を発光センタとしたイットリウム(Y),ガド
リニウム(Gd)の硼酸塩である。赤色の蛍光体材料と
しては、例えば、[Y2 3 :Eu],[YBO3 :E
u],[YVO4 :Eu],[Y0.96 0.60
0.404 :Eu0.04],[(Y,Gd)BO3 :E
u],[GdBO3 :Eu],[ScBO3 :Eu],
[3.5MgO・0.5MgF2 ・GeO2 :Mn]な
どが用いられる。緑色の蛍光体材料としては、例えば、
[ZnSiO2:Mn],[BaAl1219:Mn],
[BaMg2 Al1627:Mn],[MgGa2 4
Mn],[YBO3 :Tb],[LuBO3 :Tb],
[Sr4Si3 8 14:Eu]などが用いられる。青
色の蛍光体材料としては、[Y2SiO5 :Ce],
[CaWO4 :Pb],[BaMgAl1423:E
u],[Sr2 2 7 :Eu],[Sr2 2 7
Sn]などが用いられる。
Further, as the phosphor 25, a known phosphor is used.
Select materials with high quantum efficiency (luminous efficiency) from materials
Can be used selectively. By the way, the phosphor material is
It is composed of a mother body and a light-emitting center.
The collision of the ionized host excites the emission center,
Emits visible light as it returns to the ground state. So, fluorescent
The body material is displayed as [base: emission center]. An example
For example, [(Y, Gd) BOThree: Eu] is Europium
Yttrium (Y), gado with (Eu) as the emission center
It is a borate of rhinium (Gd). With red phosphor material
For example, [YTwoOThree: Eu], [YBOThree: E
u], [YVOFour: Eu], [Y0.96P 0.60V
0.40OFour: Eu0.04], [(Y, Gd) BOThree: E
u], [GdBOThree: Eu], [ScBOThree: Eu],
[3.5MgO.0.5MgFTwo・ GeOTwo: Mn]
Which is used. As a green phosphor material, for example,
[ZnSiOTwo: Mn], [BaAl12O19: Mn],
[BaMgTwoAl16O27: Mn], [MgGaTwoOFour:
Mn], [YBOThree: Tb], [LuBOThree: Tb],
[SrFourSiThreeO8C14: Eu]. Blue
Examples of the color phosphor material include [YTwoSiOFive: Ce],
[CaWOFour: Pb], [BaMgAl14Otwenty three: E
u], [SrTwoPTwoO7: Eu], [SrTwoPTwoO7:
Sn] etc. are used.

【0024】このプラズマ表示装置においては、第1パ
ネル10の維持電極12a,12bと第2パネルのアド
レス電極22とが直交してマトリックス状になるように
配列されている。また、図2に示したように、隔壁24
によってアドレス電極22の延長方向に放電空間26が
区画され、放電空間26にはネオン,キセノン等の混合
ガスあるいは単独ガスが放電ガスとして封入される。な
お、このようにマトリックス状に配置された一対の維持
電極12a,12bとアドレス電極22との各交点がド
ット(最小発光単位)に対応しており、赤,緑,青の蛍
光体25がそれぞれ設けられた3つの最小発光単位によ
り1単位画素(ピクセル)が構成されている。
In this plasma display device, the sustain electrodes 12a and 12b of the first panel 10 and the address electrodes 22 of the second panel are arranged in a matrix at right angles. Further, as shown in FIG.
Thus, a discharge space 26 is defined in the extension direction of the address electrode 22, and a mixed gas such as neon or xenon or a single gas is filled in the discharge space 26 as a discharge gas. Each intersection of the pair of sustain electrodes 12a and 12b and the address electrode 22 thus arranged in a matrix corresponds to a dot (minimum light emission unit), and the red, green, and blue phosphors 25 are respectively provided. One unit pixel (pixel) is constituted by the provided three minimum light emission units.

【0025】次に、このようなプラズマ表示装置の作製
方法について説明する。
Next, a method for manufacturing such a plasma display device will be described.

【0026】まず、第1パネル10を作製する。First, the first panel 10 is manufactured.

【0027】例えば、高歪点ガラスやソーダライムガラ
スの前面ガラス基板11の上に、スパッタリング法およ
びフォトリソグラフィ技術を用いてITOよりなる維持
電極12a,12bをストライプ状に形成する。次い
で、例えば、スパッタリング法または蒸着法、およびフ
ォトリソグラフィ技術を用いてクロム(Cr)膜の成膜
およびパターニングを施し、バス電極13a,13bを
所定形状に形成する。
For example, sustain electrodes 12a and 12b made of ITO are formed in stripes on a front glass substrate 11 of high strain point glass or soda lime glass by using a sputtering method and a photolithography technique. Next, for example, a chromium (Cr) film is formed and patterned by using a sputtering method or an evaporation method and a photolithography technique to form the bus electrodes 13a and 13b in a predetermined shape.

【0028】次に、維持電極12およびバス電極13が
形成された前面ガラス基板11の上に誘電体層14を形
成する。まず、例えば、粉末の低融点ガラスと樹脂バイ
ンダ等を合わせて混練して作製されるガラスペースト
を、前面ガラス基板11の上に20μmの厚みでベタ印
刷する。そののち、例えば、誘電体層14を前面ガラス
基板11ごと焼成する。
Next, a dielectric layer 14 is formed on the front glass substrate 11 on which the sustain electrodes 12 and the bus electrodes 13 are formed. First, for example, a glass paste prepared by mixing and kneading powdery low-melting glass and a resin binder is solid-printed on the front glass substrate 11 to a thickness of 20 μm. After that, for example, the dielectric layer 14 is fired together with the front glass substrate 11.

【0029】図3は、本実施の形態の誘電体層14の焼
成に用いられる焼成炉30の概略構成を表したものであ
る。焼成炉30は、内壁に沿ってヒータ33が固定さ
れ、更にその上をマッフル34が覆っている横向きの管
状炉であり、両端には遮断扉31a,31bがそれぞれ
昇降可能に設けられ、焼成の際に内部を外気から遮断す
るようになっている。ヒータ33は、例えば抵抗式の電
気炉であって、トランスを介して交流電源に接続されて
いる(ともに図示せず)。また、焼成炉30の内部は、
仕切壁32によって昇温帯A,焼成帯B,冷却帯Cに区
分され、この順にハースローラ35が基板を搬送するよ
うになっている。各帯域では、ヒータ33に対し図示し
ない温度コントローラおよび温度モニタがそれぞれ接続
され、例えば図4に示したようなヒートパターンを保つ
ようになっている。ここで、昇温および冷却の速度は適
宜選択することができるが、後述する誘電体層14の焼
成もしくは誘電体層14の内部の不純物除去のために、
焼成温度は350℃以上650℃以下の範囲内の温度と
することが好ましい。特に、誘電体層14の充分な焼成
のためには、550℃以上の温度とすることが好まし
い。更に、この焼成炉30に設けられた排気口36に
は、炉内を真空排気するための図示しない真空ポンプが
バルブを介して接続され、ガス供給口37には復圧用ガ
スの供給源がバルブを介して接続されている。
FIG. 3 shows a schematic configuration of a firing furnace 30 used for firing the dielectric layer 14 of the present embodiment. The baking furnace 30 is a horizontal tubular furnace in which a heater 33 is fixed along the inner wall and a muffle 34 covers the baking furnace. In some cases, the inside is shut off from the outside air. The heater 33 is, for example, a resistance type electric furnace, and is connected to an AC power supply via a transformer (both are not shown). The inside of the firing furnace 30 is
The partition wall 32 divides the substrate into a heating zone A, a baking zone B, and a cooling zone C, and the hearth roller 35 transports the substrate in this order. In each band, a temperature controller (not shown) and a temperature monitor (not shown) are connected to the heater 33, respectively, so as to maintain a heat pattern as shown in FIG. 4, for example. Here, the rate of temperature rise and cooling can be appropriately selected. However, in order to bake the dielectric layer 14 or remove impurities inside the dielectric layer 14 described later,
The firing temperature is preferably in the range of 350 ° C. or more and 650 ° C. or less. In particular, it is preferable to set the temperature to 550 ° C. or more for sufficient firing of the dielectric layer 14. Further, a vacuum pump (not shown) for evacuating the inside of the furnace is connected via a valve to an exhaust port 36 provided in the baking furnace 30, and a gas supply port 37 is provided with a supply source of a decompression gas. Connected through.

【0030】焼成炉30を用いた誘電体層14の焼成
は、誘電体層14の印刷を終えた前面ガラス基板11
が、乾燥の後にハースローラ35により遮断扉31aか
ら遮断扉31bに向かって焼成炉30の中を搬送される
ことによって行われる。
The firing of the dielectric layer 14 using the firing furnace 30 is performed on the front glass substrate 11 after the printing of the dielectric layer 14 is completed.
After drying, the hearth roller 35 conveys the inside of the baking furnace 30 from the shutting door 31a to the shutting door 31b.

【0031】まず、焼成炉30の昇温帯A,焼成帯B,
冷却帯Cの各部は、それぞれ所定のヒートカーブに従っ
た温度分布となるように調整される。次いで、前面ガラ
ス基板11がハースローラ35により遮断扉31aから
焼成炉30の中に搬送されると、遮断扉31a,31b
は閉じられ、バルブが開かれて排気口36が通じ、真空
ポンプにより焼成炉30の内部は真空排気される。
First, heating zone A, firing zone B,
Each part of the cooling zone C is adjusted to have a temperature distribution according to a predetermined heat curve. Next, when the front glass substrate 11 is conveyed from the shut-off door 31a into the firing furnace 30 by the hearth roller 35, the shut-off doors 31a and 31b
Is closed, the valve is opened and the exhaust port 36 communicates, and the inside of the firing furnace 30 is evacuated by a vacuum pump.

【0032】ここでは、真空排気は、焼成炉30の内部
の圧力が1×10-1Pa以下となるまで行う。一般に、
このような減圧状態を‘真空’と呼び、そのときの圧力
を真空度という。本発明における減圧雰囲気とは、圧力
が大気圧(100kPa)以下である真空状態を指して
おり、同時に、本発明では、真空度が1×10-1Pa以
下である‘高真空’とすることが望ましい。
Here, the evacuation is performed until the pressure inside the firing furnace 30 becomes 1 × 10 -1 Pa or less. In general,
Such a reduced pressure state is called “vacuum”, and the pressure at that time is called a degree of vacuum. The reduced pressure atmosphere in the present invention refers to a vacuum state in which the pressure is equal to or lower than the atmospheric pressure (100 kPa), and at the same time, in the present invention, it is referred to as “high vacuum” in which the degree of vacuum is equal to or lower than 1 × 10 −1 Pa. Is desirable.

【0033】次に、前面ガラス基板11を、ハースロー
ラ35により昇温帯A,焼成帯B,冷却帯Cの各部に搬
送する。前面ガラス基板11は、搬送されてゆく間に所
定の条件下で昇温、焼成、冷却の過程を経ることにな
る。これにより、誘電体層14は溶融・再結晶化される
と共に、誘電体層14に含まれている樹脂バインダが離
脱する。前面ガラス基板11が遮断扉31bの前に近づ
くと、バルブが開かれてガス供給源がガス供給口37と
通じ、ガス供給源より例えばアルゴン(Ar),窒素
(N2 )などのガスが内部に流入して焼成炉30が復圧
される。そののち、遮断扉31bを開放し、前面ガラス
基板11を搬出する。以上が、誘電体層14の焼成工程
の一例である。
Next, the front glass substrate 11 is transported by the hearth roller 35 to each of the heating zone A, the firing zone B, and the cooling zone C. The front glass substrate 11 undergoes a process of heating, firing, and cooling under predetermined conditions while being transported. Thereby, the dielectric layer 14 is melted and recrystallized, and the resin binder contained in the dielectric layer 14 is released. When the front glass substrate 11 approaches the front of the shut-off door 31b, the valve is opened and the gas supply source communicates with the gas supply port 37, and a gas such as argon (Ar) or nitrogen (N 2 ) is supplied from the gas supply source. And the pressure in the firing furnace 30 is restored. After that, the blocking door 31b is opened, and the front glass substrate 11 is carried out. The above is an example of the firing step of the dielectric layer 14.

【0034】次に、誘電体層14の上に、例えば、電子
ビーム蒸着法を用いて酸化マグネシウム(MgO)より
なる保護膜15を0.6μmの厚さで形成する。
Next, a protective film 15 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the dielectric layer 14 to a thickness of 0.6 μm by using, for example, an electron beam evaporation method.

【0035】このようにして作製された第1パネル10
では、誘電体層14は再結晶により構成されているの
で、欠陥が少なく平坦性が高い。また、焼成という高温
の熱処理によって、誘電体層14は樹脂バインダ等の比
較的容易に離脱する不純物をほとんど含有しないものと
なる。
The first panel 10 thus manufactured
In this case, since the dielectric layer 14 is formed by recrystallization, it has few defects and high flatness. In addition, due to the high-temperature heat treatment of baking, the dielectric layer 14 hardly contains impurities such as a resin binder which is relatively easily separated.

【0036】次に、第2パネル20を作製する。Next, the second panel 20 is manufactured.

【0037】例えば、高歪点ガラスやソーダライムガラ
スの背面ガラス基板21の上に、スクリーン印刷法によ
りAgペーストをストライプ状に塗布形成し、その後焼
成することによって、アドレス電極22を形成する。
For example, an address paste 22 is formed on a back glass substrate 21 of high strain point glass or soda lime glass by applying an Ag paste in the form of stripes by a screen printing method, followed by baking.

【0038】次に、例えば、粉末の低融点ガラスと樹脂
バインダ等を合わせて混練して作製されるガラスペース
トをスクリーン印刷法により塗布形成し、その後焼成す
ることにより、厚さ10〜20μmの誘電体層23を形
成する。ここでは、第1パネルの誘電体層14と同様に
して減圧雰囲気中の焼成を行う。
Next, for example, a glass paste prepared by kneading and kneading powdery low-melting glass and a resin binder is applied by a screen printing method, and then baked to obtain a dielectric material having a thickness of 10 to 20 μm. The body layer 23 is formed. Here, baking in a reduced pressure atmosphere is performed in the same manner as the dielectric layer 14 of the first panel.

【0039】次に、誘電体層23の上の、更にアドレス
電極22の間の領域において、隔壁24を形成する。例
えば、ペースト状の低融点ガラスをスクリーン印刷法に
より塗布形成した後、サンドブラスト法によりストライ
プ状に整形し、焼成することにより隔壁24が形成され
る。隔壁24の高さは、例えば20μm程度とされ、頂
部を研磨することにより調整することができる。隔壁2
4の焼成は、誘電体層23と同様の方法で行うことがで
きる。ただし、その下の誘電体層23が溶融しないよう
に、焼成方法に依らず焼成温度は470℃程度以下とす
る必要がある。なお、誘電体層23の焼成を、ここで隔
壁24の焼成と同時に行うようにしてもよい。
Next, a partition 24 is formed in a region on the dielectric layer 23 and between the address electrodes 22. For example, after the paste-like low-melting glass is applied and formed by a screen printing method, it is shaped into a stripe by a sand blast method, and then baked, whereby the partition wall 24 is formed. The height of the partition wall 24 is, for example, about 20 μm, and can be adjusted by polishing the top. Partition wall 2
4 can be fired in the same manner as the dielectric layer 23. However, the firing temperature needs to be about 470 ° C. or less regardless of the firing method so that the dielectric layer 23 thereunder does not melt. The firing of the dielectric layer 23 may be performed at the same time as the firing of the partition walls 24 here.

【0040】次に、隣り合う隔壁24の間に、蛍光体2
5を形成する。隣り合う隔壁24の側面からその間の誘
電体層23にかけて、例えば、3原色のスラリーを周期
的に配列するように順次印刷し、焼成する。なお、誘電
体層23の焼成を、ここで蛍光体25の焼成と同時に行
うようにしてもよい。
Next, the phosphor 2 is placed between the adjacent partition walls 24.
5 is formed. From the side surfaces of the adjacent partition walls 24 to the dielectric layer 23 therebetween, for example, slurries of three primary colors are sequentially printed so as to be periodically arranged and fired. The firing of the dielectric layer 23 may be performed simultaneously with the firing of the phosphor 25 here.

【0041】このようにして作製された第2パネル20
では、誘電体層23は再結晶により構成されているの
で、欠陥が少なく平坦性が高い。また、焼成という高温
の熱処理によって、誘電体層23は樹脂バインダ等の比
較的容易に離脱する不純物をほとんど含有しないものと
なる。
The second panel 20 thus manufactured
In this case, since the dielectric layer 23 is formed by recrystallization, defects are small and flatness is high. In addition, due to the high-temperature heat treatment of baking, the dielectric layer 23 hardly contains impurities such as a resin binder which is relatively easily separated.

【0042】次に、第1パネル10と第2パネル20を
組み立てる。まず、例えば、スクリーン印刷により第2
パネル20の周縁部に低融点ガラスからなるシール層を
形成する。次いで、維持電極12とアドレス電極22の
向きが直交するように(図1参照)、第1パネル10と
第2パネル20を貼り合わせ、500℃程度の温度で焼
成してシール層を硬化させる。更に、2つのパネル1
0,20の間に設けられ、隔壁24によって区切られた
放電空間26に対し、排気、混合ガスの封入を行う。混
合ガスは、例えばネオン(Ne),キセノン(Xe)等
の不活性ガスを混合したものであり、これらの単独ガス
もまた使用可能である。
Next, the first panel 10 and the second panel 20 are assembled. First, for example, by screen printing,
A sealing layer made of low-melting glass is formed on the periphery of the panel 20. Next, the first panel 10 and the second panel 20 are bonded together so that the directions of the sustain electrodes 12 and the address electrodes 22 are orthogonal to each other (see FIG. 1), and baked at a temperature of about 500 ° C. to harden the seal layer. Furthermore, two panels 1
The discharge space 26 provided between 0 and 20 and partitioned by the partition wall 24 is evacuated and filled with a mixed gas. The mixed gas is a mixture of an inert gas such as neon (Ne) and xenon (Xe), and these single gases can also be used.

【0043】このようにして作製されたプラズマ表示装
置は、例えば、次のようにして動作する。
The plasma display device thus manufactured operates, for example, as follows.

【0044】まず、すべての維持電極12の対のうちの
一方とアドレス電極22の間に、放電開始電圧Vbdより
も高いパルス電圧を短時間印加する。これによりグロー
放電が生じると、電圧印加側の維持電極12に近い保護
層15の表面では、誘電分極による壁電荷が蓄積し、み
かけの放電開始電圧が低下する(アドレス放電)。次
に、表示しないドットに対応した放電セルにおいて、先
にアドレス放電を行った維持電極12およびアドレス電
極22の間に更に交流電圧を印加してグロー放電を行
い、蓄積された壁電荷を消去する(消去放電)。更に、
すべての維持電極12の対に所定の交流パルス電圧を印
加すると、壁電荷が蓄積された放電セルにおいては、2
つの維持電極12の間の電圧が壁電荷による電圧とパル
ス電圧との重畳により放電開始電圧を超えて、ここに面
放電が生じる(維持放電)。面放電が発生すると、放電
空間26内の放電ガスがプラズマ放電により紫外線を放
ち、その紫外線が蛍光体25に照射され、蛍光体25が
励起してその材質に固有の発光色で発光する。これによ
り、ドットの表示が行われる。
First, a pulse voltage higher than the discharge starting voltage V bd is applied for a short time between one of the pairs of all sustain electrodes 12 and the address electrode 22. When a glow discharge occurs, wall charges due to dielectric polarization accumulate on the surface of the protective layer 15 near the sustaining electrode 12 on the voltage application side, and the apparent discharge start voltage decreases (address discharge). Next, in a discharge cell corresponding to a dot not to be displayed, an AC voltage is further applied between the sustain electrode 12 and the address electrode 22 that have previously performed the address discharge to perform a glow discharge, thereby erasing the accumulated wall charges. (Erase discharge). Furthermore,
When a predetermined AC pulse voltage is applied to all pairs of sustain electrodes 12, in the discharge cells in which the wall charges are accumulated, 2
The voltage between the two sustain electrodes 12 exceeds the discharge start voltage due to the superposition of the voltage due to the wall charges and the pulse voltage, and a surface discharge occurs here (sustain discharge). When the surface discharge occurs, the discharge gas in the discharge space 26 emits ultraviolet rays by plasma discharge, and the ultraviolet rays are applied to the phosphor 25 to excite the phosphor 25 and emit light in an emission color specific to the material. As a result, a dot is displayed.

【0045】本実施の形態では、面放電が生じる第1パ
ネル10側の誘電体層14は減圧雰囲気中で焼成された
再結晶により構成され、欠陥が少なく平坦性が高いの
で、誘電体層14および保護層15にクラックが生じに
くく、異常放電もまた防止される。また、誘電体層14
は、樹脂バインダ等の比較的容易に離脱する不純物をほ
とんど含有しないものとなるので、放電空間26内のガ
ス純度が向上する。これらにより、プラズマ表示装置の
寿命を延ばすことができる。
In the present embodiment, the dielectric layer 14 on the first panel 10 side where surface discharge occurs is formed by recrystallization fired in a reduced-pressure atmosphere and has few defects and high flatness. In addition, cracks hardly occur in the protective layer 15 and abnormal discharge is also prevented. Also, the dielectric layer 14
Is substantially free of impurities which are relatively easily separated such as a resin binder, so that the gas purity in the discharge space 26 is improved. Thus, the life of the plasma display device can be extended.

【0046】更に、本実施の形態では、発光が生じる第
2パネル20側の誘電体層23もまた減圧雰囲気中で焼
成された再結晶により構成されており、平坦性が高いの
で、放電状態を安定化することができる。また、誘電体
層23は、樹脂バインダ等の不純物をほとんど含有しな
いものとなるので、誘電体層23から放出される不純物
による放電が生じにくい。従って、装置の寿命を延ばす
ことができる。
Further, in the present embodiment, the dielectric layer 23 on the second panel 20 side where light emission occurs is also formed by recrystallization fired in a reduced-pressure atmosphere, and has a high flatness. Can be stabilized. In addition, since the dielectric layer 23 contains almost no impurities such as a resin binder, discharge due to the impurities released from the dielectric layer 23 does not easily occur. Therefore, the life of the device can be extended.

【0047】なお、誘電体層14および誘電体層23を
焼成する際に、それぞれ基板11,21ごと減圧雰囲気
中で焼成したので、基板11,21は組み立て前に既に
排気処理したことになる。よって、基板11,21を組
み合わせて作製したプラズマ表示装置では、従来のよう
に基板を組み合わせた後に放電空間の排気を行う場合に
比べて、放電空間26の真空度をより確実に良好なもの
とできる。また、排気処理の時間を短縮することができ
る。
When the dielectric layers 14 and 23 are fired, the substrates 11 and 21 are fired in a reduced-pressure atmosphere, so that the substrates 11 and 21 have been exhausted before assembly. Therefore, in the plasma display device manufactured by combining the substrates 11 and 21, the degree of vacuum in the discharge space 26 is more reliably improved as compared with the conventional case where the discharge space is evacuated after combining the substrates. it can. Further, the time for the exhaust process can be reduced.

【0048】[0048]

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
する。
Next, specific examples of the present invention will be described.

【0049】(実施例1,2)プラズマ表示装置を上記
実施の形態における製造方法と同様にして作製した。た
だし、実施例1では第1パネルの誘電体層14のみを焼
成し、実施例2では第2パネルの誘電体層23のみを焼
成した。焼成条件は、ともに焼成温度570℃、真空度
1×10-2Paとした。
(Examples 1 and 2) A plasma display device was manufactured in the same manner as in the manufacturing method in the above embodiment. However, in Example 1, only the dielectric layer 14 of the first panel was fired, and in Example 2, only the dielectric layer 23 of the second panel was fired. The firing conditions were set at a firing temperature of 570 ° C. and a degree of vacuum of 1 × 10 −2 Pa.

【0050】(実施例3)プラズマ表示装置を上記実施
の形態における製造方法と同様にして作製した。ただ
し、第2パネルの誘電体層23のみを焼成した。そのと
きの温度条件を図4に示す。焼成温度は450℃であ
り、真空度は1×10-2Paとした。更に、第2パネル
の一部を10mmの正方形に切り出し、この試料から放
出されるガスの量をイオン電流として質量分析計により
測定した。なお、測定温度範囲は、室温から600℃ま
でとし、測定時の真空度は、2×10-7Paとした。
Example 3 A plasma display device was manufactured in the same manner as in the manufacturing method in the above embodiment. However, only the dielectric layer 23 of the second panel was fired. FIG. 4 shows the temperature conditions at that time. The firing temperature was 450 ° C. and the degree of vacuum was 1 × 10 −2 Pa. Further, a part of the second panel was cut into a 10 mm square, and the amount of gas released from the sample was measured as ion current by a mass spectrometer. The measurement temperature range was from room temperature to 600 ° C., and the degree of vacuum at the time of measurement was 2 × 10 −7 Pa.

【0051】(比較例)プラズマ表示装置を上記実施の
形態における製造方法と同様にして作製した。ただし、
誘電体層14および誘電体層23の焼成は行わなかっ
た。更に、第2パネルの一部を10mmの正方形に切り
出し、この試料から放出されるガスの量をイオン電流と
して質量分析計により測定した。このときの測定温度範
囲は、室温から600℃までとし、測定時の真空度は2
×10-7Paとした。
(Comparative Example) A plasma display device was manufactured in the same manner as the manufacturing method in the above embodiment. However,
The firing of the dielectric layer 14 and the dielectric layer 23 was not performed. Further, a part of the second panel was cut into a 10 mm square, and the amount of gas released from the sample was measured as ion current by a mass spectrometer. The measurement temperature range at this time is from room temperature to 600 ° C., and the degree of vacuum at the time of measurement is 2
× 10 −7 Pa.

【0052】実施例1および2においては、誘電体層1
4または誘電体層23が焼成されて再結晶化することに
よりクラックソースが減少し、比較例に比べて動作中の
異常放電が減少することがわかった。なお、放電空間2
6内のガス純度もまた比較例に比して向上することがわ
かった。
In Examples 1 and 2, the dielectric layer 1
It was found that the crack source was reduced by firing and recrystallization of the dielectric layer 4 or the dielectric layer 23, and abnormal discharge during operation was reduced as compared with the comparative example. The discharge space 2
It was found that the gas purity in 6 was also improved as compared with the comparative example.

【0053】実施例3および比較例における第2パネル
から放出されるガス量の温度依存性をそれぞれ図5、図
6に示す。ここでは、ガスとして質量数18,44,5
5,70の4種類が検出されており、いずれにおいても
全般的に実施例3のほうがその放出量は少なくなってい
る。特に、質量数が55,70のガスは、室温から約4
50℃以下の低温領域で放出がほとんど見られなかっ
た。なお、質量数18のガスは水(H2 O)を含んだも
のであり、質量数が44,55,70のガスは、炭素
(C),水素(H),窒素(N)を含む有機化合物と考
えられる。従って、誘電体層を焼成すると、誘電体層に
含まれる有機化合物を層内から予め強制的に放出させ、
その装置内部に放出される量を減少させることができ
る。
FIGS. 5 and 6 show the temperature dependence of the amount of gas released from the second panel in Example 3 and Comparative Example, respectively. Here, the mass number is 18, 44, 5 as the gas.
Four types of 5, 70 were detected, and in all cases, the release amount of Example 3 was generally smaller. In particular, a gas having a mass number of 55, 70 can be converted from room temperature to about
Almost no release was observed in the low temperature region of 50 ° C. or lower. The gas having a mass number of 18 contains water (H 2 O), and the gas having a mass number of 44, 55, 70 is an organic gas containing carbon (C), hydrogen (H), and nitrogen (N). It is considered a compound. Therefore, when the dielectric layer is fired, the organic compounds contained in the dielectric layer are forcibly released from within the layer in advance,
The amount released into the device can be reduced.

【0054】以上、実施の形態および実施例を挙げて本
発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施
例に限定されるものではなく、種々変形可能である。例
えば、上記実施の形態および実施例では、典型的な面放
電型のプラズマ表示装置について説明したが、例えば、
対向放電型であったり、隔壁24がストライプ状でなく
セル状であったりしてもよく、その構成に関わらず誘電
体層を含むものであればよい。
As described above, the present invention has been described with reference to the embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the above embodiments and examples, and can be variously modified. For example, in the above embodiments and examples, a typical surface discharge type plasma display device has been described.
It may be of a counter discharge type, or the partition wall 24 may have a cell shape instead of a stripe shape, regardless of the configuration, as long as it includes a dielectric layer.

【0055】上記実施の形態および実施例では、誘電体
層14および誘電体層23の焼成は1回行われるように
したが、これに限らず、繰り返し焼成を行っても構わな
い。また、実施の形態においては、誘電体層14および
誘電体層23の焼成を、それぞれの層形成直後、あるい
は誘電体層23については隔壁24または蛍光体25の
形成ののちに行うようにしたが、本発明は実質的に誘電
体が焼成されるのであればよい。例えば、誘電体の焼成
を、その他の焼成工程において同時に達成されるように
してもよく、誘電体の焼成工程とその他の工程の順序は
問わない。
In the above embodiments and examples, the firing of the dielectric layer 14 and the dielectric layer 23 is performed once, but the firing is not limited to this, and the firing may be repeated. Further, in the embodiment, the firing of the dielectric layer 14 and the dielectric layer 23 is performed immediately after the formation of each layer, or after the formation of the partition wall 24 or the phosphor 25 for the dielectric layer 23. In the present invention, it is sufficient that the dielectric is substantially fired. For example, the firing of the dielectric may be simultaneously performed in the other firing steps, and the order of the firing step of the dielectric and the other steps does not matter.

【0056】また、誘電体層14および誘電体層23の
焼成時の温度条件は、図4に示したような台形状のヒー
トパターンに限らず、時間と温度を自由に組み合わせて
種々設定することが可能である。更にまた、焼成炉は図
3に示したような連続式のものに限らず、バッチ式炉で
あってもよい。
The temperature conditions for firing the dielectric layer 14 and the dielectric layer 23 are not limited to the trapezoidal heat pattern as shown in FIG. 4, but may be variously set by freely combining time and temperature. Is possible. Furthermore, the firing furnace is not limited to the continuous type as shown in FIG. 3, but may be a batch type furnace.

【0057】更に、上記実施の形態および実施例では、
3電極面放電型のプラズマ表示装置について説明した
が、本発明はこれに限らず、例えば維持電極が第1パネ
ル10と第2パネル20の双方に設けられた対向放電型
や2電極面放電型などの各種の交流駆動型プラズマ表示
装置のうち誘電体層が設けられているものについて適用
することができる。
Further, in the above embodiment and examples,
Although the description has been given of the three-electrode surface discharge type plasma display device, the present invention is not limited to this. For example, the opposed discharge type or the two-electrode surface discharge type in which the sustain electrodes are provided on both the first panel 10 and the second panel 20. The present invention can be applied to a device provided with a dielectric layer among various types of AC driven plasma display devices.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る交流駆
動型プラズマ表示装置によれば、誘電体層が減圧雰囲気
中において焼成されたものであるようにしたので、誘電
体層は欠陥が少なく平坦性が高いものとなり、放電空間
に面した基板表面におけるクラックが低減されると共に
異常放電が防止される。同時に、誘電体層の内部に含ま
れる有機化合物等の不純物が予め排出され、放電空間内
のガス純度が保たれる。これらにより、動作の安定化お
よび装置の長寿命化を図ることができる。
As described above, according to the AC-driven plasma display device of the present invention, since the dielectric layer is fired in a reduced pressure atmosphere, the dielectric layer has few defects. The flatness is high, cracks on the substrate surface facing the discharge space are reduced, and abnormal discharge is prevented. At the same time, impurities such as organic compounds contained in the dielectric layer are exhausted in advance, and the gas purity in the discharge space is maintained. Thus, the operation can be stabilized and the life of the device can be extended.

【0059】また、本発明による交流駆動型プラズマ表
示装置の製造方法によれば、誘電体層を形成した後、こ
の誘電体層を減圧雰囲気中で焼成する工程を含むように
したので、欠陥が少なく平坦性が高い誘電体層を形成す
ることができ、基板表面におけるクラックを低減させる
と共に異常放電を防止することができる。同時に、焼成
により誘電体層の内部に含まれる有機化合物等の不純物
が予め排出されるので、放電空間内のガス純度が保たれ
る。従って、安定的に駆動することができ、寿命の長い
プラズマ表示装置を得ることができる。
Further, according to the method of manufacturing an AC-driven plasma display device according to the present invention, after forming the dielectric layer, the method includes the step of firing the dielectric layer in a reduced pressure atmosphere. It is possible to form a dielectric layer with little flatness and to reduce cracks on the substrate surface and prevent abnormal discharge. At the same time, since impurities such as organic compounds contained in the dielectric layer are discharged in advance by firing, the gas purity in the discharge space is maintained. Accordingly, a plasma display device that can be driven stably and has a long life can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係るプラズマ表示装置
の概略構成を表す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a plasma display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したプラズマ表示装置のI−I線に沿
った断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the plasma display device shown in FIG. 1 taken along line II.

【図3】図1に示したプラズマ表示装置の誘電体層の焼
成に用いる焼成炉の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a firing furnace used for firing a dielectric layer of the plasma display device shown in FIG.

【図4】実施例3の誘電体層の焼成におけるヒートパタ
ーンを表す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a heat pattern in firing a dielectric layer of Example 3.

【図5】実施例3における質量分析計による不純物ガス
量の測定結果を表す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a measurement result of an impurity gas amount by a mass spectrometer in Example 3.

【図6】比較例における質量分析計による不純物ガス量
の測定結果を表す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a measurement result of an impurity gas amount by a mass spectrometer in a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…第1パネル、11…前面ガラス基板、12(12
a,12b)…維持電極、13(13a,13b)…バ
ス電極、14…誘電体層、15…保護層、20…第2パ
ネル、21…背面ガラス基板、22…アドレス電極、2
3…誘電体層、24…隔壁、25…蛍光体、26…放電
空間、30…焼成炉、31a,31b…遮断扉、32…
仕切壁、33…ヒータ、34…マッフル、35…ハース
ローラ、36…排気口、37…ガス供給口
10: first panel, 11: front glass substrate, 12 (12
a, 12b) ... sustain electrode, 13 (13a, 13b) ... bus electrode, 14 ... dielectric layer, 15 ... protective layer, 20 ... second panel, 21 ... rear glass substrate, 22 ... address electrode, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Dielectric layer, 24 ... Partition, 25 ... Phosphor, 26 ... Discharge space, 30 ... Baking furnace, 31a, 31b ... Shut-off door, 32 ...
Partition wall, 33: heater, 34: muffle, 35: hearth roller, 36: exhaust port, 37: gas supply port

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年12月19日(2000.12.
19)
[Submission date] December 19, 2000 (200.12.
19)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0053】実施例3および比較例における第2パネル
から放出されるガス量の温度依存性をそれぞれ図5、図
6に示す。ここでは、ガスとして質量数18,44,5
5,70の4種類が検出されており、いずれにおいても
全般的に実施例3のほうがその放出量は少なくなってい
る。特に、質量数が55,70のガスは、室温から約4
50℃以下の低温領域で放出がほとんど見られなかっ
た。なお、質量数18のガスは水(H2 O)を含んだも
のであり、質量数が44,55,70のガスは、炭素
(C),水素(H),酸素(O)を含む有機化合物と考
えられる。従って、誘電体層を焼成すると、誘電体層に
含まれる有機化合物を層内から予め強制的に放出させ、
その装置内部に放出される量を減少させることができ
る。
FIGS. 5 and 6 show the temperature dependence of the amount of gas released from the second panel in Example 3 and Comparative Example, respectively. Here, the mass number is 18, 44, 5 as the gas.
Four types of 5, 70 were detected, and in all cases, the release amount of Example 3 was generally smaller. In particular, a gas having a mass number of 55, 70 can be converted from room temperature to about
Almost no release was observed in the low temperature region of 50 ° C. or lower. The gas having a mass number of 18 contains water (H 2 O), and the gas having a mass number of 44, 55, 70 is an organic gas containing carbon (C), hydrogen (H), and oxygen (O). It is considered a compound. Therefore, when the dielectric layer is fired, the organic compounds contained in the dielectric layer are forcibly released from within the layer in advance,
The amount released into the device can be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 啓 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 井上 肇 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA05 5C040 FA01 GB03 GB14 GD09 JA21 MA10 5C094 AA31 AA43 BA12 BA31 CA19 CA24 DA12 DA13 DB01 EA04 EA05 EA10 EB02 EC04 FA02 FB02 FB15 GA10 GB10 JA20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Mori 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Hajime Inoue 6-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo 6-35 Sony Corporation F term (reference) 5C027 AA05 5C040 FA01 GB03 GB14 GD09 JA21 MA10 5C094 AA31 AA43 BA12 BA31 CA19 CA24 DA12 DA13 DB01 EA04 EA05 EA10 EB02 EC04 FA02 FB02 FB15 GA10 GB10 JA20

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向して配置された第1の基板お
よび第2の基板の少なくとも一方の基板に誘電体層を備
えたプラズマ表示装置であって、 前記誘電体層は減圧雰囲気中において焼成されたもので
あることを特徴とする交流駆動型プラズマ表示装置。
1. A plasma display device comprising a dielectric layer provided on at least one of a first substrate and a second substrate disposed opposite to each other, wherein the dielectric layer is fired in a reduced-pressure atmosphere. An AC-driven plasma display device characterized in that:
【請求項2】 前記誘電体層は、1×10-1Pa以下の
減圧雰囲気中において350℃以上650℃以下の範囲
内の温度で焼成されたものであることを特徴とする請求
項1記載の交流駆動型プラズマ表示装置。
2. The dielectric layer according to claim 1, wherein the dielectric layer is fired in a reduced pressure atmosphere of 1 × 10 −1 Pa or less at a temperature in a range of 350 ° C. to 650 ° C. AC driven plasma display device.
【請求項3】 前記第1の基板には前記第2の基板との
対向面に放電維持電極が配設され、前記誘電体層は前記
放電維持電極上に設けられていることを特徴とする請求
項1記載の交流駆動型プラズマ表示装置。
3. A discharge sustaining electrode is provided on the first substrate on a surface facing the second substrate, and the dielectric layer is provided on the discharge sustaining electrode. An AC-driven plasma display device according to claim 1.
【請求項4】 前記第2の基板には前記第1の基板との
対向面にアドレス電極が配設され、前記誘電体層は前記
アドレス電極上に設けられていることを特徴とする請求
項1記載の交流駆動型プラズマ表示装置。
4. An address electrode is provided on the second substrate on a surface facing the first substrate, and the dielectric layer is provided on the address electrode. 2. The AC-driven plasma display device according to 1.
【請求項5】 互いに対向して配置された第1の基板お
よび第2の基板の少なくとも一方の基板に誘電体層を備
えた交流駆動型プラズマ表示装置の製造方法において、 前記基板上に誘電体層を形成した後、前記誘電体層を減
圧雰囲気中で焼成する工程を含むことを特徴とする交流
駆動型プラズマ表示装置の製造方法。
5. A method of manufacturing an AC-driven plasma display device, comprising a dielectric layer on at least one of a first substrate and a second substrate disposed opposite to each other, wherein a dielectric is provided on the substrate. A method for manufacturing an AC-driven plasma display device, comprising a step of firing the dielectric layer in a reduced-pressure atmosphere after forming a layer.
【請求項6】 前記誘電体層の焼成を1×10-1Pa以
下の減圧雰囲気中において行うことを特徴とする請求項
5記載の交流駆動型プラズマ表示装置の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the firing of the dielectric layer is performed in a reduced pressure atmosphere of 1 × 10 −1 Pa or less.
【請求項7】 前記誘電体層の焼成を350℃以上65
0℃以下の範囲内の温度において行うことを特徴とする
請求項5記載の交流駆動型プラズマ表示装置の製造方
法。
7. The sintering of the dielectric layer is performed at 350 ° C. or higher and 65 ° C.
6. The method for manufacturing an AC driven plasma display device according to claim 5, wherein the method is performed at a temperature within a range of 0 ° C. or less.
【請求項8】 前記誘電体層は、前記第1の基板上に配
設された放電維持電極上に設けられたものであることを
特徴とする請求項5記載の交流駆動型プラズマ表示装置
の製造方法。
8. The AC-driven plasma display device according to claim 5, wherein said dielectric layer is provided on a sustaining electrode provided on said first substrate. Production method.
【請求項9】 前記誘電体層は、前記第2の基板上に配
設されたアドレス電極上に設けられたものであることを
特徴とする請求項5記載の交流駆動型プラズマ表示装置
の製造方法。
9. The manufacturing method of an AC-driven plasma display device according to claim 5, wherein said dielectric layer is provided on an address electrode provided on said second substrate. Method.
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